JP2002256039A - 液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents
液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐液晶性、有機／
無機膜との密着性に優れ、液晶表示基板等に好適に用い
ることができるポリカーボネート樹脂組成物を提供す
る。 【解決手段】 下記一般式（１）で示される繰り返し単
位を含むポリカーボネート（ａ）９９〜１重量部と下記
一般式（２）で示される、官能基を２つ以上有する多官
能（メタ）アクリレート（ｂ）１〜９９重量部からなる
液晶表示素子用基板材料。 【化６】 （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素又は炭素数１から７までの
アルキル基、アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異
なっても良い。） 【化７】 （式（２）中、Ｒ5，Ｒ6は水素原子又はメチル基を示
し、それぞれ同じでも異なってもよい。ｍは１又は２を
示し、ｎは０又は１を示す。）
無機膜との密着性に優れ、液晶表示基板等に好適に用い
ることができるポリカーボネート樹脂組成物を提供す
る。 【解決手段】 下記一般式（１）で示される繰り返し単
位を含むポリカーボネート（ａ）９９〜１重量部と下記
一般式（２）で示される、官能基を２つ以上有する多官
能（メタ）アクリレート（ｂ）１〜９９重量部からなる
液晶表示素子用基板材料。 【化６】 （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素又は炭素数１から７までの
アルキル基、アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異
なっても良い。） 【化７】 （式（２）中、Ｒ5，Ｒ6は水素原子又はメチル基を示
し、それぞれ同じでも異なってもよい。ｍは１又は２を
示し、ｎは０又は１を示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明性、耐熱性、
耐溶剤性、耐液晶性、有機／無機膜との密着性に優れた
ポリカーボネート重合体組成物に関するものであり、液
晶表示素子基板等に好適に利用できる。
耐溶剤性、耐液晶性、有機／無機膜との密着性に優れた
ポリカーボネート重合体組成物に関するものであり、液
晶表示素子基板等に好適に利用できる。
【０００２】
【従来の技術】従来、２，２’―ビス（ヒドロキシフェ
ニル）プロパンにカーボネート前駆体物質を反応させて
得られるポリカーボネートは透明性、耐熱性、寸法安定
性が比較的優れていることからエンジニアリングプラス
チックとして多くの分野に広く使用されている。特に透
明性に優れることから光学材料としての用途も多い。し
かしながら、使用される用途が拡大するにつれて、より
耐熱性の高い材料が望まれている。一方、９、９’−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンにカーボネー
ト前駆体を反応させて得られるポリカーボネートは公知
であり、高屈折率で耐熱性が良好なことも知られてい
る。しかしながら、これら樹脂をプラスチック液晶表示
素子基板等に用いるには、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）やＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などの溶剤に
侵されないことが望ましく、優れた透明性や耐熱性を損
なうことなく耐溶剤性を改善することが望まれている。
さらに、これらの基板にはガス・水蒸気不透過性バリア
や透明電極等の有機／無機膜を設ける為、基板にはこれ
ら有機／無機膜との密着性を向上させることも望まれて
いる。
ニル）プロパンにカーボネート前駆体物質を反応させて
得られるポリカーボネートは透明性、耐熱性、寸法安定
性が比較的優れていることからエンジニアリングプラス
チックとして多くの分野に広く使用されている。特に透
明性に優れることから光学材料としての用途も多い。し
かしながら、使用される用途が拡大するにつれて、より
耐熱性の高い材料が望まれている。一方、９、９’−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンにカーボネー
ト前駆体を反応させて得られるポリカーボネートは公知
であり、高屈折率で耐熱性が良好なことも知られてい
る。しかしながら、これら樹脂をプラスチック液晶表示
素子基板等に用いるには、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）やＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などの溶剤に
侵されないことが望ましく、優れた透明性や耐熱性を損
なうことなく耐溶剤性を改善することが望まれている。
さらに、これらの基板にはガス・水蒸気不透過性バリア
や透明電極等の有機／無機膜を設ける為、基板にはこれ
ら有機／無機膜との密着性を向上させることも望まれて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、液晶表示素子基板に好適に用いることがで
きる透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐液晶性、有機／無機
膜との密着性に優れたポリカーボネート共重合体組成物
を提供することにある。
