JP2002251780A - 光学記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光学記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2002251780A JP2002251780A JP2001041857A JP2001041857A JP2002251780A JP 2002251780 A JP2002251780 A JP 2002251780A JP 2001041857 A JP2001041857 A JP 2001041857A JP 2001041857 A JP2001041857 A JP 2001041857A JP 2002251780 A JP2002251780 A JP 2002251780A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- thermal isolation
- recording layer
- recording
- isolation layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 無機材料で構成された第１の記録層と、第２
の記録層とを挟む２つの熱隔離層によって、レーザーに
よるエネルギを蓄積し、記録効率を向上させる光学記録
媒体及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 底面から表面までの間に、透明基板と、
第１の熱隔離層と、第１の記録層と、第２の記録層と、
第２の熱隔離層と、反射層と、保護層とを備えた無機光
学記録媒体。第１の記録層は非晶相元素で構成されてい
る。第２の記録層は金属イオン溶液で構成され、レーザ
ー光が照射されると、第２の記録層は第１の記録層に反
応し、結晶反応が引き起こされ、第１の記録層と第２の
記録層の界面に記録ポイントが形成される。更に第１の
熱隔離層と第２の熱隔離層は、レーザー光によって発生
するエネルギが反射層から放熱されることを防ぐため、
記録効率が改善される。
の記録層とを挟む２つの熱隔離層によって、レーザーに
よるエネルギを蓄積し、記録効率を向上させる光学記録
媒体及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 底面から表面までの間に、透明基板と、
第１の熱隔離層と、第１の記録層と、第２の記録層と、
第２の熱隔離層と、反射層と、保護層とを備えた無機光
学記録媒体。第１の記録層は非晶相元素で構成されてい
る。第２の記録層は金属イオン溶液で構成され、レーザ
ー光が照射されると、第２の記録層は第１の記録層に反
応し、結晶反応が引き起こされ、第１の記録層と第２の
記録層の界面に記録ポイントが形成される。更に第１の
熱隔離層と第２の熱隔離層は、レーザー光によって発生
するエネルギが反射層から放熱されることを防ぐため、
記録効率が改善される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、WORM ( Write Onc
e and Read Many ）型の光学記録媒体及びその製造方法
に関し、特に上下に２つの熱隔離層にはさまれた記録層
が無機材料で構成される光学記録媒体及びその製造方法
に関する。
e and Read Many ）型の光学記録媒体及びその製造方法
に関し、特に上下に２つの熱隔離層にはさまれた記録層
が無機材料で構成される光学記録媒体及びその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、WORM型光学記録媒体は、安定し
た記録特性と、環境変化、例えば光や温度、湿度などへ
の優れた耐性が、優れた記録層により決められる。優れ
た記録層は、安定したパフォーマンスを維持し、様々な
レーザー光ワーキングパワーに耐える。無機材料が安定
し熱や光から影響を受けにくいため、最近市場で利用さ
れているWORM型の光学記録媒体、例えばCD-RやDVD-R
は、吸光無機材料で記録層を形成する。
た記録特性と、環境変化、例えば光や温度、湿度などへ
の優れた耐性が、優れた記録層により決められる。優れ
た記録層は、安定したパフォーマンスを維持し、様々な
レーザー光ワーキングパワーに耐える。無機材料が安定
し熱や光から影響を受けにくいため、最近市場で利用さ
れているWORM型の光学記録媒体、例えばCD-RやDVD-R
は、吸光無機材料で記録層を形成する。
【０００３】異なる記録手段によって、WORM型の光学記
録媒体に用いられる無機材料系は、次のように分類され
る。(01)気体膨張系：例えばAgOx、FeNx、CuNx、SnNx
(02)微細粒子における構造変化系：例えばAg、微細なCu
粒子 (03)金属酸化物と金属の混合による構造変化系：
例えばPd-TeOx、Ni-NiOx (04)不可逆相変化系：例えば
Sn-Sb-Se/Sb-Bi。
録媒体に用いられる無機材料系は、次のように分類され
る。(01)気体膨張系：例えばAgOx、FeNx、CuNx、SnNx
(02)微細粒子における構造変化系：例えばAg、微細なCu
粒子 (03)金属酸化物と金属の混合による構造変化系：
