JP2002285136A - Electroconductive connecting film and method for producing the same - Google Patents

Electroconductive connecting film and method for producing the same

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JP2002285136A
JP2002285136A JP2001090687A JP2001090687A JP2002285136A JP 2002285136 A JP2002285136 A JP 2002285136A JP 2001090687 A JP2001090687 A JP 2001090687A JP 2001090687 A JP2001090687 A JP 2001090687A JP 2002285136 A JP2002285136 A JP 2002285136A
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JP
Japan
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film
conductive
paste
resin
fine particles
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Application number
JP2001090687A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Nakamura
一彦 中村
Takuo Suzuki
卓夫 鈴木
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electroconductive connecting film capable of omitting an injecting step of a sealing resin without leaking from an adjacent electrode and easily carrying out electric connection with high reliability in a short time in connecting a semiconductor package to a substrate, and a method for producing the electroconductive connecting film. SOLUTION: This electroconductive connecting film is characterized by arranging electroconductive parts composed of a solder alloy paste comprising metal fine particles dispersed therein on a film having through-holes by screen printing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、微細電極間の電気
的接続に用いられる導電接続フィルム及び導電接続フィ
ルムの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive connecting film used for electrical connection between fine electrodes and a method for manufacturing the conductive connecting film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、液晶ディスプレイ、パーソナ
ルコンピューター、携帯通信機器等のエレクトロニクス
製品分野において、半導体パッケージ等の小型部品を基
板に電気的に接続する方法としては、微細な電極を対向
させハンダバンプで接続する方法が一般に用いられてい
る。このような微細な対向電極を接続する場合、半導体
パッケージと基板間の接続部はハンダバンプのみで支え
られており、機械的強度が弱く、半導体パッケージと基
板間の熱歪みの差で応力が発生すると、接続不良が起こ
りやすくなる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of electronic products such as a liquid crystal display, a personal computer, and a portable communication device, as a method of electrically connecting small parts such as a semiconductor package to a substrate, fine electrodes are opposed to each other and solder bumps are used. A connection method is generally used. When connecting such a fine counter electrode, the connection between the semiconductor package and the substrate is supported only by solder bumps, the mechanical strength is weak, and if stress occurs due to the difference in thermal strain between the semiconductor package and the substrate. Defective connection is likely to occur.

【0003】このような問題を解決する方法としては、
上記接続部の周辺をエポキシ等の樹脂で封止することに
より機械的強度を向上させる方法が挙げられる。通常、
この封止は電極の接続後に液体状の封止樹脂を注入する
することにより行われるが、接続部の間隙が狭く、封止
樹脂の粘度が高いことから、短時間で均一に注入するこ
とが困難であった。
[0003] As a method of solving such a problem,
There is a method of improving the mechanical strength by sealing the periphery of the connection portion with a resin such as epoxy. Normal,
This sealing is performed by injecting a liquid sealing resin after connecting the electrodes, but since the gap between the connection portions is narrow and the viscosity of the sealing resin is high, it can be injected uniformly in a short time. It was difficult.

【0004】このような不具合を解決する方法として、
特開昭63−231889号公報、特開平4−2597
66号公報、特開平3−291807号公報、特開平5
−75250号公報には、導電性の微粒子をバインダー
樹脂と混ぜ合わせてフィルム状又はペースト状にした異
方性導電接着剤が開示されている。しかしながら、異方
性導電接着剤は通常導電性微粒子が絶縁性接着剤にラン
ダムに分散されているため、バインダー中で導電微粒子
が連なったり、加熱圧着時に対向電極上にない導電微粒
子が流動して連結し、隣接電極でリークを発生させる可
能性があった。また、加熱圧着により電極又はバンプ上
に導電微粒子を圧着させた場合でも、電極と導電微粒子
の間に絶縁材の薄層が残り易いため、接続信頼性が低下
するという問題があった。
[0004] As a method of solving such a problem,
JP-A-63-231889, JP-A-4-2597
No. 66, JP-A-3-291807, JP-A-5
JP-A-75250 discloses an anisotropic conductive adhesive in which conductive fine particles are mixed with a binder resin to form a film or paste. However, anisotropic conductive adhesives usually have conductive fine particles randomly dispersed in the insulating adhesive, so that the conductive fine particles continue in the binder, or the conductive fine particles that are not on the opposing electrode flow during heating and pressing. There was a possibility that they would be connected and a leak would occur at an adjacent electrode. Further, even when the conductive fine particles are pressed on the electrodes or the bumps by heating and pressing, a thin layer of an insulating material is easily left between the electrodes and the conductive fine particles, so that there is a problem that the connection reliability is reduced.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記に鑑み、
半導体パッケージと基板を接続する工程において、封止
樹脂の注入工程を省き、隣接電極のリークが無く、接続
信頼性の高い電気的接続を短時間で容易に行うことがで
きる導電接続フィルム及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above,
In the process of connecting a semiconductor package and a substrate, a step of injecting a sealing resin is omitted, there is no leakage of an adjacent electrode, and a conductive connection film capable of easily performing electrical connection with high connection reliability in a short time and its manufacture The aim is to provide a method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の導電接続フィル
ムは、金属微粒子を分散してなるペーストからなる導電
部を有するものである。
The conductive connection film of the present invention has a conductive portion made of a paste in which fine metal particles are dispersed.

