JP2002267830A

JP2002267830A - カラーフィルター、その製造方法および液晶表示装置

Info

Publication number: JP2002267830A
Application number: JP2001069419A
Authority: JP
Inventors: Yasunari Kawabata; 耕也川畑
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-03-12
Filing date: 2001-03-12
Publication date: 2002-09-18

Abstract

(57)【要約】【課題】解像度が高く低コストで製造可能なカラーフ
ィルター、その製造方法および前記カラーフィルターを
組み込んだ液晶表示装置を提供すること。【解決手段】少なくとも基板およびその上に設けたコ
レステリック液晶偏光素子層を有するカラーフィルター
であって、前記コレステリック液晶偏光素子層の画素間
に、該層が存在しない開口部を有することを特徴とする
カラーフィルター、その製造方法および前記カラーフィ
ルターを組み込んだ液晶表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ
ー、その製造方法、該カラーフィルターを組み込んだ液
晶表示装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルターは、携帯情報端末、パ
ーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、アミュ
ーズメント機器、テレビジョン装置などの他、種々の電
子機器や電気機器の表示パネルなど、その用途の拡大が
増々進みつつある。これらの機器には、従来より、液晶
を用いた表示装置が組み込まれているが、この表示装置
は、消費電力が小さく薄型であるという長所を持ってい
る。これらの表示装置は、大きくは、バックライト光源
を有する透過型表示装置と、光源を持たないかあるいは
全面に導光板を用いるフロントライト方式の反射型表示
装置とに分かれ、フルカラー表示においては、通常、カ
ラーフィルタが使用される。例えば、カラー液晶ディス
プレー等に用いられるカラーフィルタは、一般に、赤色
（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素と、その間隙
に表示コントラスト向上を目的とするブラックマトリク
スとが形成されて構成される。

【０００３】このようなカラーフィルーターは、従来、
顔料分散法や染色法を利用して製造されるものが主流で
ある。顔料分散法はフォトレジストに顔料を分散させて
基板ガラスに塗布し、パターン露光・現像工程を行なう
方法であり、パターニングエッジ、解像度および膜均一
性などに優れた方法である。しかし、フォトレジスト工
程が必要であること、顔料を用いるため、染料を用いる
場合ほどには簡便に色調整ができないことなどの問題点
を有している。スピンコート法を用いて、基板上にフォ
トレジストを塗布する場合には、加えて、材料ロスが大
きく、また大面積の基板に塗布する場合の塗布ムラが大
きいといった欠点がある。また、染色法は、ゼラチン等
に感光性を付与した透明樹脂パターンを後から染める方
法であり、染料の透明性に基づき光透過率が高いこと
や、染料の種類の豊富さにより色度調整が容易であると
いう特徴を有する反面、フォトレジスト工程などの工程
数が顔料分散法より多いなどの欠点を要する。

【０００４】この他に、カラーフィルターの作製方法と
しては、印刷法、電着法、インクジェット法などが知ら
れている。前記印刷法は、各色を順次１色づつ印刷する
方法であるので各色のパターンの位置合わせが難しく、
画素の解像度が低くまた膜厚も不均一であり、高精細な
画像パターンの形成には対応が難しいという欠点がある
が、一方材料の利用率が高い。また、電着法によると、
比較的解像度が高く、着色層のムラも少ないカラーフィ
ルタを得ることができる反面、製造工程が煩雑であり液
管理も難しいといった難点を有している。インクジェッ
ト法の場合は、解像度の点や隣接する画素同士の混色の
問題があった。

【０００５】前記カラーフィルターは、いずれも光吸収
型のカラーフィルターであり、原理的に光源からの光の
約１／３しか透過させることができないため、明るさが
十分であるとは言えない。この欠点を補うため、例えば
透過型表示装置の場合においてはバックライトの輝度を
上げる事が考えられるが、消費電力が大きくなり、液晶
表示装置の長所を損なうという問題が発生する。

【０００６】これらの問題に対して、ＵＳ００５６６８
６１４では液体現像工程が不要のコレステリック偏光子
を用いたカラーフィルターが提案されている。コレステ
リック偏光子は特定の波長の円偏光を選択的に反射し、
これ以外の波長の円偏光を透過させる性質を有すること
から、前記着色樹脂からならカラーフィルタとは異な
り、透過した光を再利用することにより利用効率を高め
ることができ、実質的に明るいカラーフィルタを形成す
ることができる。そのため、このタイプのカラーフィル
ターは反射型液晶ディスプレイに適している。また、現
像工程を必要とせず、同一層内に異なる選択反射波長の
パターンを形成できるのでコスト面でも有利である。そ
して、この特許では、キラル剤としてキラルからアキラ
ルに異性化するキラル剤を用いているが、異性化したキ
ラル剤の拡散を防止して解像度を上げるために、重合可
能な材料をあらかじめ液晶に添加して、画素間にポリマ
ーネットワークを作ることが効果的であるとされてい
る。しかしながら、画素間にポリマーネットワークを形
成するためには、露光により画素間を重合させるという
工程が付加されるので、コストダウンの観点からは充分
ではなく、また、液晶に重合可能な材料を含ませること
は、液晶の配向不均一性につながることになる。

【０００７】また、特開平１０−２８２３２４号公報の
カラーフィルターは、基板上に光吸収層を設け、該光吸
収層に凹部を設け、この凹部に、液晶相の螺旋ピッチが
温度依存性の高い紫外線硬化性コレステリック液晶また
はカイラルネマチック液晶層を設け、画素ごとに加熱温
度を変えた状態で光照射して赤・青・緑の選択反射を得
ており、画素間に光吸収層からなる壁を形成して、露光
時の液晶層内での乱反射による露光カブリを防止するも
のであるが、複雑な工程を要するので、充分なコストダ
ウンを達成することはできない。さらに、特開２０００
−９５８８３号公報には、重合性液晶化合物に非光反応
型キラル剤を添加し、画素ごとに光の照射量によって光
重合速度を変えることにより、選択反射波長を変える反
射性フィルムの製造方法が記載されており、この方法で
はキラル剤の拡散は生じないが、光の照射量によって光
重合速度を充分に制御することは困難である。

