JP2002282676A - ダストの除去性能が向上された排ガス処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 クリーンガス出口からダストが排出されるこ
とを防止する排ガス処理装置を提供する。 【解決手段】 上方から下方へ移動可能に触媒を保持し
且つ該保持された触媒の移動層６０に直交に被処理ガス
を通過させるための入口ルーバ３７と出口多孔隔壁３９
を有する被処理ガスを処理する排ガス処理装置であり、
該排ガス処理装置は、入口ルーバ３７と出口多孔隔壁３
９との間に挟まれた空間は触媒が充填され降下する移動
層６０を形成し、移動層６０内は、入口ルーバ３７との
間に前室６４を形成する第１の多孔隔壁６１と、第１の
多孔隔壁６１との間に中室６５を、出口多孔隔壁３９と
の間に後室６６をそれぞれ形成する第２の多孔隔壁６２
を有する。入口ルーバ３７より上流の被処理ガス導入側
に、被処理ガス中に含まれるダストの量を計測するため
の計測装置４１を設け、該計測装置４１で計測した値に
より前室６４を降下する触媒の降下速度を制御すること
により、クリーンガス出口３５からダストが排出される
ことを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はダストの除去性能が
向上された排ガス処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、乾式脱硫・脱硝を行う排ガス処理
装置においては、互いに平行な２枚のルーバの間に、活
性炭（Ａ．Ｃ．）等の触媒を収容して移動層を形成し、
前記触媒を上方から下方に向けて移動させるとともに、
被処理ガスを、一方のルーバを介して移動層内に供給
し、他方のルーバから排出するようにして、排ガスを処
理している。

【０００３】図２は従来の排ガス処理装置の概略図であ
る。図２において、３１は触媒充填塔であり、該触媒充
填塔３１の互いに対向する側壁３２、３３にそれぞれ被
処理ガス導入口３４及びクリーンガス出口３５が形成さ
れている。前記触媒充填塔３１内は互いに平行に配設さ
れた入口部材としての入口ルーバ３７及び出口部材とし
ての出口多孔隔壁３９によって仕切られ、両部材に挟ま
れた空間は活性炭等の触媒が移動する移動層６０とな
る。該移動層６０内は、前記入口ルーバ３７との間に前
室６４を形成する第１の多孔隔壁６１と、該第１の多孔
隔壁６１との間に中室６５を、前記出口多孔隔壁３９と
の間に後室６６をそれぞれ形成する第２の多孔隔壁６２
を有する。前記前室６４、中室６５及び後室６６の各下
端には、各室内における各触媒の移動速度を設定するた
めのロールフィーダー４７、４８、４９がそれぞれ設け
られている。

【０００４】図２の排ガス処理装置の場合、被処理ガス
は、前記被処理ガス導入口３４から入口ルーバ３７を通
って前室６４に供給され、このとき、被処理ガスの流速
は、極端に低くなり、前室６４内を被処理ガス中のダス
トが重力によって沈降する。続いて、被処理ガスは、第
１の多孔隔壁６１を通って中室６５に供給され、更に第
２の多孔隔壁６２を通って後室６６に供給され、出口多
孔隔壁３９を通ってクリーンガス出口３５から排出され
る。

【０００５】一方、触媒は、前記触媒充填塔３１の上端
に形成された供給口４６から前室６４、中室６５及び後
室６６に供給され、該前室６４内、中室６５内及び後室
６６内を下方に移動して各ロールフィーダー４７、４
８、４９の回転により、前室６４、中室６５及び後室６
６から排出される。その間、前室６４内、中室６５内及
び後室６６内において、被処理ガスは触媒と衝突して拡
散され、触媒によって被処理ガスの脱硫及び脱硝が行わ
れ、さらにダストが捕集される。

【０００６】該排ガス処理装置においては、前室６４に
おける触媒の移動速度を中室６５における触媒の移動速
度より高くし、また、中室６５における触媒の移動速度
を後室６６における触媒の移動速度より高くしている。
このように、前室６４内における触媒の移動速度を中室
６５内のものよりも高くすることにより、ダスト濃度が
高い被処理ガスが前室６４内に供給されても、被処理ガ
スの通気を良好とし、圧力損失を小さくさせ、触媒の目
詰まりや、滞留を防止することができる。