【0007】本発明で用いられるフィルムの素材として
は、熱可塑性、熱硬化性、光硬化性、光後硬化性の樹脂
からなるフィルムが用いられる。
As a material of the film used in the present invention, a film made of a thermoplastic, thermosetting, photocurable or photopostcurable resin is used.

【0008】上記熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィ
ン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリビニルアセ
タール系等が挙げられる。ポリオレフィン系としては、
特に限定されないが、例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、エチレン−酢酸ビニル共重合体などの単独または
ブレンド体が挙げられる。必要に応じて、改質剤として
ロジン、テルベン樹脂、石油樹脂等を添加してもよい。
また、ポリエチレン、ポリプロピレンにアクリル酸、メ
タクリル酸等のカルボキシル基を共重合又はグラフト重
合したものが挙げられる。さらに、エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体に水酸基、カルボキシル基等の極性基を共重
合したものが挙げられる。ポリアミド系としては、特に
限定されないが、例えばナイロン11、12等が挙げら
れる。ポリエステル系としては、特に限定されないが、
例えば直鎖状共重合ポリエステルが挙げられる。ポリビ
ニルアセタール系としては、特に限定されないが、例え
ばポリビニルアセタール樹脂が用いられる。
[0008] Examples of the thermoplastic resin include polyolefin-based, polyamide-based, polyester-based, and polyvinyl acetal-based resins. As a polyolefin,
Although not particularly limited, for example, a single or a blend of polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer and the like can be mentioned. If necessary, rosin, terpene resin, petroleum resin, etc. may be added as a modifier.
In addition, those obtained by copolymerizing or graft-polymerizing a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid to polyethylene or polypropylene can be used. Further, there may be mentioned those obtained by copolymerizing an ethylene-vinyl acetate copolymer with a polar group such as a hydroxyl group or a carboxyl group. The polyamide is not particularly limited, and examples thereof include nylon 11, 12 and the like. As the polyester system, although not particularly limited,
For example, a linear copolymerized polyester can be used. The polyvinyl acetal is not particularly limited, but for example, a polyvinyl acetal resin is used.

【0009】上記熱硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂
と可撓性樹脂を混合したものが用いられ、特に限定され
ないが、例えばエポキシ樹脂に各種重合ナイロンや、フ
ェノール樹脂を混合したものや、フェノール樹脂にポリ
ビニルアセタール、ニトリルゴムなどを混合したもの等
が挙げられる。
As the thermosetting resin, a mixture of a thermosetting resin and a flexible resin is used, and is not particularly limited. For example, a mixture of an epoxy resin with various polymerized nylons or a phenol resin, Examples thereof include those obtained by mixing polyvinyl acetal, nitrile rubber, and the like with a phenol resin.

【0010】上記光硬化性樹脂としては、バインダー樹
脂、架橋剤、光開始剤、その他の成分からなる組成物か
らなるものが挙げられる。バインダー樹脂としては、メ
タクリル酸エステル、アクリル酸エステルあるいはスチ
レンなどの共重合体や、メタクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸などの共重合体が挙げられる。架橋剤として
は、ポリオールのアクリル酸エステルやエポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレートなどが挙げられる。光開
始剤としては、アントラキノン、ベンゾフェノン等が添
加される。その他の成分としてはハイドロキノン等の安
定剤などが挙げられる。
Examples of the photocurable resin include those composed of a composition comprising a binder resin, a crosslinking agent, a photoinitiator and other components. Examples of the binder resin include a copolymer such as methacrylic acid ester, acrylic acid ester, and styrene, and a copolymer such as methacrylic acid, itaconic acid, and maleic acid. Examples of the crosslinking agent include acrylic acid esters of polyols, epoxy acrylates, and urethane acrylates. Anthraquinone, benzophenone and the like are added as a photoinitiator. Other components include stabilizers such as hydroquinone.

