JP2002244277A - Photosensitive planographic printing plate and image forming method - Google Patents

Photosensitive planographic printing plate and image forming method

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JP2002244277A
JP2002244277A JP2001038238A JP2001038238A JP2002244277A JP 2002244277 A JP2002244277 A JP 2002244277A JP 2001038238 A JP2001038238 A JP 2001038238A JP 2001038238 A JP2001038238 A JP 2001038238A JP 2002244277 A JP2002244277 A JP 2002244277A
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meth
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planographic printing plate giving satisfactory image strength and printing resistance to an image obtained by scanning exposure with laser light. SOLUTION: In the photosensitive planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer containing an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiating system and a polymer binder on a substrate, the polymer binder consists essentially of a polymer binder (C1) which is a copolymer having an allyl type or vinyl type unsaturated bond in a side chain and a polymer binder (C2) which is typically a copolymer containing a (meth)acrylic ester.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
に関する。詳しくは本発明は、アルミニウム支持体上
に、エチレン性不飽和化合物、光重合開始系及び高分子
結合剤を含有する光重合性感光層を有する感光性平版印
刷版における、当該高分子結合剤の改良に関する。
[0001] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate. Specifically, the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer containing an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiation system and a polymer binder on an aluminum support, Regarding improvement.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、光重合性組成物の露光による
画像形成方法として、エチレン性不飽和化合物と光重合
開始剤、或いは更に高分子結合材等からなる光重合性組
成物からなる感光性層を支持体表面に形成し、露光して
露光部の光重合性組成物中のエチレン性不飽和化合物を
重合、硬化させた後、非露光部を溶解除去することによ
り硬化レリーフ画像を形成する方法が汎用されている。
近年、その露光方法として、生産性の大幅な効率化が図
れるアルゴンイオンレーザー、FD−YAGレーザー、
半導体レーザー、YAGレーザー等のレーザー光による
走査露光が注目され、特に可視光レーザーとしてのアル
ゴンイオンレーザーの波長488nmの光、FD−YA
Gレーザーの波長532nmの光等が有望視されてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for forming an image by exposing a photopolymerizable composition, a photosensitive composition comprising a photopolymerizable composition comprising an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator, or further comprising a polymer binder is used. After forming a layer on the surface of the support, exposing and polymerizing and curing the ethylenically unsaturated compound in the photopolymerizable composition in the exposed portion, a cured relief image is formed by dissolving and removing the non-exposed portion. The method is universal.
In recent years, as an exposure method, an argon ion laser, an FD-YAG laser, which can greatly improve productivity,
Attention has been paid to scanning exposure with laser light such as a semiconductor laser and a YAG laser, and in particular, light of a wavelength of 488 nm of an argon ion laser as a visible light laser, FD-YA
Light with a wavelength of 532 nm of a G laser is promising.

【0003】レーザー走査露光に対応した前記光重合性
組成物の高感度化が盛んに研究されているが、前記レー
ザー光による高速走査露光では、未だ感度が不十分で、
十分な強度を有する画像の形成は困難であった。一方、
レーザー走査露光後の処理によって画像強度を改良せん
とする研究もなされ、例えば、レーザー走査露光後、現
像処理前に加熱処理を行う方法、現像処理後に更に後露
光する方法等が提案されている。例えば、特開平6−1
48885号公報及び特開平6−289611号公報に
記載の発明は、感光層組成に特徴を有するものである
が、その実施例には、現像処理後、後露光することが記
載されている。
[0003] Higher sensitivity of the photopolymerizable composition corresponding to the laser scanning exposure has been actively studied, but the high-speed scanning exposure by the laser beam still has insufficient sensitivity.
It was difficult to form an image having sufficient strength. on the other hand,
Studies have been made to improve the image intensity by processing after laser scanning exposure. For example, a method of performing heat treatment after laser scanning exposure and before development processing, and a method of further post-exposure after development processing have been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-1
The inventions described in JP-A-48885 and JP-A-6-289611 are characterized by the composition of the photosensitive layer. In the examples, post-exposure after development is described.

【0004】このようなレーザー走査露光に適した高感
度の感光層は、カーボンアーク灯、水銀灯、メタロハラ
イドランプなどの普通光を原画を通して露光する感光層
とは配合物組成が異なり、アルミニウムをベースとする
支持体との接着性に問題があることが分かった。その対
策として、加熱処理や後露光などの方法が知られている
が、その場合、専用の加熱処理装置や後露光装置などが
必要となり、コスト、設置場所、作業性などに問題を残
していた。この接着性は耐刷性とも密接な関係にある。
The high-sensitivity photosensitive layer suitable for such laser scanning exposure has a different composition from that of a photosensitive layer such as a carbon arc lamp, a mercury lamp, or a metallohalide lamp which is exposed to an ordinary light through an original image, and is based on aluminum. It was found that there was a problem in the adhesion to the support. As a countermeasure, methods such as heat treatment and post-exposure are known, but in such a case, a dedicated heat treatment device or post-exposure device is required, which leaves problems in cost, installation place, workability, and the like. . This adhesiveness is closely related to the printing durability.

【0005】感光層と支持体との接着性を改良する試み
として、支持体を機械的、化学的、電気化学的手法によ
り粗面化し、引き続いて化学エッチング処理、陽極酸化
処理、化成処理、親水化処理、封孔処理、下塗処理など
各種の処理を組み合わせて、支持体の表面状態を制御す
る方法が各種提案されている。一方、感光層側の改良と
しては、感光層の主剤を構成するエチレン性不飽和化合
物、光重合開始系及び高分子結合剤の構造、性質、配合
量などに関して多数の提案がなされている。また、熱重
合防止剤、消泡剤、着色剤、可塑剤、界面活性剤、現像
促進剤、保存安定剤など感光層に対する各種の添加剤も
多数提案されている。
As an attempt to improve the adhesion between the photosensitive layer and the support, the support is roughened by a mechanical, chemical, or electrochemical method, and subsequently, a chemical etching treatment, an anodic oxidation treatment, a chemical conversion treatment, and a hydrophilic treatment are performed. Various methods have been proposed for controlling the surface state of the support by combining various kinds of treatments such as a chemical conversion treatment, a sealing treatment, and a primer coating treatment. On the other hand, many proposals have been made on the improvement of the photosensitive layer side with regard to the structure, properties, compounding amount and the like of the ethylenically unsaturated compound, the photopolymerization initiation system and the polymer binder constituting the main ingredient of the photosensitive layer. Also, various additives for the photosensitive layer such as a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, a colorant, a plasticizer, a surfactant, a development accelerator, and a storage stabilizer have been proposed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、支持体表面
に感光性層を有する平版印刷版において、支持体と感光
層の接着性を増大させ、平版印刷版の耐刷性を向上させ
ること、並びに平版印刷版の耐薬品性を向上させること
を目的とする。特に本発明は、レーザー光の走査露光に
よって得られた画像に、十分な耐刷力と耐薬品性を与え
た平版印刷版を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate having a photosensitive layer on the surface of a support, in which the adhesion between the support and the photosensitive layer is increased and the printing durability of the lithographic printing plate is improved. And to improve the chemical resistance of the lithographic printing plate. In particular, the present invention provides a lithographic printing plate that imparts sufficient printing durability and chemical resistance to an image obtained by scanning exposure with a laser beam.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、エチレン性不飽和化合
物、光重合開始系及び高分子結合剤を含有する感光層に
おいて、高分子結合剤として、構造、性質の異なる特定
の高分子結合剤を組み合わせて使用することによって、
前記目的を達成し得ることを見出し本発明を完成した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a photosensitive layer containing an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiation system and a polymer binder has a polymer bond. By using a combination of specific polymer binders with different structures and properties,
The inventors have found that the above object can be achieved and completed the present invention.

【0008】即ち、本発明は、支持体上に、エチレン性
不飽和化合物(A)、光重合開始系(B)、及び高分子
結合材(C)を含有する光重合性感光層を有する感光性
平版印刷版において、該高分子結合剤が、少なくとも、
下記の高分子結合剤(C1)及び高分子結合剤(C2)
からなることを特徴とする感光性平版印刷版に存する。
That is, the present invention provides a photosensitive composition having a photopolymerizable photosensitive layer containing an ethylenically unsaturated compound (A), a photopolymerization initiation system (B), and a polymer binder (C) on a support. In a lithographic printing plate, the polymer binder is at least
The following polymer binder (C1) and polymer binder (C2)
Or a photosensitive lithographic printing plate.

【0009】高分子結合剤(C1):一般式(1)Polymer binder (C1): General formula (1)

【0010】[0010]

【化5】 Embedded image

【0011】(式中、R3〜R7は各々独立して水素原
子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニ
トロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を
有していてもよいアルキルアミノ基、置換基を有してい
てもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していても
よいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオ
キシ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、
又は、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基
を示し、Z は酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又は、
アルキルイミノ基を示す。)、又は一般式(2)
(Wherein, R 3 to R 7 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, and a substituent. Alkyl group which may be substituted, alkoxy group which may have a substituent, alkylamino group which may have a substituent, alkylsulfonyl group which may have a substituent, An aryl group which may be substituted, an aryloxy group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent,
Or an arylsulfonyl group which may have a substituent; Is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group, or
Shows an alkylimino group. ) Or general formula (2)

【0012】[0012]

【化6】 Embedded image

【0013】(式中、R3〜R5及びZ は上記と同様を
示す。)で示される重合性不飽和基1種類以上と、一般
式(3)
Wherein R 3 to R 5 and Z Indicates the same as above. ) And one or more polymerizable unsaturated groups represented by general formula (3)

【0014】[0014]

【化7】 Embedded image

【0015】(式中、R0 は各々独立して水素原子又は
メチル基を示し、Z0 は酸素原子又はイミノ基を示
す。)で示される重合性不飽和基1種類以上の合計2種
以上の不飽和結合を有するモノマーを共重合成分とする
共重合体、高分子結合剤(C2):一般式(4)
(Wherein R 0 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 0 represents an oxygen atom or an imino group). Copolymer having a monomer having an unsaturated bond as a copolymer component, polymer binder (C2): general formula (4)

【0016】[0016]

【化8】 Embedded image

【0017】(式中、R1は炭素数1〜15のアルキル
基を、R2は水素原子又はメチル基を、R8及びR9は各
々独立して水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアル
キルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してい
てもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキ
ルスルホニル基を示し、Z は上記と同様を示す。)で
示される不飽和基を1個有するモノマーを共重合成分と
する共重合体。
Wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkyl An amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, Indicates the same as above. A) a copolymer having a monomer having one unsaturated group represented by formula (1) as a copolymer component.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の感光性平版印刷版は、支
持体表面に、(A)エチレン性不飽和化合物、(B)光
重合開始系及び(C)高分子結合材の各成分を含有する
光重合性組成物からなる感光性層が形成されたものであ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photosensitive lithographic printing plate of the present invention comprises the following components on a support: (A) an ethylenically unsaturated compound, (B) a photopolymerization initiation system, and (C) a polymer binder. A photosensitive layer comprising a photopolymerizable composition is formed.

【0019】ここで、感光性層を構成する光重合性組成
物の(A)成分としてのエチレン性不飽和化合物とは、
光重合性組成物が活性光線の照射を受けたときに、
(B)成分としての光重合開始系の作用により付加重合
し、場合により架橋、硬化するようなエチレン性不飽和
結合を有する単量体を言う。尚、ここで言う単量体の意
味するところは、いわゆる重合体に相対する概念であっ
て、狭義の単量体以外にも、二量体、三量体、その他オ
リゴマーをも包含するものとする。また、光重合開始系
とは、ラジカル発生剤(光重合開始剤)と増感剤との組
み合わせを意味する。
Here, the ethylenically unsaturated compound as the component (A) of the photopolymerizable composition constituting the photosensitive layer includes:
When the photopolymerizable composition is irradiated with actinic rays,
(B) A monomer having an ethylenically unsaturated bond that undergoes addition polymerization by the action of a photopolymerization initiation system as a component, and in some cases, crosslinks and cures. In addition, the meaning of the monomer here is a concept corresponding to a so-called polymer, and in addition to the monomer in a narrow sense, includes a dimer, a trimer, and other oligomers. I do. In addition, the photopolymerization initiation system means a combination of a radical generator (photopolymerization initiator) and a sensitizer.