例えばPd-TeOx、Ni-NiOx (04)不可逆相変化系：例えば
Sn-Sb-Se/Sb-Bi。
【０００４】しかしながら、上述した光学記録媒体に用
いられる無機材料系は、その製造工程が有機材料を用い
た光学記録媒体の製造工程と異なっており、直接に現存
の製造ラインに適用することが出来ない。このため、新
しい製造ラインを設置しなければならなく、製造コスト
と時間がかかってしまう。
いられる無機材料系は、その製造工程が有機材料を用い
た光学記録媒体の製造工程と異なっており、直接に現存
の製造ラインに適用することが出来ない。このため、新
しい製造ラインを設置しなければならなく、製造コスト
と時間がかかってしまう。
【０００５】さらに、上述した従来の光学記録媒体は、
レーザー光を記録層に反射させるため、反射層が記録層
上に形成される必要がある。このようにして無機材料に
化学反応が引き起こされ、結晶状態が形成される。従っ
て、従来の製造過程は反射層を形成する工程が必要とな
る。。また、反射層は、たいていアルミニウム(Al)、銀
(Ag)、金(Au)、あるいはそれらの合金で構成されてい
る。しかし、これらの金属は、レーザー光のエネルギを
蓄積しにくいため、記録ポイントが効率的に形成される
ことができない。これらの理由により、従来の光学記録
媒体は、時間がかかり、より高いレーザー光ワーキング
パワーが必要となる。
レーザー光を記録層に反射させるため、反射層が記録層
上に形成される必要がある。このようにして無機材料に
化学反応が引き起こされ、結晶状態が形成される。従っ
て、従来の製造過程は反射層を形成する工程が必要とな
る。。また、反射層は、たいていアルミニウム(Al)、銀
(Ag)、金(Au)、あるいはそれらの合金で構成されてい
る。しかし、これらの金属は、レーザー光のエネルギを
蓄積しにくいため、記録ポイントが効率的に形成される
ことができない。これらの理由により、従来の光学記録
媒体は、時間がかかり、より高いレーザー光ワーキング
パワーが必要となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した問
題に鑑みてなされたものであって、無機材料で構成され
た第１の記録層と、第２の記録層とを挟む２つの熱隔離
層によって、レーザーによるエネルギを蓄積し、記録効
率を向上させる光学記録媒体及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
題に鑑みてなされたものであって、無機材料で構成され
た第１の記録層と、第２の記録層とを挟む２つの熱隔離
層によって、レーザーによるエネルギを蓄積し、記録効
率を向上させる光学記録媒体及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【０００７】また、本発明は、新たな製造ラインを増や
さず、現存する製造ラインで、無機材料で光学記録媒体
を製造する光学記録媒体及びその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
さず、現存する製造ラインで、無機材料で光学記録媒体
を製造する光学記録媒体及びその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係わる光学記録媒体は、２つの熱隔離層に
はさまれた２つの記録層を有している。これらの熱隔離
層は、レーザーエネルギを蓄積し、記録効率を向上させ
るために提供されている。具体的には、本発明に係わる
光学記録媒体は、底面から表面までの間に、透明基板
と、第１の熱隔離層と、第１の記録層と、第２の記録層
と、第２の熱隔離層と、反射層と、を備えている。第１
の記録層は、非晶相元素で構成されている。第２の記録
層は、金属イオン溶液で構成されている。光学記録媒体
がレーザー加熱されると、熱隔離層により、記録ポイン
トを形成するためのエネルギが第１の記録層、第２の記
録層に蓄積される。熱隔離層を設けることにより、記録
ポイントは効率的に形成され、記録パフォーマンスは２
〜３倍も改善される。
に、本発明に係わる光学記録媒体は、２つの熱隔離層に
はさまれた２つの記録層を有している。これらの熱隔離
層は、レーザーエネルギを蓄積し、記録効率を向上させ
るために提供されている。具体的には、本発明に係わる
光学記録媒体は、底面から表面までの間に、透明基板
と、第１の熱隔離層と、第１の記録層と、第２の記録層
と、第２の熱隔離層と、反射層と、を備えている。第１
の記録層は、非晶相元素で構成されている。第２の記録
層は、金属イオン溶液で構成されている。光学記録媒体
がレーザー加熱されると、熱隔離層により、記録ポイン
トを形成するためのエネルギが第１の記録層、第２の記
録層に蓄積される。熱隔離層を設けることにより、記録
ポイントは効率的に形成され、記録パフォーマンスは２
〜３倍も改善される。
【０００９】本発明に係わる光学記録媒体の製造方法
は、表面上に溝を有する透明基板を形成する工程と、ス
パッタリングや蒸着により透明基板の表面に第１の熱隔
離層を形成する工程と、非晶相元素をスパッタリングす
ることにより、第１の熱隔離層上に第１の記録層を形成
する工程と、金属イオン溶液をスピンコーティングする
ことにより、第１の記録層上に第２の記録層を形成する