【0011】上記光後硬化性樹脂としては、ポリエステ
ルを主成分とし、ポリエーテル成分を含有する樹脂、光
カチオン重合性化合物、光カチオン重合開始剤からなる
組成物からなるものが挙げられる。ポリエステルを主成
分とし、ポリエーテル成分を含有する樹脂としては、多
価カルボン酸と多価アルコールのエステル結合が全体の
50モル%以上含有されてなる樹脂の分子内に、エーテ
ル結合を導入することにより得ることができる。光カチ
オン重合性化合物としては、分子内に少なくとも1個の
光カチオン重合性の官能基を有する化合物であればよ
く、特に限定されるものではないが、例えば分子内に少
なくとも1個のエポキシ基、オキセタン基、水酸基、ビ
ニルエーテル基、エピスルフィド基、エチレンイミン基
等の光カチオン重合性の官能基を有する各種化合物が挙
げられ、好適に用いられる。光カチオン重合開始剤とし
ては、イオン性光酸発生タイプであっても良いし、非イ
オン性光酸発生タイプであっても良い。イオン性光酸発
生タイプの光カチオン重合開始剤としては、特に限定さ
れるものではないが、例えば芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族ハロニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム
塩類や、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシ
ラノール−アルミニウム錯体などの有機金属錯体類等が
挙げられ、これらの1種類、もしくは2種以上が好適に
用いられる。また、非イオン性光酸発生タイプの光カチ
オン重合開始剤としては、特に限定されるものではない
が、例えばニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導
体、リン酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、
ジアゾナフトキノン、N−ヒドロキシイミドスホナート
等が挙げられ、これらの1種類もしくは2種類以上が好
適に用いられる。
The above-mentioned photo-curable resin includes, for example, a resin comprising a polyester as a main component and a resin containing a polyether component, a cationic photopolymerizable compound, and a cationic photopolymerization initiator. As a resin containing a polyester as a main component and containing a polyether component, an ether bond is introduced into a molecule of a resin containing an ester bond of a polyhydric carboxylic acid and a polyhydric alcohol in an amount of 50 mol% or more. Can be obtained by The photocationically polymerizable compound may be any compound having at least one photocationically polymerizable functional group in the molecule, and is not particularly limited. For example, at least one epoxy group in the molecule, Various compounds having a photocationically polymerizable functional group such as an oxetane group, a hydroxyl group, a vinyl ether group, an episulfide group, and an ethyleneimine group are exemplified, and are preferably used. The cationic photopolymerization initiator may be an ionic photoacid generating type or a nonionic photoacid generating type. The cationic photopolymerization initiator of the ionic photoacid generation type is not particularly limited. Organometallic complexes such as titanocene complexes and arylsilanol-aluminum complexes are listed, and one or more of these are suitably used. Further, the nonionic photoacid generating type of cationic photopolymerization initiator is not particularly limited, for example, nitrobenzyl ester, sulfonic acid derivative, phosphoric acid ester, phenolsulfonic acid ester,
Examples thereof include diazonaphthoquinone and N-hydroxyimidosulfonate, and one or more of these are preferably used.

【0012】上記フィルムの素材の中では、硬化後の密
着性を向上させる為に加熱もしくは光硬化性樹脂からな
るフィルムが好ましい。
Among the above-mentioned film materials, a film made of a heat-curable or photo-curable resin is preferable in order to improve the adhesion after curing.

【0013】上記金属微粒子を分散してなるペーストか
らなる導電部は、本発明の導電接続フィルムが半導体パ
ッケージと基板等の電極の接続に用いられた場合に接続
不良を起こさない程度に、フィルムの両面に導通するよ
う配置されていなければならない。好ましくは、予めレ
ーザー、ドリル等の機械的方法や、エッチング等の化学
的方法で貫通孔を設けたフィルムに、上記ペーストから
なる導電部を後述する方法で配置する方法が挙げられ
る。
The conductive portion made of the paste in which the metal fine particles are dispersed is formed so that the conductive connection film of the present invention does not cause a connection failure when used for connection between a semiconductor package and an electrode such as a substrate. Must be arranged to conduct on both sides. Preferably, a method in which a conductive portion made of the above paste is arranged on a film in which a through-hole is provided in advance by a mechanical method such as laser or drill or a chemical method such as etching by a method described later.

