JP2002268177A - Fluorine-containing anionic surfactant, method for preparing the same and photothermographic image forming material containing the same - Google Patents

Fluorine-containing anionic surfactant, method for preparing the same and photothermographic image forming material containing the same

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JP2002268177A
JP2002268177A JP2001068351A JP2001068351A JP2002268177A JP 2002268177 A JP2002268177 A JP 2002268177A JP 2001068351 A JP2001068351 A JP 2001068351A JP 2001068351 A JP2001068351 A JP 2001068351A JP 2002268177 A JP2002268177 A JP 2002268177A
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Japan
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fluorine
anionic surfactant
group
forming material
atom
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Takeshi Haniyu
武 羽生
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Konica Minolta Inc
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new fluorine-containing anionic surfactant and a photothermographic image forming material which forms a uniformly coated even silver image without adversely affecting fog, sensitivity and preservability. SOLUTION: The fluorine-containing anionic surfactant is represented by formula (1) (where R<f> is a fluorine substituted chain aliphatic group; Hr is a 5- or 6-membered ring group selected from pyridine, furan and thiophene rings; L1 is a 1-4C divalent linking group; M is H or an alkali metal atom; and (p) is 0 or 1). The photothermographic image forming material has a layer containing the fluorine-containing anionic surfactant.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な含フッ素陰
イオン界面活性剤及びその製造方法並びに該含フッ素陰
イオン界面活性剤を含む光熱写真画像形成材料に関し、
さらに詳しくは、カブリ、感度および保存性に悪影響を
与えず、均一に塗布されたムラのない銀画像を形成する
光熱写真画像形成材料が得られる新規な含フッ素陰イオ
ン界面活性剤に関する。
The present invention relates to a novel fluorine-containing anionic surfactant, a method for producing the same, and a photothermographic image-forming material containing the fluorine-containing anionic surfactant.
More specifically, the present invention relates to a novel fluorine-containing anionic surfactant capable of obtaining a photothermographic imaging material capable of forming a uniformly coated silver image without adversely affecting fog, sensitivity and storage stability.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、含フッ素陰イオン界面活性剤とし
ては、フッ素原子を含む脂肪族基や芳香族基に陰イオン
としてスルホン酸を結合させた含フッ素陰イオン界面活
性剤が代表的なものとして知られている。また、フッ素
を含む基と陰イオンである基の間に芳香族のベンゼン環
基を有する含フッ素陰イオン界面活性剤も広く知られて
いる。含フッ素陰イオン界面活性剤はフッ素を含む基の
強い疎水性と陰イオンとして解離し易いスルホン酸基の
親水性を有しているため、これを塗布液に使用すると表
面張力を大きく下げることができる。光熱写真画像形成
材料等の写真感光材料には、塗布性(塗膜面が均一でム
ラのない状態)、帯電特性(フィルム同士の摩擦や剥離
での静電気の発生量が少なくなる)、耐傷性、クッツキ
耐性(高い温度でフィルム同士が重ねられて保存される
と互いにくっついてしまうのを防ぐこと)等の向上が求
められており、このために界面活性剤が用いられてお
り、これら界面活性剤としては、優れた効果が得られる
含フッ素陰イオン界面活性剤が用いられてきている。し
かしながら、写真特性に悪影響を与えずに、塗布性、帯
電特性、耐傷性、クッツキ耐性を向上させるには従来の
含フッ素陰イオン界面活性剤では不十分であった。そこ
で、本発明者らが検討したところ、フッ素を含む基と陰
イオンである基の間に、ピリジン環、フラン環およびチ
オフェン環から選ばれる5員または6員の環基を有する
新規な含フッ素陰イオン界面活性剤が、写真感光材料、
特に、光熱写真画像形成材料において、写真特性に悪影
響を与えずに、塗布性、帯電特性、耐傷性、クッツキ耐
性の十分な向上が図られることが判明した。含フッ素陰
イオン界面活性剤に導入されるピリジン環、フラン環、
チオフェン環はベンゼン環に比し疎水性が劣るため、フ
ッ素原子の導入によってもたらされる疎水性を減じるこ
とになり、界面活性剤としての機能を弱め、写真感光材
料に対する効果も得られないと思われたが、これに反し
て、写真感光材料の写真特性に悪影響を与えずに、塗布
性、帯電特性、耐傷性、クッツキ耐性の十分な向上を図
ることができた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a typical fluorine-containing anionic surfactant is a fluorine-containing anionic surfactant in which a sulfonic acid is bonded as an anion to an aliphatic group or an aromatic group containing a fluorine atom. Also known as Further, fluorine-containing anionic surfactants having an aromatic benzene ring group between a group containing fluorine and a group serving as an anion are also widely known. Fluorinated anionic surfactants have strong hydrophobicity of fluorine-containing groups and hydrophilicity of sulfonic acid groups that are easily dissociated as anions. it can. For photographic photosensitive materials such as photothermographic image forming materials, applicability (coating surface is uniform and free of unevenness), charging characteristics (reduction of static electricity due to friction between films and peeling), scratch resistance , Improvement in the resistance to dust (to prevent the films from sticking to each other when the films are stacked and stored at a high temperature) and the like, and a surfactant is used for this purpose. As the agent, a fluorine-containing anionic surfactant capable of obtaining an excellent effect has been used. However, conventional fluorinated anionic surfactants were insufficient to improve the coating properties, charging properties, scratch resistance and dustiness without adversely affecting the photographic properties. Accordingly, the present inventors have studied and found that a novel fluorine-containing compound having a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring between a group containing fluorine and a group serving as an anion. Anionic surfactants are used for photographic materials,
In particular, it has been found that in the photothermographic image forming material, the coating properties, the charging properties, the scratch resistance, and the resistance to dustiness can be sufficiently improved without adversely affecting the photographic properties. A pyridine ring, a furan ring, introduced into a fluorine-containing anionic surfactant,
The thiophene ring is inferior in hydrophobicity to the benzene ring, so the hydrophobicity brought about by the introduction of fluorine atoms is reduced, weakening the function as a surfactant, and it seems that the effect on photographic materials cannot be obtained. On the other hand, on the other hand, the coating properties, the charging properties, the scratch resistance and the tightness were sufficiently improved without adversely affecting the photographic characteristics of the photographic light-sensitive material.

【0003】[0003]

【本発明が解決使用とする課題】本発明の第1の目的
は、カブリ、感度および保存性に悪影響を与えず、均一
に塗布されたムラのない銀画像を形成する光熱写真画像
形成材料が得られる新規な含フッ素陰イオン界面活性剤
を提供することである。本発明の第2の目的は、カブ
リ、感度および保存性に悪影響を与えず、均一に塗布さ
れたムラのない銀画像を形成する光熱写真画像形成材料
を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION A first object of the present invention is to provide a photothermographic image forming material capable of forming a uniformly coated and uniform silver image without adversely affecting fog, sensitivity and storage stability. An object of the present invention is to provide a novel fluorine-containing anionic surfactant obtained. A second object of the present invention is to provide a photothermographic image-forming material which forms a uniformly coated and uniform silver image without adversely affecting fog, sensitivity and storage stability.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 (1)一般式(1)で表される含フッ素陰イオン界面活
性剤。
The object of the present invention is to provide (1) a fluorine-containing anionic surfactant represented by the general formula (1).

【0005】[0005]

【化4】 (式中、Rfはフッ素原子で置換された鎖状脂肪族基を
表し、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン環
から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭素
数1〜4の2価の連結基を表し、Mは水素原子、塩を形
成する原子または原子群を表し、pは0または1を表
す。) (2)一般式(1)において、Rfで表されるフッ素原
子で置換された鎖状脂肪族基がパーフルオロアルケニル
基または(パーフルオロアルキル)アルキル基であるこ
とを特徴とする上記(1)に記載の含フッ素陰イオン界
面活性剤。 (3)一般式(2)で表される化合物を非水極性溶媒に
溶解または分散し、フッ素原子で置換された鎖状脂肪族
化合物と反応させることを特徴とする上記(1)または
(2)に記載の含フッ素陰イオン界面活性剤の製造方
法。
Embedded image (In the formula, R f represents a chain aliphatic group substituted by a fluorine atom, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, and L 1 represents the number of carbon atoms. Represents a divalent linking group of 1 to 4, M represents a hydrogen atom, an atom or a group of atoms forming a salt, and p represents 0 or 1.) (2) In the general formula (1), R f The fluorine-containing anionic surfactant according to the above (1), wherein the represented chain-like aliphatic group substituted with a fluorine atom is a perfluoroalkenyl group or a (perfluoroalkyl) alkyl group. (3) The compound represented by the above (1) or (2), wherein the compound represented by the general formula (2) is dissolved or dispersed in a non-aqueous polar solvent and reacted with a chain aliphatic compound substituted with a fluorine atom. ).

【0006】[0006]

【化5】 (式中、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン
環から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭
素数1〜4の2価の連結基を表し、Mは水素原子、塩を
形成する原子または原子群を表し、M1はアルカリ金属
原子を表し、pは0または1を表す。) (4)一般式(3)で表される化合物を非水極性溶媒に
溶解または分散し、フッ素原子で置換された鎖状脂肪族
化合物と反応させ、次いでスルホン化することを特徴と
する上記(1)または(2)に記載の含フッ素陰イオン
界面活性剤の製造方法。
Embedded image (In the formula, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, L 1 represents a divalent linking group having 1 to 4 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, Represents an atom or a group of atoms forming a salt, M 1 represents an alkali metal atom, and p represents 0 or 1.) (4) The compound represented by the general formula (3) is dissolved in a non-aqueous polar solvent or The method for producing a fluorine-containing anionic surfactant according to the above (1) or (2), wherein the surfactant is dispersed, reacted with a chain aliphatic compound substituted with a fluorine atom, and then sulfonated.