工程と、スパッタリングや蒸着により、第２の記録層上
に第２の熱隔離層を形成する工程と、反射材をスパッタ
リングすることにより、第２の熱隔離層上に反射層を形
成する工程と、反射層の表面に保護層を形成する工程
と、を備えている。
は、表面上に溝を有する透明基板を形成する工程と、ス
パッタリングや蒸着により透明基板の表面に第１の熱隔
離層を形成する工程と、非晶相元素をスパッタリングす
ることにより、第１の熱隔離層上に第１の記録層を形成
する工程と、金属イオン溶液をスピンコーティングする
ことにより、第１の記録層上に第２の記録層を形成する
工程と、スパッタリングや蒸着により、第２の記録層上
に第２の熱隔離層を形成する工程と、反射材をスパッタ
リングすることにより、第２の熱隔離層上に反射層を形
成する工程と、反射層の表面に保護層を形成する工程
と、を備えている。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係わる光学記録
媒体を示す断面概略図である。本発明の光学記録媒体10
は、底面から表面までの間に、透明基板11と、第１の熱
隔離層17と、第１の記録層12と、第２の記録層13と、第
２の熱隔離層14と、反射層15と、保護層16と、を備えて
いる。表面にらせん状の溝を有する基板11は、ポリカー
ボネイト(PC)やポリメチル・メタクリレート(PMMA)など
の透明な材料で射出成形された樹脂基板から構成される
ことが好ましい。そして、溝と溝の距離は、光学記録媒
体の仕様によって異なり、例えば、CD-Rでは、1.6mmで
あり、DVD-Rでは0.74mmである。コンパクトディスクの
読みとりと記録の信号の仕様も標準化している。例えば
レーザー光の波長は300nmから1000nmとなっている。
媒体を示す断面概略図である。本発明の光学記録媒体10
は、底面から表面までの間に、透明基板11と、第１の熱
隔離層17と、第１の記録層12と、第２の記録層13と、第
２の熱隔離層14と、反射層15と、保護層16と、を備えて
いる。表面にらせん状の溝を有する基板11は、ポリカー
ボネイト(PC)やポリメチル・メタクリレート(PMMA)など
の透明な材料で射出成形された樹脂基板から構成される
ことが好ましい。そして、溝と溝の距離は、光学記録媒
体の仕様によって異なり、例えば、CD-Rでは、1.6mmで
あり、DVD-Rでは0.74mmである。コンパクトディスクの
読みとりと記録の信号の仕様も標準化している。例えば
レーザー光の波長は300nmから1000nmとなっている。
【００１１】第１の熱隔離層17は、窒化珪素(SiNx)、酸
化珪素(SiOx)、硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeN
x)、炭化珪素(SiC)、酸化クロム(CrOx)、或いはこれら
の組み合わせから選択された材料をスパッタリングや蒸
着することにより透明基板上に形成される。第１の熱隔
離層17は、透光性を有するため、レーザー光を透過さ
せ、積極的な干渉を形成することにより、エネルギが基
板11を透過して容易に放熱しない。一般的に、基板11か
ら第２の記録層13までの厚さは、レーザー光の波長の範
囲内でなければならないため、第１の熱隔離層17の厚さ
は、約1000Åとする。
化珪素(SiOx)、硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeN
x)、炭化珪素(SiC)、酸化クロム(CrOx)、或いはこれら
の組み合わせから選択された材料をスパッタリングや蒸
着することにより透明基板上に形成される。第１の熱隔
離層17は、透光性を有するため、レーザー光を透過さ
せ、積極的な干渉を形成することにより、エネルギが基
板11を透過して容易に放熱しない。一般的に、基板11か
ら第２の記録層13までの厚さは、レーザー光の波長の範
囲内でなければならないため、第１の熱隔離層17の厚さ
は、約1000Åとする。
【００１２】第１の記録層12は、アニール処理をせずに
アモルファスシリコンをスパッタリングすることにより
熱隔離層17上に形成される。シリコンに加えて、第１の
記録層12は、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、スズ(Sn)、
鉛(Pb)、マグネシウム(Mg)の何れかにより形成すること
も出来る。
アモルファスシリコンをスパッタリングすることにより
熱隔離層17上に形成される。シリコンに加えて、第１の
記録層12は、ゲルマニウム(Ge)、炭素(C)、スズ(Sn)、
鉛(Pb)、マグネシウム(Mg)の何れかにより形成すること
も出来る。
【００１３】第２の記録層13は、第１の記録層12の表面
上に金属イオン溶液をスピンコーティングすることによ
り形成される。第２の記録層13に適用できる金属イオン
溶液は、ニッケルイオン溶液に加えて、銅(Cu)、亜鉛(Z
n)、タングステン(W)、タンタル(Ta)、ゲルマニウム(G
e)、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、マンガン(Mn)、クロム(C
r)、バナジウム(V)、チタン(Ti)、インジウム(In)、テ