する課題は、液晶表示素子基板に好適に用いることがで
きる透明性、耐熱性、耐溶剤性、耐液晶性、有機／無機
膜との密着性に優れたポリカーボネート共重合体組成物
を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、 （ａ）下記一般式（１）で示される繰り返し単位を含む
ポリカーボネート（ａ）９９〜１重量部と官能基を２つ
以上有する多官能（メタ）アクリレート（ｂ）１〜９９
重量部からなる液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹
脂組成物。
ポリカーボネート（ａ）９９〜１重量部と官能基を２つ
以上有する多官能（メタ）アクリレート（ｂ）１〜９９
重量部からなる液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹
脂組成物。
【０００５】
【化３】
【０００６】（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素又は炭素数１
から７までのアルキル基、アラルキル基を表し、それぞ
れ同じでも異なっても良い。） （ｂ）官能基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレ
ート（ｂ）が下記一般式（２）で示される（メタ）アク
リレートを含んでなることを特徴とする請求項１記載の
液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物。
から７までのアルキル基、アラルキル基を表し、それぞ
れ同じでも異なっても良い。） （ｂ）官能基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレ
ート（ｂ）が下記一般式（２）で示される（メタ）アク
リレートを含んでなることを特徴とする請求項１記載の
液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物。
【０００７】
【化４】
【０００８】（式（２）中、Ｒ5，Ｒ6は水素原子又はメ
チル基を示し、それぞれ同じでも異なってもよい。ｍは
１又は２を示し、ｎは０又は１を示す。） （ｃ）官能基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレ
ート（ｂ）がジシクロペンタジエニルジアクリレートを
含んでなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素
子基板用ポリカーボネート樹脂組成物。 （ｄ）紫外線で架橋処理された請求項１記載の液晶表示
素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物に関する。
チル基を示し、それぞれ同じでも異なってもよい。ｍは
１又は２を示し、ｎは０又は１を示す。） （ｃ）官能基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレ
ート（ｂ）がジシクロペンタジエニルジアクリレートを
含んでなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素
子基板用ポリカーボネート樹脂組成物。 （ｄ）紫外線で架橋処理された請求項１記載の液晶表示
素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明のポリカーボネート樹脂
は、原料のビスフェノールとして、一般式（３）
は、原料のビスフェノールとして、一般式（３）
【００１０】
【化５】
【００１１】（式中、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は前記と同
じである。）で表されるビスフェノール（ｃ）が用いら
れる。ここで一般式（２）で表されるビスフェノール
（ｃ）としては、様々なものが適用できる。具体的な例
としては、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フ
ルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチル
フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ
−３、５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレ
ン、などが挙げられる。これらの中でも９，９−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが特に好まし
い。これらのビスフェノールは、単独で用いてもよく、
また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
じである。）で表されるビスフェノール（ｃ）が用いら
れる。ここで一般式（２）で表されるビスフェノール
（ｃ）としては、様々なものが適用できる。具体的な例
としては、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フ
ルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチル
フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ
−３、５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレ
