JP2002249497A - ２’，５’−オリゴアデニル酸類縁体 - Google Patents

２’，５’−オリゴアデニル酸類縁体

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JP2002249497A
JP2002249497A JP2001385687A JP2001385687A JP2002249497A JP 2002249497 A JP2002249497 A JP 2002249497A JP 2001385687 A JP2001385687 A JP 2001385687A JP 2001385687 A JP2001385687 A JP 2001385687A JP 2002249497 A JP2002249497 A JP 2002249497A
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誠 小泉
Koji Morita
浩司 森田
Masakatsu Kaneko
正勝 金子
Takeshi Imanishi
武 今西
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】抗ウイルス活性、抗腫瘍活性、優れたアンチセ
ンス活性等を有し、生体内で安定で、副作用の少ない非
天然型のオリゴヌクレオチド類緑体である新規3'‐4'架
橋オリゴヌクレオチド類縁体及びその製造中間体である
新規3'‐4'架橋ヌクレオシド類縁体を提供する。 【解決手段】下記一般式１で表わされる化合物及びその
塩。 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
リン酸基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、各種保護基など、を示し、Ａ
は、炭素数１乃至４個のアルキレン基を示し、Ｂは、プ
リン−９−イル基、２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミ
ジン−１−イル基又は置換プリン−９−イル基若しくは
置換２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル
基を示す。］

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗ウイルス活性を
有する生体内物質として知られている２−５Ａ（即ち、
2',5'-オリゴアデニル酸）類縁体、安定で優れたアンチ
センス若しくはアンチジーン医薬、又は、特定遺伝子の
検出薬（プローブ）若しくは増幅開始の為のプライマー
として優れた活性を有する、新規3'‐4'架橋オリゴヌク
レオチド類縁体及びその製造中間体である新規3'‐4'架
橋ヌクレオシド類縁体に関する。
【０００２】
【従来の技術】抗ウイルス活性を有する生体内物質とし
て知られている２−５Ａ（Pharmacol.Ther. Vol. 78, N
o. 2, pp. 55-113, 1998）は、２個のアデノシンの２’
と５’の水酸基がホスホジエステル基で結合し、５’末
端にトリリン酸が結合した、３個以上のヌクレオチドユ
ニットからなるオリゴヌクレオチドである。ウイルス感
染細胞が細胞外からのインターフェロン刺激を受ける
と、ウィルス由来のdsRNA存在下、２−５Ａ合成酵素が
誘導され、ＡＴＰから２−５Ａが産生される。
【０００３】２−５Ａは、宿主細胞内で、不活性型のＲ
ＮＡ分解酵素（ＲＮaseＬ）を、活性型のＲＮaseＬに変
換する物質である。活性型ＲＮaseＬは、ウイルスのmＲ
ＮＡを分解することで、細胞内でウイルスの増殖を阻止
する。
【０００４】加えて、卵巣癌細胞Hel１Bに２−５Aをト
ランスフェクションすると、185rRNAの特異的切断を生
じ、チトクロームcの遊離、カスパーゼの活性化を通じ
たアポトーシスによって、抗腫瘍活性を示すことが知ら
れている(J. Interferon Cytokine Res., 20, 1091-110
0(2000))。従って、２−５Ａは、ウィルス増殖抑制剤、
即ち抗ウイルス薬、或いは、抗腫瘍薬として期待し得
る。また、ＲＮaseＬを用いたin vitro実験では，5’末
端にモノリン酸，２’-５’のホスホジエステル結合を
している3個以上のアデノシンユニットからなるオリゴ
ヌクレオチドであれば、ＲＮaseＬが活性化されること
が知られている。（Pharmacol. Ther. Vol. 78, No. 2,
pp. 55-113, 1998; J.Biol.Chem. Vol. 270, No.11, p
p. 5963-5978）しかしながら、２−５Ａ自体は、2’,5'
-ホスホジエステラーゼにより、容易にAMP及びATPにま
で分解されるため、ウィルス増殖抑制剤として用いる場
合，同様の活性を有し、より安定性の高い２−５Ａ類縁
体が、望まれる。
【０００５】又、優れたアンチセンス又はアンチジーン
活性を有し、かつ、生体内で安定な、オリゴヌクレオチ
ド類縁体は、有用な医薬として期待され、又、ＤＮＡ又
はｍＲＮＡとの安定な相補鎖形成能が高いオリゴヌクレ
オチド類縁体は、特定遺伝子の検出薬又は増幅開始の為
のプライマーとして有用である。
【０００６】これに対し、天然型オリゴヌクレオチド
は、血液中や細胞内に存在する各種ヌクレアーゼによ
り、速やかに分解されてしまうことが知られている。
又、天然型オリゴヌクレオチドは、相補的塩基配列との
親和性による制限で、特定遺伝子の検出薬又は増幅開始
の為のプライマーとしては、充分な感度を持たない場合
もあった。
【０００７】これらの欠点を克服すべく、種々の非天然
型のオリゴヌクレオチド類縁体が製造され、それらを医
薬又は特定遺伝子の検出薬等として、開発する試みがな
されている。すなわち、例えば、オリゴヌクレオチドの
ホスホジエステル結合内のリン原子と結合する酸素原子
を硫黄原子に置換したもの、該酸素原子をメチル基に置
換したもの、該酸素原子をホウ素原子に置換したもの、
オリゴヌクレオチドの糖部分や塩基部分を化学修飾した
もの等が知られている。例えば、ＩＳＩＳ社は、ヒトサ
イトメガロウイルス性網膜炎の治療薬として、チオエー
ト型オリゴヌクレオチドであるISIS2922（Ｖｉｔｒａｖ
ｅｎｅ）を開発し、米国で販売している。
【０００８】しかしながら、上記の非天然型のオリゴヌ
クレオチド類縁体における、アンチセンス又はアンチジ
ーン活性の強さ、すなわち、ＤＮＡ又はｍＲＮＡとの安
定な相補鎖形成能や、各種ヌクレアーゼに対する安定
性、生体内の各種蛋白質と非特異的に結合することによ
る副作用の発現等を考慮すると、さらに優れた生体内で
の安定性を有し、副作用の発現の少なく、かつ、相補鎖
形成能の高い非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体が望
まれていた。また、そのような非天然型オリゴヌクレオ
チドを合成するに当たって、DNA合成機又はPCR法等天然
型と同様の合成手段を用いる事ができ、合成容易である
ようなヌクレオシド類縁体が望まれていた。
【０００９】更に、本願化合物と関連する化学構造、す
なわち、オキセタン構造を有するものが、特開平１０−
１９５０９８号に記載されている。
【００１０】
【化５】
【００１１】（上記式中、Ｙ1及びＹ2は水素原子又は水
酸基の保護基であり、Ｂはプリン又はピリミジン核酸塩
基又はその類縁体である。） しかしながら、上記化合物を用いたオリゴヌクレオチド
の場合には、生体内でのヌクレアーゼ酵素耐性が低く、
生体内での安定性に欠ける為、抗ウイルス活性、アンチ
センス活性等が不充分であるという問題があった。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、抗ウイ
ルス活性、抗腫瘍活性、優れたアンチセンス又はアンチ
ジーン活性を有し、生体内で安定で、副作用の発現の少
ない非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体につき、永年
に亘り、鋭意研究を行なった。その結果、分子内エーテ
ル結合を有する3'‐4'架橋オリゴヌクレオチド類縁体及
びヌクレオシド類縁体が、安定で優れた抗ウイルス薬、
抗腫瘍薬、アンチセンス若しくはアンチジーン医薬、特
定遺伝子の検出薬（プローブ）又は増幅開始の為のプラ
イマー及びその製造中間体として有用であることを見出
し、本発明を完成した。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の新規3'‐4'架橋
ヌクレオシド類縁体は一般式（１）
【００１４】
【化６】
【００１５】［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
て、水素原子、核酸合成の水酸基の保護基、リン酸基、
核酸合成の保護基で保護されたリン酸基又は−Ｐ
（Ｒ3）Ｒ4［式中、Ｒ3及びＲ4は、同一又は異なって、
水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカ
プト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
アミノ基、炭素数１乃至４個のアルコキシ基、炭素数１
乃至４個のアルキルチオ基、炭素数１乃至５個のシアノ
アルコキシ基又は炭素数１乃至４個のアルキル基で置換
されたアミノ基を示す］を示し、Ａは、炭素数１乃至４
個のアルキレン基を示し、Ｂは、プリン−９−イル基、
２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル基又
は下記α群から選択される置換基を有する置換プリン−
９−イル基若しくは置換２−オキソ−1,2−ジヒドロピ
リミジン−１−イル基を示す。］で表わされる化合物及
びその塩であり、本発明の3'‐4'架橋オリゴヌクレオチ
ド類縁体は一般式（２）
【００１６】
【化７】
【００１７】[式中、 Ａは、炭素数１乃至４個のアルキ
レン基を示し、Ｂは、プリン−９−イル基、２−オキソ
−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル基又は下記α群
から選択される置換基を有する置換プリン−９−イル基
若しくは置換２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−
１−イル基を示す。］で表わされる構造を１又は２以上
有するオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容
される塩である。但し、上記構造を２以上含有する場合
は、当該構造間でＢは同一又は異なる。 （α群）水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸
基、炭素数１乃至４個のアルコキシ基、メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１
乃至４個のアルキルチオ基、アミノ基、核酸合成の保護
基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
基で置換されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
基、及び、ハロゲン原子であり、本発明の２'，５'-オ
リゴアデニル酸（２−５Ａ）類縁体は一般式（３）
【００１８】
【化８】
【００１９】[式中、 ｍは、１乃至３の整数を示し、ｎ
は、０または１を示し、Ｑは、酸素原子または硫黄原子
を示し、Ｖは、水素原子、置換基を有していてもよい炭
素数１乃至６個のアルキル基、置換基を有していてもよ
いアラルキル基または置換基を有していてもよいアリー
ル基を示し、Ｅ1 , Ｅ2 及びＥ3は、同一または異なっ
て、Ｋ1、Ｋ2、Ｋ3またはＫ4（Ｋ1、Ｋ2、Ｋ3及びＫ
4は、それぞれ、
【００２０】
【化９】
【００２１】を示す。ここで、Ｂは、プリン−９−イル
基又は下記α群から選択される置換基を有する置換プリ
ン−９−イル基を示し、Ａは、炭素数１乃至４個のアル
キレン基を示す。）、を示す。なお、Ｅ2は、ｍの繰り
返しにおいてそれぞれ同一または異なっていてもよ
い。］で表わされるオリゴヌクレオチド類縁体（但し、
Ｅ1、Ｅ2及びＥ3が、すべてＫ1である化合物及びすべて
Ｋ2である化合物を除く。）及びその薬理学上許容され
る塩。 （α群）水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸
基、炭素数１乃至４個のアルコキシ基、メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１
乃至４個のアルキルチオ基、アミノ基、核酸合成の保護
基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
基で置換されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
基、及び、ハロゲン原子。
【００２２】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ａの「炭素数１乃至４個のアルキレン基」としては、例
えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチ
レン基をあげることができ、好適には、メチレン又はエ
チレン基である。
【００２３】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｒ1及びＲ2の「核酸合成の水酸基の保護基」、並びにＲ
3及びＲ4又はα群の「核酸合成の保護基で保護された水
酸基」の保護基とは、核酸合成の際に安定して水酸基を
保護し得るものであれば、特に限定はないが、具体的に
は、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水
分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開
裂し得る保護基のことをいい、そのような保護基として
は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレ
リル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカ
ノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイ
ル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタ
ノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイ
ル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカ
ノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペ
ンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイ
ル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、
ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイル
のようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタ
ロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカル
ボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ
低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような
低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２
−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカル
ボニル基のような「脂肪族アシル基」；メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソ
ペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチ
ルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチル
ペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、
１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２
−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−
ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジ
メチルブチル、２−エチルブチルのような「低級アルキ
ル基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、
１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペ
ニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−
プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニ
ル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メ
チル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−
エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３
−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−
３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−
メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２
−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチ
ル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１
−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−
ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「低級アルケニル
基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルの
ようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、
４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボ
ニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トル
オイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、
４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカル
ボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシ
ベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボ
キシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、
２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボ
ニル基；２−（メトキシカルボニル） ベンゾイルのよ
うな低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル
基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリー
ルカルボニル基のような「芳香族アシル基」；テトラヒ
ドロピラン-2−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン-2
−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン-4−イル、テ
トラヒドロチオピラン-2−イル、４−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン-4−イルのような「テトラヒドロピラニ
ル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロフ
ラン-2−イル、テトラヒドロチオフラン-2−イルのよう
な「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニ
ル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプ
ロピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、メチ
ルジイソプロピルシリル、メチルジ-t−ブチルシリル、
トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリ
ル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリ
ル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプ
ロピルシリルのような１乃至２個のアリール基で置換さ
れたトリ低級アルキルシリル基のような「シリル基」；
メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチ
ル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキ
シメチル、ブトキシメチル、t-ブトキシメチルのような
「低級アルコキシメチル基」；２−メトキシエトキシメ
チルのような「低級アルコキシ化低級アルコキシメチル
基」；２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス(2
−クロロエトキシ) メチルのような「ハロゲノ低級アル
コキシメチル」；１−エトキシエチル、１−( イソプロ
ポキシ) エチルのような「低級アルコキシ化エチル
基」；２，２，２−トリクロロエチルのような「ハロゲ
ン化エチル基」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−
ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメ
チルのような「１乃至３個のアリール基で置換されたメ
チル基」；４−メチルベンジル、２，４，６-トリメチ
ルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メ
トキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチ
ル、４、４’−ジメトキシトリフェニルメチル、２−ニ
トロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジ
ル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような
「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基
でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置
換されたメチル基」；メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、t-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニルのような「低級アルコキシカルボニル基」；4‐ク
ロロフェニル、2-クロロフェニル、4‐メトキシフェニ
ル、4‐ニトロフェニル、2,4-ジニトロフェニルのよう
な「ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はニトロ基で置
換されたアリール基」 ２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又
はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキ
シカルボニル基」；ビニルオキシカルボニル、アリール
オキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニ
ル基」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベン
ジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオ
キシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような１乃
至２個の「低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が
置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」
をあげることができ、Ｒ1及びＲ2の「核酸合成の水酸基
の保護基」においては、好適には、「脂肪族アシル
基」、「芳香族アシル基」、「１乃至３個のアリール基
で置換されたメチル基」、「低級アルキル、低級アルコ
キシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１
乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」又は「シ
リル基」であり、さらに、好適には、アセチル基、ベン
ゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンゾイル基、ジ
メトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基又はtert
-ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ3及びＲ4又はα
群の「核酸合成の保護基で保護された水酸基」の保護基
においては、好適には、「１乃至３個のアリール基で置
換されたメチル基」、「ハロゲン原子、低級アルコキシ
基又はニトロ基で置換されたアリール基」、「低級アル
キル基」又は「低級アルケニル基」であり、さらに好適
には、ベンジル基、2-クロロフェニル基、4‐クロロフ
ェニル基又は2-プロペニル基である。
【００２４】上記一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2の「核酸
合成の保護基で保護されたリン酸基」の保護基とは、核
酸合成の際に安定してリン酸基を保護し得るものであれ
ば、特に限定はないが、具体的には、酸性又は中性条件
で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光
分解のような化学的方法により開裂し得る保護基のこと
をいい、そのような保護基としては、例えば、メチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、
イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−
エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メ
チルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチ
ル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、
２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、
１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、
２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのような
「低級アルキル基」；２−シアノエチル、２−シアノ−
１，１−ジメチルエチルのような「シアノ化低級アルキ
ル基」；２−メチルジフェニルシリルエチル、２−トリ
メチルシリルエチル、２−トリフェニルシリルエチルの
ような「シリル基で置換されたエチル基」；２，２，２
−トリクロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル、
２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリク
ロロ−１、１−ジメチルエチルのような「ハロゲン化低
級アルキル基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロ
ペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１
−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチ
ル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１
−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニ
ル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテ
ニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−
メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１
−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテ
ニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−
ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテ
ニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、
１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテ
ニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニ
ル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「低級ア
ルケニル基」；シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボル
ニル、アダマンチルのような「シクロアルキル基」；２
−シアノブテニルのような「シアノ化低級アルケニル
基」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメ
チル、インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、ア
ントラセニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニル
メチル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチ
ルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピ
ル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１
−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフ
チルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチ
ル、３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナ
フチルブチル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチ
ル、４−ナフチルブチル、１−フェニルペンチル、２−
フェニルペンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニ
ルペンチル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペン
チル、２−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、
４−ナフチルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フ
ェニルヘキシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニル
ヘキシル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシ
ル、６−フェニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２
−ナフチルヘキシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフ
チルヘキシル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘ
キシルのような「アラルキル基」；４−クロロベンジ
ル、２−（４−ニトロフェニル）エチル、o−ニトロベ
ンジル、４−ニトロベンジル、２、４−ジニトロベンジ
ル、４−クロロ−２−ニトロベンジルのような「ニトロ
基、ハロゲン原子でアリール環が置換されたアラルキル
基」；フェニル、インデニル、ナフチル、フェナンスレ
ニル、アントラセニルのような「アリール基」；２−メ
チルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２−クロロ
フェニル，４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェ
ニル、２，５−ジクロロフェニル、２−ブロモフェニ
ル、４−ニトロフェニル、４−クロロ−２−ニトロフェ
ニルのような「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ
基で置換されたアリール基」を挙げる事ができ、好適に
は、「低級アルキル基」、「シアノ基で置換された低級
アルキル基」、「アラルキル基」、「ニトロ基、ハロゲ
ン原子でアリール環が置換されたアラルキル基」又は
「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換され
たアリール基」であり、さらに好適には、２−シアノエ
チル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ベンジル
基、2-クロロフェニル基又は4‐クロロフェニル基であ
る。
【００２５】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｒ3及びＲ4又はα群の「炭素数１乃至４個のアルコキシ
基」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキ
シ、ｓ−ブトキシ又はtert−ブトキシをあげることがで
き、好適には、メトキシ又はエトキシ基である。
【００２６】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｒ3及びＲ4又は「核酸合成の保護基で保護されたメルカ
プト基」の保護基としては、核酸合成の際に安定してメ
ルカプト基を保護し得るものであれば、特に限定はない
が、具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水
素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的
方法により開裂し得る保護基をいい、例えば、上記水酸
基の保護基としてあげたものの他、メチルチオ、エチル
チオ、tert−ブチルチオのようなアルキルチオ基、ベン
ジルチオのようなアリールチオ基等の「ジスルフィドを
形成する基」をあげることができ、好適には、「脂肪族
アシル基」又は「芳香族アシル基」であり、さらに、好
適には、ベンゾイル基である。
【００２７】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｒ3及びＲ4又はα群の「炭素数１乃至４個のアルキルチ
オ基」としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プ
ロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチ
ルチオ、ｓ−ブチルチオ、tert−ブチルチオをあげるこ
とができ、好適には、メチルチオ又はエチルチオ基であ
る。
【００２８】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｒ3及びＲ4又はα群の「核酸合成の保護基で保護された
アミノ基」の保護基としては、核酸合成の際に安定して
アミノ基を保護し得るものであれば、特に限定はない
が、具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水
素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的
方法により開裂し得る保護基をいい、例えば、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリ
ル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、３−メチ
ルノナノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオク
タノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノ
イル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイ
ル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、１−メチル
ペンタデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１
３，１３−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイ
ル、１５−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイ
ル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、ア
イコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキルカ
ルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイル
のようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロア
セチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリ
フルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボ
ニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低級
アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル-2−ブテノ
イルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族
アシル基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフト
イルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾ
イル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリール
カルボニル基、２，４，６-トリメチルベンゾイル、４
−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニ
ル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリー
ルカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カル
ボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのような
カルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾ
イル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリール
カルボニル基；２−（メトキシカルボニル) ベンゾイル
のような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニ
ル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリ
ールカルボニル基等の「芳香族アシル基」；メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニ
ル、イソブトキシカルボニルのような「低級アルコキシ
カルボニル基」；２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのよ
うな「ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換さ
れた低級アルコキシカルボニル基」；ビニルオキシカル
ボニル、アリールオキシカルボニルのような「アルケニ
ルオキシカルボニル基」；ベンジルオキシカルボニル、
４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジル
オキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルのような１乃至２個の「低級アルコキシ又はニトロ基
でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキシ
カルボニル基」をあげることができ、好適には、「脂肪
族アシル基」又は「芳香族アシル基」であり、さらに好
適には、ベンゾイル基である。
【００２９】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｒ3及びＲ4又はα群の「炭素数１乃至４個のアルキル基
で置換されたアミノ基」としては、例えば、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミ
ノ、ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ−ブチルアミ
ノ、tert−ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブ
チルアミノ、ジイソブチルアミノ、ジ（ｓ−ブチル）ア
ミノ、ジ（tert−ブチル）アミノをあげることができ、
好適には、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノまたはジイソプロピルアミノ基であ
る。
【００３０】上記一般式（１）中、Ｒ3及びＲ4の「炭素
数１乃至５個のシアノアルコキシ基」とは、上記「炭素
数１乃至４個のアルコキシ基」にシアノ基が置換した基
をいい、その様な基としては、例えば、例えば、シアノ
メトキシ、２−シアノエトキシ、３−シアノプロポキ
シ、４−シアノブトキシ、３−シアノ−２メチルプロポ
キシ、又は１−シアノメチル−１，１−ジメチルメトキ
シをあげることができ、好適には、２−シアノエトキシ
基である。
【００３１】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
α群の「炭素数１乃至４個のアルキル基」としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチルをあげるこ
とができ、好適には、メチル又はエチル基である。
【００３２】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
α群の「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子をあげることが
でき、好適には、フッ素原子又は塩素原子である。
【００３３】上記一般式（３）中、Ｖの「置換基を有し
ていてもよい炭素数１乃至６個のアルキル基」として
は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブ
チル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチ
ル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシ
ル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペ
ンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、
３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、
１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、
１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２
−エチルブチルのような「低級アルキル基」；１−ヒド
ロキシメチル、2-ヒドロキシエチル、３-ヒドロキシプ
ロピル、４-ヒドロキシブチル、2-ヒドロキシプロピ
ル、1-メチル−2-ヒドロキシエチル、1-メチル−1-ヒド
ロキシエチル、1,１-ジメチル−２-ヒドロキシエチル、
２-ヒドロキシブチル、３-ヒドロキシブチル、１-メチ
ル−3−ヒドロキシプロピル、2-メチル−3−ヒドロキシ
プロピルのような「ヒドロキシル基で置換された低級ア
ルキル基」；１−アミノメチル、2-アミノエチル、３-
アミノプロピル、４-アミノブチル、2-アミノプロピ
ル、1-メチル−2-アミノエチル、1-メチル−1-アミノエ
チル、1,１-ジメチル−２-アミノエチル、２-アミノブ
チル、３-アミノブチル、１-メチル−3−アミノプロピ
ル、2-メチル−3−アミノプロピルのような「アミノ基
で置換された低級アルキル基」；１−メトキシメチル、
2-メトキシエチル、３-メトキシプロピル、４-メトキシ
ブチル、2-メトキシプロピル、1-メチル−2-メトキシエ
チル、1-メチル−1-メトキシエチル、1,１-ジメチル−
２-メトキシエチル、２-メトキシブチル、３-メトキシ
ブチル、１-メチル−3−メトキシプロピル、2-メチル−
3−メトキシプロピル、１−エトキシメチル、2-エトキ
シエチル、３-エトキシプロピル、４-エトキシブチル、
2-エトキシプロピル、1-メチル−2-エトキシエチル、1-
メチル−1-エトキシエチル、1,１-ジメチル−２-エトキ
シエチル、２-エトキシブチル、３-エトキシブチル、１
-メチル−3−エトキシプロピル、2-メチル−3−エトキ
シプロピルのような「アルコキシ基で置換された低級ア
ルキル基」；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニ
ル、アダマンチルのような「シクロアルキル基」をあげ
ることができ、好適には、2-ヒドロキシエチル基であ
る。
【００３４】上記一般式（３）中、Ｖの「置換基を有し
ていてもよいアラルキル基」としては、例えば、ベンジ
ル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、インデ
ニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセニル
メチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−
フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２
−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニ
ルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルプロ
ピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、
１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニ
ルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチル、
２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナフチ
ルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニルペンチ
ル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチル、５
−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２−ナフ
チルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフチルペ
ンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘキシ
ル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシル、４
−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６−フェ
ニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２−ナフチルヘ
キシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフチルヘキシ
ル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘキシルのよ
うな「アラルキル基」；４−クロロベンジル、２−（４
−ニトロフェニル）エチル、o−ニトロベンジル、４−
ニトロベンジル、２、４−ジニトロベンジル、４−クロ
ロ−２−ニトロベンジルのような「ニトロ基、ハロゲン
原子でアリール環が置換されたアラルキル基」をあげる
ことができる。
【００３５】上記一般式（３）中、Ｖの「置換基を有し
ていてもよいアリール基」としては、例えば、２−メチ
ルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２−クロロフ
ェニル，４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニ
ル、２，５−ジクロロフェニル、２−ブロモフェニル、
４−ニトロフェニル、４−クロロ−２−ニトロフェニル
のような「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で
置換されたアリール基」を挙げる事ができる。
【００３６】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｂの「プリン−９−イル基」及び「置換プリン−９−イ
ル基」全体で、好適な基は、６−アミノプリン−９−イ
ル（すなわち、アデニニル）、アミノ基が核酸合成の保
護基で保護された６−アミノプリン−９−イル、６−ア
ミノ−８−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合
成の保護基で保護された６−アミノ−８−ブロモプリン
−９−イル、６−アミノ−８−クロロプリン−９−イ
ル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミ
ノ−８−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−８−フ
ルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基
で保護された６−アミノ−８−フルオロプリン−９−イ
ル、６−アミノ−８−メトキシプリン−９−イル、アミ
ノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８−
メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−８−エトキシ
プリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
された６−アミノ−８−エトキシプリン−９−イル、６
−アミノ−８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、アミノ
基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８−ｔ
−ブトキシプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン
−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イ
ル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミ
ノ−６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フ
ルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基
で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イ
ル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ
基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブ
ロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプ
リン−９−イル（すなわち、グアニニル）、アミノ基が
核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロ
キシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリ
ン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護され
た６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−ア
ミノ−２−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合
成の保護基で保護された６−アミノ−２−クロロプリン
−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イ
ル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミ
ノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキ
シプリン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イ
ル又は６−メルカプトプリン−９−イル基であり、さら
に好適には、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル、
アデニニル、２−イソブチリルアミノ−６−ヒドロキシ
プリン−９−イル又はグアニニル基である。
【００３７】上記一般式（１）、（２）又は（３）中、
Ｂの「２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イ
ル基」及び「置換２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジ
ン−１−イル基」全体で、好適な基は、２−オキソ−４
−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル（すな
わち、シトシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保
護された２−オキソ−４−アミノ−1,2−ジヒドロピリ
ミジン−１−イル、２−オキソ−４−アミノ−５−フル
オロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基
が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミ
ノ−５−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イ
ル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−1,2−ジヒ
ドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護
基で保護された４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−
1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４
−メトキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、２
−オキソ−４−メルカプト−1,2−ジヒドロピリミジン
−１−イル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−1,2−ジヒ
ドロピリミジン−1−イル（すなわち、ウラシニル）、
２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチルピリミジン−
１−イル（すなわち、チミニル）又は４−アミノ−５−
メチル−２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−
イル（すなわち、５−メチルシトシニル）基であり、さ
らに好適には、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−1,
2−ジヒドロピリミジン−１−イル、シトシニル、チミ
ニル、ウラシニル、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ
−５−メチル−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、
又は５−メチルシトシニル基である。
【００３８】「ヌクレオシド類縁体」とは、プリン又は
ピリミジン塩基と糖が結合した「ヌクレオシド」のう
ち、非天然型のものを言う。
【００３９】「オリゴヌクレオチド類縁体」とは、同一
又は異なる上記「ヌクレオシド」がリン酸ジエステル結
合で２乃至５０個結合した「オリゴヌクレオチド」の非
天然型誘導体をいい、そのような類縁体としては、好適
には、糖部分が修飾された糖誘導体；リン酸ジエステル
結合部分がチオエート化されたチオエート誘導体；末端
のリン酸部分がエステル化されたエステル体；プリン塩
基上のアミノ基がアミド化されたアミド体を挙げること
ができ、さらに好適には、糖部分が修飾された糖誘導体
及びリン酸ジエステル結合部分がチオエート化されたチ
オエート誘導体を挙げる事が出来る。「２'，５'-オリ
ゴアデニル酸類縁体」とは、同一又は異なる上記「ヌク
レオシド」が２'，５'-リン酸ジエステル結合で３乃至
５個結合し、5’-末端にモノリン酸誘導体、場合によっ
て2’-末端にモノリン酸誘導体が結合した、「２'，５'
-オリゴアデニル酸」の非天然型誘導体をいい、そのよ
うな類縁体としては、好適には、糖部分が修飾された糖
誘導体；リン酸ジエステル結合部分がチオエート化され
たチオエート誘導体；末端のリン酸部分が置換化された
リン酸誘導体；プリン塩基上が置換化されたプリン誘導
体を挙げることができ、さらに好適には、糖部分が修飾
された糖誘導体及びリン酸ジエステル結合部分がチオエ
ート化されたチオエート誘導体を挙げる事が出来る。
【００４０】「その塩」とは、本発明の化合物（１）
は、塩にすることができるので、その塩をいい、そのよ
うな塩としては、好適にはナトリウム塩、カリウム塩、
リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マ
グネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウ
ム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等
の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチ
ルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グル
コサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エ
チレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジ
ン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジ
アミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタ
ノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、
ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス
（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等
のアミン塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃
化水素酸塩のようなハロゲン原子化水素酸塩、硝酸塩、
