JP2002241383A - Method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran, method for producing polymer thereof and photothermographic image-forming material using the same polymer - Google Patents

Method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran, method for producing polymer thereof and photothermographic image-forming material using the same polymer

Info

Publication number
JP2002241383A
JP2002241383A JP2001035236A JP2001035236A JP2002241383A JP 2002241383 A JP2002241383 A JP 2002241383A JP 2001035236 A JP2001035236 A JP 2001035236A JP 2001035236 A JP2001035236 A JP 2001035236A JP 2002241383 A JP2002241383 A JP 2002241383A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
producing
alkylenedioxyfuran
alkali
forming material
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001035236A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Haniyu
武 羽生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2001035236A priority Critical patent/JP2002241383A/en
Publication of JP2002241383A publication Critical patent/JP2002241383A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a new monomer and a method for polymerizing the new monomer and to obtain a photothermographic image- forming material having high antistatic performances due to an electroconductive polymer produced by the method for polymerization further without adversely affecting fogging, sensitivity and shelf life. SOLUTION: This method for producing a 3,4-dialkylenedioxyfuran is characterized by producing a 2,5-dialkyl-3,4-dihydroxyfurancarboxylic acid ester from a diglycolic alkyl ester and a dialkyl oxalate, then producing a 3,4- alkylenedioxy-2,5-dialkylcarboxyfuran and finally carrying out hydrolysis and decarboxylation in the presence of an alkali. The method for producing the polymer thereof is provided and the photothermographic image-forming material uses the resultant polymer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なポリ(3,
4−アルキレンジオキシフラン)の製造方法、およびそ
の重合方法および露光後熱現像により画像を形成する光
熱写真画像形成材料に関し、可視光透過率の高い帯電防
止処理が付与され、且つカブリ、感度および保存性に悪
影響を与えず、画像を形成する光熱写真画像形成材料に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel poly (3,3)
4-alkylenedioxyfuran), its polymerization method, and a photothermographic image-forming material which forms an image by thermal development after exposure, to which an antistatic treatment having a high visible light transmittance is imparted, and fog, sensitivity and The present invention relates to a photothermographic image forming material which forms an image without adversely affecting the storage stability.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機導電ポリマーとしてポリアニリンを
帯電防止剤に使用する技術が米国特許第3,963,4
98号、同第4,025,691号、同第4,025,
704号および特開平2−282245号明細書に開示
されている。米国特許第5,674,654号明細書お
よび同5,665,498号明細書にはポリピロール、
欧州特許779,539号および同1,031,875
A1号明細書にはポリチオフェンが開示されている。導
電性ポリマーは共役2重結合を有する有機低分子化合物
を重合して作られる。例えば、アニリン、ピロールおよ
びチオフェンからそれぞれ導かれる、ポリアニリン、ポ
リピロールおよびポリチオフェンを挙げることができ
る。しかし、これらは導電性であるが、光熱写真画像形
成材料に使用した場合、黒色が強く、カブリ濃度が高い
という欠点を有していた。特にポリアニリンは導電性が
高い反面、黒色濃度が高く透明性を必要とする感光材料
には不向きであった。それを改良するために上記ポリピ
ロールおよびポリチオフェンが検討されてきた。しか
し、いずれも重合体になると黒色濃度が高く、満足すべ
きものが得られていない。ポリフラン化合物は、黒色濃
度が低いと予想される化合物であったが、モノマーとす
るフラン化合物が得にくいこと、市販のフラン誘導体で
は導電性が得にくく、得られても黒色濃度が高く、使用
に耐えるものではなかった。フラン化合物の反応性はキ
ュ−ケム社製「Q−Chemバージョン2.0」非経験
的分子軌道法でシミュレーション計算すると2位および
5位の位置の反応性が高いので2および5に置換基のあ
るフラン誘導体を使用し、空きの3および4位で重合さ
せるように設計すると、重合体が得にくくなる。これを
克服するには2位および5位を無置換の状態にし重合の
活性点を残し、3位および4位に置換基を導入し活性点
である2位および5位を予めブロックして置く必要があ
る。ブロック方法として2位および5位にカルボキシア
ルキルエステル基を導入し、アルカリ性の雰囲気下でカ
ルボキシアルキルエステルをアルコリシスを行い脱炭酸
する方法が考えられるが、満足すべき反応条件が見出せ
なかった。
2. Description of the Related Art A technique using polyaniline as an antistatic agent as an organic conductive polymer is disclosed in U.S. Pat. No. 3,963,4.
No. 98, No. 4,025, 691, No. 4,025
No. 704 and JP-A-2-282245. U.S. Patent Nos. 5,674,654 and 5,665,498 disclose polypyrrole,
European Patents 779,539 and 1,031,875
A1 discloses a polythiophene. The conductive polymer is made by polymerizing an organic low molecular weight compound having a conjugated double bond. For example, mention may be made of polyaniline, polypyrrole and polythiophene derived from aniline, pyrrole and thiophene, respectively. However, although they are conductive, they have the drawback that when used in a photothermographic image forming material, they are strongly black and have high fog density. In particular, polyaniline has high conductivity, but is not suitable for a photosensitive material having high black density and requiring transparency. The polypyrrole and polythiophene described above have been studied to improve it. However, in all cases, the polymer has a high black density, and satisfactory products have not been obtained. The polyfuran compound was a compound expected to have a low black density, but it was difficult to obtain a furan compound as a monomer, and it was difficult to obtain conductivity with a commercially available furan derivative. It was not enduring. The reactivity of the furan compound was determined by simulation based on the ab initio molecular orbital method "Q-Chem version 2.0" manufactured by Kyuchem Co., Ltd., and the reactivity at the 2-position and 5-position was high. If a certain furan derivative is used and is designed to be polymerized at empty 3 and 4 positions, it becomes difficult to obtain a polymer. To overcome this, the 2- and 5-positions are left unsubstituted, leaving active sites for polymerization, substituents are introduced at the 3- and 4-positions, and the active sites 2- and 5-positions are blocked in advance. There is a need. As a blocking method, a method of introducing a carboxyalkyl ester group at the 2-position and 5-position and subjecting the carboxyalkyl ester to alcoholysis and decarboxylation in an alkaline atmosphere can be considered, but satisfactory reaction conditions could not be found.

【0003】一方、近年医療分野で環境保護や作業性の
面から湿式処理に伴う廃液の出ない光または熱処理で画
像を形成する写真材料が強く望まれており、特に光と熱
の両者を利用した現像により、高解像度で鮮明な黒色画
像を形成することができる写真技術用途の光熱写真画像
形成材料に関する技術が商品化され急速に普及してい
る。これらの光熱写真画像形成材料は通常、80℃以上
の温度で現像が行われるので、25℃〜45℃の範囲で
液現像される従来の湿式感光材料と区別され光熱写真画
像形成材料と呼ばれる。
On the other hand, in recent years, in the medical field, photographic materials which form an image by light or heat treatment which does not generate waste liquid due to wet processing have been strongly desired from the viewpoint of environmental protection and workability. Particularly, both light and heat are used. The technology relating to photothermographic image forming materials for photographic technology, which can form a high-resolution and clear black image by the development, has been commercialized and rapidly spread. Since these photothermographic image forming materials are usually developed at a temperature of 80 ° C. or higher, they are called photothermographic image forming materials to be distinguished from conventional wet photosensitive materials which are liquid-developed in the range of 25 ° C. to 45 ° C.

【0004】従来からこのタイプの光熱写真画像形成材
料は、摩擦や剥離で静電気を帯びやすく、いずれも画像
欠陥となるスタチックマークやゴミが付きやすい等の課
題があった。この解決方法の一つは、導電性の酸化錫や
酸化インジウム等の無機微粒子を支持体と感光層の間に
塗設することであった。しかし、この方法では導電性を
得るために微粒子同士が接触する密度まで微粒子を含有
させる必要があり、この密度まで微粒子を含有させると
膜強度が劣化するという問題があった。従来、膜強度を
強化するために強靱な結合剤や架橋性の硬膜剤等を使用
することでこれらの問題を解決してきたが、満足な性能
を得ることが難しかった。
Conventionally, this type of photothermographic image forming material has a problem in that it tends to be charged with static electricity due to friction and peeling, and all of them tend to form static marks and dust which cause image defects. One solution to this problem is to coat inorganic fine particles such as conductive tin oxide and indium oxide between the support and the photosensitive layer. However, in this method, in order to obtain conductivity, it is necessary to contain the fine particles up to a density at which the fine particles come into contact with each other. Conventionally, these problems have been solved by using a tough binder or a crosslinkable hardener to enhance the film strength, but it has been difficult to obtain satisfactory performance.

【0005】有機の導電性の高分子を使用することも検
討されていたが、いずれもポリマーを溶解する適当な溶
媒がなく、塗設が困難であること、π電子の光吸収のた
め着色し易いこと等の欠点があり実用化が困難であっ
た。この問題の改良技術として、欧州特許440,95
7A3号および同1,031,875A1号明細書に水
分散性のポリチオフェン化合物を水溶性のドーパントで
使用することが開示されている。しかし、弱いドーピン
グ剤やドーピング剤の使用量が少ないと静電気防止効果
が弱く、強いドーピング剤やドーピング剤を多量に使用
すると静電気防止効果は強まるが、光熱写真画像形成材
料においては、カブリ、感度および保存性等の写真性能
を損ねるという結果に終始していた。
The use of organic conductive polymers has also been considered, but there is no suitable solvent for dissolving the polymer, and it is difficult to apply them. There were drawbacks such as easiness, and it was difficult to put it to practical use. As a technique for solving this problem, European Patent 440,95
Nos. 7A3 and 1,031,875 A1 disclose the use of water-dispersible polythiophene compounds as water-soluble dopants. However, the use of a small amount of a weak doping agent or a doping agent has a weak antistatic effect, and the use of a large amount of a strong doping agent or a doping agent enhances the antistatic effect. Photographic performance such as storability was impaired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
な導電性ポリマーを製造する必要な新規なモノマーの製
造方法およびその重合方法の達成と、この重合方法によ
って製造される導電性ポリマーを使用して高い帯電防止
性能を得ると同時に、カブリ、感度、保存性に悪影響を
与えない光熱写真画像形成材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to achieve a novel method for producing a monomer required for producing a novel conductive polymer, to achieve the polymerization method, and to provide a conductive polymer produced by the polymerization method. It is an object of the present invention to provide a photothermographic image-forming material which can be used to obtain high antistatic performance and at the same time does not adversely affect fog, sensitivity and storage stability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。
The above object of the present invention has been attained by the following constitutions.

【0008】1.ジグリコリックアルキルエステルとジ
アルキル蓚酸エステルから2,5−ジアルキル−3,4
−ジヒドロキシフランカルボン酸エステルを製造し、次
いで3,4−アルキレンジオキシ−2,5−ジアルキル
カルボキシフランを製造し、最後にアルカリ存在下で加
水分解と脱炭酸することを特徴とする3,4−アルキレ
ンジオキシフランの製造方法。
[0008] 1. 2,5-dialkyl-3,4 from diglycolic alkyl ester and dialkyl oxalate
3,4-alkylenedioxy-2,5-dialkylcarboxyfuran, followed by hydrolysis and decarboxylation in the presence of an alkali. -A method for producing an alkylenedioxyfuran.