ン、などが挙げられる。これらの中でも９，９−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが特に好まし
い。これらのビスフェノールは、単独で用いてもよく、
また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１２】本発明のポリカーボネート樹脂は、前記一
般式（２）で示されたビスフェノール（ｃ）と他のビス
フェノールとの共重合体であってもよい。他のビスフェ
ノールとしては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン［通称ビスフェノールＦ］、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン［通称ビスフェノールＡ］、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
４，４−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン［通称ビスフェノール
Ｓ］、４，４−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４−ジヒドロキシビフェノールなどが挙げられる。
また、本発明のポリカーボネート樹脂は、架橋性を良く
するために、不飽和基を含有していても良い。不飽和基
を含有したポリカーボネート樹脂としては、末端に不飽
和基を付加したもの、不飽和基を含有するビスフェノー
ルと共重合したものなどが挙げられる。末端の不飽和基
としては、アリル基、アクリル基、メタクリル基、マレ
イミド基などが例示できる。不飽和基を含有するビスフ
ェノールとしては、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシ
フェニル）メタン（通称ジアリルビスフェノールＦ）、
１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン（通称ジアリルビスフェノールＡ）、
ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）スル
ホン（通称ジアリルビスフェノールＳ）、ビス（３−ア
リル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、３、３−
ジアリル−４、４−ヒドロキシビフェノールなどが例示
できる。
般式（２）で示されたビスフェノール（ｃ）と他のビス
フェノールとの共重合体であってもよい。他のビスフェ
ノールとしては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン［通称ビスフェノールＦ］、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン［通称ビスフェノールＡ］、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
４，４−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン［通称ビスフェノール
Ｓ］、４，４−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４−ジヒドロキシビフェノールなどが挙げられる。
また、本発明のポリカーボネート樹脂は、架橋性を良く
するために、不飽和基を含有していても良い。不飽和基
を含有したポリカーボネート樹脂としては、末端に不飽
和基を付加したもの、不飽和基を含有するビスフェノー
ルと共重合したものなどが挙げられる。末端の不飽和基
としては、アリル基、アクリル基、メタクリル基、マレ
イミド基などが例示できる。不飽和基を含有するビスフ
ェノールとしては、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシ
フェニル）メタン（通称ジアリルビスフェノールＦ）、
１，１−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン（通称ジアリルビスフェノールＡ）、
ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）スル
ホン（通称ジアリルビスフェノールＳ）、ビス（３−ア
リル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、３、３−
ジアリル−４、４−ヒドロキシビフェノールなどが例示
できる。
【００１３】本発明のポリカーボネート樹脂は、通常の
ポリカーボネートの製造において慣用されている方法、
例えば、ホスゲンまたはホスゲン誘導体を使用する界面
重縮合法及びエステル交換法（エステル交換法）を用い
て合成することができる。これらの中では、界面重縮合
法が好ましい。ホスゲンまたはホスゲン誘導体を用いる
界面重縮合法としては、例えば、ビスフェノール（ｃ）
を所定の割合で含有するアルカリ水溶液と不活性有機溶
剤との混合液に、ホスゲンまたはホスゲン誘導体を導入
して反応させる方法、あるいは予めビスフェノール
（ｃ）のポリカーボネートオリゴマーをビスフェノール
（ｃ）とホスゲンまたはホスゲン誘導体から合成してお
き、これらの不活性有機溶媒と、ビスフェノール（ｃ）
を所定の割合で含有するアルカリ水溶液とを反応させる
方法などを挙げることができる。前記ホスゲン誘導体と
しては、ホスゲンをはじめトリホスゲン、ブロモホスゲ
ン、ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）カーボネ