【０００７】さらに、後室６６内の触媒の移動速度を中
室６５内のものよりも低く設定させて、触媒が摩耗によ
って粉化して飛散するのを防止し、クリーンガス出口３
５側のダスト濃度を低くしている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】通常の粒径のダストで
は排ガス処理装置の前室、中室の触媒で捕集され除去さ
れるが、ダストの粒径が小さくてミクロンオーダーのダ
ストを含む被処理ガスや、ダストの濃度の高い状況の被
処理ガスを前記従来の排ガス処理装置で処理した場合に
は、後室までダストが到達してしまうことがある。この
ように後室まで到達したダストは、一旦、後室内の触媒
の表面に捕集されるが、再びガスの流れに載って、再飛
散されるという現象が生じて、処理の終わったガスにダ
ストが混入し、クリーンガス出口から排出されることが
あるという問題がある。

【０００９】そこで本発明は、クリーンガス出口からダ
ストが排出されることを防止する排ガス処理装置を提供
することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るための本発明の排ガス処理装置は、上方から下方へ移
動可能に触媒を保持し且つ該保持された触媒の移動層に
直交に被処理ガスを通過させるための入口部材と出口部
材を有し、被処理ガスを処理する排ガス処理装置であっ
て、前記入口部材と出口部材との間に挟まれた空間は触
媒が充填され降下する移動層を形成し、該移動層内は、
前記入口部材との間に前室を形成する第１の多孔隔壁
と、該第１の多孔隔壁との間に中室を、前記出口部材と
の間に後室をそれぞれ形成する第２の多孔隔壁を有する
排ガス処理装置において、前記入口部材より上流の被処
理ガス導入側に、被処理ガス中に含まれるダストの量を
計測するための計測手段を設け、該計測手段より計測し
た値により前記前室を降下する触媒の降下速度を制御す
るための制御手段を設けることを特徴とする。

【００１１】本発明の排ガス処理装置における前記ダス
トの量を計測するための計測手段は、パーティクルカウ
ンタ、光電管式計測装置、ドップラー効果式計測装置、
及び目視装置から選ぶことができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１３】図１は本発明の実施の形態における排ガス
処理装置の断面図である。図１において、３１は触媒充
填塔であり、該触媒充填塔３１の互いに対向する側壁３
２、３３にそれぞれ被処理ガス導入口３４及びクリーン
ガス出口３５が形成されている。前記触媒充填塔３１内
は互いに平行に配設された入口部材としての入口ルーバ
３７、第１の多孔隔壁６１、第２の多孔隔壁６２及び出
口部材としての出口多孔隔壁３９によって仕切られ、入
口ルーバ３７と出口多孔隔壁３９との間に触媒としての
図示しない活性炭（Ａ．Ｃ．）が収容され、該活性炭は
上方から下方へ降下する移動層６０となっている。

【００１４】前記入口ルーバ３７は、表面にダストが付
着しないように表面積の少ないものが使用される。な
お、出口多孔隔壁３９に代えて出口ルーバを使用するこ
ともできる。また、入口ルーバ３７と第１の多孔隔壁６
１との間が前室６４となり、第１の多孔隔壁６１と第２
の多孔隔壁６２との間が中室６５となり、第２の多孔隔
壁６２と出口多孔隔壁３９との間が後室６６となってい
る。該前室６４内、中室６５内及び後室６６内の下端
に、触媒を各室から排出するための各ロールフィーダー
４７、４８、４９が設けられている。該各ロールフィー
ダー４７、４８、４９の切り出しによって、前室６４に
おける触媒の移動速度が中室６５における触媒の移動速
度より高く、中室６５における触媒の移動速度が後室６
６における触媒の移動速度より高く設定されている。

【００１５】入口ルーバ３７より上流の被処理ガス導入
側に、被処理ガス中に含まれるダストの量を計測するた
めの計測装置４１が設けられている。４２は該計測装置
４１で測定して得られたダスト量に応じて、前室６４の
下端のロールフィーダー４７の回転を制御するための制
御装置である。計測装置４１は、被処理ガス導入ライン
に設けたバイパスに設置することができる。前記計測装
置４１には、ガス中に含まれる粒子の計測に好適な、パ
ーティクルカウンタ、光電管式計測装置、ドップラー効
果式計測装置、及び目視装置から選択することができ
る。前記目視装置は、被処理ガス導入ラインに耐熱ガラ
ス窓を設けたものでもよい。