【0020】本発明において、(A)成分のエチレン性
不飽和化合物としては、エチレン性不飽和結合を1分子
中に1個有する化合物、具体的には、例えば、(メタ)
アクリル酸〔尚、本発明において、「(メタ)アクリ
ル」とは、アクリル及びメタクリルを意味するものとす
る。〕、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそ
のアルキルエステル、(メタ)アクリロニトリル、(メ
タ)アクリルアミド、スチレン等であってもよいが、エ
チレン性不飽和結合を1分子中に2個以上有する化合物
が好ましい。
In the present invention, as the ethylenically unsaturated compound as the component (A), a compound having one ethylenically unsaturated bond in one molecule, specifically, for example, (meth)
Acrylic acid [In the present invention, “(meth) acryl” means acryl and methacryl. Unsaturated carboxylic acids such as crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, itaconic acid, and citraconic acid, and alkyl esters thereof, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, and styrene; Compounds having two or more saturated bonds in one molecule are preferred.

【0021】かかる多官能エチレン性不飽和化合物とし
ては、代表的には、ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステル類、ポリイソシアネート化合物とヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート化合物とのウレ
タン(メタ)アクリレート類、ポリエポキシ化合物と
(メタ)アクリル酸又はヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート化合物とのエポキシ(メタ)アクリレート
類、及び、(メタ)アクリロイルオキシ基を有するホス
フェート類等が挙げられる。
Typical examples of the polyfunctional ethylenically unsaturated compound include esters of a polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, and urethane (meth) acrylate of a polyisocyanate compound and a hydroxyalkyl (meth) acrylate compound. And epoxy (meth) acrylates of a polyepoxy compound and a (meth) acrylic acid or a hydroxyalkyl (meth) acrylate compound, and phosphates having a (meth) acryloyloxy group.

【0022】そのエステル類としては、具体的には、例
えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、トリプロピレングリコール、トリ
メチレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール、ノナ
メチレングリコール、トリメチロールエタン、テトラメ
チロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセロー
ル、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、
ソルビトール、及びそれらのエチレンオキサイド付加
物、プロピレンオキサイド付加物、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化
合物と前記の如き不飽和カルボン酸との反応物、具体的
には、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、ヘキサメチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ノナメチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、テトラメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイド付加トリ(メタ)アクリレート、グリセロール
ジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)ア
クリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加ト
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールペン
タ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)
アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロト
ネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等
が挙げられる。
Specific examples of the esters include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, tripropylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, neopentyl glycol, and hexamethylene. Glycol, nonamethylene glycol, trimethylolethane, tetramethylolethane, trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol, dipentaerythritol,
Sorbitol and its reaction products of aliphatic polyhydroxy compounds such as ethylene oxide adducts, propylene oxide adducts, diethanolamine, triethanolamine and the like with unsaturated carboxylic acids as described above, for example, ethylene glycol (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate,
Triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) ) Acrylate, hexamethylene glycol di (meth) acrylate, nonamethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, tetramethylolethanetri (meth) acrylate, trimethylolpropanedi (meth) acrylate, trimethylol Propane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide added tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate Glycerol tri (meth) acrylate, glycerol propylene oxide addition tri (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth)
Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, sorbitol tri (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, sorbitol penta (meth) acrylate, sorbitol hexa (meth)
Acrylates and the like, and similar crotonates, isocrotonates, maleates, itaconates, citraconates and the like can be mentioned.

【0023】更に、そのエステル類として、ヒドロキノ
ン、レゾルシン、ピロガロール等の芳香族ポリヒドロキ
シ化合物と不飽和カルボン酸との反応物、具体的には、
例えば、ヒドロキノンジ(メタ)アクリレート、レゾル
シンジ(メタ)アクリレート、ピロガロールトリ(メ
タ)アクリレート等、又、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート等のヘテロ環ポリヒドロキシ化合
物と不飽和カルボン酸との反応物、具体的には、例え
ば、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
のジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリレート
等、又、ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸と多
価カルボン酸との反応物、具体的には、例えば、エチレ
ングリコールと(メタ)アクリル酸とフタル酸との縮合
物、ジエチレングリコールと(メタ)アクリル酸とマレ
イン酸との縮合物、ペンタエリスリトールと(メタ)ア
クリル酸とテレフタル酸との縮合物、ブタンジオールと
グリセリンと(メタ)アクリル酸とアジピン酸との縮合
物等が挙げられる。
Further, as the esters, a reaction product of an aromatic polyhydroxy compound such as hydroquinone, resorcinol, pyrogallol and an unsaturated carboxylic acid, specifically,
For example, a reaction product of a heterocyclic polyhydroxy compound such as hydroquinone di (meth) acrylate, resorcinol di (meth) acrylate, pyrogallol tri (meth) acrylate, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate with an unsaturated carboxylic acid Specifically, for example, di (meth) acrylate and tri (meth) acrylate of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, and a reaction product of a polyhydroxy compound, an unsaturated carboxylic acid, and a polycarboxylic acid Specifically, for example, a condensate of ethylene glycol with (meth) acrylic acid and phthalic acid, a condensate of diethylene glycol with (meth) acrylic acid and maleic acid, pentaerythritol, (meth) acrylic acid and terephthalic acid With butanediol, glycerin and (meth) Condensates of acrylic acid and adipic acid.

【0024】又、そのウレタン(メタ)アクリレート類
としては、具体的には、例えば、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネー
ト、リジンメチルエステルトリイソシアネート、ダイマ
ー酸ジイソシアネート、1,6,11−ウンデカトリイ
ソシアネート、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシ
アネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネ
ートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキサ
ンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロ
ヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネー
ト、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポ
リイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、
2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネ
ート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリス
(イソシアネートフェニルメタン)、トリス(イソシア
ネートフェニル)チオホスフェート等の芳香族ポリイソ
シアネート、イソシアヌレート等のヘテロ環ポリイソシ
アネート等のポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシ
メチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
テトラメチロールエタントリ(メタ)アクリレート等の
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート化合物との反
応物等が挙げられる。
Examples of the urethane (meth) acrylates include, for example, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, lysine methyl ester triisocyanate, dimer acid Aliphatic polyisocyanates such as diisocyanate, 1,6,11-undecatriisocyanate, 1,3,6-hexamethylenetriisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanatomethyloctane, cyclohexane diisocyanate, dimethylcyclohexane diisocyanate, 4, Alicyclic polyisocyanates such as 4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, and bicycloheptane triisocyanate; p-phenylene diisocyanate,
2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tris (isocyanate phenyl methane) , Aromatic polyisocyanates such as tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, polyisocyanate compounds such as heterocyclic polyisocyanates such as isocyanurate, hydroxymethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Reaction products with a hydroxyalkyl (meth) acrylate compound such as tetramethylolethane tri (meth) acrylate are exemplified.

【0025】又、そのエポキシ(メタ)アクリレート類
としては、具体的には、例えば、(ポリ)エチレングリ
コールポリグリシジルエーテル、(ポリ)プロピレング
リコールポリグリシジルエーテル、(ポリ)テトラメチ
レングリコールポリグリシジルエーテル、(ポリ)ペン
タメチレングリコールポリグリシジルエーテル、(ポ
リ)ネオペンチルグリコールポリグリシジルエーテル、
(ポリ)ヘキサメチレングリコールポリグリシジルエー
テル、(ポリ)トリメチロールプロパンポリグリシジル
エーテル、(ポリ)グリセロールポリグリシジルエーテ
ル、(ポリ)ソルビトールポリグリシジルエーテル等の
脂肪族ポリエポキシ化合物、ソルビタンポリグリシジル
エーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリ
シジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト等のヘテロ環ポリエポキシ化合物、フェノールノボラ
ックポリエポキシ化合物、ブロム化フェノールノボラッ
クポリエポキシ化合物、(o−,m−,p−)クレゾー
ルノボラックポリエポキシ化合物、ビスフェノールAポ
リエポキシ化合物、ビスフェノールFポリエポキシ化合
物等の芳香族ポリエポキシ化合物等のポリエポキシ化合
物と、(メタ)アクリル酸又はヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート化合物との反応物等が挙げられる。
Examples of the epoxy (meth) acrylates include (poly) ethylene glycol polyglycidyl ether, (poly) propylene glycol polyglycidyl ether, (poly) tetramethylene glycol polyglycidyl ether, (Poly) pentamethylene glycol polyglycidyl ether, (poly) neopentyl glycol polyglycidyl ether,
Aliphatic polyepoxy compounds such as (poly) hexamethylene glycol polyglycidyl ether, (poly) trimethylolpropane polyglycidyl ether, (poly) glycerol polyglycidyl ether, (poly) sorbitol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, triglycidyl Heterocyclic polyepoxy compounds such as isocyanurate, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, phenol novolak polyepoxy compound, brominated phenol novolak polyepoxy compound, (o-, m-, p-) cresol novolak polyepoxy Compounds, bisphenol A polyepoxy compounds, bisphenol F polyepoxy compounds and other aromatic polyepoxy compounds such as polyepoxy compounds, and (meth) a Reaction products of acrylic acid or hydroxyalkyl (meth) acrylate compounds.

【0026】又、その(メタ)アクリロイルオキシ基を
有するホスフェート類としては、具体的には、下記一般
式(Ia)又は(Ib)で表されるものが好ましい。
As the phosphates having a (meth) acryloyloxy group, specifically, those represented by the following general formula (Ia) or (Ib) are preferable.

【0027】[0027]

【化9】 Embedded image

【0028】〔式(Ia)及び(Ib)中、R10 は水素原子又
はメチル基を示し、nは1〜25の整数、mは1、2、
又は3である。〕 ここで、nは1〜10、特に1〜4であるのが好まし
く、これらの具体例としては、例えば、(メタ)アクリ
ロイルオキシエチルホスフェート、ビス〔(メタ)アク
リロイルオキシエチル〕ホスフェート、(メタ)アクリ
ロイルオキシエチレングリコールホスフェート等が挙げ
られ、これらはそれぞれ単独で用いても混合物として用
いてもよい。
[In the formulas (Ia) and (Ib), R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group, n is an integer of 1 to 25, m is 1, 2,
Or 3. Here, n is preferably from 1 to 10, particularly preferably from 1 to 4. Specific examples thereof include, for example, (meth) acryloyloxyethyl phosphate, bis [(meth) acryloyloxyethyl] phosphate, (meth) ) Acryloyloxyethylene glycol phosphate and the like, which may be used alone or as a mixture.

【0029】又、その他の多官能エチレン性不飽和化合
物として、前記以外に、例えば、エチレンビス(メタ)
アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、フタル
酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート
等のビニル基含有化合物類等が挙げられる。
Other polyfunctional ethylenically unsaturated compounds other than the above include, for example, ethylene bis (meth)
Examples thereof include (meth) acrylamides such as acrylamide, allyl esters such as diallyl phthalate, and vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate.