ート、ギ酸トリクロロメチルなどが挙げられる。これら
中ではホスゲンまたはトリホスゲンが特に好ましい。
ポリカーボネートの製造において慣用されている方法、
例えば、ホスゲンまたはホスゲン誘導体を使用する界面
重縮合法及びエステル交換法（エステル交換法）を用い
て合成することができる。これらの中では、界面重縮合
法が好ましい。ホスゲンまたはホスゲン誘導体を用いる
界面重縮合法としては、例えば、ビスフェノール（ｃ）
を所定の割合で含有するアルカリ水溶液と不活性有機溶
剤との混合液に、ホスゲンまたはホスゲン誘導体を導入
して反応させる方法、あるいは予めビスフェノール
（ｃ）のポリカーボネートオリゴマーをビスフェノール
（ｃ）とホスゲンまたはホスゲン誘導体から合成してお
き、これらの不活性有機溶媒と、ビスフェノール（ｃ）
を所定の割合で含有するアルカリ水溶液とを反応させる
方法などを挙げることができる。前記ホスゲン誘導体と
しては、ホスゲンをはじめトリホスゲン、ブロモホスゲ
ン、ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）カーボネ
ート、ギ酸トリクロロメチルなどが挙げられる。これら
中ではホスゲンまたはトリホスゲンが特に好ましい。
【００１４】本発明のポリカーボネート樹脂の数平均分
子量は５千〜２０万であることが好ましく、１万〜１５
万であることがより好ましく、１万５千〜１０万である
ことが最も好ましい。数平均分子量が５千以下では、重
合物が脆くなる傾向にあり、２０万を越えると粘度が高
く成りすぎて成形性が悪くなる傾向にある。
子量は５千〜２０万であることが好ましく、１万〜１５
万であることがより好ましく、１万５千〜１０万である
ことが最も好ましい。数平均分子量が５千以下では、重
合物が脆くなる傾向にあり、２０万を越えると粘度が高
く成りすぎて成形性が悪くなる傾向にある。
【００１５】本発明で用いる多官能（メタ）アクリレー
トの具体例としては、ビス（オキシメチル）トリシクロ
［５．２．１．０2,6］デカン＝ジアクリレート、ビス
（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０2,6］デ
カン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6］デカン＝アクリレートメタ
クリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）
ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13］ペ
ンタデカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）ペ
ンタシクロ［６．５．１．１3,6 ．０2,7．０9,13］ペ
ンタデカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）
ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2 ,7．０9,13］ペ
ンタデカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの
混合物がある。これらのトリシクロデカン化合物及びペ
ンタシクロペンタデカン化合物は、群内及び（又は）群
間で２種以上併用してもよい。
トの具体例としては、ビス（オキシメチル）トリシクロ
［５．２．１．０2,6］デカン＝ジアクリレート、ビス
（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０2,6］デ
カン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシ
クロ［５．２．１．０2,6］デカン＝アクリレートメタ
クリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）
ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13］ペ
ンタデカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）ペ
ンタシクロ［６．５．１．１3,6 ．０2,7．０9,13］ペ
ンタデカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）
ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2 ,7．０9,13］ペ
ンタデカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの
混合物がある。これらのトリシクロデカン化合物及びペ
ンタシクロペンタデカン化合物は、群内及び（又は）群
間で２種以上併用してもよい。
【００１６】本発明で用いるポリカーボネート樹脂
（ａ）と多官能（メタ）アクリレート（ｂ）との割合
は、（ａ）／（ｂ）の重量％で、９９／１〜１／９９で
あることが好ましく、９８／２〜１０／９０がより好ま
しく、４０／６０〜６０／４０が特に好ましい。（ａ）
の割合が１重量％以下では、ガス・水蒸気透過性を抑え
るために積層された無機膜にクラックが生じ、９９重量
％を越えると（ｂ）の添加効果が認められず、耐溶剤性
が不十分になる場合がある。
（ａ）と多官能（メタ）アクリレート（ｂ）との割合
は、（ａ）／（ｂ）の重量％で、９９／１〜１／９９で
あることが好ましく、９８／２〜１０／９０がより好ま
しく、４０／６０〜６０／４０が特に好ましい。（ａ）