ルル(Te)、あるいはこれらの金属の組み合わた溶液から
選択することもできる。第１の記録層12と第２の記録層
13は、厚さの合計が約250Åとなる。
上に金属イオン溶液をスピンコーティングすることによ
り形成される。第２の記録層13に適用できる金属イオン
溶液は、ニッケルイオン溶液に加えて、銅(Cu)、亜鉛(Z
n)、タングステン(W)、タンタル(Ta)、ゲルマニウム(G
e)、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、マンガン(Mn)、クロム(C
r)、バナジウム(V)、チタン(Ti)、インジウム(In)、テ
ルル(Te)、あるいはこれらの金属の組み合わた溶液から
選択することもできる。第１の記録層12と第２の記録層
13は、厚さの合計が約250Åとなる。
【００１４】第２の熱隔離層14は、スパッタリングや蒸
着により第２の記録層13上に形成される。第２の熱隔離
層14を形成する材料は、窒化珪素(SiNx)、酸化珪素(SiO
x)、硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeNx)、炭化珪
素(SiC)、酸化クロム(CrOx)、あるいは、これらの組み
合わせから選択できる。第２の熱隔離層14も、透光性を
有するため、レーザー光を透過させ、積極的な干渉を形
成することにより、反射したレーザー光を第２の記録層
13と第１の記録層12に導くようになっている。
着により第２の記録層13上に形成される。第２の熱隔離
層14を形成する材料は、窒化珪素(SiNx)、酸化珪素(SiO
x)、硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeNx)、炭化珪
素(SiC)、酸化クロム(CrOx)、あるいは、これらの組み
合わせから選択できる。第２の熱隔離層14も、透光性を
有するため、レーザー光を透過させ、積極的な干渉を形
成することにより、反射したレーザー光を第２の記録層
13と第１の記録層12に導くようになっている。
【００１５】反射層15は、金(Au)、銀(Ag)、アルミニウ
ム(Al)、あるいはそれらの合金からなり、第２の熱隔離
層14上にスパッタリングにより形成される。最後に、保
護層16は、第１の記録層12と第２の記録層13の劣化や、
光学記録媒体10上のひび割れを防ぐために、反射層15の
表面上に形成されている。
ム(Al)、あるいはそれらの合金からなり、第２の熱隔離
層14上にスパッタリングにより形成される。最後に、保
護層16は、第１の記録層12と第２の記録層13の劣化や、
光学記録媒体10上のひび割れを防ぐために、反射層15の
表面上に形成されている。
【００１６】図２は、記録ポイント21を形成するための
レーザー光20の進路を示す断面概略図である。図２に示
すように、レーザー光20は、第１の熱隔離層17、第１の
記録層12、第２の記録層13、第２の熱隔離層14を透過
し、反射層15により、第２の熱隔離層14、第２の記録層
13、第１の記録層12、第１の熱隔離層17に反射される。
レーザー光20の進路を示す断面概略図である。図２に示
すように、レーザー光20は、第１の熱隔離層17、第１の
記録層12、第２の記録層13、第２の熱隔離層14を透過
し、反射層15により、第２の熱隔離層14、第２の記録層
13、第１の記録層12、第１の熱隔離層17に反射される。
【００１７】第１の熱隔離層17と第２の熱隔離層14は、
エネルギの伝導を防ぐので、レーザー光によって発生し
たエネルギが反射層15と透明基板11に容易に放熱されな
く、第１の記録層12と第２の記録層13に蓄積される。第
１の記録層12と第２の記録層13に蓄積されたエネルギに
より、第２の記録層13のニッケルイオンと第１の記録層
12のアモルファスシリコンとの間の化学反応速度が高め
られるため、第１の記録層12と第２の記録層13の界面に
結晶反応が生じ、記録ポイント21が形成される。
エネルギの伝導を防ぐので、レーザー光によって発生し
たエネルギが反射層15と透明基板11に容易に放熱されな
く、第１の記録層12と第２の記録層13に蓄積される。第
１の記録層12と第２の記録層13に蓄積されたエネルギに
より、第２の記録層13のニッケルイオンと第１の記録層
12のアモルファスシリコンとの間の化学反応速度が高め
られるため、第１の記録層12と第２の記録層13の界面に
結晶反応が生じ、記録ポイント21が形成される。
【００１８】第１の記録層12は、アモルファスシリコン
で構成されており、表面に小さなくぼみを有している。
第２の記録層13は、ニッケルイオン溶液をスピンコーテ
ィングすることにより、第１の記録層12に形成される際
に、ニッケルイオン溶液が第１の記録層12 の全平面上
を均一に覆うように、第１の記録層12のくぼみを埋め込
む。第２の熱隔離層14は、レーザー光によって発生する
エネルギが反射層15から放熱されることを防ぐため、レ
ーザー光20が反射層15によって反射され、第１の記録層
12と第２の記録層13の界面に導かれる。レーザー光20に
よって発生したエネルギは、第１の熱隔離層17と第２の
熱隔離層14が存在する為に、第１の記録層12と第２の記
録層13に蓄積される。従って、金属の結晶反応の発生場