【0030】本発明においては、感光性層としての露光
感度、耐刷性、及び現像性等の面から、(A)成分のエ
チレン性不飽和化合物として、前記した(メタ)アクリ
ロイルオキシ基を有するホスフェート類を含有するのが
好ましく、エチレン性不飽和化合物全体に占める該ホス
フェート類の含有量は、1〜60重量%、特には5〜5
0重量%であるのが好ましい。
In the present invention, in view of exposure sensitivity, printing durability, developability, etc. as a photosensitive layer, the (A) component has the above-mentioned (meth) acryloyloxy group as the ethylenically unsaturated compound. It is preferable to contain phosphates, and the content of the phosphates in the whole ethylenically unsaturated compound is 1 to 60% by weight, particularly 5 to 5% by weight.
It is preferably 0% by weight.

【0031】本発明において、感光性層を構成する光重
合性組成物の(B)成分としての光重合開始系は、通
常、ラジカル発生剤(光重合開始剤)と増感剤、場合に
より、更に重合加速剤を含むものである。ラジカル発生
剤は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けたとき
に、活性ラジカルを発生し、(A)成分としての前記エ
チレン性不飽和化合物を重合に到らしめる化合物であっ
て、紫外から近赤外光領域に感受性を有するものがあげ
られる。特に可視光領域に感受性を有するものが好適で
あり、例えば、チタノセン類、ヘキサアリールビイミダ
ゾール類、ハロゲン化炭化水素誘導体類、ジアリールヨ
ードニウム塩類、及び有機過酸化物類等が挙げられる。
中でも、光重合性組成物としての感度、支持体に対する
密着性、及び保存安定性等の面から、チタノセン類、及
びヘキサアリールビイミダゾール類が好ましく、チタノ
セン類が特に好ましい。
In the present invention, the photopolymerization initiation system as the component (B) of the photopolymerizable composition constituting the photosensitive layer generally comprises a radical generator (photopolymerization initiator) and a sensitizer, and in some cases, Further, it contains a polymerization accelerator. The radical generator is a compound that generates an active radical when the photopolymerizable composition is irradiated with an actinic ray and causes the ethylenically unsaturated compound as the component (A) to polymerize, Those having sensitivity in the ultraviolet to near-infrared light region can be mentioned. In particular, those sensitive to the visible light region are preferable, and examples thereof include titanocenes, hexaarylbiimidazoles, halogenated hydrocarbon derivatives, diaryliodonium salts, and organic peroxides.
Among them, titanocenes and hexaarylbiimidazoles are preferable, and titanocenes are particularly preferable, in view of sensitivity as a photopolymerizable composition, adhesion to a support, and storage stability.

【0032】そのチタノセン類としては、例えば、特開
昭59−152396号、特開昭61−151197号
各公報等に記載される化合物、例えば、ジシクロペンタ
ジエニルチタニウムジクロライド、ジシクロペンタジエ
ニルチタニウムビスフェニル、ジシクロペンタジエニル
チタニウムビス(2,4−ジフルオロフェニル)、ジシ
クロペンタジエニルチタニウムビス(2,6−ジフルオ
ロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
(2,4,6−トリフルオロフェニル)、ジシクロペン
タジエニルチタニウムビス(2,3,5,6−テトラフ
ルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニウム
ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ
ル)、ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビ
ス(2,6−ジフルオロフェニル)、ジ(メチルシクロ
ペンタジエニル)チタニウムビス(2,3,4,5,6
−ペンタフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニル
チタニウムビス〔2,6−ジフルオロ−3−(1−ピロ
リル)フェニル〕等が挙げられる。
Examples of the titanocenes include compounds described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197, for example, dicyclopentadienyltitanium dichloride, dicyclopentadienyl Titanium bisphenyl, dicyclopentadienyl titanium bis (2,4-difluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,4,6- Trifluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,4,5,6-pentafluorophenyl), (Methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,6-difluoro Phenyl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,3,4,5,6
-Pentafluorophenyl), dicyclopentadienyltitanium bis [2,6-difluoro-3- (1-pyrrolyl) phenyl] and the like.

【0033】ヘキサアリールビイミダゾール類として
は、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(p−クロロフェニル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェ
ニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−フルオロ
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−
ジブロモフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(p−ヨードフェニル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(o−クロロ−p−メト
キシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−
クロロナフチル)ビイミダゾール等のハロゲン置換芳香
族環を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物が挙
げられ、これらのヘキサアリールビイミダゾール化合物
は、例えば、Bull.Chem.Soc.Japan;33,565(1960)、J.Or
g.Chem.;36,2262(1971) 等に開示されている方法により
合成されるビイミダゾール化合物と併用して用いること
もできる。
The hexaarylbiimidazoles include, for example, 2,2′-bis (o-chlorophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetra (p-chlorophenyl) biimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (p-fluorophenyl) ) Biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-
Dibromophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole,
2,2′-bis (o-bromophenyl) -4,4 ′,
5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetra (p-iodophenyl) biimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetra (o-chloro-p-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-
(Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-
Hexaarylbiimidazole compounds having a halogen-substituted aromatic ring such as chloronaphthyl) biimidazole. These hexaarylbiimidazole compounds include, for example, Bull.Chem.Soc.Japan; 33,565 (1960), J.Or
g. Chem .; 36, 2262 (1971) and the like.

【0034】活性光線の照射時に前記ラジカル発生剤を
活性化して効果的に活性ラジカルを発生させるための増
感剤としては、特に可視光領域に感受性を有するものが
好適であり、例えば、米国特許第3479185号明細
書に開示されるロイコクリスタルバイオレットやロイコ
マラカイトグリーン等のトリフェニルメタン系ロイコ色
素類、エリスロシンやエオシンY等の光還元性染料類、
米国特許第3549367号、同第3652275号各
明細書に開示されるミヒラーズケトンやアミノスチリル
ケトン等のアミノフェニルケトン類、米国特許第384
4790号明細書に開示されるβ−ジケトン類、米国特
許第4162162号明細書に開示されるインダノン
類、特開平6−301208号、特開平8−12925
8号、特開平8−129259号、特開平8−1466
05号、特開平8−211605号各公報に開示される
クマリン系色素類、特開昭52−112681号公報に
開示されるケトクマリン系色素類、特開昭59−564
03号公報に開示されるアミノスチレン誘導体類やアミ
ノフェニルブタジエン誘導体類、米国特許第45943
10号明細書に開示されるアミノフェニル複素環類、米
国特許第4966830号明細書に開示されるジュロリ
ジン複素環類、特開平5−241338号、特開平7−
5685号各公報に開示されるピロメテン系色素類等の
化合物が挙げられる。中で、クマリン系色素類、及びピ
ロメテン系色素類が好ましい。
As the sensitizer for activating the radical generator at the time of irradiation with actinic rays to effectively generate active radicals, those having a sensitivity in the visible light region are particularly preferable. No. 3479185, triphenylmethane-based leuco dyes such as leuco crystal violet and leucomalachite green, photoreducing dyes such as erythrosin and eosin Y,
Aminophenyl ketones such as Michler's ketone and aminostyryl ketone disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,549,367 and 3,652,275;
Β-diketones disclosed in US Pat. No. 4,790,464, indanones disclosed in US Pat. No. 4,162,162, JP-A-6-301208, JP-A-8-12925.
No. 8, JP-A-8-129259, JP-A-8-1466
Coumarin-based pigments disclosed in JP-A Nos. 05-111605 and 8-221605, ketocoumarin-based pigments disclosed in JP-A-52-112681, and JP-A-59-564.
Aminostyrene derivatives and aminophenylbutadiene derivatives disclosed in U.S. Pat.
No. 10, aminophenyl heterocycles disclosed in U.S. Pat. No. 4,966,830; julolidine heterocycles disclosed in U.S. Pat. No. 4,966,830;
Compounds such as pyromethene pigments disclosed in each publication of No. 5885 are exemplified. Among them, coumarin pigments and pyromethene pigments are preferred.

【0035】光重合開始能力を高めるための重合加速剤
としては、例えば、2−メルカプトベンゾチアゾール、
2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベ
ンズオキサゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリ
アゾール等のメルカプト基含有化合物類、N,N−ジア
ルキルアミノ安息香酸エステル、N−フェニルグリシ
ン、又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、その
エステル等の誘導体、N−フェニルアラニン、又はその
アンモニウムやナトリウム塩等の塩、そのエステル等の
誘導体等のN−アリール−α−アミノ酸又はその誘導体
類、及び、下記一般式(II)で表される化合物類等の水素
供与性化合物が挙げられる。
Examples of the polymerization accelerator for enhancing the photopolymerization initiation ability include 2-mercaptobenzothiazole,
Mercapto group-containing compounds such as 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 3-mercapto-1,2,4-triazole; N, N-dialkylaminobenzoic acid ester; N-phenylglycine; N-aryl-α-amino acids or derivatives thereof such as salts such as sodium salts, derivatives such as esters thereof, N-phenylalanine, or salts thereof such as ammonium and sodium salts, derivatives thereof such as esters, and the following general formula: And hydrogen-donating compounds such as the compounds represented by (II).

【0036】[0036]

【化10】 Embedded image

【0037】〔式(II)中、R11 は水素原子、又は置換
基を有していてもよいアルキル基を示し、R12 は水素
原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
有していてもよいビニル基、置換基を有していてもよい
アリル基、置換基を有していてもよい(メタ)アクリロ
イルオキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、
又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を示し、
ベンゼン環は置換基を有していてもよく、pは2〜10
の整数である。〕
[In the formula (II), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, R 12 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, A vinyl group which may have a group, an allyl group which may have a substituent, an (meth) acryloyloxy group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent ,
Or represents an aromatic heterocyclic group which may have a substituent,
The benzene ring may have a substituent, and p is 2 to 10.
Is an integer. ]

【0038】ここで、ベンゼン環の置換基としては、例
えば、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していても
よいアシル基、置換基を有していてもよいアルコキシカ
ルボニル基、置換基を有していてもよいビニル基、置換
基を有していてもよいアリル基、置換基を有していても
よい(メタ)アクリロイルオキシ基、置換基を有してい
てもよいアリール基、又は置換基を有していてもよい芳
香族複素環基等が挙げられる。
Here, examples of the substituent of the benzene ring include an alkyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, and an acyl group which may have a substituent. Group, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, a vinyl group which may have a substituent, an allyl group which may have a substituent, and a group which may have a substituent (meth A) an acryloyloxy group, an aryl group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent.