【0007】[0007]

【化6】 (式中、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン
環から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭
素数1〜4の2価の連結基を表し、M1はアルカリ金属
原子を表し、pは0または1を表す。) (5)フッ素原子で置換された鎖状脂肪族化合物が、ヘ
キサフルオロプロペンの3量体であることを特徴とする
上記(3)または(4)に記載の含フッ素陰イオン界面
活性剤の製造方法。 (6)非水極性溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリ
ドンおよびN,N−ジメチルイミダゾリンから選ばれた
非水極性溶媒であることを特徴とする上記(3)〜
(5)のいずれかに記載の含フッ素陰イオン界面活性剤
の製造方法。 (7)上記(3または4に記載の一般式(2)または
(3)で表される化合物とヘキサフルオロプロペンの3
量体との反応温度が、30℃〜160℃であることを特
徴とする上記(5)に記載の含フッ素陰イオン界面活性
剤の製造方法。 (8)陰イオン基が、スルホン酸基のナトリウム塩、リ
チウム塩またはカリウム塩であることを特徴とする上記
(3)〜(7)のいずれかに記載の含フッ素陰イオン界
面活性剤の製造方法。 (9)支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤およ
び結合剤を含有する層を設けた光熱写真画像形成材料に
おいて、上記(1)または(2)に記載の含フッ素陰イ
オン界面活性剤を含有する層を有することを特徴とする
光熱写真画像形成材料。 (10)含フッ素陰イオン界面活性剤を含有する層が、
光熱写真画像形成材料の最上層であることを特徴とする
上記(9)に記載の光熱写真画像形成材料。 (11)含フッ素陰イオン界面活性剤を含有する層に、
含フッ素ノニオン界面活性剤が含有されていることを特
徴する上記(9)または(10)に記載の光熱写真画像
形成材料。 により達成される。
Embedded image (Wherein, Hr denotes the pyridine ring, a 5- or 6-membered ring group selected from a furan ring and thiophene ring, L 1 represents a divalent linking group having 1 to 4 carbon atoms, M 1 is an alkali metal (5) The chain aliphatic compound substituted by a fluorine atom is a trimer of hexafluoropropene, wherein (3) or (4) The method for producing a fluorinated anionic surfactant according to (1). (6) The non-aqueous polar solvent described above, wherein the non-aqueous polar solvent is a non-aqueous polar solvent selected from N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylimidazoline. (3)-
The method for producing a fluorine-containing anionic surfactant according to any one of (5). (7) The compound represented by the general formula (2) or (3) described in the above (3 or 4) and hexafluoropropene
The method for producing a fluorine-containing anionic surfactant according to the above (5), wherein the reaction temperature with the monomer is 30 ° C to 160 ° C. (8) The production of a fluorine-containing anionic surfactant according to any one of the above (3) to (7), wherein the anionic group is a sodium salt, a lithium salt or a potassium salt of a sulfonic acid group. Method. (9) In the photothermographic image-forming material provided with a layer containing a silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, the fluorine-containing anion interface as described in the above (1) or (2), A photothermographic image-forming material having a layer containing an activator. (10) a layer containing a fluorine-containing anionic surfactant,
The photothermographic image forming material according to the above (9), which is the uppermost layer of the photothermographic image forming material. (11) In a layer containing a fluorine-containing anionic surfactant,
The photothermographic image-forming material as described in the above item (9) or (10), further comprising a fluorine-containing nonionic surfactant. Is achieved by

【0008】以下、本発明を詳細に説明する。先ず、本
発明の含フッ素陰イオン界面活性剤について説明する。
本発明の含フッ素陰イオン界面活性剤は下記一般式
(1)で表される。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, the fluorine-containing anionic surfactant of the present invention will be described.
The fluorine-containing anionic surfactant of the present invention is represented by the following general formula (1).

【0009】[0009]

【化7】 (式中、Rfはフッ素原子で置換された鎖状脂肪族基を
表し、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン環
から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭素
数1〜4の2価の連結基を表し、Mは水素原子、塩を形
成する原子または原子群を表し、pは0または1を表
す。) 一般式(1)において、Rfはフッ素原子で置換された
鎖状脂肪族基であるが、炭素数が4〜12であることが
好ましく、特に、炭素数が6〜9であることが好まし
い。また、フッ素原子で置換された鎖状脂肪族基として
は、フッ素原子で置換可能な炭素原子のすべてにフッ素
原子が結合した鎖状脂肪族基が好ましいが、該鎖状脂肪
族基が少なくとも1つの不飽和基を有する鎖状脂肪族基
である、例えば、フッ素原子で置換可能な炭素原子のす
べてがフッ素原子で置換されたパーフルオロアルケニル
基は特に好ましいフッ素原子で置換された鎖状脂肪族基
の1つである。また、フッ素原子で置換可能な炭素原子
のすべてがフッ素原子で置換されたアルキル基とフッ素
原子で置換されていないアルキル基との結合体も特に好
ましいフッ素原子で置換された鎖状脂肪族基の1つであ
る。ここでいうアルケニル基には2以上の不飽和基を有
するものも含まれる。フッ素原子で置換された鎖状脂肪
族基がフッ素原子で置換可能な炭素原子のすべてがフッ
素原子で置換されたアルキル基とフッ素原子で置換され
ていないアルキル基との結合体である場合、フッ素原子
で置換されていないアルキル基の部分の炭素素は1〜1
0が好ましいが、特に炭素数1〜3が好ましい。Hrで
表されるピリジン環、フラン環およびチオフェン環から
選ばれる5員または6員の環基は置換基を有していても
よい。また、Hrには、一般式(1)に示された−SO
3M(スルホン酸塩基)以外に1以上のスルホン酸塩基
を置換基として導入することができるが、Hrで表され
るピリジン環、フラン環およびチオフェン環から選ばれ
る5員または6員の環基が有する総スルホン酸塩基は2
以下であることが好ましく、さらに好ましくは1であ
る。L1で表される炭素数1〜4の2価の連結基として
は、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙
げられる。Mで表される塩を形成する原子または原子群
としては、アルカリ金属原子、−NH4、アミン等が挙
げられるが、アルカリ金属原子、例えば、ナトリウム、
カリウム、リチウムが好ましい。以下、一般式(1)で
表される化合物の好ましい具体例を下記に示す。
Embedded image (In the formula, R f represents a chain aliphatic group substituted by a fluorine atom, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, and L 1 represents the number of carbon atoms. Represents a divalent linking group of 1 to 4, M represents a hydrogen atom, a salt-forming atom or a group of atoms, and p represents 0 or 1.) In the general formula (1), R f is a fluorine atom Although it is a substituted chain aliphatic group, it preferably has 4 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 9 carbon atoms. As the chain aliphatic group substituted with a fluorine atom, a chain aliphatic group in which a fluorine atom is bonded to all of the carbon atoms that can be substituted with a fluorine atom is preferable. A chain aliphatic group having two unsaturated groups, for example, a perfluoroalkenyl group in which all of the carbon atoms that can be substituted with a fluorine atom are substituted with a fluorine atom is a particularly preferred chain aliphatic group in which a fluorine atom is substituted. One of the groups. Further, a conjugate of an alkyl group in which all of the carbon atoms that can be substituted with a fluorine atom is substituted with a fluorine atom and an alkyl group that is not substituted with a fluorine atom is also a particularly preferred chain aliphatic group substituted with a fluorine atom. One. The alkenyl group referred to herein includes those having two or more unsaturated groups. When the chain aliphatic group substituted with a fluorine atom is a conjugate of an alkyl group substituted with a fluorine atom and an alkyl group not substituted with a fluorine atom, all of the carbon atoms that can be substituted with a fluorine atom are fluorine. The carbon of the alkyl group not substituted with an atom is 1 to 1
0 is preferred, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms. The 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring represented by Hr may have a substituent. Hr includes -SO represented by the general formula (1).
3 M is a (sulfonate) one or more sulfonate in addition can be introduced as a substituent, a pyridine ring, a 5- or 6-membered ring group selected from furan and thiophene rings represented by Hr Has 2 total sulfonate groups
It is preferably 1 or less, and more preferably 1. Examples of the divalent linking group having 1 to 4 carbon atoms represented by L 1 include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a propylene group, and a butylene group. Examples of atoms or atoms forming a salt represented by M include an alkali metal atom, —NH 4 , and an amine.
Potassium and lithium are preferred. Hereinafter, preferred specific examples of the compound represented by the general formula (1) are shown below.

【0010】[0010]

【化8】 Embedded image

【0011】[0011]

【化9】 一般式(1)で表される含フッ素陰イオン界面活性剤
は、 (A)下記一般式(2)で表される化合物を非水極性溶
媒に溶解または分散し、フッ素原子で置換された鎖状脂
肪族化合物と反応させる(第1の合成方法)
Embedded image The fluorine-containing anionic surfactant represented by the general formula (1) includes: (A) a chain obtained by dissolving or dispersing a compound represented by the following general formula (2) in a non-aqueous polar solvent, and Reaction with linear aliphatic compound (first synthesis method)

【0012】[0012]

【化10】 (式中、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン
環から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭
素数1〜4の2価の連結基を表し、Mは水素原子、塩を
形成する原子または原子群を表し、M1はアルカリ金属
原子を表し、pは0または1を表す。) (B)下記一般式(3)で表される化合物を非水極性溶
媒に溶解または分散し、フッ素原子で置換された鎖状脂
肪族化合物と反応させ、次いでスルホン化する(第2の
合成方法)
Embedded image (In the formula, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, L 1 represents a divalent linking group having 1 to 4 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, Represents an atom or a group of atoms forming a salt, M 1 represents an alkali metal atom, and p represents 0 or 1.) (B) A compound represented by the following general formula (3) is dissolved in a non-aqueous polar solvent Or disperse, react with a chain aliphatic compound substituted by a fluorine atom, and then sulfonate (second synthesis method)

【0013】[0013]

【化11】 (式中、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン
環から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭
素数1〜4の2価の連結基を表し、M1はアルカリ金属
原子を表し、pは0または1を表す。) ことにより製造することができる。一般式(2)及び
(3)において、L1、Hr、Mは、一般式(1)にお
けるL1、Hr、Mとそれぞれ同義である。M1で表され
るアルカリ金属原子としては、例えば、ナトリウム、カ
リウム、リチウムが挙げられる。以下に、第1の合成方
法の反応スキームを示す。
Embedded image (In the formula, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, L 1 represents a divalent linking group having 1 to 4 carbon atoms, and M 1 represents an alkali metal. Represents an atom, and p represents 0 or 1.) In the general formula (2) and (3), L 1, Hr , M is, L 1, Hr, respectively and M is as defined in formula (1). Examples of the alkali metal atom represented by M 1 include sodium, potassium, and lithium. The reaction scheme of the first synthesis method is shown below.

【0014】[0014]