所は、レーザー光20の強度によって制御されることがで
きる。
で構成されており、表面に小さなくぼみを有している。
第２の記録層13は、ニッケルイオン溶液をスピンコーテ
ィングすることにより、第１の記録層12に形成される際
に、ニッケルイオン溶液が第１の記録層12 の全平面上
を均一に覆うように、第１の記録層12のくぼみを埋め込
む。第２の熱隔離層14は、レーザー光によって発生する
エネルギが反射層15から放熱されることを防ぐため、レ
ーザー光20が反射層15によって反射され、第１の記録層
12と第２の記録層13の界面に導かれる。レーザー光20に
よって発生したエネルギは、第１の熱隔離層17と第２の
熱隔離層14が存在する為に、第１の記録層12と第２の記
録層13に蓄積される。従って、金属の結晶反応の発生場
所は、レーザー光20の強度によって制御されることがで
きる。
【００１９】さらに、第１の記録層12と第２の記録層13
の厚さは、レーザー光20の強度が第１の記録層12と第２
の記録層13の界面に結晶反応を確実に引き起こすため
に、適切に制御されなければならない。レーザー光20が
第１の記録層12と第２の記録層13を透過し記録ポイント
21に反射させるために、第１の記録層12と第２の記録層
13の全体の厚さは、CD-Rで約250Åであることが好まし
い。もちろん、第１の記録層12と第２の記録層13の全体
の厚さは、光学記録媒体の仕様によって異なっている。
の厚さは、レーザー光20の強度が第１の記録層12と第２
の記録層13の界面に結晶反応を確実に引き起こすため
に、適切に制御されなければならない。レーザー光20が
第１の記録層12と第２の記録層13を透過し記録ポイント
21に反射させるために、第１の記録層12と第２の記録層
13の全体の厚さは、CD-Rで約250Åであることが好まし
い。もちろん、第１の記録層12と第２の記録層13の全体
の厚さは、光学記録媒体の仕様によって異なっている。
【００２０】本発明に係わる光学記録媒体の製造方法
は、以下の工程に分けられる。
は、以下の工程に分けられる。
【００２１】まず、レーザー彫刻法によりスタンパーを
形成し、そのスタンパーを用いて射出成形により表面上
に溝を有する透明基板を形成する。
形成し、そのスタンパーを用いて射出成形により表面上
に溝を有する透明基板を形成する。
【００２２】次に、窒化珪素(SiNx)、酸化珪素(SiOx)、
硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeNx)、炭化珪素(S
iC)、酸化クロム(CrOx)、あるいはこれらを組み合わせ
た材料をスパッタリングや蒸着することにより、透明基
板上に第１の熱隔離層を形成する。
硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeNx)、炭化珪素(S
iC)、酸化クロム(CrOx)、あるいはこれらを組み合わせ
た材料をスパッタリングや蒸着することにより、透明基
板上に第１の熱隔離層を形成する。
【００２３】続いて、アモルファスシリコンなどの非晶
相元素をアニール処理せずに、スパッタリングすること
により、第１の熱隔離層上に第１の記録層を形成する。
相元素をアニール処理せずに、スパッタリングすること
により、第１の熱隔離層上に第１の記録層を形成する。
【００２４】その後、金属イオン溶液をスピンコーティ
ングすることにより、第１の記録層上に第２の記録層を
形成する。
ングすることにより、第１の記録層上に第２の記録層を
形成する。
【００２５】続いて、窒化珪素(SiNx)、酸化珪素(Si
Ox)、硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeNx)、炭化
珪素(SiC)、酸化クロム(CrOx)、或いはこれらの組み合
わせから選択された材料をスパッタリングや蒸着するこ
とにより第２の記録層上に第２の熱隔離層を形成する。
Ox)、硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(GeNx)、炭化
珪素(SiC)、酸化クロム(CrOx)、或いはこれらの組み合
わせから選択された材料をスパッタリングや蒸着するこ
とにより第２の記録層上に第２の熱隔離層を形成する。
【００２６】その後、金(Au)、銀(Ag)、アルミニウム(A
l)あるいはそれらの合金のような反射材をスパッタリン
グすることにより、第２の熱隔離層上に反射層を形成す
る。
l)あるいはそれらの合金のような反射材をスパッタリン
グすることにより、第２の熱隔離層上に反射層を形成す
る。
【００２７】最後に、反射層に保護層を形成する。
【００２８】
【発明の効果】本発明の光学記録媒体は、有機溶剤の代
わりに、無機材料で記録層を形成するため、製造コスト
を下げると共に、耐久性があり、環境の変化に影響され
にくい。また、現存の製造ラインを変更することなく、
光学記録媒体を製造することができる。さらに、本発明
の２つの熱隔離層が有効に熱の伝達を防ぐので、蓄積し
たエネルギは化学反応を促進し、記録ポイントを形成す
る速度が高められ、記録パフォーマンスが改善される。
わりに、無機材料で記録層を形成するため、製造コスト
を下げると共に、耐久性があり、環境の変化に影響され
