JP2002246710A - Ceramic circuit board integrated base board and its producing method - Google Patents

Ceramic circuit board integrated base board and its producing method

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  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component mounting board, having low thermal resistance and exhibiting superior thermal cycle resistance in which a base board and a ceramic circuit board are integrated. SOLUTION: The electronic component mounting board comprises a base board, a ceramic substrate 5 smaller than the base board placed on the principal plane of the base board, and a metal layer 4 provided to cover both the base board and the ceramic substrate, at least partially where the metal layer has a planar surface which does not touch the base board and the ceramic substrate. The base board is a compound material of 6 of metal-metal, metal-carbon or metal-ceramic, wherein the metal in the compound material and the metal layer mainly comprise copper and the purity of metal in the metal layer is higher than that of the compound material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、銅を主成分とする
金属を含む、金属−金属、金属−カーボン、または金属
−セラミックス複合体からなるベース材と高熱伝導性セ
ラミックス基板とが一体に形成された電子機器搭載用基
板あるいはベース板一体型セラミックス回路基板とその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a base material made of a metal-metal, metal-carbon, or metal-ceramic composite containing a metal containing copper as a main component and a high thermal conductive ceramic substrate formed integrally. The present invention relates to an electronic device mounting substrate or a base plate-integrated ceramic circuit substrate and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、産業機器の分野では、電動機用イ
ンバータ等に用いられるパワーモジュールの開発が進ん
でおり、パワーモジュールには、従来から、シリコンチ
ップを搭載した高熱伝導性セラミックス回路基板を銅ベ
ースに半田付けした構造を有するものが用いられてき
た。しかし、使用条件によってはセラミック基板や半田
層にクラックが入るため、これらの防止によって信頼性
を向上するため種々の改良が図られた。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of industrial equipment, the development of power modules used in inverters for electric motors and the like has been advanced. One having a structure soldered to a base has been used. However, cracks are formed in the ceramic substrate and the solder layer depending on the use conditions, and various improvements have been made to improve reliability by preventing such cracks.

【0003】例えば、Al(アルミニウム)−SiC
(炭化珪素)複合体をベース材とし、Al回路付きAl
N(窒化アルミニウム)基板(以下、Al−SiC複合
体/Al回路付き窒化アルミニウム基板のように記す)
を半田付けした構造は、サーマルサイクル3000回後
でも、実用特性を維持しており、従来公知のCu(銅)
ベース/銅回路付き窒化アルミニウム基板に比べ格段の
信頼性を有しているものの、従来構造に比べると熱抵抗
が大きいためチップサイズを大きくする必要があるこ
と、またAl−SiC複合体が高価であるためにモジュ
ールコストが高くなること等の問題があり充分に普及す
るに至っていない。
For example, Al (aluminum) -SiC
(SiC) Composite with base material, Al with Al circuit
N (aluminum nitride) substrate (hereinafter referred to as Al-SiC composite / aluminum nitride substrate with Al circuit)
The structure where is soldered retains practical characteristics even after 3000 times of thermal cycling.
Although it has much higher reliability than the aluminum nitride substrate with the base / copper circuit, it has a larger thermal resistance than the conventional structure, so that it is necessary to increase the chip size, and the Al-SiC composite is expensive. For this reason, there is a problem such as an increase in module cost, and it has not yet been widely used.

【0004】また、Al−SiC複合体を製造する際
に、前記Al−SiC複合体とセラミックス基板或いは
セラミックス回路基板との一体化を図ることも提案され
ている。この場合、複合体/基板間の半田層がないた
め、その部分の半田にクラックが入る心配が無く信頼性
が向上し、また熱抵抗が低下する等の利点を有するが、
Al−SiC複合体の熱伝導率は高々200W/mKし
かなく、パワーモジュールの大容量化、小型化のために
熱抵抗の更なる低減が求められている。
It has also been proposed to integrate the Al-SiC composite with a ceramic substrate or a ceramic circuit substrate when manufacturing the Al-SiC composite. In this case, since there is no solder layer between the composite / substrate, there is no risk of cracking in the solder at that portion, and the reliability is improved, and there are advantages such as a decrease in thermal resistance.
The thermal conductivity of the Al-SiC composite is only 200 W / mK at most, and further reduction in thermal resistance is required for increasing the capacity and miniaturization of the power module.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記の事
情に鑑みていろいろ検討し、金属−金属、金属−カーボ
ン、または金属−セラミックス複合体を製造する工程を
経るだけで、ベース板とセラミックス回路基板が一体化
でき、しかも耐サーマルサイクル性があり、かつ熱抵抗
が小さい電子部品搭載用基板を提供し得ることを見出
し、本発明に至ったものである。即ち、本発明の目的
は、熱抵抗が小さく、耐サーマルサイクル性に優れ、従
って長期の信頼性に優れるパワーモジュールを再現性高
く供給できる電子搭載用基板、ベース板一体型セラミッ
クス回路基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has made various studies in view of the above-mentioned circumstances, and has merely performed a process of manufacturing a metal-metal, metal-carbon, or metal-ceramic composite, and has been able to form a base plate with a base plate. The present inventors have found that a ceramic circuit board can be integrated, a thermal cycle resistance can be obtained, and a substrate for mounting an electronic component having a low thermal resistance can be provided, and the present invention has been accomplished. That is, an object of the present invention is to provide an electronic mounting substrate and a base plate-integrated ceramic circuit substrate capable of supplying a power module having low thermal resistance, excellent thermal cycle resistance, and therefore excellent long-term reliability with high reproducibility. It is in.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、一主面に凹部
を有する又は有していないベース板と、前記ベース板の
前記主面上に配置され、前記ベース板よりも小さいセラ
ミックス基板と、前記ベース板と前記セラミックス基板
との少なくとも一部を共に覆うように設けられた金属層
とからなり、前記金属層のベース板及びセラミックス基
板に接しない面が平面状であって、しかも、前記ベース
板が金属−金属、金属−カーボン、もしくは金属−セラ
ミックス複合体であり、前記複合体中の金属と前記金属
層とが銅を主成分とし、かつ前記金属層の純度が前記複
合体中の金属の純度より高いことを特徴とする電子機器
搭載用基板である。
According to the present invention, there is provided a base plate having or not having a concave portion on one main surface, and a ceramic substrate disposed on the main surface of the base plate and smaller than the base plate. A metal layer provided so as to cover at least a part of the base plate and the ceramic substrate together, a surface of the metal layer not in contact with the base plate and the ceramic substrate is planar, and The base plate is a metal-metal, metal-carbon, or metal-ceramic composite, the metal in the composite and the metal layer are mainly composed of copper, and the purity of the metal layer in the composite is An electronic device mounting substrate characterized by being higher in purity than metal.

【0007】また、本発明は、セラミックス基板が複数
であることを特徴とする上記の電子機器搭載用基板であ
る。また、本発明は、電子機器搭載用基板の金属層より
回路形成してなることを特徴とするベース板一体型セラ
ミックス回路基板である。
The present invention also provides the electronic device mounting substrate described above, wherein the substrate has a plurality of ceramic substrates. Further, the present invention is a ceramic circuit board integrated with a base plate, wherein a circuit is formed from a metal layer of a substrate for mounting an electronic device.

【0008】また、本発明は、一主面上に回路を有する
セラミックス回路基板と、該セラミックス回路基板の回
路を設けていない主面に接して設けられているベース板
とからなるベース板一体型セラミックス回路基板であっ
て、ベース板が金属−金属複合体、金属−カーボン複合
体、又は金属−セラミックス複合体からなり、前記回路
表面と前記ベース板のセラミックス基板が搭載されセラ
ミックス基板を設けていない面の高さが同一であり、し
かも、前記回路およびベース板に含まれる金属が銅を主
成分とし、かつ前記金属層の純度が前記複合体中の金属
の純度より高いことを特徴とするベース板一体型セラミ
ックス回路基板である。
Further, the present invention provides a base plate integrated type comprising a ceramic circuit board having a circuit on one main surface and a base plate provided in contact with a main surface of the ceramic circuit board on which no circuit is provided. A ceramic circuit board, wherein the base plate is made of a metal-metal composite, a metal-carbon composite, or a metal-ceramic composite, and the ceramic substrate of the circuit surface and the base plate is mounted and no ceramic substrate is provided. A base having the same surface height, wherein the metal contained in the circuit and the base plate is mainly composed of copper, and the purity of the metal layer is higher than the purity of the metal in the composite. This is a board-integrated ceramic circuit board.

