JP2002265901A - 剥離シートの製造方法 - Google Patents

剥離シートの製造方法

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JP2002265901A
JP2002265901A JP2001074147A JP2001074147A JP2002265901A JP 2002265901 A JP2002265901 A JP 2002265901A JP 2001074147 A JP2001074147 A JP 2001074147A JP 2001074147 A JP2001074147 A JP 2001074147A JP 2002265901 A JP2002265901 A JP 2002265901A
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Masufumi Hayashi
益史 林
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Fujimori Kogyo Co Ltd
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Fujimori Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基材に離型剤層を形成する際の熱による製品
の劣化を防止することができ、かつ、剥離性が良好な剥
離シートを簡易に製造し得る剥離シートの製造方法を提
供する。 【解決手段】 基材上に反応制御剤を含有する付加反応
型シリコーン系離型剤を塗布した後、1.33×104
Pa(100mmHg)以下の減圧下で反応制御剤を揮
発除去することにより該離型剤を硬化させて離型剤層を
形成することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ラベルや粘着シー
ト、テープなどの粘着製品や紙オムツ、ナプキンなどの
使い捨て物品用、あるいは各種工程紙などに使用される
剥離シートの製造方法に関し、詳細には、加工時におけ
る熱によるダメージを抑制し、剥離性能に優れた剥離シ
ートを簡易に製造し得る剥離シートの製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来からラベルや粘着シート、テープな
どの粘着製品や紙オムツ、ナプキンなどの使い捨て物品
用、あるいは各種工程紙用などに剥離紙や剥離フィルム
などのいわゆる剥離シートが使用されている。特に、軽
剥離性を要する用途においては、離型剤としてシリコー
ン系剥離剤を用いた剥離シートが多く使用されている。
このようなシリコーン系剥離剤の加工は、基材上にシリ
コーン系剥離剤を塗工し、加熱することにより、シリコ
ーンを乾燥、硬化させて行われるのが一般的である。シ
リコーン系剥離剤としては、当初、縮合反応型が使用さ
れていたが、高温での乾燥硬化が必要であるため生産性
が悪く、さらに、耐熱性の乏しい基材には使用出来ない
という問題があった。
【0003】その後、付加反応型のシリコーン系剥離剤
が開発され、比較的低温で短時間で硬化可能なものが提
供された。しかしながら、付加反応型シリコーンにおい
ても、一般的に80℃以上の温度での加熱硬化が必要な
ため、ポリオレフィン系フィルムや軟質塩ビ等の耐熱性
の乏しい基材への適用は困難であった。また、比較的耐
熱性が良好なポリエチレンテレフタレートフィルムにお
いても、加熱乾燥工程における温度が基材のガラス転移
温度よりも高いために、熱収縮によりフィルムがシワ状
に変形してしまう欠点があり、このような現象はポリエ
チレンテレフタレートフィルムの厚さが薄くなる程顕著
になる傾向があった。
【0004】一方、紙基材においても、紙の両面にポリ
エチレンをラミネートした基材にシリコーン系の離型剤
層を形成する場合、120℃程度まで加熱すると、紙中
の水分が蒸発してポリエチレンラミネート部が発泡して
しまう問題があった。そのため、紫外線硬化型や電子線
硬化型などのシリコーン系剥離剤も提案されているが、
シリコーンに反応性の高い、嵩高い官能基を導入してい
るため、比較的剥離が重く、使用できる粘着剤が限られ
る問題があった。このため、剥離性と低温硬化性を両立
するために、付加反応型シリコーンに光重合開始剤を添
加し、熱と紫外線の併用で乾燥、硬化させる熱+紫外線
硬化タイプのシリコーン系剥離剤も提案されている。し
かし、この場合でも、シリコーン系剥離剤中に含まれて
いる反応抑止剤を加熱することで除去しなければならな
いため、80℃程度での加熱が必要となり、低温硬化性
が不十分であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点を解決するためになされたものであり、本発明
の目的は、基材に離型剤層を形成する際に、低温硬化が
可能であり、離型剤層形成時における熱の影響を抑え、
熱による製品の劣化を防止することができ、かつ、剥離