【００１６】本発明の排ガス処理装置においては、被処
理ガスは、前記被処理ガス導入口３４から入口ルーバ３
７を通って前室６４に供給され、このとき、被処理ガス
の流速は、図示しない煙道内における流速と比べて１／
１０〜１／２０程度に極端に低くなり、前室６４内を被
処理ガス中のダストが重力によって沈降する。続いて、
被処理ガスは、第１の多孔隔壁６１を通って中室６５に
供給され、更に第２の多孔隔壁６２を通って後室６６に
供給され、出口多孔隔壁３９を通るとことにより、脱
硫、脱硝、脱塵が行われ、クリーンガス出口３５からク
リーンガスが排出される。

【００１７】一方、活性炭は、前記触媒充填塔３１の上
端に形成された供給口４６から前室６４、中室６５及び
後室６６に供給され、該前室６４内、中室６５内及び後
室６６内を下方に降下してロールフィーダー４７、４
８、４９の回転により、該前室６４、中室６５及び後室
６６から排出される。その間、前室６４内、中室６５内
及び後室６６内において、被処理ガスは活性炭と衝突し
て拡散され、活性炭によってダストが捕集され、かつ、
脱硫及び脱硝が行われる。

【００１８】本発明では被処理ガス中に含まれるダスト
量を計測装置４１により計測して、得られた計測値を制
御装置４２に入力して、触媒充填塔３１内の前室６４の
下端のロールフィーダー４７の適切な回転速度を得、ロ
ールフィーダー４７による切り出しを制御して触媒を前
室６４から排出することにより、前室６４における触媒
の降下速度を制御する。

【００１９】該触媒の降下速度の制御により、クリーン
ガス出口３５から排出されるクリーンガス中のダスト量
を抑制することができる。なお、被処理ガス中に含まれ
るダスト量による制御は、前室６４の下端のロールフィ
ーダー４７の制御だけでなく、中室６５の下端のロール
フィーダー４８及び後室６６の下端のロールフィダー４
９の制御、並びに供給口４６での触媒の供給量を制御し
て、前室６４、中室６５、後室６６における触媒の降下
速度を適正なものに制御してもよい。

【００２０】

【発明の効果】本発明の排ガス処理装置によれば、入口
部材より上流の被処理ガス導入側に、被処理ガス中に含
まれるダストの量を計測するための計測手段を設け、該
計測手段より計測した値により前室を降下する触媒の降
下速度を制御するための制御手段を設けて、排ガス処理
装置の触媒充填塔内の触媒の降下速度を制御しているの
で、クリーンガス出口からのダストの排出を防止するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態における排ガス処理装置の
断面図である。

【図２】従来の排ガス処理装置の概略図である。

【符号の説明】

３１ 触媒充填塔 ３２，３３ 側壁 ３４ 被処理ガス導入口 ３５ クリーンガス出口 ３７ 入口ルーバ ３９ 出口多孔隔壁 ４１ 計測装置 ４２ 制御装置 ４６ 供給口 ４７、４８、４９ ロールフィーダー ６０ 移動層 ６１ 第１の多孔隔壁 ６２ 第２の多孔隔壁 ６４ 前室 ６５ 中室 ６６ 後室

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上方から下方へ移動可能に触媒を保持し
   且つ該保持された触媒の移動層に直交に被処理ガスを通
   過させるための入口部材と出口部材を有し、被処理ガス
   を処理する排ガス処理装置であって、前記入口部材と出
   口部材との間に挟まれた空間は触媒が充填され降下する
   移動層を形成し、該移動層内は、前記入口部材との間に
   前室を形成する第１の多孔隔壁と、該第１の多孔隔壁と
   の間に中室を、前記出口部材との間に後室をそれぞれ形
   成する第２の多孔隔壁を有する排ガス処理装置におい
   て、 前記入口部材より上流の被処理ガス導入側に、被処理ガ
   ス中に含まれるダストの量を計測するための計測手段を
   設け、 該計測手段より計測した値により前記前室を降下する触
   媒の降下速度を制御するための制御手段を設けることを
   特徴とする排ガス処理装置。
2. 【請求項２】 前記ダストの量を計測するための計測手
   段は、パーティクルカウンタ、光電管式計測装置、ドッ
   プラー効果式計測装置、及び目視装置から選ばれた請求
   項１記載の排ガス処理装置。