【0009】また、本発明は、ベース板が、カーボン、
炭化珪素、酸化銅、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化
珪素、タングステンおよびモリブデンから選ばれる1種
類以上を主成分とする多孔質成形体に銅を主成分とする
金属を含浸してなる複合体であることを特徴とするベー
ス板一体型セラミックス回路基板である。
Further, according to the present invention, the base plate is made of carbon,
A composite formed by impregnating a porous compact mainly containing at least one selected from silicon carbide, copper oxide, alumina, aluminum nitride, silicon nitride, tungsten and molybdenum with a metal mainly containing copper This is a base plate-integrated ceramic circuit board.

【0010】また、本発明は、カーボン、炭化珪素、酸
化銅、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、タング
ステンおよびモリブデンから選ばれる1種類以上を主成
分とし、一主面に凹部を有する又は有していない多孔質
成形体の前記主面上にセラミックス基板を配置し、更に
前記多孔質成形体とセラミックス基板との少なくとも一
部を共に覆うように銅を主成分とする金属板を配置して
積層体となし、前記積層体を容器内に配置し、銅を主成
分とする金属を鋳造して、前記多孔質成形体の空隙に前
記銅を主成分とする金属を含浸すると共に、多孔質成形
体、金属板並びにセラミックス基板を一体化させること
を特徴とする電子機器搭載用基板の製造方法である。
Further, the present invention comprises at least one selected from the group consisting of carbon, silicon carbide, copper oxide, alumina, aluminum nitride, silicon nitride, tungsten and molybdenum, and has or has a recess on one main surface. A ceramic substrate is disposed on the main surface of the porous molded body, and a metal plate mainly composed of copper is disposed so as to cover at least a part of the porous molded body and the ceramic substrate together. And disposing the laminate in a container, casting a metal containing copper as a main component, impregnating the voids of the porous molded product with the metal containing copper as a main component, And a metal plate and a ceramics substrate are integrated with each other.

【0011】また、本発明は、カーボン、炭化珪素、酸
化銅、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、タング
ステンおよびモリブデンから選ばれる1種類以上を主成
分とし、一主面に凹部を有する又は有していない多孔質
成形体の前記主面上にセラミックス基板を配置し、更に
前記多孔質成形体とセラミックス基板との少なくとも一
部を共に覆うように金属板を配置して積層体となし、前
記積層体を容器内に配置し、銅を主成分とする金属を鋳
造して、前記多孔質成形体の空隙に前記銅を主成分とす
る金属を含浸すると共に、多孔質成形体、金属板並びに
セラミックス基板を一体化させ、その後セラミック基板
のベース板とは反対の面に形成されている金属層もしく
は前記金属板より回路形成することを特徴とするベース
板一体型セラミックス回路基板の製造方法である。
Further, the present invention comprises at least one selected from the group consisting of carbon, silicon carbide, copper oxide, alumina, aluminum nitride, silicon nitride, tungsten and molybdenum, and has or has a recess on one main surface. A ceramic substrate is arranged on the main surface of the porous molded body, and a metal plate is further arranged to cover at least a part of the porous molded body and the ceramic substrate together to form a laminate; Is placed in a container, a metal containing copper as a main component is cast, and the voids of the porous product are impregnated with the metal containing copper as a main component. And then forming a circuit from the metal layer formed on the surface of the ceramic substrate opposite to the base plate or from the metal plate. Scan circuit is a manufacturing method of the substrate.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の電子機器搭載用基板は、
ベース板となる金属−金属、金属−カーボン、または金
属−セラミックス複合体の製法に準じて、ベース板とセ
ラミック基板を一体化することにより製造できる特徴が
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The substrate for mounting electronic equipment according to the present invention comprises:
According to the method of manufacturing a metal-metal, metal-carbon, or metal-ceramic composite serving as a base plate, there is a feature that the base plate and the ceramic substrate can be integrated to produce the base plate.

【0013】金属−金属、金属−カーボン、または金属
−セラミックス複合体の製法を大別すると、含浸法と粉
末冶金法の2種がある。このうち粉末冶金法は製造コス
トが安いが得られる複合体の特性面で充分ではなく、含
浸法は製造コストが高いが得られる複合体の特性面で優
位性がある。含浸法にも種々あり、常圧でおこなうもの
と、高圧下で行うもの(高圧鋳造法)がある。高圧下で
行うものは、溶湯鍛造法とダイキャスト法とがある。溶
湯鍛造法、ダイキャスト法は、共に、最終形状、或い
は、ほぼ最終形状に近い形をした型、或いは、枠と板で
構成された型(或いは部屋)内に、ある程度の強度を有
する多孔質体(プリフォーム)を装填し、これに銅(C
u)或いは、Cu合金溶湯を高圧で含浸させて複合体を
得る方法である。
The methods for producing a metal-metal, metal-carbon, or metal-ceramic composite are roughly classified into two types: an impregnation method and a powder metallurgy method. Among them, the powder metallurgy method has a low production cost but is not sufficient in terms of the characteristics of the obtained composite, and the impregnation method has a high production cost but is superior in the characteristics of the obtained composite. There are various impregnation methods, and there are a method performed at normal pressure and a method performed under high pressure (high-pressure casting method). What is performed under high pressure includes a molten metal forging method and a die casting method. Both the melt forging method and the die casting method have a porous material having a certain degree of strength in a mold having a final shape or a shape close to the final shape, or a mold (or room) composed of a frame and a plate. A body (preform) is loaded and copper (C)
u) Alternatively, this is a method of impregnating a molten Cu alloy at a high pressure to obtain a composite.

【0014】本発明では、どの方法を用いてもよいが、
特性面(高熱伝導率と低熱膨張率の両立、および耐熱サ
イクル性)から高圧下で行うタイプが好ましい。含浸操
作を行う際にセラミックス板と回路板の接合、或いは、
回路用金属層の形成を行えば、より安価にセラミックス
基板を接合した回路基板の前駆体を得ることが可能であ
る。
In the present invention, any method may be used.
The type which is performed under high pressure is preferable from the viewpoint of characteristics (both high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient and thermal cycle resistance). When performing the impregnation operation, joining the ceramic board and the circuit board, or
If the metal layer for the circuit is formed, it is possible to obtain the precursor of the circuit board in which the ceramic substrate is bonded at a lower cost.

【0015】Cu溶湯をプリフォームに含浸すると同時
に基板との一体化を行う場合、従来、(1)セラミック
ス回路基板をプリフォームと接触配置し、これにCu溶
湯をプリフォームに含浸させながらセラミックスとの接
合を行う、(2)セラミックス基板をプリフォームに接
触配置し、Cu溶湯をプリフォームに含浸させながら、
セラミックス基板との接合と回路用金属層の形成を同時
に行う方法が知られている。
In the case where the preform is impregnated with the molten Cu and integrated with the substrate at the same time, (1) a ceramic circuit board is placed in contact with the preform, and the ceramic is mixed with the ceramic while impregnating the preform with the molten Cu. (2) Place the ceramic substrate in contact with the preform, and impregnate the preform with the molten Cu,
There has been known a method of simultaneously performing bonding with a ceramic substrate and forming a circuit metal layer.

【0016】(1)の方法は、予めセラミックス基板に
回路金属を接合する、或いはセラミックス基板に金属層
を設けた後に回路形成するという工程が必要になりコス
ト的に不利である。(2)の方法は、含浸金属として融
点の低い銅合金を用いる場合が多いため、回路に用いて
いる含浸金属層の熱伝導率、電気伝導率が低下し、特性
上不利になる。また、合金は純銅より硬いため、接合さ
れたAlN等のセラミック基板に発生する応力が応力が
大きくなり、基板割れ等の問題を引き起こす可能性があ
る。含浸金属に純銅を用いると、セラミックスとの密着
性が劣り、耐熱サイクル性が低下することがある。
The method (1) requires a step of bonding a circuit metal to a ceramic substrate in advance or forming a circuit after providing a metal layer on the ceramic substrate, which is disadvantageous in cost. In the method (2), since a copper alloy having a low melting point is often used as the impregnated metal, the thermal conductivity and the electric conductivity of the impregnated metal layer used in the circuit are reduced, which is disadvantageous in characteristics. Further, since the alloy is harder than pure copper, the stress generated in the joined ceramic substrate such as AlN increases the stress, which may cause a problem such as substrate cracking. When pure copper is used as the impregnated metal, adhesion to ceramics is poor, and the heat cycle resistance may be reduced.

【0017】本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、次
の様な構成とすることで、比較的容易に製造可能で、精
度良く、その結果安価に、金属−金属、または金属−セ
ラミックス複合体からなるベース板との一体型セラミッ
クス回路基板が得られることを見出した。
As a result of intensive studies, the present inventors have made it possible to manufacture a metal-metal or metal-ceramic by relatively easily manufacturable, accurate, and inexpensively by adopting the following structure. It has been found that an integrated ceramic circuit board with a base plate made of a composite can be obtained.