【0039】本発明において特徴とするところは、感光
性層を構成する光重合性組成物の(C)成分として、特
定の高分子結合剤(C1)(C2)を組み合わせて使用
することにある。以下、各高分子結合剤について説明す
る。高分子結合剤(C1)は、一般式(1)
A feature of the present invention is that a specific polymer binder (C1) or (C2) is used in combination as the component (C) of the photopolymerizable composition constituting the photosensitive layer. . Hereinafter, each polymer binder will be described. The polymer binder (C1) has the general formula (1)

【0040】[0040]

【化11】 Embedded image

【0041】(式中、R3〜R7は各々独立して水素原
子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニ
トロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を
有していてもよいアルキルアミノ基、置換基を有してい
てもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していても
よいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオ
キシ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、
又は、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基
を示し、Z は酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又は、
アルキルイミノ基を示す。)又は一般式(2)
(Wherein, R 3 to R 7 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, and a substituent. Alkyl group which may be substituted, alkoxy group which may have a substituent, alkylamino group which may have a substituent, alkylsulfonyl group which may have a substituent, An aryl group which may be substituted, an aryloxy group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent,
Or an arylsulfonyl group which may have a substituent; Is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group, or
Shows an alkylimino group. ) Or general formula (2)

【0042】[0042]

【化12】 Embedded image

【0043】(式中、R3〜R5及びZ は上記と同様を
示す。)で示される重合性不飽和基1種類以上と、一般
式(3)
Wherein R 3 -R 5 and Z Indicates the same as above. ) And one or more polymerizable unsaturated groups represented by general formula (3)

【0044】[0044]

【化13】 Embedded image

【0045】(式中、R0 は各々独立して水素原子又は
メチル基を示し、Z0 は酸素原子又はイミノ基を示
す。)で示される重合性不飽和基1種類以上の合計2種
以上の不飽和結合を有するモノマーを共重合成分とする
共重合体である。かかる一般式(1)で示される重合性
不飽和基と一般式(3)で示される重合性不飽和基とを
有するモノマーとしては、例えば、アリル(メタ)アク
リレート、3−アリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、N−アリル(メタ)アクリルア
ミド、シンナミル(メタ)アクリレート、クロトニル
(メタ)アクリレート、メタリル(メタ)アクリレー
ト、アリルクロトネート、3−アリルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピルクロトネートなどが挙げられる。これら
のうち、アリル(メタ)アクリレートが特に好ましい。
(Wherein R 0 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 0 represents an oxygen atom or an imino group). Is a copolymer having a monomer having an unsaturated bond as a copolymer component. Examples of the monomer having the polymerizable unsaturated group represented by the general formula (1) and the polymerizable unsaturated group represented by the general formula (3) include, for example, allyl (meth) acrylate, 3-allyloxy-2-hydroxy Propyl (meth) acrylate, N-allyl (meth) acrylamide, cinnamyl (meth) acrylate, crotonyl (meth) acrylate, methallyl (meth) acrylate, allyl crotonate, 3-allyloxy-2-hydroxypropyl crotonate, and the like. . Of these, allyl (meth) acrylate is particularly preferred.

【0046】また、一般式(2)で示される重合性不飽
和基と一般式(3)で示される重合性不飽和基とを有す
るモノマーとしては、例えば、ビニル(メタ)アクリレ
ート、ビニルクロトネート、1−プロペニル(メタ)ア
クリレート、1−クロロビニル(メタ)アクリレート、
2−フェニルビニル(メタ)アクリレート、ビニル(メ
タ)アクリルアミド、1−クロロビニルクロトネート、
1−プロペニルクロトネートなどが挙げられる。これら
のうち、ビニル(メタ)アクリレートが特に好ましい。
Examples of the monomer having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (2) and a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (3) include vinyl (meth) acrylate and vinyl crotonate. , 1-propenyl (meth) acrylate, 1-chlorovinyl (meth) acrylate,
2-phenylvinyl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylamide, 1-chlorovinylcrotonate,
1-propenyl crotonate and the like. Of these, vinyl (meth) acrylate is particularly preferred.

【0047】これらのモノマーを重合性不飽和基を有す
る他のモノマーと共重合させることにより高分子結合剤
(C1)を製造することができる。他のモノマーとして
は、不飽和カルボン酸、(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチ
ル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリロニ
トリル、スチレン、メチルスチレン、酢酸ビニル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等が使用できる
が、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、マレイン酸、クロトン酸、イソクロ
トン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、特に好ま
しくはアクリル酸またはメタクリル酸が用いられる。
The polymer binder (C1) can be produced by copolymerizing these monomers with other monomers having a polymerizable unsaturated group. Other monomers include unsaturated carboxylic acids, methyl (meth) acrylate,
Ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, styrene, methylstyrene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, maleimide and the like can be used. Unsaturated carboxylic acids such as acid, methacrylic acid, maleic anhydride, itaconic acid, maleic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and citraconic acid, and particularly preferably acrylic acid or methacrylic acid are used.

【0048】上記の各モノマーを共重合させることによ
り、一般式(3)で示される重合性不飽和基が優先的に
重合してアクリル系共重合体が得られる。この共重合体
中には、一般式(1)示される重合性不飽和基(アリル
タイプの重合性不飽和基)または一般式(2)で示され
る重合性不飽和基(ビニルタイプの重合性不飽和基)は
重合することなく、大部分そのまま残存することとな
る。一般式(3)で示される重合性不飽和基(アクリル
タイプの重合性不飽和基)の方が前者に比べて重合活性
が大きいからである。
By copolymerizing each of the above monomers, the polymerizable unsaturated group represented by the general formula (3) is preferentially polymerized to obtain an acrylic copolymer. The copolymer includes a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (1) (allyl-type polymerizable unsaturated group) or a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (2) (vinyl-type polymerizable Most of the unsaturated group) remains without being polymerized. This is because the polymerizable unsaturated group (acrylic polymerizable unsaturated group) represented by the general formula (3) has a higher polymerization activity than the former.

【0049】一般式(1)または一般式(2)の構造を
有するモノマーの、共重合ポリマー全体、即ち、高分子
結合剤(C1)に占める割合は、10〜90モル%、好
ましくは30〜80モル%である。この範囲より少ない
と画像再現性に劣り、多くなると現像性が悪くなる。他
のモノマーとして、不飽和カルボン酸を使用したときに
は高分子結合剤(C1)中にカルボキシル基を導入する
ことができるので好ましい。不飽和カルボン酸の使用量
は高分子結合剤(C1)の酸価が10〜250となる範
囲が好ましい。尚、カルボキシル基を含有する高分子結
合剤の酸価は次のように計算される。例えば、モノマー
A、B、Cの共重合体において、モノマーCにカルボキ
シル基が1個存在する場合、その高分子結合剤の酸価
は、 c/([A]×a+[B]×b+[C]×c)×56.
1×1000 として計算される。但し、[A]、[B]、[C]はモ
ノマーA、B、Cの分子量を、またa、b、cはモノマ
ーA、B、Cの共重合率を表す。
The proportion of the monomer having the structure of the general formula (1) or the general formula (2) in the whole copolymer, that is, in the polymer binder (C1) is 10 to 90 mol%, preferably 30 to 90 mol%. 80 mol%. If it is less than this range, the image reproducibility is poor, and if it is too large, the developability deteriorates. When an unsaturated carboxylic acid is used as another monomer, a carboxyl group can be introduced into the polymer binder (C1), which is preferable. The amount of the unsaturated carboxylic acid to be used is preferably such that the acid value of the polymer binder (C1) is 10 to 250. The acid value of the polymer binder having a carboxyl group is calculated as follows. For example, in a copolymer of monomers A, B and C, when one carboxyl group is present in monomer C, the acid value of the polymer binder is c / ([A] × a + [B] × b + [ C] × c) × 56.
Calculated as 1 × 1000. Here, [A], [B], and [C] represent the molecular weights of monomers A, B, and C, and a, b, and c represent the copolymerization rates of monomers A, B, and C.

【0050】共重合の反応方法については、特に限定さ
れるものではないが、例えば次のような方法が例示され
る。一般式(1)または一般式(2)の構造を有するモ
ノマー、及び適当な他のモノマーの所定量を、エタノー
ル等の反応溶媒中に溶解し、アゾビスイソブチロニトリ
ル(AIBN)のような重合開始剤を加えて、通常50
〜100℃で、1〜20時間反応させるところの常法に
より製造される。反応終了後、反応混合物にプロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート(PGM−A
C)等を加えて希釈し、最後にエタノールを除いて共重
合体のPGM−AC溶液を得る。高分子結合剤(C1)
の重量平均分子量は、10,000〜1,000,00
0、好ましくは30,000〜700,000である。
The reaction method for the copolymerization is not particularly limited, but the following method is exemplified. A predetermined amount of a monomer having the structure of the general formula (1) or the general formula (2) and a suitable other monomer is dissolved in a reaction solvent such as ethanol, and a solution such as azobisisobutyronitrile (AIBN) is dissolved. A polymerization initiator is added, and usually 50
It is manufactured by a conventional method in which the reaction is carried out at -100 ° C for 1-20 hours. After completion of the reaction, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGM-A
C) and the like are added and diluted, and finally ethanol is removed to obtain a PGM-AC solution of the copolymer. Polymer binder (C1)
Has a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000
0, preferably 30,000 to 700,000.

【0051】高分子結合剤(C2)は、一般式(4)The polymer binder (C2) has the general formula (4)

【0052】[0052]

【化14】 Embedded image

【0053】(式中、R1は炭素数1〜15のアルキル
基を、R2は水素原子又はメチル基を、R8及びR9は各
々独立して水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアル
キルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してい
てもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキ
ルスルホニル基を示し、Z は上記と同様を示す。)で
示される不飽和基を1個有するモノマーを共重合成分と
する共重合体である。
Wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkyl An amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, Indicates the same as above. ) Is a copolymer containing a monomer having one unsaturated group as a copolymer component.

【0054】かかる一般式(4)で示されるモノマーと
しては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル
酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アク
リル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)
アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、β
−クロロ(メタ)アクリル酸メチル、β−メトキシカル
ボニル(メタ)アクリル酸エチル、N−ブチル(メタ)
アクリルアミド、β−シアノ(メタ)アクリル酸オクチ
ルなどが挙げられ、これらは1種または2種以上の混合
して用いられる。
The monomers represented by the general formula (4) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and hexyl (meth) acrylate. , (Meta)
Octyl acrylate, lauryl (meth) acrylate, β
-Methyl chloro (meth) acrylate, ethyl β-methoxycarbonyl (meth) acrylate, N-butyl (meth) acrylate
Acrylamide, octyl β-cyano (meth) acrylate and the like can be mentioned, and these are used alone or in combination of two or more.

【0055】また、これらのモノマーは、アクリル酸、
メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和
カルボン酸、(メタ)アクリロニトリル、スチレン、メ
チルスチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、マレイミド等他のモノマーと混合して使用できる
が、好ましくは一般式(4)で示されるモノマーが、高
分子結合剤(C2)に占める割合は、5〜95モル%、
好ましくは10〜85モル%である。この範囲より少な
いと画像再現性に劣り、多くなると現像性が悪くなる。
他のモノマーとして、不飽和カルボン酸を使用したとき
には高分子結合剤(C2)中にカルボキシル基を導入す
ることができるので好ましい。不飽和カルボン酸の使用
量は高分子結合剤(C2)の酸価が10〜250となる
範囲が好ましい。また、共重合の方法については、高分
子結合剤(C1)の場合と同様に実施できる。
Further, these monomers include acrylic acid,
It can be used in combination with other monomers such as methacrylic acid, maleic anhydride, unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid, (meth) acrylonitrile, styrene, methylstyrene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, and maleimide. The proportion of the monomer represented by the general formula (4) in the polymer binder (C2) is 5 to 95 mol%,
Preferably it is 10-85 mol%. If it is less than this range, the image reproducibility is poor, and if it is too large, the developability deteriorates.
When an unsaturated carboxylic acid is used as another monomer, a carboxyl group can be introduced into the polymer binder (C2), which is preferable. The amount of the unsaturated carboxylic acid to be used is preferably such that the acid value of the polymer binder (C2) is 10 to 250. The copolymerization can be carried out in the same manner as in the case of the polymer binder (C1).

【0056】高分子結合剤(C1)の性能的特徴は、耐
薬品性に強く、強靱な感光性層を形成することにある
が、フレキシビリティーがないため、支持体との接着が
不十分で、印刷時に小点が飛びやすいといった弱点があ
る。一方、高分子結合剤(C2)は支持体との接着性が
良いが、柔い感光性層を形成するため、印刷時にすり減
り易いという弱点がある。
The performance characteristic of the polymer binder (C1) lies in the formation of a tough photosensitive layer which is strong in chemical resistance, but lacks flexibility and therefore has insufficient adhesion to a support. Therefore, there is a weak point that small dots easily fly during printing. On the other hand, the polymer binder (C2) has good adhesiveness to the support, but has a weak point that it easily wears out during printing because it forms a soft photosensitive layer.

