JP2002284994A - Polyimide resin composition and highly antistatic seamless belt - Google Patents

Polyimide resin composition and highly antistatic seamless belt

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JP2002284994A
JP2002284994A JP2001084051A JP2001084051A JP2002284994A JP 2002284994 A JP2002284994 A JP 2002284994A JP 2001084051 A JP2001084051 A JP 2001084051A JP 2001084051 A JP2001084051 A JP 2001084051A JP 2002284994 A JP2002284994 A JP 2002284994A
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JP
Japan
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polyimide resin
resin composition
carbon black
seamless belt
resistance
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Application number
JP2001084051A
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Japanese (ja)
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Satoru Ishizaki
哲 石崎
Yoshio Ota
義夫 太田
Masahiro Kamibayashi
政博 上林
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain both a polyimide resin composition capable of dealing with a wide resistance range, having a slight dispersion of resistance, hardly causing reduction in resistance by change of an environment and with time while making the best use of high mechanical strength of a polyimide resin composition, and a highly antistatic seamless belt using the same. SOLUTION: This polyimide resin composition is characterized in that in a polyimide resin composition obtained by uniformly dispersing carbon black into a polyimide resin, a spin-lattice relaxation time (T1 ) obtained from a free induction decay curve measured by a pulse hydrogen nuclear magnetic resonance spectrum analysis at 30 deg.C is 50-300 msec. This highly antistatic seamless belt has a semielectroconductive layer composed of the polyimide resin at least on the external surface of the belt.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリイミド樹脂組
成物及び高制電性シームレスベルトに関する。かかる組
成物及びベルトは、電気・電子分野、事務機器等の各種
工業部品に使用される。
The present invention relates to a polyimide resin composition and a highly antistatic seamless belt. Such a composition and a belt are used for various industrial parts such as an electric / electronic field and office equipment.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドは、その高い機械的特性、電
気的絶縁性、耐熱性、寸法安定性に優れるため、宇宙・
航空機用材料、電気・電子材料、耐熱繊維材料等の各分
野において広く使用されている。例えば、ピロメリット
酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルか
ら製造される芳香族ポリイミドや、3 ,3 ’,4,4’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とp−フェニレ
ンジアミンから製造される芳香族ポリイミドは、優れた
耐熱性、機械的特性を有するフィルムとして多くの分野
で使用されている。
2. Description of the Related Art Polyimide has excellent mechanical properties, electrical insulation, heat resistance and dimensional stability.
It is widely used in various fields such as aircraft materials, electric / electronic materials, and heat-resistant fiber materials. For example, aromatic polyimide produced from pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 4,4'
Aromatic polyimides produced from biphenyltetracarboxylic dianhydride and p-phenylenediamine are used in many fields as films having excellent heat resistance and mechanical properties.

【0003】近年、OA機器用の部材等において、ポリ
イミド樹脂材料中にカーボンブラック、金属酸化物等の
電子伝導性物質やイオン伝導性物質を添加することによ
り、ポリイミドの耐熱性や高強度といった特性を活かし
つつ、中抵抗から高抵抗の間の半導電領域の電気抵抗を
付与しようとしている。しかしながら、金属酸化物はそ
れ自体の抵抗値が低いために、目的の電気抵抗部材を得
るためにはポリイミド中に金属酸化物を大量に添加する
必要がある。このため、ポリイミドの高い機械的強度を
生かしきれず、脆性を発現してしまう場合があった。イ
オン伝導性物質を用いる場合、環境(特に湿度)の変化
により抵抗値が大きく変動するため、高度に抵抗制御さ
れた部材として利用するには適していない。
[0003] In recent years, in materials for OA equipment, etc., by adding an electron conductive material such as carbon black and a metal oxide or an ion conductive material to a polyimide resin material, characteristics such as heat resistance and high strength of polyimide are obtained. While trying to make the most of the above, an attempt is made to provide an electric resistance in a semiconductive region between a medium resistance and a high resistance. However, since the metal oxide itself has a low resistance value, it is necessary to add a large amount of the metal oxide to the polyimide in order to obtain a desired electric resistance member. For this reason, the polyimide may not be able to make full use of the high mechanical strength and may exhibit brittleness. When an ion-conductive substance is used, the resistance value greatly fluctuates due to changes in the environment (particularly humidity), and thus is not suitable for use as a highly resistance-controlled member.

【0004】一方、ポリイミド前駆体、導電性物質とし
てのカーボンブラック及び溶媒並びに小径のボールをタ
ンク中に投入し、強制的に撹拌・混合させ、ボール同士
の衝突のエネルギーを利用して、ポリイミド樹脂中にカ
ーボンブラックを分散させたシームレスベルトが特開平
5−77552号広報に開示されている。しかしなが
ら、この組成物も分散性が充分とは言えず、ポリイミド
樹脂組成物が低粘度であるため、カーボンブラックの二
次凝集が発生しやすく、これにより組成物内で導電経路
が形成されやすい。このため、前記組成物を利用したフ
ィルム等の部材として用いる場合に、部材面内の抵抗ば
らつきが発生する。この組成物を用いたシームレスベル
トを、例えば電子写真方式の転写搬送部材、中間転写部
材等に用いた場合、被転写体の保持や紙分離性及び転写
効率に問題があり、近年の複写機やプリンタの高速化や
高画質化への要求に応えることができない。また、これ
らの部材は、繰返しの電圧印加等により、カーボンブラ
ック自体の酸化劣化やポリイミド樹脂材料の劣化等に起
因すると思われる抵抗低下が発生していた。
On the other hand, a polyimide precursor, carbon black as a conductive substance and a solvent, and a small-diameter ball are charged into a tank, forcibly stirred and mixed, and the energy of collision between the balls is used to form a polyimide resin. A seamless belt in which carbon black is dispersed is disclosed in JP-A-5-77552. However, this composition cannot be said to have sufficient dispersibility, and since the polyimide resin composition has a low viscosity, secondary aggregation of carbon black is likely to occur, whereby a conductive path is easily formed in the composition. For this reason, when the composition is used as a member such as a film, resistance variation occurs in the surface of the member. When a seamless belt using this composition is used for, for example, an electrophotographic transfer / transport member, an intermediate transfer member, and the like, there are problems in holding the transfer target, paper separation properties and transfer efficiency, It cannot meet the demand for higher speed and higher image quality of the printer. Further, in these members, the resistance was reduced due to the oxidative deterioration of the carbon black itself and the deterioration of the polyimide resin material due to repeated voltage application and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
イミド樹脂組成物の高い機械的強度を生かしつつ、幅広
い抵抗領域に対応でき、かつ抵抗のバラツキが小さく、
環境の変化や経時による抵抗低下が発生しにくいポリイ
ド樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発
明の別の目的は、電子写真方式の転写搬送部材や中間転
写部材として使用した場合、長期間良好な紙分離性及び
高い転写効率を有する高制電性シームレスベルトを提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to make use of the high mechanical strength of a polyimide resin composition, to be able to cope with a wide range of resistance, and to have a small variation in resistance.
An object of the present invention is to provide a polyid resin composition in which the resistance does not easily decrease due to environmental changes or aging. Another object of the present invention is to provide a highly antistatic seamless belt having good long-term paper separation properties and high transfer efficiency when used as an electrophotographic transfer / transfer member or an intermediate transfer member. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意検討したところ、導電性物質としての
カーボンブラックを良好に分散させる条件並びにかかる
分散状態を定量かつ容易に測定できる手段を見出し、本
発明を完成させるに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to achieve the above object, and have found that conditions for favorably dispersing carbon black as a conductive substance and the state of dispersion can be quantitatively and easily measured. Means have been found and the present invention has been completed.