【0018】すなわち、プリフォームにセラミックス基
板を接触配置し、さらに、これにCu板を接触配置した
後、予備加熱し、Cu溶湯を高圧で含浸することにより
電子部品搭載用基板を得て、更に、前記Cu板からエッ
チング等の従来公知の方法で回路を形成することで、一
定厚みのCu板からなる回路が接合されているベース板
一体型セラミックス回路基板を得ることができる。
That is, a ceramic substrate is placed in contact with the preform, and a Cu plate is placed in contact with the ceramic substrate, preheated, and impregnated with molten Cu at high pressure to obtain a substrate for mounting electronic components. By forming a circuit from the Cu plate by a conventionally known method such as etching, it is possible to obtain a base plate-integrated ceramic circuit board to which a circuit made of a Cu plate having a constant thickness is joined.

【0019】プリフォームにCuを含浸する際に、Cu
溶湯がプリフォーム中に含浸し易いように予備加熱を行
うのが一般的であるが、本発明は、この予備加熱の際
に、Cu板が存在していても前記Cu板は溶融しないと
いうこと、更に、Cu板にCu合金が接触しても前記C
u板は投入した形態を保っているということを発見した
ことに基づいている。
When the preform is impregnated with Cu, Cu
In general, preheating is performed so that the molten metal is easily impregnated into the preform. However, in the present invention, during the preheating, the Cu plate does not melt even if a Cu plate is present. Further, even if a Cu alloy comes into contact with a Cu plate,
It is based on the discovery that the u-plate maintains its input configuration.

【0020】更に驚くべきことに、こうして得られたベ
ース板一体型セラミックス回路基板は、実用上極めて有
用な特性を有することが判明した。例えば、Cu−Si
C複合体の板の熱膨張係数は、複合体中のSiC体積百
分率によって決まり、6〜9ppm/K程度が一般的で
ある。従って、これにAlN(窒化アルミニウム)やS
34(窒化珪素)の如き低熱膨張率のセラミックス基
板を半田付けやロウ付けすると、セラッミクス側を凸と
する大きな反りを生じる。この反りは、これを放熱フィ
ン等にネジ締めして固定する際に、ベース板と放熱フィ
ン間に隙間を生じ、伝熱の妨げとなる。このため、何ら
かの方法で予めベース板に放熱フィン等との接合面が凹
となる反りを付与しておく必要があった。しかしなが
ら、本発明のベース板一体型セラミックス回路基板にお
いては、表面の回路を構成するCuの熱膨張率が大きい
ので、AlNの場合は略平坦に、AlNより熱膨張率の
小さいSi34の場合は、若干、回路を凸とする反りを
生じることになるが、前記の反りの程度は、モジュール
組立工程で回路側を凹とする反りに変化しうる程度のも
のであり、実用上極めて好ましい特性を発現する。
Surprisingly, it has been found that the ceramic circuit board integrated with the base plate thus obtained has extremely useful characteristics in practical use. For example, Cu-Si
The coefficient of thermal expansion of the C composite plate is determined by the volume percentage of SiC in the composite, and is generally about 6 to 9 ppm / K. Therefore, AlN (aluminum nitride) or S
When a ceramic substrate having a low coefficient of thermal expansion such as i 3 N 4 (silicon nitride) is soldered or brazed, a large warpage having a convex ceramic side is generated. This warp creates a gap between the base plate and the radiating fins when fixing the warping to the radiating fins or the like with screws, which hinders heat transfer. For this reason, it has been necessary to provide the base plate with a warp in which the joint surface with the radiation fin or the like is concave by some method in advance. However, in the ceramic circuit board integrated with a base plate of the present invention, since the coefficient of thermal expansion of Cu constituting the surface circuit is large, AlN is substantially flat, and Si 3 N 4 having a smaller coefficient of thermal expansion than AlN is used. In this case, the circuit slightly warps to make the circuit convex, but the degree of the warp is such a degree that the circuit side can be changed to warp to make the circuit side concave in the module assembling process, which is extremely preferable in practical use. Express characteristics.

【0021】以下、本発明について、高圧下での含浸法
でCu−SiC複合体を製造する場合の例を詳述する。
先ず、Cu−SiC複合体の製造方法を説明する。Si
C粉を成形、仮焼してプリフォームを得て、表面が離型
処理された仕切板上に置き、次に、内寸が最終形状にな
るようくり抜かれた枠状の型内にセットする。これを幾
段も重ねて固定したブロックを予備加熱した後、耐圧性
の容器内に配置し、ブロックの温度低下を防ぐため出来
るだけ速やかにCu溶湯を前記容器内に注ぎ、Cu溶湯
を加圧し、Cuを枠状の型内に置いたプリフォーム中に
含浸する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to an example in which a Cu—SiC composite is produced by an impregnation method under a high pressure.
First, a method for producing a Cu—SiC composite will be described. Si
C powder is molded and calcined to obtain a preform, placed on a partition plate whose surface has been subjected to a release treatment, and then set in a frame-shaped mold that has been hollowed out so that its inner dimensions are in the final shape. . After pre-heating the block in which the blocks are stacked and fixed, they are placed in a pressure-resistant container, and the molten copper is poured into the container as quickly as possible to prevent the temperature of the block from lowering, and the molten copper is pressurized. , Cu is impregnated into a preform placed in a frame-shaped mold.

【0022】本発明においては、前記工程のなかで、プ
リフォームを枠状の型にセットする際に、更に、セラミ
ックス基板とCu板とを配置するのみで、Al−SiC
複合体を得る操作と同様の操作で、ベース板とセラミッ
クス回路基板とが一体に接合された電子部品搭載用基
板、ないしベース一体型セラミックスが得られる。
In the present invention, when the preform is set in a frame-shaped mold in the above process, the Al-SiC
By the same operation as that for obtaining the composite, an electronic component mounting substrate in which the base plate and the ceramic circuit substrate are integrally joined, or a base-integrated ceramic is obtained.

【0023】前記操作において、プリフォームの一主面
にセラミックス基板と同一面積の凹みを設けて、そこに
セラミックス基板を配置すれば、正確な位置決めができ
て好都合である。さらに、回路用の金属板は、外寸を枠
の内寸と同じにしておけば、後の取り扱いでズレを生じ
ることがなく、後工程での位置あわせ等が不要となり好
ましい。
In the above operation, it is convenient to provide a recess having the same area as that of the ceramic substrate on one principal surface of the preform and to dispose the ceramic substrate therein, thereby achieving accurate positioning. Furthermore, it is preferable that the outer dimensions of the metal plate for the circuit be the same as the inner dimensions of the frame, because no misalignment will occur in later handling, and no positioning or the like will be required in subsequent steps.

【0024】上記説明から明らかな通り、使用する多孔
質炭化珪素プリフォームについては、特殊な制限を設け
る必要はなく、どのようなものでも使用することができ
るが、次に記載するように、特定の特性を有するものを
選択することが好ましい。即ち、Cu−SiC複合体の
特性の中で特に重要な特性は、熱伝導率と熱膨張率であ
る。複合体中の炭化珪素(SiC)含有率が高い方が熱
膨張率は小さくなるが、熱伝導率が低下するので、実用
的には、多孔質炭化珪素の相対密度が30〜70体積%
の範囲にあるのが好ましい。またプリフォームの強度
は、曲げ強度で3MPa以上あれば、取り扱い時や含浸
中の割れの心配もなく、好ましい。
As is clear from the above description, the porous silicon carbide preform to be used does not need to be specially limited, and any type can be used. It is preferable to select one having the following characteristics. That is, particularly important characteristics among the characteristics of the Cu—SiC composite are the thermal conductivity and the coefficient of thermal expansion. The higher the content of silicon carbide (SiC) in the composite, the lower the coefficient of thermal expansion, but the lower the thermal conductivity. Therefore, the relative density of the porous silicon carbide is practically 30 to 70% by volume.
Is preferably within the range. In addition, the strength of the preform is preferably 3 MPa or more in bending strength, since there is no fear of cracking during handling or impregnation.

【0025】前記の多孔質炭化珪素の原料である炭化珪
素(SiC)粉については、粒度配合を行うことが好ま
しい。粗粉のみでは、強度発現に乏しく、微粉のみで
は、熱伝導率が低下するからである。本発明者の検討に
よれば、例えば、#350以上の粒径の炭化珪素粗粉4
0〜80質量%と、#1000以下の粒径の炭化珪素微
粉を60〜20質量%とを混合して用いるとよい。
It is preferable that silicon carbide (SiC) powder, which is a raw material of the porous silicon carbide, be blended with a particle size. This is because the coarse powder alone has poor strength development, and the fine powder alone lowers the thermal conductivity. According to the study of the present inventors, for example, silicon carbide coarse powder 4 having a particle size of # 350 or more
It is preferable to use a mixture of 0 to 80% by mass and 60 to 20% by mass of silicon carbide fine powder having a particle size of # 1000 or less.