【化12】 第1の合成方法の反応スキームにおいて、Rf、L1、H
r、M、M1は、一般式(1)または(2)における
f、L1、Hr、M、M1と同義である。pは0または
1を表す。Rf1はフッ素原子で置換された鎖状脂肪族化
合物であり、Rfを導入するための化合物を表し、Rf
(Xは水素原子、フッ素原子を表す。)で表される化合
物である。Rf1で表されるフッ素原子で置換された鎖状
脂肪族化合物としては、パーフルオロアルキル基を置換
基として有するアルキル基およびヘキサフルオロプロペ
ン3量体が特に好ましい。ヘキサフルオロプロペン3量
体は1つの不飽和結合を有するパーフルオロ化合物の混
合物である。第1の合成方法は、アルカリ金属塩とした
ヒドロキシ基あるいはヒドロキシアルキル基(例えば、
ヒドロキシメチルまたはヒドロキシエチル基)を有する
ヘテロ環基を、Rf1で表される化合物と結合させる方法
である。スルホン酸塩基のアルカリ金属塩におけるMお
よびヒドロキシ基またはヒドロキシアルキル基のアルカ
リ金属塩におけるM1で表されるアルカリ金属として
は、カリウム、ナトリウムまたはリチウムが好ましい。
f1と一般式(2)で表される化合物との反応は、これ
らの化合物が溶解する有機溶媒を用いて行うのが好まし
く、非水極性溶媒、特に、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリ
ドンおよびN,N−ジメチルイミダゾリンから選ばれる
非水極性溶媒を用いることが好ましい。反応温度は30
℃〜160℃が好ましい。反応時間は反応温度と密接な
関係があり、高い温度では反応時間を短くすることがで
きる。好ましい反応時間は1時間〜24時間であるが、
生産性の点から8時間以内に反応を終えることが好まし
い。以下に、一般式(2)で表される好ましい具体例を
下記に示す。
Embedded image In the reaction scheme of the first synthesis method, R f , L 1 , H
r, M, M 1 is R f, L 1, synonymous Hr, M, and M 1 in the general formula (1) or (2). p represents 0 or 1. R f1 is a chain aliphatic compounds substituted with fluorine atom, a compound for introducing the R f, R f X
(X represents a hydrogen atom or a fluorine atom.) As the chain aliphatic compound substituted with a fluorine atom represented by R f1 , an alkyl group having a perfluoroalkyl group as a substituent and hexafluoropropene trimer are particularly preferable. Hexafluoropropene trimer is a mixture of perfluoro compounds having one unsaturated bond. In the first synthesis method, a hydroxy group or a hydroxyalkyl group (for example, an alkali metal salt)
In this method, a heterocyclic group having a hydroxymethyl or hydroxyethyl group is bonded to a compound represented by R f1 . As the alkali metal represented by M in the alkali metal salt of a sulfonic acid group and M 1 in the alkali metal salt of a hydroxy group or a hydroxyalkyl group, potassium, sodium or lithium is preferable.
The reaction between R f1 and the compound represented by the general formula (2) is preferably performed using an organic solvent in which these compounds are soluble, and a non-aqueous polar solvent, particularly, N, N-dimethylformamide, N, N It is preferable to use a non-aqueous polar solvent selected from N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylimidazoline. Reaction temperature is 30
C. to 160 C. are preferred. The reaction time is closely related to the reaction temperature, and the reaction time can be shortened at a high temperature. Preferred reaction times are from 1 hour to 24 hours,
The reaction is preferably completed within 8 hours from the viewpoint of productivity. Preferred specific examples represented by the general formula (2) are shown below.

【0015】[0015]

【化13】 以下に、第2の合成方法の反応スキームを示す。Embedded image The reaction scheme of the second synthesis method is shown below.

【0016】[0016]

【化14】 第2の合成方法の反応スキームにおいて、Rf、L1、H
r、M、M1は、一般式(1)または(3)における
f、L1、Hr、M、M1と同義である。pは0または
1を表す。Rf1はフッ素原子で置換された鎖状脂肪族化
合物であり、Rfを導入するための化合物を表し、Rf
(Xは水素原子、フッ素原子を表す。)で表される化合
物である。Rf1で表されるフッ素原子で置換された鎖状
脂肪族化合物としては、パーフルオロアルキル基を置換
基として有するアルキル基およびヘキサフルオロプロペ
ン3量体が特に好ましい。ヘキサフルオロプロペン3量
体は1つの不飽和結合を有するパーフルオロ化合物の混
合物である。第2の合成方法は、ヒドロキシ基あるいは
ヒドロキシアルキル基(例えば、ヒドロキシメチルまた
はヒドロキシエチル基)を有し、スルホン酸基を有して
いないヘテロ環基をアルカリ金属塩にし、次いで、Rf1
で表される化合物と結合させた後、スルホン化する方法
である。スルホン化は通常のスルホン化方法で可能であ
り、発煙硫酸を当量から2倍当量程添加して行うことが
できる。スルホン酸塩基のアルカリ金属塩におけるMお
よびヒドロキシ基またはヒドロキシアルキル基のアルカ
リ金属塩におけるM1で表されるアルカリ金属原子とし
ては、カリウム、ナトリウムまたはリチウムが好まし
い。Rf1と一般式(3)で表される化合物との反応は、
これらの化合物が溶解する有機溶媒を用いて行うのが好
ましく、非水極性溶媒、特に、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピ
ロリドンおよびN,N−ジメチルイミダゾリンから選ば
れる非水極性溶媒を用いることが好ましい。反応温度は
30℃〜160℃が好ましい。反応時間は反応温度と密
接な関係があり、高い温度では反応時間を短くすること
ができる。好ましい反応時間は1時間〜24時間である
が、生産性の点から8時間以内に反応を終えることが好
ましい。以下に、一般式(3)で表される好ましい具体
例を下記に示す。
Embedded image In the reaction scheme of the second synthesis method, R f , L 1 , H
r, M, M 1 is R f, L 1, synonymous Hr, M, and M 1 in the general formula (1) or (3). p represents 0 or 1. R f1 is a chain aliphatic compounds substituted with fluorine atom, a compound for introducing the R f, R f X
(X represents a hydrogen atom or a fluorine atom.) As the chain aliphatic compound substituted with a fluorine atom represented by R f1 , an alkyl group having a perfluoroalkyl group as a substituent and hexafluoropropene trimer are particularly preferable. Hexafluoropropene trimer is a mixture of perfluoro compounds having one unsaturated bond. In the second synthesis method, a heterocyclic group having a hydroxy group or a hydroxyalkyl group (for example, a hydroxymethyl or hydroxyethyl group) and not having a sulfonic acid group is converted to an alkali metal salt, and then R f1
And then sulfonating the compound. Sulfonation can be performed by a usual sulfonation method, and can be carried out by adding fuming sulfuric acid in an amount of about 2 to 2 equivalents. As the alkali metal atom represented by M in the alkali metal salt of a sulfonate group and M 1 in the alkali metal salt of a hydroxy group or a hydroxyalkyl group, potassium, sodium or lithium is preferable. The reaction of R f1 with the compound represented by the general formula (3)
It is preferably carried out using an organic solvent in which these compounds are soluble, and is selected from non-aqueous polar solvents, especially N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylimidazoline. It is preferable to use a non-aqueous polar solvent. The reaction temperature is preferably from 30C to 160C. The reaction time is closely related to the reaction temperature, and the reaction time can be shortened at a high temperature. The preferred reaction time is 1 hour to 24 hours, but the reaction is preferably completed within 8 hours from the viewpoint of productivity. Preferred specific examples represented by the general formula (3) are shown below.

【0017】[0017]

【化15】 Embedded image

【0018】上記本発明の含フッ素陰イオン界面活性剤
は光熱写真画像形成材に用いることにより、カブリ、感
度および保存性に悪影響を与えず、均一に塗布されたム
ラのない銀画像を形成する光熱写真画像形成材料を得る
ことができる。光熱写真画像形成材料において、本発明
の陰イオン界面活性剤を含有させる層はどの層であって
もよいが、光熱写真画像形成材料の表面層である保護層
に添加することが好ましい。光熱写真画像形成材料に
は、通常、支持体の一方の面に少なくとも感光層と保護
層が設けられ、支持体の該感光層を有する側と反対側に
はバックコート層(BC層)、さらにはBC層の保護層
が設けられている。感光層には、増感されていてもよい
感光性ハロゲン化銀粒子が含有され、さらに、銀源とな
る有機銀塩、銀塩を現像して銀画像を形成するための還
元剤が含有される。銀源となる有機銀塩、銀塩を現像し
て銀画像を形成するための還元剤は感光層とは別の層に
含有させることもできる。本発明の含フッ素陰イオン界
面活性剤は、上記層中のどの層中に添加されてもよい
が、感光層の保護層や表面層となるBC層あるいはその
保護層に添加することが好ましい。またさらに、感光
層、保護層下のBC層に添加することも好ましい。ま
た、感光層に隣接する中間層、下塗り層等に添加しても
よいし、更に中間層を介した層中に添加することもでき
る。
By using the above-mentioned fluorine-containing anionic surfactant of the present invention in a photothermographic image forming material, it forms a uniformly coated and uniform silver image without adversely affecting fog, sensitivity and storage stability. A photothermographic image forming material can be obtained. In the photothermographic image forming material, the layer containing the anionic surfactant of the present invention may be any layer, but is preferably added to a protective layer which is a surface layer of the photothermographic image forming material. The photothermographic image forming material is usually provided with at least a photosensitive layer and a protective layer on one side of a support, and a back coat layer (BC layer) on the side of the support opposite to the side having the photosensitive layer. Is provided with a protective layer of a BC layer. The photosensitive layer contains photosensitive silver halide grains that may be sensitized, and further contains a reducing agent for developing an organic silver salt serving as a silver source and a silver salt to form a silver image. You. An organic silver salt serving as a silver source and a reducing agent for developing a silver salt to form a silver image can be contained in a layer different from the photosensitive layer. The fluorine-containing anionic surfactant of the present invention may be added to any of the above-mentioned layers, but is preferably added to the protective layer or the BC layer serving as the surface layer of the photosensitive layer or the protective layer. Further, it is also preferable to add it to the photosensitive layer and the BC layer below the protective layer. Further, it may be added to an intermediate layer, an undercoat layer or the like adjacent to the photosensitive layer, or may be further added to a layer via an intermediate layer.

【0019】本発明の含フッ素陰イオン界面活性剤は、
光熱写真画像材料の1平米当たり1マイクログラム〜1
0グラムグラムの範囲で使用するのが好ましい。添加方
法は、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノー
ル、イソブチルアルコール等)、ケトン類(例えば、ア
セトン、メチルエチルケトン、イソブチルケトン等)、
芳香族有機溶媒(例えば、トルエン、キシレン等)に溶
解しまたは微粒子に分散して添加することができる。微
粒子に分散するとき、粒子の平均粒子径は1ナノメート
ル〜300ナノメートルの大きさが好ましい。本発明の
含フッ素陰イオン界面活性剤は単独で用いることもでき
るが、従来公知の含フッ素ノニオン界面活性剤または含
フッ素カチオン界面活性剤と併用することも好ましい。
特に、含フッ素ノニオン界面活性剤と本発明の含フッ素
陰イオン界面活性剤と併用すると、相乗効果により、塗
布性が改良され、擦り傷防止、静電気防止等の効果を得
ることができる。上記含フッ素ノニオン界面活性剤は本
発明の含フッ素陰イオン界面活性剤と同一の層に添加す
るのが好ましい。上記併用することができる含フッ素ノ
ニオン界面活性剤としては、下記一般式(4)で表され
る化合物が挙げられる。
The fluorine-containing anionic surfactant of the present invention comprises:
1 microgram to 1 per square meter of photothermographic image material
It is preferred to use in the range of 0 grams. Addition methods include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isobutyl alcohol, etc.), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl ketone, etc.),
It can be added by dissolving it in an aromatic organic solvent (for example, toluene, xylene, etc.) or dispersing it in fine particles. When dispersed in fine particles, the average particle diameter of the particles is preferably 1 nanometer to 300 nanometers. Although the fluorinated anionic surfactant of the present invention can be used alone, it is also preferable to use in combination with a conventionally known fluorinated nonionic surfactant or fluorinated cationic surfactant.
In particular, when the fluorinated nonionic surfactant and the fluorinated anionic surfactant of the present invention are used in combination, the coatability is improved by the synergistic effect, and effects such as abrasion prevention and antistatic can be obtained. The fluorinated nonionic surfactant is preferably added to the same layer as the fluorinated anionic surfactant of the present invention. Examples of the fluorine-containing nonionic surfactant that can be used in combination with the above include compounds represented by the following general formula (4).