の割合が１重量％以下では、ガス・水蒸気透過性を抑え
るために積層された無機膜にクラックが生じ、９９重量
％を越えると（ｂ）の添加効果が認められず、耐溶剤性
が不十分になる場合がある。
【００１７】本発明のポリカーボネート共重合体及びそ
の組成物の架橋方法は、不飽和基の反応によって重合さ
せることができる方法であればいかなる方法でも適用で
きる。中でも、透明性の点から、有機過酸化物、電子
線、紫外線が好ましく、光開始剤を用いた紫外線による
架橋が特に好ましい。
の組成物の架橋方法は、不飽和基の反応によって重合さ
せることができる方法であればいかなる方法でも適用で
きる。中でも、透明性の点から、有機過酸化物、電子
線、紫外線が好ましく、光開始剤を用いた紫外線による
架橋が特に好ましい。
【００１８】本発明のポリカーボネート共重合体組成物
は、紫外線で架橋することにより優れた耐溶剤性を有す
る部材となる。部材の成形方法は、ポリカーボネート樹
脂（ａ）と多官能（メタ）アクリレート（ｂ）からなる
組成物の粘度に合わせて加工方法を選択することができ
る。例えば、樹脂組成物を溶剤に溶かしたものをキャス
トし、溶媒を蒸発した後、紫外線照射によって架橋して
成形する、また、直接ロール又はベルトにキャストす
る、さらには研磨ガラス等よりなる紫外線が透過可能な
２枚の相対する平板を用い、スペーサー等によりキャビ
ティーを形成させ、周辺部をシールしてなる注入型に注
入して、紫外線照射によって架橋して成形することがで
きる。また、樹脂組成物を押出成形した後、紫外線によ
り架橋して成形してもよい。
は、紫外線で架橋することにより優れた耐溶剤性を有す
る部材となる。部材の成形方法は、ポリカーボネート樹
脂（ａ）と多官能（メタ）アクリレート（ｂ）からなる
組成物の粘度に合わせて加工方法を選択することができ
る。例えば、樹脂組成物を溶剤に溶かしたものをキャス
トし、溶媒を蒸発した後、紫外線照射によって架橋して
成形する、また、直接ロール又はベルトにキャストす
る、さらには研磨ガラス等よりなる紫外線が透過可能な
２枚の相対する平板を用い、スペーサー等によりキャビ
ティーを形成させ、周辺部をシールしてなる注入型に注
入して、紫外線照射によって架橋して成形することがで
きる。また、樹脂組成物を押出成形した後、紫外線によ
り架橋して成形してもよい。
【００１９】（紫外線による架橋）本発明のポリカーボ
ネート樹脂組成物は、光重合開始剤を添加し紫外線で架
橋することができる。光重合開始剤としては、例えばベ
ンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジ
エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどが挙げられ
る。これらの光重合開始剤は２種以上を併用してもよ
い。
ネート樹脂組成物は、光重合開始剤を添加し紫外線で架
橋することができる。光重合開始剤としては、例えばベ
ンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジ
エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどが挙げられ
る。これらの光重合開始剤は２種以上を併用してもよ
い。
【００２０】光重合開始剤の添加量は、（ａ）＋（ｂ）
の１００重量部に対して、０．０２〜５重量部が好まし
く、０．０５〜１重量部がさらに好ましい。光重合開始
剤の添加量が０．０２重量部より少ないと十分に架橋で
きない傾向にあり、５重量部を越えると色相が悪化する
傾向にある。紫外線の照射量は、光重合開始剤がラジカ
ルを発生する範囲であれば任意であるが、光重合開始剤
の種類や量に合わせて０．１〜２００Ｊの範囲で照射す
るのが好ましい。
の１００重量部に対して、０．０２〜５重量部が好まし
く、０．０５〜１重量部がさらに好ましい。光重合開始
剤の添加量が０．０２重量部より少ないと十分に架橋で
きない傾向にあり、５重量部を越えると色相が悪化する
傾向にある。紫外線の照射量は、光重合開始剤がラジカ
ルを発生する範囲であれば任意であるが、光重合開始剤
の種類や量に合わせて０．１〜２００Ｊの範囲で照射す
るのが好ましい。
【００２１】本発明において紫外線照射による架橋を行
った後、架橋物を加熱することにより重合反応の完結及
び重合時に発生する内部歪みを低減することも可能であ
る。加熱温度は、架橋物の組成やガラス転移温度に合わ
せて適宜選択するのが好ましい。本発明のポリカーボネ
ート共重合体組成物には、熱安定性、耐候性、耐久性、
耐水性、防蝕性等を改良するために、前述の成分以外
に、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、消泡剤、レ
ベリング剤、離型剤、イオン捕捉剤等の添加剤を加えて
一層の性能改善を図ることもできる。
った後、架橋物を加熱することにより重合反応の完結及
び重合時に発生する内部歪みを低減することも可能であ
る。加熱温度は、架橋物の組成やガラス転移温度に合わ
せて適宜選択するのが好ましい。本発明のポリカーボネ
ート共重合体組成物には、熱安定性、耐候性、耐久性、
耐水性、防蝕性等を改良するために、前述の成分以外
に、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、消泡剤、レ
ベリング剤、離型剤、イオン捕捉剤等の添加剤を加えて
一層の性能改善を図ることもできる。
【００２２】
【実施例】以下に本発明を実施例及び比較例によってさ
らに具体的に説明するが、本発明は、これらの例によっ
てなんら制限されるものではない。