【０００８】これに対し、光反応型キラル剤を用いるカ
ラーフィルターとして、特開２０００−１５４１６８号
公報には、特定の高分子量アクリル系光異性化キラル化
合物と、液晶ポリマーを含有する架橋型液晶組成物が記
載されており、この液晶組成物においてはキラル剤が高
分子量であるため拡散は生じにくいが、液晶の再配向に
時間がかかるという不利な点がある。

【０００９】一方、本出願人は、重合性の液晶性化合物
に特定の構造を有する光反応型キラル剤を含有する層に
光照射してカラーフィルターを形成する方法について出
願をした（特願平２０００−１９３１４２号、特願平２
０００−１９３１４３号等）。前記光反応型キラル剤
は、キラル部位と光の照射により構造変化を生ずる部位
を有し、たとえば照射光量に応じて液晶の螺旋構造の捻
れ力（ＨＴＰ）を大きく変化させるので、青色（Ｂ）、
緑色（Ｇ）赤色（Ｒ）の３原色を含む広範囲の波長領域
にわたって選択反射をさせることが可能になる。

【００１０】前記のごときカラーフィルターの作製にお
いては、まず、重合性の液晶化合物と光反応型キラル剤
を、或いはさらにこれらに重合性モノマー等を加えた溶
液を、ガラス基板等に塗布した後乾燥する工程が行わ
れ、次いで形成された液晶層に光照射をして、光反応型
キラル剤に光異性化などを起こさせた後、加熱して螺旋
構造を発現させることにより特定の波長の反射を生じせ
しめる。しかしながら、前記のようにして異性化した光
反応型キラル剤は、加熱中に液晶層内において拡散しや
すく、前記露光マスクに従った正確な滲みのないパター
ンを形成することができず、解像度の低下につながると
いう問題が生ずる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題点
に鑑みてなされたものであり、その目的は、解像度が高
く低コストで製造可能なカラーフィルター、その製造方
法および前記カラーフィルターを組み込んだ液晶表示装
置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記課題は、以下のカラ
ーフィルター、その製造方法および液晶表示装置を提供
することにより解決される。（１）少なくとも基板およびその上に設けたコレステリ
ック液晶偏光素子層を有するカラーフィルターであっ
て、前記コレステリック液晶偏光素子層の画素間に、該
層が存在しない開口部を有することを特徴とするカラー
フィルター。（２）前記コレステリック液晶偏光素子層が、基板に形
成された、少なくとも、重合性基を少なくとも１つ有す
る液晶性化合物および光反応型キラル剤を含む液晶層
に、該光反応型キラル剤の感光波長領域にある光を画像
様に照射する工程、前記重合性基を少なくとも１つ有す
る液晶性化合物を光重合させる工程を少なくとも含む工
程により作製されることを特徴とする前記（１）に記載
のカラーフィルター。（３）基板の上に形成した液晶層からコレステリック液
晶偏光素子層を形成する工程、および前記層の画素間に
前記層が存在しない開口部を形成する工程とを少なくと
も含むカラーフィルターの製造方法。（４）基板の上に液晶層を形成する工程、前記液晶層の
画素間に対応する部分に液晶層が存在しない開口部を形
成する工程、前記開口部を設けた液晶層からコレステリ
ック液晶偏光素子層を形成する工程とを少なくとも含む
カラーフィルターの製造方法。

【００１３】（５）前記コレステリック液晶偏光素子層
を形成する工程が、基板に形成された、少なくとも、重
合性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物および光反
応型キラル剤を含む液晶層に該光反応型キラル剤の感光
波長領域にある光を画像様に照射する工程、前記重合性
基を少なくとも１つ有する液晶性化合物を光重合させる
工程を少なくとも含む工程により作製されることを特徴
とする前記（３）または（４）に記載のカラーフィルタ
ーの製造方法。（６）少なくとも１つが光透過性の１対の基板の間にカ
ラーフィルター、液晶層、アクティブ素子および透明画
素電極を少なくとも有する液晶表示装置において、前記
カラーフィルターが、前記（１）または（２）に記載の
カラーフィルターであることを特徴とする液晶表示装
置。（７）前記開口部がアクティブ素子と透明画素電極の間
の電気的な接続を行なうコンタクトホールを形成するこ
とを特徴とする前記（６）に記載の液晶表示装置。

【００１４】

【発明の実施の形態】まず、本発明のカラーフィルター
について説明する。本発明のカラーフィルターは、少な
くとも基板およびその上に設けたコレステリック液晶偏
光素子層を有するカラーフィルターであって、前記コレ
ステリック液晶偏光素子層の画素間に、該層が存在しな
い開口部を有することを特徴とする。たとえば、図３
（Ｊ）に、コレステリック液晶偏光素子層の画素間に、
該層が存在しない開口部を有するカラーフィルターの一
例が示されている。発明のカラーフィルターは、この開
口部に基づき解像度が大きい。

【００１５】開口部の幅は、１〜３０μｍ、好ましくは
３〜８μｍである。開口部の幅が１μｍ以上にすること
により解像度の向上が図れ、また３０μｍを以内にする
ことにより解像度と開口率を両立させることができる。
また、本発明において、コレステリック液晶偏光素子層
の作製において、コストアップの原因となるフォトリソ
法を用いる必要がないため、低コストでカラーフィルタ
ーを製造することができる。

【００１６】以下に、本発明のカラーフィルターについ
て詳細に説明するが、まず前記コレステリック液晶偏光
素子層について説明する。なお、以下においては、この
コレステリック液晶偏光素子層を単にカラーフィルター
ということがある。本発明のカラーフィルター（コレス
テリック液晶偏光素子層）の製造方法の一例として、基
板に形成された、少なくとも、重合性基を少なくとも１
つ有する液晶性化合物および光反応型キラル剤を含む液
晶層に、該光反応型キラル剤の感光波長領域にある光を
画像様に照射する工程、前記重合性基を少なくとも１つ
有する液晶性化合物を光重合させる工程を少なくとも含
む工程により作製する方法が挙げられる。

【００１７】最初に、少なくとも、重合性基を少なくと
も１つ有する液晶性化合物および光反応型キラル剤を含
む液晶層を作製するために用いる液晶組成物について説
明する。［液晶組成物］本発明のカラーフィルターを作製するた
めに用いる液晶組成物は、少なくとも、重合性基を少な
くとも１つ有する液晶性化合物と光反応型キラル剤とを
含む。また、液晶組成物には、さらに重合開始剤を加え
ることが好ましい。