【0014】上記金属微粒子としては、Au、Ag、C
u、Ni、Al、Sn、In、Zn、Pb、Ti、C
r、Bi等からなる金属微粒子、あるいはこれらの2種
類以上からなる合金からなる金属微粒子が用いられる。
好ましくは、加熱により信頼性の高い電極間接合ができ
るという理由ではんだ合金が挙げられる。
As the above-mentioned metal fine particles, Au, Ag, C
u, Ni, Al, Sn, In, Zn, Pb, Ti, C
Metal fine particles made of r, Bi, or the like, or metal fine particles made of an alloy of two or more of these are used.
Preferably, a solder alloy is used because a reliable inter-electrode bonding can be performed by heating.

【0015】上記金属微粒子の大きさとしては、2〜5
0μmが好ましい。
The size of the metal fine particles is 2 to 5
0 μm is preferred.

【0016】上記金属微粒子を分散してなるペーストと
しては、上記金属微粒子を樹脂に界面活性剤や高分子分
散剤で分散させ、ペースト状態にしたものが挙げられ
る。上記金属微粒子を分散させるための樹脂としては、
特に限定されないが、例えばロジン樹脂、ロジン変性樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、メ
ラミン樹脂等が挙げられる。樹脂の配合量としては、ペ
ースト全体の2〜40重量%が好ましい。
Examples of the paste obtained by dispersing the metal fine particles include a paste in which the metal fine particles are dispersed in a resin with a surfactant or a polymer dispersant to form a paste. As a resin for dispersing the metal fine particles,
Although not particularly limited, for example, a rosin resin, a rosin-modified resin, an epoxy resin, a phenol resin, an acrylic resin, a melamine resin and the like can be mentioned. The amount of the resin is preferably 2 to 40% by weight of the entire paste.

【0017】上記ペーストには、所望の粘度とするため
に、有機溶剤が配合さていてもよい。溶剤としては、エ
タノール、トルエン、アセトン等が挙げられる。好まし
いペーストの粘度としては、導電部の配置の方法にもよ
るが、例えばスクリーン印刷することにより配置を行う
場合には、10〜1000Pa・s、ディスペンサーに
より配置を行う場合には、1〜100Pa・sである。
The paste may contain an organic solvent in order to obtain a desired viscosity. Examples of the solvent include ethanol, toluene, acetone and the like. The preferred viscosity of the paste depends on the method of arranging the conductive parts. For example, when the arrangement is performed by screen printing, 10 to 1000 Pa · s, and when the arrangement is performed by a dispenser, 1 to 100 Pa · s. s.

【0018】上記ペーストには、必要に応じて塩酸アニ
リン、塩酸ヒドラジン等の活性剤やワックス等のチキソ
剤などが配合されていてもよい。
If necessary, the paste may contain an activator such as aniline hydrochloride or hydrazine hydrochloride, or a thixotropic agent such as wax.

【0019】上記金属微粒子を分散してなるペーストか
らなる導電部の大きさとしては、導電接続フィルムが用
いられる接続電極の密度にもよるが、例えば5〜100
0μmが好ましい。
The size of the conductive portion made of the paste in which the metal fine particles are dispersed depends on the density of the connection electrode using the conductive connection film.
0 μm is preferred.

【0020】本発明の導電接続フィルムは、導電部が金
属微粒子を分散してなるペーストからなるため、流動性
が高く、電極への接触面積が大きく、接続信頼性が高く
なる。また、熱により信頼性が高い電極間接合を形成し
やすくなる。
The conductive connecting film of the present invention has a high fluidity, a large contact area with the electrode, and a high connection reliability since the conductive portion is made of a paste in which fine metal particles are dispersed. In addition, heat makes it easy to form a highly reliable interelectrode junction.