らに具体的に説明するが、本発明は、これらの例によっ
てなんら制限されるものではない。
【００２３】合成例１ ［ポリカーボネート樹脂の合成］１Ｌの４ツ口フラスコ
（撹拌装置、環流管、ガス導入管、滴下ロート付き）中
で、１Ｍの水酸化ナトリウム水溶液２４０ｍｌに、ビス
フェノールフルオレン１４．０ｇ、テトラブチルアンモ
ニウムブロミド０．００７ｇを溶解させ、この溶液に
１，２−ジクロロエタン２００ｍｌを加えた。次に１，
２−ジクロロエタン５０ｍｌにトリホスゲン４．１５８
ｇを溶解した液を１時間かけて滴下し、さらに３０分撹
拌して反応を行った。反応終了後、有機相を分離し、水
で洗浄したのち、メチルエチルケトン中に投入した。析
出物を濾過し、アセトンで洗浄し、乾燥させた。その結
果、数平均分子量２３，０００、ガラス転移温度Ｔｇ＝
２８１℃のポリカーボネート共重合体を得た。
（撹拌装置、環流管、ガス導入管、滴下ロート付き）中
で、１Ｍの水酸化ナトリウム水溶液２４０ｍｌに、ビス
フェノールフルオレン１４．０ｇ、テトラブチルアンモ
ニウムブロミド０．００７ｇを溶解させ、この溶液に
１，２−ジクロロエタン２００ｍｌを加えた。次に１，
２−ジクロロエタン５０ｍｌにトリホスゲン４．１５８
ｇを溶解した液を１時間かけて滴下し、さらに３０分撹
拌して反応を行った。反応終了後、有機相を分離し、水
で洗浄したのち、メチルエチルケトン中に投入した。析
出物を濾過し、アセトンで洗浄し、乾燥させた。その結
果、数平均分子量２３，０００、ガラス転移温度Ｔｇ＝
２８１℃のポリカーボネート共重合体を得た。
【００２４】実施例１ ポリカーボネート樹脂8ｇと水添ジシクロペンタジエニ
ルジアクリレート（東亞合成（株）製）２ｇをクロロホ
ルム１０ｇに溶解し、その中に光重合開始剤として1-ヒ
ドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン［チバスペ
シャリティケミカル製「イルガキュア１８４」］０．０
５ｇを溶解させた後、この溶液をガラス板上にキャスト
し、７５０mJ/cm2の紫外線を両面から照射して硬化させ
た。さらに窒素雰囲気下のオーブン中で２７５℃＊３時
間加熱乾燥して厚さ０．２ｍｍのシートを得た。
ルジアクリレート（東亞合成（株）製）２ｇをクロロホ
ルム１０ｇに溶解し、その中に光重合開始剤として1-ヒ
ドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン［チバスペ
シャリティケミカル製「イルガキュア１８４」］０．０
５ｇを溶解させた後、この溶液をガラス板上にキャスト
し、７５０mJ/cm2の紫外線を両面から照射して硬化させ
た。さらに窒素雰囲気下のオーブン中で２７５℃＊３時
間加熱乾燥して厚さ０．２ｍｍのシートを得た。
【００２５】実施例２ ポリカーボネート樹脂を６ｇ、水添ジシクロペンタジエ
ニルジアクリレート（東亞合成（株）製）を４ｇに換え
た以外は実施例１と同様にしてシートを得た。 実施例３ ポリカーボネート樹脂５ｇと水添ジシクロペンタジエニ
ルジアクリレート（東亞合成（株）製）５ｇを用いて実
施例１と同様にしてシートを得た。 実施例４ ポリカーボネート樹脂４ｇと水添ジシクロペンタジエニ
ルジアクリレート（東亞合成（株）製）６ｇを用いて実
施例１と同様にしてシートを得た
ニルジアクリレート（東亞合成（株）製）を４ｇに換え
た以外は実施例１と同様にしてシートを得た。 実施例３ ポリカーボネート樹脂５ｇと水添ジシクロペンタジエニ
ルジアクリレート（東亞合成（株）製）５ｇを用いて実
施例１と同様にしてシートを得た。 実施例４ ポリカーボネート樹脂４ｇと水添ジシクロペンタジエニ
ルジアクリレート（東亞合成（株）製）６ｇを用いて実
施例１と同様にしてシートを得た
【００２６】比較例１ ポリカーボネート樹脂１０ｇをクロロホルム１０ｇに溶
解した溶液を離型処理したガラス板上にキャストし、窒
素雰囲気下のオーブン中で２７５℃＊３時間加熱乾燥さ
せ厚さ０．２ｍｍのシートを得た。 比較例２ 水添ジシクロペンタジエニルジアクリレート（ＤＣＰＤ
Ａ）１０ｇに光重合開始剤として1-ヒドロキシ-シクロ
ヘキシル-フェニル-ケトン［チバスペシャリティケミカ
ル製「イルガキュア１８４」］０．０５ｇを混合した
後、この混合物をガラス板上にキャストし、７５０mJ/c
m2の紫外線を両面から照射して硬化させた。さらに窒素
雰囲気下のオーブン中で２７５℃＊３時間加熱乾燥して
厚さ０．２ｍｍのシートを得た。以上のようにして作成
したシートについて、下記の方法により、色、耐溶剤性
（ＤＭＳＯ）、耐配向剤性、耐液晶性、耐熱性（Ｔ
ｇ）、無機膜との密着性を評価した。
解した溶液を離型処理したガラス板上にキャストし、窒
素雰囲気下のオーブン中で２７５℃＊３時間加熱乾燥さ
せ厚さ０．２ｍｍのシートを得た。 比較例２ 水添ジシクロペンタジエニルジアクリレート（ＤＣＰＤ
Ａ）１０ｇに光重合開始剤として1-ヒドロキシ-シクロ
ヘキシル-フェニル-ケトン［チバスペシャリティケミカ
ル製「イルガキュア１８４」］０．０５ｇを混合した
後、この混合物をガラス板上にキャストし、７５０mJ/c
m2の紫外線を両面から照射して硬化させた。さらに窒素
雰囲気下のオーブン中で２７５℃＊３時間加熱乾燥して
厚さ０．２ｍｍのシートを得た。以上のようにして作成
したシートについて、下記の方法により、色、耐溶剤性
（ＤＭＳＯ）、耐配向剤性、耐液晶性、耐熱性（Ｔ
ｇ）、無機膜との密着性を評価した。
【００２７】＜評価方法＞ 色： 目視によって外観を観察した。 耐溶剤性： ４０℃のジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）に試料を浸漬して６０分放置。試料を取り出した