【0057】本発明のポイントは強靱な高分子結合剤
(C1)を、接着剤的役割を果たす高分子結合剤(C
2)と混合することで使いこなす点にあり、高分子結合
剤(C1)と(C2)の混合重量比率は、通常(C
1):(C2)=97:3〜10:90、好ましくは
(C1):(C2)=90:10〜30:70の範囲で
ある。換言すれば、高分子結合剤の全体に対して、高分
子結合剤(C1)10〜97重量%及び高分子結合剤
(C2)3〜90重量%を含む割合で使用される。
The point of the present invention is that the tough polymer binder (C1) is replaced with the polymer binder (C
2), and the mixing weight ratio of the polymer binders (C1) and (C2) is usually (C
1): (C2) = 97: 3 to 10:90, preferably (C1) :( C2) = 90: 10 to 30:70. In other words, the polymer binder (C1) is used in a proportion containing 10 to 97% by weight and the polymer binder (C2) 3 to 90% by weight, based on the entire polymer binder.

【0058】本発明において、感光性層を構成する
(A)成分のエチレン性不飽和化合物、(B)成分の光
重合開始系、及び(C)成分の高分子結合剤の含有割合
は、(A)成分のエチレン性不飽和化合物100重量部
に対して、(B)成分の光重合開始系のうちのラジカル
発生剤は、通常0.1〜80重量部、好ましくは0.5
〜60重量部、増感剤は、通常0.01〜20重量部、
好ましくは0.05〜10重量部、重合加速剤は、通常
0.1〜80重量部、好ましくは0.5〜60重量部で
あり、又、(C)成分の高分子結合剤は、同(C1)
(C2)の合計量として、通常10〜400重量部、好
ましくは20〜200重量部である。
In the present invention, the proportions of the ethylenically unsaturated compound (A), the photopolymerization initiation system (B) and the polymer binder (C) constituting the photosensitive layer are as follows: The radical generator in the photopolymerization initiation system of the component (B) is usually 0.1 to 80 parts by weight, preferably 0.5 to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound of the component A).
6060 parts by weight, the sensitizer is usually 0.01-20 parts by weight,
Preferably 0.05 to 10 parts by weight, the polymerization accelerator is usually 0.1 to 80 parts by weight, preferably 0.5 to 60 parts by weight, and the polymer binder of the component (C) is the same. (C1)
The total amount of (C2) is usually 10 to 400 parts by weight, preferably 20 to 200 parts by weight.

【0059】更に、本発明における光重合性組成物とし
ては、各種添加剤、例えば、ヒドロキノン、p−メトキ
シフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル等の熱重合防止剤を2重量部以下、有機又は無機の染
顔料からなる着色剤を20重量部以下、ジオクチルフタ
レート、ジドデシルフタレート、トリクレジルホスフェ
ート等の可塑剤を40重量部以下、三級アミンやチオー
ル等の感度特性改善剤、フッ素系等の界面活性剤等の塗
布性改良剤や現像促進剤を10重量部以下、色素前駆体
を30重量部以下、の割合で含有していてもよい。
Further, as the photopolymerizable composition in the present invention, various additives, for example, a thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone, p-methoxyphenol and 2,6-di-tert-butyl-p-cresol may be used. 20 parts by weight or less of a colorant comprising an organic or inorganic dye / pigment, 40 parts by weight or less of a plasticizer such as dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, and tricresyl phosphate, and sensitivity characteristics such as tertiary amine and thiol. An improver, a coating improver such as a fluorine-based surfactant or the like, and a development accelerator may be contained in a proportion of 10 parts by weight or less and a dye precursor in a proportion of 30 parts by weight or less.

【0060】本発明の平版印刷版を製造するにあたって
は、前記光重合性組成物を、通常、前記各成分を適当な
溶媒に溶解した溶液として支持体表面に塗布した後、加
熱、乾燥することにより、支持体表面に該光重合性組成
物からなる感光性層を形成することにより作製される。
In preparing the lithographic printing plate of the present invention, the photopolymerizable composition is usually applied to the surface of a support as a solution in which the above components are dissolved in an appropriate solvent, and then heated and dried. To form a photosensitive layer comprising the photopolymerizable composition on the surface of a support.

【0061】支持体は、アルミニウム又はアルミニウム
を主成分とし、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、ク
ロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等を含有する合金
からなる板であり、その厚さは、通常、0.01〜10
mm、好ましくは0.05〜1mmである。
The support is a plate made of aluminum or an alloy containing aluminum as a main component and containing silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, and the like. 0.01-10
mm, preferably 0.05 to 1 mm.

【0062】アルミニウム板支持体としては、その表面
への光重合性組成物からなる感光層の形成に先立ち、通
常、脱脂処理、粗面化処理(砂目立て処理)、デスマッ
ト処理、陽極酸化処理、封孔処理、下引き処理等が施さ
れたものが用いられる。
The aluminum plate support is generally degreased, roughened (grained), desmutted, anodized, prior to forming a photosensitive layer comprising the photopolymerizable composition on its surface. What has been subjected to a sealing treatment, an undercoating treatment and the like is used.

【0063】ここで、脱脂処理は、溶剤を用いて拭き取
り、浸漬、又は蒸気洗浄する方法、アルカリ水溶液を用
いて浸漬、又は噴霧した後、酸水溶液で中和する方法、
界面活性剤を用いて浸漬、又は噴霧する方法等の常法に
従ってなされる。
Here, the degreasing treatment includes a method of wiping, dipping, or steam cleaning using a solvent, a method of dipping or spraying with an aqueous alkali solution, and then neutralizing with an aqueous acid solution.
It is performed according to a conventional method such as a method of dipping or spraying using a surfactant.

【0064】粗面化処理(砂目立て処理)は、ボール研
磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング研磨
法、バフ研磨法等の機械的処理方法、塩酸、硝酸等を用
いる電気化学的エッチング法(電解エッチング法)、酸
又はアルカリエッチング剤を用いる化学エッチング法、
あるいはこれらを適宜組み合わせることにより行なわれ
る。これらの中で、ブラシ研磨法、ボール研磨法、液体
ホーニング研磨法、電解エッチング法、化学エッチング
法等によるのが好ましく、特に、塩酸又は硝酸電解液中
で交流又は直流により電解を行う電解エッチング法が好
ましく、その際、0.5〜5重量%程度の酸濃度、20
〜200A/dm2 程度の電流密度、10〜40V程度
の電圧として、20〜50℃程度の温度で処理するのが
好ましい。電解エッチング法に際して、硫酸、シュウ酸
などを適宜加えると、エッチングと共に酸化皮膜を同時
に形成させることもできる。
The surface roughening treatment (graining treatment) includes mechanical treatment methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a honing polishing method and a buff polishing method, and electrochemical etching using hydrochloric acid, nitric acid or the like. Method (electrolytic etching method), chemical etching method using an acid or alkali etching agent,
Alternatively, they are performed by appropriately combining them. Among them, brush polishing, ball polishing, liquid honing polishing, electrolytic etching, chemical etching, and the like are preferable, and in particular, electrolytic etching in which hydrochloric acid or nitric acid is used to perform electrolysis with alternating current or direct current. In this case, an acid concentration of about 0.5 to 5% by weight,
The treatment is preferably performed at a current density of about 200 A / dm 2 and a voltage of about 10 to 40 V at a temperature of about 20 to 50 ° C. When sulfuric acid, oxalic acid, or the like is appropriately added during the electrolytic etching method, an oxide film can be formed simultaneously with etching.

【0065】酸エッチング剤としては、塩酸、硝酸、硫
酸、リン酸、修酸などが、また、アルカリエッチング剤
としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、アルミ
ン酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、リン酸ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが用いられ
る。これら酸又はアルカリエッチング剤は、通常0.5
〜50重量%、好ましくは1〜30重量%の水溶液で用
いられ、処理温度は、通常20〜100℃、好ましくは
30〜80℃で行なう。高温、高濃度側ではエッチング
速度が大きいので工業生産的に有利であるが、表面状態
の制御や安定性に問題があるので、通常は上記範囲から
選択される。低温・低濃度側でのマイルドなエッチング
処理は、支持体の表面状態の均一性の点で好ましい。こ
のような粗面化処理によって、支持体の表面は、JIS
B0601に規定される平均粗さ(Ra) が0.1〜
1.5μm程度、好ましくは0.2〜1.0μm程度と
なるようになされる。
Examples of the acid etchant include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and oxalic acid. Examples of the alkaline etchant include sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, and the like. Potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like are used. These acid or alkali etching agents are usually 0.5
It is used as an aqueous solution of 5050% by weight, preferably 1-30% by weight, and the treatment is usually carried out at a temperature of 20-100 ° C., preferably 30-80 ° C. On the high temperature and high concentration side, the etching rate is high, which is advantageous for industrial production. However, since there is a problem in control of the surface state and stability, it is usually selected from the above range. Mild etching at a low temperature and low concentration is preferable in terms of uniformity of the surface state of the support. By such a roughening treatment, the surface of the support becomes JIS
The average roughness (Ra) specified in B0601 is 0.1 to
The thickness is about 1.5 μm, preferably about 0.2 to 1.0 μm.

【0066】粗面化処理したアルミニウムの表面には、
機械研磨のカス、エッチングに際しての副生物等、例え
ば、アルミニウムの酸化物、酸化物の水和物、水酸化物
のほかに、鉄分など不純物の酸化物、水酸化物など、ス
マットと呼ばれる物質の蓄積がある。電解エッチングに
よるスマットはささくれ状で、ポーラスなものが多い。
スマットは後工程において、ほこりや汚れの原因になっ
たり、感光層との接着性に悪影響があるとされ、それを
除去する「デスマット」と呼ばれる工程が付加される。
On the surface of the roughened aluminum,
Mechanical polishing scum, by-products during etching, such as aluminum oxide, oxide hydrate, hydroxide, as well as oxides of impurities such as iron, hydroxide, and other substances called smut There is accumulation. The smut formed by electrolytic etching is often in the form of a spud and porous.
The smut is considered to cause dust and dirt in a later step, or has an adverse effect on the adhesiveness to the photosensitive layer, and a step called “desmut” for removing the smut is added.

【0067】デスマット処理は、硫酸、硝酸、塩酸、燐
酸、クロム酸等の酸、又は、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、メタ珪酸ナトリウム、燐酸ナトリウム、ピロ
燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、アルミン酸ナトリウム
等のアルカリの水溶液を用いて浸漬、又は噴霧する等の
常法に従ってなされる。
The desmut treatment may be performed by using an acid such as sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, or chromic acid, or sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium metasilicate, sodium phosphate, sodium pyrophosphate, potassium phosphate, sodium aluminate, or the like. This is performed according to a conventional method such as immersion or spraying using an aqueous alkali solution.

【0068】例えば、濃度1〜4重量%で液温0〜40
℃程度の水酸化ナトリウム水溶液に1〜10秒程浸漬す
る等の条件が挙げられる。好ましくは、0.3〜3重量
%、液温5〜30℃の水酸化ナトリウム水溶液に1〜5
秒浸漬する方法をとることができる。
For example, at a concentration of 1 to 4% by weight and a liquid temperature of 0 to 40%
Conditions such as immersion in an aqueous solution of sodium hydroxide at about 1 ° C. for about 1 to 10 seconds can be given. Preferably, 0.3 to 3% by weight of sodium hydroxide aqueous solution having a liquid temperature of 5 to 30 ° C is 1 to 5%.
A second immersion method can be used.