【0007】すなわち、本発明は、カーボンブラックを
ポリイミド樹脂中に均一に分散させたポリイミド樹脂組
成物において、30℃におけるパルス水素核核磁気共鳴
(以下パルス 1H−NMRと略す)スペクトル分析で得
られる自由誘導減衰(以下FIDと略す)曲線から求め
たスピン−格子緩和時間(T1 )は50〜300mse
c.であることを特徴とするポリイミド樹脂組成物に関
する。
That is, the present invention provides a polyimide resin composition in which carbon black is uniformly dispersed in a polyimide resin by pulsed hydrogen nuclear magnetic resonance (hereinafter abbreviated as pulsed 1 H-NMR) spectrum analysis at 30 ° C. The spin-lattice relaxation time (T 1 ) obtained from the free induction decay (hereinafter abbreviated as FID) curve is 50 to 300 msec.
c. It relates to the polyimide resin composition characterized by these.

【0008】パルス 1H−NMRは、パルス状の共鳴電
磁波を測定対象に照射し、 1Hプロトンの核スピンを励
起させ、パルス波停止後基底状態に戻る信号強度と時定
数を測定する方法であり、高分子複合材料の分子特性、
結晶構造、分子運動性等を評価する方法として知られて
いる。前記水素核スピン−格子緩和時間(T1 )は、ポ
リイミド樹脂組成物が吸収したエネルギーを放出するの
にかかる時間であって、ポリイミド樹脂組成物に存在す
る水素核の分子運動を反映する値であり、カーボンブラ
ック微粒子の均一分散性、微粒子化の程度を示すパラメ
ータである。カーボンブラック微粒子が微細化して比表
面積が増加するにつれてT1 が短くなり、逆の状態では
1 が長くなる。T1 が50〜300msec.の場
合、カーボンブラックの分散性が良好であり、これを含
有したポリイミド樹脂組成物は、抵抗のばらつきが低
く、経時よる抵抗低下が小さい。T1 は、好ましくは5
0〜250msec.であり、さらに好ましくは50〜
200msec.である。
Pulsed 1 H-NMR is a method of irradiating a target with a pulsed resonance electromagnetic wave to excite nuclear spins of 1 H protons and measuring a signal intensity and a time constant returning to a ground state after stopping the pulse wave. Yes, the molecular properties of polymer composites,
It is known as a method for evaluating crystal structure, molecular mobility, and the like. The hydrogen nucleus spin-lattice relaxation time (T 1 ) is a time required to release the energy absorbed by the polyimide resin composition, and is a value reflecting the molecular motion of hydrogen nuclei present in the polyimide resin composition. This is a parameter indicating the uniform dispersibility of carbon black fine particles and the degree of fineness. As the carbon black particles become finer and the specific surface area increases, T 1 becomes shorter, and in the opposite state, T 1 becomes longer. T 1 is 50~300msec. In the case of (1), the dispersibility of carbon black is good, and the polyimide resin composition containing the carbon black has low resistance variation and a small decrease in resistance with time. T 1 is preferably 5
0 to 250 msec. And more preferably 50 to
200 msec. It is.

【0009】前記T1 は、パルス核磁気共鳴装置を用い
て、水素核を測定核として測定周波数25MHz 、90
°パルス幅2.0μsec.、パルス間隔3sec.、
温度30℃の条件下で、反転回復法にてFIDを測定し
て得られた値である。
The above T 1 is measured using a pulse nuclear magnetic resonance apparatus with a hydrogen nucleus as a measurement nucleus and a measurement frequency of 25 MHz, 90 MHz.
° pulse width 2.0 μsec. , Pulse interval 3 sec. ,
This is a value obtained by measuring FID by the inversion recovery method at a temperature of 30 ° C.

【0010】前記ポリイミド樹脂組成物は、揮発分が
1.0%以上のカーボンブラックを少なくとも1種類含
有することが好ましい。
The polyimide resin composition preferably contains at least one carbon black having a volatile content of 1.0% or more.

【0011】本発明における揮発分(V)は、JIS
K 6221に準じ、加熱前のカーボンブラックの重量
(WD )と、950℃で7分間加熱した後のカーボンブ
ラックの重量(WR )を測定し、次式より算出したもの
である。
The volatile matter (V) in the present invention is determined according to JIS
According to K 6221, the weight (W D ) of the carbon black before heating and the weight (W R ) of the carbon black after heating at 950 ° C. for 7 minutes were measured and calculated by the following equation.

【0012】V=(WD −WR )/WD ×100 揮発分の成分はカーボンブラック粒子の表面に存在する
カルボキシル基、キノン基、フェノール基、ラクトン
基、キノイドカルボニル基、ピロール基等の酸素含有基
を含む化合物であることが知られており、本発明におい
ては、好ましくは揮発分が1.0%以上、より好ましく
は1.5%〜20%、さらに好ましくは2.0%〜18
%のカーボンブラックを少なくとも1種類含有すると、
ポリイミド樹脂中での分散性が向上し、抵抗バラツキが
小さくなる。
V = (W D -W R ) / W D × 100 Volatile components such as carboxyl group, quinone group, phenol group, lactone group, quinoid carbonyl group and pyrrole group present on the surface of the carbon black particles. It is known that the compound contains an oxygen-containing group, and in the present invention, the volatile content is preferably 1.0% or more, more preferably 1.5% to 20%, and still more preferably 2.0% to 2.0%. 18
% Of at least one carbon black,
Dispersibility in the polyimide resin is improved, and resistance variation is reduced.