【0020】[0020]

【化16】 (式中、Rfはフッ素原子で置換された鎖状脂肪族基を
表し、L2は2価の連結基を表し、Zはポリオキシアル
キレン基を表し、qおよびrは0または1を表し、qと
rが同時に0になることはない。) 一般式(4)において、Rfはフッ素原子で置換された
鎖状脂肪族基であるが、炭素数が4〜13であることが
好ましい。また、フッ素原子で置換された鎖状脂肪族基
には、鎖状脂肪族基の水素−炭素結合の水素原子をフッ
素原子で少なくとも1つ置換したものから全部置換した
ものが含まれる。また、2価の連結基としては、炭素数
1〜4のアルキレン基、フェニレン基、オキシフェニレ
ン基等が挙げられ、Zで表されるポリオキシアルキレン
基としては、重合度2〜100のオキシエチレン基、オ
キシプロピレン基、オキシブチレン基、2−ヒドロキシ
プロピレン基等が挙げられる。以下に、本発明で用いる
ことができる含フッ素ノニオン界面活性剤の好ましい具
体例を示す。
Embedded image (Wherein, R f represents a chain aliphatic group substituted by a fluorine atom, L 2 represents a divalent linking group, Z represents a polyoxyalkylene group, and q and r represent 0 or 1. , Q and r are not simultaneously 0.) In the general formula (4), R f is a chain aliphatic group substituted by a fluorine atom, and preferably has 4 to 13 carbon atoms. . The chain aliphatic group substituted with a fluorine atom includes those in which at least one hydrogen atom of the hydrogen-carbon bond of the chain aliphatic group has been substituted with at least one fluorine atom. Examples of the divalent linking group include an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylene group, and an oxyphenylene group. Examples of the polyoxyalkylene group represented by Z include oxyethylene having a polymerization degree of 2 to 100. Groups, oxypropylene groups, oxybutylene groups, 2-hydroxypropylene groups, and the like. Preferred specific examples of the fluorinated nonionic surfactant that can be used in the present invention are shown below.

【0021】[0021]

【化17】 これらの化合物は、市販されており、これら市販品を入
手して用いることができる。また、通常の合成方法で合
成することも可能である。これら含フッ素ノニオン界面
活性剤は各層の塗布液中に添加して光熱写真画像形成材
料の各層に添加することができる。含フッ素ノニオン界
面活性剤は、水、アルコール(例えば、メタノール、エ
タノール、イソブチルアルコール等)、ケトン類(例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、イソブチルケトン
等)、芳香族有機溶媒(例えば、トルエン、キシレン
等)に溶解しまたは微粒子に分散して塗布液中に添加す
ることができる。本発明の含フッ素ノニオン界面活性剤
は、光熱写真画像材料の1平米当たり1マイクログラム
〜10グラムの範囲で使用するのが好ましい。また、含
フッ素ノニオン界面活性剤は、感光層、感光層保護層や
BC層、BC保護層に添加することができるが、感光層
保護層および/またはBC保護層に添加するのが好まし
い。
Embedded image These compounds are commercially available, and these commercially available products can be obtained and used. Moreover, it is also possible to synthesize by an ordinary synthesis method. These fluorine-containing nonionic surfactants can be added to each layer of the photothermographic image forming material by adding them to the coating solution of each layer. Fluorinated nonionic surfactants are used in water, alcohols (eg, methanol, ethanol, isobutyl alcohol, etc.), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl ketone, etc.), and aromatic organic solvents (eg, toluene, xylene, etc.). It can be dissolved or dispersed in fine particles and added to the coating solution. The fluorine-containing nonionic surfactant of the present invention is preferably used in an amount of 1 microgram to 10 grams per square meter of the photothermographic imaging material. The fluorinated nonionic surfactant can be added to the photosensitive layer, the photosensitive layer protective layer, the BC layer, and the BC protective layer, but is preferably added to the photosensitive layer protective layer and / or the BC protective layer.

【0022】次に、本発明の光熱写真画像形成材料に用
いる感光性ハロゲン化銀粒子について説明する。感光層
中に含有される感光性ハロゲン化銀は、シングルジェッ
ト若しくはダブルジェット法などの写真技術の分野で公
知の任意の方法を用い、例えば、アンモニア法、中性
法、酸性法等のいずれかの方法で予め調製できる。感光
性ハロゲン化銀は、画像形成後の白濁を低く抑え、ま
た、良好な画質を得るために粒子サイズが小さいものが
好ましい。平均粒子サイズ(投影面積法による平均直径
で算出)で100ナノメートル以下、好ましくは10ナ
ノメートル〜100ナノメートル、特に、20ナノメー
トル〜80ナノメートルが好ましい。また、ハロゲン化
銀の形状には特に制限はなく、立方体、八面体の所謂正
常晶や正常晶でない球状、棒状、平板状等の粒子が用い
られる。また、ハロゲン化銀組成にも特に制限はなく、
塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃
化銀のいずれであってもよい。本発明の光熱写真画像形
成材料における感光性ハロゲン化銀の量は感光性ハロゲ
ン化銀及び後述の有機銀塩の総量に対し50質量%以
下、好ましくは25〜0.1質量%、更に好ましくは1
5〜0.1質量%である。さらに、本発明の感光性ハロ
ゲン化銀は、米国特許第4,009,039号明細書、
同第3,457,075号明細書、同第4,003,7
49号明細書、英国特許第1,498,956号明細
書、特開昭53−27027号公報、同53−2542
0号公報に詳説されたような無機ハロゲン化合物、オニ
ウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン
化合物、その他の含ハロゲン化合物等のハロゲン化銀形
成成分を用いて後述する有機銀塩の一部をハロゲン化銀
に変換させることにより作製することもできる。ハロゲ
ン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時間、反応圧
力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜設定することが
できるが、通常、反応温度は−23℃乃至74℃、反応
時間は10ミリ秒乃至72時間であり、反応圧力は大気
圧に設定されるのが好ましい。上記した各種の方法によ
って調製される感光性ハロゲン化銀は、例えば、含硫黄
化合物、金化合物、白金化合物、パラジウム化合物、銀
化合物、錫化合物、クロム化合物またはこれらの組み合
わせによって化学増感することができる。この化学増感
の方法及び手順については、例えば、米国特許第4,0
36,650号明細書、英国特許第1,518,850
号明細書、特開昭51−22430号公報、同51−7
8319号公報、同51−81124号公報等に記載さ
れている。本発明に使用するハロゲン化銀は、必要によ
り分光増感色素で分光増感することができ、分光増感に
は、例えば、特開昭63−159841号公報、同60
−140335号公報、同63−231437号公報、
同63−259651号公報、同63−304242
号、同63−15245号公報、米国特許第4,63
9,414号明細書、同第4,740,455号明細
書、同第4,741,966号明細書、同第4,75
1,175号明細書、同第4,835,096号明細書
等に記載された増感色素を使用することができる。本発
明の光熱写真画像形成材料が各種スキャナーで露光され
る光熱写真画像形成材料であるとき、該スキャナーの光
源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素が用い
られる。これら増感色素としては、例えば、特開平9−
34078号公報、同9−54409号公報、同9−8
0679号公報に記載の化合物が好ましく用いられる。
Next, the photosensitive silver halide grains used in the photothermographic image forming material of the present invention will be described. The photosensitive silver halide contained in the photosensitive layer, using any method known in the field of photographic technology such as a single jet or double jet method, for example, any of ammonia method, neutral method, acid method and the like Can be prepared in advance. The photosensitive silver halide preferably has a small grain size in order to suppress white turbidity after image formation and obtain good image quality. The average particle size (calculated by the average diameter by the projected area method) is 100 nm or less, preferably 10 nm to 100 nm, particularly preferably 20 nm to 80 nm. The shape of the silver halide is not particularly limited, and cubic or octahedral so-called normal crystals, non-normal crystals such as spherical, rod-like, and tabular grains are used. There is no particular limitation on the silver halide composition,
Any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide may be used. The amount of the photosensitive silver halide in the photothermographic image-forming material of the present invention is 50% by mass or less, preferably 25 to 0.1% by mass, more preferably 25% by mass or less, based on the total amount of the photosensitive silver halide and the organic silver salt described below. 1
5 to 0.1% by mass. Further, the photosensitive silver halide of the present invention is disclosed in U.S. Pat. No. 4,009,039,
Nos. 3,457,075 and 4,003,7
No. 49, British Patent No. 1,498,956, JP-A-53-27027, JP-A-53-2542.
One of the organic silver salts described later using silver halide forming components such as inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds described in detail in Japanese Patent Publication No. It can also be prepared by converting some parts into silver halide. Various conditions such as a reaction temperature, a reaction time, and a reaction pressure in the step of converting into silver halide can be appropriately set according to the purpose of production, but usually, the reaction temperature is -23 ° C to 74 ° C, and the reaction time is 10 minutes. It is preferably from millisecond to 72 hours, and the reaction pressure is set to the atmospheric pressure. The photosensitive silver halide prepared by the various methods described above can be chemically sensitized by, for example, a sulfur-containing compound, a gold compound, a platinum compound, a palladium compound, a silver compound, a tin compound, a chromium compound, or a combination thereof. it can. The method and procedure of this chemical sensitization are described, for example, in US Pat.
36,650, British Patent 1,518,850
Specification, JP-A-51-22430, and JP-A-51-7
Nos. 8319 and 51-81124. The silver halide used in the present invention can be spectrally sensitized with a spectral sensitizing dye if necessary. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
JP-A-140335, JP-A-63-231437,
JP-A-63-259551, JP-A-63-304242
No. 63-15245, U.S. Pat.
Nos. 9,414, 4,740,455, 4,741,966 and 4,75.
Sensitizing dyes described in 1,175, 4,835,096 and the like can be used. When the photothermographic image forming material of the present invention is a photothermographic image forming material exposed by various scanners, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of the scanner is used. Examples of these sensitizing dyes include, for example,
JP-A-34078, JP-A-9-54409, and JP-A-9-8
The compounds described in JP-A-0679 are preferably used.

【0023】次に、本発明の光熱写真画像形成材料に用
いる有機銀塩について説明する。本発明の光熱写真画像
形成材料に用いる有機銀塩は還元可能な銀源であり、還
元可能な銀イオン源を含有する有機酸、ヘテロ有機酸及
び酸ポリマーの銀塩などが用いられる。また、配位子が
銀イオンに対する総安定定数として4.0〜10.0の
値を有する有機または無機の銀塩錯体も有機銀塩として
有用である。好ましい有機銀塩として、例えば、没食子
酸、シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩を挙げることができる。有機銀
塩は、上記有機酸のアルカリ金属塩と硝酸銀を混合する
ことによって調製できるが、調製には、有機酸のアルカ
リ金属塩と硝酸銀の混合時にコントロールドダブルジェ
ット法を用いることができる。また、添加のタイミング
をずらして添加してもよい。有機酸のアルカリ金属塩と
硝酸銀は一度に添加してもよく、また、分割して数度に
亘って添加してもよい。
Next, the organic silver salt used in the photothermographic image forming material of the present invention will be described. The organic silver salt used in the photothermographic image forming material of the present invention is a reducible silver source, and organic acids, heteroorganic acids, and silver salts of acid polymers containing a reducible silver ion source are used. An organic or inorganic silver salt complex in which the ligand has a value of 4.0 to 10.0 as a total stability constant for silver ions is also useful as the organic silver salt. Preferred organic silver salts include, for example, silver salts such as gallic acid, oxalic acid, behenic acid, stearic acid, palmitic acid and lauric acid. The organic silver salt can be prepared by mixing the alkali metal salt of the organic acid and silver nitrate. For the preparation, a controlled double jet method can be used when mixing the alkali metal salt of the organic acid and silver nitrate. Also, the addition may be carried out at a shifted timing. The alkali metal salt of an organic acid and silver nitrate may be added at once, or may be added in several portions.