過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メタンスル
ホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンス
ルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩のようなアリ
−ルスルホン酸塩、酢酸塩、りんご酸塩、フマ−ル酸
塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレ
イン酸塩等の有機酸塩；及び、グリシン塩、リジン塩、
アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパ
ラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができる。
【００４１】「その薬理上許容される塩」とは、本発明
のオリゴヌクレオチド類縁体は、塩にすることができる
ので、その塩をいい、そのような塩としては、好適には
ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカ
リ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアル
カリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅
塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属塩；アンモニウム
塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジル
アミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグ
リシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−
メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン
塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、
Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロ
カイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−
ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラ
メチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）ア
ミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩；弗化水素酸
塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロ
ゲン原子化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐
酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロ
メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級
アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トル
エンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢酸
塩、りんご酸塩、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸
塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及
び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン
塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ
酸塩を挙げることができる。
【００４２】本発明の化合物（１）及びその塩のうち、
好適な化合物としては、（１）Ｒ1が、水素原子、脂肪
族アシル基、芳香族アシル基、１乃至３個のアリール基
で置換されたメチル基、低級アルキル、低級アルコキ
シ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換され
た１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、又
は、シリル基である化合物及びその塩、（２）Ｒ1が、
水素原子、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ
−メトキシベンジル基、ジメトキシトリチル基、モノメ
トキシトリチル基又はtert-ブチルジフェニルシリル基
である化合物及びその塩、（３）Ｒ2が、水素原子、脂
肪族アシル基、芳香族アシル基、１乃至３個のアリール
基で置換されたメチル基、低級アルキル、低級アルコキ
シ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換され
た１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、シリ
ル基、ホスホロアミダイト基、ホスホニル基、リン酸基
又は核酸合成の保護基で保護されたリン酸基である化合
物及びその塩、（４）Ｒ2が、水素原子、アセチル基、
ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、
tert-ブチルジフェニルシリル基、-P(OC2H4CN)(NCH(C
H3)2)、-P(OCH3)(NCH(CH3)2)、ホスホニル基、又は、２
−クロロフェニル若しくは４−クロロフェニルリン酸基
である化合物及びその塩、（５）Ａが、メチレン又はエ
チレン基である化合物及びその塩、（６）Ｂが、６−ア
ミノプリン−９−イル（すなわち、アデニニル）、アミ
ノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン
−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、６−
アミノ−８−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸
合成の保護基で保護された６−アミノ−８−ブロモプリ
ン−９−イル、６−アミノ−８−クロロプリン−９−イ
ル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミ
ノ−８−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−８−フ
ルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基
で保護された６−アミノ−８−フルオロプリン−９−イ
ル、６−アミノ−８−メトキシプリン−９−イル、アミ
ノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８−
メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−８−エトキシ
プリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
された６−アミノ−８−エトキシプリン−９−イル、６
−アミノ−８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、アミノ
基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８−ｔ
−ブトキシプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロ
プリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、２−
アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核
酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロ
プリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９
−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−
アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６
−ヒドロキシプリン−９−イル（すなわち、グアニニ
ル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−ア
ミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−
２−メトキシプリン−９−イル、ミノ基が核酸合成の保
護基で保護された６−アミノ−２−メトキシプリン−９
−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、ア
ミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２
−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロ
プリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
された６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、
２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロ
ロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９−イ
ル、２−オキソ−４−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジ
ン−１−イル（すなわち、シトシニル）、アミノ基が核
酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−
1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４
−アミノ−５−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−
１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２
−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−1,2−ジヒドロ
ピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−
クロロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ
基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−２−オ
キソ−５−クロロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イ
ル、２−オキソ−４−メトキシ−1,2−ジヒドロピリミ
ジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−1,2−
ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−ヒド
ロキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル（すなわ
ち、ウラシニル）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−
メチルピリミジン−１−イル（すなわち、チミニル）、
４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−1,2−ジヒドロ
ピリミジン−１−イル（すなわち、５−メチルシトシニ
ル）基又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された４
−アミノ−５−メチル−２−オキソ−1,2−ジヒドロピ
リミジン−１−イル基である化合物及びその塩、（７）
Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル、アデニ
ニル、６−アミノ−８−ブロモプリン−９−イル、６−
ベンゾイルアミノ−８−ブロモプリン−９−イル、６−
アミノ−８−クロロプリン−９−イル、６−ベンゾイル
アミノ−８−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−８
−フルオロプリン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−
８−フルオロプリン−９−イル、６−アミノ−８−メト
キシプリン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−８−メ
トキシプリン−９−イル、６−アミノ−８−エトキシプ
リン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−８−エトキシ
プリン−９−イル、６−アミノ−８−ｔ−ブトキシプリ
ン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−８−ｔ−ブトキ
シプリン−９−イル、２−イソブチリルアミノ−６−ヒ
ドロキシプリン−９−イル、グアニニル、２−オキソ−
４−ベンゾイルアミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−１
−イル、シトシニル、２−オキソ−５−メチル−４−ベ
ンゾイルアミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イ
ル、５−メチルシトシニル、ウラシニル又はチミニル基
である化合物及びその塩をあげることができる。
【００４３】又、上記（１）乃至（２）、(３)乃至
（４）又は（６）乃至（７）は、番号が大きくなるに従
って、より好適な化合物を示し、一般式（１）におい
て、Ｒ1を（１）乃至（２）から任意に選択し、Ｒ2を
（３）乃至（４）から任意に選択し、Ａを（５）から任
意に選択し、Ｂを（６）乃至（７）から任意に選択し、
又、これらを任意に組み合わせて得られた化合物および
その塩も好適であり、特に好適な組み合わせは、(2)-
(3)-(5)-(6)、(2)-(3)-(5)-(7)、(2)-(4)-(5)-(6)及び
(2)-(4)-(5)-(7)であり、更に好適には、下記群から選
択される化合物及びその塩である。
【００４４】(化合物群)３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレングア
ノシン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレンアデノシン、５’-
Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-６-
Ｎ-ベンゾイルアデノシン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチ
ル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-２-Ｎ-イソブチリルグア
ノシン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-２-Ｎ-イソブチリ
ルグアノシン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-６-Ｎ-ベン
ゾイルアデノシン、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-
Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-６-Ｎ-ベンゾイルアデノシン‐
２'-Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピ
ル）ホスホロアミダイト ５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレ
ン-２-Ｎ-イソブチリルグアノシン‐２'-Ｏ‐（２‐シ
アノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダ
イト ３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレンウリジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-
エチレン−５−メチルウリジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチ
レンシチジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-５-メチルシ
チジン、２’,５’-ジ-Ｏ-ベンジル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-
エチレンウリジン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-
Ｏ,４’-Ｃ-エチレンウリジン、５’-Ｏ-ジメトキシト
リチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-５−メチルウリジ
ン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エ
チレン-４-Ｎ-ベンゾイルシチジン、５’-Ｏ-ジメトキ
シトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベンゾイ
ル-５-メチルシチジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-
Ｎ-ベンゾイルシチジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４
-Ｎ-ベンゾイル-５-メチルシチジン、5'-Ｏ-ジメトキシ
トリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-ウリジン‐２'-
Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホ
スホロアミダイト、5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-
Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-５−メチルウリジン-２'-Ｏ‐
（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホ
ロアミダイト、5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,
４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベンゾイルシチジン‐２'-Ｏ
‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホス
ホロアミダイト、5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,
４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベンゾイル−５−メチルシチ
ジン‐2'-Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプ
ロピル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−ア
ミノ−８−ブロモアデノシン、５'−O−ジメトキシトリ
チル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−ブ
ロモアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−
O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−ブロモアデノ
シン２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロピ
ル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ
−８−クロロアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル
−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−クロロ
アデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−O，
４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−クロロアデノシン
２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロピル）
ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ−８
−フルオロアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−
３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−フルオロ
アデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−O，
４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−フルオロアデノシ
ン２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロピ
ル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ
−８−メトキシアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチ
ル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−メト
キシアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−
O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−メトキシアデ
ノシン２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロ
ピル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミ
ノ−８−エトキシアデノシン、５'−O−ジメトキシトリ
チル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−エ
トキシアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'
−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−エトキシア
デノシン２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプ
ロピル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−ア
ミノ−８−ｔ−ブトキシアデノシン、５'−O−ジメトキ
シトリチル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−
８−ｔ−ブトキシアデノシン、及び、５'−O−ジメトキ
シトリチル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−
８−ｔ−ブトキシアデノシン２'−O−（２−シアノエチ
ル N,N−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト。
【００４５】本発明の一般式（２）で表される構造を１
又は２以上含有するオリゴヌクレオチド類縁体及びその
薬理学上許容される塩のうち、好適なものとしては、
（８）Ａが、メチレン又はエチレン基であるオリゴヌク
レオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩、（９）
Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（すなわち、アデニ
ニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−
アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９
−イル、６−アミノ−８−ブロモプリン−９−イル、ア
ミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８
−ブロモプリン−９−イル、６−アミノ−８−クロロプ
リン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護さ
れた６−アミノ−８−クロロプリン−９−イル、６−ア
ミノ−８−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸
合成の保護基で保護された６−アミノ−８−フルオロプ
リン−９−イル、６−アミノ−８−メトキシプリン−９
−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−
アミノ−８−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−
８−エトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の
保護基で保護された６−アミノ−８−エトキシプリン−
９−イル、６−アミノ−８−ｔ−ブトキシプリン−９−
イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−ア
ミノ−８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、２−アミノ
−６−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の
保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９
−イル、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、
アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−
６−フルオロプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロ
モプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保
護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２
−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（すなわ
ち、グアニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、
アミノ基及び水酸基が保護された２−アミノ−６−ヒド
ロキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプ
リン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護さ
れた６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−
アミノ−２−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸
合成の保護基で保護された６−アミノ−２−クロロプリ
ン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−
イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−ア
ミノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメト
キシプリン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−
イル、６−メルカプトプリン−９−イル、２−オキソ−
４−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル（す
なわち、シトシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で
保護された２−オキソ−４−アミノ−1,2−ジヒドロピ
リミジン−１−イル、２−オキソ−４−アミノ−５−フ
ルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ
基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−ア
ミノ−５−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−
イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−1,2−ジ
ヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保
護基で保護された４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ
−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−
４−メトキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、
２−オキソ−４−メルカプト−1,2−ジヒドロピリミジ
ン−１−イル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−1,2−ジ
ヒドロピリミジン−1−イル（すなわち、ウラシニ
ル）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチルピリミ
ジン−１−イル（すなわち、チミニル）、４−アミノ−
５−メチル−２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−
１−イル（すなわち、５−メチルシトシニル）基又はア
ミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−５
−メチル−２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１
−イル基であるオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理
学上許容される塩、（１０）Ｂが、６−ベンゾイルアミ
ノプリン−９−イル、アデニニル、６−アミノ−８−ブ
ロモプリン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−８−ブ
ロモプリン−９−イル、６−アミノ−８−クロロプリン
−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−８−クロロプリン
−９−イル、６−アミノ−８−フルオロプリン−９−イ
ル、６−ベンゾイルアミノ−８−フルオロプリン−９−
イル、６−アミノ−８−メトキシプリン−９−イル、６
−ベンゾイルアミノ−８−メトキシプリン−９−イル、
６−アミノ−８−エトキシプリン−９−イル、６−ベン
ゾイルアミノ−８−エトキシプリン−９−イル、６−ア
ミノ−８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、６−ベンゾ
イルアミノ−８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、２−
イソブチリルアミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イ
ル、グアニニル、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−
1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、シトシニル、２
−オキソ−５−メチル−４−ベンゾイルアミノ−1,2−
ジヒドロピリミジン−１−イル、５−メチルシトシニ
ル、ウラシニル又はチミニル基であるオリゴヌクレオチ
ド類縁体及びその薬理学上許容される塩をあげることが
できる。
【００４６】又、上記（９）乃至（１０）は、番号が大
きくなるに従って、より好適なオリゴヌクレオチド類縁
体を示し、一般式（２）において、Ａを（８）から任意
に選択し、Ｂを（９）乃至（１０）から任意に選択し、
又、これらを任意に組み合わせて得られたオリゴヌクレ
オチド類縁体およびその薬理学上許容される塩も好適で
あり、特に好適な組み合わせは(8)-(9)及び(8)-(10)で
ある。
【００４７】本発明の一般式（３）で表される構造を有
する２'，５'-オリゴアデニル酸類縁体及びその薬理学
上許容される塩のうち、好適なものとしては、（８）Ａ
が、メチレン又はエチレン基である２'，５'-オリゴア
デニル酸類縁体及びその薬理学上許容される塩、（９）
Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（すなわち、アデニ
ニル）、６−アミノ−８−ブロモプリン−９−イル、６
−アミノ−８−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−
８−フルオロプリン−９−イル、６−アミノ−８−メト
キシプリン−９−イル、６−アミノ−８−エトキシプリ
ン−９−イル、６−アミノ−８−ｔ−ブトキシプリン−
９−イル、６−アミノ−２−ブロモプリン−９−イル、
６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ
−２−フルオロプリン−９−イル、６−アミノ−２−メ
トキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−エトキシプ
リン−９−イル、６−アミノ−２−ｔ−ブトキシプリン
−９−イル、2,6-ジアミノプリン−９−イル基である
２'，５'-オリゴアデニル酸類縁体及びその薬理学上許
容される塩。
【００４８】本発明の上記式（１）の化合物に包含され
る、具体的な化合物を表１及び表２に例示する。但し、
本発明の化合物は、これらに限定されるものではない。
【００４９】表１及び表２において、Ｍｅは、メチル基
を示し、Ｂｎは、ベンジル基を示し、Ｂｚは、ベンゾイ
ル基を示し、ＰＭＢは、ｐ−メトキシベンジル基を示
し、Ｔｒは、トリフェニルメチル基を示し、ＭＭＴｒ
は、４−メトキシトリフェニルメチル（モノメトキシト
リチル）基を示し、ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ
トリフェニルメチル（ジメトキシトリチル）基を示し、
ＴＭＴｒは、４，４’，４’’−トリメトキシトリフェ
ニルメチル（トリメトキシトリチル）基を示し、ＴＭＳ
は、トリメチルシリル基を示し、ＴＢＤＭＳは、tert−
ブチルジメチルシリル基を示し、ＴＢＤＰＳは、tert−
ブチルジフェニルシリル基を示し、ＴＩＰＳは、トリイ
ソプロピルシリル基を示す。
【００５０】
【化１０】
【００５１】
【表１】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 例 示 化合物 番 号 A R1 R2 R5 R6 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 1-1 CH2 H H H H 1-2 CH2 H H H NH2 1-3 CH2 H H H OH 1-4 CH2 H H OH H 1-5 CH2 H H OH NH2 1-6 CH2 H H OH OH 1-7 CH2 H H NH2 H 1-8 CH2 H H NH2 NH2 1-9 CH2 H H NH2 Cl 1-10 CH2 H H NH2 F 1-11 CH2 H H NH2 Br 1-12 CH2 H H NH2 OH 1-13 CH2 H H OMe H 1-14 CH2 H H OMe OMe 1-15 CH2 H H OMe NH2 1-16 CH2 H H Cl H 1-17 CH2 H H Br H 1-18 CH2 H H F H 1-19 CH2 H H Cl Cl 1-20 CH2 H H SH H 1-21 CH2 Bn H NHBz H 1-22 CH2 Bn H OH NHCOCH(CH3)2 1-23 CH2 Bn Ac NHBz H 1-24 CH2 Bn Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-25 CH2 PMB H NHBz H 1-26 CH2 PMB H OH NHCOCH(CH3)2 1-27 CH2 PMB Ac NHBz H 1-28 CH2 PMB Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-29 CH2 Tr H NHBz H 1-30 CH2 MMTr H NHBz H 1-31 CH2 DMTr H NHBz H 1-32 CH2 Ac Ac NHBz H 1-33 CH2 Tr H OH NHCOCH(CH3)2 1-34 CH2 MMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-35 CH2 DMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-36 CH2 Ac Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-37 CH2 TBDPS Ac NHBz H 1-38 CH2 TBDMS H NHBz H 1-39 CH2 TBDPS H NHBz H 1-40 CH2 TIPS H NHBz H 1-41 CH2 TBDPS Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-42 CH2 TBDMS H OH NHCOCH(CH3)2 1-43 CH2 TBDPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-44 CH2 TIPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-45 (CH2)2 H H H H 1-46 (CH2)2 H H H NH2 1-47 (CH2)2 H H H OH 1-48 (CH2)2 H H OH H 1-49 (CH2)2 H H OH NH2 1-50 (CH2)2 H H OH OH 1-51 (CH2)2 H H NH2 H 1-52 (CH2)2 H H NH2 NH2 1-53 (CH2)2 H H NH2 Cl 1-54 (CH2)2 H H NH2 F 1-55 (CH2)2 H H NH2 Br 1-56 (CH2)2 H H NH2 OH 1-57 (CH2)2 H H OMe H 1-58 (CH2)2 H H OMe OMe 1-59 (CH2)2 H H OMe NH2 1-60 (CH2)2 H H Cl H 1-61 (CH2)2 H H Br H 1-62 (CH2)2 H H F H 1-63 (CH2)2 H H Cl Cl 1-64 (CH2)2 H H SH H 1-65 (CH2)2 Bn H NHBz H 1-66 (CH2)2 Bn H OH NHCOCH(CH3)2 1-67 (CH2)2 Bn Ac NHBz H 1-68 (CH2)2 Bn Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-69 (CH2)2 PMB H NHBz H 1-70 (CH2)2 PMB H OH NHCOCH(CH3)2 1-71 (CH2)2 PMB Ac NHBz H 1-72 (CH2)2 PMB Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-73 (CH2)2 Tr H NHBz H 1-74 (CH2)2 MMTr H NHBz H 1-75 (CH2)2 DMTr H NHBz H 1-76 (CH2)2 Ac Ac NHBz H 1-77 (CH2)2 Tr H OH NHCOCH(CH3)2 1-78 (CH2)2 MMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-79 (CH2)2 DMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-80 (CH2)2 Ac Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-81 (CH2)2 TBDPS Ac NHBz H 1-82 (CH2)2 TBDMS H NHBz H 1-83 (CH2)2 TBDPS H NHBz H 1-84 (CH2)2 TIPS H NHBz H 1-85 (CH2)2 TBDPS Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-86 (CH2)2 TBDMS H OH NHCOCH(CH3)2 1-87 (CH2)2 TBDPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-88 (CH2)2 TIPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-89 (CH2)3 H H H H 1-90 (CH2)3 H H H NH2 1-91 (CH2)3 H H H OH 1-92 (CH2)3 H H OH H 1-93 (CH2)3 H H OH NH2 1-94 (CH2)3 H H OH OH 1-95 (CH2)3 H H NH2 H 1-96 (CH2)3 H H NH2 NH2 1-97 (CH2)3 H H NH2 Cl 1-98 (CH2)3 H H NH2 F 1-99 (CH2)3 H H NH2 Br 1-100 (CH2)3 H H NH2 OH 1-101 (CH2)3 H H OMe H 1-102 (CH2)3 H H OMe OMe 1-103 (CH2)3 H H OMe NH2 1-104 (CH2)3 H H Cl H 1-105 (CH2)3 H H Br H 1-106 (CH2)3 H H F H 1-107 (CH2)3 H H Cl Cl 1-108 (CH2)3 H H SH H 1-109 (CH2)3 Bn H NHBz H 1-110 (CH2)3 Bn H OH NHCOCH(CH3)2 1-111 (CH2)3 Bn Ac NHBz H 1-112 (CH2)3 Bn Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-113 (CH2)3 PMB H NHBz H 1-114 (CH2)3 PMB H OH NHCOCH(CH3)2 1-115 (CH2)3 PMB Ac NHBz H 1-116 (CH2)3 PMB Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-117 (CH2)3 Tr H NHBz H 1-118 (CH2)3 MMTr H NHBz H 1-119 (CH2)3 DMTr H NHBz H 1-120 (CH2)3 Ac Ac NHBz H 1-121 (CH2)3 Tr H OH NHCOCH(CH3)2 1-122 (CH2)3 MMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-123 (CH2)3 DMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-124 (CH2)3 Ac Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-125 (CH2)3 TNDPS Ac NHBz H 1-126 (CH2)3 TBDMS H NHBz H 1-127 (CH2)3 TBDPS H NHBz H 1-128 (CH2)3 TIPS H NHBz H 1-129 (CH2)3 TBDPS Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-130 (CH2)3 TBDMS H OH NHCOCH(CH3)2 1-131 (CH2)3 TBDPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-132 (CH2)3 TIPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-133 (CH2)4 H H H H 1-134 (CH2)4 H H H NH2 1-135 (CH2)4 H H H OH 1-136 (CH2)4 H H OH H 1-137 (CH2)4 H H OH NH2 1-138 (CH2)4 H H OH OH 1-139 (CH2)4 H H NH2 H 1-140 (CH2)4 H H NH2 NH2 1-141 (CH2)4 H H NH2 Cl 1-142 (CH2)4 H H NH2 F 1-143 (CH2)4 H H NH2 Br 1-144 (CH2)4 H H NH2 OH 1-145 (CH2)4 H H OMe H 1-146 (CH2)4 H H OMe OMe 1-147 (CH2)4 H H OMe NH2 1-148 (CH2)4 H H Cl H 1-149 (CH2)4 H H Br H 1-150 (CH2)4 H H F H 1-151 (CH2)4 H H Cl Cl 1-152 (CH2)4 H H SH H 1-153 (CH2)4 Bn H NHBz H 1-154 (CH2)4 Bn H OH NHCOCH(CH3)2 1-155 (CH2)4 Bn Ac NHBz H 1-156 (CH2)4 Bn Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-157 (CH2)4 PMB H NHBz H 1-158 (CH2)4 PMB H OH NHCOCH(CH3)2 1-159 (CH2)4 PMB Ac NHBz H 1-160 (CH2)4 PMB Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-161 (CH2)4 Tr H NHBz H 1-162 (CH2)4 MMTr H NHBz H 1-163 (CH2)4 DMTr H NHBz H 1-164 (CH2)4 Ac Ac NHBz H 1-165 (CH2)4 Tr H OH NHCOCH(CH3)2 1-166 (CH2)4 MMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-167 (CH2)4 DMTr H OH NHCOCH(CH3)2 1-168 (CH2)4 Ac Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-169 (CH2)4 TBDPS Ac NHBz H 1-170 (CH2)4 TBDMS H NHBz H 1-171 (CH2)4 TBDPS H NHBz H 1-172 (CH2)4 TIPS H NHBz H 1-173 (CH2)4 TBDPS Ac OH NHCOCH(CH3)2 1-174 (CH2)4 TBDMS H OH NHCOCH(CH3)2 1-175 (CH2)4 TBDPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-176 (CH2)4 TIPS H OH NHCOCH(CH3)2 1-177 CH2 H H OH NHCOCH(CH3)2 1-178 CH2 H H NHBz H 1-179 (CH2)2 H H OH NHCOCH(CH3)2 1-180 (CH2)2 H H NHBz H 1-181 (CH2)3 H H OH NHCOCH(CH3)2 1-182 (CH2)3 H H NHBz H 1-183 (CH2)4 H H OH NHCOCH(CH3)2 1-184 (CH2)4 H H NHBz H 1-185 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH NHCOCH(CH3)2 1-186 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 1-187 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH NHCOCH(CH3)2 1-188 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 1-189 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH NHCOCH(CH3)2 1-190 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 1-191 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH NHCOCH(CH3)2 1-192 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 1-193 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH NHCOCH(CH3)2 1-194 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 1-195 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH NHCOCH(CH3)2 1-196 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 1-197 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH NHCOCH(CH3)2 1-198 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 1-199 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH NHCOCH(CH3)2 1-200 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 1-201 CH2 DMTr P(O)(OH)H OH NHCOCH(CH3)2 1-202 CH2 DMTr P(O)(OH)H NHBz H 1-203 (CH2)2 DMTr P(O)(OH)H OH NHCOCH(CH3)2 1-204 (CH2)2 DMTr P(O)(OH)H NHBz H 1-205 (CH2)3 DMTr P(O)(OH)H OH NHCOCH(CH3)2 1-206 (CH2)3 DMTr P(O)(OH)H NHBz H 1-207 (CH2)4 DMTr P(O)(OH)H OH NHCOCH(CH3)2 1-208 (CH2)4 DMTr P(O)(OH)H NHBz H 1-209 CH2 H Ac NHBz H −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００５２】
【化１１】
【００５３】
【表２】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 例 示 化合物 番 号 A R1 R2 R7 R8 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 2-1 CH2 H H OH H 2-2 CH2 H H OH CH3 2-3 CH2 H H NH2 H 2-4 CH2 H H NH2 CH3 2-5 CH2 H H NH2 F 2-6 CH2 H H Cl H 2-7 CH2 H H OMe H 2-8 CH2 H H SH H 2-9 CH2 Bn H OH H 2-10 CH2 Bn Ac OH H 2-11 CH2 PMB H OH H 2-12 CH2 PMB Ac OH H 2-13 CH2 Tr H OH H 2-14 CH2 MMTr H OH H 2-15 CH2 DMTr H OH H 2-16 CH2 Ac Ac OH H 2-17 CH2 TBDPS Ac OH H 2-18 CH2 TBDMS H OH H 2-19 CH2 TBDPS H OH H 2-20 CH2 TIPS H OH H 2-21 CH2 Bn H OH CH3 2-22 CH2 Bn Ac OH CH3 2-23 CH2 PMB Ac OH CH3 2-24 CH2 PMB PMB OH CH3 2-25 CH2 Tr H OH CH3 2-26 CH2 MMTr H OH CH3 2-27 CH2 DMTr H OH CH3 2-28 CH2 Ac Ac OH CH3 2-29 CH2 TBDPS Ac OH CH3 2-30 CH2 TBDMS H OH CH3 2-31 CH2 TBDPS H OH CH3 2-32 CH2 TIPS H OH CH3 2-33 CH2 Bn H NHBz H 2-34 CH2 Bn Ac NHBz H 2-35 CH2 PMB H NHBz H 2-36 CH2 PMB Ac NHBz H 2-37 CH2 Tr H NHBz H 2-38 CH2 MMTr H NHBz H 2-39 CH2 DMTr H NHBz H 2-40 CH2 Ac Ac NHBz H 2-41 CH2 TBDPS Ac NHBz H 2-42 CH2 TBDMS H NHBz H 2-43 CH2 TBDPS H NHBz H 2-44 CH2 TIPS H NHBz H 2-45 CH2 Bn H NHBz CH3 2-46 CH2 Bn Ac NHBz CH3 2-47 CH2 PMB H NHBz CH3 2-48 CH2 PMB Ac NHBz CH3 2-49 CH2 Tr H NHBz CH3 2-50 CH2 MMTr H NHBz CH3 2-51 CH2 DMTr H NHBz CH3 2-52 CH2 Ac Ac NHBz CH3 2-53 CH2 TBDPS Ac NHBz CH3 2-54 CH2 TBDMS H NHBz CH3 2-55 CH2 TBDPS H NHBz CH3 2-56 CH2 TIPS H NHBz CH3 2-57 (CH2)2 H H OH H 2-58 (CH2)2 H H OH CH3 2-59 (CH2)2 H H NH2 H 2-60 (CH2)2 H H NH2 CH3 2-61 (CH2)2 H H NH2 F 2-62 (CH2)2 H H Cl H 2-63 (CH2)2 H H OMe H 2-64 (CH2)2 H H SH H 2-65 (CH2)2 Bn H OH H 2-66 (CH2)2 Bn Ac OH H 2-67 (CH2)2 PMB H OH H 2-68 (CH2)2 PMB Ac OH H 2-69 (CH2)2 Tr H OH H 2-70 (CH2)2 MMTr H OH H 2-71 (CH2)2 DMTr H OH H 2-72 (CH2)2 Ac Ac OH H 2-73 (CH2)2 TBDPS Ac OH H 2-74 (CH2)2 TBDMS H OH H 2-75 (CH2)2 TBDPS H OH H 2-76 (CH2)2 TIPS H OH H 2-77 (CH2)2 Bn H OH CH3 2-78 (CH2)2 Bn Ac OH CH3 2-79 (CH2)2 PMB H OH CH3 2-80 (CH2)2 PMB Ac OH CH3 2-81 (CH2)2 Tr H OH CH3 2-82 (CH2)2 MMTr H OH CH3 2-83 (CH2)2 DMTr H OH CH3 2-84 (CH2)2 Ac Ac OH CH3 2-85 (CH2)2 TBDPS Ac OH CH3 2-86 (CH2)2 TBDMS H OH CH3 2-87 (CH2)2 TBDPS H OH CH3 2-88 (CH2)2 TIPS H OH CH3 2-89 (CH2)2 Bn H NHBz H 2-90 (CH2)2 Bn Ac NHBz H 2-91 (CH2)2 PMB H NHBz H 2-92 (CH2)2 PMB Ac NHBz H 2-93 (CH2)2 Tr H NHBz H 2-94 (CH2)2 MMTr H NHBz H 2-95 (CH2)2 DMTr H NHBz H 2-96 (CH2)2 Ac Ac NHBz H 2-97 (CH2)2 TBDPS Ac NHBz H 2-98 (CH2)2 TBDMS H NHBz H 2-99 (CH2)2 TBDPS H NHBz H 2-100 (CH2)2 TIPS H NHBz H 2-101 (CH2)2 Bn H NHBz CH3 2-102 (CH2)2 Bn Bn NHBz CH3 2-103 (CH2)2 PMB Ac NHBz CH3 2-104 (CH2)2 PMB Ac NHBz CH3 2-105 (CH2)2 Tr H NHBz CH3 2-106 (CH2)2 MMTr H NHBz CH3 2-107 (CH2)2 DMTr H NHBz CH3 2-108 (CH2)2 Ac Ac NHBz CH3 2-109 (CH2)2 TBDPS Ac NHBz CH3 2-110 (CH2)2 TBDMS H NHBz CH3 2-111 (CH2)2 TBDPS H NHBz CH3 2-112 (CH2)2 TIPS H NHBz CH3 2-113 (CH2)3 H H OH H 2-114 (CH2)3 H H OH CH3 2-115 (CH2)3 H H NH2 H 2-116 (CH2)3 H H NH2 CH3 2-117 (CH2)3 H H NH2 F 2-118 (CH2)3 H H Cl H 2-120 (CH2)3 H H SH H 2-121 (CH2)3 Bn H OH H 2-122 (CH2)3 Bn Ac OH H 2-123 (CH2)3 PMB H OH H 2-124 (CH2)3 PMB Ac OH H 2-125 (CH2)3 Tr H OH H 2-126 (CH2)3 MMTr H OH H 2-127 (CH2)3 DMTr H OH H 2-128 (CH2)3 Ac Ac OH H 2-129 (CH2)3 TBDPS Ac OH H 2-130 (CH2)3 TBDMS H OH H 2-131 (CH2)3 TBDPS H OH H 2-132 (CH2)3 TIPS H OH H 2-133 (CH2)3 Bn H OH CH3 2-134 (CH2)3 Bn Ac OH CH3 2-135 (CH2)3 PMB Ac OH CH3 2-136 (CH2)3 PMB PMB OH CH3 2-137 (CH2)3 Tr H OH CH3 2-138 (CH2)3 MMTr H OH CH3 2-139 (CH2)3 DMTr H OH CH3 2-140 (CH2)3 Ac Ac OH CH3 2-141 (CH2)3 TBDPS Ac OH CH3 2-142 (CH2)3 TBDMS H OH CH3 2-143 (CH2)3 TBDPS H OH CH3 2-144 (CH2)3 TIPS H OH CH3 2-145 (CH2)3 Bn H NHBz H 2-146 (CH2)3 Bn Ac NHBz H 2-147 (CH2)3 PMB H NHBz H 2-148 (CH2)3 PMB Ac NHBz H 2-149 (CH2)3 Tr H NHBz H 2-150 (CH2)3 MMTr H NHBz H 2-151 (CH2)3 DMTr H NHBz H 2-152 (CH2)3 Ac Ac NHBz H 2-153 (CH2)3 TBDPS Ac NHBz H 2-154 (CH2)3 TBDMS H NHBz H 2-155 (CH2)3 TBDPS H NHBz H 2-156 (CH2)3 TIPS H NHBz H 2-157 (CH2)3 Bn H NHBz CH3 2-158 (CH2)3 Bn Ac NHBz CH3 2-159 (CH2)3 PMB H NHBz CH3 2-160 (CH2)3 PMB Ac NHBz CH3 2-161 (CH2)3 Tr H NHBz CH3 2-162 (CH2)3 MMTr H NHBz CH3 2-163 (CH2)3 DMTr H NHBz CH3 2-164 (CH2)3 Ac Ac NHBz CH3 2-165 (CH2)3 TBDPS Ac NHBz CH3 2-166 (CH2)3 TBDMS H NHBz CH3 2-167 (CH2)3 TBDPS H NHBz CH3 2-168 (CH2)3 TIPS H NHBz CH3 2-169 (CH2)4 H H OH H 2-170 (CH2)4 H H OH CH3 2-171 (CH2)4 H H NH2 H 2-172 (CH2)4 H H NH2 CH3 2-173 (CH2)4 H H NH2 F 2-174 (CH2)4 H H Cl H 2-175 (CH2)4 H H OMe H 2-176 (CH2)4 H H SH H 2-177 (CH2)4 Bn H OH H 2-178 (CH2)4 Bn Ac OH H 2-179 (CH2)4 PMB H OH H 2-180 (CH2)4 PMB Ac OH H 2-181 (CH2)4 Tr H OH H 2-182 (CH2)4 MMTr H OH H 2-183 (CH2)4 DMTr H OH H 2-184 (CH2)4 Ac Ac OH H 2-185 (CH2)4 TBDPS Ac OH H 2-186 (CH2)4 TBDMS H OH H 2-187 (CH2)4 TBDPS H OH H 2-188 (CH2)4 TIPS H OH H 2-189 (CH2)4 Bn H OH CH3 2-190 (CH2)4 Bn Ac OH CH3 2-191 (CH2)4 PMB H OH CH3 2-192 (CH2)4 PMB Ac OH CH3 2-193 (CH2)4 Tr H OH CH3 2-194 (CH2)4 MMTr H OH CH3 2-195 (CH2)4 DMTr H OH CH3 2-196 (CH2)4 Ac Ac OH CH3 2-197 (CH2)4 TBDPS Ac OH CH3 2-198 (CH2)4 TBDMS H OH CH3 2-199 (CH2)4 TBDPS H OH CH3 2-200 (CH2)4 TIPS H OH CH3 2-201 (CH2)4 Bn H NHBz H 2-202 (CH2)4 Bn Ac NHBz H 2-203 (CH2)4 PMB H NHBz H 2-204 (CH2)4 PMB Ac NHBz H 2-205 (CH2)4 Tr H NHBz H 2-206 (CH2)4 MMTr H NHBz H 2-207 (CH2)4 DMTr H NHBz H 2-208 (CH2)4 Ac Ac NHBz H 2-209 (CH2)4 TBDPS Ac NHBz H 2-210 (CH2)4 TBDMS H NHBz H 2-211 (CH2)4 TBDPS H NHBz H 2-212 (CH2)4 TIPS H NHBz H 2-213 (CH2)4 Bn H NHBz CH3 2-214 (CH2)4 Bn Ac NHBz CH3 2-215 (CH2)4 PMB H NHBz CH3 2-216 (CH2)4 PMB Ac NHBz CH3 2-217 (CH2)4 Tr H NHBz CH3 2-218 (CH2)4 MMTr H NHBz CH3 2-219 (CH2)4 DMTr H NHBz CH3 2-220 (CH2)4 Ac Ac NHBz CH3 2-221 (CH2)4 TBDPS Ac NHBz CH3 2-222 (CH2)4 TBDMS H NHBz CH3 2-223 (CH2)4 TBDPS H NHBz CH3 2-224 (CH2)4 TIPS H NHBz CH3 2-225 CH2 H H NHBz H 2-226 CH2 H H NHBz CH3 2-227 (CH2)2 H H NHBz H 2-228 (CH2)2 H H NHBz CH3 2-229 (CH2)3 H H NHBz H 2-230 (CH2)3 H H NHBz CH3 2-231 (CH2)4 H H NHBz H 2-232 (CH2)4 H H NHBz CH3 2-233 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH H 2-234 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH CH3 2-235 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 2-236 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz CH3 2-237 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH H 2-238 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH CH3 2-239 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 2-240 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz CH3 2-241 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH H 2-242 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH CH3 2-243 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 2-244 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz CH3 2-245 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH H 2-246 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) OH CH3 2-247 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz H 2-248 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OC2H4CN) NHBz CH3 2-249 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH H 2-250 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH CH3 2-251 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 2-252 CH2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz CH3 2-253 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH H 2-254 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH CH3 2-255 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 2-256 (CH2)2 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz CH3 2-257 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH H 2-258 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH CH3 2-259 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 2-260 (CH2)3 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz CH3 2-261 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH H 2-262 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) OH CH3 2-263 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz H 2-264 (CH2)4 DMTr P(N(iPr)2)(OCH3) NHBz CH3 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 上記表１乃至２中、好適な化合物は、（１−５）、（１