【0013】また、本発明は、前記ポリイミド樹脂組成
物からなる半導電層を、少なくともその外表面に有する
高制電性シームレスベルトに関する。
[0013] The present invention also relates to a highly antistatic seamless belt having a semiconductive layer comprising the polyimide resin composition on at least the outer surface thereof.

【0014】前記高制電性シームレスベルトは、安定し
た半導電性を保持する機能が必要な用途に適用させるた
め、その外表面の表面抵抗率の常用対数値が8〜13
(logΩ/□)であることが好ましく、より好ましく
は9〜13(logΩ/□)であり、さらに好ましくは
10〜13(logΩ/□)である。
The highly antistatic seamless belt has a common logarithmic value of the surface resistivity of the outer surface of 8 to 13 in order to be applied to an application requiring a function of maintaining stable semiconductivity.
(LogΩ / □), more preferably 9 to 13 (logΩ / □), and still more preferably 10 to 13 (logΩ / □).

【0015】前記表面抵抗率は、実施例に示す方法で測
定した値である。
The surface resistivity is a value measured by the method shown in the examples.

【0016】さらに、前記高制電性シームレスベルト
は、使用時の抵抗低下の発生を抑制するためには、放電
劣化試験前と放電劣化試験後の表面抵抗率の差が常用対
数値で2.0(logΩ/□)以下であることが好まし
く、より好ましくは1.5(logΩ/□)以下であ
り、さらに好ましくは1.0(logΩ/□)以下であ
る。
Further, in the highly antistatic seamless belt, the difference between the surface resistivity before the discharge deterioration test and the surface resistivity after the discharge deterioration test is 2. It is preferably 0 (logΩ / □) or less, more preferably 1.5 (logΩ / □) or less, and still more preferably 1.0 (logΩ / □) or less.

【0017】ここで、放電劣化試験とは、実施例に示す
装置、条件下に放電処理することによりシームレスベル
トの表面抵抗率を低下させる試験をいう。放電劣化試験
前と放電劣化試験後にシームレスベルトの表面抵抗率を
それぞれ測定し、得られた値の差が表面抵抗率の低下量
(Δρs)であり、その常用対数値を求める。
Here, the discharge deterioration test is a test in which the surface resistivity of the seamless belt is reduced by performing discharge treatment under the apparatus and conditions shown in the examples. The surface resistivity of the seamless belt is measured before and after the discharge deterioration test, and the difference between the obtained values is the amount of decrease in the surface resistivity (Δρs).

【0018】[作用効果]本発明のポリイミド樹脂組成
物によると、パルス 1H−NMRスペクトル分析により
求めたT1 が所定の範囲にあり、均一で安定した電気抵
抗の部材として有用である。また、本発明の高制電性シ
ームレスベルトによると、前記ポリイミド樹脂組成物か
ら成形されることにより、電子写真方式の中間転写ベル
ト、転写搬送ベルト、転写定着ベルト等の画像形成装置
用ベルトとして用いたときに、長期に渡り表面抵抗率等
の初期の特性を保持することができ、当該画像形成装置
は、高品質な画像を長期に渡り維持することができる。
[Function and Effect] According to the polyimide resin composition of the present invention, T 1 determined by pulse 1 H-NMR spectrum analysis is within a predetermined range, and is useful as a member having uniform and stable electric resistance. Further, according to the highly antistatic seamless belt of the present invention, by being molded from the polyimide resin composition, it is used as an image forming apparatus belt such as an electrophotographic intermediate transfer belt, a transfer conveyance belt, and a transfer fixing belt. The initial characteristics such as surface resistivity can be maintained for a long period of time, and the image forming apparatus can maintain a high-quality image for a long period of time.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明についてより詳細に
説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0020】本発明のポリイミド樹脂組成物は,導電性
物質としてカーボンブラックを含有する。
The polyimide resin composition of the present invention contains carbon black as a conductive substance.

【0021】本発明に用いるカーボンブラックとして
は、例えばファーネスブラック、ケッチェンブラック、
チャンネルブラック等が挙げられ、単独又は複数種類の
カーボンブラックを併用してもよい。本発明において
は、揮発分が1.0%以上のカーボンブラックを少なく
とも1種類含有することが好ましい。このようなカーボ
ンブラックとしては、デグサ社製のカラーブラックFW
200、カラーブラックFW2、カラーブラックFW2
V、カラーブラックFW1、カラーブラックFW18、
スペシャルブラック6、カラーブラックS170、カラ
ーブラックS160、スペシャルブラック5、スペシャ
ルブラック4、スペシャルブラック4A、プリンテック
ス150T、プリンテックスU、プリンテックスV、プ
リンテックス140U、プリンテックス140V、スペ
シャルブラック550、スペシャルブラック350、ス
ペシャルブラック250、スペシャルブラック100、
三菱化学社製のMA7、MA77、MA8、MA11、
MA100、MA100R、MA230、MA220、
キャボット社製のMONARCH700、MONARC
H800、MONARCH880、MONARCH90
0、MONARCH1000、MONARCH130
0、MONARCH1400、MOGUL−L、REG
AL400R、VULCAN XC−72R等が挙げら
れる。
Examples of the carbon black used in the present invention include furnace black, Ketjen black,
Channel black and the like; a single type or a plurality of types of carbon blacks may be used in combination. In the present invention, it is preferable to contain at least one type of carbon black having a volatile content of 1.0% or more. Examples of such carbon black include Color Black FW manufactured by Degussa Corporation.
200, color black FW2, color black FW2
V, color black FW1, color black FW18,
Special Black 6, Color Black S170, Color Black S160, Special Black 5, Special Black 4, Special Black 4A, Printex 150T, Printex U, Printex V, Printex 140U, Printex 140V, Special Black 550, Special Black 350, Special Black 250, Special Black 100,
MA7, MA77, MA8, MA11 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
MA100, MA100R, MA230, MA220,
MONARCH 700, MONARC manufactured by Cabot
H800, MONARCH 880, MONARCH 90
0, MONARCH 1000, MONARCH 130
0, MONARCH 1400, MOGUL-L, REG
AL400R, VULCAN XC-72R and the like.

【0022】本発明に用いるカーボンブラックは、平均
粒子径が5〜100nmであり、好ましくは10〜70
nmである。平均粒子径が5nm未満のものは、実質的
に入手することが困難であり、平均粒子径が100nm
を越える場合、該カーボンブラックを含有したポリイミ
ド樹脂組成物の表面粗さ、機械的強度及び電気抵抗制御
性等の観点から実用上満足できるものが得られ難いから
である。
The carbon black used in the present invention has an average particle size of 5 to 100 nm, preferably 10 to 70 nm.
nm. Those having an average particle diameter of less than 5 nm are substantially difficult to obtain, and have an average particle diameter of 100 nm.
This is because, when the value exceeds 3, it is difficult to obtain a practically satisfactory polyimide resin composition containing carbon black from the viewpoints of surface roughness, mechanical strength, electric resistance controllability and the like.