【００１８】前記液晶組成物において、重合性基を有す
る液晶化合物としては、重合性基を有するネマチック液
晶性化合物が好ましい。液晶化合物の重合性基により、
十分な硬化性が確保され、層の耐熱性が向上される。

【００１９】前記重合性基を有する液晶化合物の具体例
としては、下記化合物を挙げることができる。但し、本
発明においては、これらに制限されるものではない。

【００２０】

【化１】

【００２１】

【化２】

【００２２】

【化３】

【００２３】前記式中、ｎは、１〜１０００の整数を表
す。前記各例示化合物においては、芳香環の連結基が以
下の構造に変わったものも同様に好適なものとして挙げ
ることができる。

【００２４】

【化４】

【００２５】前記液晶性化合物の含有量としては、液晶
組成物の固形分質量に対して、３０〜９９．９質量％が
好ましく、５０〜９５質量％がより好ましい。前記含有
量が、３０質量％未満であると、配向が不十分となり所
望の選択反射色が得られないことがある。

【００２６】（光反応型キラル剤）次に光反応型キラル
剤について説明する。光反応型キラル剤は、キラル部位
と光の照射により構造変化を生ずる光反応部位を有し、
たとえば照射光量に応じて液晶の螺旋構造の捻れ力（Ｈ
ＴＰ）を大きく変化させる化合物である。光照射による
螺旋構造誘起力を大きくするためには、光照射による構
造変化の度合いの大きいものが好ましい。さらに光反応
型キラル剤としては、溶解度パラメータのＳＰ値が液晶
性化合物に近似したものが望ましい。また、光反応型キ
ラル剤の分子中に、重合性の結合基を１つ以上導入した
構造とすると、液晶相の耐熱性が向上する。

【００２７】光照射によって構造変化する光反応部位の
例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、入江
正浩、化学工業、ｖｏｌ．６４、６４０ｐ，１９９９、
内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、ｖｏｌ．２８
（９）、１５ｐ，１９９９）等を挙げることができる。
また、前記構造変化とは、光反応部位への光照射により
生ずる、分解や付加反応、異性化、２量化反応等を意味
し、前記構造変化は不可逆的であってもよい。また、キ
ラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、Ｎ
ｏ．２２液晶の化学、７３ｐ：１９９４に記載の不斉炭
素等が相当する。

【００２８】本発明において用いる光反応型キラル剤と
しては、たとえば、本出願人が先に提供した特願平１１
−３４３６６６号の段落［００４４］ないし［００４
７］に記載の光反応型キラル剤、特願２０００−１９３
１４２号の段落［００２１］ないし［００２９］に記載
の光反応型キラル剤の他、特願２０００−３８０９１９
号の段落［００１９］〜［００４３］に記載の光学活性
化合物、特願２０００−３８１００１号の段落［００２
０］〜［００４４］に記載の光学活性化合物、特願２０
００−３８１００２号の段落［００１６］〜［００４
０］に記載の光学活性化合物、特願２０００−３８１０
０３号の段落［００１５］〜［００３６］に記載の光学
活性化合物、特願２０００−３８１９６６号の段落［０
０１７］〜［００５０］に記載の光学活性化合物、特願
２０００−３８１９６７号の段落［００１８］〜［００
４４］に記載の光学活性化合物、特願２０００−３８２
５１５号の段落［００２０］〜［００４９］に記載の光
学活性化合物を光反応型キラル剤として用いることがで
きる。

【００２９】本発明の液晶組成物には、前記重合性基を
有する低分子液晶化合物および光反応型キラル剤の他
に、必要に応じて、重合性モノマー、重合開始剤や、バ
インダ樹脂、溶媒、界面活性剤、重合禁止剤、増粘剤、
色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤等の他の成分を含
ませることができる。本発明の液晶組成物は、特に界面
活性剤を併用することが好ましい。例えば、塗布液状の
液晶組成物を塗布し層形成する場合など、層表面の空気
界面における配向状態を立体的に制御でき、特にコレス
テリック液晶相の場合には、より色純度の高い選択反射
波長を得ることができる。（重合性モノマー）本発明の液晶組成物には、重合性モ
ノマーを併用してもよい。該重合性モノマーを併用する
と、光照射による液晶の捻れ力を変化させて選択反射波
長の分布を形成（パターニング）した後、その螺旋構造
（選択反射性）を固定化し、固定化後の液晶組成物の強
度をより向上させることができる。但し、前記液晶化合
物が同一分子内に不飽和結合を有する場合には、必ずし
も添加する必要はない。

【００３０】前記重合性モノマーとしては、例えば、エ
チレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、具体
的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モ
ノマーの他、以下に示す化合物を挙げることができる、
但し、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。

【００３１】

【化５】

【００３２】前記重合性モノマーの添加量としては、液
晶組成物の固形分質量に対して、０．５〜５０質量％が
好ましい。前記添加量が、０．５質量％未満であると、
十分な硬化性を得ることができないことがあり、５０質
量％を越えると、液晶分子の配向を阻害し、十分な発色
が得られないことがある。

【００３３】（光重合開始剤）光照射による液晶の捻れ
力を変化させた後の螺旋構造を固定化し、固定化後の液
晶組成物の強度をより向上させるために、重合性液晶化
合物による重合反応を利用する場合には、光重合開始剤
を添加することが好ましい。また、光重合開始剤の感光
波長領域が、前記光反応型キラル剤の感光波長領域とは
異なることが好ましい。ここで、異なる感光波長を持つ
とは、両者の感光中心波長が重ならないことを意味す
る。光反応型キラル剤の感光波長領域と光重合開始剤の
感光波長領域とが異なる場合、ＨＴＰを変化させるため
の光照射と光重合のための光照射が、互いに影響を及ぼ
すことがない。したがって、ＨＴＰを変化させるために
画像様に露光する際、光重合が進行しないため、設定ど
おりのＨＴＰ変化率を有するパターニングが可能となる
一方、螺旋構造を固定化するために光重合させる際に
は、光反応型キラル剤が光に反応せず、形成されたＨＴ
Ｐ変化パターンを確実に固定化することができ、設定ど
うりの選択反射が達成される。