−７）、（１−２３）、（１−２４）、（１−３１）、
（１−３２）、（１−３５）、（１−３６）、（１−３
７）、（１−３９）、（１−４１）、（１−４３）、
（１−４９）、（１−５１）、（１−６７）、（１−６
８）、（１−７５）、（１−７６）、（１−７９）、
（１−８０）、（１−８１）、（１−８３）、（１−８
５）、（１−８７）、（１−９３）、（１−９５）、
（１−１１１）、（１−１１２）、（１−１１５）、
（１−１１６）、（１−１１９）、（１−１２０）、
（１−１２３）、（１−１２４）、（１−１２５）、
（１−１２７）、（１−１２９）、（１−１３１）、
（１−１３７）、（１−１３９）、（１−１５５）、
（１−１５６）、（１−１６３）、（１−１６４）、
（１−１６７）、（１−１６８）、（１−１６９）、
（１−１７１）、（１−１７３）、（１−１７５）、
（１−１７７）、（１−１７８）、（１−１８５）、
（１−１８６）、（１−１９３）、（１−１９４）、
（１−２０１）、（１−２０２）、（２−１）、（２−
２）、（２−３）、（２−４）、（２−１０）、（２−
１５）、（２−１６）、（２−１７）、（２−１９）、
（２−２２）、（２−２７）、（２−２８）、（２−２
９）、（２−３１）、（２−３４）、（２−３９）、
（２−４０）、（２−４１）、（２−４３）、（２−４
６）、（２−５１）、（２−５２）、（２−５３）、
（２−５５）、（２−５７）、（２−５８）、（２−５
９）、（２−６０）、（２−６６）、（２−７１）、
（２−７２）、（２−７３）、（２−７５）、（２−７
８）、（２−８３）、（２−８４）、（２−８５）、
（２−８７）、（２−９０）、（２−９５）、（２−９
６）、（２−９７）、（２−９９）、（２−１０２）、
（２−１０７）、（２−１０８）、（２−１０９）、
（２−１１１）、（２−１１３）、（２−１１４）、
（２−１１５）、（２−１１６）、（２−１２２）、
（２−１２７）、（２−１２８）、（２−１２９）、
（２−１３１）、（２−１３４）、（２−１３９）、
（２−１４０）、（２−１４１）、（２−１４３）、
（２−１４６）、（２−１５１）、（２−１５２）、
（２−１５３）、（２−１５５）、（２−１５８）、
（２−１６３）、（２−１６４）、（２−１６５）、
（２−１６７）、（２−１６９）、（２−１７０）、
（２−１７１）、（２−１７２）、（２−１７８）、
（２−１８３）、（２−１８４）、（２−１８５）、
（２−１８７）、（２−１９０）、（２−１９５）、
（２−１９６）、（２−１９７）、（２−１９９）、
（２−２０２）、（２−２０７）、（２−２０８）、
（２−２０９）、（２−２１１）、（２−２１４）、
（２−２１９）、（２−２２０）、（２−２２１）、
（２−２２３）、（２−２２５）、（２−２２６）、
（２−２３３）、（２−２３４）、（２−２３５）又は
（２−２３６）であり、さらに好適には、３’-Ｏ,４’
-Ｃ-エチレングアノシン（１−５）、３’-Ｏ,４’-Ｃ-
エチレンアデノシン（１−７）、５’-Ｏ-ジメトキシト
リチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-６-Ｎ−ベンゾイル
アデノシン （１−３１）、５’-Ｏ-ジメトキシトリチ
ル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-２-Ｎ−イソブチリルグ
アノシン（１−３５）、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-２-
Ｎ−イソブチリルグアノシン（１−１７７）、３’-Ｏ,
４’-Ｃ-エチレン-６-Ｎ−ベンゾイルアデノシン（１−
１７８）、5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-
Ｃ-エチレン-２-Ｎ-イソブチリルグアノシン‐２'-Ｏ‐
（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホ
ロアミダイト（１−１８５）、5'-Ｏ-ジメトキシトリチ
ル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-６-Ｎ-ベンゾイルアデ
ノシン‐２'-Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピル）ホスホロアミダイト（１−１８６）、３’-
Ｏ,４’-Ｃ-エチレンウリジン（２−１）、３’-Ｏ,
４’-Ｃ-エチレン5−メチルウリジン（２−２）、３’-
Ｏ,４’-Ｃ-エチレンシチジン（２−３）、３’-Ｏ,
４’-Ｃ-エチレン-５-メチルシチジン（２−４）、
２’,５’-ジ-Ｏ-ベンジル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン
ウリジン（２−１０）、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-
３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレンウリジン（２−１５）、５’
-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-5
−メチルウリジン（２−２７）、５’-Ｏ-ジメトキシト
リチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ−ベンゾイル
シチジン（２−３９）、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-
３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ−ベンゾイル-５-メチ
ルシチジン（２−５１）、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-
４-Ｎ−ベンゾイルシチジン（２−２２５）、３’-Ｏ,
４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ−ベンゾイル-５-メチルシチジ
ン（２−２２６）、5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-
Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-ウリジン‐２'-Ｏ‐（２‐シアノ
エチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト
（２−２３３）、5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,
４’-Ｃ-エチレン-5−メチルウリジン-2'-Ｏ‐（２‐シ
アノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダ
イト（２−２３４）、5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’
-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベンゾイルシチジン‐2'-
Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホ
スホロアミダイト（２−２３５）、又は、5'-Ｏ-ジメト
キシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベン
ゾイル−５−メチルシチジン‐2'-Ｏ‐（２‐シアノエ
チル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト
（２−２３６）である。
【００５４】表３において、ＫXと表記された化合物
は、以下の構造を有する化合物ユニットを示す。
【００５５】
【化１２】
【００５６】
【表３】
【００５７】
【化１３】
【００５８】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− No. ｍ Ｅ1 Ｅ2 Ｅ3 ｎ Ｑ Ｖ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 3-1 1 Ｋ3-1 Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-2 1 Ｋ1 Ｋ3-1 Ｋ1 0 - - 3-3 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-1 0 - - 3-4 1 Ｋ3-1 Ｋ3-1 Ｋ1 0 - - 3-5 1 Ｋ3-1 Ｋ1 Ｋ3-1 0 - - 3-6 1 Ｋ1 Ｋ3-1 Ｋ3-1 0 - - 3-7 1 Ｋ3-1 Ｋ3-1 Ｋ3-1 0 - - 3-8 1 Ｋ3-1 Ｋ1 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-9 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-1 1 O C2H4OH 3-10 1 Ｋ3-4 Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-11 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-4 0 - - 3-12 1 Ｋ3-2 Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-13 1 Ｋ1 Ｋ3-2 Ｋ1 0 - - 3-14 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-2 0 - - 3-15 1 Ｋ3-2 Ｋ3-2 Ｋ1 0 - - 3-16 1 Ｋ3-2 Ｋ1 Ｋ3-2 0 - - 3-17 1 Ｋ1 Ｋ3-2 Ｋ3-2 0 - - 3-18 1 Ｋ3-2 Ｋ3-2 Ｋ3-2 0 - - 3-19 1 Ｋ3-2 Ｋ1 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-20 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-2 1 O C2H4OH 3-21 1 Ｋ3-5 Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-22 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-5 0 - - 3-23 1 Ｋ3-3 Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-24 1 Ｋ1 Ｋ3-3 Ｋ1 0 - - 3-25 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-3 0 - - 3-26 1 Ｋ3-3 Ｋ3-3 Ｋ1 0 - - 3-27 1 Ｋ3-3 Ｋ1 Ｋ3-3 0 - - 3-28 1 Ｋ1 Ｋ3-3 Ｋ3-3 0 - - 3-29 1 Ｋ3-3 Ｋ3-3 Ｋ3-3 0 - - 3-30 1 Ｋ3-3 Ｋ1 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-31 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-3 1 O C2H4OH 3-32 1 Ｋ3-6 Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-33 1 Ｋ1 Ｋ1 Ｋ3-6 0 - - 3-34 2 Ｋ3-1 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-35 2 Ｋ1 Ｋ3-1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-36 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-1 Ｋ1 0 - - 3-37 2 Ｋ3-1 Ｋ3-1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-38 2 Ｋ3-1 Ｋ1Ｋ3-1 Ｋ1 0 - - 3-39 2 Ｋ1 Ｋ3-1Ｋ3-1 Ｋ1 0 - - 3-40 2 Ｋ3-1 Ｋ3-1Ｋ3-1 Ｋ1 0 - - 3-41 2 Ｋ3-1 Ｋ1Ｋ1 Ｋ3-1 0 - - 3-42 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-1 Ｋ3-1 0 - - 3-43 2 Ｋ3-1 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-44 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-1 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-45 2 Ｋ3-4 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-46 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-4 Ｋ1 0 - - 3-47 2 Ｋ3-2 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-48 2 Ｋ1 Ｋ3-2Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-49 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-2 Ｋ1 0 - - 3-50 2 Ｋ3-2 Ｋ3-2Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-51 2 Ｋ3-2 Ｋ1Ｋ3-2 Ｋ1 0 - - 3-52 2 Ｋ1 Ｋ3-2Ｋ3-2 Ｋ1 0 - - 3-53 2 Ｋ3-2 Ｋ3-2Ｋ3-2 Ｋ1 0 - - 3-54 2 Ｋ3-2 Ｋ1Ｋ1 Ｋ3-2 0 - - 3-55 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-2 Ｋ3-2 0 - - 3-56 2 Ｋ3-2 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-57 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-2 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-58 2 Ｋ3-5 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-59 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-5 Ｋ1 0 - - 3-60 2 Ｋ3-3 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-61 2 Ｋ1 Ｋ3-3Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-62 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-3 Ｋ1 0 - - 3-63 2 Ｋ3-3 Ｋ3-3Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-64 2 Ｋ3-3 Ｋ1Ｋ3-3 Ｋ1 0 - - 3-65 2 Ｋ1 Ｋ3-3Ｋ3-3 Ｋ1 0 - - 3-66 2 Ｋ3-3 Ｋ3-3Ｋ3-3 Ｋ1 0 - - 3-67 2 Ｋ3-3 Ｋ1Ｋ1 Ｋ3-3 0 - - 3-68 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-3 Ｋ3-3 0 - - 3-69 2 Ｋ3-3 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-70 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-3 Ｋ1 1 O C2H4OH 3-71 2 Ｋ3-6 Ｋ1Ｋ1 Ｋ1 0 - - 3-72 2 Ｋ1 Ｋ1Ｋ3-6 Ｋ1 0 - - 3-73 1 Ｋ3-2 Ｋ1 Ｋ3-2 1 O C2H4OH 3-72 1 Ｋ2 Ｋ1 Ｋ3-2 1 O C2H4OH −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００５９】
【発明の実施の形態】本発明の化合物（１）は、以下に
述べるＡ法又はＢ法により、製造することができる。
【００６０】
【化１４】
【００６１】Ａ法及びＢ法中、Ｘ及びＹは、同一又は異
なって保護基を示し、Ｚはアシル基を示し、Ａは、前述
と同意義を示し、Ｂ1は、プリン−９−イル基、２−オ
キソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル基又は前述
のα群から選択される置換基を有する置換プリン−９−
イル基若しくは２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン
−１−イル基を示すが、アミノ基で置換されたものは除
かれ、Ｂ2は、プリンー９−イル基、２−オキソ−1,2−
ジヒドロピリミジン−１−イル基又は前述のα群から選
択される置換基を有する置換プリン−９−イル基若しく
は２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル基
を示すが、核酸合成の保護基で保護されたアミノ基で置
換されたものは除かれ、Ｒ9は、酸素原子と共に脱離基
を形成する基を示す。
【００６２】Ｘ及びＹの定義における「保護基」として
は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレ
リル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカ
ノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイ
ル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタ
ノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイ
ル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカ
ノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペ
ンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイ
ル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、
ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイル
のようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタ
ロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカル
ボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ
低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような
低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２
−メチル-2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボ
ニル基等の「脂肪族アシル基」；ベンゾイル、α−ナフ
トイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル
基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのよ
うなハロゲノアリ−ルカルボニル基、２，４，６-トリ
メチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキ
ル化アリ−ルカルボニル基、４−アニソイルのような低
級アルコキシ化アリ−ルカルボニル基、２−カルボキシ
ベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキ
シベンゾイルのようなカルボキシ化アリ−ルカルボニル
基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのよ
うなニトロ化アリ−ルカルボニル基；２−（メトキシカ
ルボニル) ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニ
ル化アリ−ルカルボニル基、４−フェニルベンゾイルの
ようなアリ−ル化アリ−ルカルボニル基等の「芳香族ア
シル基」のような「アシル型」の保護基;メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソ
ペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチ
ルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチル
ペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、
１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２
−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−
ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジ
メチルブチル、２−エチルブチルのような「低級アルキ
ル基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、
１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペ
ニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−
プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニ
ル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メ
チル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−
エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３
−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−
３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−
メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２
−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチ
ル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１
−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−
ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「低級アルケニル
基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルの
ようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、
４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボ
ニル基、２，４，６-トリメチルベンゾイル、４−トル
オイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、
４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカル
ボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシ
ベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボ
キシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、
２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボ
ニル基；２−（メトキシカルボニル) ベンゾイルのよう
な低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、
４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカ
ルボニル基のような「芳香族アシル基」；テトラヒドロ
ピラン-2−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン-2−イ
ル、４−メトキシテトラヒドロピラン-4−イル、テトラ
ヒドロチオピラン-2−イル、４−メトキシテトラヒドロ
チオピラン-4−イルのような「テトラヒドロピラニル又
はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロフラン
-2−イル、テトラヒドロチオフラン-2−イルのような
「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル
基」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロ
ピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、メチル
ジイソプロピルシリル、メチルジ-t−ブチルシリル、ト
リイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル
基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリ
ル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプ
ロピルシリルのような１乃至２個のアリール基で置換さ
れたトリ低級アルキルシリル基のような「シリル基」；
メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチ
ル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキ
シメチル、ブトキシメチル、t-ブトキシメチルのような
「低級アルコキシメチル基」；２−メトキシエトキシメ
チルのような「低級アルコキシ化低級アルコキシメチル
基」；２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス(2
−クロロエトキシ) メチルのような「ハロゲノ低級アル
コキシメチル」；１−エトキシエチル、１−( イソプロ
ポキシ) エチルのような「低級アルコキシ化エチル
基」；２，２，２−トリクロロエチルのような「ハロゲ
ン化エチル基」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−
ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメ
チルのような「１乃至３個のアリール基で置換されたメ
チル基」；４−メチルベンジル、２，４，６-トリメチ
ルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メ
トキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチ
ル、４、４’−ジメトキシトリフェニルメチル、２−ニ
トロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジ
ル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような
「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基
でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置
換されたメチル基」；メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、t-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニルのような「低級アルコキシカルボニル基」；4‐ク
ロロフェニル、2-クロロフェニル、4‐メトキシフェニ
ル、4‐ニトロフェニル、2,4-ジニトロフェニルのよう
な「ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はニトロ基で置
換されたアリール基」 ２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又
はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキ
シカルボニル基」；ビニルオキシカルボニル、アリール
オキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニ
ル基」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベン
ジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオ
キシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような１乃
至２個の「低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が
置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」
があげられる。
【００６３】Ｒ9の「脱離基を形成する基」としては、
例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニルのような
低級アルキルスルホニル基、トリフルオロメタンスルホ
ニルのような、ハロゲン置換低級アルキルスルホニル
基、ｐ−トルエンスルホニルのようなアリールスルホニ
ル基をあげることができ、好適には、メタンスルホニル
基又はｐ−トルエンスルホニル基である。
【００６４】Zの定義における「アシル基」として
は、、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バ
レリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デ
カノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイ
ル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタ
ノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイ
ル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカ
ノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペ
ンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイ
ル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、
ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイル
のようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタ
ロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカル
ボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ
低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような
低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２
−メチル-2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボ
ニル基等の「脂肪族アシル基」；ベンゾイル、α−ナフ
トイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル
基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのよ
うなハロゲノアリ−ルカルボニル基、２，４，６-トリ
メチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキ
ル化アリ−ルカルボニル基、４−アニソイルのような低
級アルコキシ化アリ−ルカルボニル基、２−カルボキシ
ベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキ
シベンゾイルのようなカルボキシ化アリ−ルカルボニル
基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのよ
うなニトロ化アリ−ルカルボニル基；２−（メトキシカ
ルボニル) ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニ
ル化アリ−ルカルボニル基、４−フェニルベンゾイルの
ようなアリ−ル化アリ−ルカルボニル基等の「芳香族ア
シル基」があげられる。
【００６５】以下、Ａ至B法の各工程につき、詳しく説
明する。 （Ａ−１工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基触媒の存
在下、後述するC乃至E法により製造される化合物（３）
に、脱離基導入試薬を反応させて、化合物（４）を製造
する工程である。
【００６６】使用される溶剤としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジ
ノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；スルホランのようなスルホキシド類；ピリジン類を
あげることができるが、好適には、ピリジンである。
【００６７】使用される塩基触媒としては、好適には、
トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン
のような塩基である。
【００６８】使用される脱離基導入試薬としては、例え
ば、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルブロ
ミドのようなアルキルスルホニルハライド類；p-トルエ
ンスルホニルクロリドのようなアリールスルホニルハラ
イド類をあげることができ、好適には、メタンスルホニ
ルクロリド及びp-トルエンスルホニルクロリドである。
【００６９】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、脱離基導入試薬、塩基触媒により異なるが、通常、
０℃乃至５０℃であり、好適には、１０乃至４０℃であ
る。
【００７０】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、脱離基導入試薬、塩基触媒、反応温度により異なる
が、通常、１０分乃至２４時間であり、好適には、１乃
至１０時間である。
【００７１】反応終了後、本反応の目的化合物(4)は、
例えば、反応液を中和し、反応混合物を濃縮し、水と酢
酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、
目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウ
ム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００７２】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ａ−２工程）本工程は、溶剤中、酸触媒の存在下、Ａ
−１工程で製造される化合物（４）に、酸無水物を反応
し、化合物（５）を製造する工程である。
【００７３】使用される溶剤としては、例えば、ジエチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのような
エーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類；酢酸のよう
な有機酸等をあげることができるが、好適には、酢酸で
ある。
【００７４】使用される酸触媒としては、例えば、塩
酸、硫酸、硝酸等の無機酸をあげることができるが、好
適には、硫酸（特に、濃硫酸）である。
【００７５】使用される酸無水物としては、例えば、無
水酢酸、無水プロピオン酸等の低級脂肪族カルボン酸の
無水物をあげることができるが、好適には、無水酢酸で
ある。
【００７６】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、酸無水物により異なるが、通常、０℃乃至
５０℃であり、好適には、１０乃至４０℃である。
【００７７】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、酸無水物、反応温度により異なるが、通
常、１０分乃至１２時間であり、好適には、３０分乃至
３時間である。
【００７８】反応終了後、本反応の目的化合物(５)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【００７９】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ａ−３工程）本工程は、不活性溶剤中、酸触媒の存在
下、Ａ−２工程で製造される化合物（５）に、文献（H.
Vorbueggen, K. Krolikiewicz and B, Bennua, Chem.
Ber.,114, 1234-1255 (1981)）に従って調製した、所望
の置換基を有していてもよいプリン又はピリミジンに対
応するトリメチルシリル化体を反応させて、化合物
（６）を製造する工程である。
【００８０】使用される溶剤としては、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンク
ロリド、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、イソブチロニト
リルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；硫
化炭素等をあげることができるが、好適には、トルエ
ン、1,2-ジクロロエタンである。
【００８１】使用される酸触媒としては、例えば、AlCl
3, SnCl4,TiCl4, ZnCl2, BF3, トリフルオロメタンスル
ホン酸トリメチルシリルのようなルイス酸触媒等をあげ
ることができ、好適には、トリフルオロメタンスルホン
酸トリメチルシリルである。
【００８２】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒により異なるが、通常、０℃から１００℃で
あり、好適には、５０℃乃１００℃である。
【００８３】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、反応温度により異なるが、通常、１時間乃
至２４時間であり、好適には、１時間乃至８時間であ
る。
【００８４】反応終了後、本反応の目的化合物(６)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【００８５】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ａ−４工程）本工程は、Ａ−３工程で製造される化合
物（６）の保護基Ｙを除去し、本発明の化合物（６ａ）
を製造する工程である。
【００８６】脱保護の方法は、保護基の種類によって異
なるが、他の副反応を生じない方法であれば、特に限定
はなく、例えば、”Protective Groups in Organic Syn
thesis” (Theodora W. Greene著、 1981年、A Wiley-I
nterscience Publication発行)に記載の方法によって行
うことができる。
【００８７】特に、水酸基の保護基が、アラルキル基又
はアラルキルオキシカルボニル基である場合には、通
常、溶媒中で、還元剤と接触させることにより（好適に
は、触媒下に常温にて接触還元）除去する方法又は酸化
剤を用いて除去する方法が好適である。接触還元による
除去において使用される溶媒としては、本反応に関与し
ないものであれば特に限定はないが、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノールのようなアルコール類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような
脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのような
エステル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶
媒と水との混合溶媒が好適である。
【００８８】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニ
ッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウ
ム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウ
ム−硫酸バリウムが用いられる。
【００８９】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。
【００９０】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃至１００
℃で、５分乃至２４時間実施される。
【００９１】特に、水酸基の保護基が、ｐ−メトキシベ
ンジル基である場合には、通常、溶媒中で、酸化による
除去する方法が好適である。
【００９２】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。
【００９３】このような有機溶媒として好適には、アセ
トンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、アセト
ニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類及びジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類を挙げることができ
る。
【００９４】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p-
ベンゾキノン(DDQ) が用いられる。
【００９５】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃至１５０
℃で、１０分乃至２４時間実施される。
【００９６】反応終了後、本反応の目的化合物(６a)
は、例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。
【００９７】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ａ−４ａ工程）本工程は、Ａ−４工程で製造される化
合物（６ａ）の3’−OH基とOR9基による環化反応を行
い、（１ａ）を製造する工程である。
【００９８】使用される溶剤としては、水；ピリジン
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類；あるいはそれらの
混合溶剤であり、好適には、水及びピリジンの混合溶剤
である。
【００９９】使用される塩基触媒としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；アンモニ
ア水等をあげることができ、好適には、アルカリ金属水
酸化物（特に、水酸化ナトリウム）である。
【０１００】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であ
り、好適には、１０℃乃至３０℃である。
【０１０１】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、反応温度により異なるが、通常、1分乃至5
時間であり、好適には、1分乃至30分である。
【０１０２】反応終了後、本反応の目的化合物(１ａ)
は、例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。
【０１０３】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ａ−５工程）本工程は、不活性溶剤中、Ａ−４a工程
で得られる化合物（１ａ）の保護基Xを除去し、化合物
（１ｂ）を製造する工程である。
【０１０４】脱保護の方法は、保護基の種類によって異
なるが、他の副反応を生じない方法であれば、特に限定
はなく、例えば、”Protective Groups in Organic Syn
thesis” (Theodora W. Greene、Peter G. M.Wuts著、
1999年、A Wiley-Interscience Publication発行)に記
載の方法によって、行うことができる。
【０１０５】特に、保護基が、（１）「脂肪族アシル基
又は芳香族アシル基」、（２）「１乃至３個のアリール
基で置換されたメチル基」又は「低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換され
た１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」、
（３）「シリル基」の場合には、以下の方法により行う
ことができる。 （１）脂肪族アシル基及び芳香族アシル基の場合は、通
常、不活性溶剤中、塩基を反応させて行う。
【０１０６】使用される溶剤は、水と混合しやすく、反
応を阻害せず、出発物質をある程度以上溶解するもので
あれば、特に限定はなく、例えば含水のまたは無水の、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのような
アミド類；メチレンクロリド、クロロホルム、１，２−
ジクロロエタン又は四塩化炭素ようなハロゲン化炭化水
素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキ
サンのようなエーテル類が挙げられ、好適には、エーテ
ル類であり、更に好適には、テトラヒドロフランであ
る。
【０１０７】使用される塩基としては、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；ア
ンモニア水、アンモニア／メタノール溶液のようなアン
モニア溶液をあげることができる。
【０１０８】反応温度は、０℃乃至６０℃であり、好適
には、２０乃至４０℃である。
【０１０９】反応時間は、１０分乃至２４時間であり、
好適には、１乃至３時間である。
【０１１０】反応終了後、本反応の目的化合物(１ｂ)
は、例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。
【０１１１】得られた化合物は必要ならば常法、例え
ば、再結晶またはシリカゲルカラムクロマトグラフィー
等によって更に精製できる。 （２）保護基が「１乃至３個のアリール基で置換された
メチル基」又は「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃至３個の
アリール基で置換されたメチル基」の場合には、不活性
溶剤中、還元剤を用いて行う。
【０１１２】使用される溶剤としては、メタノ−ル、エ
タノ−ル、イソプロパノ−ルのようなアルコ−ル類；ジ
エチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエ−テル類；トルエン、ベンゼン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキサンのよう
な脂肪族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピルのよう
なエステル類；酢酸のような有機酸類又はこれらの有機
溶媒と水との混合溶媒が好適である。
【０１１３】使用される還元剤としては、通常、接触還
元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、
好適には、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル、酸化白
金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニ
ルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ムが用いられる。
【０１１４】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。
【０１１５】反応温度は、０℃乃至６０℃であり、好適
には、２０乃至４０℃である。
【０１１６】反応時間は、１０分乃至２４時間であり、
好適には、１乃至３時間である。
【０１１７】反応終了後、本反応の目的化合物(１ｂ)
は、例えば、反応混合物から、還元剤を除去し、水と酢
酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、
目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウ
ム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１１８】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。
【０１１９】「３個のアリール基で置換されたメチル
基」、すなわち、トリチル基の場合は酸を用いて行うこ
ともできる。
【０１２０】その場合に、使用する溶剤としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、１，２
−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン
のようなハロゲン化炭化水素類；メタノ−ル、エタノ−
ル、イソプロパノ−ル、tert-ブタノールのようなアル
コ−ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよう
なニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；酢酸のような
有機酸類をあげることができ、好適には、有機酸（特
に、酢酸）又はアルコール類（特に、tert-ブタノー
ル）である。
【０１２１】使用する酸としては、好適には、酢酸又は
トリフルオロ酢酸である。
【０１２２】反応温度は、０℃乃至６０℃であり、好適
には、２０乃至４０℃である。
【０１２３】反応時間は、１０分乃至２４時間であり、
好適には、１乃至３時間である。
【０１２４】反応終了後、本反応の目的化合物(１ｂ)
は、例えば、反応混合物を中和し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。得られた化合物
は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。 （３）保護基が、「シリル基」の場合は、通常、弗化テ
トラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピ
リジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する
化合物で処理するか、又は、酢酸、メタンスルホン酸、
パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフル
オロメタンスルホン酸のような有機酸又は塩酸のような
無機酸で処理することにより除去できる。
【０１２５】尚、弗素アニオンにより除去する場合に、
蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えること
によって、反応が促進することがある。
【０１２６】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；水；酢酸のような有機酸及びこ
れらの混合溶媒を挙げることができる。
【０１２７】反応温度は、０℃乃至１００℃であり、好
適には、２０乃至７０℃である。
【０１２８】反応時間は、５分乃至４８時間であり、好
適には、１乃至２４時間である。
【０１２９】反応終了後、本反応の目的化合物(１ｂ)
は、例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。得られた化合物は
必要ならば常法、例えば、再結晶またはシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。 （Ａ−６工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基触媒の存
在下、Ａ−５工程で得られる化合物（１ｂ）に存在する
保護基Ｚを除去して、本発明の化合物（１ｃ）を製造す
る工程である。
【０１３０】使用される溶剤としては、水；ピリジン
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類；あるいはそれらの
混合溶剤であり、好適には、水及びピリジンの混合溶剤
である。
【０１３１】使用される塩基触媒としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；アンモニ
ア水等をあげることができ、好適には、アルカリ金属水
酸化物（特に、水酸化ナトリウム）である。
【０１３２】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であ
り、好適には、１０℃乃至３０℃である。
【０１３３】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、反応温度により異なるが、通常、1分乃至5
時間であり、好適には、1分乃至30分である。
【０１３４】反応終了後、本反応の目的化合物(１ａ)