性が良好な剥離シートを簡易に製造し得る剥離シートの
製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】付加反応型シリコーンと
は、ケイ素原子に直結した水素を持つポリオルガノシロ
キサンとビニル基若しくはアルケニル基を持つポリオル
ガノシロキサンとを、白金系触媒などの触媒を用いて反
応させるものである。剥離シートを作成する場合には、
紙やフィルムなどの基材上に付加反応型シリコーンを塗
布した後、加熱などにより乾燥硬化するのが一般的であ
る。付加反応型シリコーンは、ハンドリング性などの観
点から、通常、触媒を混合した後の塗布液の状態では硬
化せず、基材上に塗工した後の加熱処理などにより硬化
するようにするため、離型剤組成物としての塗布液中に
反応制御剤を含有し、反応制御剤の存在により常温にお
ける硬化反応を制御すると共に、加熱などの処理により
この反応制御剤が揮発除去されることで反応が進行する
ように設計されている。
【0007】本発明者は、従来加熱することにより揮発
除去していた反応制御剤を、基材がダメージを受けるよ
うな加熱処理を行なうことなく、または、加熱温度を低
温とする条件下で、除去することによりシリコーンの硬
化反応を進行させるべく鋭意検討した結果、所定の減圧
条件下で反応制御剤を揮発させることにより、シリコー
ンの低温での硬化が可能なことを見出し、本発明を完成
した。即ち、本発明の剥離シートの製造方法は、基材上
に反応制御剤を含有する付加反応型シリコーン系離型剤
を塗布した後、1.33×104Pa(100mmH
g)以下の減圧下で反応制御剤を揮発除去することによ
り該離型剤を硬化させて離型剤層を形成することを特徴
とする。本発明によれば、付加反応型シリコーン系離型
剤の硬化工程を加熱することなく、又は、基材がダメー
ジを受けない程度のマイルドな条件で加熱して、雰囲気
を1.33×104Pa以下の減圧状態とすることで、
離型剤中の反応制御剤を効率よく除去することができ、
低温条件下での速やかな硬化を実現できた。このため、
離型剤層の硬化工程を低温で実施することができ、加熱
による基材の収縮や変質に起因する製品の劣化を抑制し
ながら、作業効率を低下させることなく、剥離性が良好
な剥離シートを得ることができた。
【0008】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。本発明の剥離シートにおいて用いられる基材は、特
に制約されるものではなく、シリコーン系剥離剤の付加
反応を阻害しない基材であれば、紙、ラミネート紙、合
成樹脂フィルムなどの公知のものを任意に選択して用い
ることができる。紙基材としては、具体的には上質紙、
クラフト紙、セミグラシン紙、グラシン紙、模造紙、コ
ピー用紙、新聞用紙などの紙類や、各種の紙にプラスチ
ック樹脂をラミネートした樹脂ラミネート紙、各種の紙
に水溶性樹脂、防湿コートやサイズ剤処理を行った各種
コート紙、合成紙、不織布などが挙げられる。
【0009】フィルム基材としては、具体的にはポリオ
レフィン系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリア
ミド系フィルム、アセテートフィルム、ポリカーボネー
トフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、各
種液晶ポリマーフィルム、塩化ビニルフィルム、塩化ビ
ニリデンフィルム、各種生分解フィルム、各種金属蒸着
フィルム、各種金属酸化物蒸着フィルムなどが挙げられ
る。
【0010】基材は、紙またはフィルムの単体からなる
ものであっても、複数のものを積層したものであっても
良い。これらの基材には、帯電防止処理や易接着処理、
マット化処理などの表面処理を行なってもよく、使用す
る目的に応じて、印刷や着色を施したものも使用するこ
とができる。剥離シートの基材の厚さには特に制限はな
いが、使用時の取り扱い性やコストなどの観点から6〜
400μm程度が好ましい。
【0011】本発明に係る剥離シートに使用される離型
剤は、付加反応型シリコーン系剥離剤であれば、いずれ
でもよい。付加反応型シリコーンとは、珪素原子に直結
した水素を有するシロキサンと、ビニル基やアルケニル
基を有するシロキサンとを白金化合物などの付加反応触
媒存在下で反応させるタイプのシリコーンである。この
反応形態をとるものであれば、公知のいずれの付加反応
型シリコーンでも使用することができる。このようなシ
リコーン化合物としては、分子内に少なくとも2個のア
ルケニル基を有するオルガノポリシロキサンとメチルハ
イドロジェンポリシロキサンなどとの組合せが一般的で
ある。
【0012】本発明の離型剤に含まれる付加反応型触媒
としては、公知の白金若しくは白金化合物系の触媒やパ
ラジウム化合物系、ロジウム化合物系の触媒などが使用
でき、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶
液、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、塩化白金酸と
ビニルシロキサンとの配位化合物、塩化白金酸とケトン
類との錯体、白金を担持したアルミナ微粉末、白金を担
持したシリカ微粉末、白金黒、パラジウム化合物、ロジ
ウム化合物等が挙げられる。触媒の含有量としては、一
般的に用いられる量でよく、硬化性の観点からは、シロ
キサン成分に対して、1〜1000ppmの範囲で用い
られ、1〜300ppmの範囲であることが好ましい。
【0013】また、室温における保存安定性向上のため
添加される反応制御剤としては、3−メチル−1−ブチ
ン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3
−オール、3−ペンテン−1−ブチン−3−オール、フ
ェニルブチノール等のアセチレン系アルコール;3−メ
チル−1−ペンテン−3−イン、3,5−ジメチル−1
−ヘキシン−3−イン等のアセチレン系化合物、これら
のアセチレン系化合物とアルコキシシラン、アルコキシ
シロキサン、ハイドロジェンシラン、ハイドロジェンシ
ロキサンとの反応生成物;テトラメチルビニルシロキサ
ン環状体等のビニルシロキサン;ベンゾトリアゾール等
の有機窒素化合物、及びその他の有機リン化合物、オキ
シム化合物、有機クロム化合物などが挙げられる。反応
制御剤の含有量としては、一般的に用いられる量でよ
く、保存安定性の観点からは、シロキサン成分100重
量部に対して、0.001〜10重量部の範囲で用いら
れ、0.01〜1重量部の範囲であることが好ましい。
【0014】上記付加反応型シリコーン系離型剤には、
官能基を含まないか、又は、極少量含むポリオルガノシ
ロキサンなどの軽剥離化剤、シリコーンレジンなどの重
剥離化剤、ポットライフ延長剤、エマルジョンタイプで
あれば、乳化剤やコロイド安定剤、防腐剤などの各種添
加剤を含んでいてもよい。離型剤層形成用の塗布液とし
て、上記付加反応型シリコーン系離型剤は、無溶剤の状
態で使用してもよいし、溶剤や水等の希釈剤を用いて希
釈した状態で使用してもよい。乾燥しやすさの観点から
は、無溶剤タイプが好ましいが、基材表面へ均一塗工す
る観点からは希釈剤で希釈するタイプが好ましい。使用
用途に合わせて、塗布液の調製方法を選択すればよい。
【0015】離型剤層の塗工量は、特に制限はなく剥離
シートの使用目的に応じて選択されるが、剥離性能を考
慮すると乾燥後の塗布量で0.03〜2.0g/m2
度が好ましい。基材の種類により異なるが、0.03g
/m2未満であると、剥離性能が低下し、2.0g/m2
を超えると剥離シートをロール状に巻いたり、積層して
保存した時に、シリコーン塗工面と塗工背面とがブロッ
キングを起こす恐れがある。基材上に離型剤層塗布液を
塗布する方法は、グラビヤコート、メイヤーバーコー
ト、エアーナイフコートなどの公知の方法より適宜選択
することができる。
【0016】離型剤層を基材上に塗布した後に、1.3
3×104Pa(100mmHg)以下の減圧下にて離
型剤層を乾燥硬化させることにより、目的の剥離シート
を得ることができる。減圧条件が1.33×104Pa
を超えるとシリコーンの硬化が不十分になり、良好な剥
離性能が得られない。減圧条件は1.33×104Pa
以下であれば良いが、硬化時間を短縮し、生産性を上げ
るという観点からは、2.66×10 3Pa以下である
ことが好ましい。硬化工程は常温で行っても充分な硬化
を行うことができるが、必要に応じて、基材がダメージ
を受けない程度の熱を加えたり、遠赤外線などを照射す
ると、離型剤層の硬化時間を更に短くすることができ
る。
【0017】減圧条件下において、付加反応型シリコー
ン系離型剤に含まれる前記反応制御剤が揮発除去され、
付加反応型シリコーンの硬化反応が開始、進行する。通
常、触媒に対して当モルを超える量で配合される反応制
御剤が除去され、触媒のモル量より少なくなった時点で
硬化反応が開始されるものと考えられる。減圧条件下に
おける硬化工程の処理時間は、用いる離型剤の種類、離
型剤層の厚み(塗布量)、環境温度などにより適宜選択
される。こうして得られた剥離シートは、硬化工程にお
いて基材が加熱によるダメージを受けることなく、離型
剤層が形成できるため、離型剤層や基材の特性を生かし
た優れた離型性を有する剥離シートが得られる。
【0018】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに説明す
る。 (実施例1)厚さ30μmのポリエチレンフィルムの片
面に、付加反応型シリコーン離型剤〔東レ・ダウコーニ
ング・シリコーン製SRX−211(商品名)、(触媒
SRX−212をSRX−211 100重量部に対し
て1部添加)〕を固形分として0.2g/m2となるよ
うに塗布した後、真空脱泡機中で23℃、2.0×10
3Paの条件下で10分間減圧することにより乾燥硬化
させて片面にシリコーン系離型剤層を有する剥離シート