【0024】本発明の光熱写真画像形成材料に用いる還
元剤としては、一般に知られているものが挙げられが、
好ましい還元剤の例としては、米国特許第3,770,
448号明細書、同第3,773,512号明細書、同
第3,593,863号明細書等に記載された次のもの
が挙げられる。 (K1) 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン (K2) ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフェニル)メタン (K3) 2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチル
フェニル)プロパン (K4) 4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール) (K5) 2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン これらの化合物は、水に分散したり、有機溶媒に溶解し
て使用することができる。有機溶媒としては、例えば、
メタノールやエタノール等のアルコール類、アセトンや
メチルエチルケトン等のケトン類、トルエンやキシレン
等の芳香族系を任意に選択することができる。還元剤
は、銀1モル当り1ミリモル〜10モル、好ましくは1
00ミリモル〜2モル使用することが好ましい。
As the reducing agent used in the photothermographic image forming material of the present invention, generally known reducing agents can be mentioned.
Examples of preferred reducing agents include US Pat.
No. 448, No. 3,773,512, and No. 3,593,863, etc., include the following. (K1) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (K2) bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5)
-Methylphenyl) methane (K3) 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane (K4) 4,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol) (K5) 2 , 2-Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane These compounds can be used by dispersing in water or dissolving in an organic solvent. As the organic solvent, for example,
Alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and aromatics such as toluene and xylene can be arbitrarily selected. The reducing agent is used in an amount of 1 mmol to 10 mol, preferably 1 mol, per mol of silver.
It is preferable to use from 00 mmol to 2 mol.

【0025】本発明の光熱写真画像形成材料の感光層ま
たは非感光層の形成には結合剤が用いられる。これら結
合剤としては、高分子結合剤、例えば、ポリビニルブチ
ラール、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリウレタン、ポリアクリル酸エステル、スチ
レン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチ
レン−ブタジエン−アクリル共重合体などが挙げられ
る。これら結合剤は、平衡含水率が低い塗膜を形成する
ものが好ましい。平衡含水率の低い塗膜を形成する結合
剤としては、例えば、有機溶媒系のセルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート及びポリアセター
ルを挙げることができる。好ましいポリアセタールとし
ては、例えば、ブチルアルデヒドでアセタール化をした
ポリブチラール、アセトアルデヒドでアセタール化した
ポリアセタール(狭義でのポリアセタール)が挙げられ
る。アセタール化度は、1%〜100%まで理論的には
存在するが、実用的には20%〜95%が好ましい。ア
セタール化度が低いと水酸基が多くなり、写真性能にお
いて湿度に弱い特性を示し、アセタール化度が高い化合
物は、製造するときの反応温度や時間が過酷になり、コ
ストや生産性が低下する。ポリマーの重合度は、10程
度から1万程度まで自由に選択することができるが、1
00〜6,000が塗布性や合成するときの生産性から
好ましい。これら結合剤は、単独で造膜することによ
り、下層や上層との接着を保持し、傷の付きにくい膜強
度を得ることができるが、架橋剤を使用することにより
更に膜接着や膜強度を高めることができる。しかし、架
橋剤の架橋反応が遅いと、写真性能が安定せず保存性が
劣化する。本発明に使用する即効性で、好ましい架橋剤
としてはイソシアナート基を少なくとも2個有する多官
能型架橋剤を挙げることができる。好ましい架橋剤を下
記に示す。 (H1) ヘキサメチレンジイソシアナート (H2) ヘキサメチレンジイソシアナートの3量体 (H3) トリレンジイソシアナート (H4) フェニレンジイソシアナート (H5) キシリレンジイソシアナート
A binder is used for forming the photosensitive layer or the non-photosensitive layer of the photothermographic image forming material of the present invention. As these binders, polymer binders, for example, polyvinyl butyral, polyacrylamide, polystyrene, polyvinyl acetate, polyurethane, polyacrylate, styrene-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, vinyl chloride-acetic acid Examples include a vinyl copolymer and a styrene-butadiene-acryl copolymer. These binders preferably form a coating film having a low equilibrium moisture content. Examples of the binder that forms a coating film having a low equilibrium moisture content include organic solvent-based cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and polyacetal. Preferred polyacetals include, for example, polybutyral acetalized with butyraldehyde, and polyacetal acetalized with acetaldehyde (polyacetal in a narrow sense). The degree of acetalization theoretically exists from 1% to 100%, but practically preferably from 20% to 95%. If the degree of acetalization is low, the number of hydroxyl groups will increase, and the photographic performance will be weak against humidity. A compound having a high degree of acetalization will have a severe reaction temperature and time during production, resulting in a reduction in cost and productivity. The degree of polymerization of the polymer can be freely selected from about 10 to about 10,000.
00-6,000 are preferable from the viewpoint of applicability and productivity at the time of synthesis. These binders can maintain the adhesion to the lower layer and the upper layer by forming a single film, and can obtain a film strength that is hardly scratched.However, by using a crosslinking agent, the film adhesion and the film strength can be further improved. Can be enhanced. However, when the crosslinking reaction of the crosslinking agent is slow, the photographic performance is not stable and the storage stability is deteriorated. Preferred quick-acting crosslinking agents for use in the present invention include polyfunctional crosslinking agents having at least two isocyanate groups. Preferred crosslinking agents are shown below. (H1) hexamethylene diisocyanate (H2) trimer of hexamethylene diisocyanate (H3) tolylene diisocyanate (H4) phenylene diisocyanate (H5) xylylene diisocyanate

【0026】[0026]

【化18】 上記架橋剤は、水、アルコール類、ケトン類、非極性の
有機溶媒類に溶解して添加してもよいし、塗布液中に固
形のまま添加してもよい。添加量は、結合剤の架橋する
基と当量であることが好ましいが、10倍まで増量して
もよいし、10分の1以下まで減量してもよい。少なす
ぎると架橋反応が進まないし、多すぎると未反応の架橋
剤が写真性を劣化させるので好ましくない。
Embedded image The crosslinking agent may be added by dissolving in water, alcohols, ketones, and nonpolar organic solvents, or may be added as a solid in the coating solution. The addition amount is preferably equivalent to the group to be crosslinked of the binder, but may be increased up to 10 times or reduced to 1/10 or less. If the amount is too small, the crosslinking reaction does not proceed. If the amount is too large, the unreacted crosslinking agent deteriorates photographic properties, which is not preferable.

【0027】本発明の光熱写真画像形成材料には、必要
に応じて、ハレーション防止用またはハレーション防止
用のAH層またはBC層を設けることができる。これら
AH層またはBC層には染料が用いられるが、これら染
料としては画像露光に用いる光を吸収する染料であれば
よく、好ましい例として、特開平2−216140号公
報、同7−13295号公報、同7−11432号公
報、米国特許第5,380,380,635号明細書等
に記載される染料を挙げることができる。本発明の光熱
写真画像形成材料の支持体としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレートまたはシンジオ
タクチックポリスチレン等の支持体が好ましく、2軸延
伸や熱固定した、光学的に等方性が高く、寸法安定性の
よい50ミクロンメートル〜400ミクロンメートル厚
のものがよい。本発明の光熱写真画像形成材料は、特開
平9−304869号公報、同9−311403号公
報、特開2000−10230号公報に記載された方法
によりレーザー露光することができる。露光は、当該画
像形成材料に付与した感色性に適切な光源を用いること
が望ましい。例えば、光熱写真画像形成材料が赤外光感
光性の光熱写真画像形成材料である場合には、赤外光域
の光線をだす光源であればいずれでもよいが、パワー及
び取り扱いの点から赤外半導体レーザー(例えば、78
0ナノメートル、810ナノメートル)がより好ましく
用いられる。本発明の光熱写真画像形成材料を現像する
装置としては、特開平11−65067号公報、同11
−72897号公報、同84619号公報に記載された
装置を使用することができる。
The photothermographic image-forming material of the present invention may be provided with an antihalation or antihalation AH layer or BC layer as required. Dyes are used in the AH layer or the BC layer, and any dye may be used as long as it is a dye that absorbs light used for image exposure. Preferred examples thereof include JP-A-2-216140 and JP-A-7-13295. And the dyes described in U.S. Pat. No. 5,380,380,635 and the like. As the support of the photothermographic image forming material of the present invention, a support such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate or syndiotactic polystyrene is preferable, and biaxially stretched or heat-fixed, has high optical isotropy, and has a high size. Those having a thickness of 50 μm to 400 μm with good stability are preferable. The photothermographic image-forming material of the present invention can be subjected to laser exposure according to the methods described in JP-A-9-304869, JP-A-9-31403 and JP-A-2000-10230. For the exposure, it is desirable to use a light source appropriate for the color sensitivity imparted to the image forming material. For example, when the photothermographic image forming material is an infrared light-sensitive photothermographic image forming material, any light source that emits light in the infrared light range may be used. A semiconductor laser (for example, 78
0 nm and 810 nm) are more preferably used. Apparatuses for developing the photothermographic image forming material of the present invention are disclosed in JP-A-11-65067 and JP-A-11-65067.
The devices described in JP-A-72897 and JP-A-84619 can be used.