【0023】前記平均粒子径は、電子顕微鏡などで測定
された一次粒子径に基づく平均粒子径を示す。また、前
記カーボンブラックは、粒子表面をスチレンやメタクリ
ル酸メチル等のポリマーでグラフト化したり、絶縁材を
被覆したりすることで電気抵抗を制御してもよく、カー
ボンブラック粒子表面に酸化処理を施してもよい。
The average particle diameter is an average particle diameter based on a primary particle diameter measured by an electron microscope or the like. Further, the carbon black may control the electrical resistance by grafting the particle surface with a polymer such as styrene or methyl methacrylate, or by coating an insulating material, and oxidize the surface of the carbon black particles. You may.

【0024】本発明のポリイミド樹脂組成物は、前記カ
ーボンブラックを含有するポリアミド酸溶液を加熱し
て、溶媒の除去及びイミド転化反応を行うことにより得
ることができる。本発明に用いるポリイミド樹脂は、公
知のものを使用することができ、酸二無水物とジアミン
を溶媒中で重合反応させて得られる。なかでも、芳香族
ポリイミド樹脂は、得られるベルトの機械的強度や耐熱
性、寸法安定性が良好であり好ましい。
The polyimide resin composition of the present invention can be obtained by heating the polyamic acid solution containing the carbon black to remove the solvent and perform an imide conversion reaction. Known polyimide resins can be used for the present invention, and are obtained by polymerizing an acid dianhydride and a diamine in a solvent. Among them, aromatic polyimide resins are preferable because the mechanical strength, heat resistance and dimensional stability of the obtained belt are good.

【0025】本発明に用いる溶媒としては、有機極性溶
媒が好ましく、特にN,N−ジアルキルアミド類が有用
であり、例えば低分子量のものとしてN,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げ
られる。これらは、蒸発、置換又は拡散によりポリアミ
ド酸及びポリアミド酸成形品から容易に除去することが
できる。また、前記以外の有機極性溶媒として、N,N
−ジエチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミ
ド、N,N−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、N−
メチル−2−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンス
ルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等が挙げられ
る。これらは単独で用いてもよいし、併せて使用しても
差し支えない。さらに、前記有機極性溶媒にクレゾー
ル、フェノール、キシレノール等のフェノール類、ベン
ゾニトリル、ジオキサン、ブチロラクトン、キシレン、
シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等を単
独でもしくは併せて混合することもできる。ただし、生
成するポリアミド酸の加水分解による低分子量化を防ぐ
ため、重合反応の際には水の混入は避けることが好まし
い。
As the solvent used in the present invention, an organic polar solvent is preferable, and N, N-dialkylamides are particularly useful. For example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like having a low molecular weight are useful. Is mentioned. These can be easily removed from the polyamic acids and polyamic acid moldings by evaporation, displacement or diffusion. In addition, N, N
-Diethylformamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphortriamide, N-
Methyl-2-pyrrolidone, pyridine, tetramethylene sulfone, dimethyltetramethylene sulfone, and the like. These may be used alone or in combination. Further, the organic polar solvent cresol, phenol, phenols such as xylenol, benzonitrile, dioxane, butyrolactone, xylene,
Cyclohexane, hexane, benzene, toluene and the like can be used alone or in combination. However, in order to prevent the generated polyamic acid from being reduced in molecular weight by hydrolysis, it is preferable to avoid mixing of water during the polymerization reaction.

【0026】本発明においては、前記カーボンブラック
と前記有機極性溶媒との親和性を高めるために分散剤を
さらに添加することができる。分散剤としては、本発明
の目的にかなうものであれば特に限定されないが、例え
ば高分子分散剤が挙げられる。高分子分散剤としては、
ポリ(N−ビニル−2−ピロリドン)、ポリ(N,N’
−ジエチルアクリルアジド)、ポリ(N−ビニルホルム
アミド)、ポリ(N−ビニルアセトアミド)、ポリ(N
−ビニルフタルアミド)、ポリ(N−ビニルコハク酸ア
ミド)、ポリ(N−ビニル尿素)、ポリ(N−ビニルピ
ぺリドン)、ポリ(N−ビニルカプロラクタム)、ポリ
(N−ビニルオキサゾリン)等が挙げられ、単独又は複
数の高分子分散剤を添加することができる。また、この
他に本発明の目的の範囲内で、高分子材料、界面活性
剤、無機塩害の分散安定化剤を用いることもできる。
In the present invention, a dispersant may be further added to increase the affinity between the carbon black and the organic polar solvent. The dispersant is not particularly limited as long as it meets the purpose of the present invention, and examples thereof include a polymer dispersant. As a polymer dispersant,
Poly (N-vinyl-2-pyrrolidone), poly (N, N ')
-Diethylacrylazide), poly (N-vinylformamide), poly (N-vinylacetamide), poly (N-vinylacetamide)
-Vinylphthalamide), poly (N-vinylsuccinamide), poly (N-vinylurea), poly (N-vinylpiridone), poly (N-vinylcaprolactam), poly (N-vinyloxazoline) and the like. And one or more polymer dispersants may be added. In addition, a polymer material, a surfactant and a dispersion stabilizer against inorganic salt damage may be used within the scope of the present invention.