【００３４】前記光重合開始剤としては、公知のものの
中から適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシ
フェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリク
ロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェ
ニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジ
ン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリー
ルビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベ
ンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、ト
リアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等
が挙げられる。この他に、特開平１０−２９９９７号公
報等に記載のビス−（２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル）フェニルホスフィンオキシド等のビスアシルホスフ
ィンオキシド類や、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ等のＤＥ４
２３０５５５等に記載のアシルホスフィンオキシド類が
挙げられる。

【００３５】前記光重合開始剤の添加量としては、液晶
組成物の固形分質量に対して、０．１〜２０質量％が好
ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量
が、０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が
低いため長時間を要することがあり、２０質量％を越え
ると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣るこ
とがある。

【００３６】［カラーフィルターの製造］本発明のカラ
ーフィルターを製造する方法としては、たとえば次の二
つの方法が挙げられるが、これらに制限されるものでは
ない。（１）少なくとも、基板の上にコレステリック液晶偏光
素子層を形成する工程、および前記層の画素間に前記層
が存在しない開口部を形成する工程とを少なくとも含む
方法。画素間に前記層が存在しない開口部を形成する方
法としては、前記コレステリック液晶偏光素子層の画素
間の部分を除去する方法、たとえば、コレステリック液
晶偏光素子層を常法のフォトリソグラフィー法、すなわ
ち、前記層の上にフォトレジスト材料を塗布した後、露
光、現像およびエッチングを行なうことにより形成する
ことができる他、画素間を赤外レーザなどにより直接除
去するアブレーション法などにより行なうことができ
る。この方法は、ＴＦＴ素子を用いた液晶表示装置を作
製する場合、プラズマエッチング法などにより、コレス
テリック液晶偏光素子層とともに、配向層、基板および
光吸収層などの層に対し同じ場所に開口を設けることが
でき、この開口をコンタクトホールとすることができる
ので、製造コストの点からみて有利な方法である。（２）基板の上に液晶層を形成する工程、前記液晶層の
画素間に対応する部分に液晶層が存在しない開口部を形
成する工程、前記液晶層からコレステリック液晶偏光素
子層を形成する工程とを少なくとも含む方法。この方法
は、コレステリック液晶偏光素子層とする前の液晶層に
開口部を設ける方法であり、具体的には、前記（１）と
同様の方法を採用できる。

【００３７】本発明のコレステリック液晶偏光素子層
は、前記の液晶組成物から作製することができる。ま
た、本発明のカラーフィルターは、コレステリック液晶
偏光素子層が前記液晶組成物のみから構成されたシート
形態のものであってもよいし、コレステリック液晶偏光
素子層が所望の支持体あるいは基板上に設けられた態様
のものであってもよく、更に配向膜や保護膜等の他の層
が設けられていてもよい。液晶層を二層以上積層するこ
ともできる。

【００３８】また、前記コレステリック液晶偏光素子層
を形成するには、たとえば、基板に形成された、少なく
とも、重合性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物お
よび光反応型キラル剤を含む液晶層に該光反応型キラル
剤の感光波長領域にある光を画像様に照射する工程、前
記重合性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物を光重
合させる工程を少なくとも含む工程により作製すること
ができる。このコレステリック液晶偏光素子の作製工程
には、前記のごとき工程のほか、下記のごとく、液晶層
とカラーフィルター基板あるいは仮支持体との接触面に
配向処理を施す工程を含ませてもよい。

【００３９】前記液晶層の形成は、カラーフィルター基
板に直接本発明の液晶組成物を塗布する方法や、仮支持
体に一旦形成した液晶層をカラーフィルター基板に密着
させた後仮支持体を剥離する転写法などにより行なわれ
る。

【００４０】本発明で用いるごとき光反応型キラル剤
は、その感光波長領域の光を照射すると、その光量に応
じて光反応（異性化、分解、付加、２量化等）を起こ
し、その結果液晶の螺旋構造のピッチを変化させる。し
たがって、液晶層の所望の領域ごとに光照射強度を変え
て光照射すれば、照射強度に対応して螺旋構造のピッチ
変化が生じ、そのピッチに応じた波長の光の選択反射が
起こるため、複数色を呈する。それぞれ異なる領域に異
なる光量を照射するためには、例えば、画像様に光透過
率を変えて作製された露光用マスクを介して露光する方
法が好ましく用いられる。この方法では一回の光照射に
よって、画像様に光反応の程度が異なる（その結果液晶
相の螺旋ピッチを画像様に異ならせることができる）、
液晶層を形成することができるので好ましい方法であ
る。

【００４１】また、前述したように、光反応キラル剤に
光反応を起こさせる光の波長領域（光反応キラル剤の感
光波長領域）と、光重合させる光の波長領域（重合開始
剤を用いる場合、その感光波長領域）が異なっているこ
とが好ましい。

【００４２】光反応キラル剤に光反応を起こさせる光の
波長としては、光反応型キラル剤の光感応波長域、特に
光感応ピーク波長に近接する波長に設定することが、十
分なパターニング感度が得られる点で好ましい。また、
光重合させる光の波長としては、重合開始剤の光感応波
長域、特に光感応ピーク波長に近接する波長に設定する
ことが、十分な光重合感度が得られる点で好ましい。ま
た、これらの光の照射強度は充分な光感度が得られるよ
うに適宜選択できる。