【0021】本発明の導電接続フィルムの厚みとして
は、特に限定されないが、例えば1〜500μmが挙げ
られる。本発明の導電接続フィルムの硬化後(非粘着の
状態)の常温での線膨張係数は、10〜200ppmで
あることが好ましい。上記線膨張係数が10ppm未満
では導電部との線膨張の差が大きいため、熱サイクル等
がかかった際、電気的接続が不安定になることがある。
逆に200ppm以上でも、熱サイクル等がかかった
際、電極間が広がりすぎ導電部が電極から離れ接続不良
になることがある。線膨張係数は、好ましくは20〜1
50ppmで、より好ましくは30〜100ppmであ
る。なお、線膨張係数は用いられるフィルムの樹脂組成
に依存する。
The thickness of the conductive connection film of the present invention is not particularly limited, but is, for example, 1 to 500 μm. The linear expansion coefficient at room temperature after curing (non-adhesive state) of the conductive connection film of the present invention is preferably 10 to 200 ppm. When the linear expansion coefficient is less than 10 ppm, the difference in linear expansion from the conductive part is large, so that when a thermal cycle or the like is applied, the electrical connection may become unstable.
Conversely, even at 200 ppm or more, when a thermal cycle or the like is applied, the gap between the electrodes is too large, and the conductive portion may be separated from the electrodes, resulting in poor connection. The coefficient of linear expansion is preferably 20 to 1
It is 50 ppm, more preferably 30 to 100 ppm. The coefficient of linear expansion depends on the resin composition of the film used.

【0022】本発明の導電接続フィルムが未硬化(粘着
接着性を有する場合)の場合には、導電部の保護、支持
および取り扱い性を向上させる為に、ポリエチレンフィ
ルムやポリエステルフィルム等の離型フィルムで片面も
しくは両面が保護されていてもよい。
When the conductive connection film of the present invention is uncured (has adhesiveness), a release film such as a polyethylene film or a polyester film is used to improve protection, support and handling of the conductive portion. One side or both sides may be protected.

【0023】本発明の導電接続フィルムは、電極の接続
を行う際にフィルムの硬化を一緒に行うことが好まし
い。例えば、接続する半導体パッケージの電極と本発明
の導電接続フィルムの導電部との位置合わせをし、マザ
ーボード等の回路基板に仮圧着を行う。これにより半導
体パッケージとマザーボード間が導通する。その後、フ
ィルムの熱硬化、光硬化、電子線硬化、光後硬化を行う
ことにより、半導体パッケージと回路基板との接着を確
実に行うことができる。さらに、半導体パッケージ電極
と回路基板との導通を安定なものにするため、この後、
リフロープロセスで導電部を溶融し、導電部と双方の電
極を接合することが好ましい。
In the conductive connection film of the present invention, it is preferable that the film is cured when the electrodes are connected. For example, the position of the electrode of the semiconductor package to be connected and the conductive portion of the conductive connection film of the present invention are aligned, and temporary crimping is performed on a circuit board such as a motherboard. Thereby, conduction between the semiconductor package and the motherboard is established. Thereafter, the film is subjected to heat curing, light curing, electron beam curing, and light post-curing, whereby the semiconductor package and the circuit board can be reliably bonded. Furthermore, in order to make the conduction between the semiconductor package electrode and the circuit board stable,
Preferably, the conductive portion is melted by a reflow process, and the conductive portion and both electrodes are joined.

【0024】貫通孔を有するフィルムの該貫通孔の周縁
または内部に、金属微粒子を分散してなるペーストをス
クリーン印刷することにより、導電部の配置を行うこと
を特徴とする導電接続フィルムの製造方法もまた本発明
の一つである。
[0024] A method for producing a conductive connection film, characterized in that conductive parts are arranged by screen-printing a paste containing fine metal particles on the periphery or inside of the through-hole of the film having the through-hole. Is also one of the present invention.

【0025】さらに、貫通孔を有するフィルムの該貫通
孔の周縁または内部に、ディスペンサーを使用して金属
微粒子を分散してなるペーストを吐出し、導電部の配置
を行うことを特徴とする導電接続フィルムの製造方法も
また本発明の一つである。
Further, a conductive connection is characterized in that a paste formed by dispersing metal fine particles is discharged to the periphery or inside of the through-hole of the film having the through-hole by using a dispenser, and the conductive portion is arranged. A method for producing a film is also one aspect of the present invention.

【0026】本発明で用いられる貫通孔を有するフィル
ムとしては、上記フィルムの素材と同様のものが挙げら
れる。貫通孔の大きさとしては、上記導電部の大きさと
同様である。貫通孔を付与する方法としては、レーザ
ー、ドリル等の機械的方法や、エッチング等の化学的方
法が挙げられる。
The film having a through hole used in the present invention may be the same as the material of the above-mentioned film. The size of the through hole is the same as the size of the conductive portion. Examples of the method for providing the through-hole include a mechanical method such as laser and drill, and a chemical method such as etching.