【0009】2.アルカリ存在下で加水分解と脱炭酸を
同時並行して反応させることを特徴とする前記1に記載
の3,4−アルキレンジオキシフランの製造方法。
[0009] 2. 2. The method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran as described in 1 above, wherein hydrolysis and decarboxylation are simultaneously performed in the presence of an alkali.

【0010】3.加水分解と脱炭酸させるアルカリがア
ルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩であることを特
徴とする前記1に記載の3,4−アルキレンジオキシフ
ランの製造方法。
[0010] 3. 2. The method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran as described in 1 above, wherein the alkali to be hydrolyzed and decarboxylated is an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt.

【0011】4.加水分解と脱炭酸させるアルカリがア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩およびアルカリ土類
金属酸化物から選ばれる少なくとも1種であり、且つ1
00℃〜250℃に加熱して製造することを特徴とする
前記1〜3のいずれか1項に記載の3,4−アルキレン
ジオキシフランの製造方法。
4. The alkali to be hydrolyzed and decarboxylated is at least one selected from alkali metal salts, alkaline earth metal salts and alkaline earth metal oxides;
The method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran as described in any one of the above items 1 to 3, wherein the method is produced by heating to 00 to 250 ° C.

【0012】5.加水分解と脱炭酸させる際、アルカリ
とモノまたはポリアルキレングリコールの存在下100
℃〜250℃に加熱して製造することを特徴とする前記
1〜4のいずれか1項に記載の3,4−アルキレンジオ
キシフランの製造方法。
5. In the hydrolysis and decarboxylation, 100 in the presence of an alkali and a mono- or polyalkylene glycol
The method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran according to any one of the above items 1 to 4, wherein the method is produced by heating the mixture to a temperature of from 250C to 250C.

【0013】6.前記1〜5のいずれか1項に記載の
3,4−アルキレンジオキシフランを、ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ポリアセタール化合物、ポリアクリ
レート誘導体およびポリエステル誘導体から選ばれる少
なくとも1種の化合物の存在下で重合することを特徴と
するポリ(3,4−アルキレンジオキシフラン)の製造
方法。
6. The 3,4-alkylenedioxyfuran according to any one of the above 1 to 5, is polymerized in the presence of at least one compound selected from gelatin, polyvinyl alcohol, a polyacetal compound, a polyacrylate derivative, and a polyester derivative. A process for producing poly (3,4-alkylenedioxyfuran), characterized in that:

【0014】7.前記1〜5のいずれか1項に記載の
3,4−アルキレンジオキシフランをポリスチレンスル
ホン酸または該誘導体の存在下で重合することを特徴と
するポリ(3,4−アルキレンジオキシフラン)の製造
方法。
7. 6. Poly (3,4-alkylenedioxyfuran), which is obtained by polymerizing 3,4-alkylenedioxyfuran according to any one of 1 to 5 in the presence of polystyrenesulfonic acid or a derivative thereof. Production method.

【0015】8.支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩、
還元剤および結合剤を含有する感光層を有し、かつ前記
6又は7に記載のポリ(3,4−アルキレンジオキシフ
ラン)化合物を含有することを特徴とする光熱写真画像
形成材料。
[8] Silver halide, organic silver salt,
A photothermographic image forming material having a photosensitive layer containing a reducing agent and a binder, and containing the poly (3,4-alkylenedioxyfuran) compound described in 6 or 7 above.

【0016】本発明を更に詳しく説明する。本発明は、
導電性高分子を得る方法およびその導電性高分子を使用
した光熱写真画像形成材料に関する。本発明の導電性高
分子を得るには3,4−アルキレンジオキシフランを製
造し、これを重合してポリ(3,4−アルキレンジオキ
シフラン)を製造する。3,4−アルキレンジオキシフ
ランの製造方法は、第1ステップとしてジグリコリック
酸のアルキルエステルを蓚酸のアルキルエステルと反応
させることによってフラン環の2および5位にカルボキ
シアルキルエステルを有し、3および5位に水酸基を有
する2,5−ジカルボキシアルキル−3,4−ジヒドロ
キシフランを合成する。フラン環の形成は、メタノール
やエタノールのようなアルコール溶媒中に金属ナトリウ
ムを加えてアルコレート化した溶液でジグリコリックア
ルキルエステルと蓚酸ジアルキルエステルと反応させ
る。温度はアルコール溶媒の還流する温度範囲で60℃
〜100℃が好ましい。アルコール溶液の還流時間は1
時間から8時間が好ましい。ジグリコリックアルキルエ
ステルおよび蓚酸のアルキルエステルのアルキル基は、
炭素数1〜6が好ましいが、特に両者ともメチル基およ
びエチル基が最も好ましい。
The present invention will be described in more detail. The present invention
The present invention relates to a method for obtaining a conductive polymer and a photothermographic image forming material using the conductive polymer. In order to obtain the conductive polymer of the present invention, 3,4-alkylenedioxyfuran is produced, and this is polymerized to produce poly (3,4-alkylenedioxyfuran). The process for producing 3,4-alkylenedioxyfuran comprises, as a first step, reacting an alkyl ester of diglycolic acid with an alkyl ester of oxalic acid to provide a carboxyalkyl ester at the 2- and 5-positions of the furan ring. A 2,5-dicarboxyalkyl-3,4-dihydroxyfuran having a hydroxyl group at the 2-position is synthesized. The furan ring is formed by reacting the diglycolic alkyl ester with the oxalic acid dialkyl ester in a solution obtained by adding metal sodium to an alcohol solvent such as methanol or ethanol and alcoholating it. The temperature is 60 ° C in the temperature range where the alcohol solvent reflux
-100 ° C is preferred. The reflux time of the alcohol solution is 1
Time to 8 hours are preferred. The alkyl group of the diglycolic alkyl ester and the alkyl ester of oxalic acid is
Although carbon numbers of 1 to 6 are preferred, both are particularly preferably methyl and ethyl groups.

【0017】第2ステップとして、2,5−ジカルボキ
シアルキルエステル−3,4−ジヒドロキシフランに
1,2−ジクロロアルカンをアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩またはアミン類の存在下に導入する。好まし
いジクロロアルカンとしてジクロロメタン、1,2−ジ
クロロエタン、1,3−ジクロロプロパンを挙げること
ができる。副生成する塩酸はアミン類の塩酸塩として除
去するのが好ましい。アミンとしては、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、2,6−ジメチルピ
リジン、2,5−ジメチルピコリン、2,5−ジエチル
ピコリン等を挙げることができる。溶媒としては、アセ
トン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケト
ン等のケトン類、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の有機溶媒を使用することができる。
反応温度は、上記溶媒の還流温度範囲である60℃〜1
00℃が好ましい。反応時間は1時間〜8時間が好まし
く、反応温度により増減することができる。
In the second step, 1,2-dichloroalkane is introduced into 2,5-dicarboxyalkyl ester-3,4-dihydroxyfuran in the presence of an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt or an amine. Preferred dichloroalkanes include dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and 1,3-dichloropropane. Hydrochloric acid by-produced is preferably removed as a hydrochloride of amines. Examples of the amine include triethylamine, tributylamine, pyridine, 2,6-dimethylpyridine, 2,5-dimethylpicoline, and 2,5-diethylpicoline. As the solvent, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone, and organic solvents such as acetonitrile, tetrahydrofuran and dioxane can be used.
The reaction temperature is 60 ° C. to 1 which is the reflux temperature range of the above solvent.
00 ° C is preferred. The reaction time is preferably 1 hour to 8 hours, and can be increased or decreased depending on the reaction temperature.

【0018】第3ステップとして2,5−ジカルボキシ
アルキルエステル−3,4−アルキレンジオキシフラン
の加水分解またはアルコリシスと脱炭酸をアルカリ性溶
媒中で同時並行または逐次的に行う。アルコリシスは、
メタノール、エタノール、プロパノールおよびブタノー
ル等の炭素数1〜4のアルコール類が好ましい。脱炭酸
はモノエタノールアミン、ジエタノールアミンおよびト
リエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコールおよびトリエチレ
ングリコール等のグリコール類等が好ましい。グリコー
ル類使用の場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカ
リ金属塩またはアルカリ土類金属塩を添加することが好
ましい。
As a third step, hydrolysis or alcoholysis of 2,5-dicarboxyalkylester-3,4-alkylenedioxyfuran and decarboxylation are carried out simultaneously or sequentially in an alkaline solvent. Alcolysis is
Alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol and butanol are preferred. For decarboxylation, alkanolamines such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and triethylene glycol are preferable. When glycols are used, it is preferable to add an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, and magnesium hydroxide.

【0019】得られた化合物の精製は、水または有機溶
媒に溶解して再結晶化する方法、水相と油相に分離する
抽出法、蒸留等の方法を使用できる。
The obtained compound can be purified by a method of dissolving it in water or an organic solvent for recrystallization, an extraction method of separating into an aqueous phase and an oil phase, a distillation method and the like.

【0020】第1ステップから第3ステップまでの反応
スキームを下記に示す。
The reaction scheme from the first step to the third step is shown below.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】式中、R1及びR2は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表し、R3は炭素数1〜5のアルキレン基を表
す。特に好ましい炭素数は、R1およびR2の炭素数が1
および2であり、R3が2である。Xは塩素、臭素およ
び沃素等のハロゲン原子を表すが、特に塩素原子が好ま
しい。
In the formula, R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 3 represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. Particularly preferred carbon numbers are those in which R 1 and R 2 have 1 carbon atom.
And 2 and R 3 is 2. X represents a halogen atom such as chlorine, bromine and iodine, and a chlorine atom is particularly preferable.

【0023】3,4−アルキレンジオキシフランの重合
は、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナト
リウム、アゾビスイソブチロニトリル等を使用する通常
のラジカル重合または硫酸第1鉄、過酸化水素、硫酸セ
リウム等を使用するレドックス重合を採用することがで
きる。重合に際しては、陰イオンとして低分子のパーク
ロレートイオン、ハロゲンイオンおよび4フッ化硼素イ
オン等、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸およ
びポリアクリルアミドプロパンスルホン酸等のポリ陰イ
オンの存在下で重合することが好ましい。また、重合に
際して分散剤としてゼラチン、ポリアクリル酸、ポリス
チレンスルホン酸、ポリアクリルアミドプロパンスルホ
ン酸、ポリビニルアルコール、スチレン−マレイン酸共
重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−エチルアクリ
レート−アクリル酸、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール等を挙げることができる。重合温度は、3
5℃〜100℃の範囲が好ましい。重合されたポリ
(3,4−アルキレンジオキシフラン)は以下の光熱写
真画像形成材料に使用することができる。
The polymerization of 3,4-alkylenedioxyfuran is carried out by ordinary radical polymerization using ammonium persulfate, potassium persulfate, sodium persulfate, azobisisobutyronitrile or the like, or by ferrous sulfate, hydrogen peroxide, Redox polymerization using cerium sulfate or the like can be employed. In the polymerization, polymerization may be performed in the presence of polyanions such as polystyrenesulfonic acid, polyacrylic acid and polyacrylamidepropanesulfonic acid, such as low molecular perchlorate ions, halogen ions and boron tetrafluoride ions as anions. preferable. Gelatin, polyacrylic acid, polystyrene sulfonic acid, polyacrylamide propane sulfonic acid, polyvinyl alcohol, styrene-maleic acid copolymer, styrene-methyl methacrylate-ethyl acrylate-acrylic acid, polyvinyl butyral, polyvinyl Formal and the like can be mentioned. The polymerization temperature is 3
A range from 5C to 100C is preferred. The polymerized poly (3,4-alkylenedioxyfuran) can be used in the following photothermographic image forming materials.