【００４３】以下に、更に具体的に説明する。〔第１の態様〕第１の態様は、カラーフィルター基板に
液晶層を形成するのに、転写法を用い、かつ前記第１の
方法によりカラーフィルターを作製する方法である。（１）仮支持体上に本発明の液晶組成物の層を設け、液
晶層を少なくとも有する転写材料を形成する工程。液晶
層は、本発明の液晶組成物を、バーコーターやスピンコ
ーター等を用いて、仮支持体に塗布することにより形成
される。前記液晶層と仮支持体との間には、被転写体上
に異物等がある場合など、転写時における密着性を確保
する観点から、熱可塑性樹脂（アクリル樹脂、ポリエス
テル、ウレタン樹脂等）よりなるクッション層を設ける
こともできる。また、仮支持体あるいはクッション層の
表面には、配向処理（配向膜の形成およびラビング処
理）を施すことが好ましい。さらに、液晶層の上に保護
のためのカバーフィルムを設けることができる。（２）前記転写材料を光透過性の基板上にラミネートす
る工程。前記基板には、受像層を設けてもよい。また、
基板あるいは受像層の上には、前記（１）と同様の配向
処理をすることが好ましい。（３）光透過性の基板に液晶層を転写するとともに仮支
持体を剥離する工程（転写工程）。該液晶層は、下記
（４）を経た後、更に同様に転写材料を積層して、複数
層形成することもできる。（４）液晶層に露光マスクを介して画像様に光照射して
選択反射色を示す画素パターンを形成し、これに更に光
照射して液晶層を硬化させる工程（露光工程）。（５）得られたコレステリック液晶偏光素子層の画素間
に開口部を設ける工程。

【００４４】［第２の態様］第２の態様は、カラーフィ
ルター基板に液晶層を形成するのに、転写法を用い、か
つ前記第２の方法によりカラーフィルターを作製する方
法である。第２の態様は、前記第１の態様の（１）ない
し（３）の工程の後、前記のごときフォトリソグラフィ
ー法あるいはアブレーション法により画素間に対応する
部分に液晶層が存在しない開口部を形成する工程を行な
い、その後、第１の態様と同様な露光工程を行なう方法
である。

【００４５】［第３および第４の態様］第３および第４
の態様は、第１および第２の態様のように転写法ではな
く、カラーフィルターを構成する基板上に直接液晶層を
形成する他は、前記第１あるいは第２の態様と同様な工
程でカラーフィルターを作製する方法である。

【００４６】以下に、図を用いて前記第１の態様による
カラーフィルターの作製方法を説明する。まず、図１−
（Ａ）で示すように、仮支持体１０の上にクッション層
１２を設け、更にポリビニルアルコール等の配向膜１４
を積層する。次に、図１−（Ｂ）に示すように、配向膜
にラビング処理が施される。このラビング処理は、必ず
しも必要ではないが、ラビング処理した方がより配向性
を向上させることができる。次に、図１−（Ｃ）に示す
ように、前記配向膜１４上に、液晶組成物を塗布、乾燥
し液晶層１６を形成した後、この液晶層１６上にカバー
フィルム１８を設けて、転写材料２０を作製する。

【００４７】一方、図１−（Ｄ）に示すように、別の基
板２２に図１−（Ｂ）と同様にして配向膜２４を形成
し、その表面にラビング処理を施す。以下、これをカラ
ーフィルタ用基板２６と称する。次いで、転写シート材
料２０のカバーフィルム１８を剥がした後、図２−
（Ｅ）に示すように、該転写シート２０の液晶層１６の
表面と、カラーフィルタ用基板２６の配向膜２４の表面
とが接触するように重ね合わせ、図中の矢印方向に回転
するロールを通してラミネートされる。その後、図２−
（Ｆ）に示すように、転写材料２０の配向膜１４とクッ
ション層１２との間で剥離され、カラーフィルタ用基板
２６の上に、液晶層１６が配向膜１４と共に転写され
る。この場合、クッション層１２は、必ずしも仮支持体
１０と共に剥離しなくてもよい。

【００４８】転写後、図３−（Ｇ）に示すように、配向
膜１４の上方に、光の透過率の異なる領域を複数有する
露光マスク２８およびバンドパスフィルタ（図示せず）
を配置し、このマスク２８を介して紫外線照射し、光反
応型キラル剤に光反応を生じさせる。

【００４９】次に、図３−（Ｈ）に示すように、液晶層
１６に対して、上記工程（Ｇ）におけると同様の光源
（ただしバンドパスフィルタを用いず）を用い、前記工
程（Ｇ）の光照射とは異なる照射強度で紫外線を照射し
て、パターンを固定化する。その後、２−ブタノン、ク
ロロホルム等を用いて、液晶層１６上の不要部分（例え
ば、クッション層、中間層等の残存部、未露光部）を除
去することにより、図３−（Ｉ）に示すように、Ｂ・Ｇ
・Ｒの反射領域を有するコレステリック液晶偏光素子層
を形成する。次いで、図３−（Ｊ）に示すように、画素
間（Ｇ画素とＢ画素の間、Ｂ画素とＲ画素の間、Ｒ画素
とＧ画素の間）をフォトリソグラフィー法あるいはアブ
レーション法により除去し開口部７３を形成する。（な
お、液晶駆動電極としてＴＦＴ等のアクティブ素子を用
いる場合は、後述の実施例のようにコレステリック液晶
偏光素子層とともに、配向層、基板、光吸収層等に一緒
に開口部を設け、コンタクトホールを形成することが好
ましい。）

【００５０】カラーフィルターとして機能する液晶層の
厚みとは、１．５〜４μｍが好ましい。

【００５１】これらの工程及び使用する転写材料、支持
体等の材料については、本発明者らが先に提出した特願
平１１−３４２８９６号及び特願平１１−３４３６６５
号の各明細書に詳細に記載されている。

【００５２】上記のように、光反応型キラル剤を含む液
晶組成物を用いると、光量に対する液晶の螺旋構造の捻
れ力の変化率が大きいので、液晶が呈し得る選択反射色
の色幅が拡がり、色純度に優れた青(Ｂ)、緑(Ｇ)、赤
(Ｒ)の３原色よりなるカラーフィルターを得ることがで
きる。

【００５３】前記のようにしてコレステリック液晶偏光
素子層を形成した後、前記層の画素間の部分を除去する
ことにより画素間に前記層が存在しない開口部を形成す
る工程が行なわれる。開口部を形成するには、常法のフ
ォトリソグラフィー法や、赤外レーザなどにより直接除
去するアブレーション法などが行なわれる。

【００５４】［液晶表示素子］次に、前記のごとき本発
明のカラーフィルターを用いる液晶表示装置について説
明する。本発明の液晶表示装置は、支持基板および対向
基板の間に、カラーフィルター、液晶層、および液晶駆
動電極を少なくとも有し、該カラーフィルターとして、
前記のごとき本発明のカラーフィルターを用いる。本発
明の液晶表示装置は、反射型液晶表示装置が適している
が、これに限定されるものではなく、透過型液晶表示装
置（たとえば特開平２０００−２３１０９７号公報に記
載のごとき透過型液晶表示装置）も可能である。