【0027】酸二無水物成分としては、ピロメリット酸
二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフ
タレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナ
フタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−
ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水
物、ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が挙
げられる。
The acid dianhydride component includes pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,3,3 ', 4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride Anhydrous, 1,4,5,8-
Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride,
Bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, ethylenetetracarboxylic Acid dianhydride;

【0028】ジアミンとしては、4,4’−ジアミノジ
フェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−
ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルス
ルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、
1,5−ジアミノナフタレン、m−フェニレンジアミ
ン、p−フェニレンジアミン、3,3’−ジメチル−
4,4’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、3,3’
−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’
−ジアミノジフェニルスルフイド、4,4’−ジアミノ
ジフェニルプロパン、2,4−ビス(β−アミノ−t−
ブチル)トルエン、ビス(p−β−アミノ−t−ブチル
フェニル)エーテル、ビス(p−β−メチル−δ−アミ
ノフェニル)ベンゼン、ビス−p−(1,1−ジメチル
−5−アミノ−ペンチル)ベンゼン、1−イソプロピル
−2,4−m−フェニレンジアミン、m−キシリレンジ
アミン、p−キシリレンジアミン、ジ(p−アミノシク
ロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタ
メチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチ
レンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピ
ルテトラメチレン、3−メチルへプタメチレンジアミ
ン、4,4−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,1
1−ジアミノドデカン、1,2−ビス−3−アミノプロ
ポキシエタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、
3−メトキシヘキサメチレンジアミン、2,5 −ジメチ
ルヘプタメチレンジアミン、3−メチルへプタメチレン
ジアミン、5 −メチルノナメチレンジアミン、2,11
−ジアミノドデカン、2,17 −ジアミノエイコサデカ
ン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,10−ジア
ミノ−1,10−ジメチルデカン、1,12−ジアミノ
オクタデカン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕プロパン、ピペラジン、H2 N(CH
23 O(CH22 OCH2 NH2 、H2 N(CH
23 S(CH23 NH2 、H2 N(CH23
(CH22 (CH23 NH2 等が挙げられる。
Examples of the diamine include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, and 3,3'-diamine.
Dichlorobenzidine, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone,
1,5-diaminonaphthalene, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 3,3′-dimethyl-
4,4'-biphenyldiamine, benzidine, 3,3 '
-Dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4 '
-Diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 2,4-bis (β-amino-t-
Butyl) toluene, bis (p-β-amino-t-butylphenyl) ether, bis (p-β-methyl-δ-aminophenyl) benzene, bis-p- (1,1-dimethyl-5-amino-pentyl) ) Benzene, 1-isopropyl-2,4-m-phenylenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, di (p-aminocyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nona Methylenediamine, decamethylenediamine, diaminopropyltetramethylene, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,1
1-diaminododecane, 1,2-bis-3-aminopropoxyethane, 2,2-dimethylpropylenediamine,
3-methoxyhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 2,11
-Diaminododecane, 2,17-diaminoeicosadecane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,10-diamino-1,10-dimethyldecane, 1,12-diaminooctadecane, 2,2-bis [4- (4 - aminophenoxy) phenyl] propane, piperazine, H 2 N (CH
2 ) 3 O (CH 2 ) 2 OCH 2 NH 2 , H 2 N (CH
2 ) 3 S (CH 2 ) 3 NH 2 , H 2 N (CH 2 ) 3 N
(CH 2 ) 2 (CH 2 ) 3 NH 2 and the like.

【0029】これらの原料よりカーボンブラック分散ポ
リアミド酸溶液を調製するためには、有機極性溶媒中に
ジアミンと酸二無水物を溶解し、重合反応後得られたポ
リアミド酸溶液中にカーボンブラックを添加し混合・撹
拌する方法、有機極性溶媒中に予めカーボンブラックを
均一に分散し、カーボンブラック分散液を調製した後、
この中にジアミン及び酸二無水物を溶解し、重合反応す
る方法等が挙げられるが、カーボンブラックの分散性を
均一にするためには、後者の予めカーボンブラックを均
一に分散する方法が好ましい。
In order to prepare a carbon black-dispersed polyamic acid solution from these raw materials, a diamine and an acid dianhydride are dissolved in an organic polar solvent, and carbon black is added to the polyamic acid solution obtained after the polymerization reaction. After mixing and stirring, carbon black is uniformly dispersed in an organic polar solvent in advance, and a carbon black dispersion is prepared.
Among them, a method of dissolving a diamine and an acid dianhydride and performing a polymerization reaction may be mentioned. In order to make the dispersibility of carbon black uniform, the latter method of uniformly dispersing carbon black in advance is preferable.

【0030】以下、本発明のポリイミド樹脂組成物及び
高制電性シームレスベルトの製造方法の一例を説明す
る。
Hereinafter, an example of the method for producing the polyimide resin composition and the highly antistatic seamless belt of the present invention will be described.

【0031】まず、前記有機極性溶媒中にカーボンブラ
ック及び適宜高分子分散剤を添加、分散してカーボンブ
ラック分散液を調製する。
First, carbon black and a suitable polymer dispersant are added and dispersed in the organic polar solvent to prepare a carbon black dispersion.

【0032】分散方法としては公知の方法が適用でき、
ボールミル、サンドミル、バスケットミル、超音波分散
等が挙げられる。
As a dispersion method, a known method can be applied.
Ball mill, sand mill, basket mill, ultrasonic dispersion and the like can be mentioned.

【0033】次に、前記カーボンブラック分散液に、前
記酸二無水物及びジアミンを溶解し、混合・撹拌して重
合反応を進行させ、ポリアミド酸溶液を得る。
Next, the acid dianhydride and the diamine are dissolved in the carbon black dispersion, mixed and stirred to allow a polymerization reaction to proceed to obtain a polyamic acid solution.

【0034】各原料の配合量に関しては、最終的に得ら
れるポリイミド樹脂組成物の目的とする用途により、こ
れに適合した組成を実験的に検討する必要がある。例え
ば、表面抵抗率の常用対数値が8〜13(logΩ/
□)である高制電性シームレスベルトを得るためのカー
ボンブラックの添加量は、ポリイミド樹脂固形分に対し
10〜40重量%程度が好ましく、13〜30重量%が
より好ましい。10重量%より少ないと、前記抵抗領域
を発現するためには高導電性カーボンブラックを用いる
必要があり、このような高導電性カーボンブラックを低
添加量で加えると、安定した抵抗を再現よく製造するの
が困難となる場合がある。一方、40重量%より多い
と、ポリイミド樹脂本来の高い機械特性が損なわれ、脆
性が発現し、ベルトを複数の駆動ローラ等により駆動す
る際にベルト端面に亀裂を生じることがある。
Regarding the compounding amount of each raw material, it is necessary to experimentally study a composition suitable for the intended use of the polyimide resin composition finally obtained. For example, a common logarithmic value of the surface resistivity is 8 to 13 (log Ω /
The addition amount of carbon black for obtaining the highly antistatic seamless belt of □) is preferably about 10 to 40% by weight, more preferably 13 to 30% by weight, based on the solid content of the polyimide resin. If the amount is less than 10% by weight, it is necessary to use a highly conductive carbon black in order to exhibit the above-mentioned resistance region. If such a highly conductive carbon black is added in a small amount, a stable resistance can be produced with good reproducibility. Can be difficult to do. On the other hand, if the content is more than 40% by weight, the high mechanical properties inherent in the polyimide resin are impaired, brittleness is developed, and cracks may be generated on the belt end surface when the belt is driven by a plurality of drive rollers or the like.