【0024】本発明の光熱写真画像形成材料は、感光性
ハロゲン化銀の他に還元剤と有機銀塩が必須成分として
含まれ、画像形成反応が、加熱による溶解物理現像をそ
の原理としているため、導電性の酸化錫や酸化インジウ
ム等の無機微粒子を用いたものでは、これらが物理現像
核として作用するためにハロゲン化銀によらないカブ
リ、感度低下、色調の劣化等の原因となる為と考えられ
る。本発明においては、光熱写真画像形成材料の帯電防
止性能(静電気防止効果)を高めるために、ポリ(3,
4−アルキレンジオキシフラン)化合物からなる導電性
高分子化合物を用いることで、帯電防止性能が改良され
る。
The photothermographic image forming material of the present invention contains a reducing agent and an organic silver salt as essential components in addition to the photosensitive silver halide, and the image forming reaction is based on the principle of dissolution physical development by heating. In the case of using inorganic fine particles such as conductive tin oxide and indium oxide, since these act as physical development nuclei, they cause fog not depending on silver halide, lower sensitivity, deterioration of color tone, and the like. Conceivable. In the present invention, in order to enhance the antistatic performance (antistatic effect) of the photothermographic image forming material, poly (3,3) is used.
By using a conductive polymer compound composed of a (4-alkylenedioxyfuran) compound, the antistatic performance is improved.

【0025】本発明のポリ(3,4−アルキレンジオキ
シフラン)化合物からなる導電性高分子化合物を含有す
る層はどの層であってもよい。通常、光熱写真画像形成
材料は、支持体の一方の面に少なくとも感光層と保護層
が設けられ、支持体の該感光層を有する側と反対側にB
C層或いは更にはBC層の保護層が設けられるという構
成をとっている。感光層中には増感されてもよい感光性
ハロゲン化銀粒子、銀源となる有機銀塩、銀塩を現像し
て銀画像を形成するための還元剤が含有される。本発明
で使用するポリフラン化合物は、上記層中のどの層中に
添加されてもよく、これらの層中に添加する場合は、特
に保護層中に添加することが好ましい。又、これらの導
電性高分子化合物は、これらの層とは別に、感光層に隣
接する中間層、下塗り層等に添加してもよいし、更に中
間層を介した層中に添加することも出来る。又、バッキ
ング層中に添加したり、或いはバッキング保護層等、光
熱写真画像形成材料のバッック面の帯電防止性能を高め
ることも出来る。
The layer containing the conductive polymer compound comprising the poly (3,4-alkylenedioxyfuran) compound of the present invention may be any layer. Usually, a photothermographic image forming material is provided with at least a photosensitive layer and a protective layer on one surface of a support, and B on the side of the support opposite to the side having the photosensitive layer.
The configuration is such that a protective layer of a C layer or further a BC layer is provided. The photosensitive layer contains photosensitive silver halide grains which may be sensitized, an organic silver salt serving as a silver source, and a reducing agent for developing a silver salt to form a silver image. The polyfuran compound used in the present invention may be added to any of the above layers, and when it is added to these layers, it is particularly preferable to add it to the protective layer. In addition, these conductive polymer compounds may be added to an intermediate layer adjacent to the photosensitive layer, an undercoat layer, or the like, separately from these layers, or may be added to a layer via an intermediate layer. I can do it. Further, it can be added to the backing layer, or the antistatic performance of the back surface of the photothermographic image forming material can be enhanced by a backing protective layer or the like.

【0026】上記ポリ(3,4−アルキレンジオキシフ
ラン)化合物の添加量は、光熱写真画像形成材料の単位
面積当たり(平米当たり)、1マイクログラム〜10グ
ラムの範囲で使用するのが好ましい。添加方法は、水、
アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソブ
チルアルコール等)、ケトン類(例えば、アセトン、メ
チルエチルケトン、イソブチルケトン等)、芳香族有機
溶媒(例えば、トルエン、キシレン等)に溶解または微
粒子分散して添加する等の方法を挙げることができる。
微粒子分散するときの平均粒子径は1nm〜300nm
の大きさが好ましい。
The amount of the poly (3,4-alkylenedioxyfuran) compound to be added is preferably in the range of 1 microgram to 10 grams per unit area (per square meter) of the photothermographic image forming material. The addition method is water,
Dissolving or dispersing in fine particles in an alcohol (eg, methanol, ethanol, isobutyl alcohol, etc.), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl ketone, etc.), or an aromatic organic solvent (eg, toluene, xylene, etc.) Methods can be mentioned.
The average particle diameter when the fine particles are dispersed is 1 nm to 300 nm.
Is preferred.

【0027】本発明においては、これらのポリフラン化
合物を光熱写真画像形成材料中に、帯電防止剤として用
いることで(好ましいのは保護層中または下塗り中であ
るが)、光熱写真画像形成材料に用いられる以下の添加
剤の効果を損なうことなく、効果的にこれらの効果と帯
電防止効果(静電気防止効果)を両立させる(即ち効果
的にこれらの添加剤の効果を発揮させるようにする)こ
とが出来る。
In the present invention, these polyfuran compounds are used as an antistatic agent in a photothermographic image forming material (preferably in a protective layer or undercoating), so that they are used in the photothermographic image forming material. Without compromising the effects of the following additives, it is possible to effectively combine these effects with the antistatic effect (antistatic effect) (that is, to exert the effects of these additives effectively). I can do it.

【0028】(感光性ハロゲン化銀粒子)本発明の光熱
写真画像形成材料の感光層中に含有される感光性ハロゲ
ン化銀は、シングルジェット若しくはダブルジェット法
などの写真技術の分野で公知の任意の方法を用い、例え
ばアンモニア法、中性法、酸性法等のいずれかの方法で
予め調製される。感光性ハロゲン化銀は、画像形成後の
白濁を低く抑えるために、また良好な画質を得るために
粒子サイズが小さいものが好ましい。平均粒子サイズで
0.1μm以下、好ましくは0.01〜0.1μm、特
に0.02〜0.08μmが好ましい。又、ハロゲン化
銀の形状としては特に制限はなく、立方体、八面体の所
謂正常晶や正常晶でない球状、棒状、平板状等の粒子が
ある。又ハロゲン化銀組成としても特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。
(Photosensitive Silver Halide) The photosensitive silver halide contained in the photosensitive layer of the photothermographic image-forming material of the present invention may be any known one in the field of photographic technology such as a single jet or double jet method. , And is prepared in advance by any method such as an ammonia method, a neutral method, and an acidic method. The photosensitive silver halide preferably has a small grain size in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality. The average particle size is 0.1 μm or less, preferably 0.01 to 0.1 μm, particularly preferably 0.02 to 0.08 μm. The shape of the silver halide is not particularly limited, and may be cubic, octahedral, so-called normal crystals, or non-normal crystals, such as spherical, rod-shaped, or tabular grains. The silver halide composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide.

【0029】上記ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び
後述の有機銀塩の総量に対し50質量%以下、好ましく
は25〜0.1質量%、更に好ましくは15〜0.1質
量%の間である。
The amount of the silver halide is 50% by mass or less, preferably 25 to 0.1% by mass, more preferably 15 to 0.1% by mass, based on the total amount of the silver halide and the organic silver salt described below. It is.

【0030】本発明のハロゲン化銀は又、米国特許第
4,009,039号、同第3,457,075号、同
第4,003,749号、英国特許第1,498,95
6号各明細書及び特開昭53−27027号、同53−
25420号各公報に詳説されたような無機ハロゲン化
合物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N
−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物等のハロ
ゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩の一部をハロゲン化
銀に変換させる事により作製することができる。ハロゲ
ン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時間、反応圧
力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜設定することが
できるが、通常、反応温度は−23℃乃至74℃、その
反応時間は0.1秒乃至72時間であり、その反応圧力
は大気圧に設定されるのが好ましい。
The silver halide of the present invention is also disclosed in US Pat. Nos. 4,009,039, 3,457,075, 4,003,749 and British Patent 1,498,95.
No. 6, each specification and JP-A-53-27027, 53-
No. 25420, inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N
-It can be produced by converting a part of the organic silver salt into silver halide using a silver halide forming component such as a halogen compound or another halogen-containing compound. Various conditions such as a reaction temperature, a reaction time, and a reaction pressure in the step of converting into silver halide can be appropriately set according to the purpose of production, but usually, the reaction temperature is -23 ° C to 74 ° C, and the reaction time is usually It is 0.1 second to 72 hours, and the reaction pressure is preferably set to the atmospheric pressure.

【0031】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
することができる。この化学増感の方法及び手順につい
ては、例えば米国特許第4,036,650号、英国特
許第1,518,850号等の各明細書、特開昭51−
22430号、同51−78319号、同51−811
24号等の各公報に記載されている。
The photosensitive silver halide prepared by the various methods described above includes, for example, a sulfur-containing compound, a gold compound,
Platinum compounds, palladium compounds, silver compounds, tin compounds,
Chemical sensitization can be performed by a chromium compound or a combination thereof. The method and procedure of the chemical sensitization are described in, for example, U.S. Pat. No. 4,036,650, British Patent No. 1,518,850, and the like.
No. 22430, No. 51-78319, No. 51-811
No. 24 and the like.

【0032】本発明に使用するハロゲン化銀は、必要に
より分光増感色素で増感することができ、例えば特開昭
63−159841号、同60−140335号、同6
3−231437号、同63−259651号、同63
−304242号、同63−15245号等の各公報、
米国特許第4,639,414号、同第4,740,4
55号、同第4,741,966号、同第4,751,
175号、同第4,835,096号等の各明細書に記
載された増感色素を使用することができる。特に各種ス
キャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感
色素を有利に選択することができる。例えば特開平9−
34078号、同9−54409号および同9−806
79号記載の化合物が好ましく用いられる。
The silver halide used in the present invention can be sensitized with a spectral sensitizing dye, if necessary. For example, JP-A-63-159814, JP-A-60-140335, JP-A-6-140335
Nos. 3-231437, 63-259651 and 63
-304242, 63-15245, etc.,
U.S. Pat. Nos. 4,639,414 and 4,740,4
No. 55, No. 4,741,966, No. 4,751,
Sensitizing dyes described in each specification such as 175 and 4,835,096 can be used. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, JP-A-9-
Nos. 34078, 9-54409 and 9-806
The compounds described in No. 79 are preferably used.

【0033】(有機銀塩)本発明の光熱写真画像形成材
料に含有される有機銀塩は還元可能な銀源であり、還元
可能な銀イオン源を含有する有機酸、ヘテロ有機酸及び
酸ポリマーの銀塩などが用いられる。また、配位子が、
4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定度定数を有
する有機又は無機の銀塩錯体も有用である。好ましい有
機銀塩に使用する好ましい有機酸として、例えば、没食
子酸、シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸を挙げることができる。有機銀塩は、上
記有機酸のアルカリ金属塩と硝酸銀の混合によって調製
されるが、混合時にコントロールドダブルジェット法で
添加してもよいし、添加のタイミングをずらして添加し
てもよい。銀塩を形成する任意の段階に一度にまたは分
割して数度に亘って添加してもよい。
(Organic Silver Salt) The organic silver salt contained in the photothermographic image forming material of the present invention is a reducible silver source, and an organic acid, heteroorganic acid and acid polymer containing a reducible silver ion source. Silver salts of the like are used. Also, the ligand is
Organic or inorganic silver salt complexes having a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0 are also useful. Preferred organic acids used for the preferred organic silver salts include, for example, gallic acid, oxalic acid, behenic acid, stearic acid, palmitic acid and lauric acid. The organic silver salt is prepared by mixing the alkali metal salt of the organic acid and silver nitrate, and may be added by a controlled double jet method at the time of mixing, or may be added at a different timing. The silver salt may be added all at once or in several stages at any stage to form a silver salt.