【００５５】本発明の液晶表示装置の例を図を用いて説
明するが、これらに限定されるものではない。図４は、
アクティブマトリックス型の反射型液晶装置の一例を示
す。図４に示すように、この反射型液晶表示素子は、図
４の上方を観察者側とすると、偏光板４０の下に１／４
波長板４２、透明基板４４、透明な共通電極４６、電気
的に駆動可能な液晶層４８、透明画素電極（表示電極）
５０、コレステリック偏光素子層５２、該層に設けた開
口ないしコンタクトホール５３、光吸収層５４、該光吸
収層に設けた開口ないしコンタクトホール５５、ＴＨＦ
（薄膜トランジスタ）等のアクティブ素子５６、アクテ
ィブ素子を電気的に接続するための金属配線５８、支持
基板５９を順次配置した構成になっている。なお、アク
ティブ素子としてＭＩＭを用いる場合には、透明基板４
４側に走査線として、ストライプ状の透明電極を形成す
る。なお、液晶表示装置には、液晶配向膜、スペーサ
ー、シール剤等が通常用いられるが、図４ではこれらは
省略されている。

【００５６】透明基板４４および支持基板５９には、ガ
ラス基板が適しているが、軽量で割れにくい液晶表示装
置とするために、ガラス基板の代わりにプラスチック基
板を用いることも可能である。透明電極（共通電極４
６、画素電極５０、走査線等）には、ＩＴＯ膜が好まし
く用いられる。

【００５７】上記偏光板４０と１／４波長板４２とは、
観察者側から入射した光ｈ１を右回りまたは左回りの円
偏光として透明基板４４側に出射するように、偏光板４
０の偏光面と１／４波長板４２の遅相軸がほぼ４５度の
角度を保つように配置される。図４では、右回りの円偏
光となるように配置されている。ここで用いる１／４波
長板は可視光全体の波長に渡って１／４波長の位相変調
を発生させる広帯域のものがより好ましい。

【００５８】液晶層４８は、駆動電圧がＯＦＦ状態では
光学的に等方相であり、ＯＮ状態ではリターデーション
が１／２波長であるものを用いることとする。

【００５９】液晶層４８に電圧を印可するための透明画
素電極５０は、コレステリック偏光素子層５２と光吸収
層５４に設けられた開口あるいはコンタクトホール５
２、５５を介して金属配線５８を備えたアクティブ素子
（ＴＦＴ）５６と接続されている。

【００６０】コレステリック偏光素子層５２は、赤色反
射領域、緑色反射領域、青色反射領域に分割されてお
り、それぞれの領域は対応する反射色を選択反射するよ
うな螺旋ピッチを有している。

【００６１】光吸収層５４はコレステリック偏光素子層
５２を透過してくる光を全て吸収するように十分な光学
濃度をもつものを、コレステリック偏光素子層５２とア
クティブ素子（ＴＦＴ）５６及び金属配線５８との間に
配置する。このように配置することにより、液晶層に電
圧を印加させない場合、カラーフィルターを透過する円
偏光（たとえば下記のように左回りの円偏光）がアクテ
ィブ素子間を結ぶ配線により再反射されて、その円偏光
（左回りの円偏光）がカラーフィルターを透過し観察者
側に到達することを防ぐことができる。また、アクティ
ブ素子５６間は電気的に絶縁性を保つことが必要である
が、光吸収層５４に絶縁性を持たせることにより光吸収
層と絶縁層を兼ねさせることができ、好ましい。また、
光吸収層５４を絶縁性にしない場合には、光吸収層５４
とアクティブ素子５６及び金属配線５８との間に絶縁層
を設けることが必要である。光吸収層は、可視領域の波
長の光を吸収する層が好ましく、たとえば顔料としてカ
ーボンブラック粒子を用いることができる。また、光吸
収層のバインダーポリマーとしては絶縁性樹脂が好まし
く用いられ、たとえばポリアセタール樹脂、ポリアミド
樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げら
れる。

【００６２】次に、上記構成の反射型液晶表示素子によ
る表示動作を図４を用いて説明する。図４では中央の破
線を挟んで、左側が駆動電圧ＯＦＦの状態、右側が駆動
電圧ＯＮの状態とする。

【００６３】図４に示すように、観察者側から入射した
光線ｈ１は偏光板４０と１／４波長板４２により右回り
の円偏光に変換される。この右回りの円偏光は透明基板
４４および透明共通電極４６を通過する際には、何ら変
調されることもなく、右回りの円偏光として電圧が印可
されていない状態の液晶層４８に進入する。液晶層４８
は電圧が印可されていない状態では光学的に等方的な状
態をとっているので、ここでも変調を受けることなく透
過し、次いで透明画素電極５０を通過した光は右円偏光
状態を推持したままコレステリック偏光素子層５２に向
かう。このとき、コレステリック偏光素子層５２が、例
えば右回りの円偏光の内、赤色波長領域に選択反射を示
すように螺旋の向きとピッチが定められているとする
と、入射してきた右円偏光ｈ１の内、赤色以外の色の光
ｈ２はコレステリック偏光素子５２を透過し、光吸収層
５４に達し吸収される。一方、入射してきた右円偏光の
内、赤色の光はコレステリック偏光素子層５２を透過す
ることができず、右回りの円偏光ｈ３として反射され、
観察者側に向かう。反射された赤色の右円偏光ｈ３は、
前記理由により何ら変調されることなく１／４波長板４
２に到達し、１／４波長板４２と偏光板４０の作用によ
り偏光軸が偏光板４０の偏光面と平行な直線偏光として
観察されることになる。

【００６４】液晶層４８に対して電圧が印可された状態
では、入射光ｈ４は前記と同様に液晶層４８に右回りの
円偏光として進入する。電圧が印可された状態では液晶
層４８は１／２波長のリターデーションを有するので、
右回りの円偏光は左回りの円偏光に変調されて液晶層４
８から出射されるため、右回りの円偏光に対してのみ選
択反射を示すコレステリック変調素子５２をすべて通過
する。通過した光は光吸収層５４により全て吸収される
ので、結果的に観察者側へは何ら光は反射されないこと
になる。