【0035】前記ポリアミド酸溶液のモノマー濃度(溶
媒中の酸二無水物成分とジアミン成分の濃度)は、種々
の条件に応じて設定されるが、5〜30重量%が好まし
い。また、重合反応は窒素雰囲気下で行い、反応温度は
80℃以下に設定することが好ましく、反応時間は0.
5〜10時間程度が好ましい。ポリアミド酸溶液は、重
合反応の進行に従い、溶液粘度が増大するため、粘度を
調整することができる。また、溶媒の添加等でモノマ−
濃度を下げることによって、粘度の調整も可能である。
本発明におけるポリアミド酸溶液の粘度は、通常、1〜
1000Pa・sである。
The monomer concentration (the concentration of the acid dianhydride component and the diamine component in the solvent) of the polyamic acid solution is set according to various conditions, but is preferably 5 to 30% by weight. Further, the polymerization reaction is carried out under a nitrogen atmosphere, the reaction temperature is preferably set to 80 ° C. or lower, and the reaction time is set to 0.1 minute.
About 5 to 10 hours are preferable. The viscosity of the polyamic acid solution can be adjusted because the solution viscosity increases as the polymerization reaction proceeds. Also, the addition of a solvent or the like
The viscosity can be adjusted by lowering the concentration.
The viscosity of the polyamic acid solution in the present invention is usually 1 to
1000 Pa · s.

【0036】このようにして得られたポリアミド酸溶液
を加熱して、溶媒の除去及びイミド転化反応して本発明
のポリイミド樹脂組成物を得る。
The polyamic acid solution thus obtained is heated to remove the solvent and perform an imidization reaction to obtain the polyimide resin composition of the present invention.

【0037】溶媒の除去のための加熱温度は、適用した
溶媒を蒸発させることができる温度であれば特に制限は
なく適宜に設定できる。ポリアミド酸溶液中の溶媒が急
激に蒸発するための微小ボイドの発生を防止するために
は230℃以下が好ましく、加熱時間の短縮という観点
から80℃以上が好ましい。加熱時間は加熱温度に応じ
て適宜設定され、通常、10〜60分程度である。
The heating temperature for removing the solvent is not particularly limited as long as the applied solvent can be evaporated, and can be appropriately set. 230 ° C. or lower is preferable in order to prevent generation of microvoids due to rapid evaporation of the solvent in the polyamic acid solution, and is preferably 80 ° C. or higher from the viewpoint of shortening the heating time. The heating time is appropriately set according to the heating temperature, and is usually about 10 to 60 minutes.

【0038】次いで、イミド転化反応完結や閉環水の除
去のために、加熱する。通常、この時の加熱温度は上記
溶媒蒸発温度以上から450℃以下、好ましくは250
〜400℃、加熱時間は10〜60分である。
Next, heating is performed to complete the imide conversion reaction and to remove the ring-closing water. Usually, the heating temperature at this time is from the above-mentioned solvent evaporation temperature to 450 ° C. or less, preferably 250 ° C.
400400 ° C., heating time is 1010〜60 minutes.

【0039】ポリイミド樹脂組成物を様々な形状の成形
物にするには、各々公知の成形法を用いる。例えば、フ
ィルムやベルト等の薄膜を得るには、ガラス板若しくは
銅板等の平板、エンドレスベルト又は円筒状金型等に前
記ポリアミド酸溶液を塗布等することにより被膜を形成
した後、加熱による溶媒除去、イミド転化反応、閉環水
除去を行うことにより、ポリイミド樹脂組成物からなる
フィルムやベルトを得ることができる。また、シームレ
スベルトを得るには、円筒状金型内面にポリアミド酸溶
液を流延又は塗布後、金型を回転させる方法や弾丸状走
行体を自重若しくは気体圧により走行させる方法、又は
円柱状金型をポリアミド酸溶液に浸漬した後、引き上げ
て環状金型等により成形する方法等により被膜を形成し
た後、加熱による溶媒除去、イミド転化反応、閉環水除
去を行うことにより、ポリイミド樹脂組成物からなるシ
ームレスベルトを得ることが挙げられ、適宜選択するこ
とができる。
In order to form the polyimide resin composition into molded articles having various shapes, known molding methods are used. For example, in order to obtain a thin film such as a film or a belt, a film is formed by applying the polyamic acid solution to a flat plate such as a glass plate or a copper plate, an endless belt or a cylindrical mold, and then the solvent is removed by heating. By performing the imide conversion reaction and the removal of ring-closing water, a film or belt made of the polyimide resin composition can be obtained. Further, in order to obtain a seamless belt, a method in which a polyamic acid solution is cast or applied to the inner surface of a cylindrical mold and then the mold is rotated, a method in which a bullet-shaped traveling body is caused to travel by its own weight or gas pressure, or a method in which a cylindrical mold is used After dipping the mold in the polyamic acid solution, pulling it up, forming a coating by a method such as molding with a ring mold, etc., removing the solvent by heating, imide conversion reaction, and removing ring-closed water, from the polyimide resin composition To obtain a seamless belt, which can be appropriately selected.

【0040】本発明の高制電性シームレスベルトは、積
層することにより多層化することも可能であるが、少な
くとも最外表面は、前記ポリイミド樹脂組成物からな
る。
The highly antistatic seamless belt of the present invention can be multilayered by lamination, but at least the outermost surface is made of the polyimide resin composition.

【0041】以上のようにして得られるポリイミド樹脂
組成物及び高制電性シームレスベルトを、実施例に記載
の条件にて30℃におけるパルス 1H−NMRスペクト
ル分析を行い、測定されたFID強度を基に、時間対F
ID曲線を得る。次いで、得られた時間対FID曲線
を、指数関数型として最小2乗法によりフィッティング
させてT1 を求める。
The polyimide resin composition and the highly antistatic seamless belt obtained as described above were subjected to pulse 1 H-NMR spectrum analysis at 30 ° C. under the conditions described in the examples. Based on time vs. F
Obtain the ID curve. Next, the obtained time vs. FID curve is fitted as an exponential function type by the least squares method to obtain T 1 .

【0042】T1 を前記範囲内に調整する方法として
は、分散時の各条件、例えば、分散方法、分散時間など
により調整することができる。
The method for adjusting T 1 within the above range can be adjusted by various conditions at the time of dispersion, for example, a dispersion method, a dispersion time and the like.