【0034】(還元剤)本発明の光熱写真画像形成材料
に含有される好ましい還元剤の例は、米国特許第3,7
70,448号、同3,773,512号、同3,59
3,863号等の各明細書に記載されており、次のもの
が挙げられる。 (K1) 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン (K2) ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフェニル)メタン (K3) 2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチル
フェニル)プロパン (K4) 4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール) (K5) 2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン 前記に示される化合物は、水に分散したり、有機溶媒に
溶解して使用する。有機溶媒は、メタノールやエタノー
ル等のアルコール類やアセトンやメチルエチルケトン等
のケトン類、トルエンやキシレン等の芳香族系を任意に
選択することができる。還元剤の使用量は、銀1モル当
り1×10-3〜10モル、好ましくは1×10-2〜1.
5モルである。
(Reducing Agent) Examples of preferred reducing agents contained in the photothermographic image-forming material of the present invention are described in US Pat.
70,448, 3,773,512, 3,59
No. 3,863 and the like, and the following are mentioned. (K1) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (K2) bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5)
-Methylphenyl) methane (K3) 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane (K4) 4,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol) (K5) 2 , 2-Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane The compound shown above is used by dispersing in water or dissolving in an organic solvent. As the organic solvent, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and aromatic solvents such as toluene and xylene can be arbitrarily selected. The amount of the reducing agent to be used is 1 × 10 −3 to 10 mol, preferably 1 × 10 −2 to 1 mol per mol of silver.
5 moles.

【0035】(結合剤)本発明の光熱写真画像形成材料
の感光層又は非感光層に用いられる高分子結合剤として
は、ポリビニルブチラール、ポリアクリルアミド、ポリ
スチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン、ポリアクリ
ル酸エステル、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、スチレン−ブタジエン−アクリル共重合
体などが挙げられる。更に乾燥後、膜を形成したのち、
その塗膜の平衡含水率の低いものが好ましく、特に含水
率の低いものとして、例えば、有機溶媒系のセルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレートおよびポ
リアセタールを挙げることができる。本発明に好ましい
ポリアセタールに、ブチルアルデヒドでアセタール化を
したポリブチラール、アセトアルデヒドでアセタール化
したポリアセタール(狭義でのポリアセタール)があ
る。アセタール化度は、1%〜100%まで理論的には
存在するが、実用的には20%〜95%が好ましい。ア
セタール化度が低いと水酸基が多くなり、写真性能にお
いて湿度に弱い特性を示し、アセタール化度が高いと反
応温度や時間が過酷になり、コストや生産性が低下す
る。ポリマーの重合度は、10程度から1万程度まで自
由に選択することができるが、100〜6,000が塗
布性や合成するときの生産性から好ましい。
(Binder) As the polymer binder used in the photosensitive layer or the non-photosensitive layer of the photothermographic image forming material of the present invention, polyvinyl butyral, polyacrylamide, polystyrene, polyvinyl acetate, polyurethane, polyacrylic ester Styrene-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene-acryl copolymer, and the like. After drying and forming a film,
Those having a low equilibrium water content of the coating film are preferred, and examples of those having a particularly low water content include, for example, organic solvent-based cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and polyacetal. Preferred polyacetals for the present invention include polybutyral acetalized with butyraldehyde and polyacetal acetalized with acetaldehyde (polyacetal in a narrow sense). The degree of acetalization theoretically exists from 1% to 100%, but practically preferably from 20% to 95%. If the degree of acetalization is low, the number of hydroxyl groups is increased, and the photographic performance is weak against humidity. If the degree of acetalization is high, the reaction temperature and time are severe, and the cost and productivity are reduced. The degree of polymerization of the polymer can be freely selected from about 10 to about 10,000, but 100 to 6,000 is preferable from the viewpoint of applicability and productivity in synthesis.

【0036】(架橋剤)結合剤は、単独で造膜すること
により、下層や上層との接着を保持し、傷の付きにくい
膜強度を得ることができるが、架橋剤を使用することに
より更に膜接着や膜強度を高めることができる。しか
し、架橋反応が遅いと、写真性能が安定せず保存性が劣
化する。本発明に使用する即効性で、好ましい架橋剤と
してイソシアナート基を少なくとも2個有する多官能型
架橋剤を挙げることができる。好ましい架橋剤を下記に
示す。 (H1) ヘキサメチレンジイソシアナート (H2) ヘキサメチレンジイソシアナートの3量体 (H3) トリレンジイソシアナート (H4) フェニレンジイソシアナート (H5) キシリレンジイソシアナート (H6) 1,3−ビス(イソシアナートメチル)シク
ロヘキサン (H7) テトラメチレンキシリレンジイソシアナート (H8) m−イソプロペニル−α,α−ジメチルベン
ジルイソシアナート
(Crosslinking agent) The binder alone can maintain the adhesion to the lower layer and the upper layer and can provide a film strength that is hardly damaged by forming a film alone. Film adhesion and film strength can be increased. However, when the crosslinking reaction is slow, the photographic performance is not stable and the storage stability is deteriorated. As a quick-acting and preferred crosslinking agent used in the present invention, a polyfunctional crosslinking agent having at least two isocyanate groups can be exemplified. Preferred crosslinking agents are shown below. (H1) hexamethylene diisocyanate (H2) trimer of hexamethylene diisocyanate (H3) tolylene diisocyanate (H4) phenylene isocyanate (H5) xylylene diisocyanate (H6) 1,3-bis ( Isocyanatomethyl) cyclohexane (H7) tetramethylene xylylene diisocyanate (H8) m-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate

【0037】[0037]

【化2】 Embedded image

【0038】上記架橋剤は、水、アルコール類、ケトン
類、非極性の有機溶媒類に溶解して添加しても良いし、
塗布液中に固形のまま添加してもよい。添加量は、結合
剤の架橋する基と当量が好ましいが10倍まで増量して
も良いし、10分の1以下まで減量してもよい。少なす
ぎると架橋反応が進まないし、多すぎると未反応の架橋
剤が写真性を劣化させるので好ましくない。
The crosslinking agent may be added by dissolving in water, alcohols, ketones, non-polar organic solvents,
It may be added as a solid to the coating solution. The amount of addition is preferably equivalent to the crosslinking group of the binder, but may be increased up to 10 times or reduced to 1/10 or less. If the amount is too small, the crosslinking reaction does not proceed. If the amount is too large, the unreacted crosslinking agent deteriorates photographic properties, which is not preferable.

【0039】(必要によってAH層又はBC層に使用さ
れる染料)本発明の光熱写真画像形成材料には、必要に
より該光熱写真画像形成材料のハレーション防止用のA
H層又はBC層が設けられる。該AH層又はBC層に用
いられる染料としては画像露光にもちいる光を吸収する
染料であればよく、好ましい例として特開平2−216
140号、同7−13295号、同7−11432号、
米国特許第5,380,635号明細書等に記載される
染料を挙げることができる。
(Dye optionally used in AH layer or BC layer) The photothermographic image-forming material of the present invention may optionally contain A for preventing halation of the photothermographic image-forming material.
An H layer or a BC layer is provided. The dye used in the AH layer or the BC layer may be any dye that absorbs light used for image exposure.
No. 140, No. 7-13295, No. 7-11432,
Dyes described in U.S. Pat. No. 5,380,635 can be exemplified.

【0040】(支持体)支持体としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレートまたはシン
ジオタクチックポリスチレン等の支持体が好ましく、2
軸延伸や熱固定した、光学的に等方性が高く、寸法安定
性のよい50μm〜400μm厚のものがよい。
(Support) The support is preferably a support such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate or syndiotactic polystyrene.
A film having a thickness of 50 μm to 400 μm, which is axially stretched and heat-fixed, has high optical isotropy, and has good dimensional stability is preferred.

【0041】(画像露光)露光方法としては、特開平9
−304869号、同9−311403号および特開2
000−10230号各明細書に記載された方法により
レーザー露光することができる。本発明の光熱写真画像
形成材料の露光は、当該画像形成材料に付与した感色性
に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば、当
該画像形成材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、
赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レ
ーザーパワーがハイパワーである事や、画像形成材料を
透明にできる等の点から、赤外半導体レーザー(780
nm、820nm)がより好ましく用いられる。
(Image Exposure) As an exposure method, see
JP-A-304869, JP-A-9-311403 and JP-A-2
000-10230 can be used for laser exposure. In the exposure of the photothermographic image forming material of the present invention, it is desirable to use a light source appropriate for the color sensitivity imparted to the image forming material. For example, when the image forming material is made to be able to feel infrared light,
Although it can be applied to any light source in the infrared light range, an infrared semiconductor laser (780) can be used because the laser power is high and the image forming material can be made transparent.
nm, 820 nm) are more preferably used.

【0042】(熱現像装置)光熱写真画像形成材料を現
像する装置は、特開平11−65067号、同11−7
2897号および同11−84619号各明細書に記載
された装置を使用することができる。
(Thermal Developing Apparatus) An apparatus for developing a photothermographic image forming material is disclosed in JP-A-11-65067 and JP-A-11-7.
The apparatus described in each of Nos. 2897 and 11-84619 can be used.

【0043】[0043]

【実施例】実施例1 (2,5−ジカルボキシメチル−3,4−ジヒドロキシ
フランの合成)ナトリウム49.5g(2.21モル)
とメタノール351mlからナトリウムメトキシド溶液
を調製し、この溶液中にジグリコリックジエチルエステ
ル190.2g(1モル)と蓚酸ジエチルエステル14
6.1g(1モル)を添加し、5時間還流した後、氷酢
酸でpH5に調整し、氷水1.75L中に注入した。得
られた析出反応物を濾取した後、純水で洗浄し、純水で
再結晶精製した。収量125g(収率58%)。得られ
た化合物の物性値は以下の通り。
EXAMPLE 1 (Synthesis of 2,5-dicarboxymethyl-3,4-dihydroxyfuran) Sodium 49.5 g (2.21 mol)
And 351 ml of methanol to prepare a sodium methoxide solution. In this solution, 190.2 g (1 mol) of diglycolic diethyl ester and diethyl oxalate 14 were added.
After adding 6.1 g (1 mol) and refluxing for 5 hours, the mixture was adjusted to pH 5 with glacial acetic acid and poured into 1.75 L of ice water. The obtained precipitate was collected by filtration, washed with pure water, and purified by recrystallization with pure water. Yield 125 g (58% yield). The physical properties of the obtained compound are as follows.