後、目視にて外観を観察した 耐配向剤性： スピンコーター上に試料を設置。その
表面にＣＤＲ−８２０１（住友ベークライト製）を滴下
した後、２５００ｒｐｍでスピンコートを実施。１８０
℃６０分乾燥処理後、目視にて外観を観察した。 耐液晶性： 基板の表面にメルク社製ＺＩＬ−４７９
２を１滴滴下する。１２０℃のオーブン内に投入して６
０分放置する。試料を取り出した後、目視にて外観を観
察した。 耐熱性： 粘弾性測定装置ＤＭＳ―２１０（セイコーインスツ
ルメンツ製）の１Ｈｚでのtanδの最大値をガラス転移点
（Ｔｇ）とした。 無機膜との密着性： スパッタにより、無機膜を付与
したシートを２１０℃で２時間、９５℃温水で３０分の
処理を２回繰り返した後、無機膜でのクラック発生につ
いて電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した。
Ｏ）に試料を浸漬して６０分放置。試料を取り出した
後、目視にて外観を観察した 耐配向剤性： スピンコーター上に試料を設置。その
表面にＣＤＲ−８２０１（住友ベークライト製）を滴下
した後、２５００ｒｐｍでスピンコートを実施。１８０
℃６０分乾燥処理後、目視にて外観を観察した。 耐液晶性： 基板の表面にメルク社製ＺＩＬ−４７９
２を１滴滴下する。１２０℃のオーブン内に投入して６
０分放置する。試料を取り出した後、目視にて外観を観
察した。 耐熱性： 粘弾性測定装置ＤＭＳ―２１０（セイコーインスツ
ルメンツ製）の１Ｈｚでのtanδの最大値をガラス転移点
（Ｔｇ）とした。 無機膜との密着性： スパッタにより、無機膜を付与
したシートを２１０℃で２時間、９５℃温水で３０分の
処理を２回繰り返した後、無機膜でのクラック発生につ
いて電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した。
【００２８】評価結果を表−１及び２に示す。この結果
から明らかなように、実施例１〜５はいずれ も従来の
ビスフェノールフルオレンからなるポリカーボネートの
欠点であった耐ＤＭＳ Ｏ性及び耐ＮＭＰ性が改善さ
れ、かつＴｇが２２０℃以上の耐熱性、光線透過率が８
８ ％以上の透明性及び耐液晶性を有する液晶表示基板
に適したシートを得ることができる 。
から明らかなように、実施例１〜５はいずれ も従来の
ビスフェノールフルオレンからなるポリカーボネートの
欠点であった耐ＤＭＳ Ｏ性及び耐ＮＭＰ性が改善さ
れ、かつＴｇが２２０℃以上の耐熱性、光線透過率が８
８ ％以上の透明性及び耐液晶性を有する液晶表示基板
に適したシートを得ることができる 。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】
【発明の効果】本発明のポリカーボネート樹脂組成物
は、透明性、耐溶剤性、耐液晶性、耐熱性、無機膜との
密着性に優れ、ガラス基板に代えて液晶表示基板に好適
に用いることができる。
は、透明性、耐溶剤性、耐液晶性、耐熱性、無機膜との
密着性に優れ、ガラス基板に代えて液晶表示基板に好適
に用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴原 澄夫 東京都品川区東品川２丁目５番８号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 松田 豊 東京都品川区東品川２丁目５番８号 住友 ベークライト株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 JB03 JD08 JD17 4J011 AA05 AC04 PA89 PC02 QA12 SA01 SA21 SA31 SA61 SA84 4J026 AB17 BA27 BB01 DB06 DB36 GA07 GA08
Claims (4)
- 【請求項１】下記一般式（１）で示される繰り返し単位
を含むポリカーボネート（ａ）９９〜１重量部と官能基
を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレート（ｂ）１
〜９９重量部からなる液晶表示素子基板用ポリカーボネ
ート樹脂組成物。 【化１】 （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素又は炭素数１から７までの
アルキル基、アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異
なっても良い。） - 【請求項２】 官能基を２つ以上有する多官能（メタ）
アクリレート（ｂ）が下記一般式（２）で示される（メ
タ）アクリレートを含んでなることを特徴とする請求項
１記載の液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成
物。 【化２】 （式（２）中、Ｒ5，Ｒ6は水素原子又はメチル基を示
し、それぞれ同じでも異なってもよい。ｍは１又は２を
示し、ｎは０又は１を示す。） - 【請求項３】 官能基を２つ以上有する多官能（メタ）
アクリレート（ｂ）がジシクロペンタジエニルジアクリ
レートを含んでなることを特徴とする請求項１記載の液
晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項４】 紫外線で架橋処理された請求項１記載の