【００６５】次に、図５を用いて本発明の別な実施の一
形態を説明する。図５は、単純マトリックス型の反射型
液晶表示素子の一例を示す。図５に示すように、この反
射型液晶表示素子は、図の上方を観察者側とすると、偏
光板６０の下に１／４波長板６２、透明基板６４、透明
走査電極６６、電気的に駆動可能な液晶層６８、透明信
号電極７０、コレステリック偏光素子層７２、該層の画
素間に設けた開口部７３、透明支持基板７４、光吸収層
７６を順次配置した構成になっている。

【００６６】上記透明基板６４、透明支持基板７４、透
明（走査・信号）電極６６、７０、偏光板６０、１／４
波長板６２、液晶層６８およびコレステリック液晶偏光
素子層７２は、前記図１のものと同様のものが用いら
れ、同様に機能する。

【００６７】液晶層６８に電圧を印可するための透明信
号電極７０はコレステリック偏光素子層７２と液晶層６
８の間に配置される。

【００６８】光吸収層７６コレステリック偏光素子層７
２及び透明支持基板７４を透過してくる光を全て吸収す
るように十分な光学濃度を持つものを、透明支持基板７
４のコレステリック偏光素子層７２とは反対側の表面に
配置する。

【００６９】図５に示す液晶表示装置も、液晶層に電圧
が印加されていない場合の光線ｈ１、および印加されて
いる場合の光線ｈ４は、図４における液晶表示装置の場
合と同様に反射あるいは吸収され、ｈ１はカラーフィル
ター７２によりｈ３として反射され観察者側に向かい、
一方、ｈ４はカラーフィルターをすべて透過し透明基板
７４を通ってすべて光吸収層７６に吸収され観察者側へ
は光は反射されない。

【００７０】

【実施例】実施例１本発明のカラーフィルターおよびこのカラーフィルター
を用いる液晶表示装置の例を示す。液晶表示装置は図４
に示すような構造を有するものとした。（１）液晶組成物の調製以下で示す組成の液晶組成物を調製した。

【００７１】

【化６】

【００７２】なお、前記液晶化合物のｉｓｏｔｒｏｐｉ
ｃ点は１２０℃で、ｎｅｍａｔｉｃ点は８５℃である。

【００７３】（２）カラーフィルターの作製 1) 透明支持基板の準備市販の無アルカリガラス（厚さ０．７５ｍｍ）を、アル
カリ洗剤を用いて超音波をかけながら洗浄した後、１０
０℃で２０分間乾燥させた。 2) 透明支持基板へＴＦＴ素子、光吸収層、カラーフィ
ルター、コンタクトホール、透明画素電極および配向膜
の形成ＴＦＴ素子および光吸収層の形成前記1)で準備した透明支持基板にＴＦＴ素子を常法によ
り形成した。次に、この上に、カーボンブラックと絶縁
性樹脂（ポリビニルブチラール）を含む光吸収層用溶液
（絶縁性樹脂に対しカーボンブラックを３０質量％添
加）を、乾燥厚みが２μｍになるようにスピンコート法
で塗布・乾燥して、光吸収層を形成した。

【００７４】光吸収層の配向処理光吸収層上にポリイミド配向膜塗布液〔ＬＸ−１４００
（日立化成デュポン（株）製）をＮ−メチル−２−ピロ
リドン：２−ブトキシエタノール：ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテルの１：１：１混合溶媒に溶解させ
た２質量％溶液〕をスピンコーターを用い、１０００ｒ
ｐｍで塗布し、１００℃のオーブンで３０分間乾燥した
後、２５０℃のオーブンで３０分キュアして配向膜を形
成した。更に、該膜の表面をラビング処理により配向処
理した。

【００７５】コレステリック液晶偏光素子層の形成上記で作製した配向膜上に、前記（１）の液晶組成物
をスピンコーターを用い６００ｒｐｍで、塗布層がおよ
そ２μｍとなるように塗布し、これを１００℃のオーブ
ンで３０分間乾燥して液晶層を形成した。前記液晶層の
上に、透過率が三段階に異なり（０％、４６％、９２
％）、それぞれの領域が赤色画素用、緑色画素用、青色
画素用に対応して配列されたフォトマスクと３５０ｎｍ
に中心を持つバンドパスフィルタとを介して超高圧水銀
灯を配置し、このフォトマスク及びバンドパスフィルタ
を通して超高圧水銀灯により照射しパターニングした。
このときの照射エネルギーは青色画素用に対して８４ｍ
Ｊ／ｃｍ²であり、照射強度は４．２ｍＷ／ｃｍ²であっ
た。また、照射時間は２０秒であった。その後、フォト
マスクとバンドパスフィルタとを取り除き、液晶層をホ
ットプレートにより加熱し、ｉｓｏ点である１２０℃で
３０秒間保持した。その後、液晶層を８５℃に保持した
ホットプレートによりＮ点である８５℃に冷却し、その
温度で３０秒間保持した。次に、液晶層を８５℃に保っ
たまま、３２０ｎｍに中心を持つバンドパスフィルタを
介した超高圧水銀灯により、照射強度１１．４ｍＷ／ｃ
ｍ²で２０秒間、全面に露光し、液晶層を重合硬化させ
た。更に、カラーフィルター層の硬化を促進するため
に、２２０℃のオーブンで２０分間焼成し、赤色画素、
緑色画素、青色画素パターンが形成された、コレステリ
ック液晶偏光素子層が得られた。