【0044】質量スペクトルの測定はマルディ−(MA
LDI)法、測定装置は米国ピー・エイチ・アイ社(P
HI社)製トリフ−2型(TRIFT−II)、励起光源
は窒素レーザー、マトリクスは2,5−ジヒドロキシ安
息香酸、溶媒はメチルエチルケトンを採用した。ピーク
値216(分子量216.145)を確認した。元素分
析は燃焼法を採用して定量した。理論分析値C=44.
46%、H=3.73%、O=51.81%、測定値
は、C=44.52%、H=3.70%、O=51.7
9%であった。フーリエ変換赤外分光分析法(島津製作
所製FTIR−8300)でOH基の伸縮振動吸収32
00cm-1、C=Oの伸縮振動1720cm-1、核磁気
共鳴装置(日立製作所R−1100)を用い、プロトン
NMR(60MHz、CDCl3)でカルボキシメチル
の水素化学シフト値δ=3.82、水酸基の水素化学シ
フトδ=6.60であった。
The measurement of the mass spectrum was carried out by using Mardi (MA).
The LDI method and the measuring device were used by PHI
HI) Trif-2 (TRIFT-II), a nitrogen laser as an excitation light source, 2,5-dihydroxybenzoic acid as a matrix, and methyl ethyl ketone as a solvent. The peak value 216 (molecular weight 216.145) was confirmed. Elemental analysis was quantified using the combustion method. Theoretical analysis value C = 44.
46%, H = 3.73%, O = 51.81%, measured values are C = 44.52%, H = 3.70%, O = 51.7.
9%. OH-based stretching vibration absorption 32 by Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR-8300 manufactured by Shimadzu Corporation)
00cm -1, C = O stretching vibration 1720 cm -1, using a nuclear magnetic resonance apparatus (Hitachi R-1100), proton NMR (60MHz, CDCl 3) on carboxymethyl hydrogen chemical shift [delta] = 3.82, Hydrogen chemical shift δ of the hydroxyl group was 6.60.

【0045】(3,4−メチレンジオキシ−2,5−ジ
カルボキシメチルフランの合成)アセトン4L中に3,
4−ジヒドロキシ−2,5−ジカルボキシメチルフラン
21.6g(0.1モル)を溶解し、トリエチルアミン
20.2g(0.2モル)とジクロロメタン16.99
g(0.2モル)を添加し、3.5時間還流した。反応
溶液を純水中に投入し後、酢酸エチルで抽出し蒸留で精
製した。収量9.1g(収率42%)。得られた化合物
の物性値は以下の通り。
(Synthesis of 3,4-methylenedioxy-2,5-dicarboxymethylfuran)
Dissolve 21.6 g (0.1 mol) of 4-dihydroxy-2,5-dicarboxymethylfuran, 20.2 g (0.2 mol) of triethylamine and 16.99 of dichloromethane.
g (0.2 mol) was added and refluxed for 3.5 hours. The reaction solution was poured into pure water, extracted with ethyl acetate, and purified by distillation. Yield 9.1 g (42% yield). The physical properties of the obtained compound are as follows.

【0046】質量分析計のピーク値228(分子量22
8.156)を確認した。元素分析は燃焼法を採用して
定量した。理論分析値C=47.38%、H=3.53
%、O=49.09%、測定値は、C=47.40%、
H=3.53%、O=50.91%であった。フーリエ
変換赤外分光分析法(島津製作所製FTIR−830
0)でC=Oの伸縮振動1710cm-1、核磁気共鳴装
置を用い、プロトンNMR(60MHz、CDCl3
でカルボキシメチルの水素化学シフト値δ=3.85,
メチレンジオキシ基の水素化学シフトδ=4.30であ
った。
The peak value 228 of the mass spectrometer (molecular weight 22
8.156) was confirmed. Elemental analysis was quantified using the combustion method. Theoretical analysis value C = 47.38%, H = 3.53
%, O = 49.09%, measured value was C = 47.40%,
H = 3.53% and O = 50.91%. Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR-830 manufactured by Shimadzu Corporation)
0), C = O stretching vibration of 1710 cm -1 , using a nuclear magnetic resonance apparatus, proton NMR (60 MHz, CDCl 3 )
The hydrogen chemical shift value of carboxymethyl δ = 3.85,
The hydrogen chemical shift δ of the methylenedioxy group was 4.30.

【0047】(3,4−エチレンジオキシ−2,5−ジ
カルボキシメチルフランの合成)アセトン4L中に3,
4−ジヒドロキシ−2,5−ジカルボキシメチルフラン
21.6g(0.1モル)を溶解し、トリエチルアミン
20.2g(0.2モル)と1,2−ジクロロタン1
9.8g(0.2モル)を添加し、3.5時間還流し
た。反応溶液を純水中に投入した後、酢酸エチルで抽出
し蒸留で精製した。収量9.1g(収率42%)。得ら
れた化合物の物性値は以下の通り。
(Synthesis of 3,4-ethylenedioxy-2,5-dicarboxymethylfuran)
21.6 g (0.1 mol) of 4-dihydroxy-2,5-dicarboxymethylfuran was dissolved, and 20.2 g (0.2 mol) of triethylamine and 1,2-dichlorotan 1
9.8 g (0.2 mol) was added and refluxed for 3.5 hours. The reaction solution was poured into pure water, extracted with ethyl acetate, and purified by distillation. Yield 9.1 g (42% yield). The physical properties of the obtained compound are as follows.

【0048】質量分析計のピーク値242(分子量24
2.183)を確認した。元素分析は燃焼法を採用して
定量した。理論分析値C=49.59%、H=4.16
%、O=46.24%、測定値は、C=49.40%、
H=4.13%、O=46.25%であった。フーリエ
変換赤外分光分析法(島津製作所製FTIR−830
0)でC=Oの伸縮振動1710cm-1、核磁気共鳴装
置を用い、プロトンNMR(60MHz、CDCl3
でカルボキシメチルの水素化学シフト値δ=3.85,
エチレンジオキシ基の水素化学シフトδ=4.10であ
った。
The peak value 242 of the mass spectrometer (molecular weight 24
2.183) was confirmed. Elemental analysis was quantified using the combustion method. Theoretical analysis value C = 49.59%, H = 4.16
%, O = 46.24%, measured value C = 49.40%,
H = 4.13% and O = 46.25%. Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR-830 manufactured by Shimadzu Corporation)
0), C = O stretching vibration of 1710 cm -1 , using a nuclear magnetic resonance apparatus, proton NMR (60 MHz, CDCl 3 )
The hydrogen chemical shift value of carboxymethyl δ = 3.85,
The hydrogen chemical shift δ of the ethylenedioxy group was 4.10.

【0049】(3,4−メチレンジオキシフランの合成
(略号MDF1))2,5−ジカルボキシメチル−3.
4−メチレンジオキシフラン(0.03モル)をモノエ
タノールアミン(0.6モル)中に添加し、窒素雰囲気
化72℃3時間保持した後、溶液温度を170℃に昇温
し、5時間保持した。この溶液を氷水に投入し、1,2
−ジクロロエタンで抽出した。収量(0.018モ
ル)、収率60%であった。得られた化合物の物性値は
以下の通り。
(Synthesis of 3,4-methylenedioxyfuran (abbreviation MDF1)) 2,5-dicarboxymethyl-3.
4-Methylenedioxyfuran (0.03 mol) was added to monoethanolamine (0.6 mol), and after keeping the atmosphere of nitrogen at 72 ° C for 3 hours, the solution temperature was raised to 170 ° C and 5 hours. Held. This solution was poured into ice water,
-Extracted with dichloroethane. The yield (0.018 mol) was 60%. The physical properties of the obtained compound are as follows.

【0050】質量分析計のピーク値112(分子量11
2.084)を確認した。元素分析は燃焼法を採用して
定量した。理論分析値C=53.58%、H=3.60
%、O=42.82%、測定値は、C=53.60%、
H=3.58%、O=42.82%であった。フーリエ
変換赤外分光分析法(島津製作所製FTIR−830
0)でC=Cの伸縮振動1587cm-1、核磁気共鳴装
置を用い、メチレンジオキシ基の水素化学シフトδ=
4.3であった。
The peak value 112 of the mass spectrometer (molecular weight 11
2.084). Elemental analysis was quantified using the combustion method. Theoretical analysis value C = 53.58%, H = 3.60
%, O = 42.82%, measured value C = 53.60%,
H = 3.58% and O = 42.82%. Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR-830 manufactured by Shimadzu Corporation)
0), C = C stretching vibration of 1587 cm −1 , using a nuclear magnetic resonance apparatus, hydrogen chemical shift δ of methylenedioxy group =
4.3.

【0051】(3,4−エチレンジオキシフランの合成
(略号EDF1))上記2,5−ジカルボキシメチル−
3,4−メチレンジオキシフランの合成と同様に2,5
−ジカルボキシメチル−3,4−エチレンジオキシフラ
ンをアルコリシスし、脱炭酸して合成した。得られた化
合物の物性値は以下の通り。
(Synthesis of 3,4-ethylenedioxyfuran (abbreviation: EDF1))
As in the synthesis of 3,4-methylenedioxyfuran,
-Dicarboxymethyl-3,4-ethylenedioxyfuran was synthesized by alcoholysis and decarboxylation. The physical properties of the obtained compound are as follows.

【0052】質量分析計のピーク値126(分子量12
6.111)を確認した。元素分析は燃焼法を採用して
定量した。理論分析値C=57.14%、H=4.80
%、O=38.06%、測定値は、C=57.18%、
H=4.80%、O=38.02%であった。フーリエ
変換赤外分光分析法(島津製作所製FTIR−830
0)でC=Cの伸縮振動1587cm-1、核磁気共鳴装
置を用い、エチレンジオキシ基の水素化学シフトδ=
4.12であった。
The mass spectrometer peak value 126 (molecular weight 12
6.111) was confirmed. Elemental analysis was quantified using the combustion method. Theoretical analysis value C = 57.14%, H = 4.80
%, O = 38.06%, measured value was C = 57.18%,
H = 4.80% and O = 38.02%. Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR-830 manufactured by Shimadzu Corporation)
0), C = C stretching vibration of 1587 cm −1 , using a nuclear magnetic resonance apparatus, hydrogen chemical shift of ethylenedioxy group δ =
It was 4.12.

【0053】実施例2 実施例1のMDF1およびEDF1の合成において、モ
ノエタノールアミンの代わりにジエタノールアミン、ト
リエタノールアミンと等モル代替して合成した(ジエタ
ノールアミンから合成したものはそれぞれMDF2およ
びEDF2、トリエタノールアミンから合成したものは
MDF3およびEDF3と略す)。得られた化合物の赤
外分光分析値のC=C値、質量分析計のピーク値、核磁
共鳴のメチレンジオキシ基およびエチレンジオキシ基の
プロトン化学シフトは実施例1と同一値であった。
Example 2 In the synthesis of MDF1 and EDF1 in Example 1, monoethanolamine was used in place of diethanolamine and triethanolamine in an equimolar manner (MDF2, EDF2, and triethanol, respectively, were synthesized from diethanolamine). Those synthesized from amines are abbreviated as MDF3 and EDF3). The C = C value of the infrared spectroscopic analysis value, the peak value of the mass spectrometer, and the proton chemical shifts of methylenedioxy group and ethylenedioxy group of nuclear magnetic resonance of the obtained compound were the same as those in Example 1.