【0028】[0028]

【実施例】実施例1 化合物G1〜G9の合成 環流冷却器と攪拌機を備えたSUS316製1リットル
容器に、パーフルオロノネンを43.1g(0.12モ
ル)及び表1に記載の極性溶媒600gを入れ、強く攪
拌しながら表1に記載の反応温度まで昇温し、表1に記
載のスルホン酸塩を表1に記載の添加質量(0.1モ
ル)で1時間に亘って連続的にノズル滴下した。その
後、攪拌しながら表1に記載の反応時間で反応を行った
後、攪拌を停止した。52℃に保ちながら副生したフッ
化塩を濾別し、トルエンを1200ml加え、濾液を5
℃まで冷却した。16時間経過後、析出した生成固体を
濾別乾燥することにより表1に記載の化合物G1〜G9
の化合物を得た。また、化合物G6及び化合物G9の合
成においては、フッ化塩を濾別した後、硫酸で析出させ
て濾別し、スルホン酸とした。なお、使用した非極性溶
媒は下記のとおりである。 DMF;N,N−ジメチルホルムアミド DMA;N,N−ジメチルアセトアミド MPN;N−メチルピロリドン IMZ;N,N−ジメチルイミダゾリン 以下の表においても同様である。得られた化合物につい
て、質量スペクトル、元素分析値及び13C核磁気共鳴装
置よりヘテロ環上の炭素原子の化学シフトを求めた。質
量スペクトルの測定は大気圧化学イオン化(APCI)
およびエレクトロスプレーイオン化(ESI)対応の2
重収束磁場型である日本電子株式会社製LC/MSシス
テムJMS−Lcmateを使用し、メタノール溶媒、
加速電圧2.5Kvで測定し、質量分析ピークを求め
た。元素分析には、エレメンタール社全自動元素分析装
置バリオEL(varioEL)を使用して行った。13
Cの磁気共鳴スペクトルは、パルス・フーリエ変換法お
よび超伝導磁石(7.05テスラ)を採用したバリアン
社のジェミニ300(GEMINI300)超伝導FT
核磁気共鳴装置を使用した。分析測定した結果を表2に
示す。
Example 1 Synthesis of Compounds G1 to G9 In a 1-liter SUS316 vessel equipped with a reflux condenser and a stirrer, 43.1 g (0.12 mol) of perfluorononene and 600 g of a polar solvent described in Table 1 were used. And heated to the reaction temperature shown in Table 1 with vigorous stirring, and the sulfonic acid salt shown in Table 1 was continuously added at the added mass (0.1 mol) shown in Table 1 for 1 hour. The nozzle was dropped. Thereafter, the reaction was carried out for the reaction time shown in Table 1 with stirring, and then the stirring was stopped. While maintaining the temperature at 52 ° C., the by-produced fluoride salt was separated by filtration, 1200 ml of toluene was added, and the filtrate was treated with 5 ml of toluene.
Cooled to ° C. After a lapse of 16 hours, the precipitated solids were separated by filtration and dried to obtain compounds G1 to G9 shown in Table 1.
Was obtained. In the synthesis of Compound G6 and Compound G9, the fluoride salt was separated by filtration, precipitated with sulfuric acid, and separated by filtration to obtain sulfonic acid. The non-polar solvents used are as follows. DMF; N, N-dimethylformamide DMA; N, N-dimethylacetamide MPN; N-methylpyrrolidone IMZ; N, N-dimethylimidazoline The same applies to the following tables. With respect to the obtained compound, a mass spectrum, an elemental analysis value, and a chemical shift of a carbon atom on the heterocycle were obtained from a 13 C nuclear magnetic resonance apparatus. Mass spectrometry is measured by atmospheric pressure chemical ionization (APCI)
And Electrospray Ionization (ESI) compatible 2
Using a double focusing magnetic field type LC / MS system JMS-Lcmate manufactured by JEOL Ltd., a methanol solvent,
Measurement was performed at an acceleration voltage of 2.5 Kv, and a mass analysis peak was determined. Elemental analysis was performed using Elemental Co., Ltd. fully automatic elemental analyzer Vario EL. 13
The magnetic resonance spectrum of C is based on Varian's Gemini 300 superconducting FT employing the pulse Fourier transform method and a superconducting magnet (7.05 Tesla).
A nuclear magnetic resonance apparatus was used. Table 2 shows the results of the analysis and measurement.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】実施例2 化合物G10〜G18の合成 実施例1と同様にして化合物G10〜G18を合成し
た。ただし、極性溶媒としては表3に記載の非プロトン
性極性溶媒を、スルホン酸塩としては表3に記載のスル
ホン酸塩を表3に記載の添加質量で使用した。また、反
応は表3に記載の反応温度及び反応時間で行った。ま
た、得られた化合物について実施例1と同様にして分析
した。得られた分析結果を表4に示す。
Example 2 Synthesis of Compounds G10 to G18 Compounds G10 to G18 were synthesized in the same manner as in Example 1. However, the aprotic polar solvent shown in Table 3 was used as the polar solvent, and the sulfonate shown in Table 3 was used as the sulfonate in the addition mass shown in Table 3. The reaction was performed at the reaction temperature and reaction time shown in Table 3. Further, the obtained compound was analyzed in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the obtained analysis results.

【0032】[0032]

【表3】 [Table 3]

【0033】[0033]

【表4】 [Table 4]

【0034】実施例3 化合物G19〜G27の合成 実施例1と同様にして化合物G19〜G27を合成し
た。ただし、フッ素化合物として、パーフルオロノネン
に代え、表5に記載のフッ素化合物を表5に記載の添加
質量で用い、極性溶媒としては表5に記載の非プロトン
性極性溶媒を、スルホン酸塩としては表5に記載のスル
ホン酸塩を表5に記載の添加質量で使用した。また、反
応は表5に記載の反応温度及び反応時間で行った。ま
た、得られた化合物について実施例1と同様にして分析
した。得られた分析結果を表6に示す。なお、使用した
フッ素化合物は下記のとおりである。 PFOE;(パーフロオロオクチル)エチレン PFHE;(パーフロオロヘキシル)エチレン PFOP;(パーフルオロオクチル)プロピレン
Example 3 Synthesis of Compounds G19 to G27 Compounds G19 to G27 were synthesized in the same manner as in Example 1. However, in place of perfluorononene as the fluorine compound, the fluorine compound shown in Table 5 was used in the added mass shown in Table 5, and the aprotic polar solvent shown in Table 5 was used as the polar solvent. Used the sulfonate described in Table 5 with the added mass shown in Table 5. The reaction was performed at the reaction temperature and reaction time shown in Table 5. Further, the obtained compound was analyzed in the same manner as in Example 1. Table 6 shows the obtained analysis results. The fluorine compounds used are as follows. PFOE; (perfluorooctyl) ethylene PFHE; (perfluorohexyl) ethylene PFOP; (perfluorooctyl) propylene

【0035】[0035]

【表5】 [Table 5]

【0036】[0036]

【表6】 [Table 6]

【0037】実施例4 環流冷却器と攪拌機を備えたSUS316製1リットル
容器に、表7に記載のフッ素化合物(0.1モル)及び
表7に記載の非プロトン性極性溶媒600gを入れ、強
く攪拌しながら表7に記載の反応温度まで昇温し、表7
に記載の未スルホン酸塩を表7記載の添加質量(0.1
モル)で1時間に亘って連続的にノズル滴下した。その
後、攪拌しながら表7に記載の反応時間で反応を行った
後、温度を40℃に下げ、発煙硫酸(0.01モル)を
30分に亘って滴下した。滴下後、そのまま攪拌を3時
間継続し、表7に記載の目的化合物が得られる水酸化ア
ルカリ化合物を0.01モル添加し中和した。48℃に
保ちながら副生したフッ化アルカリ塩を濾別し、トルエ
ンを1200ml加え、濾液を5℃まで冷却した。16
時間経過後、析出した生成固体を濾別乾燥することによ
り表7に記載の目的化合物を得た。また、得られた化合
物について実施例1と同様にして分析した。得られた分
析結果を表8に示す。なお、使用したフッ素化合物は下
記のとおりである。 PFOE;(パーフロオロオクチル)エチレン FH3P;ヘキサフロオロプロペン3量体
Example 4 A 1-liter SUS316 vessel equipped with a reflux condenser and a stirrer was charged with a fluorine compound (0.1 mol) shown in Table 7 and 600 g of an aprotic polar solvent shown in Table 7, and strongly stirred. The temperature was raised to the reaction temperature shown in Table 7 while stirring, and
The unsulfonate described in Table 7 was added to the addition mass (0.1
(Mol) over 1 hour. Thereafter, the reaction was carried out for a reaction time shown in Table 7 with stirring, the temperature was lowered to 40 ° C., and fuming sulfuric acid (0.01 mol) was added dropwise over 30 minutes. After the dropwise addition, stirring was continued for 3 hours, and 0.01 mol of an alkali hydroxide compound from which the target compound shown in Table 7 was obtained was neutralized. While maintaining the temperature at 48 ° C., the by-produced alkali fluoride salt was filtered off, 1200 ml of toluene was added, and the filtrate was cooled to 5 ° C. 16
After a lapse of time, the precipitated solid was collected by filtration and dried to obtain the target compound shown in Table 7. Further, the obtained compound was analyzed in the same manner as in Example 1. Table 8 shows the obtained analysis results. The fluorine compounds used are as follows. PFOE; (perfluorooctyl) ethylene FH3P; hexafluoropropene trimer

【0038】[0038]

【表7】 [Table 7]

【0039】[0039]

【表8】 [Table 8]

【0040】実施例5 〈下引済み支持体の作製〉厚さ175ミクロンメートル
のポリエチレンテレフタレート支持体の両面に12W/
2・分のコロナ放電処理を施した後、一方の面に下記
下引塗布液a−1を乾燥膜厚600ナノメートルになる
ように塗設し、乾燥させて下引層A−1を設け、また反
対側の面に下記下引塗布液b−1を乾燥膜厚600ナノ
メートルになるように塗設し、乾燥させて下引層B−1
を設けた。 (下引塗布液a−1の調製)ブチルアクリレート(30
質量%)、t−ブチルアクリレート(20質量%)、ス
チレン(25質量%)及び2−ヒドロキシエチルアクリ
レート(25質量%)の共重合体ラテックス液(1リッ
トル当たり固形分300グラム)を15倍に希釈する。 (下引塗布液b−1の調製)ブチルアクリレート(40
質量%)、スチレン(20質量%)及びグリシジルアク
リレート(40質量%)の共重合体ラテックス液(1リ
ットル当たり固形分300グラム)を15倍に希釈す
る。引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面
に、12W/m2・分のコロナ放電を施した後、下引層
A−1の上には、下記下引上層塗布液a−2を塗布乾燥
して下引上層A−2(感光層側)を設け、下引層B−1
の上には下記下引上層塗布液b−2を塗布乾燥して下引
上層B−2(BC層側)を設けた。 (下引上層塗布液a−2) スチレンとブタジエンの1:2共重合体 0.4g/m2 ブチルアクリレート(30質量%)、t−ブチルアクリレート(20質量%) 、スチレン(25質量%)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(20質量%) 及びメタクリル酸(5質量%)の共重合体ラテックス液(1リットル当たり固形 分300グラム) 0.3g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 0.1g/m2 (下引上層塗布液b−2) スチレンとブタジエンの1:2共重合体 0.4g/m2 ブチルアクリレート(30質量%)、t−ブチルアクリレート(20質量%) 、スチレン(25質量%)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(20質量%) 及びメタクリル酸(5質量%)の共重合体ラテックス液(1リットル当たり固形 分300グラム) 0.3g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 0.1g/m2
Example 5 <Preparation of Subbed Support> A polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm was provided with 12 W /
After performing a corona discharge treatment for m 2 · min, the undercoating coating solution a-1 shown below was applied on one surface so as to have a dry film thickness of 600 nm, and dried to form an undercoating layer A-1. On the other side, the undercoating coating solution b-1 shown below was applied so as to have a dry film thickness of 600 nm, and dried to form an undercoating layer B-1.
Was provided. (Preparation of Subbing Coating Solution a-1) Butyl Acrylate (30
15% by weight of a copolymer latex liquid (300 g solids per liter) of t-butyl acrylate (20% by weight), styrene (25% by weight) and 2-hydroxyethyl acrylate (25% by weight). Dilute. (Preparation of Subbing Coating Solution b-1) Butyl Acrylate (40
%), A copolymer latex liquid of styrene (20% by weight) and glycidyl acrylate (40% by weight) (300 g of solids per liter) is diluted 15 times. Subsequently, after applying a corona discharge of 12 W / m 2 · min on the upper surfaces of the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B-1, the following undercoat upper layer is coated on the undercoat layer A-1. The solution a-2 was applied and dried to form an undercoating upper layer A-2 (photosensitive layer side), and an undercoating layer B-1
The lower coating layer B-2 (BC layer side) was formed by applying and drying the lower coating layer b-2 shown below. (Undercoat upper layer coating solution a-2) 1: 2 copolymer of styrene and butadiene 0.4 g / m 2 butyl acrylate (30 mass%), t-butyl acrylate (20 mass%), styrene (25 mass%) Latex liquid (solid content: 300 g per liter) of 2-hydroxyethyl acrylate (20% by mass) and methacrylic acid (5% by mass) 0.3 g / m 2 crosslinking agent (hexamethylene diisocyanate) 0 .1g / m 2 (lower pulling layer coating solution b-2) of styrene and butadiene 1: 2 copolymer 0.4 g / m 2 butyl acrylate (30 wt%), t-butyl acrylate (20 wt%), styrene (25% by mass), a copolymer latex liquid of 2-hydroxyethyl acrylate (20% by mass) and methacrylic acid (5% by mass) (solids per liter) 300 g) 0.3 g / m 2 crosslinking agent (hexamethylene diisocyanate) 0.1 g / m 2