【0043】このようにして得られる本発明のポリイミ
ド樹脂組成物は、高い機械的強度を保ちつつ、抵抗値の
バラツキが小さく、経時的な抵抗低下が発生しにくい。
本発明のポリイミド樹脂組成物は、含有するカーボンブ
ラックの分散性が優れていることから、導電性や帯電防
止機能に対応した低抵抗領域から電荷保持等の機能を有
する高抵抗領域まで、抵抗値のバラツキを少なく制御す
ることができる。特に高抵抗領域においては、放電等に
より発生する抵抗の低下が起こりにくく、本発明のポリ
イミド樹脂組成物を用いた高制電性シームレスベルト
は、長期間使用しても初期と同じ機能を発現し続ける。
The polyimide resin composition of the present invention obtained as described above has a small variation in resistance value while maintaining high mechanical strength, and is unlikely to cause a decrease in resistance with time.
The polyimide resin composition of the present invention is excellent in dispersibility of the carbon black contained therein, and has a resistance value from a low resistance region corresponding to conductivity and an antistatic function to a high resistance region having functions such as charge retention. Can be controlled with less variation. Particularly in the high resistance region, the resistance generated by discharge or the like is unlikely to decrease, and the high antistatic seamless belt using the polyimide resin composition of the present invention exhibits the same function as the initial state even after long-term use. to continue.

【0044】このようなポリイミド樹脂組成物及び高制
電性シームレスベルトの用途は、帯電防止や導電性とい
った機能を有する部材に対しては言うに及ばず、これま
で制御が難しかった安定した半導電性を保持する機能が
必要である用途、例えば事務機器における中間転写体や
搬送転写体、転写定着体等に好適に用いることができ
る。
The use of such a polyimide resin composition and a highly antistatic seamless belt is not limited to a member having functions such as antistatic property and conductivity, and a stable semiconductive material which has been difficult to control so far. It can be suitably used for applications requiring a function of maintaining the property, for example, an intermediate transfer member, a transfer transfer member, and a transfer fixing member in office equipment.

【0045】[0045]

【実施例】以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実
施例等について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments and the like specifically showing the configuration and effects of the present invention will be described below.

【0046】(評価方法) 1.表面抵抗率とそのばらつき ハイレスタUP、MCP−HTP16 (三菱化学社製、
プローブ:UR−100)にて印加電圧100V、10
秒後、測定条件25℃、60%RHでの表面抵抗率を調
べ、その表面抵抗率を常用対数値にて示した。各サンプ
ルにつき10箇所を測定して、その変動幅により表面抵
抗率のばらつきを評価した。
(Evaluation Method) Surface resistivity and its variation Hiresta UP, MCP-HTP16 (Mitsubishi Chemical,
Probe: UR-100) applied voltage 100V, 10
Seconds later, the surface resistivity at a measurement condition of 25 ° C. and 60% RH was examined, and the surface resistivity was represented by a common logarithmic value. Ten points were measured for each sample, and the variation of the surface resistivity was evaluated based on the variation width.

【0047】2.スピン−格子緩和時間(T1 ) 外径10mmφのガラス製試料管に、試料を細かく粉砕
・裁断したものを約0.5g程度詰め、パルス核磁気共
鳴装置(日本電子社製、型番JNM−MU25A)を用
いて、水素核を測定核として測定周波数25MHz、9
0°パルス幅2.0μsec.、パルス間隔3se
c.、温度30℃の条件下、反転回復法にて測定した。
2. Spin-lattice relaxation time (T 1 ) A glass sample tube having an outer diameter of 10 mmφ is filled with about 0.5 g of a sample obtained by finely crushing and cutting a sample, and a pulsed nuclear magnetic resonance apparatus (manufactured by JEOL Ltd., model number JNM-MU25A) ), Using a hydrogen nucleus as a measurement nucleus at a measurement frequency of 25 MHz, 9
0 ° pulse width 2.0 μsec. , Pulse interval 3se
c. The temperature was measured at 30 ° C. by the inversion recovery method.

【0048】3.放電劣化試験 サンプルにコロナ放電処理を行い放電劣化させることに
より、電圧の集中による表面抵抗率の低下と同様の効果
が得られる。実施例、比較例で得た各サンプルを図1に
示すコロナ放電試験器を用いて、電圧:70V、電流:
3A、電極長さ0.3m、電極−サンプル間距離:3m
m、サンプル移動速度:0.45m/min .という条
件下でコロナ放電処理を行い、処理前と処理後の表面抵
抗率を測定して表面抵抗率の低下量(Δρs)を求め
た。
3. Discharge deterioration test By performing corona discharge treatment on a sample to cause discharge deterioration, the same effect as the reduction in surface resistivity due to voltage concentration can be obtained. Using the corona discharge tester shown in FIG. 1, each sample obtained in the examples and comparative examples was subjected to a voltage: 70 V and a current:
3A, electrode length 0.3m, electrode-sample distance: 3m
m, sample moving speed: 0.45 m / min. The surface resistivity before and after the treatment was measured to determine the decrease in surface resistivity (Δρs).

【0049】[実施例1]N−メチル−2−ピロリドン
(NMP)7 26g中に、カーボンブラック35g(揮
発分5%、平均粒子径25nm、ポリイミド樹脂固形分
に対し24重量部)を添加した後、ボールミルで8時間
攪拌し、カーボンブラック分散NMP液(粘度48mP
a・s)を得た。得られたカーボンブラック分散NMP
液に、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物118gとp−フェニレンジアミン43gを
溶解し、窒素雰囲気下において室温で6時間攪拌しなが
ら反応させた後、粘度調整を行い、カーボンブラックを
分散したポリアミド酸溶液(固形分20重量%、23℃
におけるB型粘度計による溶液粘度150Pa・s)を
得た。このポリアミド酸溶液を内径200mm、長さ5
00mmの円筒状金型内面に供給し、60℃の熱風を金
型外面より当てながら1500rpmで10分間回転し
た後、120℃まで徐々に昇温しながら溶媒を除去し、
金型内面の塗膜自身が皮膜として支持できるまで乾燥、
硬化させた。この皮膜を金型内面より離型した後、金属
製パイプに差し替え、残存溶媒の除去、閉環水の除去、
及びイミド転化反応の完結を行うために360℃まで昇
温加熱した後、室温まで冷却して平均厚さ75μmのシ
ームレスベルトを得た。
Example 1 To 26 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) 7 was added 35 g of carbon black (volatile content 5%, average particle diameter 25 nm, 24 parts by weight based on the solid content of the polyimide resin). Thereafter, the mixture was stirred in a ball mill for 8 hours, and a carbon black-dispersed NMP solution (viscosity: 48 mP)
a · s) was obtained. Obtained carbon black dispersion NMP
118 g of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 43 g of p-phenylenediamine are dissolved in the solution, and the mixture is reacted while stirring at room temperature for 6 hours under a nitrogen atmosphere. And a polyamic acid solution containing carbon black (solid content 20% by weight, 23 ° C.)
, A solution viscosity of 150 Pa · s by a B-type viscometer was obtained. This polyamic acid solution is 200 mm in inner diameter and 5 mm in length.
After being supplied to the inner surface of a cylindrical mold of 00 mm and rotating at 1500 rpm for 10 minutes while applying hot air of 60 ° C. from the outer surface of the mold, the solvent was removed while gradually increasing the temperature to 120 ° C.
Dry until the coating on the inner surface of the mold itself can be supported as a coating,
Cured. After releasing this film from the mold inner surface, it is replaced with a metal pipe, the remaining solvent is removed, the ring-closing water is removed,
After heating to 360 ° C. to complete the imide conversion reaction, the mixture was cooled to room temperature to obtain a seamless belt having an average thickness of 75 μm.