【0026】カーボン、セラミックスまたは金属の粉や
ファイバーは、成形され、脱脂、焼成の工程を経てプリ
フォームとなり、前記含浸操作に供される。前記したよ
うにプリフォームはセラミックス基板の位置決め用の凹
みを有していた方が工程上有利なので、成型法は、射出
成形や、乾式成形、湿式成形等の型を用いて成形する方
法が好ましい。尚、押し出し成形の場合には、主面に凹
みを設けるのは容易でないが、枠詰めの際の工夫、例え
ば凹みを溝状とすること等、により位置決めの問題も軽
減出来るので、同様に使用可能である。
The carbon, ceramics or metal powder or fiber is formed into a preform through the steps of degreasing and firing, and is subjected to the impregnation operation. As described above, since it is more advantageous for the preform to have the recess for positioning the ceramic substrate in the process, the molding method is preferably injection molding, dry molding, molding using a mold such as wet molding. . In the case of extrusion molding, it is not easy to provide a dent on the main surface. However, since the problem of positioning can be reduced by devising the stuffing of the frame, for example, by making the dent a groove, the same method is used. It is possible.

【0027】プリフォームの強度を3MPa以上に発現
させるために、非酸化性雰囲気下或いは酸化性雰囲気下
で焼成し、その焼成温度を850℃以上とするのが好ま
しい。炭化珪素(SiC)プリフォームの場合、SiC
が酸化して熱伝導率が低下しないよう、空気中で焼成す
る場合は1100℃を超えない温度で焼成することが望
ましい。
In order to make the strength of the preform 3 MPa or more, it is preferable that the preform is fired in a non-oxidizing atmosphere or an oxidizing atmosphere, and the firing temperature is 850 ° C. or more. SiC for silicon carbide (SiC) preform
When calcination is performed in air, it is preferable that the calcination be performed at a temperature not exceeding 1100 ° C. so that the thermal conductivity does not decrease due to oxidation.

【0028】プリフォームを収納する枠材は、Cu溶湯
を型枠内(室内)に導入するための湯口を有するもの
で、鉄が有効である。レーザー加工や打ち抜きプレスに
よって得られ、離型処理を施した後供される。離型処理
は、微粉の黒鉛粉末が有効である。又、仕切板は、鉄又
はステンレス板が好ましい。酸化防止等の処理を施した
後、微粉黒鉛及び/又はBN(窒化硼素)を塗布するの
が離型に対して極めて有効である。仕切板の厚みは、目
的とする製品の厚みと精度によって選択する。製品の厚
みバラツキを20μm以下に抑えたければ、3mm以上
の板、50μm程度が許されるならば、0.3mm程度
まで薄くしてもよい。
The frame material for accommodating the preform has a gate for introducing the molten Cu into the mold (in the room), and iron is effective. Obtained by laser processing or punching press, and provided after release treatment. For the release treatment, fine graphite powder is effective. Further, the partition plate is preferably an iron or stainless plate. It is extremely effective for mold release to apply fine graphite and / or BN (boron nitride) after performing treatments such as oxidation prevention. The thickness of the partition plate is selected according to the thickness and accuracy of the target product. If the thickness variation of the product is to be suppressed to 20 μm or less, a plate of 3 mm or more may be used, and if about 50 μm is allowed, the thickness may be reduced to about 0.3 mm.

【0029】本発明に用いるセラミックス基板として
は、AlN、Si34、Al23(アルミナ)等の汎用
のセラミックスが用いられるが、本発明の目的からし
て、高熱伝導性のセラミックスであることが好ましく、
AlNやSi34の窒化物セラミックスが好ましい。
As the ceramic substrate used in the present invention, general-purpose ceramics such as AlN, Si 3 N 4 and Al 2 O 3 (alumina) are used. For the purpose of the present invention, ceramics having high thermal conductivity are used. Preferably
Preference is given to nitride ceramics such as AlN and Si 3 N 4 .

【0030】本発明における回路用金属板としては、ベ
ース板を構成する含浸金属よりも高融点のものであれば
あればどの様なものであっても構わないが、回路を形成
することができ、しかも熱伝導率、電気伝導率が高いも
のが好ましく、98.5質量%以上の純度のCu板であ
れば使用できる。しかし、より高い信頼性と優れた物性
を両立させるためには、Cu板の純度は99.5%以
上、更に好ましくは99.9%以上の高純度のCu板、
特に無酸素銅板を使用するのがよい。なお、回路材の厚
みは、0.2〜0.5mm程度が一般的であるが、セラ
ミックス基板がAlNの場合は0.2〜0.4mm、S
34の場合は0.3〜0.5mmが好ましい。
The circuit metal plate in the present invention may be of any type as long as it has a higher melting point than the impregnated metal constituting the base plate. Further, those having high thermal conductivity and high electrical conductivity are preferable, and any Cu plate having a purity of 98.5% by mass or more can be used. However, in order to achieve both higher reliability and excellent physical properties, the purity of the Cu plate is at least 99.5%, more preferably at least 99.9%.
In particular, an oxygen-free copper plate is preferably used. The thickness of the circuit material is generally about 0.2 to 0.5 mm, but when the ceramic substrate is AlN, the thickness is 0.2 to 0.4 mm.
preferably 0.3~0.5mm For i 3 N 4.

【0031】前記回路用金属板は、回路材として用いる
他、位置決め材としても使用できる。例えば、押し出し
成形等でプリフォームを成形した場合、セラミックス基
板配置用のキャビティの加工が困難なので、セラミック
基板収納用のくり抜き穴を有する回路用金属板をプリフ
ォームに接して配置し、それを位置決め治具としてセラ
ミックス基板を配置し、その上に回路用の金属板を配置
するというやり方である。この場合、Cu溶湯の侵入を
容易にするため、位置決め用の金属板には、基板位置以
外にも貫通穴を設けておくことが好ましい。さらに、回
路用金属板は、不要部分を切り取って使用しても構わな
い。
The metal plate for a circuit can be used not only as a circuit material but also as a positioning material. For example, when a preform is formed by extrusion molding or the like, it is difficult to process a cavity for placing a ceramic substrate, so a metal plate for a circuit having a hollow hole for accommodating a ceramic substrate is placed in contact with the preform and positioned. In this method, a ceramic substrate is arranged as a jig, and a metal plate for a circuit is arranged thereon. In this case, in order to facilitate the intrusion of the molten Cu, it is preferable to provide a through hole in the metal plate for positioning in addition to the substrate position. Further, the circuit metal plate may be used by cutting out unnecessary portions.

【0032】プリフォーム、セラミックス基板、回路用
金属板を、枠と仕切板で隔離された部屋内に収納したも
のを積層し固定して含浸用のブロックとし、前記ブロッ
クを予備加熱炉に入れ予熱する。予備加熱温度は、含浸
する金属によって適当な温度とする必要があり、また上
限温度は回路用金属板の融点以下である必要がある。本
発明者の実験的な検討によれば、プリフォームが多孔質
炭化珪素焼結体であり、含浸する金属がSiを3質量
%、Mgを0.7質量%含有するCu合金であり、回路
用金属板として無酸素銅を用いる場合、1000〜10
70℃が好ましい範囲である。1000℃以下では含浸
が不良の場合が生じるし、1070℃以上の場合は無酸
素銅板が溶融する恐れがある。また、予備加熱中に銅板
が酸化するのを防止するため、必要に応じて不活性雰囲
気や還元性雰囲気で加熱する必要がある。
A preform, a ceramic substrate, and a metal plate for a circuit, which are housed in a room separated by a frame and a partition plate, are laminated and fixed to form a block for impregnation, and the block is placed in a preheating furnace and preheated. I do. The preheating temperature needs to be an appropriate temperature depending on the metal to be impregnated, and the upper limit temperature must be lower than the melting point of the circuit metal plate. According to an experimental study by the present inventors, the preform is a porous silicon carbide sintered body, the impregnated metal is a Cu alloy containing 3% by mass of Si and 0.7% by mass of Mg, When oxygen-free copper is used as the metal plate for
70 ° C. is a preferred range. If the temperature is lower than 1000 ° C., impregnation may be defective. If the temperature is higher than 1070 ° C., the oxygen-free copper plate may be melted. Further, in order to prevent the copper plate from being oxidized during the preheating, it is necessary to heat in an inert atmosphere or a reducing atmosphere as necessary.