1を作成した。
【0019】(実施例2)総厚110μmの両面ポリエ
チレンラミネート上質紙の片面に、付加反応型シリコー
ン離型剤〔信越化学工業(株)製、KS−776A(商
品名)(触媒PL−50TをKS−776A 100重
量部に対して1部添加)〕を固形分として0.6g/m
2となるように塗布した後、真空脱泡機中で40℃、
1.33×103Paの条件下で5分間減圧することに
より乾燥硬化させて片面にシリコーン系離型剤層を有す
る剥離シート2を作成した。
【0020】(実施例3)前記実施例1において、減圧
条件を1.07×104Paで30分とすることにより
片面にシリコーン系離型剤層を有する剥離シート3を作
成した。
【0021】(比較例1)前記実施例1において、減圧
処理する代わりに常圧下80℃で10分加熱処理するこ
とにより片面にシリコーン系離型剤層を有する剥離シー
ト4を作成した。 (比較例2)前記実施例1において、減圧処理条件を
1.60×104Paで30分にすることにより片面に
シリコーン系離型剤層を有する剥離シート5を作成し
た。 (比較例3)前記実施例2において、加熱減圧処理する
代わりに、常圧下、40℃で30分間加熱処理すること
により片面にシリコーン系離型剤層を有する剥離シート
6を作成した。
【0022】[剥離シートの評価法]得られたサンプル
の剥離力、残留接着率、シリコーン硬化性、剥離シート
外観を以下に記載の方法により評価した。その結果を下
記表1に示す。 〔1.剥離力評価〕剥離シートに粘着テープ(日東電工
株式会社製 ポリエステルテープNo.31B)をゴム
ローラーを用いて貼り合わせ、この貼り合わせサンプル
に20g/cm2の荷重をかけて、70℃条件下にて2
0時間エージングした。その後、引張試験機を用いて1
80°剥離、0.3m/分の速度で粘着テープを剥した
時の抵抗値を測定する。抵抗値が少ないほど剥離力に優
れると評価する。
【0023】〔2.残留接着率〕剥離シートに粘着テー
プ(日東電工株式会社製 ポリエステルテープNo.3
1B)を貼り合わせて、20g/cm2の荷重をかけ
て、70℃条件下にて20時間エージングした後、これ
を剥離シートから剥がしてステンレス板に貼着する。一
方、同テープをステンレス板に貼着したものをブランク
とし、ステンレス板に貼着1時間後にそれぞれ引張試験
機を用いて180°剥離、0.3m/分の速度で粘着テ
ープを剥した時の抵抗値を測定する。ブランクを基礎と
して百分比を算出する。この数値が100%に近い程残
留接着率が良好であると判定する。
【0024】〔3.シリコーン硬化性〕剥離シートの離
型剤塗工面を人差し指の腹で3往復擦り、擦った部分の
変化を目視にて観察する。目視にて変化を検知できない
ものを完全に硬化した状態と判定する。 〔4.剥離シート外観〕剥離シートの外観を目視にて観
察する。
【0025】
【表1】
【0026】表1の結果より、本発明の製造方法により
得られた実施例1、2及び3の剥離シート1乃至3は剥
離力、残留接着率、シリコーン硬化性、剥離シート外観
のいずれも良好な結果であった。一方、80℃の温度で
乾燥を行った比較例1では、剥離力、残留接着率、シリ
コーン硬化性は比較的良好であったものの、剥離シート
が熱によりダメージを受けて、波を打ったような形に変
形した。また、減圧の条件が本発明の範囲外である比較
例2および比較的低温で硬化を行った比較例3は、剥離
シートの外観は良好であったが、この処理条件では、シ
リコーン系離型剤の硬化が不充分であり、剥離力、残留
接着率とも不良で離型剤層としての性能が発現されてい
ないことがわかった。
【0027】
【発明の効果】本発明の剥離シートの製造方法によれ
ば、基材に離型剤層を形成する際に、熱の影響を抑え
て、熱による製品の劣化を防止することができ、かつ、
剥離性が良好な剥離シートを簡易に製造し得るという効
果を奏する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材上に反応制御剤を含有する付加反応
    型シリコーン系離型剤を塗布した後、1.33×104
    Pa(100mmHg)以下の減圧下で反応制御剤を揮
    発除去することにより該離型剤を硬化させて離型剤層を
    形成することを特徴とする剥離シートの製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020013142A (ja) * 2010-03-23 2020-01-23 株式会社朝日ラバー 可撓性反射基材、その製造方法及びその反射基材に用いる原材料組成物

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020013142A (ja) * 2010-03-23 2020-01-23 株式会社朝日ラバー 可撓性反射基材、その製造方法及びその反射基材に用いる原材料組成物

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