液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001055693A JP2002256039A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001055693A JP2002256039A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002256039A true JP2002256039A (ja) | 2002-09-11 |
Family
ID=18915841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001055693A Withdrawn JP2002256039A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 液晶表示素子基板用ポリカーボネート樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002256039A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013089091A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | リンテック株式会社 | 硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂成形体、硬化樹脂成形体及びそれらの製造方法、並びに積層体 |
| WO2015146659A1 (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、アンダーフィル用積層体、積層体、半導体デバイスの製造方法、および、半導体デバイス |
| CN114466877A (zh) * | 2019-10-23 | 2022-05-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 固化用树脂组合物、其固化方法和成型品 |
-
2001
- 2001-02-28 JP JP2001055693A patent/JP2002256039A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013089091A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | リンテック株式会社 | 硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂成形体、硬化樹脂成形体及びそれらの製造方法、並びに積層体 |
| CN103974981A (zh) * | 2011-12-16 | 2014-08-06 | 琳得科株式会社 | 固化性树脂组合物、固化性树脂成形体、固化树脂成形体以及它们的制造方法、以及层叠体 |
| KR20140112483A (ko) * | 2011-12-16 | 2014-09-23 | 린텍 가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 경화성 수지 성형체, 경화 수지 성형체 및 그들의 제조 방법, 그리고 적층체 |
| US20140364531A1 (en) * | 2011-12-16 | 2014-12-11 | Lintec Corporation | Curable resin composition, curable resin molded body, cured resin molded body, method for producing each of same, and laminate body |
| US9023913B2 (en) | 2011-12-16 | 2015-05-05 | Lintec Corporation | Curable resin composition, curable resin molded body, cured resin molded body, method for producing each of same, and laminate body |
| KR101903217B1 (ko) * | 2011-12-16 | 2018-10-01 | 린텍 가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 경화성 수지 성형체, 경화 수지 성형체 및 그들의 제조 방법, 그리고 적층체 |
| WO2015146659A1 (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、アンダーフィル用積層体、積層体、半導体デバイスの製造方法、および、半導体デバイス |
| JP2015183108A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、アンダーフィル用積層体、積層体、半導体デバイスの製造方法、および、半導体デバイス |
| CN114466877A (zh) * | 2019-10-23 | 2022-05-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 固化用树脂组合物、其固化方法和成型品 |
| CN114466877B (zh) * | 2019-10-23 | 2024-05-14 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 固化用树脂组合物、其固化方法和成型品 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20100531 |