は、例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。
【０１３５】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。
【０１３６】又、B1上の官能基が脱保護された場合に
は、必要に応じて通常の方法（例えば、”Protective G
roups in Organic Synthesis” (Theodora W. Greene、
PeterG. M.Wuts著、 1999年、A Wiley-Interscience Pu
blication発行)に記載の方法）に準じて再度官能基が保
護される。 （Ａ−７工程）本工程は、不活性溶剤中、Ａ−６工程で
得られる化合物（１ｃ）のＢ1に存在する保護基を除去
するため、脱保護試薬を反応させて、本発明の化合物
（１ｄ）を製造する工程である。
【０１３７】脱保護の方法は、保護基の種類によって異
なるが、他の副反応を生じない方法であれば、特に限定
はなく、例えば、”Protective Groups in Organic Syn
thesis” (Theodora W. Greene 著、 1981年、A Wiley-
Interscience Publication発行)に記載の方法によっ
て、行うことができる。
【０１３８】特に、保護基が、脂肪族アシル基又は芳香
族アシル基の場合には、以下の方法により行うことがで
きる。
【０１３９】すなわち、保護基が脂肪族アシル基及び芳
香族アシル基の場合は、通常、不活性溶剤中、塩基を反
応させて行う。
【０１４０】使用される溶剤は、水と混合しやすく、反
応を阻害せず、出発物質をある程度以上溶解するもので
あれば、特に限定はなく、例えば含水のまたは無水の、
メタノール、エタノールのようなアルコール類；ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド
類；メチレンクロリド、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン又は四塩化炭素ようなハロゲン化炭化水素類；
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサンの
ようなエーテル類をあげることができ、好適には、アル
コール類であり、更に好適には、メタノールである。
【０１４１】使用される塩基としては、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；ア
ンモニアをあげることができ、好適には、アンモニアで
ある。
【０１４２】反応温度は、０℃乃至５０℃であり、好適
には、１０乃至４０℃である。
【０１４３】反応時間は、１０分乃至２４時間であり、
好適には、１０乃至１５時間である。反応終了後、例え
ば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機
層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を
留去することで得られる。
【０１４４】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。なお、（A-5工程）及び（A-
６工程）、（A-5工程）乃至（A-7工程）、又は、（A-6
工程）及び（A-7）工程は所望に応じ、一度に行う事が
でき、(1a)又は(1b)から目的化合物(1b)、(1c)又は(1d)
を1段階の反応で得る事も可能である。 （Ｂ−１工程）本工程は、不活性溶剤中、後述するC乃
至E法により製造することができる化合物（３）に脱保
護試薬を反応させて、保護基Ｙを除去し、化合物（７）
を製造する工程である。
【０１４５】脱保護の方法は、保護基の種類によって異
なるが、他の副反応を生じない方法であれば、特に限定
はなく、例えば、”Protective Groups in Organic Syn
thesis” (Theodora W. Greene著、 1981年、A Wiley-I
nterscience Publication発行)に記載の方法によって行
うことができる。
【０１４６】特に、水酸基の保護基が、アラルキル基又
はアラルキルオキシカルボニル基である場合には、通
常、溶媒中で、還元剤と接触させることにより（好適に
は、触媒下に常温にて接触還元）除去する方法又は酸化
剤を用いて除去する方法が好適である。接触還元による
除去において使用される溶媒としては、本反応に関与し
ないものであれば特に限定はないが、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノールのようなアルコール類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような
脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのような
エステル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶
媒と水との混合溶媒が好適である。
【０１４７】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニ
ッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウ
ム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウ
ム−硫酸バリウムが用いられる。
【０１４８】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。
【０１４９】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃至１００
℃で、５分乃至２４時間実施される。
【０１５０】特に、水酸基の保護基が、ｐ−メトキシベ
ンジル基である場合には、通常、溶媒中で、酸化による
除去する方法が好適である。
【０１５１】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。
【０１５２】このような有機溶媒として好適には、アセ
トンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、アセト
ニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類及びジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類を挙げることができ
る。
【０１５３】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p-
ベンゾキノン(DDQ) が用いられる。
【０１５４】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃至１５０
℃で、１０分乃至２４時間実施される。 （Ｂ−２工程）本工程は、不活性溶剤中、Ｂ−１工程で
製造される化合物（７）に脱離基導入試薬を反応させ
て、化合物（７ａ）を製造する工程である。
【０１５５】本工程は（A-1工程）に準じて行われる。
【０１５６】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ｂ−２ａ工程）本工程は、Ｂ−２工程で製造される化
合物（７ａ）の3'−OH基とOR9基による環化反応を行
い、（８）を製造する工程である。
【０１５７】使用される溶剤としては、水；ピリジン
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類；あるいはそれらの
混合溶剤であり、好適には、水及びピリジンの混合溶剤
もしくはテトラヒドロフランである。
【０１５８】使用される塩基触媒としては、例えば、含
水反応系においては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属
アルコキシド；アンモニア水、無水反応系においては、
ナトリウムメトキシド、ナトリウムメチルスルフィニル
メチリド、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピ
ルアミド、ｔ−ブトキシカリウム、リチウムヘキサメチ
レンジシラザン等をあげることができ、好適には、アル
カリ金属水酸化物（特に、水酸化ナトリウム）である。
【０１５９】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒により異なるが、通常、−７８℃乃至５０℃
であり、好適には、−２０℃乃至２０℃である。
【０１６０】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、反応温度により異なるが、通常、1分乃至5
時間であり、好適には、1０分乃至1時間である。
【０１６１】反応終了後、本反応の目的化合物(８)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【０１６２】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ｂ−３工程）本工程は、溶剤中、酸触媒の存在下、Ｂ
−２a工程で製造される化合物（８）に、酸無水物を反
応し、化合物（９）を製造する工程である。
【０１６３】本工程は（A-2工程）に準じて行われる。
【０１６４】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ｂ−４工程）本工程は、不活性溶剤中、Ｂ−３工程で
製造される化合物（９）の保護基Xを除去し、化合物
（１０）を製造する工程である。
【０１６５】本工程は（A-5工程）に準じて行われる。
【０１６６】得られた化合物は必要ならば常法、例え
ば、再結晶またはシリカゲルカラムクロマトグラフィー
等によって更に精製できる。 （Ｂ−５工程）本工程は、不活性溶剤中、Ｂ−４工程で
製造される化合物（１０）に、塩基触媒の存在下又は非
存在下、酸無水物、酸クロライド又はカルボン酸を反応
させて、化合物（１１）を製造する工程である。
【０１６７】使用される溶剤としては、好適には、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類；トリメチルアミン、
トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の脂肪族三
級アミン類；ピリジン、ピコリンのような芳香族アミン
などがあげられ、さらに好適には、ハロゲン化炭化水素
類（特にメチレンクロリド）、芳香族アミン（特にピリ
ジン）である。
【０１６８】本方法に使用される塩基は、例えば、炭酸
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩
類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシク
ロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢ
Ｕ）のような有機アミン類であり、好適には有機アミン
類（特に好適には、トリエチルアミン）である。
【０１６９】使用されるカルボン酸としては、例えば、
水酢酸、プロピオン酸等の低級脂肪族カルボン酸をあげ
ることができるが、好適には、酢酸である。
【０１７０】特にカルボン酸が用いられる場合には、脱
水縮合試薬を用いる事ができ、そのような脱水縮合試薬
としては、 （a）ジエチルホスホリルシアニド、ジフェニルホスホ
リルアジド、シアノ燐酸ジエチルのような燐酸エステル
類； （b）１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１，
３−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド等のカ
ルボジイミド類；前記カルボジイミド類と下記塩基の組
合せ；前記カルボジイミド類とＮ−ヒドロキシスクシン
イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒド
ロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミ
ドのようなＮ−ヒドロキシ類の組合せ； （c）２，２’−ジピリジル ジサルファイド、２，
２’−ジベンゾチアゾリルジサルファイドのようなジサ
ルファイド類とトリフェニルホスフィン、トリブチルホ
スフィンのようなホスフィン類の組合せ； （d）Ｎ，Ｎ’−ジスクシンイミジルカ−ボネート、ジ
−２−ピリジル カーボネート、Ｓ、Ｓ’−ビス（１−
フェニル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ジチオカー
ボネートのようなカーボネート類； （e）Ｎ，Ｎ’−ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジ
ニル）ホスフィニッククロライドのようなホスフィニッ
ククロライド類； （f）Ｎ，Ｎ’−ジスクシンイミジルオキザレート、
Ｎ，Ｎ’−ジフタルイミドオキザレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミジ
ル）オキザレート、１，１’−ビス（ベンゾトリアゾリ
ル）オキザレート、１，１’−ビス（６−クロロベンゾ
トリアゾリル）オキザレート、１，１’−ビス（６−ト
リフルオロメチルベンゾトリアゾリル）オキザレートの
ようなオキザレート類； （g）前記ホスフィン類とアゾジカルボン酸ジエチル、
１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジンのような
アゾジカルボン酸エステル又はアゾジカルボキシアミド
類の組合せ； （h）Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキサゾリウム−
３’−スルホナートのようなＮ−低級アルキル−５−ア
リールイソオキサゾリウム−３’−スルホナート類； （i）ジ−２−ピリジルジセレニドのようなジヘテロア
リールジセレニド類； （j）ｐ−ニトロベンゼンスルホニルトリアゾリドのよ
うなアリールスルホニルトリアゾリド類； （k）２−クロル−１−メチルピリジニウム ヨーダイ
ドのような２−ハロ−１−低級アルキルピリジニウム
ハライド類； （l）１，１’−オキザリルジイミダゾ−ル、Ｎ，Ｎ’
−カルボニルジイミダゾ−ルのようなイミダゾール類； （m）３−エチル−２−クロロ−ベンゾチアゾリウム
フルオロボレートのような３−低級アルキル−２−ハロ
ゲン−ベンゾチアゾリウム フルオロボレート類； （n）３−メチル−ベンゾチアゾール−２−セロンのよ
うな３−低級アルキル−ベンゾチアゾール−２−セロン
類； （o）フェニルジクロロホスフェート、ポリホスフェー
トエステルのようなホスフェート類； （p）クロロスルホニルイソシアネートのようなハロゲ
ノスルホニルイソシアネート類； （q）トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルク
ロリドのようなハロゲノシラン類； （r）メタンスルホニルクロリドのような低級アルカン
スルホニルハライド； （s）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルクロロホルマ
ミジウムクロリドのようなＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
低級アルキルハロゲノホルマミジウムクロリド類を挙げ
ることができるが、好適には、カルボジイミド類、及
び、ホスフィン類とアゾジカルボン酸エステル又はアゾ
ジカルボキシアミド類の組合せである。
【０１７１】使用される酸無水物としては、例えば、無
水酢酸、無水プロピオン酸等の低級脂肪族カルボン酸の
無水物をあげることができるが、好適には、無水酢酸で
ある。
【０１７２】使用される酸クロライドとしては、例え
ば、アセチルクロライド、プロピオン酸クロライド等の
低級脂肪族カルボン酸クロライドをあげることができる
が、好適には、アセチルクロライドである。
【０１７３】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、触媒、カルボン酸、カルボン酸クロライドにより異
なるが、通常、０℃乃至１５０℃であり、好適には、２
０乃至１００℃である。
【０１７４】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、触媒、カルボン酸、カルボン酸クロライド、酸無水
物、反応温度により異なるが、通常、１０分乃至１２時
間であり、好適には、３０分乃至３時間である。
【０１７５】反応終了後、本反応の目的化合物(１１)
は、例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢エチルのよう
な混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含
む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、
溶剤を留去することで得られる。
【０１７６】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （Ｂ−６工程）本工程は、不活性溶剤中、酸触媒の存在
下、B-5工程で製造される化合物（11）に、文献（H. Vo
rbrggen, K. Krolikiewicz and B, Bennua, Chem. Be
r., 114, 1234-1255 (1981)）に従って調製した、所望
の置換基を有していてもよいプリン又はピリミジンに対
応するトリメチルシリル化体を反応させて、化合物（1
e）を製造する工程である。
【０１７７】本工程は（A-3工程）に準じて行われる。
【０１７８】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる （Ｂ−７工程）本工程は、不活性溶剤中、B−６工程で
得られる化合物（１ｅ）のＺを除去するため、脱保護試
薬を反応させて、本発明の化合物（１ｃ）を製造する工
程である。
【０１７９】本工程は（A-6工程に）準じて行われる。
【０１８０】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。
【０１８１】又、B1上の官能基が脱保護された場合に
は、必要に応じて通常の方法（例えば、”Protective G
roups in Organic Synthesis” (Theodora W. Greene、
PeterG. M.Wuts著、 1999年、A Wiley-Interscience Pu
blication発行)に記載の方法）に準じて再度官能基が保
護される。
【０１８２】なお、化合物（９）に対して（Ｂ−６）工
程を行うことにより、（１ａ）を合成することが出来、
その後、Ａ法に従って（Ａ−５）、（Ａ−６）工程を行
うことで（１ｃ）を得ることもできる。
【０１８３】前述した中間体（３）は、以下に述べるC
乃至E法により、製造することができる。
【０１８４】
【化１５】
【０１８５】Ｃ乃至Ｅ法中、Ｘ及びＹは、前述と同意義
を示し、Ｒ10は、酸素原子と一緒になって脱離基を形成
する基を示し、Ｅは、エチレン、トリメチレン又はテト
ラメチレン基を示し、Wは、単結合、メチレン又はエチ
レン基を示す。
【０１８６】Ｒ10の脱離基を形成する基としては、前述
のＲ9にあげられるものと同様のものがあげられ、好適
には、トリフルオロメタンスルホニル基である。
【０１８７】Ｒ12及びＲ13は、同一であって水素原子を
示すか、一緒になって酸素原子を示す。
【０１８８】Ｒ11は、Ｒ12及びＲ13が一緒になって酸素
原子を示す場合には、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブ
チルのような炭素数１乃至４個のアルキル基であり、好
適には、メチル基であり、Ｒ 12及びＲ13が同一であって
水素原子の場合には、ベンジル基のようなアラルキル
基；メトキシメチル基のようなアルコキシアルキル基；
ベンジルオキシメチル基のようなベンジルオキシメチル
基又はベンジルオキシメチル基のようなアラルキルオキ
シメチル基；メトキシエトキシメチル基のようなアルコ
キシアルコキシアルキル基；トリメチルシリル、t-ブチ
ルジメチルシリル、ジフェニルメチルシリル、ジフェニ
ルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェ
ニルジイソプロピルシリルのようなシリル基をあげるこ
とができる。
【０１８９】C法又はD法で使用される原料化合物である
化合物（12）は、以下の方法で、製造することができ
る。
【０１９０】すなわち、市販の1,2,5,6-ジイソプロピリ
デンD-グルコースを出発原料とし、既知の方法(R.D.You
ssefyeh, J.P.H.Verheyden, J.G.Moffatt. J.Org.Che
m., 44, 1301-1309 (1979))に準じて、化合物（12）の
「Ｘ」の部分が水素原子に相当する化合物を製造し、次
いで、既知の方法（特開平10‐304889）に従って製造す
ることができる。又、市販の1,2,5,6-ジイソプロピリデ
ンD-グルコースを出発原料とし、既知の方法(Mersmaeke
r, Alain De, Leberton, Jacques, Jouanno, Chantal,
Fritsh, Valerie, Wolf, Romain M., Wedenborn, Sebas
tian, Syn. Lett., 11, 1287-1290)(1997))に準じて1,2
-ジイソプロピリデンD-アロフラノースを合成し、これ
を用いて、既知の方法(Wood, William W., Watson, Gra
ham M., J.Chem. Soc. Chem. Commun., 21, 1599-1600
(1986))に準じてアルデヒド体
【０１９１】
【化１６】
【０１９２】を合成し、次いで、アルデヒド基を通常の
方法（例えば、Hudlicky "Reductionsin Organic Chemi
story", Ellis Horwood(1984)等に記載の方法)に準じて
還元反応を行う事によっても得ることができる。
【０１９３】以下、C乃至E法の各工程につき、詳しく説
明する。 （C法） （C−１工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基触媒の存
在下、前述の方法で製造される化合物（12）に、脱離基
導入試薬を反応させて、化合物（13）を製造する工程で
ある。
【０１９４】本工程は（A-1工程)と同様に行われる。
【０１９５】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （C−２工程）本工程は、不活性溶剤中、C−１工程で製
造される化合物（13）に、シアノ化試薬を反応させて、
化合物（14）を製造する工程である。
【０１９６】使用される溶剤としては、例えば、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド
類；メチレンクロリド、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン又は四塩化炭素ようなハロゲン化炭化水素類；
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサンの
ようなエーテル類；アセトニトリル；ジメチルスルホキ
シド等をあげることができるが、好適には、アミド類
（ジメチルホルムアミド）である。
【０１９７】使用されるシアノ化試薬としては、例え
ば、KCN, NaCN、シアン化トリメチルシラン等をあげる
ことができるが、好適には、NaCNである。
【０１９８】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、シアノ化試薬により異なるが、通常、０℃乃至１０
０℃であり、３０℃乃至７０℃である。
【０１９９】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、シアノ化試薬、反応温度により異なるが、通常、３
０分乃至１２時間であり、好適には、１乃至３時間であ
る。
【０２００】反応終了後、本反応の目的化合物(14)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【０２０１】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （C−３工程）本工程は、不活性溶剤中、C−２工程で製
造される化合物（14）に、還元剤を反応させて、化合物
（15）を製造する工程である。
【０２０２】使用される溶剤としては、例えば、メチレ
ンクロリド、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン又
は四塩化炭素ようなハロゲン化炭化水素類；ヘキサン、
ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭
化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類等をあげることができるが、好適には、ハロ
ゲン化炭化水素類（特に、メチレンクロリド）である。
【０２０３】使用される還元剤としては、ジイソブチル
アルミニウム水素、トリエトキシアルミニウム水素等を
あげることができるが、好適には、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドである。
【０２０４】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、還元剤により異なるが、−１００℃乃至−５０℃で
あり、好適には、−９０℃乃至−７０である。
【０２０５】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、還元剤、反応温度により異なるが、通常、３０分乃
至１２時間であり、好適には、１乃至５時間である。
【０２０６】反応終了後、本反応の目的化合物(15)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【０２０７】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （C−４工程）本工程は、不活性溶剤中、C−３工程で製
造される化合物（15）に、還元剤を反応させて、Ａ法の
原料化合物の一つである化合物（３ａ）を製造する工程
である。
【０２０８】使用される溶剤としては、例えば、メタノ
−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類；酢酸等をあげること
ができるが、好適には、アルコール類（特に、エタノー
ル）である。
【０２０９】使用される還元剤としては、例えば、水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムのような水
素化ホウ素アルカリ金属；水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化リチウムトリエトキシドアルミニウムのよう
な水素化アルミニウム化合物；ボラン等をあげることが
できるが、好適には、水素化ホウ素ナトリウムである。
【０２１０】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、還元剤により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であ
り、好適には、１０乃至４０℃である。
【０２１１】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、還元剤、反応温度により異なるが、通常、１０分乃
至１２時間であり、好適には、３０分乃至５時間であ
る。
【０２１２】反応終了後、本反応の目的化合物(３ａ)
は、例えば、還元剤を分解し、反応混合物を濃縮し、水
と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗
後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネ
シウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２１３】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （D法） （D−１工程）本工程は、不活性溶剤中、前述の方法で
製造される化合物（12）に、酸化剤を反応させて、化合
物（１6）を製造する工程である。
【０２１４】使用される溶剤としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；をあげることができるが、好
適には、ハロゲン化炭化水素類（特に、メチレンクロリ
ド）である。
【０２１５】使用される酸化剤としては、スワン(Swer
n)酸化用試薬、デスマーチン(Dess-Martin)酸化用試薬,
ピリジン塩酸塩・三酸化クロム錯体（ピリジニウムク
ロロクロメート、ピリジニウムジクロメート）のような
三酸化クロム錯体等をあげることができるが、好適な試
薬としては、スワン酸化用試薬（すなわち、ジメチルス
ルホキシド−オキザリルクロリド）である。
【０２１６】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸化剤により異なるが、通常、−１００℃乃至−５
０℃であり、好適には、−１００乃至−７０℃である。
【０２１７】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸化剤、反応温度によって異なるが、通常、３０分
乃至１２時間であり、好適には、１乃至５時間である。
【０２１８】反応終了後、本反応の目的化合物(１6)
は、例えば、酸化剤を分解し、反応混合物を濃縮し、水
と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗
後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネ
シウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２１９】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （D−２工程）本工程は、不活性溶剤中、D−１工程で製
造される化合物（16）に、増炭素試薬を反応させて、化
合物（17）を製造する工程である。
【０２２０】使用される溶剤としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；をあげることができるが、好
適には、ハロゲン化炭化水素類（特に、メチレンクロリ
ド）である。
【０２２１】使用される試薬としては、ウィッティヒ(W
ittig)試薬、ホーナー・エモンズ(Horner-Emmons)試
薬、ピターソン(Peterson)反応試薬、TiCl4-CH2Cl2-Zn
系反応剤、テーベ(Tebbe)試薬等をあげることができる
が、好適には、ウィッティヒ試薬、ホーナー・エモンズ
試薬及びテーベ試薬である。
【０２２２】使用される塩基としては、水素化ナトリウ
ム、ナトリウムメチルスルフィニルメチリド、ｎ−ブチ
ルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、ｔ−ブト
キシカリウム、リチウムヘキサメチレンジシラザン等が
あげられる。
【０２２３】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、増炭素試薬により異なるが、通常、−２０℃乃至２
０℃であり、好適には、０℃である。
【０２２４】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、増炭素試薬、反応温度によって異なるが、３０分乃
至１２時間、好適には、１乃至５時間である。
【０２２５】反応終了後、本反応の目的化合物(17)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【０２２６】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （D−３工程）本工程は、不活性溶剤中、D−２工程で製
造される化合物（17）のオレフィンの末端炭素に選択的
に水酸基を導入して、化合物（３ａ）を製造する工程で
ある。
【０２２７】使用される溶剤としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類をあげることができるが、好適
には、エーテル類（特に、テトラヒドロフラン）であ
る。
【０２２８】使用される反応試薬としては、ボラン、ジ
シアミルボラン、セキシルボラン、9-BBN(9-ボラビシク
ロ[3.3.1]ノナン)等をあげることができるが、好適に
は、9-BBNである。
【０２２９】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、試薬により異なるが、０℃乃至５０℃であり、好適
には、１０乃至４０℃である。
【０２３０】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、試薬、反応温度により異なるが、通常、６乃至４８
時間であり、好適には、１２乃至２４時間である。
【０２３１】反応終了後、本反応の目的化合物(３ａ)
は、例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。
【０２３２】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （E法） （E−１工程）本工程は、不活性溶剤中、D−１工程で製
造される化合物（１6）に、増炭素試薬を反応させて、
化合物（18）を製造する工程である。
【０２３３】使用される溶剤としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン；アセトニトリル、イソブチロニ
トリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノ
ン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
をあげることができるが、好適には、エーテル類（特
に、テトラヒドロフラン）等をあげることができる使用
される増炭素試薬としては、トリフェニルホスホラニリ
デン酢酸メチル、エトキシカルボニルメチル(トリフェ
ニル)ホスホニウムブロミド、メトキシメチルトリフェ
ニルホスホニウムクロリドのようなウィッティヒ(Witti
g)試薬；ジエチルホスホノ酢酸エチルエステル、3-ジエ
チルホスホノプロピオン酸エチルエステル、ジフェニル
ホスホノ酢酸エチルエステルのようなホーナー・エモン
ズ(Horner-Emmons)試薬等をあげることができる。
【０２３４】使用される塩基としては、水素化ナトリウ
ム、ナトリウムメチルスルフィニルメチリド、ｎ−ブチ
ルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、ｔ−ブト
キシカリウム、リチウムヘキサメチレンジシラザン等が
あげられる。
【０２３５】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、試薬により異なるが、通常、−２０℃乃至４０℃で
あり、好適には、０乃至２０℃である。
【０２３６】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、試薬、反応温度によって異なるが、３０分乃至１２
時間、好適には、１乃至５時間である。
【０２３７】反応終了後、本反応の目的化合物(18)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【０２３８】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば再結晶、またはシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。 （E−２工程）本工程は、不活性溶剤中、E−１工程で製
造される化合物（18）に、還元剤を反応させて、化合物
（19）を製造する工程である。
【０２３９】本工程は、 Ａ−５工程の（２）に準じて
実施することができる。但し、Ｒ11が、置換基を有して
いてもよいベンジル基で、かつ、Ｒ12及びＲ13が水素原
子である場合には,この工程により、化合物（３ｂ）を
直接製造することができる。 （E−３工程）本工程は、不活性溶剤中、E−２工程で製
造される化合物（19）に、還元剤を反応させて、Ａ法又
はB法の原料化合物の一つである化合物（３ｂ）を製造
する工程である。 （ａ）Ｒ12とＲ13とが一緒になって酸素原子である場合 使用される溶剤としては、例えば、メタノ−ル、エタノ
−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタ
ノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミル
アルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オク
タノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのよ
うなアルコ−ル類；酢酸等をあげることができるが、好
適には、アルコール類（特に、エタノール）である。
【０２４０】使用される還元剤としては、例えば、水素
化ホウ素リチウムのような水素化ホウ素アルカリ金属；
水素化アルミニウムリチウム、水素化リチウムトリエト
キシドアルミニウムのような水素化アルミニウム化合
物；ボラン等をあげることができるが、好適には、ボラ
ンあるいは水素化アルミニウムリチウムである。
【０２４１】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、還元剤により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であ
り、好適には、１０乃至４０℃である。
【０２４２】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、還元剤、反応温度により異なるが、通常、１０分乃
至１２時間であり、好適には、３０分乃至５時間であ
る。
【０２４３】反応終了後、本反応の目的化合物(３ｂ)
は、例えば、還元剤を分解し、反応混合物を濃縮し、水
と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗
後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネ
シウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２４４】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （ｂ）Ｒ12とＲ13とが水素の場合でＲ11がベンジル基以
外の場合 Ｒ11がシリル基の場合には、Ａ−５工程の（３）の方法
に準じて実施することができる。
【０２４５】Ｒ11がフェネチル基のようなアラルキル
基；メトキシメチル基のようなアルコキシアルキル基；
ベンジルオキシメチル基のようなベンジルオキシメチル
基又はベンジルオキシメチル基のようなアラルキルオキ
シメチル基；メトキシエトキシメチル基のようなアルコ
キシアルコキシアルキル基等の場合には、酸触媒を用
い、その場合に使用される酸触媒としてはｐ−トルエン
スルホン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸のような
有機酸、BF3、AlCl3のようなルイス酸をあげることが出
来る。
【０２４６】使用される溶剤としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−
ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンの
ようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリ
ジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；硫化炭素等をあげることが出来る。
【０２４７】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であ
り、好適には、１０乃至４０℃である。
【０２４８】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、反応温度により異なるが、通常、１０分乃
至１２時間であり、好適には、３０分乃至５時間であ
る。
【０２４９】反応終了後、本反応の目的化合物(３ｂ)
は、例えば、反応混合物を中和し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。
【０２５０】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。
【０２５１】本発明の化合物（１）を用い、以下に述べ
るF法により、修飾ヌクレオシドを含むオリゴヌクレオ
チド又はそのチオエート誘導体を製造することができ
る。
【０２５２】
【化１７】
【０２５３】F法中、Ａは、前述と同意義を示し、Ｒ13
は、水酸基の保護基（特に、メトキシ基で置換されてい
てもよいトリチル基）を示し、Ｒ14は、ホスホニル基、
後述するモノ置換−クロロ（アルコキシ）ホスフィン類
又はジ置換−アルコキシホスフィン類を反応することに
より形成される基を示す。 （F法） （F−１工程）本工程は、不活性溶剤中、Ａ法で製造さ
れる化合物（１ｃ）に、保護化試薬を反応させて、化合
物（20）を製造する工程である。
【０２５４】使用される溶剤としては、好適には、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類；トリメチルアミン、
トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の脂肪族三
級アミン類；ピリジン、ピコリンのような芳香族アミン
などがあげられ、さらに好適には、ハロゲン化炭化水素
類（特にメチレンクロリド）、芳香族アミン（特にピリ
ジン）である。使用される保護化試薬としては、５’位
のみを選択的に保護でき、酸性、中性の条件下、除去で
きるものであれば、特に制限はないが、好適には、トリ
チルクロリド、モノメトキシトリチルクロリド、ジメト
キシトリチルクロリドのようなトリアリールメチルハラ
イド類又はジメトキシトリチル-O-トリフラートのよう
なトリアリールメタノールエーテルである。保護化試薬
としてトリアリールメチルハライド類を用いる場合に
は、通常、塩基を用いる。その場合において、使用され
る塩基としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、
ピロリジノピリジン等の複素環アミン類、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン等の脂肪族三級アミン類があげ
られ、好適には、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、
ピロリジノピリジンである。
【０２５５】溶剤として、液状の塩基を用いる場合に
は、該塩基自体が脱酸剤として働くので、改めて塩基を
加える必要はない。
【０２５６】反応温度は、使用される原料、試薬、溶剤
などにより通常０乃至１５０℃であり、好適には２０乃
至１００℃である。また、反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至１００
時間であり、好適には、２乃至２４時間である。
【０２５７】反応終了後、本反応の目的化合物(20)は、
例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することで得られる。
【０２５８】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。
【０２５９】なお、Ａ法における化合物（１ｂ）に対し
て本工程を行うことで、化合物（２０）の2’位水酸基
がＯＺ基である化合物を代わりに得ることが出来る。こ
れに対して（Ａ−６）工程を行うことで、化合物（２
０）を得ることも出来る。 （F−２工程）本工程は、不活性溶剤中、F−１工程で製
造される化合物（20）に、アミダイト化に通常用いるモ
ノ置換−クロロ（アルコキシ）ホスフィン類又はジ置換
−アルコキシホスフィン類を反応させて、化合物（２
１）を製造する工程である。
【０２６０】使用される溶剤としては、反応に影響を与
えないものであれば、特に限定はないが、好適には、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサンのよ
うなエーテル類；メチレンクロリド、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類が挙げられる。
【０２６１】使用されるモノ置換−クロロ（アルコキ
シ）ホスフィン類としては、例えば、クロロ（モルホリ
ノ）メトキシホスフィン、クロロ（モルホリノ）シアノ
エトキシホスフィン、クロロ（ジメチルアミノ）メトキ
シホスフィン、クロロ（ジメチルアミノ）シアノエトキ
シホスフィン、クロロ（ジイソプロピルアミノ）メトキ
シホスフィン、クロロ（ジイソプロピルアミノ）シアノ
エトキシホスフィンのようなホスフィン類があげられ、
好適には、クロロ（モルホリノ）メトキシホスフィン、
クロロ（モルホリノ）シアノエトキシホスフィン、クロ
ロ（ジイソプロピルアミノ）メトキシホスフィン、クロ
ロ（ジイソプロピルアミノ）シアノエトキシホスフィン
である。
【０２６２】モノ置換−クロロ（アルコキシ）ホスフィ
ン類を用いる場合には、脱酸剤が使用され、その場合
に、使用される脱酸剤としては、ピリジン、ジメチルア
ミノピリジンのような複素環アミン類、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミンのような
脂肪族アミン類があげられるが、好適には、脂肪族アミ
ン類（特にジイソプロピルアミン）である。
【０２６３】使用されるジ置換−アルコキシホスフィン
類としては、例えば、ビス（ジイソプロピルアミノ）シ
アノエトキシホスフィン、ビス（ジエチルアミノ）メタ
ンスルホニルエトキシホスフィン、ビス（ジイソプロピ
ルアミノ）（2,2,2-トリクロロエトキシ）ホスフィン、
ビス（ジイソプロピルアミノ）（4-クロロフェニルメト
キシ）ホスフィンのようなホスフィン類をあげることが
でき、好適には、ビス（ジイソプロピルアミノ）シアノ
エトキシホスフィンである。
【０２６４】ジ置換−アルコキシホスフィン類を用いる
場合には、酸が使用され、その場合に、使用される酸と
しては、好適には、テトラゾール、酢酸又はｐ−トルエ
ンスルホン酸である。
【０２６５】反応温度は、特に限定はないが、通常０乃
至８０℃であり、好適には、室温である。
【０２６６】反応時間は、使用する原料、試薬、温度等
により異なるが、通常、５分乃至３０時間であり、好適
には、室温で反応した場合、３０分乃至１０時間であ
る。
【０２６７】反応終了後、本反応の目的化合物(２１)
は、目的化合物は、例えば、反応混合物を適宜中和し、
又、不溶物が存在する場合には、濾過により除去した
後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加
え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫
酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによっ
て得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば、再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等によ
って更に精製できる。
【０２６８】又は、本工程は、不活性溶剤中（好適に
は、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素
類）、F−１で製造される化合物（20）に、トリス−
（１，２，４−トリアゾリル）ホスファイトを反応した
後、水を加えて、Ｈ−ホスホネート化して、化合物（2
1）を製造する工程である。
【０２６９】反応温度は、特に限定はないが、通常−２
０乃至１００℃であり、好適には、１０乃至４０℃であ
る。
【０２７０】反応時間は、使用する原料、試薬、温度等
により異なるが、通常、５分から３０時間であり、好適
には、室温で反応した場合、３０分である反応終了後、
本反応の目的化合物(21)は、例えば、反応混合物を適宜
中和し、又、不溶物が存在する場合には、濾過により除
去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒
を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無
水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することに
よって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常
法、例えば、再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。 （F−３工程）本工程は、少なくとも１つ以上のF−２で
製造される化合物（２１）、及び、所望のヌクレオチド
配列のオリゴヌクレオチド類縁体を製造するのに必要な
市販のホスホロアミダイト試薬等を使用して、通常の方
法により、ＤＮＡ自動合成機上、目的のオリゴヌクレオ
チド類縁体および２−５Ａ類縁体を製造する工程であ
る。
【０２７１】所望のヌクレオチド配列を持つオリゴヌク
レオチド類縁体および２−５Ａ類縁体は、ＤＮＡ合成
機、例えばパーキンエルマー社のホスホロアミダイト法
によるモデル３９２などを用いて文献（Nucleic AcidsR
esearch, 12, 4539(1984)）記載の方法に準じて合成す
ることが出来る。
【０２７２】又、所望により、チオエート化する場合
は、硫黄のほかテトラエチルチウラムジスルフィド（Ｔ
ＥＴＤ、アプライドバイオシステムズ社）、Beaucage試
薬（ミリポア社）等の３価のリン酸に反応させてチオエ
ートを形成する試薬を用い、文献（Tetarhedron Letter
s, 32, 3005(1991)、J. Am. Chem. Soc., 112, 1253(19
90)）記載の方法に準じてチオエート誘導体を得る事が
出来る。
【０２７３】得られる粗製のオリゴヌクレオチド類縁体
および２−５Ａ類縁体は、逆相クロマトカラムを使用し
て精製し、精製物の純度をＨＰＬＣで分析することによ
り確認することができる。
【０２７４】得られるオリゴヌクレオチド類縁体の鎖長
は、ヌクレオシド単位として、通常、２乃至５０個であ
り、好適には、１０乃至３０個である。
【０２７５】又、所望のオリゴヌクレオチド類縁体およ
び２−５Ａ類縁体の2’(3’)-末端ヌクレオシドが、修
飾ヌクレオシドである場合は、以下に述べるＧ法で製造
される、本ヌクレオシドがジカルボン酸を介してアルキ
ル鎖を有する高分子化合物と結合した固相担体を用いる
ことで、所望のオリゴヌクレオチド類縁体および２−５
Ａ類縁体を合成することが出来る。Ｇ法で用いられるＲ
15は-(CH2)h-基（hは２乃至８の整数である）を示し、
Ｒ1 6は、水酸基、置換基を有していてもよいフェニルオ
キシ基、あるいはハロゲンで置換されていてもよいエチ
ルオキシ基を示し、Ｒ17は酸素原子、硫黄原子又はＮＨ
基を示し、ＨＲ17−Ｐ（丸囲み）は高分子化合物を表
す。 （Ｇ法）
【０２７６】
【化１８】
【０２７７】（Ｇ−１工程）本工程は、不活性溶剤中、
Ｆ法で製造される化合物（２０）に、ジカルボン酸無水
物を反応させて、化合物（２１）を製造する工程であ
る。
【０２７８】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類；アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類；ピリジンのよう
な複素環アミン類又はアセトニトリルのようなニトリル
類をあげることができ、好適には、塩化メチレンのよう
なハロゲン化炭化水素があげられる。
【０２７９】使用される脱酸剤としては、ピリジン、ジ
メチルアミノピリジン、ピロリジノピリジンのようなピ
リジン類があげられるが、好適には、ジメチルアミノピ
リジンである。
【０２８０】使用されるジカルボン酸無水物としては、
炭素数３乃至１６個のα，ω−アルキルジカルボン酸の
無水物であれば、特に限定はないが、好適にはコハク酸
無水物である。
【０２８１】反応温度と反応時間は使用される、酸無水
物、脱酸剤等により異なるが、コハク酸無水物を用い、
ジメチルアミノピリジンを脱酸剤として使用する場合に
は、室温で３０分である。
【０２８２】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。 （Ｇ−２工程）本工程は、不活性溶剤中、遊離のカルボ
キシル基を有する化合物（２１）のカルボキシル基にエ
ステル形成試薬を反応させた後、置換基を有していても
よいフェノールと反応させ、活性エステル（２２）を形
成させる工程である。
【０２８３】使用される溶剤としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類、アセト
ン、メチルエチルケトンメチルイソブチルケトン、イソ
ホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエ
タン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセト
ニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのよ
うなスルホキシド類があげられ、好適にはハロゲン化炭
化水素類（特にメチレンクロリド）、アミド類（特にジ
メチルホルムアミド）である。
【０２８４】使用されるフェノールとしては、活性エス
テルとして使用できるものであれば特に限定はないが、
４−ニトロフェノール、２，４−ジニトロフェノール、
２，４，５−トリクロルフェノール、２，３，４，５，
６−ペンタクロロフェノール、２，３，５，６−テトラ
フルオロフェノールをあげることができるが、好適には
ペンタクロロフェノールである。
【０２８５】使用されるエステル形成試薬としては、例
えば、Ｎ−ヒドロキシサクシイミド、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン
−２，３−ジカルボキシイミドのようなＮ−ヒドロキシ
化合物類；１，１′−オキザリルジイミダゾール、Ｎ，
Ｎ′−カルボニルジイミダゾールのようなジイミダゾー
ル化合物類；２，２′−ジピリジルジサルファイドのよ
うなジサルファイド化合物類；Ｎ，Ｎ′−ジサクシンイ
ミジルカーボネートのようなコハク酸化合物類；Ｎ，
Ｎ′−ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）ホス
フィニッククロライドのようなホスフィニッククロライ
ド化合物類；Ｎ，Ｎ′−ジサクシンイミジルオキザレー
ト（ＤＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ジフタールイミジルオキザレー
ト（ＤＰＯ）、Ｎ，Ｎ′−ビス（ノルボルネニルサクシ
ンイミジル）オキザレート（ＢＮＯ）、１，１′−ビス
（ベンゾトリアゾリル）オキザレート（ＢＢＴＯ）、
１，１′−ビス（６−クロロベンゾトリアゾリル）オキ
ザレート（ＢＣＴＯ）、１，１′−ビス（６−トリフル
オロメチルベンゾトリアゾリル）オキザレート（ＢＴＢ
Ｏ）のようなオキザレート化合物類、ジシクロヘキシル
カーボジイミド（ＤＣＣ）などのカーボジイミド類があ
げられ、好適にはジイミダゾール化合物類、カーボジイ
ミド類（特に、ＤＣＣ）である。
【０２８６】反応温度及び反応時間は、使用されるエス
テル形成試薬及び溶剤の種類によって異なるが、０℃乃
至１００℃で５乃至５０時間、特にペンタクロルフェノ
ールとＤＣＣをＤＭＦ中で使用する場合には室温で１８
時間である。
【０２８７】反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。 （第Ｇ−３工程）本工程は、不活性溶剤中、第５工程で
得られる活性化されたカルボキシル基をする化合物（２
２）をアルキレン基を介してアミノ基、水酸基、スルフ
ヒドリル基等の結合したコントロールポアグラス（ＣＰ
Ｇ）のような高分子物質（２３）に反応させて、オリゴ
ヌクレオチド合成のための担体として使用できる高分子
誘導体（２４）を得る工程である。
【０２８８】本工程に使用される高分子物質（２３）
は、一般に担体として使用されるものであれば、特に限
定はないが、担体の、粒子の大きさ、三次元網目構造に
よる表面積の広さ、親水基部位の比率、化学組成、圧力
に対する強度等について検討する必要がある。
【０２８９】使用される担体としては、セルロース、デ
キストラン、アガロ−スのような多糖類誘導体、ポリア
クリルアミドゲル、ポリスチレンジュシ、ポリエチレン
グリコールのような合成高分子、シリカゲル、多孔性ガ
ラス、金属酸化物のような無機物質等を挙げることがで
き、具体的には、アミノプロピル−ＣＰＧ、長鎖アミノ
アルキル−ＣＰＧ（以上、ＣＰＧ Inc. 製）、コスモシ
ールＮＨ2 、コスモシールＤｉｏｌ（以上、ナカライテ
スク社製）、ＣＰＣ−Silica Carrier SilaneCoated、
アミノプロピル−ＣＰＧ−５５０Å、アミノプロピル−
ＣＰＧ−１４００Å、ポリエチレン グリコール ５００
０ モノメチルエーテル（以上、Ｆｕｒｕｋａ社製）、
ｐ−アルコキシベンジル アルコール レジン、アミノメ
チルレジン、ヒドロキシメチル レジン（以上、国産化
学社製）、ポリエチレングリコール １４０００ モノメ
チルエーテル（以上、ユニオン カーバイド社製）のよ
うな市販の担体を挙げることができるが、これらに限定
されるものではない。
【０２９０】また、担体に結合した官能基としては、好
適には、アミノ基、スルフヒドリル基、水酸基を挙げる
ことができる。
【０２９１】本工程に使用される溶剤としては反応を阻
害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に
限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シ
クロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニト
ロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、
イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミ
ド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類があげられ、好適にはハロゲン化炭化水素類
（特にメチレンクロリド）、アミド類（特にジメチルホ
ルムアミド）である。反応温度は通常−２０乃至１５０
℃であり、好適には０乃至５０℃である。反応時間は使
用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通
常１乃至２００時間であり、好適には、２４乃至１００
時間である。反応終了後、目的の化合物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中
から、濾過により高分子担体を回収し、メチレンクロリ
ドのような有機溶媒で洗浄後、減圧下乾燥することによ
って得られる。
【０２９２】得られたオリゴヌクレオチド類縁体の相補
鎖形成能及びヌクレアーゼ酵素耐性は、以下の方法に従
い、調べることができる。 （試験方法１）得られた種々のオリゴヌクレオチド類縁
体と、相補的な配列を有する天然のＤＮＡあるいはＲＮ
Ａからなるオリゴヌクレオチドとをアニーリング処理
し、融解温度（Ｔｍ値）を測定することにより、本発明
のオリゴヌクレオチド類縁体の相補ＤＮＡおよびＲＮＡ
に対するハイブリッド形成能を調べる。
【０２９３】リン酸ナトリウム緩衝液オリゴヌクレオチ
ド類縁体と天然型相補オリゴヌクレオチドを同量加えた
サンプル溶液を、沸騰水中に浴し、時間をかけてゆっく
り室温まで冷却する（アニーリング）。分光光度計（例
えば、島津 UV-2100PC）のセル室内で、サンプル溶液を
２０℃から９０℃まで温度を少しずつ上昇させ、２６０
ｎｍにおける紫外線吸収を測定する。 （試験方法２）ヌクレアーゼ酵素耐性の測定 オリゴヌクレオチドを緩衝液中にて、ヌクレアーゼを加
えて加温する。ヌクレアーゼとしては、蛇毒ホスホジエ
ステラーゼ、エンドヌクレアーゼＰ１、エンドヌクレア
ーゼＳ１等が用いられる。緩衝液としては、酵素に適す
る緩衝液であれば制限はないが、蛇毒ホスホジエステラ
ーゼの場合トリス‐塩酸緩衝液、エンドヌクレアーゼＰ
１の場合酢酸ナトリウムバッファー等が使用される。ま
た必要に応じて緩衝液に金属イオンを加える。金属イオ
ンとしては、蛇毒ホスホジエステラーゼの場合Ｍｇ2+、
エンドヌクレアーゼの場合Ｚｎ2+等が用いられる。反応
温度は０〜１００℃が好適であり、さらに３０〜５０℃
が好適である。
【０２９４】一定時間後、エチレンジアミン四酢酸（Ｅ
ＤＴＡ）を加え、１００℃で２分間加熱することによ
り、反応を停止させる。
【０２９５】オリゴヌクレオチドの残量の定量には、オ
リゴヌクレオチドをラジオアイソトープ等で標識し切断
反応生成物をイメージアナライザー等で定量する方法、
切断反応生成物を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｈ
ＰＬＣ）で定量する方法、切断反応生成物を色素（エチ
ジウムブロマイド等）で染色し、コンピューターを用い
た画像処理により定量する方法などが用いられる。 （試験方法３）RNaseLアゴニスト活性の測定 緩衝液中にて、２−５A誘導体、RNase Lおよび基質 RNA
を加え、RNase Lによって切断されるRNA基質の量を測定
することによって２−５A誘導体のRNaseLアゴニスト活
性を測定することができる。文献（Dong, B. and Silve
rman, R.H. J. Biol. Chem. 1997, 272, 22236-22242）
に従って調整することができる。また、5'末端に一リン
酸を有した2'-5'トリアデニレートRNase Lは、天然型２
−５AとしてRNaseLを活性化できることが知られている
（Kitade, Y., Wakana, M., Tsuboi, T., Yatome, C.,
Bayly, S.F., Player, M.R., Torrence, P.F., Bioorg.