【0069】次に、デスマットされたアルミニウム表面
を化学的に安定化するために、酸化皮膜を形成させる。
通常は電気化学的な方法がとられる。陽極酸化処理は、
硫酸、燐酸、硼酸等の水溶液を電解液とする方法が一般
的であるが、特に硫酸又は硫酸を主体とし、修酸、燐
酸、クロム酸、マロン酸等を含む水溶液を電解液とする
ものが印刷適性の点で好ましい。その際、酸濃度は、5
〜50重量%、好ましくは15〜30重量%、電流密度
は1〜60A/dm2 、好ましくは2〜50A/d
2 、電圧1〜150V、電解浴温度5〜50℃、好ま
しくは15〜35℃、電解時間5〜60秒程度で処理す
るのが好ましい。これらを用いてアルミニウム板に形成
される酸化皮膜量は、1〜100mg/dm2 、特には
10〜50mg/dm2 であるのが好ましい。
Next, an oxide film is formed to chemically stabilize the desmutted aluminum surface.
Usually, an electrochemical method is used. Anodizing treatment is
Generally, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, boric acid or the like is used as an electrolytic solution. In particular, an aqueous solution containing mainly sulfuric acid or sulfuric acid and an aqueous solution containing oxalic acid, phosphoric acid, chromic acid, malonic acid, or the like is used. It is preferable from the viewpoint of printability. At that time, the acid concentration is 5
5050% by weight, preferably 15-30% by weight, current density is 1-60 A / dm 2 , preferably 2-50 A / d
The treatment is preferably performed at m 2 , voltage of 1 to 150 V, electrolytic bath temperature of 5 to 50 ° C., preferably 15 to 35 ° C., and electrolysis time of about 5 to 60 seconds. The amount of the oxide film formed on the aluminum plate by using these is preferably 1 to 100 mg / dm 2 , and particularly preferably 10 to 50 mg / dm 2 .

【0070】陽極酸化処理された支持体に、必要に応じ
て封孔処理がなされる。この処理は、沸騰水、水蒸気、
珪酸ナトリウム水溶液、重クロム酸塩水溶液等を用いて
浸漬、又は噴霧する等の常法に従ってなされる。
The support subjected to the anodizing treatment is subjected to a sealing treatment as required. This treatment involves boiling water, steam,
This is performed according to a conventional method such as immersion or spraying using an aqueous solution of sodium silicate, an aqueous solution of dichromate, or the like.

【0071】又、必要に応じてなされる下引き処理は、
酸基やオニウム基を含有する樹脂、カチオン性4級アン
モニウム塩基を有する樹脂、ポリビニルホスホン酸、澱
粉、セルロース等の水溶性高分子、フッ化ジルコン酸等
の金属塩の水溶液等を用いて浸漬、又は噴霧する等の常
法に従ってなされる。
The underlining process performed as needed is
A resin containing an acid group or an onium group, a resin having a cationic quaternary ammonium salt group, polyvinylphosphonic acid, starch, a water-soluble polymer such as cellulose, or an aqueous solution of a metal salt such as fluorinated zirconic acid, Or, it is performed according to a conventional method such as spraying.

【0072】又、更に必要に応じて、珪酸ナトリウム等
の珪酸アルカリや熱水による処理、カチオン性4級アン
モニウム塩基を有する樹脂やポリビニルスルホン酸等の
水溶性高分子化合物の水溶液への浸漬処理等を施すこと
ができる。
Further, if necessary, a treatment with an alkali silicate such as sodium silicate or hot water, a dipping treatment of a resin having a cationic quaternary ammonium base or a water-soluble polymer compound such as polyvinyl sulfonic acid in an aqueous solution, etc. Can be applied.

【0073】支持体表面に光重合性組成物溶液を塗布す
る際の溶媒としては、使用成分に対して十分な溶解度を
持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はな
いが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテ
ート等のセロソルブ系溶媒、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエー
テル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレング
リコール系溶媒、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチ
ル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エ
チル、エチル−2−ヒドロキシブチレート、エチルアセ
トアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、3−メトキシ
プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒、ヘプタノー
ル、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリル
アルコール等のアルコール系溶媒、シクロヘキサノン、
メチルアミルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
等の高極性溶媒、或いはこれらの混合溶媒、更にはこれ
らに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。溶
媒の使用割合は、光重合性組成物の総量に対して、通
常、重量比で1〜20倍程度の範囲である。
The solvent for coating the photopolymerizable composition solution on the surface of the support is not particularly limited as long as it has sufficient solubility for the components used and gives good coating properties. For example, methyl cellosolve, ethyl cellosolve,
Cellosolve solvents such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene Propylene glycol solvents such as glycol dimethyl ether, butyl acetate, amyl acetate, ethyl butyrate, butyl butyrate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2-hydroxybutyrate, ethyl acetoacetate, methyl lactate, ethyl lactate, 3-methoxy Ester solvents such as methyl propionate, heptanol, hexanol, Seton alcohol, alcohol-based solvents such as furfuryl alcohol, cyclohexanone,
Examples thereof include ketone solvents such as methyl amyl ketone, highly polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone, and mixed solvents thereof, and those in which an aromatic hydrocarbon is added thereto. The usage ratio of the solvent is usually in the range of about 1 to 20 times by weight based on the total amount of the photopolymerizable composition.

【0074】又、その塗布方法としては、例えば、ディ
ップ塗布、スピナー塗布、スプレー塗布、ロール塗布、
コーティングロッド等を用いることができる。塗布量は
用途により異なるが、乾燥膜厚として、通常0.1〜1
0g/m2 、好ましくは、0.5〜5g/m2 の範囲と
する。
The coating method includes, for example, dip coating, spinner coating, spray coating, roll coating,
A coating rod or the like can be used. The coating amount varies depending on the application, but is usually 0.1 to 1 as a dry film thickness.
0 g / m 2, preferably in the range of 0.5 to 5 g / m 2.

【0075】本発明における光重合性画像形成材は、支
持体表面に形成された前記光重合性組成物の感光性層上
に、光重合性組成物の酸素による重合禁止作用を防止す
るための酸素遮断層が形成されたものであるのが好まし
い。
The photopolymerizable image-forming material of the present invention is used to prevent the polymerization of the photopolymerizable composition by oxygen on the photosensitive layer of the photopolymerizable composition formed on the surface of the support. It is preferable that an oxygen barrier layer is formed.

【0076】酸素遮断層を構成するものとしては、水、
又は、水と、メタノール、エタノール、プロパノール、
イソノニルアルコール等のアルコールやテトラヒドロフ
ラン等の水混和性有機溶剤との混合溶媒に可溶のポリマ
ーであって、例えば、ポリビニルアルコール、及びその
部分アセタール化物、4級アンモニウム塩等によるその
カチオン変性物、スルホン酸ナトリウム等によるそのア
ニオン変性物等の誘導体、ポリピニルピロリドン、ポリ
エチレンオキサイド、メチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、ゼラチン、アラビアゴム、メ
チルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、ポリア
クリル酸エステル部分ケン化物、及び、ビニルピロリド
ン、(メタ)アクリル酸、イタコン酸等の不飽和カルボ
ン酸及びその誘導体等のカルボキシル基含有化合物、ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等のヒドロキシ
基含有化合物等を共重合成分とする共重合体等が挙げら
れる。
The constituents of the oxygen barrier layer are water,
Or, with water, methanol, ethanol, propanol,
A polymer soluble in a mixed solvent with an alcohol such as isononyl alcohol or a water-miscible organic solvent such as tetrahydrofuran, for example, polyvinyl alcohol, and a partially acetalized product thereof, and a cation-modified product thereof such as a quaternary ammonium salt; Derivatives such as anion-modified products thereof with sodium sulfonate, polypinylpyrrolidone, polyethylene oxide, methylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, gelatin, gum arabic, methylvinylether-maleic anhydride copolymer, polyacryl Partially saponified acid esters, carboxyl group-containing compounds such as unsaturated carboxylic acids such as vinylpyrrolidone, (meth) acrylic acid, and itaconic acid and derivatives thereof, hydroxyethyl ( Data) copolymers of copolymerizable components a hydroxyl group-containing compounds such as acrylamide and the like.

【0077】それらの中で、酸素遮断性等の面からポリ
ビニルアルコール及びその誘導体が好ましく、又、その
鹸化度が、70〜99モル%、更には85〜95モル%
で、その重量平均分子量が、0.2〜50万、更には
0.4〜10万であるものが好ましい。
Among them, polyvinyl alcohol and its derivatives are preferred from the viewpoint of oxygen barrier properties and the like, and the degree of saponification is 70 to 99 mol%, more preferably 85 to 95 mol%.
Preferably, the weight average molecular weight is 0.2 to 500,000, more preferably 0.4 to 100,000.

【0078】更に、感光性層との密着性の面から、ポリ
ビニルピロリドンやビニルピロリドン−酢酸ビニル共重
合体等のビニルピロリドン系重合体、アクリル系重合体
エマルジョン、ジイソシアネート化合物、p−トルエン
スルホン酸、ヒドロキシ酢酸等を含有するのが好まし
く、これらを、前記ポリビニルアルコール及びその誘導
体100重量部に対して、0.1〜60重量部、更には
1〜50重量部含有するのが好ましい。
Further, from the viewpoint of adhesion to the photosensitive layer, vinylpyrrolidone polymers such as polyvinylpyrrolidone and vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, acrylic polymer emulsions, diisocyanate compounds, p-toluenesulfonic acid, It is preferable to contain hydroxyacetic acid and the like, and it is preferable to contain these in an amount of 0.1 to 60 parts by weight, more preferably 1 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyvinyl alcohol and its derivative.

【0079】更に又、保存性付与の面から、琥珀酸等の
有機酸やエチレンジアミンテトラ酢酸等の有機酸塩等を
含有するのが好ましく、又、塗布性を向上させる目的等
でポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のノ
ニオン性、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の
アニオン性、アルキルトリメチルアンモニウムクロライ
ド等のカチオン性等の界面活性剤を、その他消泡剤、色
素、可塑剤、pH調整剤等を、前記ポリビニルアルコー
ル及びその誘導体100重量部に対して10重量部以下
の割合で含有していてもよい。
Further, from the viewpoint of imparting preservability, it is preferable to contain an organic acid such as succinic acid or an organic acid salt such as ethylenediaminetetraacetic acid. Nonionics such as phenyl ether, anionics such as sodium dodecylbenzenesulfonate, cationic surfactants such as alkyltrimethylammonium chloride, and other defoaming agents, dyes, plasticizers, pH adjusters, etc. It may be contained in a proportion of 10 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the alcohol and its derivative.

【0080】前記酸素遮断層は、水又は水と水混和性有
機溶剤との混合溶媒の溶液として、前述の感光性層と同
様の塗布法によって形成され、その塗布量は、乾燥膜厚
として、通常1〜10g/m2 、好ましくは、1.5〜
7g/m2 の範囲とする。
The oxygen barrier layer is formed as a solution of water or a mixed solvent of water and a water-miscible organic solvent by the same coating method as that for the above-described photosensitive layer. Usually 1 to 10 g / m 2 , preferably 1.5 to
The range is 7 g / m 2 .

【0081】本発明の画像形成方法は、前記光重合性画
像形成材を、露光した後、現像処理し、必要に応じて更
に加熱処理や後露光するものである。露光は原画を通し
て、カーボンアーク灯、水銀灯、メタロハライドラン
プ、キセノンランプ、タングステンランプなどを照射す
る方法もあるが、本発明においては、レーザー光を用い
る走査露光が好ましい。
In the image forming method of the present invention, the photopolymerizable image forming material is exposed, developed, and, if necessary, further heated or post-exposed. As the exposure, there is a method of irradiating a carbon arc lamp, a mercury lamp, a metallohalide lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, or the like through the original image. In the present invention, scanning exposure using laser light is preferable.