【0050】[実施例2]実施例1とは異なるカーボン
ブラック(揮発分1.5%、平均粒子径22nm)を用
いた以外は実施例 1と同様にして、平均厚さ75μmの
シームレスベルトを得た。
Example 2 A seamless belt having an average thickness of 75 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that carbon black (volatile content: 1.5%, average particle diameter: 22 nm) different from that of Example 1 was used. Obtained.

【0051】[比較例1]実施例1とは異なるカーボン
ブラック(揮発分0.5%、平均粒子径30nm)を用
いた以外は実施例 1と同様にして、平均厚さ76μmの
シームレスベルトを得た。
Comparative Example 1 A seamless belt having an average thickness of 76 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that carbon black (volatile content: 0.5%, average particle diameter: 30 nm) different from that of Example 1 was used. Obtained.

【0052】[比較例2]実施例1において、カーボン
ブラックの添加量を26g(ポリイミド樹脂固形分に対
し18重量部)にし、ボールミルによる撹拌時間を30
分間とした以外は実施例1と同様にして、平均厚さ75
μmのシームレスベルトを得た。
Comparative Example 2 In Example 1, the amount of carbon black added was changed to 26 g (18 parts by weight based on the solid content of the polyimide resin), and the stirring time by a ball mill was set to 30.
Except that the average thickness was 75 minutes.
A μm seamless belt was obtained.

【0053】[0053]

【表1】 表1より、実施例1及び2で得られたT1 が300ms
ec.以下のシームレスベルトは、均一で安定した表面
抵抗率を有する部材であるばかりでなく、放電劣化試験
後も抵抗変動を起こすことなく、初期の抵抗値を安定し
て保つことができる。一方、比較例1及び2で得られた
1 が300msec.を越えるシームレスベルトは、
表面抵抗率のばらつきが生じ、放電劣化試験後に抵抗変
動を起こし、初期の抵抗値を安定して保つことができな
い。したがって、パルス 1H−NMRによるT1 を定量
することにより、カーボンブラックの分散性を簡便に管
理することができる。
[Table 1] From Table 1, T 1 obtained in Examples 1 and 2 is 300 ms.
ec. The following seamless belt is not only a member having a uniform and stable surface resistivity, but also can stably maintain an initial resistance value without causing a resistance fluctuation even after a discharge deterioration test. On the other hand, T 1 obtained in Comparative Examples 1 and 2 was 300 msec. The seamless belt that exceeds
Variations in surface resistivity occur, causing resistance fluctuations after the discharge deterioration test, and the initial resistance value cannot be stably maintained. Therefore, by determining T 1 by pulse 1 H-NMR, the dispersibility of carbon black can be easily controlled.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、放電劣化試験器模式図を示す。FIG. 1 is a schematic view of a discharge deterioration tester.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ロール 2 サンプル搬送方向 3 放電電極 1 Roll 2 Sample transport direction 3 Discharge electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01B 1/24 H01B 1/24 Z (72)発明者 上林 政博 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 Fターム(参考) 4F100 AA37B AK49B AT00A BA02 CA21B DE01B GB51 JG01B JG03 JG04 YY00 4J002 CM041 DA036 FB266 FD116 GM01 5G301 DA18 DA51 DD10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01B 1/24 H01B 1/24 Z (72) Inventor Masahiro Uebayashi 1-1-1, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka No. 2 Nitto Denko Corporation F-term (reference) 4F100 AA37B AK49B AT00A BA02 CA21B DE01B GB51 JG01B JG03 JG04 YY00 4J002 CM041 DA036 FB266 FD116 GM01 5G301 DA18 DA51 DD10

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カーボンブラックをポリイミド樹脂中に
均一に分散させたポリイミド樹脂組成物において、30
℃におけるパルス水素核核磁気共鳴スペクトル分析で得
られる自由誘導減衰曲線から求めたスピン−格子緩和時
間(T1 )は50〜300msec.であることを特徴
とするポリイミド樹脂組成物。
1. A polyimide resin composition in which carbon black is uniformly dispersed in a polyimide resin.
The spin-lattice relaxation time (T 1 ) determined from the free induction decay curve obtained by pulsed hydrogen nuclear magnetic resonance spectroscopy analysis at 50 ° C. is 50 to 300 msec. A polyimide resin composition, characterized in that:
【請求項2】 揮発分が1.0%以上のカーボンブラッ
クを少なくとも1種類含有する請求項1に記載のポリイ
ミド樹脂組成物。
2. The polyimide resin composition according to claim 1, which contains at least one kind of carbon black having a volatile content of 1.0% or more.
【請求項3】 請求項1又は2に記載のポリイミド樹脂
組成物からなる半導電層を、少なくともその外表面に有
する高制電性シームレスベルト。
3. A highly antistatic seamless belt having a semiconductive layer comprising the polyimide resin composition according to claim 1 on at least the outer surface thereof.
【請求項4】 前記外表面の表面抵抗率の常用対数値が
8〜13(logΩ/□)である請求項3に記載の高制
電性シームレスベルト。
4. The highly antistatic seamless belt according to claim 3, wherein a common logarithmic value of the surface resistivity of the outer surface is 8 to 13 (logΩ / □).
【請求項5】 放電劣化試験前と放電劣化試験後の表面
抵抗率の差が、常用対数値で2.0(logΩ/□)以
下である請求項3又は4に記載の高制電性シームレスベ
ルト。
5. A highly antistatic seamless according to claim 3 or 4, wherein the difference between the surface resistivity before the discharge deterioration test and the surface resistivity after the discharge deterioration test is 2.0 (log Ω / □) or less as a common logarithmic value. belt.
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