Med. Chem. Lett., 2000, 10, 329-331）。一価および
二価の金属イオン、ATPを含有する緩衝液中にて、本発
明の２−５A誘導体、RNase LおよびRNA基質を加え反応
させる。一価の金属イオンとしてはK+, Na+等が用いら
れ、二価の金属イオンとしてはMg2+,Ca2+, Mn2+, Pb2+
等が用いられる。緩衝液としては、中性からアルカリ性
で使用される緩衝液であれば制限はないが、トリス−塩
酸緩衝液、グリシル−グリシン−水酸化ナトリウム緩衝
液等が使用され得る。反応温度は、０〜１００℃が好適
であり、さらに３０〜５０℃が好適である。一定時間
後、反応液中に反応停止液（尿素およびエチレンジアミ
ン四酢酸、以下「EDTA」）を加えることにより反応を停
止させる。RNase Lにより切断されるRNA基質は、RNase
Lの切断基質になるポリリボヌクレオチドであれば特に
限定しないが、例えば、長さ５〜５０までの任意の配列
を有する合成オリゴリボヌクレオチド、任意のトランス
ファーRNA(ｔRNA)、任意のリボソーマルRNA（ｒRNA）、
任意のメッセンジャーRNA(ｍRNA)等を用いることが出来
る。切断反応の定量には、RNA基質の5'末端をラジオア
イソートープ等で標識し切断反応生成物をゲル電気泳動
等で分離後イメージアナライザー等で定量する方法、切
断反応生成物を逆相高速液体クロマトグラフィー（HPL
C）で定量する方法、切断反応生成物をゲル電気泳動等
で分離後、色素（エチジウムブロマイド、SYBR GREEN I
I RNA ゲルステイン（モレキュラープローブ社製）等）
で染色し、コンピューターを用いた画像処理により定量
する方法などが用いられる。
【０２９６】本発明の一般式（２）で表される構造を１
又は２以上含有するオリゴヌクレオチド類縁体の投与形
態としては、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤
若しくはシロップ剤等による経口投与又は注射剤若しく
は坐剤等による非経口投与を示し、これらの製剤は、賦
形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニトール、ソ
ルビトールのような糖誘導体；トウモロコシデンプン、
バレイショデンプン、α澱粉、デキストリンのような澱
粉誘導体；結晶セルロースのようなセルロース誘導体；
アラビアゴム；デキストラン；プルランのような有機系
賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪酸アルミニウム、
珪酸カルシウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよ
うな珪酸塩誘導体；燐酸水素カルシウムのような燐酸
塩；炭酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムの
ような硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができ
る。）、滑沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸
カルシウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステア
リン酸金属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲ
イ蝋のようなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナト
リウムのような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香
酸ナトリウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラ
ウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのよ
うなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪
酸類；及び、上記澱粉誘導体を挙げることができ
る。）、結合剤（例えば、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニル
ピロリドン、マクロゴール、及び、前記賦形剤と同様の
化合物を挙げることができる。）、崩壊剤（例えば、低
置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシ基メ
チルセルロース、カルボキシ基メチルセルロースカルシ
ウム、内部架橋カルボキシ基メチルセルロースナトリウ
ムのようなセルロース誘導体；カルボキシ基メチルスタ
ーチ、カルボキシ基メチルスターチナトリウム、架橋ポ
リビニルピロリドンのような化学修飾されたデンプン・
セルロース類を挙げることができる。）、安定剤（メチ
ルパラベン、プロピルパラベンのようなパラオキシ安息
香酸エステル類；クロロブタノール、ベンジルアルコー
ル、フェニルエチルアルコールのようなアルコール類；
塩化ベンザルコニウム；フェノール、クレゾールのよう
なフェノール類；チメロサール；デヒドロ酢酸；及び、
ソルビン酸を挙げることができる。）、矯味矯臭剤（例
えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料等を挙げ
ることができる。）、希釈剤等の添加剤を用いて周知の
方法で製造される。
【０２９７】その使用量は症状、年齢、投与方法等によ
り異なるが、例えば、経口投与の場合には、１回当り、
下限として、0.01mg/kg 体重（好ましくは、0.1mg/kg
体重）、上限として、1000mg/kg 体重（好ましくは、10
0mg/kg 体重）を、静脈内投与の場合には、１回当り、
下限として、0.001mg/kg 体重（好ましくは、0.01mg/kg
体重）、上限として、100mg/kg 体重（好ましくは、10
mg/kg 体重）を１日当り１乃至数回症状に応じて投与す
ることが望ましい。以下、実施例、参考例及び試験例を
あげて、本発明をさらに詳しく説明する。
【０２９８】
【実施例】（実施例１）2'-Ｏ-アセチル-5'-Ｏ-ｔ−ブチルジフェニルシリル-3'
-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン−５−メチルウリジン （例示化合物
番号2-29） 参考例６で得られた2'-Ｏ-アセチル-3'-Ｏ-ベンジル-4'
-ｐ-トルエンスルホニルオキシエチル-5'-O-ｔ-ブチル
ジフェニルシリル-５-メチルウリジン（１２０ｍｇ、
０．１４５mmol）をメタノール（１０ml）に溶解し、２
０％水酸化パラジウム-炭素を１００ｍｇ加え、得られ
た反応液を、水素雰囲気下、常圧で2日間攪拌した。触
媒を濾過し、濾液の溶媒を減圧下留去後、得られた残渣
を、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し（ジク
ロロメタン：メタノール＝４０：１）、無色アモルファ
ス状物質（７０ｍｇ、０．１２４mmol，収率８５％）を
得た。 1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.14(9H, s), 1.43(3H, s),
1.91(1H, dt, 8.0 and13Hz), 2.08(1H, ddd, 4.8, 6.3
and 13Hz), 2.16(3H, s), 3.72(1H, d, 11Hz),3.97(1
H, dt, 4.8 and 8Hz), 4.11(1H, m), 4.13(1H, d, 11H
z), 4.64(1H, d, 5.0Hz), 5.28(1H, dd, 5.0 and 8.4H
z), 6.33(1H, d, 8.4Hz), 7.4-7.7(10H, m),8.01(1H,
s). FABMS(mNBA)：549[M+H]+ （実施例２）5'-Ｏ-ｔブチルジフェニルシリル-3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレ
ン−５−メチルウリジン （例示化合物番号2-31） 少量の水に炭酸カリウムを１０ｍｇ溶かし、メタノール
１０mlを加え、さらに実施例１で得られた2'-Ｏ-アセチ
ル-5'-Ｏ-ｔ−ブチルジフェニルシリル-3'-Ｏ,4'-Ｃ-エ
チレン−５−メチルウリジン（７０ｍｇ、０．１２４mm
ol）を溶解し、３時間放置した。反応終了後、水及び酢
酸エチルを加え、分液し、有機層を水、飽和食塩水で洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、溶媒を
留去し、無色固体（４３ｍｇ、０．１０mmol，収率８１
％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.11(9H, s), 1.47(3H, d,
1.5Hz), 1.95(1H, dt, 8.4 and 13.3Hz), 2.10(1H, dd
d, 4.4, 6.3 and 13.3Hz), 2.93(1H, d, 10Hz), 3.71(1
H, d, 11Hz), 4.06(2H, m), 4.08(1H, d, 11Hz), 4.28
(1H, m), 4.44(1H,d, 5.2Hz), 6.01(1H, d, 7.9Hz), 7.
4-7.7(10H, m), 8.23(1H, s). FABMS(mNBA)：523[M+H]+ （実施例３）3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン−５−メチルウリジン （例示化合
物番号2-2） 窒素気流下、実施例２で得られた5'-Ｏ-ｔブチルジフェ
ニルシリル-3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン−５−メチルウリジ
ン（１９ｍｇ、０．０３６３mmol）を無水テトラヒドロ
フラン（２ml）に溶解し、そこへ１．０Ｍ−テトラブチ
ルアンモニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液
（０．０５ml、０．０５mmol）を加え、９０分室温で撹
拌した。反応終了後、メタノール０．５mlを加え、溶媒
を留去し、得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフ
ィーにより精製し（ジクロロメタン：メタノール＝１
２：１）、無色固体（７ｍｇ、０．０２４６mmol，収率
６８％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CD3OD) : 1.89(3H, s), 2.03(2H, t,
6.9Hz), 3.69(1H, d, 12Hz), 3.85(1H, d, 12Hz), 4.02
(2H, t, 6.9Hz), 4.26(1H, d, 4.9Hz), 4.31(1H,dd, 4.
9 and 7.9Hz), 5.97(1H, d, 7.9Hz), 7.88(1H, s). FABMS(mNBA)：285[M+H]+ （実施例４）2'-Ｏ-アセチル-5'-Ｏ-ｔ−ブチルジフェニルシリル-3'
-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベンゾイルアデノシン （例示
化合物番号1-37） 参考例７で得られた2'-Ｏ-アセチル-3'-Ｏ-ベンジル-4'
-ｐ-トルエンスルホニルオキシエチル-5'-O-t-ブチルジ
フェニルシリル-6-Ｎ-ベンゾイルアデノシン（６８ｍ
ｇ、０．０７２３mmol）をメタノール（１０ml）に溶解
し、２０％水酸化パラジウム-炭素を２０ｍｇ加え、得
られた反応液を、水素雰囲気下、５０気圧で2日間攪拌
した。触媒を濾過し、濾液の溶媒を減圧下留去後、得ら
れた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製
し（ジクロロメタン：メタノール＝１６：１）、無色ア
モルファス状物質（１１ｍｇ、０．０１６２mmol，収率
２１％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.12(9H, s), 2.09(3H, s),
2.16(2H, m), 3.78(1H,d, 11Hz), 4.05(1H, dt, 5.0,
8.7Hz), 4.15(1H, d, 11Hz), 4.17(1H, m), 4.73(1H,
d, 4.8Hz), 5.82(1H, dd, 4.8 and 8.0Hz), 6.36(1H,
8.0Hz), 7.35-7.70(13H, m), 8.02(2H, d, 7.4Hz), 8.2
2(1H, s), 8.72(1H, s), 9.03(1H, s). FABMS(mNBA)：678[M+H]+ （実施例５）2'-Ｏ-アセチル-3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベンゾイ
ルアデノシン （例示化合物番号1-209） 実施例４で得られた2'-Ｏ-アセチル-5'-Ｏ-ｔ−ブチル
ジフェニルシリル-3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベンゾ
イルアデノシン（１１ｍｇ、０．０１６２mmol）を無水
テトラヒドロフラン（２ml）に溶解し、そこへ１．０Ｍ
−テトラブチルアンモニウムフロリド／テトラヒドロフ
ラン溶液（０．０３ml、０．０３mmol）を加え、９０分
室温で撹拌した。メタノール２mlを加え、溶媒を留去
し、得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーに
より精製し（ジクロロメタン：メタノール＝１２：
１）、無色固体（７ｍｇ、０．０１５９mmol，収率９８
％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 2.09(3H, s), 2.10(1H, m),
2.22(1H, ddd, 4.7, 6.5 and 13Hz), 3.74(1H, t, 11H
z), 4.10-4.20(3H, m), 4.83(1H, d, 4.6Hz), 5.85(1H,
dd, 4.6 and 8.1Hz), 6.07(1H, d, 8.1Hz), 6.36(1,
d, 11Hz), 7.56(2H, t, 7.5Hz), 7.65(1H, t, 7.5Hz),
8.05(2H, 7.5Hz), 8.82(1H, s), 9.04(1H,s). FABMS(mNBA)：440[M+H]+ （実施例６）3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレンアデノシン （例示化合物番号1-
7） 実施例５で得られた2'-Ｏ-アセチル-3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチ
レン-6-Ｎ-ベンゾイルアデノシン(7mg、0.0159mmol)を
飽和アンモニア／メタノール溶液(5ml)に溶解し、一晩
放置した。
【０２９９】反応終了後、溶媒を減圧下留去し、得られ
た残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
（ジクロロメタン：メタノール＝７：１）、白色粉末
（約５ｍｇ、定量的収率）を得た。
【０３００】1H-NMR (400MHz, CD3OD) : 2.12(2H, t,
5.8Hz), 3.75(1H, d, 12Hz), 3.94(1H, d, 12Hz), 4.04
(2H, m), 4.39(1H, d, 4.4Hz), 4.78(1H, dd, 4.4 and
8.0Hz), 6.03(1H, d, 8.0Hz), 8.44(1H, s), 8.58(1H,
s). FABMS(mNBA)：294[M+H]+ （実施例７）2’, 5'-ジアセトキシ‐3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベ
ンゾイルアデノシン （例示化合物番号１−３２） 窒素気流下、室温で参考例１６で得られた２，３−ジア
セトキシ−６ａ−アセトキシメチル−ヘキサヒドロ−フ
ロ[３，２‐ｄ]フラン（１．８８ｇ、６．２２mmol）を
無水１，２−ジクロロエタン（１００ml）に溶解し、そ
こに、前記の文献（H. Vorbueggen,K.Krolikiewicz and
B,Bennua, Chem.Ber.,114,1234-1255(1981)）に従って
調製したトリメチルシリル化ベンゾイルアデニン（４．
６０ｇ、約１２mmol）を加えた。さらに、そこへ、トリ
フルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（１．０m
l、５．５mmol）を滴下し、８時間加熱還流した。
【０３０１】反応終了後、反応液に炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液（約１００ml）を加え、セライトを用いてろ
過し、濾液にジクロロメタン（約１００ml）を加え、有
機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（約１００ml）、
次いで飽和食塩水（約１００ml）で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去後、得られ
た残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
（ジクロロメタン：メタノール＝１００：８）、無色ア
モルファス状の目的物（２．５２ｇ、５．２３mmol、収
率８４％）を得た。
【０３０２】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 2.09(3H, s),
2.18(3H, s), 2.19(1H, m), 2,30(1H, ddd, 4.1, 6.2 a
nd 13Hz), 4.15(2H, m), 4.43(1H, d, 12Hz), 4.48(1H,
d,12Hz), 4.70(1H, d, 4.9Hz), 5.81(1H, dd, 4.9 and
7.9Hz), 6.33(1H, d, 7.9Hz), 7.52-7.64(3H, m), 8.0
3(2H, m), 8.23(1H, s), 8.81(1H, s), 8.95(1H, brs). FABMS(mNBA)：482[M+H]+. （実施例８）3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベンゾイルアデノシン （例
示化合物番号１−１７８） 実施例７で得られた2’, 5'-Ｏ-ジアセトキシ‐3'-Ｏ,
4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベンゾイルアデノシン（１．３９
ｇ、２．８９mmol）をピリジン１５mlに溶かし、１Ｎ水
酸化ナトリウム水溶液６mlを加え、２０分間室温で撹拌
した。反応終了後、０．１Ｎ酢酸水で反応液を中和し、
溶媒を留去した。得られた残渣をそのまま、シリカゲル
クロマトグラフィーを用いて精製し（ジクロロメタン：
メタノール＝１０：１）、無色アモルファス状の目的物
（８８９ｍｇ、２．２４mmol、収率７７％）を得た。
【０３０３】1H-NMR (400MHz, MeOD) : 2.14(2H, m),
3.31(2H,m), 3.76(1H, d, 12Hz), 3.99(1H, d, 12Hz),
4.12(2H, m), 4.42(1H, 4.7Hz), 4.92(1H, dd, 4.7 and
8.0Hz), 6.09(1H, d, 8.0Hz), 7.54-7.68(3H, m), 8.0
8(2H, d, 7.2Hz), 8.63(1H, s), 8.70(1H, s). FABMS(mNBA)：398[M+H]+. （実施例９）5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-
Ｎ-ベンゾイルアデノシン （例示化合物番号１−３１） 実施例８で得られた3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベンゾ
イルアデノシン（１．８９ｇ、４．７６mmol）を無水ピ
リジンで共沸脱水後、窒素気流下、無水ピリジン（２０
ml）に溶解した．これに４,４’−ジメトキシトリチル
トリフルオロメタンスルホン酸（２．７ｇ、６．０mmo
l）を添加し、１００℃、５時間加熱した。反応溶液に
少量のメタノール（約３ml）を加えた後、溶媒を減圧下
濃縮し、水（約５０ml）を加え，クロロホルム（約100m
l）で抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶
液（約50ml×２）、飽和食塩水（約50ml）で洗浄後、溶
媒を減圧下濃縮し、得られた残渣を、シリカゲルクロマ
トグラフィーを用いて精製し（ジクロロメタン：メタノ
ール＝１００：１０）、無色アモルファス状の目的物
（900mg、1.28mmol、収率２７％）を得た。
【０３０４】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 2.08(1H, dt,
8.8 and 13Hz), 2.19(1H, dt, 5.0and 13Hz), 3.30(1H,
d, 10Hz), 3.59(1H, d, 10Hz), 3.76(3H, s), 3.77(3
H, s), 4.08(2H, m), 4.25(1H, brs), 4.50(1H, d, 5.0
Hz), 5.02(1H, brd, 5.0Hz),6.06(1H, d, 7.2Hz), 6.79
(4H, d, 8.7Hz), 7.2-7.6(12H, m),8.03(2H, d, 7.4H
z), 8.25(1H, s), 8.77(1H, s), 9.19(1H, s). FABMS(mNBA)：700[M+H]+ （実施例１０）5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレン-6-
Ｎ-ベンゾイルアデノシン‐2'-Ｏ‐（2‐シアノエチル
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト） （例示
化合物番号1−１８６） 実施例９で得られた5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐3'-Ｏ,
4'-Ｃ-エチレン-6-Ｎ-ベンゾイルアデノシン（８２０ｍ
ｇ、１．１７mmol）を無水ピリジンで共沸脱水した後、
窒素気流下、無水ジクロロメタン(２０ml)に溶解し、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミンテトラゾール塩（３４０
ｍｇ，２．０mmol）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソ
プロピル− ２−シアノエチルホスホロアミダイト（６
３５μｌ，２．０mmol）を加え、４５℃で５時間攪拌し
た。反応溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（１０m
l）、飽和食塩水（１０ml）で洗浄後、溶媒を減圧下濃
縮し、得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー
を用いて精製し（ジクロロメタン：酢酸エチル＝４：
１）、無色アモルファス状の目的物（８３５ｍｇ、０．
９２７mmol、収率８０％）を得た。
【０３０５】1 H-NMR(400MHz, CDCl3) : 0.7-1.2(12H,
m), 1.26(1H, m), 2.16(1H, m), 2.38(2H, m), 3.5-3.7
(6H, m), 3.78(3H, s), 3.79(3H, s), 3.8-4.2(3H, m),
4.5(1H, d, 4.7Hz), 6.2(1H, d, 7.9Hz), 6.82(4H,
m), 7.2-7.6(12H, m), 8.02(2H, m), 8.18(1H, s), 8.6
8(1H, s), 9.03(1H, brs). （実施例１１） （オリゴヌクレオチド類縁体の合成）核酸合成機（PE B
iosystems社製 ABI model392 DNA/RNA synthesiser）
を用い、1.0μmolスケールで行った。各合成サイクルに
おける溶媒、試薬、ホスホロアミダイトの濃度は天然オ
リゴヌクレオチド合成の場合と同じであり、溶媒、試
薬、天然型ヌクレオシドのホスホロアミダイトは全てPE
Biosystems社製のものを用いた。3’−の水酸基がCPG
支持体に結合した5’−Ｏ−ＤＭＴｒ−チミジン（1.0μ
mol）のＤＭＴｒ基をトリクロロ酢酸によって脱保護
し、その5’−水酸基に天然ヌクレオチド合成用のアミ
ダイト及び実施例10の化合物を用いて縮合反応を繰り返
し行い、それぞれの配列の修飾オリゴヌクレオチド類縁
体を合成した。合成サイクルは以下の通りである。 合成サイクル 1) detritylation トリクロロ酢酸/ジクロロメタン；85
sec 2) coupling ホスホロアミダイト(25eq)、テトラゾール
/アセトニトリル；25secor 10min 3) capping 1-メチルイミダゾール/テトラヒドロフラ
ン、無水酢酸/ピリジン/テトラヒドロフラン；15sec 4) oxidation ヨウ素/水/ピリジン/テトラヒドロフラ
ン；15sec 上記において、サイクル2)で実施例１０の化合物を用い
て反応を行う場合は、10分間反応を行い、その他のホス
ホロアミダイトを用いる場合は25秒間反応を行った。
【０３０６】目的配列を有するオリゴヌクレオチド合成
し、合成サイクルの１）まで行い5'−DMTｒ基を脱保護
した後は、常法に従い、濃アンモニア水処理によってオ
リゴマーを支持体から切り出すとともに、リン原子上の
保護基シアノエチル基をはずし、さらに核酸塩基上の保
護基をはずした。
【０３０７】得られた天然型オリゴヌクレオチド、及び
修飾オリゴヌクレオチド類縁体は、逆相HPLCで精製を行
い、目的のオリゴヌクレオチドを得た。
【０３０８】本合成法に従い、以下の配列: ５’−ttttttttttnt−３’（配列表の配列番号 １） で示される配列を有し、塩基番号１１のアデノシンの糖
部分が3'-Ｏ,4'-Ｃ-エチレンアデノシンであるオリゴヌ
クレオチド類縁体（以下「オリゴヌクレオチド（1)」と
する。）を得た（収量0.55μmol（ 55% yield））。
【０３０９】なお、オリゴヌクレオチド類縁体の収量(m
ol)は、260nmにおける吸光度（A260）を測定し、「Hand
book of Biochemistry and Molecular Biology, 3rd Ed
ition, Nucleic Acids-Volume 1」(CRC press)のP589に
記載の計算法により算出されたモル吸光率を用いて、La
mbert-Beerの法則から求めた。また収量（重量）は収量
(mol)に分子量を掛け合わせることで計算的に求めた。
（以下、オリゴヌクレオチド類縁体、2−5A類縁体の収
量は同様の方法により求めた。） 得られた修飾オリゴヌクレオチド類縁体の精製は、逆相
HPLC（HPLC：島津製作所製LC−VP；カラム： GLサイエ
ンス Inertsil Prep-ODS(20×250mm)；0.1M酢酸トリエ
チルアミン水溶液(TEAA), pH7；10→60%CH3CN / 30min,
linear gradient；40℃；10ml/min；254nm）にて行
い、29.6分に溶出する分画を集めた。本化合物はHPLC
(和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm), 0.1M TEAA, pH7,
10→50% CH3CN/20min, linear gradient, 60℃, 1ml/mi
n)で分析すると16.58分に溶出された。 （λmax = 263nm） （実施例１２）2’-アセトキシ-3’-O,4’-C-プロピレン-5’-O- tert-
ブチルジフェニルシラニル-6N-ベンゾイル-アデノシン 参考例２２で得られた2-アセトキシ-7a-(tert-ブチルジ
フェニルシラニルオキシメチル)-ヘキサヒドロ-フロ[3,
2-b]ピラン-3-イル-酢酸エステルをトルエン共沸脱水
後、窒素気流下、無水トルエン（１００ｍｌ）に溶か
し、そこに前記の文献（H.Vorbrueggen,K.Krolikiewicz
and B,Bennua,Chem.Ber.,114,1234-1255(1981)）に従
って調製したトリメチルシリル化ベンゾイルアデニン
（約６．９ｇ、約１８mmol）、トリフルオロメタンスル
ホン酸トリメチルシリル（２．７ml、１５mmol）を加
え、１１０℃で２時間加熱還流した。反応終了後、反応
液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（約１００ｍｌ）を
加え、析出物をセライトろ過した。ろ液にジクロロメタ
ン（２００ｍｌ）を加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液（約２００ｍｌ）、飽和食塩水（約２００ｍ
ｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶
媒を減圧下留去した後、得られた残渣を、シリカゲルク
ロマトグラフィーを用いて精製し（ジクロロメタン：メ
タノール＝５０：１）、無色アモルファス状の目的物
（４．７６ｇ、６．８７mmol、収率８１％）を得た。
【０３１０】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.11(9H, s),
1.60(1H, m), 1.82(1H, m), 1.94(1H, m), 2.07(1H,
m), 2.08(3H, s), 3.41(1H, dt, 2.2 and 11Hz), 3.51
(1H, d,11Hz), 4.06(1H, m), 4.29(1H, d, 11Hz), 4.58
(1H, d, 2.9Hz), 6.41(2H, m),7.3-8.1(15H, m), 8.05
(1H, s), 8.41(1H, s), 8.94(1H, s). FABMS(mNB
A)：692[M+H]+ （実施例１３）2’-アセトキシ-3’-O,4’-C-プロピレン-6N-ベンゾイ
ル-アデノシン 実施例１２で得られた2’-アセトキシ-3’-O,4’-C-プ
ロピレン-5’-O-tert-ブチルジフェニルシラニル-6N-ベ
ンゾイル-アデノシン（４．６８ｇ、６．７５ｍｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）に溶かし、te
rt-ブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン
溶液（１．０Ｍ）（１ｍｌ，１ｍｍｏｌ）を加え、室温
で５時間撹拌した。反応終了後、反応液にジクロロメタ
ン（１００ｍｌ）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液（約１００ｍｌ）、水（１００ｍｌ）、飽和食塩水
（約１００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。溶媒を減圧下留去した後、得られた残渣を、
シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製し（ジクロ
ロメタン：メタノール＝１００：４）、無色アモルファ
ス状の目的物（２．７４ｇ、６．０４mmol、収率９０
％）を得た。
【０３１１】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.59(2H, m),
1.89(1H, m), 2.06(3H, s), 3.43(1H, dt, 2.9 and 11H
z), 3.69(1H, dd, 11 and 13Hz), 3.80(1H, dd, 3.7 an
d 13Hz), 4.6(1H, m), 4.45(1H, d, 4.4Hz), 6.20(1H,
dd, 4.4 and 8.0Hz), 6.27(1H, d, 8.0Hz), 6.53(1H, d
d, 3.7 and 11Hz), 7.5-7.7(3H, m), 8.30(2H, m), 8.0
6(1H, s), 8.81(1H, s), 9.06(1H, s). FABMS(mNB
A)： 454[M+H]+ （実施例１４）2’-アセトキシ-3’-O,4’-C-プロピレン-5’-O-ジメト
キシトリチル-6N-ベンゾイル-アデノシン 実施例１３で得られた2’-アセトキシ-3’-O,4’-C-プ
ロピレン-6N-ベンゾイル-アデノシン（１．７ｇ、３．
７５ｍｍｏｌ）を窒素気流下、無水ピリジン（５０ｍ
ｌ）に溶かし、そこに４,４’−ジメトキシトリチルト
リフルオロメタンスルホン酸（６mmol）を加え、１００
℃で６時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し、ジク
ロロメタン（１００ｍｌ）を加え、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液（約１００ｍｌ）、飽和食塩水（約１００ｍ
ｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶
媒を減圧下留去した後、得られた残渣を、シリカゲルク
ロマトグラフィーを用いて精製し（ジクロロメタン：メ
タノール＝１００：２）、淡黄色アモルファス状の目的
物（２．６２ｇ、３．４７mmol、収率９２％）を得た。
【０３１２】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.57(1H, m),
1.81(1H, m), 1.98(2H, m), 2.08(3H, s), 3.08(1H, d,
9.8Hz), 3.45(1H, m), 3.75(1H, d, 9.8Hz), 3.77(3H,
s),3.78(3H, s), 4.07(1H, m), 4.62(1H, d, 3.1Hz),
6.40(2H, m), 6.83(4H, m),7.2-7.7(12H, m), 7.97(1H,
s), 8.02(2H, d, 7.2Hz), 8.45(1H, s), 9.00(1H,s).