【００７６】コレステリック液晶偏光素子層の画素
間への開口部の形成次いで、コレステリック液晶偏光素子層の上に、市販の
フォトレジスト材料（ネガ型）を塗布し、レジスト層を
形成した。次に通常のフォトリソグラフィー法を用い
て、画素間開口部（幅５μｍ）形成予定部を除いた部分
に露光し、その後非露光部をアルカリ現像液中で除去
し、２５０℃で１時間加熱して残留しているレジスト膜
を硬化させた。次に、ドライエッチング装置（日電アネ
ルバ製リアクティブイオンエッチング装置ＤＥＡ−
５０６）およびＣＦ₄ガスを用いて、コレステリック液
晶偏光素子層の画素間に開口部を形成した。続いて、コ
レステリック液晶偏光素子層の露光部に残るレジスト層
を除去した。コンタクトホールおよび画素電極の形成その後、常法により、前記で形成した開口部の一部を
通って、前記配向膜および光吸収層を抜け、ＴＦＴ素子
に到達するコンタクトホールのための開口部を形成し、
その後常法により、ＴＦＴ素子から透明画素電極の間の
電気的接続をするコンタクトホールを形成した。次い
で、透明画素電極を形成した。次いで、前記画素電極上
にポリイミド配向膜（ＬＸ−１４００，日立化成デュポ
ン（株）製）塗布液をスピンコーターにより塗布し、１
００℃のオーブンで５分間乾燥した後、２５０℃のオー
ブンで１時間焼成して配向膜を形成し、更に、該膜の表
面をラビング処理により配向処理した。

【００７７】（３）液晶表示装置の作製 1) 透明基板（対向基板）の準備厚さ１．１ｍｍの対向ガラス基板に、スパッタリング法
によりＩＴＯ膜（共通電極）を０．１μｍ形成し、その
前記配向処理と同様の方法により配向処理を行った。 2) 液晶表示装置の作製前記のカラーフィルター等を設けた透明支持基板の配向
処理面側と対向基板の配向処理面側を２μｍのスペース
を空けて貼り合わせた後、液晶を注入した。液晶として
は電圧ＯＮ時にホメオトロピック配向をとり、ＯＦＦ時
にリターデーションが１／２波長になるものを使用し
た。前記液晶セルの対向基板側に１／４波長板（スミカ
ライト住友化学（株）製）および偏光板（住友化学
（株）製、ＳＨ−１８３２ＡＷ）を粘着剤を介して貼っ
た。このようにして作製した開口部を有するコレステリ
ック液晶偏光素子層を有するカラーフィルターは、解像
度に優れていた。また、このカラーフィルターを組み込
んだ液晶表示装置は、明るさおよび色純度が優れてい
た。

【００７８】比較例１前記実施例１のカラーフィルターおよび液晶表示装置の
作製において、コレステリック液晶偏光素子層の画素間
に実施例１の（２）１）におけるような開口部を設け
ず、画素内にコンタクトホールを形成する他は、実施例
１と同様にしてカラーフィルターおよび液晶表示装置を
作製したが、実施例１のものに比較して解像度が劣るも
のになった。

【００７９】

【発明の効果】本発明のカラーフィルターは、そのコレ
ステリック液晶偏光素子層が開口部を有しているため解
像度に優れ、またこのカラーフィルターを組み込んだ液
晶表示装置は、明るさおよび色純度の点において優れて
いた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶カラーフィルタを製造する工程
の一部を示す概略図である。

【図２】本発明の液晶カラーフィルタを製造する工程
の一部を示す概略図である。

【図３】本発明の液晶カラーフィルタを製造する工程
の一部を示す概略図である。

【図４】本発明のアクティブマトリックス型液晶表示
装置の一例を示す概念図であり、１点鎖線の左側は電圧
ＯＦＦ状態の、右側は電圧ＯＮ状態の、円偏光の反射あ
るいは吸収をそれぞれ示す。

【図５】本発明の単純マトリックス型液晶表示装置の
一例を示す概念図であり、１点鎖線の左側は電圧ＯＦＦ
状態の、右側は電圧ＯＮ状態の、円偏光の反射あるいは
吸収をそれぞれ示す。

【符号の説明】１０仮支持体１２クッション層１４、２４配向膜１６液晶層１８カバーフィルム２０転写材料２２基板２６カラーフィルタ用基板２８露光マスク４０、６０偏光板４２、６２１／２波長板４４、６４透明基板４６透明共通電極４８、６８液晶層５０透明画素電極５２、７２コレステリック液晶偏光素子層５３、７３コレステリック液晶偏光素子層に設けた
開口ないしコンタクトホール５４、７６光吸収層５５光吸収層に設けた開口ないしコンタクト
ホール５６ＴＦＴ素子５８金属配線５９、７４支持基板６６透明走査電極７０透明信号電極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも基板およびその上に設けたコ
レステリック液晶偏光素子層を有するカラーフィルター
であって、前記コレステリック液晶偏光素子層の画素間
に、該層が存在しない開口部を有することを特徴とする
カラーフィルター。
【請求項２】前記コレステリック液晶偏光素子層が、
基板形成された、少なくとも、重合性基を少なくとも１
つ有する液晶性化合物および光反応型キラル剤を含む液
晶層に、該光反応型キラル剤の感光波長領域にある光を
画像様に照射する工程、前記重合性基を少なくとも１つ
有する液晶性化合物を光重合させる工程を少なくとも含
む工程により作製されることを特徴とする請求項１に記
載のカラーフィルター。
【請求項３】基板の上に形成した液晶層からコレステ
リック液晶偏光素子層を形成する工程、および前記層の
画素間に前記層が存在しない開口部を形成する工程とを
少なくとも含むカラーフィルターの製造方法。
【請求項４】基板の上に液晶層を形成する工程、前記
液晶層の画素間に対応する部分に液晶層が存在しない開
口部を形成する工程、前記開口部を設けた液晶層からコ
レステリック液晶偏光素子層を形成する工程とを少なく
とも含むカラーフィルターの製造方法。
【請求項５】前記コレステリック液晶偏光素子層を形
成する工程が、基板に形成された、少なくとも、重合性
基を少なくとも１つ有する液晶性化合物および光反応型
キラル剤を含む液晶層に該光反応型キラル剤の感光波長
領域にある光を画像様に照射する工程、前記重合性基を
少なくとも１つ有する液晶性化合物を光重合させる工程
を少なくとも含む工程により作製されることを特徴とす
る請求項３または請求項４に記載のカラーフィルターの
製造方法。
【請求項６】少なくとも１つが光透過性の１対の基板
の間にカラーフィルター、液晶層、アクティブ素子およ
び透明画素電極を少なくとも有する液晶表示装置におい
て、前記カラーフィルターが、請求項１または請求項２
に記載のカラーフィルターであることを特徴とする液晶
表示装置。
【請求項７】前記開口部がアクティブ素子と透明画素
電極の間の電気的な接続を行なうコンタクトホールを形
成することを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装
置。