【0033】予備加熱された、含浸用ブロックを、耐圧
性容器内に設置し、前記Cu合金の溶湯を耐圧性容器内
に押し込み、加圧して、合金溶湯をプリフォームに含浸
すると同時にセラミックス基板と回路用金属板との接合
を完了させる。回路用金属板に純度99.5%以上の高
純度Cu板を用い、しかも含浸するCu合金が前記組成
の組み合わせの場合、供給するCu合金の湯温は110
0〜1200℃であれば問題ない。前記範囲よりも温度
が低いと、含浸不良を生じることがあるし、高いときに
は、高純度Cu板の融解が生じることがある。また、C
u合金溶湯の酸化を防止するために、溶湯は不活性雰囲
気または還元性雰囲気に保持することが好ましい。
The preheated impregnating block is placed in a pressure-resistant container, and the molten Cu alloy is pushed into the pressure-resistant container and pressurized to impregnate the preform with the molten alloy and simultaneously with the ceramic substrate. Complete bonding with the circuit metal plate. When a high-purity Cu plate having a purity of 99.5% or more is used as the circuit metal plate, and the Cu alloy to be impregnated is a combination of the above compositions, the temperature of the supplied Cu alloy is 110
If it is 0 to 1200 ° C, there is no problem. If the temperature is lower than the above range, impregnation failure may occur, and if the temperature is higher, melting of the high-purity Cu plate may occur. Also, C
In order to prevent oxidation of the u alloy melt, the melt is preferably maintained in an inert atmosphere or a reducing atmosphere.

【0034】含浸させる金属については、回路用金属板
よりも低融点であれば良く、回路用金属板が無酸素銅板
であるときCu合金が選択される。Cu合金が好ましく
選択される理由は、無酸素銅板の融点以下で融解するこ
と、プリフォームやセラミックス基板と強固な結合を示
すこと、そして無酸素銅板と表面で融合し、脆い合金を
生成しないことから、本発明の目的を充分に達成できる
からである。
The metal to be impregnated only needs to have a lower melting point than the metal plate for a circuit. When the metal plate for a circuit is an oxygen-free copper plate, a Cu alloy is selected. The reason why the Cu alloy is preferably selected is that it melts below the melting point of the oxygen-free copper plate, shows a strong bond with the preform or the ceramic substrate, and does not fuse with the oxygen-free copper plate on the surface to form a brittle alloy. This is because the object of the present invention can be sufficiently achieved.

【0035】前記Cu合金としては、少量添加で融点が
下がる成分を含むCu合金が好ましい。ただし、P(リ
ン)は少量で融点が下がるが、熱伝導率も大きく低下す
るので好ましくない。各種Cu合金の中でも、Cu−S
i系合金が好ましい。Siは他の添加元素に比べて少な
い量で融点を下げ、また熱伝導率の低下が少ないからで
ある。その量は、0.5〜10質量%、好ましくは1.
0〜5.0質量%が好ましい。更に、前記Cu−Si系
合金にMg、Caなどの2a族元素、Yなどの3a族元
素、TiやZrなどの4a族元素を微量添加したもの
は、より強固なセラミックスとの結合が得られ、一層好
ましいものである。前述の添加元素の量は、1質量%以
下で充分な効果が得られる。
The Cu alloy is preferably a Cu alloy containing a component whose melting point is lowered by adding a small amount. However, a small amount of P (phosphorus) lowers the melting point, but undesirably lowers the thermal conductivity. Among various Cu alloys, Cu-S
i-based alloys are preferred. This is because Si lowers the melting point by a smaller amount than the other additive elements, and the decrease in thermal conductivity is small. The amount is 0.5 to 10% by mass, preferably 1.
0-5.0 mass% is preferable. Further, the Cu-Si alloy obtained by adding a small amount of a Group 2a element such as Mg and Ca, a Group 3a element such as Y, or a Group 4a element such as Ti or Zr can provide a stronger bond with ceramics. Is more preferable. A sufficient effect can be obtained when the amount of the above-mentioned additional element is 1% by mass or less.

【0036】含浸操作終了後は、冷却固化後、外周のC
u合金を切除し、内容物を分解し、表面についた離型材
をバフ研磨、サンドブラスト等で除去することで、Cu
−SiC複合体の一主面上にセラミックス基板が搭載さ
れており、しかも両者の表面の少なくとも一部に回路用
金属板が接合されている基板が得られる。前記基板は、
前記回路用金属板よりエッチング等により回路を形成さ
せるのみで、また、必要に応じて加工やメッキ処理を施
して、半導体素子を始めとする各種の電子機器を搭載可
能なベース板一体型セラミックス回路基板を容易に提供
することができる。
After completion of the impregnation operation, after cooling and solidification, C
The u alloy is cut off, the contents are decomposed, and the release material on the surface is removed by buffing, sandblasting, etc.
-A substrate is obtained in which a ceramic substrate is mounted on one main surface of the SiC composite, and a circuit metal plate is bonded to at least a part of the surfaces of both. The substrate is
A base plate-integrated ceramic circuit capable of mounting various electronic devices such as semiconductor elements by simply forming a circuit from the circuit metal plate by etching or the like, and by performing processing and plating as needed. A substrate can be easily provided.

【0037】また、前記基板を得る操作において、予め
プリフォームの一主面上に複数のセラミックス基板を配
置しておくのみで、一つのベース板に複数のセラミック
ス回路基板が搭載された基板を得ることができ、この基
板は、更に一つのベース板上に複数のセラミックス回路
基板を搭載した構造を有するモジュールを容易に提供で
き、電子部品の高密度化に寄与するという利点がある。
尚、前記いずれの場合においても、本発明のベース板一
体型セラミックス回路基板は、その回路の表面とベース
板表面上の金属層の表面とは同一平面上に形成されるこ
ととなる。
In the operation of obtaining the substrate, a substrate having a plurality of ceramic circuit boards mounted on one base plate is obtained only by previously disposing a plurality of ceramic substrates on one main surface of the preform. This substrate has an advantage that it can easily provide a module having a structure in which a plurality of ceramic circuit boards are mounted on one base plate, and contributes to a higher density of electronic components.
In any of the above cases, the surface of the base plate-integrated ceramic circuit board of the present invention is formed on the same plane as the surface of the circuit and the surface of the metal layer on the surface of the base plate.

【0038】ベース板表面上の金属層はエッチング等の
過程において一部或いは全て除去することも可能である
が、本発明者の検討によれば、通常の場合には回路端部
より3mm以上、低電圧用途の場合は1mm以上の領域
をエッチングすれば充分であり、それ以上離れた領域の
除去は、エッチング量を増大するのみで、回路特性の向
上には寄与しない。
The metal layer on the surface of the base plate can be partially or entirely removed in the course of etching or the like. However, according to the study of the present inventors, in a normal case, it is more than 3 mm from the end of the circuit. In the case of low voltage application, it is sufficient to etch a region of 1 mm or more, and the removal of a region more than 1 mm only increases the etching amount and does not contribute to improvement of circuit characteristics.

【0039】以上、Cu−SiC複合材料をベース板に
用いた場合について詳述したが、炭化珪素粉の代わり
に、カーボン、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪
素、タングステン、モリブデン、銅酸化物等の粉或いは
繊維を用いても、前記SiC粉を用いた場合とほぼ同様
にして本発明の基板を得ることができる。金属粉を用い
た場合、焼成工程を経なくても、冷間等方プレス(CI
P)成形によりプリフォームを得ることが出来、また、
含浸工程では、非酸化雰囲気または還元雰囲気に保つこ
とが重要で、含浸金属は4a族元素を微量添加されたも
のが好ましい。また、繊維を用いる場合、短繊維であれ
ば鋳込み成形等を用いてプリフォームを作ることが出来
るし、長繊維ならばそれを布状に織ってプリフォームと
することが出来る。
The case where the Cu—SiC composite material is used for the base plate has been described in detail above. Instead of silicon carbide powder, powders of carbon, alumina, aluminum nitride, silicon nitride, tungsten, molybdenum, copper oxide and the like are used. Alternatively, even when fibers are used, the substrate of the present invention can be obtained in substantially the same manner as when the SiC powder is used. When metal powder is used, a cold isostatic press (CI
P) A preform can be obtained by molding, and
In the impregnation step, it is important to keep the atmosphere in a non-oxidizing atmosphere or a reducing atmosphere, and the impregnated metal is preferably one to which a trace amount of a 4a group element is added. When fibers are used, preforms can be made by casting or the like for short fibers, and preforms can be made by weaving them into cloth for long fibers.