にくい。また、現存の製造ラインを変更することなく、
光学記録媒体を製造することができる。さらに、本発明
の２つの熱隔離層が有効に熱の伝達を防ぐので、蓄積し
たエネルギは化学反応を促進し、記録ポイントを形成す
る速度が高められ、記録パフォーマンスが改善される。
【００２９】本発明を具体的な説明を参照して述べてき
たが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、個人の技術など
により設計変更等があっても本発明に含まれる。
たが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、個人の技術など
により設計変更等があっても本発明に含まれる。
【図１】本発明に係わる光学記録媒体を示す断面概略図
である。
である。
【図２】記録ポイントを形成するためのレーザー光の進
路を示す断面概略図である。
路を示す断面概略図である。
11 透明基板 12 第１の記録層 13 第２の記録層 14 第２の熱隔離層 15 反射層 16 保護層 17 透明基板 20 レーザー光 21 記録ポイント
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３８ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３８Ｍ 7/26 ５３１ 7/26 ５３１ // Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｘ (72)発明者 蔡 ▲惠▼芳 台湾高雄市三民区立志街179巷24号 (72)発明者 呉 桂燕 台湾新竹市光復路一段30巷16号 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 FA02 FA12 FA17 FA24 FA25 FA27 FA28 FB05 FB06 FB07 FB12 FB16 FB17 FB18 FB19 FB21 FB23 FB29 GA02 GA03 GA07 5D029 JA01 JB03 JB47 LA17 LB01 LC17 MA28 MA29 NA23 5D121 AA01 AA04 AA05 EE03 EE22 EE27
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板と、熱隔離材で構成され前記基
板上に形成される第１の熱隔離層と、非晶相元素で構成
され前記第１の熱隔離層上に形成される第１の記録層
と、金属イオン溶液で構成され、前記第１の記録層上に
形成される第２の記録層と、熱隔離材で構成され前記第
２の記録層上に形成される第２の熱隔離層と、前記第２
の熱隔離層上に形成される反射層と、を備えたことを特
徴とする光学記録媒体。 - 【請求項２】 前記非晶相元素は、シリコン(Si)、ゲル
マニウム(Ge)、炭素(C)、すず(Sn)、鉛(Pb)、マグネシ
ウム(Mg)の中から少なくとも一つが選択されることを特
徴とする請求項１記載の光学記録媒体。 - 【請求項３】 前記金属イオン溶液の金属イオンは、ニ
ッケル(Ni)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、タングステン(W)、タ
ンタル(Ta)、金(Au)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、ゲル
マニウム(Ge)、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、マンガン(Mn)、
クロム(Cr)、バナジウム(V)、チタン(Ti)、インジウム
(In)、テルル(Te)の中から少なくとも一つが選択される
ことを特徴とする請求項１記載の光学記録媒体。 - 【請求項４】 前記熱隔離材は、窒化珪素(SiNx)、酸化
珪素(SiOx)、硫化亜鉛(ZnSx)、窒化ゲルマニウム(Ge
Nx)、炭化珪素(SiC)、酸化クロム(CrOx)、或いはこれら
の組み合わせから選択されることを特徴とする請求項１
記載の光学記録媒体。 - 【請求項５】 表面上に溝を有する透明基板を形成する
工程と、熱隔離材をスパッタリングや蒸着により前記基
板の表面上に第１の熱隔離層を形成する工程と、非晶相
元素をスパッタリングすることにより前記第１の熱隔離
層上に第１の記録層を形成する工程と、金属イオン溶液
をスピンコーティングすることにより前記第１の記録層
上に第２の記録層を形成する工程と、熱隔離材をスパッ
タリングや蒸着により前記第２の記録層上に第２の熱隔
離層を形成する工程と、反射材をスパッタリングするこ
とにより前記第２の熱隔離層上に反射層を形成する工程
と、を備えていることを特徴とした光学記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001041857A JP2002251780A (ja) | 2001-02-19 | 2001-02-19 | 光学記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001041857A JP2002251780A (ja) | 2001-02-19 | 2001-02-19 | 光学記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002251780A true JP2002251780A (ja) | 2002-09-06 |