【0054】実施例3 実施例2の3,4−メチレンジオキシフランおよび3,
4−エチレンジオキシフランの合成において、モノエタ
ノールアミンの代わりにエチレングリコール、ジエチレ
ングリコールおよびトリエチレングリコールを等モル量
代替し、アルカリとして水酸化ナトリウムをそれぞれ
0.2モル加えて合成した。エチレングリコールを使用
した場合をMDF4およびEDF4と略し、ジエチレン
グリコールの使用の場合をMDF5およびEDF5と略
し、トリエチレングリコールを使用した場合をMDF6
およびEDF6と略す。得られた化合物の赤外分光分析
値のC=C値、質量分析計のピーク値、核磁共鳴のエチ
レンジオキシ基のプロトン化学シフトは同一値であっ
た。
Example 3 The 3,4-methylenedioxyfuran of Example 2 and 3,3
In the synthesis of 4-ethylenedioxyfuran, ethylene glycol, diethylene glycol and triethylene glycol were used in place of monoethanolamine in equimolar amounts, and 0.2 mol of sodium hydroxide was added as an alkali for synthesis. MDF4 and EDF4 are used when ethylene glycol is used, MDF5 and EDF5 are used when diethylene glycol is used, and MDF6 is used when triethylene glycol is used.
And EDF6. The C = C value of the infrared spectroscopic analysis value, the peak value of the mass spectrometer, and the proton chemical shift of the ethylenedioxy group in nuclear magnetic resonance of the obtained compound were the same.

【0055】更にアルカリとして水酸化ナトリウムの代
わりに水酸化カリウム(合成できた化合物をMDF7お
よびEDF7と略す)、水酸化リチウム(同様にMDF
8およびEDF8と略す)および水酸化カルシウムを
0.18モル(同様にMDF9,EDF9と略す)代替
して合成した。得られた赤外分析値、質量分析計のピー
ク値、プロトン核磁共鳴装置のエチレンジオキシのプロ
トンの化学シフトは同一の値であった。
Further, potassium hydroxide (compounds which can be synthesized are abbreviated as MDF7 and EDF7) instead of sodium hydroxide as an alkali, lithium hydroxide (also MDF7)
8 and EDF8) and 0.18 mol of calcium hydroxide (also abbreviated as MDF9 and EDF9). The obtained infrared analysis value, the peak value of the mass spectrometer, and the chemical shift of the proton of ethylenedioxy in the proton nuclear magnetic resonance apparatus were the same.

【0056】実施例4 実施例2のトリエタノールアミンを使用する反応の時
に、170℃の条件を80℃、100℃、140℃、1
60℃、220℃、250℃、270℃に変化させて合
成した。尚、エタノールアミンは220℃、250℃お
よび270℃の条件を、ジエタノールアミンは270℃
の条件の反応は行わなかった。いずれも80℃の反応で
は目的の3,4−メチレンジオキシフランが得られなか
ったが100℃では8%、140℃で12%、160℃
で40%、220℃で60%、250℃で52%、27
0℃で43%の収率であった。
Example 4 At the time of the reaction using triethanolamine of Example 2, the condition of 170 ° C. was changed to 80 ° C., 100 ° C., 140 ° C., 1
The synthesis was performed by changing the temperature to 60 ° C, 220 ° C, 250 ° C, and 270 ° C. In addition, ethanolamine was set at 220 ° C, 250 ° C and 270 ° C, and diethanolamine was set at 270 ° C.
Was not performed. In each case, the desired 3,4-methylenedioxyfuran could not be obtained by the reaction at 80 ° C., but 8% at 100 ° C., 12% at 140 ° C., 160 ° C.
At 40 ° C, 60% at 220 ° C, 52% at 250 ° C, 27%
43% yield at 0 ° C.

【0057】実施例5 実施例3のエチレングリコール、ジエチレングリコール
およびトリエチレングリコールを使用する反応の時に、
アルカリ金属塩を水酸化ナトリウム、水酸化カリウムお
よびアルカリ土類金属塩を水酸化カルシウムに変え、5
時間保持170℃の条件を80℃、100℃、140
℃、160℃、220℃、250℃、270℃に変化さ
せて合成した。尚、エチレングリコールは220℃およ
び250℃の反応条件、ジエチレングリコールの場合は
250℃の温度条件を実施しなかった。いずれも80℃
の反応の条件では目的の3,4−エチレンジオキシフラ
ンが得られなかったが100℃では9%、140℃で1
4%、160℃で43%、220℃で63%、250℃
で54%、270℃で46%の収率であった。
Example 5 During the reaction using ethylene glycol, diethylene glycol and triethylene glycol of Example 3,
The alkali metal salt is changed to sodium hydroxide, potassium hydroxide and the alkaline earth metal salt to calcium hydroxide.
The condition of 170 ° C. is maintained at 80 ° C., 100 ° C. and 140 ° C.
C, 160, 220, 250 and 270 ° C. The reaction conditions of 220 ° C. and 250 ° C. were not used for ethylene glycol, and the temperature condition of 250 ° C. was not used for diethylene glycol. 80 ° C for all
The desired 3,4-ethylenedioxyfuran could not be obtained under the conditions of the above reaction, but 9% at 100 ° C. and 1% at 140 ° C.
4%, 43% at 160 ° C, 63% at 220 ° C, 250 ° C
At a yield of 54% at 270 ° C.

【0058】実施例6 ポリ(3,4−エチレンジオキシフラン)の合成 実験に先立ちゼラチン10質量%水溶液(dp1)、ポ
リビニルアルコール10質量%水溶液(dp2)、ポリ
ビニルブチラール(PVB−1)のメチルエチルケトン
溶液10質量%(dp3)、ポリ(ブチルアクリレート
−アクリル酸)の共重合体(共重合比98:2)の10
質量%水溶液(dp4)、ポリ(スチレン−メタクリル
酸メチル−ブチルアクリレート−エチルアクリレート)
の共重合体(共重合比25%:25%:30%:20
%)の10質量%水溶液(dp5)、ポリ(テレフタル
酸−エチレングリコール−メタフタル酸のスルホン酸ナ
トリウム)の共重合体(共重合比40:40:20)の
10質量%水溶液(dp6)を調製した。
Example 6 Synthesis of poly (3,4-ethylenedioxyfuran) Prior to the experiment, a 10% by mass aqueous solution of gelatin (dp1), a 10% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (dp2), and methyl ethyl ketone of polyvinyl butyral (PVB-1) were used. Solution 10% by mass (dp3), 10% of poly (butyl acrylate-acrylic acid) copolymer (copolymerization ratio 98: 2)
Mass% aqueous solution (dp4), poly (styrene-methyl methacrylate-butyl acrylate-ethyl acrylate)
Copolymer (copolymerization ratio 25%: 25%: 30%: 20)
%) And a 10% by weight aqueous solution (dp6) of a copolymer of poly (terephthalic acid-ethylene glycol-sodium sulfonate of metaphthalic acid) (copolymerization ratio 40:40:20). did.

【0059】[0059]

【化3】 Embedded image

【0060】純水1L中に、表1で示す、実施例1〜実
施例3で合成した3,4−メチレンジオキシフランおよ
び3,4−エチレンジオキシフランをそれぞれ20g、
上記dp1〜dp6の分散液または溶液(表1に記載)
を10g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム2g、過
硫酸アンモニウムを2g添加し、窒素雰囲気下57℃で
3時間重合を行った。得られた分散液または溶液を透明
な175ミクロン厚のポリエチレンテレフタレート支持
体の上に1μmの厚さになるように塗工し乾燥した。相
対湿度20%、温度25℃の部屋で8時間放置後、表面
比抵抗を測定した。得られた結果を表1に示す。
In 1 L of pure water, 20 g of each of 3,4-methylenedioxyfuran and 3,4-ethylenedioxyfuran shown in Table 1 and synthesized in Examples 1 to 3,
Dispersion or solution of dp1 to dp6 (described in Table 1)
Was added, 2 g of sodium polystyrenesulfonate and 2 g of ammonium persulfate were added, and polymerization was carried out at 57 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere. The resulting dispersion or solution was coated on a transparent 175 micron thick polyethylene terephthalate support to a thickness of 1 μm and dried. After leaving for 8 hours in a room at a relative humidity of 20% and a temperature of 25 ° C., the surface resistivity was measured. Table 1 shows the obtained results.

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】実施例7 (下引済み支持体の作製)厚さ175μmのポリエチレ
ンテレフタレート支持体の両面に12W/m2・分のコ
ロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液a−1
を乾燥膜厚0.6μmになるように塗設し乾燥させて下
引層A−1を設け、また反対側の面に下記下引塗布液b
−1を乾燥膜厚0.6μmになるように塗設し乾燥させ
て下引層B−1を設けた。
Example 7 (Preparation of Subbed Support) A 175 μm-thick polyethylene terephthalate support was subjected to a corona discharge treatment of 12 W / m 2 · min on both surfaces, and one surface was coated with the following subbing coating solution a- 1
Is applied to a dry film thickness of 0.6 μm and dried to form an undercoat layer A-1.
-1 was applied to a dry film thickness of 0.6 μm and dried to form an undercoat layer B-1.

【0063】下引塗布液a−1の調製 ブチルアクリレート(30質量%)、t−ブチルアクリ
レート(20質量%)、スチレン(25質量%)、2−
ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%)の共重合
体ラテックス液(固形分30%)を15倍に希釈する。
Preparation of Subbing Coating Solution a-1 Butyl acrylate (30% by mass), t-butyl acrylate (20% by mass), styrene (25% by mass), 2-
A copolymer latex liquid (solid content: 30%) of hydroxyethyl acrylate (25% by mass) is diluted 15-fold.

【0064】下引塗布液b−1の調製 ブチルアクリレート(40質量%)、スチレン(20質
量%)、グリシジルアクリレート(40質量%)の共重
合体ラテックス液(固形分30%)を15倍に希釈す
る。
Preparation of Undercoat Coating Solution b-1 A 15-fold copolymer latex liquid (solid content: 30%) of butyl acrylate (40% by weight), styrene (20% by weight), and glycidyl acrylate (40% by weight) was prepared. Dilute.

【0065】引き続き、下引層A−1及び下引層B−1
の上表面に、12W/m2・分のコロナ放電を施し、下
引層A−1の上には、下記下引上層塗布液a−2を塗布
乾燥して下引上層A−2(感光層側用)を設け、下引層
B−1の上には下記下引上層塗布液b−2を塗布乾燥し
て下引上層B−2(BC層用)を設けた。
Subsequently, the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B-1
A 12 W / m 2 · min corona discharge is applied to the upper surface of the undercoating layer A-1. The undercoat layer B-1 (for the BC layer) was provided by applying and drying the following undercoat upper layer coating solution b-2 on the undercoat layer B-1.

【0066】 下引上層塗布液a−2の調製 スチレンとブタジエンの1:2共重合体 0.4g/m2 ブチルアクリレート(30質量%)、t−ブチルアクリレート(20質量%)、 スチレン(25質量%)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(20質量%)、 メタクリル酸(5質量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.3g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 0.1g/m2 下引上層塗布液b−2の調製 スチレンとブタジエンの1:2共重合体 0.4g/m2 ブチルアクリレート(30質量%)、t−ブチルアクリレート(20質量%)、 スチレン(25質量%)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(20質量%)、 メタクリル酸(5質量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.3g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 0.1g/m2 (光熱写真画像形成材料の作製)先ず、塗布に先立ちハ
ロゲン化銀を調製し、次いで作製したハロゲン銀を使用
して有機銀塩を調製した。
Preparation of Undercoating Upper Layer Coating Solution a-2 1: 2 copolymer of styrene and butadiene 0.4 g / m 2 butyl acrylate (30 mass%), t-butyl acrylate (20 mass%), styrene (25 mass%) Mass%), copolymer latex liquid of 2-hydroxyethyl acrylate (20 mass%), methacrylic acid (5 mass%) (solid content 30%) 0.3 g / m 2 crosslinking agent (hexamethylene diisocyanate) 0 Preparation of 0.1 g / m 2 lower undercoat coating solution b-2 1: 2 copolymer of styrene and butadiene 0.4 g / m 2 butyl acrylate (30% by mass), t-butyl acrylate (20% by mass), styrene (25% by mass), copolymer latex liquid of 2-hydroxyethyl acrylate (20% by mass), methacrylic acid (5% by mass) (solid content: 30%) 0.3 g / m 2 crosslinking Agent (Hexamethylene diisocyanate) 0.1 g / m 2 (Preparation of photothermographic image forming material) First, silver halide was prepared before coating, and then an organic silver salt was prepared using the prepared silver halide. .