【0040】また、詳述したプリフォームを用いた高圧
下で含浸する方法以外に、ベース板である複合体を構成
する金属粉と金属粉、金属粉とカーボン粉、または金属
粉とセラミックス粉を混合し、それをマトリックス金属
の融点以上に加熱して、それを、回路金属板とセラミッ
クス板を内部に配置した成形金型に注入して、基板とベ
ース板が一体化された基板を製造することもできる。マ
トリックス金属以外の部分は、粉体以外に繊維状物質を
用いることもできる。
In addition to the method of impregnating under high pressure using a preform described in detail, a metal powder and a metal powder, a metal powder and a carbon powder, or a metal powder and a ceramic powder constituting a composite as a base plate are mixed. Mix and heat it above the melting point of the matrix metal and inject it into the forming mold with the circuit metal plate and ceramic plate arranged inside to produce a substrate with integrated substrate and base plate You can also. For portions other than the matrix metal, a fibrous substance can be used other than the powder.

【0041】[0041]

【実施例】以下、実施例並びに比較例をあげて、本発明
を一層詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるも
のではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0042】〔実施例1〕炭化珪素粉末A(大平洋ラン
ダム社製:NG−220、平均粒径:60μm)70
g、炭化珪素粉末B(屋久島電工社製:GC−1000
F、平均粒径:10μm)30g、及びシリカゾル(日
産化学社製:スノーテックス)10gを秤取し、攪拌混
合機で30分間混合した後、中央部の片面に50mm×
50mm×0.6mmのキャビティを有する110mm
×90mm×4.6mmの寸法の平板状に成形した。こ
のとき成形時の圧力は10MPaとした。
Example 1 Silicon Carbide Powder A (NG-220, manufactured by Taiyo Random Co., Ltd., average particle size: 60 μm) 70
g, silicon carbide powder B (GC-1000 manufactured by Yakushima Electric Works Co., Ltd.)
F, 30 g of an average particle diameter: 10 μm) and 10 g of silica sol (Snowtex, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) were weighed and mixed for 30 minutes with a stirring mixer.
110mm with 50mm x 0.6mm cavity
It was formed into a flat plate having dimensions of × 90 mm × 4.6 mm. At this time, the pressure during molding was 10 MPa.

【0043】得られた成形体を、大気中、温度950℃
で2時間焼成して、相対密度が65体積%の多孔質炭化
珪素焼結体を得た。
The obtained molded body was heated in the air at a temperature of 950 ° C.
For 2 hours to obtain a porous silicon carbide sintered body having a relative density of 65% by volume.

【0044】次に、得られた多孔質炭化珪素焼結体を、
離型剤を塗布した0.7mm厚の仕切板上に置かれた、
これも離型剤を塗布した図1の型枠(材質:炭素鋼)内
に配置し、前記多孔質炭化珪素焼結体キャビティ内に5
0×50×0.6mmの170W/mKの特性を有する
窒化アルミニウム基板を挿入した後、前記多孔質炭化珪
素焼結体の外寸に等しい0.3mm厚の無酸素銅板をこ
の上に置いた。この状態で内容物の高さと枠高さが略等
しくなる。これに離型剤を塗布した仕切板(前述の仕切
板と同様のものでサイズは型枠外寸と同じ)を重ね、両
端に6mm厚の鉄板を配し、一つのブロックを形成し
た。
Next, the obtained porous silicon carbide sintered body was
Placed on a 0.7 mm thick partition plate coated with a release agent,
This was also placed in the mold (material: carbon steel) of FIG. 1 coated with a release agent, and 5 μm was placed in the cavity of the porous silicon carbide sintered body.
After inserting an aluminum nitride substrate having a characteristic of 170 W / mK of 0 × 50 × 0.6 mm, an oxygen-free copper plate having a thickness of 0.3 mm equal to the outer dimension of the porous silicon carbide sintered body was placed thereon. . In this state, the height of the contents and the frame height become substantially equal. A partition plate coated with a release agent (similar to the above-described partition plate and having the same size as the outer shape of the mold) was overlaid thereon, and a 6 mm-thick iron plate was arranged on both ends to form one block.

【0045】次に、前記ブロックを電気炉で温度105
0℃に予備加熱し、予め加熱しておいた金型内に入れた
後、温度1100℃に加熱してある、Siを2質量%、
Tiを0.5質量%含むCu合金の溶湯を流し込み、1
00MPaの圧力で10分間加圧して、前記多孔質炭化
珪素焼結体にCu合金を含浸させた。得られた複合体を
含む金属塊は、室温まで冷却したのち、バンドソーにて
切断し型枠内からベース板一体型セラミック基板を離型
した。この状態の断面図を図2に示す。
Next, the block was heated in an electric furnace at a temperature of 105 ° C.
After preheating to 0 ° C and placing in a preheated mold, 2% by mass of Si heated to a temperature of 1100 ° C,
Pour molten metal of Cu alloy containing 0.5% by mass of Ti
The porous silicon carbide sintered body was impregnated with a Cu alloy by applying a pressure of 00 MPa for 10 minutes. After cooling to room temperature, the obtained metal lump including the composite was cut with a band saw, and the base plate-integrated ceramic substrate was released from the mold. FIG. 2 shows a sectional view of this state.

【0046】前記ベース板一体型セラミック基板の表面
についた離型剤を除去するため、#220のバフロール
を備えたバフ研磨機に通した。離型剤除去後、銅板表面
に所望のパターンのエッチングレジストを印刷し、裏面
及び側面はベタ塗りとし、塩化第2鉄溶液で不要部分を
溶解した。さらに、放熱フィン取り付け用の穴加工を施
した後、メッキ処理を行い、ベース板一体型セラミック
回路基板を得た。尚、前記メッキは、無電解Ni−P;
5μm、無電解Ni−B;2μmの2層とした。この状
態の断面図を図3に示す。また、この時点での反り量
は、ほぼ0μmであった。
In order to remove the release agent from the surface of the base plate-integrated ceramic substrate, the ceramic substrate was passed through a buffing machine equipped with a # 220 baffle. After removing the release agent, an etching resist having a desired pattern was printed on the surface of the copper plate, the back surface and the side surfaces were solid-coated, and unnecessary portions were dissolved with a ferric chloride solution. Further, after performing a hole processing for mounting a radiation fin, a plating process was performed to obtain a ceramic circuit board integrated with a base plate. In addition, the said plating is electroless Ni-P;
5 μm, two layers of electroless Ni—B; 2 μm. FIG. 3 shows a sectional view of this state. The amount of warpage at this time was almost 0 μm.

【0047】次に、前記のベース板一体型セラミック回
路基板の回路パターンに、12mm角、厚さ0.4mm
のシリコンチップを半田付けし、冷熱サイクル試験を実
施した。尚、冷熱サイクル試験の条件は、−40℃;3
0分、空気中;10分、125℃;30分、空気中10
分を1サイクルとした。1000サイクル実施後、シリ
コンチップ下のはんだ部でのクラックの発生の有無、基
板自体の割れ、回路の剥離等を詳細に観察したが、全く
異常は認められなかった。
Next, the circuit pattern of the base plate-integrated ceramic circuit board was 12 mm square and 0.4 mm thick.
Was soldered and a thermal cycle test was performed. The condition of the cooling / heating cycle test was -40 ° C;
0 minutes, in air; 10 minutes, 125 ° C .; 30 minutes, in air 10
One minute was one cycle. After 1000 cycles, the presence or absence of cracks in the solder portion under the silicon chip, cracking of the substrate itself, peeling of the circuit, and the like were observed in detail, but no abnormality was found.

【0048】〔実施例2〕炭化珪素粉末A(大平洋ラン
ダム社製:NG−220、平均粒径:60μm)70
g、炭化珪素粉末B(屋久島電工社製:GC−1000
F、平均粒径:10μm)30g、及びシリカゾル(日
産化学社製:スノーテックス)10gを秤取し、攪拌混
合機で30分間混合した後、110mm×90mm×4
mmの形状に10MPaの圧力で成形した。
Example 2 Silicon carbide powder A (NG-220, manufactured by Taiheiyo Random Co., Ltd., average particle size: 60 μm) 70
g, silicon carbide powder B (GC-1000 manufactured by Yakushima Electric Works Co., Ltd.)
F, 30 g of average particle size: 10 μm) and 10 g of silica sol (Snowtex, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) were weighed and mixed with a stirring mixer for 30 minutes, and then 110 mm × 90 mm × 4.
It was molded at a pressure of 10 MPa into a shape of mm.