Family
ID=18904233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001041857A Pending JP2002251780A (ja) | 2001-02-19 | 2001-02-19 | 光学記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002251780A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005018947A1 (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | 記録媒体 |
-
2001
- 2001-02-19 JP JP2001041857A patent/JP2002251780A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005018947A1 (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | 記録媒体 |
| US7381458B2 (en) | 2003-08-21 | 2008-06-03 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Recording medium |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100212369B1 (ko) | 광학 정보 기록 매체 | |
| CN1121031C (zh) | 信息记录媒体和应用该信息记录媒体的信息记录再生装置 | |
| US6670013B2 (en) | Optical recording medium and use of such optical recording medium | |
| JP2003331461A (ja) | 追記型光記録媒体 | |
| US5741603A (en) | Optical disc | |
| KR20060031641A (ko) | 광기록매체 및 이를 제조하기 위한 방법, 및 광기록매체상에 데이터를 기록하기 위한 방법 및 광기록매체로부터데이터를 재생하는 방법 | |
| EP1302940B1 (en) | Optical recording medium | |
| EP0747895A2 (en) | Recordable optical element using low absorption materials | |
| EP0549024B1 (en) | Optical record carrier | |
| JP2002251780A (ja) | 光学記録媒体及びその製造方法 | |
| KR100854953B1 (ko) | 재기록가능한 광학 데이터 저장매체와 이 매체의 용도 | |
| JP2002251781A (ja) | 光学記録媒体及びその製造方法 | |
| WO2004034390A1 (ja) | 光学的情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2002254808A (ja) | 光学記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2000026960A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| KR100595191B1 (ko) | 상변화형 광디스크의 제조 방법 | |
| JP2002092959A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH11134713A (ja) | 光学情報記録媒体 | |
| JP2000298877A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| TW540043B (en) | Write once and read many optical recording medium and the producing method thereof | |
| TWI221606B (en) | Inorganic WORM type optical recording medium with a thermal enhanced layer and its manufacturing method | |
| US20080159121A1 (en) | Write-once optical recording medium | |
| JP2930240B2 (ja) | 記録・消去方法 | |
| JP2004047034A (ja) | 多層相変化型情報記録媒体およびそれを用いた情報の記録再生方法 | |
| JPH10289478A (ja) | 光学式情報記録媒体及びその製造方法 |