【0082】そのレーザー露光光源としては、例えば、
ヘリウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザ
ー、FD−YAGレーザー、ヘリウムネオンレーザー、
半導体レーザー、YAGレーザー、ルビーレーザー等が
用いられ、具体的には、波長390〜430nm程度の
青紫色領域の半導体レーザー、488nm付近のアルゴ
ンイオンレーザー、532nm付近のFD−YAGレー
ザー、700〜1300nmの半導体レーザーやYAG
レーザー等が挙げられる。レーザー露光量は、使用する
レーザー光源やプロッター機種によって適正値は変わる
が、例えば、波長390〜430nmの青紫色領域の半
導体レーザーでは0.5〜100μJ/cm2 、488
nm近辺のアルゴンイオンレーザーや532nm近辺の
FD−YAGレーザーでは5〜500μJ/cm2 、7
00〜1300nmの半導体レーザーでは0.5〜20
0mJ/cm2 程度が好ましい。従来、レーザー露光
後、40〜300℃の温度範囲で、特に100℃程度に
加熱処理し、潜像を安定化する工程が取り入れられるこ
とが多かったが、本発明においては、支持体と感光層と
の接着性が良好であるので、かかる加熱処理をすること
なく、直接次の現像工程に入ることができる。工程が簡
略化され、生産性に寄与する点、本発明の特徴の一つで
ある。
As the laser exposure light source, for example,
Helium cadmium laser, argon ion laser, FD-YAG laser, helium neon laser,
A semiconductor laser, a YAG laser, a ruby laser, or the like is used. Specifically, a semiconductor laser in a blue-violet region with a wavelength of about 390 to 430 nm, an argon ion laser at about 488 nm, an FD-YAG laser at about 532 nm, and a 700 to 1300 nm Semiconductor laser and YAG
Laser and the like. Laser exposure is varies appropriate value by the laser light source and plotter models which use, for example, a semiconductor laser of blue-violet region having a wavelength of 390~430nm is 0.5~100μJ / cm 2, 488
5 to 500 μJ / cm 2 , 7 for an argon ion laser near 532 nm and an FD-YAG laser near 532 nm.
0.5 to 20 for a semiconductor laser of 00 to 1300 nm
About 0 mJ / cm 2 is preferable. Conventionally, after the laser exposure, a step of stabilizing the latent image by heating at a temperature in the range of 40 to 300 ° C., particularly about 100 ° C., has often been adopted. In the present invention, the support and the photosensitive layer are used. Since the adhesiveness to the film is good, it is possible to directly enter the next development step without performing such heat treatment. One of the features of the present invention is that the process is simplified and contributes to productivity.

【0083】本発明の処理方法では、かかるレーザー露
光機にて感光性平版印刷版を画像露光行った後、現像処
理前に予め保護層を水洗して、その全てもしくは大部分
を除去してもよい。水洗方法は特に限定されないが、具
体的には水中に浸漬して溶解する方法、シャワー状に水
を吹き付けることによって溶解除去させる方法、更には
水に浸漬もしくは水を吹き付けた状態でブラシ除去する
方法などが挙げられる。水洗の温度は、通常4〜70
℃、好ましくは10〜50℃、更に好ましくは15〜3
0℃であり、水洗時間は水洗方法によるが1秒〜5分程
度である。尚、水洗水は必要に応じて、界面活性剤、水
混和性有機溶剤を含んでいてもよい。
In the processing method of the present invention, after the photosensitive lithographic printing plate has been subjected to image exposure with such a laser exposure machine, the protective layer may be washed with water before development to remove all or most of the protective layer. Good. The method of washing with water is not particularly limited, but specifically, a method of dissolving by immersing in water, a method of dissolving and removing by spraying water in a shower, and a method of removing a brush in a state of being immersed or sprayed with water. And the like. The washing temperature is usually 4 to 70
° C, preferably 10 to 50 ° C, more preferably 15 to 3 ° C.
0 ° C., and the washing time is about 1 second to 5 minutes, depending on the washing method. The washing water may contain a surfactant and a water-miscible organic solvent, if necessary.

【0084】又、その際の現像液としては、例えば、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アン
モニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭
酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第二
燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸アンモ
ニウム、第三燐酸アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸
カリウム、硼酸アンモニウム等の無機アルカリ塩、又
は、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、モノブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン等の有機アミ
ン化合物等の0.1〜10重量%程度の水溶液からなる
アルカリ現像液が用いられる。
Examples of the developing solution include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, ammonium silicate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, and the like. Inorganic alkali salts such as sodium bicarbonate, potassium carbonate, sodium phosphate dibasic, sodium phosphate tribasic, ammonium phosphate dibasic, ammonium phosphate tribasic, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, or monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine , Monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, monobutylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diethylamine Alkali developer comprising an aqueous solution of about 0.1 to about 10% by weight of an organic amine compounds such as propanolamine is used.

【0085】又、前記現像液には、画質向上、現像時間
の短縮等を目的として、必要に応じて、例えば、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノ
グリセリドアルキルエステル類等のノニオン性、アルキ
ルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホ
ン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩
類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン性、アル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両性の界面活性剤、イ
ソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プ
ロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の水溶性
有機溶剤等を添加することができる。
For the purpose of improving the image quality and shortening the development time, the above-mentioned developer may contain, for example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl ester. , Sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters, etc., nonionic, alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, sulfosuccinate salts, etc., alkyl betaines, amino acids Amphoteric surfactants such as isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol, etc. It is possible.

【0086】尚、現像は、浸漬現像、スプレー現像、ブ
ラシ現像、超音波現像等の公知の現像法により、通常、
好ましくは10〜60℃程度、更に好ましくは15〜4
5℃程度の温度で、5秒〜10分程度の時間でなされ
る。その際、酸素遮断層は、予め水等で除去しておいて
もよいし、現像時に除去することとしてもよい。
The development is usually performed by a known development method such as immersion development, spray development, brush development, or ultrasonic development.
Preferably about 10 to 60 ° C, more preferably 15 to 4 ° C.
This is performed at a temperature of about 5 ° C. for a time of about 5 seconds to about 10 minutes. At this time, the oxygen barrier layer may be removed in advance with water or the like, or may be removed during development.

【0087】[0087]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

【0088】[実施例1〜5、比較例1〜5]下記のア
ルミニウム板支持体表面に、下記の(A)成分のエチレ
ン性不飽和化合物、(B)成分の重合開始剤としてのラ
ジカル発生剤、増感剤、重合加速剤、(C)成分の高分
子結合材、及びその他成分、並びに溶媒からなる光重合
性組成物塗布液をバーコーターを用いて乾燥膜厚が2.
0g/m2 となるように塗布し、70℃で2分間乾燥し
て光重合性組成物からなる感光性層を形成した。更にそ
の上に、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドン
の混合水溶液(ポリビニルアルコール:ポリビニルピロ
リドン=70重量%:30重量%)をバーコーターを用
いて乾燥膜厚が3g/m2 となるように塗布し、70℃
で4分間乾燥して酸素遮断層を形成することにより、光
重合性画像形成材としての感光性平版印刷版を作製し
た。作製した平版印刷版について、下記に従い、耐刷性
と耐薬品性を評価した。
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 The following ethylenically unsaturated compounds as component (A) and radicals as polymerization initiators as component (B) were formed on the surface of the following aluminum plate support: The coating thickness of the coating liquid of the photopolymerizable composition comprising a sensitizer, a sensitizer, a polymerization accelerator, a polymer binder of the component (C), and other components, and a solvent is adjusted to a dry film thickness of 2.
The composition was applied so as to be 0 g / m 2 and dried at 70 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer composed of the photopolymerizable composition. Further, a mixed aqueous solution of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone (polyvinyl alcohol: polyvinyl pyrrolidone = 70% by weight: 30% by weight) was further applied thereon using a bar coater so that the dry film thickness became 3 g / m 2 , ° C
For 4 minutes to form an oxygen barrier layer, thereby preparing a photosensitive lithographic printing plate as a photopolymerizable image forming material. The lithographic printing plate thus prepared was evaluated for printing durability and chemical resistance according to the following.

【0089】支持体の製造 厚さ0.24mmのアルミニウム原反を3重量%水酸化
ナトリウム水溶液にて脱脂処理した後、水洗した。次い
で、18.0g/リットル硝酸浴中で、25℃、90A
/dm2 の電流密度で、11秒間、電解エッチングによ
る粗面化処理を行なった。水洗後、30℃の4.5重量
%水酸化ナトリウム水溶液に5秒間浸漬することによっ
てデスマット処理した。デスマット処理後、水洗し、2
5℃の10重量%硝酸水溶液で5秒間中和し、水洗し
た。次いで、30重量%硫酸浴中で、30℃、10A/
dm2 の電流密度で16秒間、陽極酸化処理し、水洗、
乾燥してアルミニウム板支持体を得た。
Production of Support A raw aluminum sheet having a thickness of 0.24 mm was degreased with a 3% by weight aqueous solution of sodium hydroxide and then washed with water. Then, in a 18.0 g / liter nitric acid bath, 25 ° C., 90 A
A surface roughening treatment by electrolytic etching was performed at a current density of / dm 2 for 11 seconds. After washing with water, it was immersed in a 4.5% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 30 ° C. for 5 seconds to be desmutted. After desmut treatment, wash with water
The solution was neutralized with a 10% by weight aqueous solution of nitric acid at 5 ° C. for 5 seconds and washed with water. Then, in a 30% by weight sulfuric acid bath, 30 ° C., 10 A /
Anodize at current density of dm 2 for 16 seconds, wash with water,
After drying, an aluminum plate support was obtained.

【0090】(A)エチレン性不飽和化合物 下記A1のメタクリロイルオキシエチルホスフェート
とビス(メタクリロイルオキシエチル)ホスフェートと
の混合物(酸価171);11重量部 下記A2のヘキサメチレンビス〔トリス(アクリロイ
ルオキシメチル)エチルウレタン〕(酸価ゼロ);22
重量部 下記A3の2,2−ビス(4−アクリロイルオキシジ
エチレンオキシフェニル)プロパン(酸価ゼロ);22
重量部
(A) Ethylenically unsaturated compound Mixture of methacryloyloxyethyl phosphate and bis (methacryloyloxyethyl) phosphate of the following A1 (acid value 171); 11 parts by weight of hexamethylene bis [tris (acryloyloxymethyl) of the following A2 ) Ethyl urethane] (zero acid value); 22
Parts by weight 2,2-bis (4-acryloyloxydiethyleneoxyphenyl) propane of A3 below (acid value zero); 22
Parts by weight

【0091】[0091]

【化15】 Embedded image

【0092】(B)光重合開始剤 (B−1)ラジカル発生剤 ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(1−ピロリル)フェニル〕;5重量部
(B) Photopolymerization initiator (B-1) Radical generator dicyclopentadienyltitanium bis [2,6-difluoro-3- (1-pyrrolyl) phenyl]; 5 parts by weight

【0093】(B−2)増感剤 下記Dの化合物;0.5重量部 下記Eの化合物;0.5重量部 (B-2) Sensitizer Compound of the following D; 0.5 parts by weight Compound of the following E; 0.5 parts by weight

【0094】[0094]

【化16】 Embedded image

【0095】(B−3)重合加速剤 2−メルカプトベンゾチアゾール;5重量部 N−フェニルグリシンベンジルエステル;5重量部 (B-3) Polymerization accelerator 2-mercaptobenzothiazole; 5 parts by weight N-phenylglycine benzyl ester; 5 parts by weight

【0096】(C)高分子結合剤 (C1)羽付き撹拌棒、還流冷却器、窒素配管を備え
た3リットルの4つ口フラスコにアリルメタクリレート
107g、メタクリル酸13g、及び反応溶剤としてエ
タノール1.6リットルを入れ、90℃のオイルバスで
加熱撹拌した。この溶液にアゾビスイソブチロニトリル
(AIBN)1.6gを400mlのエタノールに溶解
して加えた。3時間加熱撹拌した後、窒素配管を外し、
p−メトキシフェノール0.04g、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート(PGM−AC)を
400ml加え、バス温を100℃に上昇させ、1時間
加熱撹拌を続けた。最後にエタノールを留去し、共重合
体の20重量%溶液を得た。共重合体の重量平均分子量
は18万、酸価は71であった。
(C) Polymeric Binder (C1) 107 g of allyl methacrylate, 13 g of methacrylic acid, and ethanol as a reaction solvent were placed in a 3 liter four-necked flask equipped with a stir bar equipped with blades, a reflux condenser, and a nitrogen pipe. 6 liters were added and heated and stirred in a 90 ° C. oil bath. 1.6 g of azobisisobutyronitrile (AIBN) dissolved in 400 ml of ethanol was added to this solution. After heating and stirring for 3 hours, remove the nitrogen piping,
0.04 g of p-methoxyphenol and 400 ml of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGM-AC) were added, the bath temperature was raised to 100 ° C, and heating and stirring were continued for 1 hour. Finally, ethanol was distilled off to obtain a 20% by weight solution of the copolymer. The weight average molecular weight of the copolymer was 180,000 and the acid value was 71.