【0041】〈ハロゲン化銀粒子乳剤Aの調製〉水90
0ml中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム
10mgを溶解し、温度を28℃、pHを3.0に合わ
せた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと硝酸銀
と等モルの臭化カリウムと沃化カリウム(モル比98/
2)を含む水溶液370mlをpAgを7.7に保ちな
がらコントロールドダブルジェット法で10分間かけて
添加した。硝酸銀の添加と同期してヘキサクロロイリジ
ウムのナトリウム塩を100ナノモル/銀1モル添加し
た。その後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデン0.3gを添加し、NaOH
でpHを5に調整して平均粒子サイズ36ナノメート
ル、投影直径面積の変動係数8%、(100)面比率8
7%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この粒子を逆浸透圧
膜を用いて脱塩処理後、乾燥して90gに仕上げた。 〈有機銀塩の調製〉3980mlの純水に、80℃で、
ベヘン酸111.4g、アラキジン酸83.8g、ステ
アリン酸54.9gを溶解した。次に、高速で攪拌しな
がら1.5モルの水酸化ナトリウム540mlを添加
し、濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して有
機酸ナトリウム溶液を得た。得られた有機酸ナトリウム
溶液の温度を55℃に保ったまま、前記ハロゲン化銀粒
子乳剤A7.1g(銀0.038モルを含む)を添加
し、5分間攪拌した。次に、1モルの硝酸銀溶液76
0.6mlを2分間かけて添加し、さらに20分攪拌
し、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の
電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水
洗、濾過を繰り返し、遠心脱水した後乾燥した。
<Preparation of silver halide grain emulsion A>
In 0 ml, 7.5 g of inert gelatin and 10 mg of potassium bromide are dissolved, the temperature is adjusted to 28 ° C. and the pH is adjusted to 3.0. Potassium (molar ratio 98 /
370 ml of an aqueous solution containing 2) was added over 10 minutes by a controlled double jet method while keeping the pAg at 7.7. Synchronously with the addition of silver nitrate, the sodium salt of hexachloroiridium was added at 100 nmol / mol of silver. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3
0.3 g of a, 7-tetrazaindene was added, and NaOH was added.
The pH was adjusted to 5 by adjusting the average particle size to 36 nm, the variation coefficient of the projected diameter area to 8%, and the (100) plane ratio to 8
7% of cubic silver iodobromide grains were obtained. The particles were desalted using a reverse osmosis membrane, and then dried to 90 g. <Preparation of organic silver salt> In 3980 ml of pure water at 80 ° C,
111.4 g of behenic acid, 83.8 g of arachidic acid and 54.9 g of stearic acid were dissolved. Next, 540 ml of 1.5 mol sodium hydroxide was added while stirring at a high speed, 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, and the mixture was cooled to 55 ° C. to obtain a sodium organic acid solution. While maintaining the temperature of the obtained organic acid sodium acid solution at 55 ° C., 7.1 g (containing 0.038 mol of silver) of the silver halide grain emulsion A was added, and the mixture was stirred for 5 minutes. Next, a 1 molar silver nitrate solution 76
0.6 ml was added over 2 minutes, stirred for another 20 minutes, and the water-soluble salts were removed by filtration. Thereafter, the filtrate was repeatedly washed with deionized water and filtered until the conductivity of the filtrate became 2 μS / cm, centrifugally dehydrated, and dried.

【0042】〔感光層及びBC層の塗布〕前記下引き済
み支持体の下引上層B−2を有する側の表面上に、以下
のバック面側の各層を、次いで、下引上層A−2を有す
る表面上に下記組成のAH層、感光層、表面保護層を同
時重層塗布した。なお、乾燥はBC側および感光層側と
も各々45℃、1分間で行った。 《バック面側の塗布》バック面側には以下の組成(付き
量で示した)の塗布液を同時重層塗布し、乾燥してBC
層及びBC保護層を形成した。 (BC層塗布液) 結合剤(PVB−1) 1.8g/m2
[Coating of photosensitive layer and BC layer] On the surface having the undercoating upper layer B-2 of the undercoated support, the following layers on the back surface side, and then the undercoating upper layer A-2 An AH layer, a photosensitive layer and a surface protective layer having the following compositions were simultaneously coated on the surface having The drying was performed at 45 ° C. for 1 minute on both the BC side and the photosensitive layer side. << Coating on back surface side >> A coating solution having the following composition (shown in the attached amount) is simultaneously and multi-layer coated on the back surface side, dried and BC
A layer and a BC protective layer were formed. (BC layer coating solution) Binder (PVB-1) 1.8 g / m 2

【0043】[0043]

【化19】 グリシジルトリメトキシシラン 1×10-4モル/m2 染料(C1) 2.2×10-5モル/m2 Embedded image Glycidyltrimethoxysilane 1 × 10 −4 mol / m 2 Dye (C1) 2.2 × 10 −5 mol / m 2

【0044】[0044]

【化20】 (BC保護層塗布液) 結合剤(セルロースアセテートブチレート) 1.1g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 1×10-4モル/m2 含フッ素陰イオン界面活性剤:表9記載 1.3×10-4モル/m2 含フッ素ノニオン界面活性剤:表9記載 6×10-5モル/m2 マット剤:平均粒子径3μmの合成シリカ 18mg/m2 Embedded image (Coating solution for BC protective layer) Binder (cellulose acetate butyrate) 1.1 g / m 2 Cross-linking agent (hexamethylene diisocyanate) 1 × 10 −4 mol / m 2 Fluorine-containing anionic surfactant: described in Table 9 1.3 × 10 −4 mol / m 2 Fluorine-containing nonionic surfactant: described in Table 9 6 × 10 −5 mol / m 2 Matting agent: Synthetic silica having an average particle diameter of 3 μm 18 mg / m 2

【0045】《感光層側の塗布》感光層側には以下の組
成(付き量で示した)の塗布液を同時重層塗布し、乾燥
してAH層、感光層及び表面保護層を形成した。 (AH層塗布液) 結合剤(PVB−1) 0.4g/m2 染料(C1) 1.3×10-5モル/m2 (感光層塗布液) 結合剤(PVB−1) 2.6g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 2×10-3モル/m2 分光増感色素(A1) 2×10-5モル/m2
<< Coating on the photosensitive layer side >> A coating solution having the following composition (shown in the amount added) was simultaneously and multi-layer coated on the photosensitive layer side, and dried to form an AH layer, a photosensitive layer and a surface protective layer. (AH layer coating solution) Binder (PVB-1) 0.4 g / m 2 Dye (C1) 1.3 × 10 −5 mol / m 2 (photosensitive layer coating solution) Binder (PVB-1) 2.6 g / M 2 crosslinking agent (hexamethylene diisocyanate) 2 × 10 −3 mol / m 2 Spectral sensitizing dye (A1) 2 × 10 −5 mol / m 2

【0046】[0046]

【化21】 カブリ防止剤(ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド) 0.3mg/m2 カブリ防止剤(イソチアゾロン) 1.2mg/m2 還元剤(K1) 3×10-4モル/m2 なお、銀量として1.36g/m2になる量の前記有機
銀塩を結合剤と混合した。 (表面保護層塗布液) 結合剤:セルロースアセテートブチレート 1.2g/m2 テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2 含フッ素陰イオン界面活性剤:表9記載 1.3×10-4モル/m2 含フッ素ノニオン界面活性剤:表9記載 6×10-5モル/m2 マット剤:平均粒子径3μmの合成シリカ 18mg/m2 なお、上記において、結合剤として用いたPVB−1
は、ポリビニルブチラールであり、メチルエチルケトン
(MEK)に溶解して使用した。PVB−1は重合度5
00のポリ酢酸ビニルを98%鹸化後、残存水酸基の8
6%をブチラール化したものである。また、比較の界面
活性剤としてはパーフルオロオクチルベンゼンスルホン
酸ナトリウム(比較a)を使用した。
Embedded image Antifoggant (pyridinium hydrobromide perbromide) 0.3 mg / m 2 Antifoggant (isothiazolone) 1.2 mg / m 2 Reducing agent (K1) 3 × 10 -4 mol / m 2 1.36 g as silver amount / M 2 of the organic silver salt was mixed with the binder. (Surface protective layer coating solution) Binder: cellulose acetate butyrate 1.2 g / m 2 Tetrachlorophthalic anhydride 0.5 g / m 2 Fluorine-containing anionic surfactant: described in Table 9 1.3 × 10 -4 Mol / m 2 fluorine-containing nonionic surfactant: described in Table 9 6 × 10 −5 mol / m 2 matting agent: synthetic silica having an average particle diameter of 3 μm 18 mg / m 2 PVB-1 used as a binder in the above
Is polyvinyl butyral, which was used by dissolving in methyl ethyl ketone (MEK). PVB-1 has a degree of polymerization of 5
After 98% saponification of polyvinyl acetate of 98%, 8
6% is butyralized. As a comparative surfactant, sodium perfluorooctylbenzenesulfonate (comparative a) was used.