FABMS(mNBA)： 758[M+H]+ （実施例１５）3’-O,4’-C-プロピレン-5’-O-ジメトキシトリチル-6N
-ベンゾイル-アデノシン 実施例１４で得られた2’-アセトキシ-3’-O,4’-C-プ
ロピレン-5’-O-ジメトキシトリチル-6N-ベンゾイル-ア
デノシン（２．４ｇ、３．１７ｍｍｏｌ）を１０％含水
ピリジン（１０ｍｌ）に溶かし、０℃に冷却した。そこ
に水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（６ｍｌ）を加え、
室温で１５分撹拌した。反応終了後、ピリジンを留去
し、ジクロロメタン（５０ｍｌ）を加え、有機層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液（約５０ｍｌ）、水（５０ｍ
ｌ）、飽和食塩水（約５０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、得ら
れた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精
製し（ジクロロメタン：メタノール＝１００：４）、無
色アモルファス状の目的物（１．６０ｇ、２．２４mmo
l、収率７１％）を得た。
【０３１３】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.59(1H, m),
1.94(3H, m), 3.11(1H, d, 10Hz),3.34(1H, d, 10Hz),
3.48(1H, m), 3.76(6H, s), 4.12(2H, m), 4.19(1H, d,
3.7Hz), 5.08(1H, m), 6.07(1H, d, 6.6Hz), 6.77(4H,
m), 7.2-7.6(12H, m), 8.02(1H, s), 8.03(2H, d, 7.3
Hz), 8.67(1H, s), 9.10(1H, s). FABMS(mNBA)： 7
15[M+H]+ （実施例１６）3’-O,4’-C-プロピレン-5’-O-ジメトキシトリチル-6N
-ベンゾイル-アデノシン‐2'-Ｏ‐（2‐シアノエチル
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト） 実施例１５で得られた3’-O,4’-C-プロピレン-5’-O-
ジメトキシトリチル-6N-ベンゾイル-アデノシン（４１
８ｍｇ、０．５８６ｍｍｏｌ）を窒素気流下、無水ジク
ロロメタン(１０ml)に溶解し、N,N−ジイソプロピルア
ミンテトラゾール塩（１７１ｍｇ，１．０mmol）、N,N,
N’,N’−テトライソプロピル ２−シアノエチルホスホ
ロアミダイト（３１８μｌ，１．０mmol）を加え、４５
℃で３時間攪拌した。反応溶液を炭酸水素ナトリウム飽
和水溶液（１０ml）、飽和食塩水（１０ml）で洗浄後、
溶媒を減圧留去し、得られた残渣を、シリカゲルクロマ
トグラフィーを用いて精製し（ジクロロメタン：酢酸エ
チル＝２：１）、目的の無色アモルファス状ジアステレ
オマー混合物（５２４ｍｇ、０．５７３mmol、収率９８
％）を得た。
【０３１４】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : FABMS(mN
BA)： 914[M+H]+ （実施例１７）
【０３１５】
【化１９】
【０３１６】実施例９で得られた3’-O,4’-C-エチレン
-5’-O-ジメトキシトリチル-6N-ベンゾイル-アデノシン
（１００ｍｇ、０．１４２ｍｍｏｌ）を窒素気流下、無
水ピリジン（１ｍｌ）に溶かし、コハク酸無水物（２０
ｍｇ、０．１９４ｍｍｏｌ）、4-ジメチルアミノピリジ
ン（２４ｍｇ、０．１９４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一
晩撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣を、シリカゲル
クロマトグラフィーを用いて精製し（ジクロロメタン：
メタノール＝２５：１）、得られた無色アモルファス状
化合物（１１５ｍｇ、０．１４２mmol、収率１００％）
を得た。これを無水ジメチルホルムアミド（３ｍｌ）に
溶かし、ペンタクロロフェノール（６３ｍｇ、０．２１
ｍｍｏｌ）、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド
（４３ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時
間撹拌した。析出物をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、ベ
ンゼンを加え析出物を再度ろ過した。ろ液を減圧下濃縮
し、無水ジメチルホルムアミド（３ｍｌ）を加え、そこ
にトリエチルアミン（６０μｌ、０．４４ｍｍｏｌ）、
ロングチェーンアルキルアミノグラス（５００Å、粒子
サイズ：１２０/２００メッシュ）（ＣＰＧ Ｉｎｃ製）
（１、５ｇ）を加え、６０℃、１０時間、さらに室温で
７２時間放置した。ＣＰＧをろ過し、さらにジクロロメ
タンで洗浄した後、ＣＰＧにアプライドバイオシステム
ズ社ＤＮＡ合成機ＡＢＩ３９２用キャッピング試薬２種
（無水酢酸/ピリジン/テトラヒドロフラン）（１‐メチ
ルイミダゾール/テトラヒドロフラン）をそれぞれ１０
ｍｌ加え、１０分放置した。ＣＰＧをろ過し、ピリジ
ン、ジクロロメタンの順に洗浄し、減圧乾燥し、目的物
（約１．４ｇ、ジメトキシトリチル基の導入量＝５０μ
ｍｏｌ/ｇ）を得た。 （実施例１８）
【０３１７】
【化２０】
【０３１８】実施例１５で得られた3’-O,4’-C-プロピ
レン-5’-O-ジメトキシトリチル-6N-ベンゾイル-アデノ
シン（２９０ｍｇ、０．４０６ｍｍｏｌ）を窒素気流
下、無水ピリジン（４ｍｌ）に溶かし、コハク酸無水物
（７３ｍｇ、０．７３ｍｍｏｌ）、4-ジメチルアミノピ
リジン（８９ｍｇ、０．７３ｍｍｏｌ）を加え、室温で
一晩撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣を、シリカゲ
ルクロマトグラフィーを用いて精製し（ジクロロメタ
ン：メタノール＝２０：１）、得られた無色アモルファ
ス状化合物（２４５ｍｇ、０．３００mmol、収率７４
％）を得た。これを無水ジメチルホルムアミド（４ｍ
ｌ）に溶かし、ペンタクロロフェノール（８２ｍｇ、
０．２７６ｍｍｏｌ）、N,N’-ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド（５７ｍｇ、０．２７６ｍｍｏｌ）を加え、室
温で２４時間撹拌した。析出物をろ過後、ろ液を減圧下
濃縮し、ベンゼンを加え析出物を再度ろ過した。ろ液を
減圧下濃縮し、無水ジメチルホルムアミド（８ｍｌ）を
加え、そこにトリエチルアミン（７５μｌ、０．５４ｍ
ｍｏｌ）、ロングチェーンアルキルアミノグラス（５０
０Å、粒子サイズ：１２０/２００メッシュ）（ＣＰＧ
Ｉｎｃ製）（１ｇ）を加え、６０℃、４８時間放置し
た。ＣＰＧをろ過し、さらにジクロロメタンで洗浄した
後、ＣＰＧにアプライドバイオシステムズ社ＤＮＡ合成
機ＡＢＩ３９２用キャッピング試薬２種（無水酢酸/ピ
リジン/テトラヒドロフラン）（１‐メチルイミダゾー
ル/テトラヒドロフラン）をそれぞれ１０ｍｌ加え、１
０分放置した。ＣＰＧをろ過し、ピリジン、ジクロロメ
タンの順に洗浄し、減圧乾燥し、目的物（約１ｇ、ジメ
トキシトリチル基の導入量＝５６μｍｏｌ/ｇ）を得
た。 （実施例１９）(H-K3-1-K1-K1-K1-OH)の合成（例示化合
物番号３−３４） 核酸合成機（PE Biosystems社製 ABI model392 DNA/RN
A synthesiser）を用い、2.0μmolスケールで行った。
各合成サイクルにおける溶媒、試薬、ホスホロアミダイ
トの濃度は天然オリゴヌクレオチド合成の場合と同じで
あり、溶媒、試薬は全てPE Biosystems社製のものを用
いた。実施例１０以外のホスホロアミダイトは、3’-tB
DSilyl-ribo Adenosine(N-bz)phosphramidite（ChemGen
e社）、ChemicalPhosphorylationReageantII（5’-リン
酸化試薬）（Glen Research社）を用いた。3’位の水酸
基がCPG支持体に結合した5’−Ｏ−ＤＭＴｒ−リボアデ
ノシン（2.0μmol）のＤＭＴｒ基をトリクロロ酢酸によ
って脱保護し、その天然アデノシンユニットとして5’
−水酸基に3’-tBDSilyl-ribo Adenosine(N-bz)phosphr
amiditeを、修飾アデノシンユニットとして実施例１０
の化合物を用いて縮合反応を繰り返し行い、最後に5’-
リン酸ユニットとしてChemicalPhosphorylationReagean
tIIを縮合させ、目的の配列を有する保護された２−５
Ａ類縁体を合成した。合成サイクルは以下の通りであ
る。 合成サイクル 1) detritylation トリクロロ酢酸/ジクロロメタン；85
sec 2) coupling ホスホロアミダイト(25eq)、テトラゾール
/アセトニトリル； 10乃至20min（６０℃） 3) capping 1-メチルイミダゾール/テトラヒドロフラ
ン、無水酢酸/ピリジン/テトラヒドロフラン；15sec 4) oxidation ヨウ素/水/ピリジン/テトラヒドロフラ
ン；15sec 上記において、2)ではカラムカートリッジを合成機から
取り外し、６０℃でインキュベートした。2)のカップリ
ング反応を２回繰り返してから、3)へ進んだ。
【０３１９】目的配列を有する保護された２−５Ａ類縁
体を5'−DMTｒ基をつけたまま合成した後、濃アンモニ
ア水−エタノール（４：１）混合物で処理することによ
ってオリゴマーを支持体から切り出すとともに、リン原
子上の保護基シアノエチル基とアデニン塩基上のベンゾ
イル基をはずした。溶媒を減圧下留去し、残った残渣を
逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエ
ンス Inertsil Prep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリ
エチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%CH3CN(30min,
linear gradient)；40℃；10ml/min；254nm）にて精製
し、32.1分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下留去
した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除去
し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×250
mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；
2.5→17.5%CH3CN(30min, linear gradient)；40℃；10m
l/min；254nm）にて精製し、21.9分に溶出する分画を集
めた。本化合物はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA
(4.6×150mm)）； 0.1M TEAA, pH7；2.5→12.5% CH3CN
(20min, linear gradient)； 60℃；1ml/min)で分析す
ると15.96分に溶出された。（600μg (308nmol)）（λm
ax(H2O) = 258.6nm） （実施例２０）(H-K1-K3-1-K1-K1-OH)の合成（例示化合
物番号３−３５） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２０】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；5→60%CH3CN(30min, linear gradient)；40℃；10ml
/min；254nm）にて精製し、33.8分に溶出する分画を集
めた。溶媒を減圧下留去した後、８０％酢酸水を加え30
分放置しDMTr基を除去し、溶媒を留去した後、濃アンモ
ニア水−エタノール（４：１）混合物を加え、30分放置
した。溶媒を留去した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0
に調整し、30℃、5時間反応させシリル基を除去した。
アンモニア水で中和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
lPrep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水
溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5%CH3CN(30min, linear gra
dient)；40℃；10ml/min；254nm）にて精製し、20.7分
に溶出する分画を集めた。本化合物はHPLC(カラム（和
光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）； 0.1M TEAA, pH7；
2.5→12.5% CH3CN (20min, linear gradient)； 60℃；
1ml/min)で分析すると11.24分に溶出された。（506μg
(260nmol)）（λmax(H2O) = 258.5nm）） （実施例２１）(H-K1- K1-K3-1-K1-OH)の合成（例示化
合物番号３−３６） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２１】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；5→60%CH3CN(30min, linear gradient)；40℃；10ml
/min；254nm）にて精製し、35.8分に溶出する分画を集
めた。溶媒を減圧下留去した後、８０％酢酸水を加え30
分放置しDMTr基を除去し、溶媒を留去した後、濃アンモ
ニア水−エタノール（４：１）混合物を加え、30分放置
した。溶媒を留去した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0
に調整し、30℃、5時間反応させシリル基を除去した。
アンモニア水で中和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
lPrep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水
溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5%CH3CN(30min, linear gra
dient)；40℃；10ml/min；254nm）にて精製し、20.7分
に溶出する分画を集めた。本化合物はHPLC(カラム（和
光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）； 0.1M TEAA, pH7；
2.5→12.5% CH3CN (20min, linear gradient)； 60℃；
1ml/min)で分析すると11.03分に溶出された。（352μg
(181nmol)）（λmax(H2O) = 260.0nm） （実施例２２）(H-K3-1-K3-1-K1-K1-OH)の合成（例示化
合物番号３−３７） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２２】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；5→60%CH3CN(30min, linear gradient)；40℃；10ml
/min；254nm）にて精製し、29.2分に溶出する分画を集
めた。溶媒を減圧下留去した後、８０％酢酸水を加え30
分放置しDMTr基を除去し、溶媒を留去した後、濃アンモ
ニア水−エタノール（４：１）混合物を加え、30分放置
した。溶媒を留去した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0
に調整し、30℃、5時間反応させシリル基を除去した。
アンモニア水で中和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
lPrep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水
溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5%CH3CN(30min, linear gra
dient)；40℃；10ml/min；254nm）にて精製し、24.2分
に溶出する分画を集めた。本化合物はHPLC(カラム（和
光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）； 0.1M TEAA, pH7；
2.5→12.5% CH3CN (20min, linear gradient)； 60℃；
1ml/min)で分析すると12.05分に溶出された。（710μg
(366nmol)）（λmax(H2O) = 258.9nm） （実施例２３）(H-K3-1-K1-K3-1-K1-OH)の合成（例示化
合物番号３−３８） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２３】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；5→60%CH3CN(30min, linear gradient)；40℃；10ml
/min；254nm）にて精製し、29.8分に溶出する分画を集
めた。溶媒を減圧下留去した後、８０％酢酸水を加え30
分放置しDMTr基を除去し、溶媒を留去した後、濃アンモ
ニア水−エタノール（４：１）混合物を加え、30分放置
した。溶媒を留去した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0
に調整し、30℃、5時間反応させシリル基を除去した。
アンモニア水で中和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
lPrep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水
溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5%CH3CN(30min, linear gra
dient)；40℃；10ml/min；254nm）にて精製し、23.7分
に溶出する分画を集めた。本化合物はHPLC(カラム（和
光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）； 0.1M TEAA, pH7；
2.5→12.5% CH3CN (20min, linear gradient)； 60℃；
1ml/min)で分析すると14.18分に溶出された。（678μg
(348nmol)）（λmax(H2O) = 258.8nm） （実施例２４）(H-K1-K3-1-K3-1-K1-OH)の合成（例示化
合物番号３−３９） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２４】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；5→60%CH3CN(30min, linear gradient)；40℃；10ml
/min；254nm）にて精製し、32.1分に溶出する分画を集
めた。溶媒を減圧下留去した後、８０％酢酸水を加え30
分放置しDMTr基を除去し、溶媒を留去した後、濃アンモ
ニア水−エタノール（４：１）混合物を加え、30分放置
した。溶媒を留去した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0
に調整し、30℃、5時間反応させシリル基を除去した。
アンモニア水で中和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
lPrep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水
溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5%CH3CN(30min, linear gra
dient)；40℃；10ml/min；254nm）にて精製し、23.0分
に溶出する分画を集めた。本化合物はHPLC(カラム（和
光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）； 0.1M TEAA, pH7；
2.5→12.5% CH3CN (20min, linear gradient)； 60℃；
1ml/min)で分析すると13.62分に溶出された。（248μg
(128nmol)）（λmax(H2O) = 259.3nm） （実施例２５）(H-K3-1-K3-1-K3-1-K1-OH)の合成（例示
化合物番号３−４０） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTr基をつけ
たまま合成した。
【０３２５】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；5→60%CH3CN(30min, linear gradient)；40℃；10ml
/min；254nm）にて精製し、27.4分に溶出する分画を集
めた。溶媒を減圧下留去した後、８０％酢酸水を加え30
分放置しDMTr基を除去し、溶媒を留去した後、濃アンモ
ニア水−エタノール（４：１）混合物を加え、30分放置
した。溶媒を留去した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0
に調整し、30℃、5時間反応させシリル基を除去した。
アンモニア水で中和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
lPrep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水
溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5%CH3CN(30min, linear gra
dient)；40℃；10ml/min；254nm）にて精製し、33.9分
に溶出する分画を集めた。本化合物はHPLC(カラム（和
光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）； 0.1M TEAA, pH7；
2.5→12.5% CH3CN (20min, linear gradient)； 60℃；
1ml/min)で分析すると16.58分に溶出された。（515μg
(265nmol)）（λmax(H2O) = 259.6nm） （実施例２６）(H-K3-1-K1-K1-OH)の合成（例示化合物
番号３−１） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２６】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%C
H3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）にて
精製し、33.3分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下
留去した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除
去し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；0.
1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5
%CH3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）に
て精製し、18.9分に溶出する分画を集めた。本化合物は
HPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）；
0.1M TEAA, pH7；2.5→10% CH3CN (20min, linear grad
ient)； 60℃；1ml/min)で分析すると10.20分に溶出さ
れた。（923μg (610nmol)）（λmax(H2O) = 258.7nm） （実施例２７）(H-K1-K3-1-K1-OH)の合成（例示化合物
番号３−２） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２７】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%C
H3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）にて
精製し、35.9分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下
留去した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除
去し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；0.
1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5
%CH3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）に
て精製し、17.8分に溶出する分画を集めた。本化合物は
HPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）；
0.1M TEAA, pH7；2.5→10% CH3CN (20min, linear grad
ient)； 60℃；1ml/min)で分析すると9.56分に溶出され
た。（750μg (496nmol)）（λmax(H2O) = 258.8nm） （実施例２８）(H-K1-K1-K3-1-OH)の合成（例示化合物
番号３−３） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、実施例１７のCPG担体を用いた。
【０３２８】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%C
H3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）にて
精製し、34.2分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下
留去した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除
去し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；0.
1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5
%CH3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）に
て精製し、21.1分に溶出する分画を集めた。本化合物は
HPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）；
0.1M TEAA, pH7；2.5→10% CH3CN (20min, linear grad
ient)； 60℃；1ml/min)で分析すると11.32分に溶出さ
れた。（1025μg (824nmol)）（λmax(H2O) = 258.7n
m） （実施例２９）(H-K3-1-K3-1-K1-OH)の合成（例示化合
物番号３−４） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。
【０３２９】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%C
H3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）にて
精製し、30.56分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧
下留去した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を
除去し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノー
ル（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去
した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、
5時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中
和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；2.5→1
7.5%CH3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）
にて精製し、22.1分に溶出する分画を集めた。本化合物
はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）；
0.1M TEAA, pH7；2.5→10% CH3CN (20min, linear gra
dient)； 60℃；1ml/min)で分析すると11.95分に溶出さ
れた。（1216μg (804nmol)）（λmax(H2O) = 259.8n
m） （実施例３０）(H-K3-1-K1-K3-1-OH)の合成（例示化合
物番号３−５） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、実施例１７のCPG担体を用いた。
【０３３０】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%C
H3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）にて
精製し、34.1分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下
留去した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除
去し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；0.
1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5
%CH3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）に
て精製し、20.3分に溶出する分画を集めた。本化合物は
HPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）；
0.1M TEAA, pH7；2.5→10% CH3CN (20min, linear grad
ient)； 60℃；1ml/min)で分析すると11.31分に溶出さ
れた。（1665μg (1101nmol)）（λmax(H2O) = 258.9n
m） （実施例３１）(H-K1-K3-1-K3-1-OH)の合成（例示化合
物番号３−６） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、実施例１７のCPG担体を用いた。
【０３３１】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%C
H3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）にて
精製し、35.4分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下
留去した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除
去し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；0.
1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5
%CH3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）に
て精製し、20.7分に溶出する分画を集めた。本化合物は
HPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）；
0.1M TEAA, pH7；2.5→10% CH3CN (20min, linear grad
ient)； 60℃；1ml/min)で分析すると11.16分に溶出さ
れた。（1132μg (748nmol)）（λmax(H2O) = 259.1n
m） （実施例３２）(H-K3-1-K3-1-K3-1-OH)の合成（例示化
合物番号３−７） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、実施例１７のCPG担体を用いた。
【０３３２】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；
0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；5→60%C
H3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）にて
精製し、30.7分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下
留去した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除
去し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（和光純薬Wakosil DNA(10.0×250mm)）；0.
1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；2.5→17.5
%CH3CN(30min, linear gradient)；60℃；2ml/min）に
て精製し、23.3分に溶出する分画を集めた。本化合物は
HPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150mm)）；
0.1M TEAA, pH7；2.5→10% CH3CN (20min, linear grad
ient)； 60℃；1ml/min)で分析すると13.14分に溶出さ
れた。（890μg (588nmol)）（λmax(H2O) = 259.4nm） （実施例３３）(H-K3-1-K1-K1-K3-1-OH)の合成（例示化
合物番号３−４１） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、実施例１７のCPG担体を用いた。
【０３３３】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；50%CH3CN(isocratic)；40℃；10ml/min）にて精製
し、12.3分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下留去
した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除去
し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×250
mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；
7→9.9%CH3CN(20min, linear gradient)；40℃；10ml/m
in）にて精製し、14.3分に溶出する分画を集めた。本化
合物はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150m
m)）； 0.1M TEAA, pH7；5→9% CH3CN (20min, linear
gradient)； 60℃；1ml/min)で分析すると10.41分に溶
出された。（1794μg (1002nmol)）（λmax(H2O) = 25
8.4nm） （実施例３４）(H-K1-K1-K3-1-K3-1-OH)の合成（例示化
合物番号３−４２） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、実施例１７のCPG担体を用いた。
【０３３４】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；60%CH3CN(isocratic)；40℃；10ml/min）にて精製
し、8.8分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下留去
した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除去
し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×250
mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；
7→9.9%CH3CN(20min, linear gradient)；40℃；10ml/m
in）にて精製し、14.9分に溶出する分画を集めた。本化
合物はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150m
m)）； 0.1M TEAA, pH7；5→9% CH3CN (20min, linear
gradient)； 60℃；1ml/min)で分析すると11.30分に溶
出された。（1843μg (1029nmol)）（λmax(H2O) = 25
8.5nm） （実施例３５）(H-K3-1-K1-K1-OP(O)(C2H4OH)OH)の合成
（例示化合物番号３−８） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、特開平７−８７９８２に実施例１２ｂとして記
載されているCPG担体を用いた。
【０３３５】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；52%CH3CN(isocratic)；40℃；10ml/min）にて精製
し、10.8分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下留去
した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除去
し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×250
mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；
7→9.9%CH3CN(20min, linear gradient)；40℃；10ml/m
in）にて精製し、12.0分に溶出する分画を集めた。本化
合物はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150m
m)）； 0.1M TEAA, pH7；5→9% CH3CN (20min, linear
gradient)； 60℃；1ml/min)で分析すると7.05分に溶出
された。（510μg (327nmol)）（λmax(H2O) = 259.0n
m） （実施例３６）(H-K1-K1-K3-1-OP(O)(C2H4OH)OH)の合成
（例示化合物番号３−９） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、DNA合成機上で用いた固相
担体は、特開平７−８７９８２に実施例１２ｂとして記
載されているCPG担体を用いた。
【０３３６】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；55%CH3CN(isocratic)；40℃；10ml/min）にて精製
し、11.9分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下留去
した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除去
し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×250
mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；
7→9.9%CH3CN(20min, linear gradient)；40℃；10ml/m
in）にて精製し、9.99分に溶出する分画を集めた。本化
合物はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150m
m)）； 0.1M TEAA, pH7；5→9% CH3CN (20min, linear
gradient)； 60℃；1ml/min)で分析すると5.34分に溶出
された。（834μg (535nmol)）（λmax(H2O) = 258.2n
m） （実施例３７）(H-K3-2-K1-K1-K1-OH)の合成（例示化合
物番号３−４７） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、修飾ヌクレオシドのホスホ
ロアミダイトとして実施例１６の化合物を用いた。
【０３３７】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；51%CH3CN(isocratic)；40℃；10ml/min）にて精製
し、11.3分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下留去
した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除去
し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×250
mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；
7→9.9%CH3CN(20min, linear gradient)；40℃；10ml/m
in）にて精製し、16.8分に溶出する分画を集めた。本化
合物はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150m
m)）； 0.1M TEAA, pH7；5→9% CH3CN (20min, linear
gradient)； 60℃；1ml/min)で分析すると12.15分に溶
出された。（1480μg (832nmol)）（λmax(H2O) = 258.