【0049】得られた成形体を、大気中、温度950℃
で2時間加熱して、相対密度65体積%の多孔質炭化珪
素焼結体を得た。次に、前記の多孔質炭化珪素焼結体
を、離型剤を塗布した0.7mm厚の仕切板上に置かれ
た、これも離型剤を塗布した図1の型枠(材質:炭素
鋼)内に配置し、中央部に50×50の窓を有し、外寸
が前記の多孔質炭化珪素焼結体の外寸に略等しい0.3
mm厚の無酸素銅板をかさねた。次に前記無酸素銅板の
窓部に50×50×0.4mmの100W/mKの特性
をもつ窒化ケイ素基板を挿入した後、前記多孔質炭化珪
素焼結体外寸に略等しい外寸を有する0.4mm厚の無
酸素銅板をこの上に置いた。この状態で内容物の高さと
枠高さが略等しくなる。この状態での断面図を図4に示
す。更に、離型剤を塗布した仕切板(前述の仕切板と同
様のものでサイズは型枠外寸と同じ)を重ね、両面に6
mm厚の鉄板を配した後、一つのブロックを形成した。
The obtained molded body was placed in the air at a temperature of 950 ° C.
For 2 hours to obtain a porous silicon carbide sintered body having a relative density of 65% by volume. Next, the porous silicon carbide sintered body was placed on a 0.7 mm-thick partition plate coated with a release agent, and the mold shown in FIG. 1 (material: carbon Steel) having a 50 × 50 window at the center and having an outer dimension substantially equal to the outer dimension of the porous silicon carbide sintered body.
An oxygen-free copper plate having a thickness of mm was laid up. Next, after inserting a silicon nitride substrate having a characteristic of 100 W / mK of 50 × 50 × 0.4 mm into the window of the oxygen-free copper plate, the outer dimensions of the porous silicon carbide sintered body are substantially equal to those of the porous silicon carbide sintered body. A 0.4 mm thick oxygen-free copper plate was placed on this. In this state, the height of the contents and the frame height become substantially equal. FIG. 4 shows a cross-sectional view in this state. Further, a partition plate coated with a release agent (the same as the above-mentioned partition plate and the size is the same as the outer shape of the mold) is overlapped, and 6
After disposing an iron plate having a thickness of mm, one block was formed.

【0050】以降の操作は、実施例1と同じ操作を行
い、ベース板一体型セラミック回路基板を得た。この状
態での断面図を図5に示す。表面は、Ni−Pメッキ5
μm、Ni−Bメッキ2μmが施されている。この時の
反り量は、回路面が凹で約100μmであった。
The subsequent operations were the same as those in Example 1 to obtain a base plate-integrated ceramic circuit board. FIG. 5 shows a cross-sectional view in this state. The surface is Ni-P plating 5
μm, 2 μm of Ni—B plating. The amount of warpage at this time was about 100 μm with a concave circuit surface.

【0051】前記ベース板一体型回路基板の回路パター
ンに、12mm角、厚さ0.4mmのシリコンチップを
半田付けし、実施例1に示した冷熱サイクル試験を実施
したところ、1000サイクル実施後、シリコンチップ
下のはんだ部分のクラックの発生の有無、基板割れ、回
路の剥離等を詳細に観察したが、全く異常は認められな
かった。
A 12 mm square, 0.4 mm thick silicon chip was soldered to the circuit pattern of the circuit board integrated with the base plate, and the thermal cycle test shown in Example 1 was performed. The occurrence of cracks in the solder portion under the silicon chip, cracks in the substrate, peeling of the circuit, and the like were observed in detail, but no abnormality was observed.

【0052】〔比較例〕炭化珪素粉末A(大平洋ランダ
ム社製:NG−220、平均粒径:60μm)70g、
炭化珪素粉末B(屋久島電工社製:GC−1000F、
平均粒径:10μm)30g、及びシリカゾル(日産化
学社製:スノーテックス)10gを秤取し、攪拌混合機
で30分間混合した後、110mm×90mm×4.6
mmで中央部の片面に50mm×50mm×0.6mm
のキャビティを有する平板状に10MPaの圧力で成形
した。
Comparative Example 70 g of silicon carbide powder A (NG-220, manufactured by Taiyo Random Co., average particle size: 60 μm)
Silicon carbide powder B (manufactured by Yakushima Electric Works: GC-1000F,
30 g of an average particle size: 10 μm) and 10 g of silica sol (Snowtex, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) are weighed and mixed with a stirring mixer for 30 minutes, and then 110 mm × 90 mm × 4.6.
50mm x 50mm x 0.6mm on one side of the central part in mm
And was molded at a pressure of 10 MPa.

【0053】得られた成形体を、大気中、温度950℃
で2時間加熱して、多孔質炭化珪素焼結体とした。得ら
れた多孔質炭化珪素焼結体の相対密度は65体積%であ
った。
The obtained molded body was placed in the air at a temperature of 950 ° C.
For 2 hours to obtain a porous silicon carbide sintered body. The relative density of the obtained porous silicon carbide sintered body was 65% by volume.

【0054】次に、得られた多孔質炭化珪素焼結体を、
離型剤を塗布した0.7mm厚の仕切板上に置かれた、
これも離型剤を塗布した図1の型枠(材質:炭素鋼)内
に配置し、多孔体のキャビティ部に50×50×0.6
mmの170W/mKの窒化アルミニウム基板を挿入し
た。この状態で枠高さが内容物の高さよりも約0.4m
m高い状態であった。これに離型剤を塗布した仕切板
(前述の仕切板と同様のものでサイズは型枠外寸と同
じ)を重ね、両面に6mm厚の鉄板を配した後、一つの
ブロックを形成した。このとき、キャビティ内に置いた
窒化アルミニウム基板がキャビティから脱離することが
無いよう、基板側が常に上部に位置するよう注意しなが
ら行った。
Next, the obtained porous silicon carbide sintered body was
Placed on a 0.7 mm thick partition plate coated with a release agent,
This was also placed in the mold (material: carbon steel) of FIG. 1 to which a release agent was applied, and 50 × 50 × 0.6
mm W / mK aluminum nitride substrate was inserted. In this state, the frame height is about 0.4m higher than the height of the contents.
m higher. A partition plate coated with a release agent (the same as the above-mentioned partition plate and the size is the same as the outer shape of the mold) was overlaid thereon, and an iron plate having a thickness of 6 mm was arranged on both sides to form one block. At this time, care was taken to ensure that the substrate side was always at the top so that the aluminum nitride substrate placed in the cavity did not come off from the cavity.

【0055】次に、窒化アルミニウム基板がキャビティ
から脱離しないように注意しながら、前記ブロックを電
気炉で、温度1050℃に予備加熱し、予め加熱してお
いた金型内に置いた後、温度1100℃に加熱してある
Siを2質量%、Tiを0.5質量%含むCu合金の溶
湯を押し込み、100MPaの圧力で10分間加圧し
て、多孔質炭化珪素焼結体にCu合金を含浸させた。得
られた複合体を含む金属塊は、室温まで冷却したのち、
バンドソーにて切断して型枠内からベース板一体型セラ
ミック基板を離型した。
Next, the block was pre-heated to a temperature of 1050 ° C. in an electric furnace, and placed in a pre-heated mold, while taking care not to remove the aluminum nitride substrate from the cavity. A molten Cu alloy containing 2% by mass of Si and 0.5% by mass of Ti, which has been heated to a temperature of 1100 ° C., is pressed into the porous silicon carbide sintered body by applying a pressure of 100 MPa for 10 minutes. Impregnated. After cooling the metal mass containing the obtained composite to room temperature,
After cutting with a band saw, the ceramic substrate integrated with the base plate was released from the mold.

【0056】以降、実施例1と同じ操作を行い、ベース
板一体型セラミック回路基板を得た。この状態での断面
図を図6に示す。反り量は回路側が凸で約50μmであ
った。
Thereafter, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a ceramic circuit board integrated with a base plate. FIG. 6 shows a cross-sectional view in this state. The amount of warpage was convex on the circuit side and was about 50 μm.

【0057】前記ベース板一体型セラミック回路基板の
回路パターンに、12mm角、厚さ0.4mmのシリコ
ンチップを半田付けし、実施例1に示す冷熱サイクル試
験を実施したところ、500サイクル実施後、セラミッ
クス基板に貫通クラックが生じていた。
A 12 mm square, 0.4 mm thick silicon chip was soldered to the circuit pattern of the base plate-integrated ceramic circuit board, and the thermal cycle test shown in Example 1 was performed. Penetration cracks occurred in the ceramic substrate.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明のベース板一体型セラミックス回
路基板は、高い歩留まりで容易に製造することが出来、
また量産性に優れたものである。そして、熱放散性が優
れ、実用上許容される反り量の有しているので、これを
用いて製造したパワーモジュールは、小型化が可能とな
り、高信頼性を有し、放熱フィン等への接続においても
熱抵抗を増大することがないなどの、産業上有用な優れ
た効果を発揮する。更に、本発明の電子機器搭載用基板
は、その表面の金属層の一部をエッチングすることで、
電子機器搭載可能な前記ベース板一体型セラミックス回
路基板等を容易に提供でき、産業上有用である。
The ceramic circuit board with integrated base plate of the present invention can be easily manufactured with a high yield.
It is also excellent in mass productivity. And since it has excellent heat dissipation and has a warp amount that is practically acceptable, the power module manufactured using this can be downsized, has high reliability, and An excellent effect that is industrially useful, such as not increasing the thermal resistance even in connection. Furthermore, the electronic device mounting substrate of the present invention is obtained by etching a part of the metal layer on the surface thereof,
The base plate-integrated ceramic circuit board or the like that can be mounted on an electronic device can be easily provided, and is industrially useful.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例、比較例において、含浸操作に
用いた枠材の平面図。
FIG. 1 is a plan view of a frame material used in an impregnation operation in Examples and Comparative Examples of the present invention.