【0027】本発明で用いられる金属微粒子を分散して
なるペーストとしては、本発明の導電接続フィルムで上
述したペーストと同様のものが挙げられる。
As the paste obtained by dispersing the metal fine particles used in the present invention, the same paste as the paste described above for the conductive connection film of the present invention can be used.

【0028】上記スクリーン印刷することにより導電部
の配置を行う方法としては、通常行われる方法で作製し
たスクリーンをスクリーン印刷機に取り付け、貫通孔を
有するフィルムに上記ペーストを印刷する。具体的に
は、以下のような方法が挙げられる。フィルムベース上
に感光膜を形成させた感光性フィルムを用意し、台上に
感光膜面を上にして感光性フィルムを置き、上から枠張
りしたスクリーンを乗せる。次に、接着剤を枠の内側か
らスキージを用いて圧着しながら塗布する。接着剤が乾
燥した後、フィルムベースを剥がす。その後、スクリー
ン上に形成された感光膜面にポジフィルムを密着させ、
紫外線露光を行う。ポジフィルムにはスクリーン印刷し
たいパターンが黒色等に印刷されている。露光後、スク
リーンを水などの現像液に浸漬し、スプレーガンで現像
液を吹き付け、画線部の目を開ける。このようにしてで
きたスクリーンをスクリーン印刷機に取り付ける。スク
リーンの下に貫通孔を有するフィルムを、スクリーンの
パターンに位置合わせして置く。金属微粒子を分散して
なるペーストをスクリーンの枠内に置き、スキージでス
クリーンの内面を加圧、摺動することにより、上記ペー
ストがフィルム上に転移し、導電部の配置を行うことが
できる。
As a method of arranging the conductive parts by screen printing, a screen produced by a usual method is attached to a screen printing machine, and the paste is printed on a film having through holes. Specifically, the following method is mentioned. A photosensitive film having a photosensitive film formed on a film base is prepared, the photosensitive film is placed on a table with the photosensitive film face up, and a screen framed from above is mounted. Next, an adhesive is applied from the inside of the frame while pressing with a squeegee. After the adhesive has dried, the film base is peeled off. After that, a positive film is adhered to the photosensitive film surface formed on the screen,
UV exposure is performed. The pattern to be screen-printed is printed in black or the like on the positive film. After the exposure, the screen is immersed in a developing solution such as water, and the developing solution is sprayed with a spray gun to open the image area. The screen thus obtained is mounted on a screen printing machine. A film with through holes under the screen is placed in registration with the pattern on the screen. By placing the paste in which the metal fine particles are dispersed in the frame of the screen and pressing and sliding the inner surface of the screen with a squeegee, the paste is transferred onto the film, and the conductive portion can be arranged.

【0029】上記ディスペンサーを使用して金属微粒子
を分散してなるペーストを吐出し、導電部の配置を行う
方法としては、通常用いられるディスペンサーを使用す
ることができ、例えば以下のような方法が挙げられる。
金属微粒子を分散してなるペーストをシリンジ内に入れ
る。シリンジの先端にはニードルが装着されており、上
記ペーストが空気圧によるプランジャーの作動により吐
出される。貫通孔を有するフィルムをXYステージ上に
乗せる。XYステージの直上にはシリンジがあり、ニー
ドルの真下にフィルムの穴が位置するようにXYステー
ジを移動させる。移動後、一定量のペーストをニードル
から吐出させ、フィルムの穴にペーストを充填する。こ
れを各穴について繰り返す。
As a method of disposing a paste obtained by dispersing metal fine particles by using the above dispenser and disposing the conductive portion, a commonly used dispenser can be used. For example, the following method can be used. Can be
A paste obtained by dispersing metal fine particles is placed in a syringe. A needle is attached to the tip of the syringe, and the paste is discharged by operating a plunger by air pressure. A film having a through hole is placed on an XY stage. There is a syringe directly above the XY stage, and the XY stage is moved so that the hole of the film is located just below the needle. After the movement, a predetermined amount of the paste is discharged from the needle, and the hole in the film is filled with the paste. This is repeated for each hole.