【0067】ハロゲン化銀粒子乳剤Aの調製 水900ml中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カ
リウム10mgを溶解して温度28℃、pHを3.0に
合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと
(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを
硝酸銀と等モル含む水溶液370mlをpAg7.7に
保ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間
かけて添加した。硝酸銀の添加と同期してヘキサクロロ
イリジウムのナトリウム塩を1×10-6モル/銀1モル
添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加しNa
OHでpHを5に調整して平均粒子サイズ0.036μ
m、投影直径面積の変動係数8%、〔100〕面比率8
7%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この粒子をゼラチン
凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後、水を加えて1
60mlに仕上げた。
Preparation of silver halide grain emulsion A 7.5 g of inert gelatin and 10 mg of potassium bromide were dissolved in 900 ml of water, the temperature was adjusted to 28 ° C., the pH was adjusted to 3.0, and 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate was added. 370 ml of an aqueous solution containing equimolar amounts of potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio of (98/2) and silver nitrate was added over 10 minutes by a controlled double jet method while maintaining the pAg at 7.7. Synchronously with the addition of silver nitrate, the sodium salt of hexachloroiridium was added at 1 × 10 -6 mol / mol of silver. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,
0.3 g of 3,3a, 7-tetrazaindene was added and Na was added.
Adjust the pH to 5 with OH and adjust the average particle size to 0.036μ.
m, coefficient of variation of projected diameter area 8%, [100] face ratio 8
7% of cubic silver iodobromide grains were obtained. The particles are coagulated and settled using a gelatin coagulant and desalted.
Finished to 60 ml.

【0068】水分散有機銀塩の調製 3980mlの純水にベヘン酸111.4g、アラキジ
ン酸83.8g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶
解した。次に高速で攪拌しながら1.5モルの水酸化ナ
トリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9m
lを加えた後、55℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液
を得た。上記の有機酸ナトリウム溶液の温度を55℃に
保ったまま、前記ハロゲン化銀粒子乳剤A(銀0.03
8モルを含む)と純水420mlを添加し5分間攪拌し
た。次に1モルの硝酸銀溶液760.6mlを2分間か
けて添加し、さらに20分攪拌し、濾過により水溶性塩
類を除去した。その後、濾液の電導度が2μS/cmに
なるまで脱イオン水による水洗、濾過を繰り返し、最後
に遠心脱水後乾燥した。
Preparation of water-dispersed organic silver salt 111.4 g of behenic acid, 83.8 g of arachidic acid and 54.9 g of stearic acid were dissolved in 3980 ml of pure water at 80 ° C. Next, while stirring at a high speed, 540.2 ml of a 1.5 mol sodium hydroxide aqueous solution was added, and 6.9 m of concentrated nitric acid was added.
After adding 1, the mixture was cooled to 55 ° C. to obtain a sodium organic acid solution. While maintaining the temperature of the organic acid sodium acid solution at 55 ° C., the silver halide grain emulsion A (silver 0.03
8 mol) and 420 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes. Next, 760.6 ml of a 1 mol silver nitrate solution was added over 2 minutes, the mixture was further stirred for 20 minutes, and water-soluble salts were removed by filtration. Thereafter, the filtrate was repeatedly washed with deionized water and filtered until the conductivity of the filtrate reached 2 μS / cm, and finally dried after centrifugal dehydration.

【0069】感光層及びBC層の塗布 前記下引き済み支持体の下引上層B−2を有する側の表
面上に以下のバック面側の各層を、次いで、下引上層A
−2を有する表面上に下記組成のAH層、感光層、表面
保護層を同時重層塗布した。尚、乾燥はBC側および感
光層側とも各々45℃、1分間で行った。
Coating of photosensitive layer and BC layer On the surface having the undercoating upper layer B-2 of the undercoated support, the following layers on the back surface side, and then the undercoating upper layer A
An AH layer, a photosensitive layer and a surface protective layer having the following compositions were simultaneously coated on the surface having No. -2. The drying was performed at 45 ° C. for 1 minute on both the BC side and the photosensitive layer side.

【0070】バック面側塗布 バック面側には以下の組成(付き量で示した)の塗布液
を同時重層塗布、乾燥してBC層を形成した。
Coating of Back Surface Side On the back surface side, a coating solution having the following composition (indicated by the amount added) was simultaneously applied in multiple layers and dried to form a BC layer.

【0071】 (BC層塗布) 結合剤(PVB−1) 1.8g/m2 グリシジルトリメトキシシラン 1×10-4モル/m2 染料(C1) 2.2×10-5モル/m2 (BC保護層塗布) 結合剤(セルロースアセテートブチレート) 1.1g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 1×10-4モル/m2 《感光層側の塗布》 (AH層の塗布) 結合剤(PVB−1) 0.4g/m2 染料(C1) 1.3×10-5モル/m2 (感光層の塗布)感光層形成のため以下の組成物の塗布
液を調製し、以下の付き量になるように塗布乾燥した。
但し、銀量として1.36g/m2になる量の前記有機
銀塩の調製液をポリマー結合剤と混合した。 結合剤(PVB−1) 2.6g/m2 架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアナート) 2×10-3モル/m2 分光増感色素(A1) 2×10-5モル/m2 カブリ防止剤(ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド) 0.3mg/m2 カブリ防止剤(イソチアゾロン) 1.2mg/m2 還元剤(K1) 3×10-4モル/m2
(Coating of BC Layer) Binder (PVB-1) 1.8 g / m 2 Glycidyltrimethoxysilane 1 × 10 −4 mol / m 2 Dye (C1) 2.2 × 10 −5 mol / m 2 ( BC protective layer coating) Binder (cellulose acetate butyrate) 1.1 g / m 2 Cross-linking agent (hexamethylene diisocyanate) 1 × 10 -4 mol / m 2 << Coating on photosensitive layer side >> (Coating of AH layer) Binder (PVB-1) 0.4 g / m 2 Dye (C1) 1.3 × 10 −5 mol / m 2 (coating of photosensitive layer) For forming a photosensitive layer, a coating solution of the following composition was prepared. Coating and drying were performed so that the following amounts were obtained.
However, a preparation of the organic silver salt in an amount of 1.36 g / m 2 in terms of silver was mixed with the polymer binder. Binder (PVB-1) 2.6 g / m 2 Crosslinker (hexamethylene diisocyanate) 2 × 10 −3 mol / m 2 Spectral sensitizing dye (A1) 2 × 10 −5 mol / m 2 Antifoggant (Pyridinium hydrobromide perbromide) 0.3 mg / m 2 Antifoggant (isothiazolone) 1.2 mg / m 2 Reducing agent (K1) 3 × 10 -4 mol / m 2

【0072】[0072]

【化4】 Embedded image

【0073】(表面保護層)以下の組成物を加えて調製
した塗布液を、以下の付き量になるように感光層上に塗
布乾燥して表面保護層を形成した。 結合剤:表2記載 1.2g/m2 架橋剤:表2記載 10-4モル/m2 テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2 本発明のポリ(3,4−アルキレンジオキシフラン)化合物:表2記載 (ポリフラン化合物の番号は、実施例6のポリフランNO.を示す) 0.1g/m2 尚、結合剤として用いたPVB−1は、メチルエチルケ
トン(MEK)に溶解して使用した。PVB−1はBC
層の結合剤としても使用した。CABはセルロースアセ
テートブチレートである。比較のポリマーとして比較1
は欧州特許1031875A1のポリ(3,4−エチレ
ンジオキシチオフェン)および比較2は米国特許5,6
65,498号明細書中のポリ(3,4−エチレンジオ
キシピロール)を使用した。
(Surface Protective Layer) A coating solution prepared by adding the following composition was applied onto the photosensitive layer so as to have the following coating amount and dried to form a surface protective layer. Binding agents: Table 2 wherein 1.2 g / m 2 crosslinker: poly (3,4-alkylenedioxy furan described in Table 2 10 -4 mol / m 2 tetrachlorophthalic anhydride 0.5 g / m 2 the invention ) Compound: described in Table 2 (The number of the polyfuran compound indicates the polyfuran NO. In Example 6.) 0.1 g / m 2 PVB-1 used as a binder was dissolved in methyl ethyl ketone (MEK) before use. did. PVB-1 is BC
It was also used as a binder in the layer. CAB is cellulose acetate butyrate. Comparative 1 as comparative polymer
Is the poly (3,4-ethylenedioxythiophene) of EP 10331875A1 and Comparative 2 is U.S. Pat.
Poly (3,4-ethylenedioxypyrrole) described in US Pat. No. 65,498 was used.

【0074】(写真性能の評価)上記未露光試料を25
℃で48%相対湿度の雰囲気下で810nmの半導体レ
ーザー露光用の感光計で露光し、露光後120℃で8秒
間加熱後、得られた試料のカブリと感度を求めた。カブ
リは未露光部の濃度値そのもので、感度は濃度0.2を
与える露光量の逆数で基準試料701を100とする相
対感度で示した。
(Evaluation of photographic performance)
The film was exposed to light at 810 nm in an atmosphere of 48% relative humidity at ℃ in a semiconductor laser exposure sensitometer, heated at 120 ° C. for 8 seconds after exposure, and the fog and sensitivity of the obtained sample were determined. Fog is the density value of the unexposed portion itself, and the sensitivity is the reciprocal of the exposure amount that gives a density of 0.2, and is expressed as a relative sensitivity with reference sample 701 being 100.

【0075】(保存性の評価)上記未露光試料を35℃
で80%相対湿度の雰囲気下に7日間保存した後、81
0nmの半導体レーザー露光用の感光計で露光し、露光
後120℃で8秒間加熱後、得られた試料のカブリを求
めた。
(Evaluation of storage stability)
After storing for 7 days in an atmosphere of 80% relative humidity,
Exposure was performed using a 0 nm semiconductor laser exposure sensitometer, and after exposure, heating was performed at 120 ° C. for 8 seconds, and fog of the obtained sample was determined.

【0076】(静電気防止効果の評価)上記未露光試料
を相対湿度20%の部屋に18時間放置した後、試料を
化繊繊維布(ナイロン60%、ポリエステル40%)で
5回擦り、これをスチレンビーズ100個(平均粒子径
3mm)の上にかざして(接近距離15mm)、ビーズ
の吸着度合いを評価した。吸着のないレベルを5、3〜
8個の吸着を4、9〜15個の吸着を3、16個から2
5個の吸着を2、26個以上を吸着したレベルを1とし
た。
(Evaluation of antistatic effect) After leaving the above unexposed sample in a room at a relative humidity of 20% for 18 hours, the sample was rubbed five times with a synthetic fiber cloth (60% nylon, 40% polyester) and styrene The beads were held over 100 beads (average particle diameter: 3 mm) (approach distance: 15 mm) to evaluate the degree of adsorption of the beads. The level without adsorption is 5 ~ 3 ~
4 for 8 adsorptions, 3 for 9 to 15 adsorptions, 2 from 16
The level of adsorption of 5 pieces was set to 2, and the level of adsorption of 26 pieces or more was set to 1.