5nm） （実施例３８）(H-K1-K1- K3-2-K1-OH)の合成（例示化
合物番号３−４９） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、修飾ヌクレオシドのホスホ
ロアミダイトとして実施例１６の化合物を用いた。
【０３３８】濃アンモニア水−エタノール（４：１）混
合物で処理することによってオリゴマーを支持体から切
り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基と
アデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒を減圧
下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC
−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×2
50mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；56%CH3CN(isocratic)；40℃；10ml/min）にて精製
し、11.2分に溶出する分画を集めた。溶媒を減圧下留去
した後、８０％酢酸水を加え30分放置しDMTr基を除去
し、溶媒を留去した後、濃アンモニア水−エタノール
（４：１）混合物を加え、30分放置した。溶媒を留去し
た後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に調整し、30℃、5
時間反応させシリル基を除去した。アンモニア水で中和
し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ（島津製作所製LC−
VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS(20×250
mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；
7→9.9%CH3CN(20min, linear gradient)；40℃；10ml/m
in）にて精製し、14.7分に溶出する分画を集めた。本化
合物はHPLC(カラム（和光純薬Wakosil DNA(4.6×150m
m)）； 0.1M TEAA, pH7；5→9% CH3CN (20min, linear
gradient)； 60℃；1ml/min)で分析すると10.12分に溶
出された。（940μg (528nmol)）（λmax(H2O) = 258.9
nm） （実施例３９）実施例１１と同様の方法により、以下の
配列: ５’−ttttttttttnt−３’（配列表の配列番号 １） で示される配列を有し、塩基番号１１のアデノシンの糖
部分が3'-Ｏ,4'-Ｃ-プロピレンアデノシンであるオリゴ
ヌクレオチド類縁体（以下「オリゴヌクレオチド
（５）」とする。）を得た。（収量0.55μmol（ 55% yi
eld）） ただし、修飾ヌクレオシドのホスホロアミダ
イトとして実施例１６の化合物を用いた。得られたオリ
ゴヌクレオチド（２）の精製は、逆相HPLC（HPLC：島津
製作所製LC−VP；カラム： 和光純薬Wakosil DNA(10.0
×250mm；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH
7；10→21%CH3CN / 30min, linear gradient；60℃；2m
l/min）にて行い、19.1分に溶出する分画を集めた。本
化合物はHPLC(和光純薬WakosilDNA(4.6×150mm), 0.1M
TEAA, pH7, 7→25% CH3CN /20min, linear gradient, 6
0℃, 1ml/min)で分析すると12.40分に溶出された。（λ
max = 264nm） （実施例４０）(H-K3-2-K1-K3-2-OP(O)(C2H4OH)OH)の合
成（例示化合物番号３−７３） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基まで
はずした形で合成した。ただし、修飾アデノシンユニッ
トとして実施例16を用い、DNA合成機上で用いた固相担
体は、特開平７−８７９８２に実施例１２ｂとして記載
されているCPG担体を用いた。濃アンモニア水−エタノ
ール（４：１）混合物で処理することによってオリゴマ
ーを支持体から切り出すとともに、リン原子上の保護基
シアノエチル基とアデニン塩基上のベンゾイル基をはず
した。溶媒を減圧下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
l Prep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン
水溶液(TEAA), pH7；5→15%CH3CN(30min, linear gradi
ent)；40℃；10ml/min）にて精製し、22.8分に溶出する
分画を集めた。本化合物はHPLC(カラム（東ソー TSKgel
super ODS(4.6×50mm)）； 0.1MTEAA, pH7；7→15% CH
3CN (10min, linear gradient)； 60℃；1ml/min)で分
析すると12.9分に溶出された。（654μg (405nmol)）
（λmax(H2O) = 258nm） （実施例４１）(H-K2-K1-K3-2-OP(O)(C2H4OH)OH)の合成
（例示化合物番号３−７４） 実施例１９と同様の方法に従って、DNA合成機を用いて
目的の配列を有する２−５Ａ類縁体を5'−DMTｒ基をつ
けたまま合成した。ただし、修飾アデノシンユニットと
して実施例16を用い、DNA合成機上で用いた固相担体
は、特開平７−８７９８２に実施例１２ｂとして記載さ
れているCPG担体を用いた。また、5’−リン酸ユニット
としてChemical Phosphorylation Reagent IIを用いた
縮合後のヨウ素水による酸化に代えて、Beaucage試薬
（Aldrich社）1g/アセトニトリル溶液100ml溶液をボト
ル15に取り付け、5分間の処理を2回行うことによってチ
オリン酸とした。濃アンモニア水−エタノール（４：
１）混合物で処理することによってオリゴマーを支持体
から切り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチ
ル基とアデニン塩基上のベンゾイル基をはずした。溶媒
を減圧下留去し、残った残渣を逆相ＨＰＬＣ（島津製作
所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsil Prep-ODS
(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEA
A), pH7；53%CH3CN(isocratic)；40℃；10ml/min）にて
精製し、チオリン酸に由来するジアステレオマーの13.7
分と16.0分に溶出する２つの分画を集め、１つに合わせ
た。溶媒を減圧下留去した後、８０％酢酸水を加え30分
放置しDMTr基を除去し、溶媒を留去した後、濃アンモニ
ア水−エタノール（４：１）混合物を加え、30分放置し
た。溶媒を留去した後、塩酸水（2N）を加え、pH2．0に
調整し、30℃、5時間反応させシリル基を除去した。ア
ンモニア水で中和し溶媒を留去した後、逆相ＨＰＬＣ
（島津製作所製LC−VP；カラム（GLサイエンス Inertsi
l Prep-ODS(20×250mm)）；0.1M酢酸トリエチルアミン
水溶液(TEAA), pH7；5→11%CH3CN(30min, linear gradi
ent)；40℃；10ml/min）にて精製し、11.7分に溶出する
分画と21.6分に溶出する分画（目的化合物が5'-チオリ
ン酸部分でジスルフィド結合を形成することによりダイ
マー化した化合物）を集めた。ダイマー化合物は、1mM
DTT水溶液中で目的とするモノマー体（実施例41の化合
物）へと還元した。本化合物はHPLC(カラム（東ソー TS
Kgel super ODS(4.6×50mm)）； 0.1M TEAA, pH7；7→1
5% CH3CN (10min, linear gradient)； 60℃；1ml/min)
で分析すると10.1分に溶出された。（194μg (122nmo
l)）（λmax(H2O) = 258nm） （参考例１）3-Ｏ-ベンジル-4-ホルミル-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニル
シリル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペン
トフラノース 窒素気流下、−７８℃に冷却した無水ジクロロメタン
（１５０ml）に、塩化オキザリル（３．５３ml、４０．
５mmol）を加え、そこへ、無水ジクロロメタン（７５m
l）に溶解したジメチルスルホキシド（４．６２ml、６
４．８mmol）を滴下した。２０分攪拌後、反応試薬液に
無水ジクロロメタン（７５ml）に溶解した3-Ｏ-ベンジ
ル-4-C-ヒドロキシメチル-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシ
リル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペント
フラノース（特開平10-304889に記載の方法に従って製
造することができる）（７．４０ｇ、１３．５０mmol）
を滴下し、さらに、３０分攪拌した。さらにまた、トリ
エチルアミン（１６．７ml、１２０mmol）を加え、ゆっ
くり室温に戻した。反応液に水（約２００ml）を加え、
分液し、有機層を水、次いで飽和食塩水で洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去後、シ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン：
酢酸エチル＝５：１）、無色油状物質（６．８２ｇ、１
２．４９mmol，収率９３％）を得た。 （参考例２）3-Ｏ-ベンジル-4-ビニル-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシ
リル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペント
フラノース 窒素気流下、参考例１で得られた3-Ｏ-ベンジル-4-ホル
ミル-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシリル-1,2-Ｏ-イソプ
ロピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース（６．８
２ｇ、１２．４９mmol）を無水テトラヒドロフラン（２
００ml）に溶解し、０℃に冷却した。そこへ、０．５Ｍ
−テーベ試薬／トルエン溶液（２８ml、１４．０mmol）
を滴下後、０℃で１時間攪拌した。
【０３３９】反応終了後、ジエチルエーテル（２００m
l）を加えた後、０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（３
０ｍ）をゆっくり加えた。得られた析出物をセライトを
用いて濾過し、濾取物をジエチルエーテルで洗い、分液
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下、溶媒を留去後、得られた残渣をアルミナ（塩基性）
クロマトグラフィーにより粗精製し（酢酸エチル）、さ
らに、得られた粗精製物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーによりさらに精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝７：
１）、無色油状物質（１．６８ｇ、３．０９mmol，収率
２５％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 0.97(9H, s), 1.32(3H, s),
1.54(1H, s), 3.49(1H,d, 11Hz), 3.53(1H, d, 11Hz),
4.45(1H, d, 4.9Hz), 4.64(1H, t, 3.8Hz), 4.65(1H,
d, 12Hz), 4.82(1H, d, 12Hz), 5.18(1H, dd, 1.9 and
11Hz), 5.44(1H,dd, 1.9 and 18Hz), 5.80(1H, d, 3.8H
z), 6.16(1H, dd, 11 and 18Hz), 7.2-7.7(15H, m). FABMS(mNBA)：545[M+H]+ （参考例３）3-Ｏ-ベンジル-4-ヒドロキシエチル-5-Ｏ-ｔ-ブチルジ
フェニルシリル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリ
スロペントフラノース 窒素気流下、参考例２で得られた3-Ｏ-ベンジル-4-ビニ
ル-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシリル-1,2-Ｏ-イソプロ
ピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース（１．６８
ｇ、３．０９mmol）を無水テトラヒドロフラン（５０m
l）に溶解し、そこへ、０．５Ｍの９−ＢＢＮ（９−ボ
ラビシクロ［３．３．１］ノナン）／テトラヒドロフラ
ン溶液（１０ml、５mmol）を滴下し、室温で一晩攪拌し
た。
【０３４０】反応液に泡が出なくなるまで水を加えた
後、３Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５ml）を加えた。さ
らに、３０％過酸化水素水（１０ml）を、反応液が３０
乃至５０℃になるようにゆっくり加え、その後３０分攪
拌した。
【０３４１】反応終了後、反応混合物に、飽和食塩水及
び酢酸エチルを加え、分液し、有機層を中性リン酸バッ
ファー、次いで、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去後、得られた残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝5：1）、無色油状物質（1154ｍｇ、2.
05mmol，収率66％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 0.99(9H, s), 1.36(3H, s),
1.68(3H, s), 1.70(1H,ddd, 3.3, 6.2 and 20Hz), 2.4
5(1H, ddd, 4.0, 8.6 and 20Hz), 3.42(1H, d, 11Hz),
3.68(2H, m), 3.74(1H, d, 11Hz), 4.29(1H, d, 5.2H
z), 4.56(1H, d, 12Hz), 4.69(1H, dd, 4.0 and 5.2H
z), 4.81(1H, d, 12Hz), 5.80(1H, d, 4.0), 7.3-7.7(1
5H, m). FABMS(mNBA)：563[M+H]+ （参考例４）3-Ｏ-ベンジル-4-(ｐ-トルエンスルホニルオキシエチ
ル)-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシリル-1,2-Ｏ-イソプロ
ピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース 窒素気流下、参考例３で得られた3-Ｏ-ベンジル-4-ヒド
ロキシエチル-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシリル-1,2-Ｏ
-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース
（９８０ｍｇ 、１．７４mmol）を予めトルエンで共沸
脱水し、これを無水ジクロロメタン（３０ml）に溶解
し、０℃に冷却した。そこへ、トリエチルアミン（１．
２５ml、９mmol）、ジメチルアミノピリジン（２０ｍ
ｇ、０．１７mmol）、塩化ｐ−トルエンスルホニル（５
７２ｍｇ、３mmol）を加え、室温で一晩攪拌した。
【０３４２】反応終了後、反応液に炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液を加え、分液し、有機層を、炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。
【０３４３】減圧下、溶媒を留去後、得られた残渣を、
シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝９：１、その後７：１）、無色油状物
質（９５３ｍｇ、１．３３mmol，７６％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 0.95(9H, s), 1.30(3H, s),
1.46(3H, s), 1.89(1H,ddd, 6.9, 9 and 15Hz), 2.38
(3H, s), 2.52(1H, ddd, 5.4, 9 and 15Hz), 3.35(1H,
d, 11Hz), 3.58(1H, d, 11Hz), 4.14(1H, dt, 6.9 and
9Hz), 4.19(1H, d,5.2Hz), 4.27(1H, dt, 5.4 and 9H
z), 4.49(1H, d, 12Hz), 4.61(1H, dd, 4.0and 5.2),
4.74(1H, d, 12Hz), 5.71(1H, d, 4.0Hz), 7.2-7.7(19
H, m). FABMS(mNBA)：717[M+H]+ （参考例５）1,2-ジ-Ｏ-アセチル-3-Ｏ-ベンジル-4-(ｐ-トルエンス
ルホニルオキシエチル) -5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシ
リル-α-Ｄ-エリスロペントフラノース 参考例４で得られた3-Ｏ-ベンジル-4-(ｐ-トルエンスル
ホニルオキシエチル)-5-Ｏ-ｔ-ブチルジフェニルシリル
-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラ
ノース９３３ｍｇ （１．３０mmol）を酢酸１０mlに溶
解し、無水酢酸１．１３ml （１２mmol）、濃硫酸０．
０１mlを加え、室温で１時間攪拌した。反応液を氷冷水
５０mlにあけ、さらに３０分攪拌した。飽和食塩水、酢
酸エチルを加え、有機層を中性リン酸バッファー、炭酸
水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩水で洗い、硫酸マ
グネシウム無水物で乾燥した。溶媒を留去後、得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し（ヘ
キサン：酢酸エチル＝３：１）、無色油状物質 ６１１
ｍｇ（０．８０３mmol，収率６２％, α:β= 1 : 14）
を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) (β体): 11.06(9H, s), 1.79
(3H, s), 2.06(3H, s), 2.15(1H, m), 2.33(1H, ddd,
5, 10 and 15Hz), 2.43(3H, s), 3.52(1H, d, 10Hz),
3.55(1H, d, 10Hz), 4.22(1H, dt, 6.0 and 10Hz), 4.2
7(1H, d, 5.1Hz), 4.34(1H, dt, 5.3 and 10Hz), 4.51
(1H, d, 11Hz), 4.57(1H, d, 11Hz), 5.33(1H,d, 5.1H
z), 6.08(1H, s), 7.1-7.7(19H, m). FABMS(mNBA)：761[M+H]+ （参考例６）2'-Ｏ-アセチル-3'-Ｏ-ベンジル-4'-ｐ-トルエンスルホ
ニルオキシエチル-5'-O-ｔ-ブチルジフェニルシリル-５
-メチルウリジン 参考例５で得られた1,2-ジ-Ｏ-アセチル-3-Ｏ-ベンジル
-4-(ｐ-トルエンスルホニルオキシエチル) -5-Ｏ-ｔ-ブ
チルジフェニルシリル-α-Ｄ-エリスロペントフラノー
ス（２６８ｍｇ、０．３５２mmol）を、無水１，２−ジ
クロロエタン（１０ml）に溶解した。そこへ、前記の文
献（H.Vorbrueggen,K.Krolikiewicz andB,Bennua,Chem.
Ber.,114,1234-1255(1981)）に従って調製したトリメチ
ルシリル化チミン（１９０ｍｇ、約０．７mmol）を加
え、０℃に冷却し、さらに、トリフルオロメタンスルホ
ン酸トリメチルシリル（０．１３ml、０．７mmol）を加
え、その後、５０℃で３時間撹拌した。反応液を、室温
に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（約１０ml）を
加えた。
【０３４４】反応終了後、反応混合物に塩化メチレン
（約２０ml）を加えて、攪拌し、析出した白色不溶物を
セライトを用いて濾過した。得られた濾液から有機層を
分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン：酢
酸エチル ＝ １．５：１、その後１：１）、無色アモ
ルファス状物質 ２４１ｍｇ（０．２９１mmol，収率８
３％）を得た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.08(9H, s), 1.57(3H, s),
2.07(3H, s), 2.39(3H,s), 3.55(1H, d, 11Hz), 3.79
(1H, d, 11Hz), 4.12(2H, m), 4.36(1H, d, 6Hz),4.39
(1H, d, 11Hz), 4.55(1H, d, 11Hz), 5.38(1H, t, 6H
z), 6.01(1H, d, 6Hz), 7.2-7.6(19H, m), 7.96(1H,
s). FABMS(mNBA)：827[M+H]+ （参考例７）2'-Ｏ-アセチル-3'-Ｏ-ベンジル-4'-ｐ-トルエンスルホ
ニルオキシエチル-5'-O-t-ブチルジフェニルシリル-6-
Ｎ-ベンゾイルアデノシン 参考例５で得られた1,2-ジ-Ｏ-アセチル-3-Ｏ-ベンジル
-4-(ｐ-トルエンスルホニルオキシエチル) -5-Ｏ-ｔ-ブ
チルジフェニルシリル-α-Ｄ-エリスロペントフラノー
ス（３４０ｍｇ、０．４４７mmol）を、無水１，２−ジ
クロロエタン（１０ml）に溶解した。そこへ、前記の文
献（H.Vorbrueggen,K.Krolikiewicz andB,Bennua,Chem.
Ber.,114,1234-1255(1981)）に従って調製したトリメチ
ルシリル化ベンゾイルアデニン（３０７ｍｇ、約０．８
mmol）を加え、０℃に冷却し、さらに、トリフルオロメ
タンスルホン酸トリメチルシリル（０．１４５ml、０．
８mmol）を加え、その後、２時間加熱還流した。反応液
を、室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（約１
０ml）を加えた。反応終了後、反応混合物に塩化メチレ
ン（約２０ml）を加えて、攪拌し、析出した白色不溶物
をセライトを用いて濾過した。得られた濾液から有機層
を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製し（ジクロロメ
タン：メタノール ＝ ５０：１）、無色アモルファス
状物質 １５５ｍｇ（０．１６５mmol，収率３４％）を
得た。 1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.01(9H, s), 2.04(3H, s),
2.15(1H, m), 2.38(3H,s), 2.40(1H, m), 3.53(1H, d,
11Hz), 3.82(1H, d, 11Hz), 4.21(1H, m), 4.25(1H,
m), 4.53(1H, d, 11Hz), 4.58(1H, d, 11Hz), 4.70(1H,
d, 5.8Hz), 5.97(1H, t, 5.4Hz), 6.10(1H, d, 5.0H
z), 7.2-8.0(24H, m), 8.04(1H, s), 8.58(1H, s), 8.9
5(1H, s). FABMS(mNBA)：940[M+H]+ （参考例８）3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ヒドロキシメチル‐1,2-Ｏ
-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース ６−（４‐メトキシ−ベンジルオキシ）−２，２−ジメ
チル−テトラヒドロ−フロ[２，３−ｄ]−１，３−ジオ
キソール−５−カルバルデヒド（6-(4-methoxy-benzylo
xy)-2,2-dimethyl-tetrahydro-furo[2,3-d][1,3]dioxol
e-5-carbaldehyde）（３４５０ｍｇ、１１．１９mmol）
（Wood, William W.; Watson, Graham M. J.Chem.Soc.
Chem.Commun. 21, 1986, 1599-1600）を水５０ml/テト
ラヒドロフラン５０ml混合液に溶かし、０℃に冷却し
た。これにホルムアルデヒド（３７％ ｉｎ Ｈ2Ｏ）
６．５mlおよび１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液３０mlを加
え、室温で一晩撹拌した。反応終了後、反応液にジクロ
ロメタン（約３００ml）を加え、分液した。有機層を
０．１Ｎ塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（約２０
０ml）、飽和食塩水（約２００ml）で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、得られ
た残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製
し（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）、無色固体の目的
物（３５１０ｍｇ、１０．３２mmol、収率９２％）を得
た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.34(3H, s), 1.64(3H, s),
1.84(1H, dd, 3.7 and9.5Hz), 2.38(1H, t, 7.0Hz),
3.55(1H, dd, 9.5 and 12Hz), 3.77(1H, dd, 3.7and 12
Hz), 3.82(3H, s), 3.90(2H, m), 4.20(1H, d, 5.1Hz),
4.50(11Hz), 4.63(1H, dd, 3.7 and 5.1Hz), 4.74(1H,
d, 11Hz), 5.76(1H, 3.7Hz), 6.90(2H, m), 7.30(2H,
m). FABMS(mNBA)：341[M+H]+. （参考例９）3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ヒドロキシメチル-5-Ｏ-ベ
ンジル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペン
トフラノース 窒素気流下、3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ヒドロキシメ
チル‐1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペント
フラノース（３０００ｍｇ、８．８２mmol）を無水ジメ
チルホルムアミド４５mlに溶かし、０℃に冷却した。水
素化ナトリウム（６０％ in mineral oil）３５０ｍｇ
を加え、２０分間、０℃で撹拌した後、ベンジルブロミ
ド（１．０５ml、８．８２mmol）をゆっくり滴下し、そ
の後室温で一晩撹拌した。反応終了後、反応液を氷水に
あけてから、酢酸エチル（約１００ml×３）で抽出し
た。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（約２００
ml）、飽和食塩水（約２００ml）で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、得られた
残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製し
（ヘキサン：酢酸エチル＝２．５：１）、無色油状の目
的物（２．１２ｇ、４．９３mmol、収率５６％）を得
た。1 H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.34(3H, s), 1.63(3H, s),
3.52(1H, d, 11Hz), 3.59(1H, d, 11Hz), 3.80(3H,
s), 3.82(1H, d, 12Hz), 3.89(1H, d, 12Hz), 4.25(1H,
d, 5.1Hz), 4.44(1H, d, 12Hz), 4.45(1H, d, 12Hz),
4.54(1H, d, 12Hz),4.61(1H, dd, 3.7 and 5.1Hz), 4.7
1(1H, d, 12Hz), 5.77(1H, d, 3.7Hz), 6.85-6.89(2H,
m), 7.23-7.36(7H, m). FABMS(mNBA)：431[M+H]+. （参考例１０）3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ホルミル-5-Ｏ-ベンジル-
1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノ
ース 3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ヒドロキシメチル-5-Ｏ-ベ
ンジル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペン
トフラノース（2.07g、4.81mmol）を用いて、参考例１
と同様の方法により無色油状の目的物（1.73ｇ、4.06mm
ol、収率85％）を得た。
【０３４５】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.34(3H, s),
1.60(3H, s), 3.60(1H, d, 11Hz),3.65(1H, d, 11Hz),
3.80(3H, s), 4.34(1H, d, 4.4Hz), 4.46(1H, d, 12H
z), 4.50-4.58(3H, m), 4.64(1H, d, 12Hz), 5.82(1H,
d, 3.3Hz), 6.85-6.88(2H, m), 7.22-7.35(7H, m), 9.9
0(1H, s). FABMS(mNBA)：429[M+H]+. （参考例１１）3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ビニル-5-Ｏ-ベンジル-1,2
-Ｏ-イソプロピリデン- α-Ｄ-エリスロペントフラノー
ス 水素化ナトリウム（６０％ in mineral oil）８５ｍｇ
を無水ジメチルホルスルホキシド２mlに懸濁し、８０℃
で４５分間撹拌した。室温に戻したあとここに、メチル
トリフェニルホスホニウムブロミド（７５７ｍｇ、２．
１２mmol）を溶かした無水ジメチルホルスルホキシド溶
液３mlを滴下し、室温で１０分間撹拌した。さらに3-Ｏ
-p-メトキシベンジル-4-ホルミル-5-Ｏ-ベンジル-1,2-
Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース
（７５８ｍｇ、１．７７mmol）を溶かした無水ジメチル
ホルスルホキシド溶液３mlを滴下し、室温で１時間撹拌
した。反応終了後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチル
（約５０ml×３）で抽出後、有機層を水（約１００m
l）、飽和食塩水（約１００ml）で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、得られた
残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製し
（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）、無色油状の目的物
（４５５ｍｇ、１．０７mmol、収率６０％）を得た。
【０３４６】1H-NMR (400MHz, CDCl3) :1.28(3H, s),
1.52(3H, s), 3.28(1H, d, 11Hz), 3.33(1H, d, 11Hz),
3.79(3H, s), 4.23(1H, d, 5.1Hz), 4.40(1H, d, 12H
z), 4.50-4.55(3H, m), 4.69(1H, d, 12Hz), 5.24(1H,
dd, 2.0 and 12Hz), 5.51(1H,dd, 2.0 and 17Hz), 5.75
(1H, d, 3.7Hz), 6.18(1H, dd, 12 and 17Hz), 6.84-6.
88(2H, m), 7.21-7.35(7H, m). FABMS(mNBA)：449[M+Na]+ , 365[M+K]+. （参考例１２）3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ヒドロキシエチル-5-Ｏ-ベ
ンジル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペン
トフラノース 3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ビニル-5-Ｏ-ベンジル-1,2
-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノー
ス（４８５ｍｇ、１．１４mmol）を用いて、参考例３と
同様の方法により無色油状の目的物（３２３ｍｇ、０．
７２７mmol、収率６４％）を得た。
【０３４７】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.33(3H, s),
1.66(3H, s), 1.77(1H, 3.7, 6.6 and 15Hz), 2.48(1H,
dq, 4.4, and 15Hz), 3.28(1H, d, 11Hz), 3.53(1H,
d, 11Hz), 3.74(1H, m), 3.80(3H, s), 3.83(1H, m),
4.11(1H, d, 5.1Hz), 4.43(1H,d, 12Hz), 4.48(1H, d,
12Hz), 4.52(1H, d, 12Hz), 4.62(1H, dd, 3.7 and 5.1
Hz), 4.69(1H, d, 12Hz), 5.76(1H, d, 3.7Hz), 6.86(2
H, m), 7.22-7.36(7H, m). FABMS(mNBA)：445[M+H]+. （参考例１３）4-ヒドロキシエチル-5-Ｏ-ベンジル-1,2-Ｏ-イソプロピ
リデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース 3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ヒドロキシエチル-5-Ｏ-ベ
ンジル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリスロペン
トフラノース（１３．５ｇ、３０．３６mmol）を１０％
含水ジクロロメタン溶液２００mlに溶かし、そこに２，
３‐ジクロロ-５，６‐ジシアノ-１，４‐ベンゾキノン
（９５％）（８．７ｇ、３６．４３mmol）を加え、室温
で４時間撹拌した。反応終了後、反応液をジクロロメタ
ン（約３００ml）で抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液（約３００ml）、飽和食塩水（約３００m
l）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧下濃縮し、得られた残渣を、シリカゲルクロマト
グラフィーを用いて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝
１：２）、無色油状の目的物（７．９ｇ、２４．３８mm
ol、収率８０％）を得た。
【０３４８】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.38(3H, s),
1.62(3H, s), 1.86(1H, dq, 3.7 and 15Hz), 2.19(1H,
ddd, 4.4, 8.0 and 15Hz), 3.46(1H, d, 10Hz), 3.50(1
H, d, 10Hz), 3.74(1H, dq, 3.7 and 12Hz), 3.85(1H,
dq, 3.7, 12Hz), 4.25(1H, d, 6.6Hz), 4.51(1H, d, 12
Hz), 4.57(1H, d, 12Hz), 4.72(1H, dd, 4.4 and 6.6H
z), 5.88(1H, d, 4.4Hz), 7.2-7.4(5H, m). FABMS(mNBA)：325[M+H]+. （参考例１４）６ａ−ベンジルオキシメチル−２，２−ジメチル−ヘキ
サヒドロ−フロ[２’，３’：４，５]フロ[２，３−ｄ]
−1,3−ジオキソール 4-ヒドロキシエチル-5-Ｏ-ベンジル-1,2-Ｏ-イソプロピ
リデン-α-Ｄ-エリスロペントフラノース（７．９ｇ、
２４．３８mmol）を無水ピリジン２００mlに溶かし、ｐ
‐トルエンスルホン酸クロリド（５．７２ｇ、３０mmo
l）を加え、室温で一晩撹拌した。反応終了後、ピリジ
ンを留去し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（約１００
ml）を加え、酢酸エチル（約２００ml×２）で抽出し
た。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（約１００
ml）、飽和食塩水（約１００ml）で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、得られた
残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製し
（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）、白色固体の目的物
（６．９３ｇ、２２．６４mmol、収率９３％）を得た。
【０３４９】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.37(3H, s),
1.63(3H, s), 1.82(1H, ddd, 8.0,10 and 13Hz), 2.11
(1H, ddd, 3.0, 6.5 and 13Hz), 3.41(1H, d, 10Hz),
3.70(1H, d, 10Hz), 4.04(1H, dt, 2.2 and 8.1Hz), 4.
20(1H, ddd, 6.3, 8.0 and 10Hz), 4.49(1H, d, 5.9H
z), 4.52(1H, d, 12Hz), 4.60(1H, d, 12Hz), 4.62(1H,
dd, 3.7 and 5.9Hz), 5.92(1H, d, 3.7Hz), 7.2-7.4(5
H, m). FABMS(mNBA)：307[M+H]+. （参考例１５）２，３−ジアセトキシ−６ａ−ベンジルオキシメチル−
ヘキサヒドロ−フロ[３，２‐ｄ]フラン 参考例１４で得られた６ａ−ベンジルオキシメチル−
２，２−ジメチル−ヘキサヒドロ−フロ[２’，３’：
４，５]フロ[２，３−ｄ]−1,3−ジオキソール（６．８
ｇ、２２．２２mmol）を用いて、参考例５と同様の方法
により無色油状の目的物（７．０３ｇ、２０．１mmol、
収率９０％）（α：β＝約３：４）を得た。
【０３５０】1H-NMR (400MHz, CDCl3) :（α体）2.03(1
H, dt, 9.0 and 13Hz), 2.12(1H, m), 2.12(3H, s), 2.
15(3H, s), 3.50(1H, d, 10Hz), 3.67(1H, d, 10Hz),
4.01(1H, dt, 3.2 and 8.3Hz), 4.25(1H, ddd, 6.4, 8.
4 and 9.6Hz), 4.51(1H, d, 5.3Hz), 4.52(1H, d, 12H
z), 4.62(1H, d, 12Hz), 5.12(1H, t, 5.3Hz), 6.46(1
H, d, 5.3Hz), 7.2-7.4(5H, m). （β体）2.01(3H,
s), 2.06(1H, ddd, 8.0, 10and 13Hz), 2.13(1H, dq,
2.8 and 13Hz), 2.14(3H, s), 3.61(1H, d, 10Hz), 3.6
5(1H, d, 10Hz), 3.92(1H, ddd, 5.9, 8.5 and 10Hz),
4.01(1H, dt, 2.7 and8.5Hz), 4.58(1H, d, 12Hz), 4.6
0(1H, d, 5.7Hz), 4.62(1H, d, 12Hz), 5.17(1H, dd,
3.2 and 5.7Hz), 6.24(1H, d, 3.2Hz), 7.2-7.4(5H,
m). FABMS(mNBA)：349[M-H]+. （参考例１６）２，３−ジアセトキシ−６ａ−アセトキシメチル−ヘキ
サヒドロ−フロ[３，２‐ｄ]フラン 参考例１５で得られた化合物（６．９３ｇ、１９．８mm
ol）を酢酸エチル１００mlに溶かし、パラジウム−活性
炭（１５０ｍｇ）を加え、常圧水素下、室温で１時間撹
拌した。反応終了後、パラジウム−活性炭をろ過し、溶
媒を留去した。残渣を無水ピリジン８０mlに溶かし、無
水酢酸１０mlを加え、室温で３０分間撹拌した。反応終
了後、溶媒を留去し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
（約１００ml）を加え、酢酸エチル（約１００ml）で抽
出した。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（約１
００ml）、飽和食塩水（約１００ml）で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、得ら
れた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精
製し（ヘキサン：酢酸エチル＝１．５：１）、白色固体
の目的物（α：β＝約１：１）（４．１３ｇ、１３．６
７mmol、収率６９％）を得た。
【０３５１】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : α体）2.08(1
H, m), 2.11(3H, s), 2.13(3H, s),2.16 (3H, s), 2.21
(1H, dq, 2.9 and 13Hz), 4.05(1H, dt, 2.9 and 8.0H
z), 4.10(1H, d, 12Hz), 4.29(1H, ddd, 6.6, 8.0 and
10Hz), 4.36(1H, d, 12Hz), 4.49(1H, d, 5.1Hz), 5.09
(1H, t, 5.1Hz), 6.45(1H, d, 5.1Hz). （β体）2.01
(1H, ddd, 8.0, 10 and 13Hz), 2.10(3H, s), 2.12(3H,
s), 2.15(3H, s), 2.19(1H, ddd, 2.2, 5.9 and 13H
z), 3.90(1H, ddd, 5.9, 8.8 and 10Hz), 4.04(1H,dt,
2.2 and 8.0), 4.25(1H, d, 12Hz), 4.35(1H, d, 12H
z), 4.60(1H, d, 5.8Hz), 5.15(1H, dd, 2.9 and 5.8H
z), 6.27(1H, d, 2.9Hz). FABMS(mNBA)：303[M+H]+ （参考例１７）3-[6-ベンジルオキシ-5-(tert-ブチルジフェニルシラニ
ルオキシメチル)-2,2-ジメチルテトラヒドロ-フロ[2,3-
d][1,3]ジオキソール-5-イル]-アクリル酸エチルエステ
ル 窒素気流下、ジエチルホスホノ酢酸エチル（１１．５ｍ
ｌ、５７．４mmol）を無水テトラヒドロフラン２００ml
に溶かし、そこに水素化ナトリウム（６０％ミネラルオ
イル懸濁液）（２．３ｇ、５７．４ｍｍｏｌ）を加え、
室温で１０分撹拌後、無水テトラヒドロフラン（２００
ｍｌ）に溶かした3-Ｏ-p-メトキシベンジル-4-ホルミル
-5-Ｏ-ベンジル-1,2-Ｏ-イソプロピリデン-α-Ｄ-エリ
スロペントフラノース（２６．１ｇ、４７．８mmol）
（特開2000-297097に記載の方法に従って製造すること
ができる）を滴下した後、室温で３０分撹拌した。反応
終了後、反応液に水（約１００ｍｌ）を加え、酢酸エチ
ル（約４００ｍｌ）で抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液（約２００ml）、飽和食塩水（約２００
ml）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶
媒を減圧下留去し、得られた残渣を、シリカゲルクロマ
トグラフィーを用いて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝
７：１）、無色油状の目的物（２５．４ｇ、４１．２mm
ol、収率８６％）を得た。
【０３５２】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.04(9H, s),
1.30(3H, t, 7.3Hz), 1.45(3H, s),1.62(3H, s), 3.54
(1H, d, 10Hz), 3,58(1H, d, 10Hz), 4.2(2H, m), 4.39
(1H,d, 6.3Hz), 4.59(1H, d, 10Hz), 4.58(1H, dd, 4.4
and 6.3Hz), 4.77(1H, d, 10Hz), 5.90(1H, d, 4.4H
z), 6.24(1H, d, 16Hz), 7.3-7.7(16H, m). FABMS(mNBA)：639[M+Na]+ （参考例１８）3-[5-(tert-ブチルジフェニルシラニルオキシメチル)-6
-ヒドロキシ-2,2-ジメチルテトラヒドロ-フロ[2,3-d]
[1,3]ジオキソール-5-イル]-プロピオン酸エチルエステ
ル 参考例１７で得られた3-[6-ベンジルオキシ-5-(tert-ブ
チルジフェニルシラニルオキシメチル)-2,2-ジメチルテ
トラヒドロ-フロ[2,3-d][1,3]ジオキソール-5-イル]-ア
クリル酸エチルエステル（１８．０ｇ、２９．２ｍｍｏ
ｌ）を酢酸エチル（８０ｍｌ）に溶かし、さらに２０％
水酸化パラジウム-炭素（５ｇ）を加え、水素下（4MP
a）、１０時間撹拌し接触還元を行った。触媒を濾過
し、濾液の溶媒を減圧下留去後、得られた残渣を、シリ
カゲルクロマトグラフィーにより精製し（ヘキサン：酢
酸エチル＝５：１）、無色油状の目的物（１１．０ｇ、
２０．８mmol、収率７１％）を得た。
【０３５３】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.04(9H, s),
1.20(3H, t, 7.3Hz), 1.38(3H, s),1.61(3H, s), 1.85
(1H, m), 2.22(2H, m), 2.48(1H, m), 2.68(1H, d, 8.0
Hz),3.50(1H, d, 10Hz), 3,58(1H, d, 10Hz), 4.07(2H,
q, 7.3Hz), 4.39(1H, dd, 6.3 and 8.0Hz), 4.73(1H,
dd, 4.4 and 6.3Hz), 5.90(1H, d, 4.4Hz), 7.3-7.7(10
H, m). FABMS(mNBA)：527[M-H]+, 551[M+Na]+ （参考例１９）3-[5-(tert-ブチルジフェニルシラニルオキシメチル)-5
-(3-ヒドロキシ-プロピレン)-2,2-ジメチルテトラヒド
ロ-フロ[2,3-d][1,3]ジオキソール-6-オール 窒素気流下、参考例１８で得られた3-[5-(tert-ブチル
ジフェニルシラニルオキシメチル)-6-ヒドロキシ-2,2-
ジメチルテトラヒドロ-フロ[2,3-d][1,3]ジオキソール-
5-イル]-プロピオン酸エチルエステル（８．８ｇ、１
６．６ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（２００ｍ
ｌ）に溶かし、水素化トリ-sec-ブチルホウ素リチウム
−テトラヒドロフラン溶液（１Ｍ）を８０ｍｌ（８０ｍ
ｍｏｌ）加え、室温で３０分撹拌した。反応終了後、酢
酸水溶液を気泡が出なくなるまで加え、その後酢酸エチ
ル（約２００ｍｌ）を加えた。飽和食塩水（約２００ｍ
ｌ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶
媒を減圧下留去し、得られた残渣を、シリカゲルクロマ
トグラフィーを用いて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１）、無色油状の目的物（７．３ｇ、１５．０mmo
l、収率９０％）を得た。
【０３５４】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.05(9H, s),
1.39(3H, s), 1.52(1H, m), 1.61(3H, s), 1.70(1H,
m), 1.88(1H, m), 1.95(1H, m), 2.70(1H, d, 8.0Hz),
3.56(1H, d, 11Hz), 3.58(2H, m), 3.66(1H, d, 11Hz),
4.42(1H, dd, 6.6 and 8.0Hz), 4.77(1H, dd, 4.4 and
6.6Hz), 5.93(1H, d, 4.4Hz), 7.3-7.7(10H, m). FAB
MS(mNBA)：487[M+H]+, 509[M+Na]+ （参考例２０）3-[5-(tert-ブチルジフェニルシラニルオキシメチル)-6
-ヒドロキシ-2,2-ジメチルテトラヒドロ-フロ[2,3-d]
[1,3]ジオキソール-5-イル]-プロピレンp-トルエンスル
ホン酸エステル 窒素気流下、参考例１９で得られた3-[5-(tert-ブチル
ジフェニルシラニルオキシメチル)-5-(3-ヒドロキシプ
ロピレン)-2,2-ジメチルテトラヒドロ-フロ[2,3-d][1,
3]ジオキソール-6-オール（７．２ｇ、１４．９ｍｍｏ
ｌ）を無水ジクロロメタン（２００ｍｌ）に溶かし、ト
リエチルアミン（５．０ｍｌ、３６ｍｍｏｌ）、塩化p-
トルエンスルホニル（３．４３ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）
および4-ジメチルアミノピリジン（１００ｍｇ、０．８
１ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応終了
後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（約２００
ｍｌ）、飽和食塩水（約２００ｍｌ）で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧下留去し、得
られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて
精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）、無色油状の
目的物（８．９ｇ、１３．９mmol、収率９３％）を得
た。
【０３５５】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.03(9H, s),
1.37(3H, s), 1.53(3H, s), 1.76(2H, m), 2.42(3H,
s), 2.58(1H, d, 8.0Hz), 3.46(1H, d, 11Hz), 3.53(1
H, d, 11Hz), 3.97(2H, m), 4.33(1H, dd, 6.4 and 8.0
Hz), 4.71(1H, dd, 4.4 and 6.4Hz), 5.87(1H, d, 4.4H
z), 7.3-7.8(14H, m). FABMS(mNBA)：663[M+Na]+ （参考例２１）tert-ブチル-(2,2-ジメチル-テトラヒドロ-1,3,4,8-テ
トラオキサ-シクロペンタ[α]インデン-7a-イルメトキ
シ)-ジフェニル-シラン 窒素気流下、参考例２０で得られた3-[5-(tert-ブチル-
ジフェニル-シラニルオキシメチル)-6-ヒドロキシ-2,2-
ジメチル-テトラヒドロ-フロ[2,3-d][1,3]ジオキソール
-5-イル]-プロピレンp-トルエンスルホン酸エステルを
無水テトラヒドロフラン６０ｍｌに溶かし、０℃に冷却
した。そこにリチウムヘキサメチレンジシラザン-テト
ラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）を１７ｍｌ（１７ｍｍ
ｏｌ）滴下し、室温で３０分撹拌した。反応終了後、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液（約１００ｍｌ）を加え、
酢酸エチル（１００ｍｌ）で抽出した。飽和食塩水（約
１００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せたあと、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を、シリ
カゲルクロマトグラフィーを用いて精製し（ヘキサン：
酢酸エチル＝７：１）、無色油状の目的物（５．８ｇ、
１２．４mmol、収率８９％）を得た。
【０３５６】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : 1.05(9H, s),
1.38(1H, s), 1.42(1H, m), 1.64(1H, s), 1.73(2H,
m), 2.01(1H, m), 3.57(3H, m), 4.12(1H, m), 4.15(1
H, d, 5.9Hz), 4.90(1H, dd, 4.4 and 5.9Hz), 5.87(1
H, d, 4.4Hz), 7.4-7.7(10Hz, m). FABMS(mNBA)： 467
[M-H]+, 491[M+Na]+ （参考例２２）2-アセトキシ-7a-(tert-ブチル-ジフェニル-シラニルオ
キシメチル)-ヘキサヒドロ-フロ[3,2-b]ピラン-3-イル-
酢酸エステル 参考例２１で得られたtert-ブチル-(2,2-ジメチル-テト
ラヒドロ-1,3,4,8-テトラオキサ-シクロペンタ[α]イン
デン-7a-イルメトキシ)-ジフェニル-シラン（４．３７
ｇ、９．３２ｍｍｏｌ）を酢酸（６０ｍｌ）に溶かし、
０℃に冷却した。そこに無水酢酸（１０ｍｌ）、濃硫酸
（２０μｌ）を加え、室温で３０分撹拌した。反応終了
後、水（１００ｍｌ）を加え、さらに１時間撹拌した。
酢酸エチル（約２００ｍｌ）を加え抽出し、有機層を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液（約２００ｍｌ×３）、飽
和食塩水（約２００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させたあと、溶媒を減圧下留去した。得られ
た残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製
し（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）、無色油状の目的
のジアステレオマー混合物（４．３３ｇ、８．４４mmo
l、収率９１％）を得た。
【０３５７】1H-NMR (400MHz, CDCl3) : less polar di
astereomer 1.09(9H, s), 1.48(1H,m), 1.57(3H, s),
1.83(2H, m), 1.90(1H, m), 1.94(3H, s), 2.16(3H,
s), 3.29(1H, dt, 2.2 and 11Hz), 3.42(1H, d, 11Hz),
3.57(1H, d, 11Hz), 3.96(1H,m), 4,34(1H, d, 4.4H
z), 5.43(1H, t, 4.4Hz), 6.35(1H, d, 4.4Hz), 7.4-7.