【0030】導電部の配置は、フィルムにあけられた穴
の内部および周縁部であり、導電部は穴の内部を完全に
充填する必要はなく、半充填状態でも良い。
The arrangement of the conductive portion is the inside and the periphery of the hole formed in the film. The conductive portion does not need to completely fill the inside of the hole, and may be in a semi-filled state.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて本発明の態
様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみ
に限定されるものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0032】(実施例1) ・導電接続フィルムの作製 厚み100μm、10×10mmのポリエステルフィル
ムに0.5mmピッチで正方形になるように64個の穴
をCO2レーザーで、表面の径が150μmになるよう
に貫通孔を設けた。次に、ディスペンサーを用いて、こ
のフィルムの貫通孔にハンダ合金ペーストを吐出して導
電接続フィルムを作製した。使用したはんだ合金ペース
トの粘度は150Pa・s、平均粒子径は10μmのも
のを用いた。
(Example 1) Preparation of Conductive Connection Film 64 holes were formed on a polyester film of 100 μm in thickness and 10 × 10 mm in a 0.5 mm pitch with a CO 2 laser so that the surface diameter became 150 μm. A through-hole was provided so as to be as follows. Next, using a dispenser, a solder alloy paste was discharged into the through-holes of the film to produce a conductive connection film. The used solder alloy paste had a viscosity of 150 Pa · s and an average particle diameter of 10 μm.

【0033】・接続構造体の作製 得られた導電接続フィルムを、半導体パッケージの電極
部とフィルムの導電部を位置合わせして回路基板に仮圧
着した。次に、リフロー炉に入れ導電部を溶融し、電極
部を接合して接続構造体を作製した。得られた接続構造
体は、全ての電極で安定した導通状態を示し、−40〜
125℃の熱サイクルテストを500回行ったが、低温
時でも高温時でも接続部の抵抗値の上昇や、動作に異常
は見られなかった。また、3フィートの高さからの落下
テストを40回行っても、接続ははずれなかった。
Preparation of Connection Structure The obtained conductive connection film was temporarily press-bonded to a circuit board with the electrode portion of the semiconductor package and the conductive portion of the film aligned. Next, it was placed in a reflow furnace, the conductive part was melted, and the electrode part was joined to produce a connection structure. The obtained connection structure shows a stable conduction state in all the electrodes, and is -40 to 40.
The heat cycle test at 125 ° C. was performed 500 times, and no increase in the resistance value of the connection portion and no abnormality in the operation were observed at both low and high temperatures. In addition, the connection did not disconnect even after performing the drop test 40 times from a height of 3 feet.

【0034】(実施例2) ・導電接続フィルムの作製 厚み100μm、10×10mmの熱硬化性のエポキシ
系フィルムに0.5mmピッチで正方形になるように6
4個の穴をCO2レーザーで、表面の径が150μmに
なるように貫通孔を設けた。次に、得られたフィルム上
の64個の穴の位置にスクリーン印刷機を用いて、直径
200μm、厚さ100μになるようにを印刷して導電
接続フィルムを作製した。使用したはんだ合金ペースト
の粘度は300Pa・s、平均粒子径は10μmのもの
を用いた。
(Example 2) Preparation of conductive connection film A thermosetting epoxy film having a thickness of 100 μm and a size of 10 × 10 mm was formed into a square at a pitch of 0.5 mm.
Through holes were formed in four holes with a CO 2 laser so that the surface diameter became 150 μm. Next, a screen printing machine was used to print a film having a diameter of 200 μm and a thickness of 100 μ at the positions of the 64 holes on the obtained film to prepare a conductive connection film. The solder alloy paste used had a viscosity of 300 Pa · s and an average particle diameter of 10 μm.

【0035】・接続構造体の作製 得られた導電接続フィルムを、半導体パッケージの電極
部とフィルムの導電部を位置合わせして回路基板に仮圧
着した。次に、リフロー炉に入れ導電部を溶融し、電極
部を接合させ、同時にエポキシ系フィルムを熱硬化させ
て半導体パッケージと回路基板間の接着を強固にして接
続構造体を作製した。得られた接続構造体は、全ての電
極で安定した導通状態を示し、−40〜125℃の熱サ
イクルテストを500回行ったが、低温時でも高温時で
も接続部の抵抗値の上昇や、動作に異常は見られなかっ
た。また、3フィートの高さからの落下試験を40回行
ったがノイズはなく、瞬間的な断線もなかった。
Preparation of Connection Structure The obtained conductive connection film was temporarily press-bonded to a circuit board with the electrode portion of the semiconductor package aligned with the conductive portion of the film. Next, the semiconductor device was placed in a reflow furnace, the conductive portions were melted, the electrodes were joined, and at the same time, the epoxy-based film was thermally cured to strengthen the adhesion between the semiconductor package and the circuit board, thereby producing a connection structure. The obtained connection structure showed a stable conduction state in all the electrodes, and was subjected to a thermal cycle test at −40 to 125 ° C. 500 times. No abnormal operation was observed. The drop test from a height of 3 feet was performed 40 times, but there was no noise and there was no instantaneous disconnection.