【0047】得られた試料501〜533について下記
の評価をした。得られた結果を表9に示す。 (写真性能の評価)得られた未露光試料を25℃で48
%相対湿度の雰囲気下で、810nmの半導体レーザー
を光源とする感光計を用いて露光し、露光後120℃で
8秒間加熱し、試料のカブリと感度を求めた。カブリは
未露光部の濃度値で表した。感度は濃度0.2を与える
露光量の逆数の対数で求め、基準試料を100とする相
対感度で示した。 (保存性の評価)得られた未露光試料を35℃で80%
相対湿度の雰囲気下に7日間保存した後、810nmの
半導体レーザーを光源とする感光計を用いて露光し、露
光後120℃で8秒間加熱し、試料のカブリを求めた。 (静電気防止効果の評価)得られた未露光試料を相対湿
度20%の部屋に18時間放置した後、試料を化繊繊維
布(ナイロン60%、ポリエステル40%)で5回擦
り、これをスチレンビーズ100個(平均粒子径3m
m)の上にかざして(接近距離15mm)、ビーズの吸
着度合いで評価した。吸着のないレベルを5、3〜8個
吸着するレベルを4、9〜15個吸着するレベルを3、
16〜25個吸着するレベルを2、25個以上を吸着し
たレベルを1とした。 (塗布性の評価)塗布した試料を光学濃度が1.0±
0.1になるようにベタ露光し、露光後120℃で8秒
間加熱した。得られた試料の光学濃度偏差を調べた。光
学濃度偏差は、試料塗布巾2.47m×塗布長30cm
の面積を5mm間隔で濃度を自動測定し、光学濃度の偏
差を平均濃度で除して100を掛けた数字を塗布性の尺
度とした。数値が小さい程濃度のバラツキがなく均一に
塗布されていることを示す。数値が0〜10の範囲のレ
ベルをランク5、10〜20の範囲のレベルをランク
4、20〜30の範囲のレベルをランク3、30〜40
の範囲のレベルをランク2、40以上のレベルをランク
1として評価した。
The obtained samples 501 to 533 were evaluated as follows. Table 9 shows the obtained results. (Evaluation of photographic performance) The obtained unexposed sample was treated at 25 ° C for 48 hours.
Exposure was performed using a sensitometer using a 810 nm semiconductor laser as a light source in an atmosphere of% relative humidity. After exposure, the film was heated at 120 ° C. for 8 seconds, and the fog and sensitivity of the sample were determined. Fog was represented by a density value of an unexposed portion. The sensitivity was determined by the logarithm of the reciprocal of the exposure amount giving a density of 0.2, and was expressed as a relative sensitivity with the reference sample taken as 100. (Evaluation of storage stability) The obtained unexposed sample was 80% at 35 ° C.
After being stored in an atmosphere of relative humidity for 7 days, it was exposed using a sensitometer using a semiconductor laser of 810 nm as a light source, and heated at 120 ° C. for 8 seconds after the exposure to determine fog of the sample. (Evaluation of antistatic effect) After leaving the obtained unexposed sample in a room at a relative humidity of 20% for 18 hours, the sample was rubbed five times with a synthetic fiber cloth (60% nylon, 40% polyester) and styrene beads. 100 (average particle diameter 3m
m) (approx. distance 15 mm), and evaluated by the degree of adsorption of beads. The level at which no suction is performed is 5, the level at which 3 to 8 suctions are performed, the level at which 9 to 15 suctions are performed is 3,
The level at which 16 to 25 pieces were adsorbed was 2, and the level at which 25 or more pieces were adsorbed was 1. (Evaluation of coatability) The optical density of the coated sample was 1.0 ± 1.0%.
The resultant was solid-exposed to 0.1 and heated at 120 ° C. for 8 seconds after the exposure. The optical density deviation of the obtained sample was examined. Optical density deviation: sample application width 2.47m x application length 30cm
Was automatically measured at 5 mm intervals, the deviation of the optical density was divided by the average density and multiplied by 100 was used as a measure of the applicability. The smaller the value, the more uniform the coating without variation in density. The numerical values are in the range of 0 to 10 as rank 5, the level in the range of 10 to 20 as rank 4, and the level in the range of 20 to 30 as rank 3, 30 to 40.
Were evaluated as rank 2, and the level of 40 or more was evaluated as rank 1.

【0048】[0048]

【表9】 [Table 9]

【0049】表9より、本発明の含フッ素陰イオン界面
活性剤を用いた光熱写真画像形成材料は、優れた静電気
防止効果が得られ、また、写真特性および保存性にも優
れることがわかる。また。本発明の陰イオン界面活性剤
と含フッ素ノニオン界面活性剤を併用すると静電気防止
効果および塗布性が向上することがわかる。また、光熱
写真画像形成材料を形成する塗布液に本発明の含フッ素
陰イオン界面活性剤を含有させると優れた塗布性能が得
られることがわかる。
From Table 9, it can be seen that the photothermographic image forming material using the fluorine-containing anionic surfactant of the present invention has an excellent antistatic effect and also has excellent photographic characteristics and storage stability. Also. It can be seen that the combined use of the anionic surfactant of the present invention and the fluorine-containing nonionic surfactant improves the antistatic effect and coatability. It can also be seen that excellent coating performance can be obtained when the fluorine-containing anionic surfactant of the present invention is added to the coating solution for forming the photothermographic image forming material.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明の含フッ素陰イオン界面活性剤は
新規であり、本発明の含フッ素陰イオン界面活性剤を用
いた光熱写真画像形成材料は、カブリ、感度および保存
性に悪影響を与えず、均一に塗布されたムラのない銀画
像を形成することができる。また、静電気防止効果も優
れている。
The fluorinated anionic surfactant of the present invention is novel, and the photothermographic image forming material using the fluorinated anionic surfactant of the present invention adversely affects fog, sensitivity and storage stability. Therefore, a uniform coated silver image without unevenness can be formed. Also, the antistatic effect is excellent.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1)で表される含フッ素陰イオ
ン界面活性剤。 【化1】 (式中、Rfはフッ素原子で置換された鎖状脂肪族基を
表し、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン環
から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭素
数1〜4の2価の連結基を表し、Mは水素原子、塩を形
成する原子または原子群を表し、pは0または1を表
す。)
1. A fluorine-containing anionic surfactant represented by the general formula (1). Embedded image (In the formula, R f represents a chain aliphatic group substituted by a fluorine atom, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, and L 1 represents the number of carbon atoms. Represents a divalent linking group of 1 to 4, M represents a hydrogen atom, a salt-forming atom or a group of atoms, and p represents 0 or 1.)
【請求項2】 一般式(1)において、Rfで表される
フッ素原子で置換された鎖状脂肪族基がパーフルオロア
ルケニル基または(パーフルオロアルキル)アルキル基
であることを特徴とする請求項1に記載の含フッ素陰イ
オン界面活性剤。
2. In the formula (1), the chain aliphatic group substituted by a fluorine atom represented by R f is a perfluoroalkenyl group or a (perfluoroalkyl) alkyl group. Item 4. The fluorine-containing anionic surfactant according to Item 1.
【請求項3】 一般式(2)で表される化合物を非水極
性溶媒に溶解または分散し、フッ素原子で置換された鎖
状脂肪族化合物と反応させることを特徴とする請求項1
または2に記載の含フッ素陰イオン界面活性剤の製造方
法。 【化2】 (式中、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン
環から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭
素数1〜4の2価の連結基を表し、Mは水素原子、塩を
形成する原子または原子群を表し、M1はアルカリ金属
原子を表し、pは0または1を表す。)
3. The method according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (2) is dissolved or dispersed in a non-aqueous polar solvent and reacted with a chain aliphatic compound substituted with a fluorine atom.
Or the method for producing a fluorine-containing anionic surfactant according to 2. Embedded image (In the formula, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, L 1 represents a divalent linking group having 1 to 4 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, Represents an atom or a group of atoms forming a salt, M 1 represents an alkali metal atom, and p represents 0 or 1.)
【請求項4】 一般式(3)で表される化合物を非水極
性溶媒に溶解または分散し、フッ素原子で置換された鎖
状脂肪族化合物と反応させ、次いでスルホン化すること
を特徴とする請求項1または2に記載の含フッ素陰イオ
ン界面活性剤の製造方法。 【化3】 (式中、Hrはピリジン環、フラン環およびチオフェン
環から選ばれる5員または6員の環基を表し、L1は炭
素数1〜4の2価の連結基を表し、M1はアルカリ金属
原子を表し、pは0または1を表す。)
4. The method according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (3) is dissolved or dispersed in a non-aqueous polar solvent, reacted with a chain aliphatic compound substituted with a fluorine atom, and then sulfonated. A method for producing the fluorinated anionic surfactant according to claim 1. Embedded image (In the formula, Hr represents a 5- or 6-membered ring group selected from a pyridine ring, a furan ring and a thiophene ring, L 1 represents a divalent linking group having 1 to 4 carbon atoms, and M 1 represents an alkali metal. Represents an atom, and p represents 0 or 1.)
【請求項5】 フッ素原子で置換された鎖状脂肪族化合
物が、ヘキサフルオロプロペンの3量体であることを特
徴とする請求項3または4に記載の含フッ素陰イオン界
面活性剤の製造方法。
5. The method for producing a fluorine-containing anionic surfactant according to claim 3, wherein the chain aliphatic compound substituted with a fluorine atom is a trimer of hexafluoropropene. .
【請求項6】 非水極性溶媒が、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピロリドンおよびN,N−ジメチルイミダゾリンから選
ばれた非水極性溶媒であることを特徴とする請求項3〜
5のいずれかに記載の含フッ素陰イオン界面活性剤の製
造方法。
6. The non-aqueous polar solvent is a non-aqueous polar solvent selected from N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylimidazoline. Claim 3 to
5. The method for producing a fluorine-containing anionic surfactant according to any one of 5.
【請求項7】 請求項3または4に記載の一般式(2)
または(3)で表される化合物とヘキサフルオロプロペ
ンの3量体との反応温度が、30℃〜160℃であるこ
とを特徴とする請求項5に記載の含フッ素陰イオン界面
活性剤の製造方法。
7. The general formula (2) according to claim 3 or 4.
Or the reaction temperature of the compound represented by (3) with a trimer of hexafluoropropene is 30 ° C to 160 ° C, and the production of the fluorinated anionic surfactant according to claim 5 is performed. Method.
【請求項8】 陰イオン基が、スルホン酸基のナトリウ
ム塩、リチウム塩またはカリウム塩であることを特徴と
する請求項3〜7のいずれかに記載の含フッ素陰イオン
界面活性剤の製造方法。
8. The method for producing a fluorine-containing anionic surfactant according to claim 3, wherein the anionic group is a sodium salt, a lithium salt or a potassium salt of a sulfonic acid group. .
【請求項9】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤および結合剤を含有する層を設けた光熱写真画像形
成材料において、請求項1または2に記載の含フッ素陰
イオン界面活性剤を含有する層を有することを特徴とす
る光熱写真画像形成材料。
9. A photothermographic image forming material comprising a support having thereon a layer containing silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a binder, wherein the fluorine-containing anionic surfactant according to claim 1 or 2. A photothermographic image forming material having a layer containing an agent.
【請求項10】 含フッ素陰イオン界面活性剤を含有す
る層が、光熱写真画像形成材料の最上層であることを特
徴とする請求項9に記載の光熱写真画像形成材料。
10. The photothermographic image forming material according to claim 9, wherein the layer containing a fluorine-containing anionic surfactant is the uppermost layer of the photothermographic image forming material.
【請求項11】 含フッ素陰イオン界面活性剤を含有す
る層に、含フッ素ノニオン界面活性剤が含有されている
ことを特徴する請求項9または10に記載の光熱写真画
像形成材料。
11. The photothermographic image forming material according to claim 9, wherein the layer containing a fluorine-containing anionic surfactant contains a fluorine-containing nonionic surfactant.
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