【0077】[0077]

【表2】 [Table 2]

【0078】表2より本発明のポリアルキレンジオキシ
フラン化合物を使用すると静電気防止効果を得て、写真
特性および保存性に優れることがわかる。
Table 2 shows that the use of the polyalkylenedioxyfuran compound of the present invention provides an antistatic effect and is excellent in photographic characteristics and storage stability.

【0079】実施例8 ポリ(3,4−アルキレンジオキシフラン)を下引き層
またはBC保護層に添加して静電防止効果を評価した。
下引き層中に添加するときには、下引きのa−2または
b−2の塗布液中に添加した。静電防止効果は、実施例
7と同様して行った。比較化合物は実施例7の比較1と
比較2を使用した。ポリフラン化合物の602〜606
の番号は実施例6で作製したポリフランNo.を使用し
たことを示す。また、BC保護層の結合剤はすべてゼラ
チンを使用して塗布した。架橋剤は、H7およびH11
をそれぞれ1×10-4モル/m2使用した。結果を表3
に示す。
Example 8 Poly (3,4-alkylenedioxyfuran) was added to an undercoat layer or a BC protective layer to evaluate the antistatic effect.
When added to the undercoat layer, it was added to the undercoat a-2 or b-2 coating solution. The effect of preventing static electricity was performed in the same manner as in Example 7. Comparative compounds used in Comparative Examples 1 and 2 of Example 7 were used. 602 to 606 of polyfuran compounds
No. is the polyfuran No. prepared in Example 6. Indicates that was used. All the binders of the BC protective layer were coated using gelatin. Crosslinking agents are H7 and H11
Was used in an amount of 1 × 10 −4 mol / m 2 . Table 3 shows the results
Shown in

【0080】[0080]

【表3】 [Table 3]

【0081】表3より本発明のポリアルキレンジオキシ
フラン化合物を使用すると静電気防止効果に優れること
がわかる。
Table 3 shows that the use of the polyalkylenedioxyfuran compound of the present invention is excellent in the antistatic effect.

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明により、新規な導電性ポリマーを
製造する必要な新規なモノマーの製造方法およびその重
合方法と、この重合方法によって製造される導電性ポリ
マーを使用して高い帯電防止性能を得ると同時に、光熱
写真材料における写真性能、即ち、カブリ、感度、保存
性に悪影響を与えない光熱写真画像形成材料を得ること
ができた。
Industrial Applicability According to the present invention, a method for producing a novel monomer required for producing a novel conductive polymer, a method for polymerizing the same, and high antistatic performance using the conductive polymer produced by this polymerization method. At the same time, a photothermographic image forming material which does not adversely affect the photographic performance of the photothermographic material, that is, fog, sensitivity and storage stability, was obtained.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ジグリコリックアルキルエステルとジア
ルキル蓚酸エステルから2,5−ジアルキル−3,4−
ジヒドロキシフランカルボン酸エステルを製造し、次い
で3,4−アルキレンジオキシ−2,5−ジアルキルカ
ルボキシフランを製造し、最後にアルカリ存在下で加水
分解と脱炭酸することを特徴とする3,4−アルキレン
ジオキシフランの製造方法。
(1) a 2,5-dialkyl-3,4-diglycolic alkyl ester and a dialkyl oxalate ester;
3,4-alkylenedioxy-2,5-dialkylcarboxyfuran, followed by hydrolysis and decarboxylation in the presence of an alkali. A method for producing an alkylenedioxyfuran.
【請求項2】 アルカリ存在下で加水分解と脱炭酸を同
時並行して反応させることを特徴とする請求項1に記載
の3,4−アルキレンジオキシフランの製造方法。
2. The method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran according to claim 1, wherein hydrolysis and decarboxylation are simultaneously performed in the presence of an alkali.
【請求項3】 加水分解と脱炭酸させるアルカリがアル
カリ金属塩またはアルカリ土類金属塩であることを特徴
とする請求項1に記載の3,4−アルキレンジオキシフ
ランの製造方法。
3. The method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran according to claim 1, wherein the alkali to be hydrolyzed and decarboxylated is an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt.
【請求項4】 加水分解と脱炭酸させるアルカリがアル
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩およびアルカリ土類金
属酸化物から選ばれる少なくとも1種であり、且つ10
0℃〜250℃に加熱して製造することを特徴とする請
求項1〜3のいずれか1項に記載の3,4−アルキレン
ジオキシフランの製造方法。
4. The alkali to be hydrolyzed and decarboxylated is at least one selected from alkali metal salts, alkaline earth metal salts and alkaline earth metal oxides, and
The method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran according to any one of claims 1 to 3, wherein the method is produced by heating to 0 ° C to 250 ° C.
【請求項5】 加水分解と脱炭酸させる際、アルカリと
モノまたはポリアルキレングリコールの存在下100℃
〜250℃に加熱して製造することを特徴とする請求項
1〜4のいずれか1項に記載の3,4−アルキレンジオ
キシフランの製造方法。
5. Hydrolysis and decarboxylation in the presence of an alkali and a mono- or polyalkylene glycol at 100 ° C.
The method for producing a 3,4-alkylenedioxyfuran according to any one of claims 1 to 4, wherein the method is produced by heating the composition to a temperature of about 250C.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の
3,4−アルキレンジオキシフランを、ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ポリアセタール化合物、ポリアクリ
レート誘導体およびポリエステル誘導体から選ばれる少
なくとも1種の化合物の存在下で重合することを特徴と
するポリ(3,4−アルキレンジオキシフラン)の製造
方法。
6. The compound according to claim 1, wherein the 3,4-alkylenedioxyfuran is at least one compound selected from gelatin, polyvinyl alcohol, a polyacetal compound, a polyacrylate derivative and a polyester derivative. A method for producing poly (3,4-alkylenedioxyfuran), which comprises polymerizing in the presence of:
【請求項7】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の
3,4−アルキレンジオキシフランをポリスチレンスル
ホン酸または該誘導体の存在下で重合することを特徴と
するポリ(3,4−アルキレンジオキシフラン)の製造
方法。
7. A poly (3,4-characteristic) comprising polymerizing the 3,4-alkylenedioxyfuran according to claim 1 in the presence of polystyrenesulfonic acid or a derivative thereof. A method for producing alkylenedioxyfuran).
【請求項8】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤および結合剤を含有する感光層を有し、かつ請求項
6又は7に記載のポリ(3,4−アルキレンジオキシフ
ラン)化合物を含有することを特徴とする光熱写真画像
形成材料。
8. The poly (3,4-alkylenedioxyfuran) according to claim 6, which has a photosensitive layer containing a silver halide, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support. A) a photothermographic image-forming material comprising a compound.
JP2001035236A 2001-02-13 2001-02-13 Method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran, method for producing polymer thereof and photothermographic image-forming material using the same polymer Pending JP2002241383A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001035236A JP2002241383A (en) 2001-02-13 2001-02-13 Method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran, method for producing polymer thereof and photothermographic image-forming material using the same polymer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001035236A JP2002241383A (en) 2001-02-13 2001-02-13 Method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran, method for producing polymer thereof and photothermographic image-forming material using the same polymer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002241383A true JP2002241383A (en) 2002-08-28

Family

ID=18898709

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001035236A Pending JP2002241383A (en) 2001-02-13 2001-02-13 Method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran, method for producing polymer thereof and photothermographic image-forming material using the same polymer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002241383A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007137155A1 (en) * 2006-05-18 2007-11-29 University Of Florida Research Foundation, Inc. Catalyst free polymerization of 3,4-alkylenedioxypyrrole and 3,4-alkylenedioxyfuran
JP2009102601A (en) * 2007-10-05 2009-05-14 Shin Etsu Polymer Co Ltd Conductive polymer solution, conductive coating film, and input device
JP2009524737A (en) * 2006-01-26 2009-07-02 ユニバーシティ オブ フロリダ リサーチ ファンデーション インコーポレーティッド Chemical defunctionalization of polymer alkylenedioxy heterocycles.
US8840812B2 (en) 2007-10-05 2014-09-23 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Conductive polymer solution, conductive coating film, and input device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009524737A (en) * 2006-01-26 2009-07-02 ユニバーシティ オブ フロリダ リサーチ ファンデーション インコーポレーティッド Chemical defunctionalization of polymer alkylenedioxy heterocycles.
WO2007137155A1 (en) * 2006-05-18 2007-11-29 University Of Florida Research Foundation, Inc. Catalyst free polymerization of 3,4-alkylenedioxypyrrole and 3,4-alkylenedioxyfuran
US7649076B2 (en) 2006-05-18 2010-01-19 University Of Florida Research Foundation, Inc. Catalyst free polymerization of 3,4-alkylenedioxypyrrole and 3,4-alkylenedioxyfuran
KR101302316B1 (en) 2006-05-18 2013-08-30 유니버시티 오브 플로리다 리서치 파운데이션, 인크. Catalyst free polymerization of 3,4-alkylenedioxypyrrole and 3,4-alkylenedioxyfuran
JP2014194039A (en) * 2006-05-18 2014-10-09 Univ Of Florida Research Foundation Inc Catalyst free polymerization of 3,4-alkylenedioxypyrrole and 3,4-alkylenedioxyfuran
JP2009102601A (en) * 2007-10-05 2009-05-14 Shin Etsu Polymer Co Ltd Conductive polymer solution, conductive coating film, and input device
US8840812B2 (en) 2007-10-05 2014-09-23 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Conductive polymer solution, conductive coating film, and input device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4048684B2 (en) Photothermographic material and method for producing the same
JP2002241383A (en) Method for producing 3,4-alkylenedioxyfuran, method for producing polymer thereof and photothermographic image-forming material using the same polymer
JP2003075955A (en) Photothermographic imaging material with improved silver tone
JP2005227441A (en) Photothermographic imaging material
JP2002214734A (en) Photo-thermal photographic image forming material
JP4075500B2 (en) Photothermographic material
US5882838A (en) Silver halide light-sensitive material comprising support, hardening layer and light-sensitive layer
JP2002196452A (en) Photothermal photographic image forming material
JP4042324B2 (en) Photothermographic imaging material
JP2003330145A (en) Heat-developable photographic material
JP2003295387A (en) Heat-developable material
JP4240828B2 (en) Thermal development material
JP2002122959A (en) Heat developable material
JP2004077791A (en) Dry imaging material
JP2003043617A (en) Photothermographic image forming material
JP4244541B2 (en) Photothermographic imaging material with excellent charging characteristics
JP2004101881A (en) Dry imaging material
JP2003075957A (en) Photothermographic imaging material free of scale pattern
JP2003021883A (en) Heat developable photosensitive material having improved film strength
JP2002207274A (en) Photo-thermal photographic image forming material and image recording method thereof
JP2003322925A (en) Photothermographic imaging material
JP2005017832A (en) Photothermographic imaging material
JP2002268177A (en) Fluorine-containing anionic surfactant, method for preparing the same and photothermographic image forming material containing the same
JP2005091676A (en) Photothermographic imaging material and developing method
JP2003021886A (en) Method for manufacturing photothermographic image forming material