8(10H, m). more polar diastereomer 1.07(9H, s), 1.
45(1H, m), 1.68(1H, m),1.82(2H, m), 2.15(3H, s),
2.17(3H, s), 3.28(1H, dt, 2.9 and 11Hz), 3.39(1H,
d, 11Hz), 3.42(1H, d, 11Hz), 4.02(1H, m), 4.22(1H,
d, 4.4Hz), 5.59(1H, t, 5.1Hz), 6.41(1H, d, 5.1H
z), 7.4-7.7(10H, m). FABMS(mNBA)： 535[M+Na]+ （試験例１） （ヌクレアーゼ酵素耐性の測定）各種オリゴヌクレオチ
ド(80μｇ)を含むバッファー溶液2250μl（50mM Tris(p
H8.0) and 10mM MgCl2）に3'-エキソヌクレアーゼ（pho
sphodiesterase from Crotalus durissus (Boehringer
Mannheim)）0.3μｇを加え、混合液を37℃に保ち反応を
行った（酵素濃度0.13μg/ml）。一定時間後に混合液の
一部を取り、９０℃で２分間加熱することにより、酵素
を失活させ反応を停止させた。各時間における混合液中
のオリゴヌクレオチドの残量を逆相高速液体カラムクロ
マトグラフィーで定量し、ヌクレアーゼ存在下でのオリ
ゴヌクレオチド量の経時的変化を測定した。
【０３５８】試験に用いたオリゴヌクレオチド 1. 実施例１１で得られたオリゴヌクレオチド（１）。 2. 特開平１０−１９５０９８号に従って調整した配列: ５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号１） で示される配列を有し、nが3'-O,4'-C-メチレンアデノ
シンであるオリゴヌクレオチド（以下、「オリゴヌクレ
オチド(2)」とする。) 3. 配列: ５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号１） で示される配列を有し、nがリボアデノシンであり、且
つnの2'-水酸基とnの3'側チミジンの5'-水酸基が2',5'
リン酸ジエステルで結合しているオリゴヌクレオチド
（以下、「オリゴヌクレオチド(3)」とする。) 4. 配列: ５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号１） で示される配列を有し、nが2'-デオキシアデノシンであ
る天然型オリゴヌクレオチド（以下、「オリゴヌクレオ
チド(４)」とする。) （結果）図１に示すように本発明のオリゴヌクレオチド
類縁体は天然型と比して顕著なヌクレアーゼ耐性を示し
た。更に、既知の非天然型オリゴヌクレオチド類縁体と
比しても顕著なヌクレアーゼ耐性を示した。 （試験例２） （ヌクレアーゼ酵素耐性の測定）各種オリゴヌクレオチ
ド(40μｇ)を含むバッファー溶液960μl（50mM Tris(pH
8.0) and 10mM MgCl2）に3'-エキソヌクレアーゼ（phos
phodiesterase from Crotalus durissus (Boehringer M
annheim)）1μｇ(40ul水溶液)を加え、混合液を37℃に
保ち反応を行った（酵素濃度1μｇ/ml）。一定時間後に
混合液の一部(200μl)を取り、９０℃で２分間加熱する
ことにより、酵素を失活させ反応を停止させた。各時間
における混合液中のオリゴヌクレオチドの残量を逆相高
速液体カラムクロマトグラフィーで定量し、ヌクレアー
ゼ存在下でのオリゴヌクレオチド量の経時的変化を測定
した。
【０３５９】試験に用いたオリゴヌクレオチド 1. 実施例１１で得られたオリゴヌクレオチド（１）。 2. 実施例３９で得られたオリゴヌクレオチド（５）。 3. 特開平１０−１９５０９８号に従って調整した配列: ５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号１） で示される配列を有し、nが3'-O,4'-C-メチレンアデノ
シンであるオリゴヌクレオチド（以下、「オリゴヌクレ
オチド(２)」とする。) 4. 配列: ５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号１） で示される配列を有し、nがリボアデノシンであり、且
つnの2'-水酸基とnの3'側チミジンの5'-水酸基が2',5'
リン酸ジエステルで結合しているオリゴヌクレオチド
（以下、「オリゴヌクレオチド(３)」とする。) 5. 配列: ５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号１） で示される配列を有し、nが2'-デオキシアデノシンであ
る天然型オリゴヌクレオチド（以下、「オリゴヌクレオ
チド(４)」とする。) （結果）図２に示すように本発明のオリゴヌクレオチド
類縁体は天然型と比して顕著なヌクレアーゼ耐性を示し
た。更に、既知の非天然型オリゴヌクレオチド類縁体と
比しても顕著なヌクレアーゼ耐性を示した。 （試験例３）RNase L誘導活性の測定 本発明の２−５A類縁体のRNase L誘導活性は、5S リボ
ソーマルRNA (rRNA)を基質としてその分解速度から算出
した。ここで用いたRNase Lは、文献（Dong, B. and Si
lverman, R.H. J. Biol. Chem. 1997, 272, 22236-2224
2）に従って調整したものを用いた。 RNase L活性測定
の反応液の組成は、20 mM トリス-塩酸(pH 7.5)，10 mM
酢酸マグネシウム，8 mM 2-メルカプトエタノール，90
mM 塩化カリウム，0.1 mM ATP，0.1〜100 nM 実施例化
合物（実施例１９、実施例２１），60 nM RNase Lおよ
び1.0 μg 5S rRNAを含む20 μLとした。酵素反応は、
実施例化合物とRNase Lを0℃で30分間プレインキュベー
トした後、5S rRNAを反応液に添加して開始した。反応
を30℃で30分間行った後、20 μLの反応停止液 (9M 尿
素, 3 mM EDTA, 0.02% ブロモフェノールブルー, 0.02%
キシレンシアノール) を混和しポリアクリルアミドゲ
ル電気泳動に供した。電気泳動は7M 尿素, 1×TBE (89.
2 mM トリス, 89 mM ホウ酸，2 mM EDTA) を含む10%ポ
リアクリルアミドゲルを用い、1×TBEを電極液として25
0 V定電圧で行った。ゲルは0.5 μg/mLのエチジウムブ
ロミドによる15分間の染色および精製水による30分間の
脱色の後、300 nmの紫外線を照射し、RNAが発する蛍光
をデジタルカメラC-1000L (オリンパス光学工業株式会
社) で撮影した。画像はコンピュータープログラムNIH
Image 1.61を使用して解析し、5S rRNAのバンド消失を
定量化した。50％のｒRNA量を切断するのに必要な２−
５A類縁体の用量をEC50とする。 試験に用いた２−５A類縁体 １、 実施例１９で得られた２−５A類縁体（６） ２、 実施例２１で得られた２−５A類縁体（７） ３、 文献（Imai, J. and Torrence, P.F., J. Org. Ch
em. 1981 46, 4015-4021）に従って調整した天然型２−
５A「H-K1-K1-K1」 （結果）
【０３６０】
【表４】
【表５】
【表６】 表４、５及び６に示すように、本発明である新規２−５
A類縁体は、数十nM又は数nMレベルという高いRNase L誘
導活性を示した。
【０３６１】本発明である２−５A類縁体は、試験例２
の結果より天然型２−５Aと比べ数十倍以上ヌクレアー
ゼに対して安定であることから、これらの結果を総合し
て考えあわせると、本発明である２−５A類縁体は、安
定で優れたRNase L誘導活性を示す抗ウィルス薬として
有用である。
【０３６２】
【発明の効果】本発明の新規な２−５A類縁体及び3'-4'
架橋オリゴヌクレオチド類縁体は、安定で優れた抗ウィ
ルス薬、抗腫瘍薬、アンチセンス若しくはアンチジーン
医薬、特定遺伝子の検出薬（プローブ）又は増幅開始の
為のプライマーとして有用である。
【０３６３】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のオリゴヌクレオチド類縁体、天然型オ
リゴヌクレオチド、既知の非天然型オリゴヌクレオチド
類縁体のヌクレアーゼ酵素耐性を示す。
【図２】本発明のオリゴヌクレオチド類縁体、天然型オ
リゴヌクレオチド、既知の非天然型オリゴヌクレオチド
類縁体のヌクレアーゼ酵素耐性を示す。
【配列表フリーテキスト】 配列番号１ <223> 人工配列の説明： ヌクレアーゼ耐性をテストするための合成オリゴヌク レオチド <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：11 <223> 特徴の説明：アデニンまたは修飾アデニン
【配列表】 SEQUENCE LISTING <110> Sankyo Company, Limited <120> 2',5'-oligoadenylate analogue <130> 2001162SL <140> <141> <150>JP 2000-389200 <151>2000-12-21 <160> 1 <170> PatentIn Ver. 2.0 <210> 1 <211> 12 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Description of Artificial Sequence: Synthesized oligonucleotide for testing the nuclease resistance <220> <221> modified base <222> (11) <223> adenine or modified adenine <400> 1 tttttttttt nt 12
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｈ 19/10 Ｃ０７Ｈ 19/10 19/16 19/16 19/20 19/20 21/00 21/00 (72)発明者 金子 正勝 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 今西 武 奈良県奈良市千代ヶ丘２丁目２−18 Ｆターム(参考） 4C057 BB02 DD03 LL10 LL13 LL17 LL21 LL28 LL29 LL44 4C084 AA13 BA35 MA52 MA55 NA14 ZB261 ZB331 ZC781 4C086 AA03 EA17 EA18 MA04 MA52 MA55 NA14 ZB26 ZB33 ZC78

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
    核酸合成の水酸基の保護基、リン酸基、核酸合成の保護
    基で保護されたリン酸基又は−Ｐ（Ｒ3）Ｒ4［式中、Ｒ
    3及びＲ4は、同一又は異なって、水酸基、核酸合成の保
    護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保
    護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、炭素数１乃
    至４個のアルコキシ基、炭素数１乃至４個のアルキルチ
    オ基、炭素数１乃至５個のシアノアルコキシ基又は炭素
    数１乃至４個のアルキル基で置換されたアミノ基を示
    す］を示し、 Ａは、炭素数１乃至４個のアルキレン基を示し、 Ｂは、プリン−９−イル基、２−オキソ−1,2−ジヒド
    ロピリミジン−１−イル基又は下記α群から選択される
    置換基を有する置換プリン−９−イル基若しくは置換２
    −オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示
    す。］で表わされる化合物及びその塩。 （α群）水酸基、 核酸合成の保護基で保護された水酸基、 炭素数１乃至４個のアルコキシ基、 メルカプト基、 核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、 炭素数１乃至４個のアルキルチオ基、 アミノ基、 核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、 炭素数１乃至４個のアルキル基で置換されたアミノ基、 炭素数１乃至４個のアルキル基、及び、 ハロゲン原子。
  2. 【請求項２】Ｒ1が、水素原子、脂肪族アシル基、芳香
    族アシル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチ
    ル基、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しく
    はシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリ
    ール基で置換されたメチル基、又は、シリル基である、
    請求項１に記載の化合物及びその塩。
  3. 【請求項３】Ｒ1が、水素原子、アセチル基、ベンゾイ
    ル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジメトキ
    シトリチル基、モノメトキシトリチル基又はtert-ブチ
    ルジフェニルシリル基である、請求項１に記載の化合物
    及びその塩。
  4. 【請求項４】Ｒ2が、水素原子、脂肪族アシル基、芳香
    族アシル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチ
    ル基、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しく
    はシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリ
    ール基で置換されたメチル基、シリル基、ホスホロアミ
    ダイト基、ホスホニル基、リン酸基又は核酸合成の保護
    基で保護されたリン酸基である、請求項１乃至３の何れ
    か１項に記載の化合物及びその塩。
  5. 【請求項５】Ｒ2が、水素原子、アセチル基、ベンゾイ
    ル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、tert-ブ
    チルジフェニルシリル基、-P(OC2H4CN)(NCH(CH3)2)、-P
    (OCH2)(NCH(CH3)2)、ホスホニル基、又は、２−クロロ
    フェニル若しくは４−クロロフェニルリン酸基である、
    請求項１乃至３の何れか１項に記載の化合物及びその
    塩。
  6. 【請求項６】Ａが、メチレン又はエチレン基である、請
    求項１乃至５の何れか１項に記載の化合物及びその塩。
  7. 【請求項７】Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（すな
    わち、アデニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保
    護された６−アミノプリン−９−イル、６−アミノ−８
    −ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護
    基で保護された６−アミノ−８−ブロモプリン−９−イ
    ル、６−アミノ−８−クロロプリン−９−イル、アミノ
    基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８−ク
    ロロプリン−９−イル、６−アミノ−８−フルオロプリ
    ン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護され
    た６−アミノ−８−フルオロプリン−９−イル、６−ア
    ミノ−８−メトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸
    合成の保護基で保護された６−アミノ−８−メトキシプ
    リン−９−イル、６−アミノ−８−エトキシプリン−９
    −イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−
    アミノ−８−エトキシプリン−９−イル、６−アミノ−
    ８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸合
    成の保護基で保護された６−アミノ−８−ｔ−ブトキシ
    プリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イ
    ル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２，６−
    ジアミノプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプ
    リン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護さ
    れた２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、２−ア
    ミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸
    合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプ
    リン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−
    イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−ア
    ミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−
    ヒドロキシプリン−９−イル（すなわち、グアニニ
    ル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−ア
    ミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−
    ２−メトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の
    保護基で保護された６−アミノ−２−メトキシプリン−
    ９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、
    アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−
    ２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオ
    ロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保
    護された６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、
    ２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロ
    ロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９−イ
    ル、２−オキソ−４−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジ
    ン−１−イル（すなわち、シトシニル）、アミノ基が核
    酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−
    1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４
    −アミノ−５−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−
    １−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２
    −オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−1,2−ジヒドロ
    ピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−
    クロロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ
    基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−２−オ
    キソ−５−クロロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イ
    ル、２−オキソ−４−メトキシ−1,2−ジヒドロピリミ
    ジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−1,2−
    ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−ヒド
    ロキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル（すなわ
    ち、ウラシニル）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−
    メチルピリミジン−１−イル（すなわち、チミニル）、
    ４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−1,2−ジヒドロ
    ピリミジン−１−イル（すなわち、５−メチルシトシニ
    ル）基又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された４
    −アミノ−５−メチル−２−オキソ−1,2−ジヒドロピ
    リミジン−１−イル基である、請求項１乃至６の何れか
    １項に記載の化合物及びその塩。
  8. 【請求項８】Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−
    イル、アデニニル、６−アミノ−８−ブロモプリン−９
    −イル、６−ベンゾイルアミノ−８−ブロモプリン−９
    −イル、６−アミノ−８−クロロプリン−９−イル、６
    −ベンゾイルアミノ−８−クロロプリン−９−イル、６
    −アミノ−８−フルオロプリン−９−イル、６−ベンゾ
    イルアミノ−８−フルオロプリン−９−イル、６−アミ
    ノ−８−メトキシプリン−９−イル、６−ベンゾイルア
    ミノ−８−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−８
    −エトキシプリン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−
    ８−エトキシプリン−９−イル、６−アミノ−８−ｔ−
    ブトキシプリン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−８
    −ｔ−ブトキシプリン−９−イル、２−イソブチリルア
    ミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、グアニニル、
    ２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−1,2−ジヒドロピ
    リミジン−１−イル、シトシニル、２−オキソ−５−メ
    チル−４−ベンゾイルアミノ−1,2−ジヒドロピリミジ
    ン−１−イル、５−メチルシトシニル、ウラシニル又は
    チミニル基である、請求項１乃至６の何れか１項に記載
    の化合物及びその塩。
  9. 【請求項９】下記群から選択される化合物及びその塩；
    ３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレングアノシン、３’-Ｏ,４’-
    Ｃ-エチレンアデノシン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-
    ３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-６-Ｎ-ベンゾイルアデノシ
    ン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エ
    チレン-２-Ｎ-イソブチリルグアノシン、３’-Ｏ,４’-
    Ｃ-エチレン-２-Ｎ-イソブチリルグアノシン、３’-Ｏ,
    ４’-Ｃ-エチレン-６-Ｎ-ベンゾイルアデノシン、５'-
    Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-６
    -Ｎ-ベンゾイルアデノシン‐２'-Ｏ‐（２‐シアノエチ
    ル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト ５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレ
    ン-２-Ｎ-イソブチリルグアノシン‐２'-Ｏ‐（２‐シ
    アノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダ
    イト ３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレンウリジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-
    エチレン−５−メチルウリジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチ
    レンシチジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-５-メチルシ
    チジン、２’,５’-ジ-Ｏ-ベンジル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-
    エチレンウリジン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-
    Ｏ,４’-Ｃ-エチレンウリジン、５’-Ｏ-ジメトキシト
    リチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-５-メチルウリジ
    ン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エ
    チレン-４-Ｎ-ベンゾイルシチジン、５’-Ｏ-ジメトキ
    シトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベンゾイ
    ル-５-メチルシチジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-
    Ｎ-ベンゾイルシチジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４
    -Ｎ-ベンゾイル-５-メチルシチジン、５'-Ｏ-ジメトキ
    シトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-ウリジン‐２'
    -Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）
    ホスホロアミダイト、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐
    ３’-Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-５-メチルウリジン-２'-Ｏ
    ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホス
    ホロアミダイト、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-
    Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベンゾイルシチジン‐２'-
    Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホ
    スホロアミダイト、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-
    Ｏ,４’-Ｃ-エチレン-４-Ｎ-ベンゾイル−５−メチルシ
    チジン‐２'-Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソ
    プロピル）ホスホロアミダイト、３’-Ｏ,４’-Ｃ-プロ
    ピレングアノシン、３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレンアデ
    ノシン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ
    - プロピレン-６-Ｎ-ベンゾイルアデノシン、５’-Ｏ-
    ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレン-２-
    Ｎ-イソブチリルグアノシン、３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピ
    レン-２-Ｎ-イソブチリルグアノシン、３’-Ｏ,４’-Ｃ
    - プロピレン-６-Ｎ-ベンゾイルアデノシン、5'-Ｏ-ジ
    メトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレン-６-
    Ｎ-ベンゾイルアデノシン‐２'-Ｏ‐（２‐シアノエチ
    ル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト 5'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピ
    レン-２-Ｎ-イソブチリルグアノシン‐２'-Ｏ‐（２‐
    シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミ
    ダイト ３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレンウリジン、３’-Ｏ,４’-
    Ｃ- プロピレン−５−メチルウリジン、３’-Ｏ,４’-
    Ｃ- プロピレンシチジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレ
    ン-５-メチルシチジン、２’,５’-ジ-Ｏ-ベンジル-
    ３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレンウリジン、５’-Ｏ-ジメ
    トキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレンウリジ
    ン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-Ｃ- プ
    ロピレン-5−メチルウリジン、５’-Ｏ-ジメトキシトリ
    チル-３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレン-４-Ｎ-ベンゾイル
    シチジン、５’-Ｏ-ジメトキシトリチル-３’-Ｏ,４’-
    Ｃ- プロピレン-４-Ｎ-ベンゾイル-５-メチルシチジ
    ン、３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレン-４-Ｎ-ベンゾイルシ
    チジン、３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレン-４-Ｎ-ベンゾイ
    ル-５-メチルシチジン、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐
    ３’-Ｏ,４’-Ｃ- プロピレン-ウリジン‐２'-Ｏ‐（２
    ‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロア
    ミダイト、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-
    Ｃ- プロピレン-５−メチルウリジン-2'-Ｏ‐（２‐シ
    アノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミダ
    イト、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ-
    プロピレン-４-Ｎ-ベンゾイルシチジン‐2'-Ｏ‐（２‐
    シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミ
    ダイト、５'-Ｏ-ジメトキシトリチル‐３’-Ｏ,４’-Ｃ
    - プロピレン-４-Ｎ-ベンゾイル−５−メチルシチジン
    ‐２'-Ｏ‐（２‐シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピ
    ル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ
    −８−ブロモアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル
    −３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−ブロモ
    アデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−O，
    ４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−ブロモアデノシン
    ２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロピル）
    ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ−８
    −クロロアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−
    ３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−クロロア
    デノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−O，４'
    −C−６−ベンゾイルアミノ−８−クロロアデノシン２'
    −O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロピル）ホス
    ホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ−８−フ
    ルオロアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'
    −O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−フルオロア
    デノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−O，４'
    −C−６−ベンゾイルアミノ−８−フルオロアデノシン
    ２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロピル）
    ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ−８
    −メトキシアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−
    ３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−メトキシ
    アデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−O，
    ４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−メトキシアデノシ
    ン２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロピ
    ル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミノ
    −８−エトキシアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチ
    ル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−エト
    キシアデノシン、５'−O−ジメトキシトリチル−３'−
    O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８−エトキシアデ
    ノシン２'−O−（２−シアノエチル N,N−ジイソプロ
    ピル）ホスホロアミダイト、３'−O，４'−C−６−アミ
    ノ−８−ｔ−ブトキシアデノシン、５'−O−ジメトキシ
    トリチル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８
    −ｔ−ブトキシアデノシン、及び、５'−O−ジメトキシ
    トリチル−３'−O，４'−C−６−ベンゾイルアミノ−８
    −ｔ−ブトキシアデノシン２'−O−（２−シアノエチル
    N,N−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト。
  10. 【請求項１０】下記一般式（２） 【化２】 [式中、 Ａは、炭素数１乃至４個のアルキレン基を示
    し、Ｂは、プリン−９−イル基、２−オキソ−1,2−ジ
    ヒドロピリミジン−１−イル基又は下記α群から選択さ
    れる置換基を有する置換プリン−９−イル基若しくは置
    換２−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル基
    を示す。］で表わされる構造を１又は２以上含有するオ
    リゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容される
    塩。但し、上記構造を２以上含有する場合は、当該構造
    間でＢは同一又は異なる。 （α群）水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸
    基、炭素数１乃至４個のアルコキシ基、メルカプト基、
    核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１
    乃至４個のアルキルチオ基、アミノ基、核酸合成の保護
    基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
    基で置換されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
    基、及び、ハロゲン原子。
  11. 【請求項１１】Ａがメチレン又はエチレン基である請求
    項１０記載のオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学
    上許容される塩。
  12. 【請求項１２】Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（す
    なわち、アデニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で
    保護された６−アミノプリン−９−イル、６−アミノ−
    ８−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保
    護基で保護された６−アミノ−８−ブロモプリン−９−
    イル、６−アミノ−８−クロロプリン−９−イル、アミ
    ノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８−
    クロロプリン−９−イル、６−アミノ−８−フルオロプ
    リン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護さ
    れた６−アミノ−８−フルオロプリン−９−イル、６−
    アミノ−８−メトキシプリン−９−イル、アミノ基が核
    酸合成の保護基で保護された６−アミノ−８−メトキシ
    プリン−９−イル、６−アミノ−８−エトキシプリン−
    ９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６
    −アミノ−８−エトキシプリン−９−イル、６−アミノ
    −８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸
    合成の保護基で保護された６−アミノ−８−ｔ−ブトキ
    シプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イ
    ル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、アミノ
    基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ク
    ロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フルオロプリ
    ン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護され
    た２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、２−ア
    ミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合
    成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン
    −９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−
    イル（すなわち、グアニニル）、アミノ基が核酸合成の
    保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン
    −９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イ
    ル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミ
    ノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−
    クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基
    で保護された６−アミノ−２−クロロプリン−９−イ
    ル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、アミ
    ノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２−
    フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプリン
    −９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イル、６−
    メルカプトプリン−９−イル、２−オキソ−４−アミノ
    −1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル（すなわち、シ
    トシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された
    ２−オキソ−４−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−
    １−イル、２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−1,
    2−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合
    成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−５−
    フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−
    アミノ−２−オキソ−５−クロロ−1,2−ジヒドロピリ
    ミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
    された４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−1,2−ジ
    ヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキ
    シ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ
    −４−メルカプト−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イ
    ル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−1,2−ジヒドロピリ
    ミジン−1−イル（すなわち、ウラシニル）、２−オキ
    ソ−４−ヒドロキシ−５−メチルピリミジン−１−イル
    （すなわち、チミニル）、４−アミノ−５−メチル−２
    −オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル（すな
    わち、５−メチルシトシニル）基又はアミノ基が核酸合
    成の保護基で保護された４−アミノ−５−メチル−２−
    オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−１−イル基であ
    る、請求項１０乃至１１の何れか１項に記載のオリゴヌ
    クレオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩。
  13. 【請求項１３】Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９
    −イル、アデニニル、６−アミノ−８−ブロモプリン−
    ９−イル、６−ベンゾイルアミノ−８−ブロモプリン−
    ９−イル、６−アミノ−８−クロロプリン−９−イル、
    ６−ベンゾイルアミノ−８−クロロプリン−９−イル、
    ６−アミノ−８−フルオロプリン−９−イル、６−ベン
    ゾイルアミノ−８−フルオロプリン−９−イル、６−ア
    ミノ−８−メトキシプリン−９−イル、６−ベンゾイル
    アミノ−８−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−
    ８−エトキシプリン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ
    −８−エトキシプリン−９−イル、６−アミノ−８−ｔ
    −ブトキシプリン−９−イル、６−ベンゾイルアミノ−
    ８−ｔ−ブトキシプリン−９−イル、２−イソブチリル
    アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、グアニニ
    ル、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−1,2−ジヒド
    ロピリミジン−１−イル、シトシニル、２−オキソ−５
    −メチル−４−ベンゾイルアミノ−1,2−ジヒドロピリ
    ミジン−１−イル、５−メチルシトシニル、ウラシニル
    又はチミニル基である請求項１０乃至１１の何れか１項
    に記載のオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許
    容される塩。
  14. 【請求項１４】下記一般式（３） 【化３】 [式中、 ｍは、１乃至３の整数を示し、ｎは、０または
    １を示し、Ｑは、酸素原子または硫黄原子を示し、Ｖ
    は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１乃至
    ６個のアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキ
    ル基または置換基を有していてもよいアリール基を示
    し、Ｅ1 , Ｅ2 及びＥ3は、同一または異なって、Ｋ1、
    Ｋ2、Ｋ3またはＫ4（Ｋ1、Ｋ2、Ｋ3及びＫ4は、それぞ
    れ、 【化４】 を示す。ここで、Ｂは、プリン−９−イル基又は下記α
    群から選択される置換基を有する置換プリン−９−イル
    基を示し、Ａは、炭素数１乃至４個のアルキレン基を示
    す。）、を示す。なお、Ｅ2は、ｍの繰り返しにおいて
    それぞれ同一または異なっていてもよい。］で表わされ
    るオリゴヌクレオチド類縁体（但し、Ｅ1、Ｅ2及びＥ3
    が、すべてＫ1である化合物及びすべてＫ2である化合物
    を除く。）及びその薬理学上許容される塩。 （α群）水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸
    基、炭素数１乃至４個のアルコキシ基、メルカプト基、
    核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１
    乃至４個のアルキルチオ基、アミノ基、核酸合成の保護
    基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
    基で置換されたアミノ基、炭素数１乃至４個のアルキル
    基、及び、ハロゲン原子。
  15. 【請求項１５】Ａがメチレン又はエチレン基である請求
    項１４記載のオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学
    上許容される塩。
  16. 【請求項１６】Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（す
    なわち、アデニニル）、６−アミノ−８−ブロモプリン
    −９−イル、６−アミノ−８−クロロプリン−９−イ
    ル、６−アミノ−８−フルオロプリン−９−イル、６−
    アミノ−８−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−
    ８−エトキシプリン−９−イル、６−アミノ−８−ｔ−
    ブトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−ブロモプ
    リン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−
    イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、６
    −アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ
    −２−エトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−ｔ
    −ブトキシプリン−９−イル、2,6-ジアミノプリン−９
    −イル基である、請求項１４乃至１５の何れか１項に記
    載のオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容さ
    れる塩。
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