JP2002280361A5 - - Google Patents
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Claims (13)
- 減圧可能な容器内に被加工物を載置する処理台と、該被加工物と対面する電磁波導入のための誘電体窓と、該減圧容器内に導入する所定のガスをプラズマ化するための電磁波を発生する周波数 f の高周波電源と、該誘電体窓の周辺部に近接し、真空または空気または誘電率eの誘電体で満たされ、その入口以外が導体で囲まれ、その深さが d=l/4＋l/2×(n−1)±l/8：(n=正の整数, l=c(光速)/f/√e)の特性長の範囲内にある定在波制御部を具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該容器の内径と同じ半径位置において、該誘電体窓内部に形成される定在波電界の強度が、極大値となることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該容器の内径と同じ半径位置において、該誘電体窓直下のプラズマ側に形成される定在波電界の強度が、極小値となることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該誘電体窓の側方に該定在波制御部を具備した場合と電磁波の特性長で等価となる寸法だけ該誘電体窓の半径を大きくすることを含み、該誘電体窓とそれに近接した該定在波制御部を一体化したことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該定在波制御部を該誘電体窓の周辺部の上方または下方に具備し、その形状寸法が該定在波制御部を該誘電体窓の側方に具備した場合と電磁波の特性長で等価となるようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該定在波制御部を該誘電体窓の周辺部の上方または側方または下方に具備し、電磁波の特性長を等価に保ったまま、それをさらに折り曲げた形状もしくは幅や曲率を変更した形状としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該定在波制御部を該誘電体窓の上方または下方に具備し、電磁波の特性長を等価に保ったまま、それを該誘電体窓の端部よりも内側に配置したことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該誘電体窓の大気側または真空側に導体または半導体よりなる電磁波放射素子を具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１において、該定在波制御部の寸法を可変する機構を具備したことを特
徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１において、該誘電体窓ならびに該定在波制御部内に用いる誘電体は、アルミナ（Al2O3）、石英（SiO2）のいずれか、もしくは、これらの複合による構成を用いたことを特徴とするプラズマ処理装置。
- ベースフレーム上に複数のリアクタを有し、それぞれのリアクタは、減圧可能な容器内に被加工物を載置する処理台と、該被加工物と対面する電磁波導入のための誘電体窓と、該減圧容器内に導入する所定のガスをプラズマ化するための電磁波を発生する周波数 f の高周波電源と、該誘電体窓の周辺部に近接し、真空または空気または誘電率eの誘電体で満たされ、その入口以外が導体で囲まれ、その深さが d=l/4＋l/2×(n−1)±l/8：(n=正の整数, l=c(光速)/f/√e)の特性長の範囲内にある定在波制御部を具備したことを特徴とするプラズマ処理装置
- 減圧可能な容器、該容器内に位置された被加工物を載置するための処理台、該被加工物と対面する位置に設けられた電磁波放射素子および誘電体窓、該容器内に導入する所定のガスをプラズマ化するための電磁波を発生する周波数fの高周波電源、および該誘電体窓の周辺部に近接して設けられた定在波電界分布を適正化するための定在波制御部とから成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項１２において、該定在波制御部は該誘電体窓の周辺部にリング状に設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
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