【0036】(比較例1)エポキシ系フィルムにランダ
ムに金被覆微球体を分散させて得られた異方導電フィル
ムを作製し、半導体パッケージと回路基板間に挟み込み
圧着して接続構造体を得た。各電極の導通状態を調べた
ところ、10〜20%の電極において導通不良があっ
た。 さらに−40〜125℃の熱サイクルテストを5
00回行ったが、高温時に多数の接続部で抵抗値の上昇
が起こった。
(Comparative Example 1) An anisotropic conductive film was prepared by randomly dispersing gold-coated microspheres in an epoxy-based film, and was sandwiched between a semiconductor package and a circuit board and pressed to obtain a connection structure. . When the conduction state of each electrode was examined, conduction failure was found in 10 to 20% of the electrodes. Further, a heat cycle test at -40 to 125 ° C.
Although the test was performed 00 times, the resistance value increased at many connection portions at a high temperature.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の導電接続フィルムによれば、半
導体パッケージと基板を接続する工程において、封止樹
脂の注入工程を省き、隣接電極のリークが無く、接続信
頼性の高い電気的接続を短時間で容易に行うことができ
る。また、本発明の製造方法によれば、上記の導電接続
フィルムを簡便に、高い歩留まりで製造することができ
る。
According to the conductive connection film of the present invention, in the step of connecting the semiconductor package and the substrate, the step of injecting the sealing resin is omitted, and there is no leakage of the adjacent electrodes and the electrical connection with high connection reliability can be achieved. It can be easily performed in a short time. Further, according to the manufacturing method of the present invention, the above-described conductive connection film can be easily manufactured at a high yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J004 AA04 AA10 AA12 AA13 AB03 CA04 CA06 CC02 FA05 4J040 BA201 DF001 EB001 EB131 EC001 HA066 HA076 JA09 KA03 KA32 LA09 NA20 5G307 HA02 HB03 HC01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4J004 AA04 AA10 AA12 AA13 AB03 CA04 CA06 CC02 FA05 4J040 BA201 DF001 EB001 EB131 EC001 HA066 HA076 JA09 KA03 KA32 LA09 NA20 5G307 HA02 HB03 HC01

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属微粒子を分散してなるペーストから
なる導電部を有することを特徴とする導電接続フィル
ム。
1. A conductive connection film having a conductive portion made of a paste in which metal fine particles are dispersed.
【請求項2】 加熱もしくは光硬化性樹脂からなるフィ
ルムに、金属微粒子を分散してなるペーストからなる導
電部を有することを特徴とする請求項1記載の導電接続
フィルム。
2. The conductive connection film according to claim 1, wherein a film made of a heat-curable or photo-curable resin has a conductive part made of a paste in which fine metal particles are dispersed.
【請求項3】 貫通孔を有するフィルムの該貫通孔の周
縁または内部に、金属微粒子を分散してなるペーストを
スクリーン印刷することにより、導電部の配置を行うこ
とを特徴とする導電接続フィルムの製造方法。
3. A conductive connecting film, characterized in that a conductive part is arranged by screen-printing a paste obtained by dispersing metal fine particles on the periphery or inside of the through-hole of the film having the through-hole. Production method.
【請求項4】 貫通孔を有するフィルムの該貫通孔の周
縁または内部に、ディスペンサーを使用して金属微粒子
を分散してなるペーストを吐出し、導電部の配置を行う
ことを特徴とする導電接続フィルムの製造方法。
4. A conductive connection, wherein a paste formed by dispersing metal fine particles is discharged to the periphery or inside of the through-hole of a film having a through-hole by using a dispenser, and a conductive portion is arranged. Film production method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011070931A (en) * 2009-09-25 2011-04-07 Sekisui Chem Co Ltd Anisotropic conductive material, manufacturing method of connection structure, and connection structure
JP2017071681A (en) * 2015-10-06 2017-04-13 住友電気工業株式会社 Adhesive sheet, method for manufacturing electric connection body and electric connection body

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