【図2】本発明の実施例1におけるベース板一体型セラ
ミック基板(電子機器搭載用基板)の構造を説明するた
めの断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a structure of a base plate-integrated ceramic substrate (substrate for mounting an electronic device) according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例1に係るベース板一体型セラミ
ックス回路基板の構造を説明するための断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the structure of the base plate-integrated ceramic circuit board according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例2における含浸直前での各部材
の配置を説明する図。
FIG. 4 is a view for explaining the arrangement of each member immediately before impregnation in Embodiment 2 of the present invention.

【図5】本発明の実施例2に係るベース板一体型セラミ
ックス回路基板の構造を説明するための断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a structure of a ceramic circuit board integrated with a base plate according to a second embodiment of the present invention.

【図6】比較例に係るベース板一体型セラミックス回路
基板の構造を説明するための断面図。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure of a ceramic circuit board integrated with a base plate according to a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 :枠材 2 :溶湯導入部(湯口) 3 :プリフォーム収納部 4 :金属層(銅板) 5 :セラミックス基板 6 :金属−セラミックス複合体(Cu−SiC複合
体) 7 :回路(銅板) 8 :銅板 9 :銅板 10 :多孔質無機焼結体(プリフォーム:多孔質炭化
珪素焼結体) 11 :含浸用金属(Cu合金) 12 :回路(Cu合金)
1: frame material 2: molten metal introduction part (gate) 3: preform storage part 4: metal layer (copper plate) 5: ceramic substrate 6: metal-ceramic composite (Cu-SiC composite) 7: circuit (copper plate) 8 : Copper plate 9: Copper plate 10: Porous inorganic sintered body (preform: Porous silicon carbide sintered body) 11: Impregnating metal (Cu alloy) 12: Circuit (Cu alloy)

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一主面に凹部を有する又は有していないベ
ース板と、前記ベース板の前記主面上に配置され、前記
ベース板よりも小さいセラミックス基板と、前記ベース
板と前記セラミックス基板との少なくとも一部を共に覆
うように設けられた金属層とからなり、前記金属層のベ
ース板及びセラミックス基板に接しない面が平面状であ
って、しかも、前記ベース板が金属−金属、金属−カー
ボン、もしくは金属−セラミックス複合体であり、前記
複合体中の金属と前記金属層とが銅を主成分とし、かつ
前記金属層の純度が前記複合体中の金属の純度より高い
ことを特徴とする電子機器搭載用基板。
1. A base plate having or not having a concave portion on one main surface, a ceramic substrate disposed on the main surface of the base plate and smaller than the base plate, and the base plate and the ceramic substrate And a metal layer provided so as to cover at least a part of the metal layer, the surface of the metal layer not in contact with the base plate and the ceramics substrate is planar, and the base plate is formed of a metal-metal or a metal. -A carbon or metal-ceramic composite, wherein the metal in the composite and the metal layer are mainly composed of copper, and the purity of the metal layer is higher than the purity of the metal in the composite. Electronic equipment mounting substrate.
【請求項2】セラミックス基板が複数であることを特徴
とする請求項1記載の電子機器搭載用基板。
2. The electronic device mounting substrate according to claim 1, wherein a plurality of ceramic substrates are provided.
【請求項3】請求項1又は請求項2記載の電子機器搭載
用基板の金属層より回路形成してなることを特徴とする
ベース板一体型セラミックス回路基板。
3. A ceramic circuit board integrated with a base plate, wherein a circuit is formed from the metal layer of the board for mounting electronic equipment according to claim 1.
【請求項4】一主面上に回路を有するセラミックス回路
基板と、該セラミックス回路基板の回路を設けていない
主面に接して設けられているベース板とからなるベース
板一体型セラミックス回路基板であって、ベース板が金
属−金属複合体、金属−カーボン複合体、又は金属−セ
ラミックス複合体からなり、前記回路表面と前記ベース
板のセラミックス基板が搭載されセラミックス基板を設
けていない面の高さが同一であり、しかも、前記回路お
よびベース板に含まれる金属が銅を主成分とし、かつ前
記金属層の純度が前記複合体中の金属の純度より高いこ
とを特徴とするベース板一体型セラミックス回路基板。
4. A ceramic circuit board integrated with a base plate, comprising: a ceramic circuit board having a circuit on one main surface; and a base plate provided in contact with a main surface of the ceramic circuit board on which no circuit is provided. The height of the circuit surface and the surface of the base plate on which the ceramic substrate is mounted and on which the ceramic substrate is not provided, wherein the base plate is made of a metal-metal composite, a metal-carbon composite, or a metal-ceramic composite; Wherein the metal contained in the circuit and the base plate is mainly copper, and the purity of the metal layer is higher than the purity of the metal in the composite. Circuit board.
【請求項5】ベース板が、カーボン、炭化珪素、酸化
銅、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、タングス
テンおよびモリブデンから選ばれる1種類以上を主成分
とする多孔質成形体に銅を主成分とする金属を含浸して
なる複合体であることを特徴とする請求項4記載のベー
ス板一体型セラミックス回路基板。
5. A porous molded body whose base plate is mainly composed of at least one selected from the group consisting of carbon, silicon carbide, copper oxide, alumina, aluminum nitride, silicon nitride, tungsten and molybdenum. The ceramic circuit board integrated with a base plate according to claim 4, wherein the ceramic circuit board is a composite body impregnated with a metal.
【請求項6】カーボン、炭化珪素、酸化銅、アルミナ、
窒化アルミニウム、窒化珪素、タングステンおよびモリ
ブデンから選ばれる1種類以上を主成分とし、一主面に
凹部を有する又は有していない多孔質成形体の前記主面
上にセラミックス基板を配置し、更に前記多孔質成形体
とセラミックス基板との少なくとも一部を共に覆うよう
に銅を主成分とする金属板を配置して積層体となし、前
記積層体を容器内に配置し、銅を主成分とする金属を鋳
造して、前記多孔質成形体の空隙に前記銅を主成分とす
る金属を含浸すると共に、多孔質成形体、金属板並びに
セラミックス基板を一体化させることを特徴とする電子
機器搭載用基板の製造方法。
6. Carbon, silicon carbide, copper oxide, alumina,
Aluminum nitride, silicon nitride, tungsten or molybdenum as a main component, a ceramic substrate is disposed on the main surface of the porous molded body having or not having a concave portion on one main surface; A metal plate mainly composed of copper is arranged so as to cover at least a part of the porous molded body and the ceramic substrate together to form a laminate, and the laminate is arranged in a container and mainly composed of copper. Casting a metal, impregnating the voids of the porous molded body with the metal containing copper as a main component, and integrating the porous molded body, a metal plate, and a ceramic substrate, for mounting on an electronic device. Substrate manufacturing method.
【請求項7】カーボン、炭化珪素、酸化銅、アルミナ、
窒化アルミニウム、窒化珪素、タングステンおよびモリ
ブデンから選ばれる1種類以上を主成分とし、一主面に
凹部を有する又は有していない多孔質成形体の前記主面
上にセラミックス基板を配置し、更に前記多孔質成形体
とセラミックス基板との少なくとも一部を共に覆うよう
に金属板を配置して積層体となし、前記積層体を容器内
に配置し、銅を主成分とする金属を鋳造して、前記多孔
質成形体の空隙に前記銅を主成分とする金属を含浸する
と共に、多孔質成形体、金属板並びにセラミックス基板
を一体化させ、その後セラミック基板のベース板とは反
対の面に形成されている金属層もしくは前記金属板より
回路形成することを特徴とするベース板一体型セラミッ
クス回路基板の製造方法。
7. Carbon, silicon carbide, copper oxide, alumina,
Aluminum nitride, silicon nitride, tungsten or molybdenum as a main component, a ceramic substrate is disposed on the main surface of the porous molded body having or not having a concave portion on one main surface; A metal plate is arranged to cover at least a part of the porous molded body and the ceramic substrate to form a laminate, and the laminate is disposed in a container, and a metal containing copper as a main component is cast, While impregnating the voids of the porous molded body with the metal containing copper as a main component, the porous molded body, the metal plate and the ceramic substrate are integrated, and then formed on the surface of the ceramic substrate opposite to the base plate. Forming a circuit from the metal layer or the metal plate described above.
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