【0097】(C1)羽付き撹拌棒、還流冷却器、窒
素配管を備えた3リットルの4つ口フラスコにアリルメ
タクリレート67g、メチルメタクリレート20g、メ
タクリル酸17g、及び反応溶剤としてエタノール1.
6リットルを入れ、90℃のオイルバスで加熱撹拌し
た。この溶液にAIBN1.6gを400mlのエタノ
ールに溶解して加えた。3時間加熱撹拌した後、窒素配
管を外し、p−メトキシフェノール0.04g、PGM
−ACを400ml加え、バス温を100℃に上昇さ
せ、1時間加熱撹拌を続けた。最後にエタノールを留去
し、共重合体の18重量%溶液を得た。共重合体の重量
平均分子量は14万、酸価は106であった。
(C1) 67 g of allyl methacrylate, 20 g of methyl methacrylate, 17 g of methacrylic acid and ethanol as a reaction solvent were placed in a three-liter four-necked flask equipped with a stir bar equipped with a blade, a reflux condenser and a nitrogen pipe.
6 liters were added and heated and stirred in a 90 ° C. oil bath. 1.6 g of AIBN dissolved in 400 ml of ethanol was added to this solution. After heating and stirring for 3 hours, the nitrogen pipe was removed, and 0.04 g of p-methoxyphenol, PGM
-400 ml of AC was added, the bath temperature was raised to 100 ° C, and heating and stirring were continued for 1 hour. Finally, ethanol was distilled off to obtain an 18% by weight solution of the copolymer. The weight average molecular weight of the copolymer was 140,000, and the acid value was 106.

【0098】(C1)羽付き攪拌棒、還流冷却器、窒
素管を備えた3L 四つ口フラスコにビニルメタクリレ
ート45g、2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピ
ルメタクリレート60g、アクリロニトリル8.0g、
メタアクリル酸13g、及び反応溶剤としてエタノール
1.6Lを入れ、80℃のオイルバスで加熱攪拌した。
この溶液にAIBN1.6gを400mlのエタノール
に溶解して加えた。3時間加熱攪拌した後窒素管を外
し、p−メトキシフェノール0.04g、PGM−AC
400mlを加え、バス温を100℃に上昇させ、1時
間加熱攪拌を続けた。最後にエタノールを留去し、エチ
レン性高分子結合剤の23重量%溶液を得た。共重合体
の重量平均分子量は23万、酸価は67であった。得ら
れた結合剤溶液はPGM−ACで希釈し、20重量%溶
液として使用した。
(C1) 45 g of vinyl methacrylate, 60 g of 2-hydroxy-3-allyloxypropyl methacrylate, 8.0 g of acrylonitrile were placed in a 3 L four-necked flask equipped with a stirring rod with a blade, a reflux condenser, and a nitrogen tube.
13 g of methacrylic acid and 1.6 L of ethanol as a reaction solvent were added, and the mixture was heated and stirred in an oil bath at 80 ° C.
1.6 g of AIBN dissolved in 400 ml of ethanol was added to this solution. After heating and stirring for 3 hours, the nitrogen tube was removed, and 0.04 g of p-methoxyphenol and PGM-AC were removed.
400 ml was added, the bath temperature was raised to 100 ° C., and the heating and stirring were continued for 1 hour. Finally, ethanol was distilled off to obtain a 23% by weight solution of the ethylenic polymer binder. The weight average molecular weight of the copolymer was 230,000, and the acid value was 67. The obtained binder solution was diluted with PGM-AC and used as a 20% by weight solution.

【0099】(C1)羽付き攪拌棒、還流冷却器、窒
素管を備えた3L 四つ口フラスコにビニルメタクリレ
ート79g、アクリロニトリル8.0g、メタアクリル
酸13g、及び反応溶剤としてエタノール1.6Lを入
れ、80℃のオイルバスで加熱攪拌した。この溶液にA
IBN1.6gを400mlのエタノールに溶解して加
えた。3時間加熱攪拌した後窒素管を外し、p−メトキ
シフェノール0.04g、PGM−AC400mlを加
え、バス温を100℃に上昇させ、1時間加熱攪拌を続
けた。最後にエタノールを留去し、エチレン性高分子結
合剤23重量%溶液を得た。共重合体の重量平均分子量
は15万、酸価は85であった。得られた結合剤溶液は
PGM−ACで希釈し、20重量%溶液として使用し
た。
(C1) 79 g of vinyl methacrylate, 8.0 g of acrylonitrile, 13 g of methacrylic acid, and 1.6 L of ethanol as a reaction solvent were placed in a 3 L four-necked flask equipped with a stirring rod with a blade, a reflux condenser, and a nitrogen tube. And heated and stirred in an oil bath at 80 ° C. A
1.6 g of IBN was dissolved in 400 ml of ethanol and added. After heating and stirring for 3 hours, the nitrogen tube was removed, 0.04 g of p-methoxyphenol and 400 ml of PGM-AC were added, the bath temperature was raised to 100 ° C, and heating and stirring were continued for 1 hour. Finally, ethanol was distilled off to obtain a 23% by weight solution of the ethylenic polymer binder. The weight average molecular weight of the copolymer was 150,000 and the acid value was 85. The obtained binder solution was diluted with PGM-AC and used as a 20% by weight solution.

【0100】(C2)エチルアクリレート/アクリロ
ニトリル/メタクリル酸/ヒドロキシフェニルメタクリ
ルアミド=60/20/10/10(モル%)のモノマ
ー混合物を、全モノマーのモノマー濃度が7.15モル
%となるようなメタノール/アセトン=1:1の溶液を
調整し、この溶液に全モノマー比1.25モル%相当量
のAIBNを加え、羽根付き撹拌棒、還流冷却機管、窒
素配管を備えた容器で、撹拌しながら65℃にて窒素気
流下6時間還流を行なった.反応終了後、全モノマー比
0.04モルのヒドロキノンを加え、反応液を水中に投
じて、共重合体を沈殿させた。これを濾取し、60℃に
て3日間乾燥させた。得られた共重合体の重量平均分子
量は7万、酸価は58であった。
(C2) A monomer mixture of ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid / hydroxyphenyl methacrylamide = 60/20/10/10 (mol%) was prepared so that the monomer concentration of all monomers was 7.15 mol%. A solution of methanol / acetone = 1: 1 was prepared, AIBN was added to the solution in an amount equivalent to 1.25 mol% of the total monomer ratio, and the mixture was stirred in a vessel equipped with a stirring rod equipped with blades, a reflux condenser tube, and a nitrogen pipe. The mixture was refluxed at 65 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream. After the reaction was completed, hydroquinone having a total monomer ratio of 0.04 mol was added, and the reaction solution was poured into water to precipitate a copolymer. This was collected by filtration and dried at 60 ° C. for 3 days. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 70,000, and the acid value was 58.

【0101】(C2)ブチルアクリレート/メチルメ
タクリレート/メタクリル酸=10/70/20(モル
%)の共重合体:重量平均分子量は6万、酸価は11
2。 (C2)メチルメタクリレート/メタクリル酸=70
/30(モル%)の共重合体:重量平均分子量は10
万、酸価は175。
(C2) Copolymer of butyl acrylate / methyl methacrylate / methacrylic acid = 10/70/20 (mol%): weight average molecular weight: 60,000, acid value: 11
2. (C2) methyl methacrylate / methacrylic acid = 70
/ 30 (mol%) copolymer: weight average molecular weight is 10
10,000, acid value is 175.

【0102】その他成分 顔料(P.B.15:6);4重量部 分散剤(ビックケミー社製「Disperbyk 161」);
2重量部 界面活性剤(花王社製「エマルゲン104P」);2
重量部 界面活性剤(旭硝子社製「S−381」);0.3重
量部
Other component pigment (P.B. 15: 6); 4 parts by weight dispersant ("Disperbyk 161" manufactured by BYK Chemie);
2 parts by weight surfactant (“Emulgen 104P” manufactured by Kao Corporation); 2
Parts by weight surfactant ("S-381" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.); 0.3 parts by weight

【0103】溶媒 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト;600重量部 シクロヘキサノン;545重量部
Solvent Propylene glycol monomethyl ether acetate; 600 parts by weight cyclohexanone; 545 parts by weight

【0104】得られた感光性平版印刷版を、FD−YA
Gレーザー露光機(Cymbolic Science International社
製「Platejet」)を用いて、2000dpi、6.8m
Wの条件(露光量120μJ/cm2 )で2%の平編み
と5%の平編みとを露光した。その後、珪酸カリウム3
容量%、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム系界
面活性剤(濃度35重量%、花王社製「ペレックスNB
L」)5容量%、水92容量%からなる現像液を用い
て、自動現像機(Western Litho Tech 社製 Diamond
Processer)で現像液温30℃、搬送速度4FPMで現
像処理を行なった。
The obtained photosensitive lithographic printing plate was subjected to FD-YA
Using a G laser exposure machine (“Platejet” manufactured by Cybolic Science International), 2000 dpi, 6.8 m
Under the condition of W (exposure amount: 120 μJ / cm 2 ), 2% flat knitting and 5% flat knitting were exposed. Then, potassium silicate 3
% By volume, sodium alkylnaphthalenesulfonate-based surfactant (concentration: 35% by weight, "Perex NB" manufactured by Kao Corporation)
L ") using an automatic developing machine (Western Litho Tech, Diamond
(Developer) at a developer temperature of 30 ° C. and a transport speed of 4 FPM.

【0105】平版印刷版の評価 耐刷性 得られた平版印刷版を印刷機(ローランド社製、RP−
1)にかけ、耐刷テストを行なった。耐刷性は、3万枚
印刷後の画像部の2%の再現状態で判定した。 ○;再現率90%以上 △;再現率50%以上、90%未満 ×;再現率50%未満
Evaluation of lithographic printing plate Printing durability The obtained lithographic printing plate was printed with a printing machine (RP-R
1), and a printing durability test was performed. The printing durability was determined by a reproduction state of 2% of the image area after printing 30,000 sheets. ;: Reproducibility of 90% or more △: Reproducibility of 50% or more, less than 90% ×: Reproducibility of less than 50%

【0106】耐薬品性 得られた平版印刷版を印刷機(ローランド社製、RP−
1)にかけ印刷しながら、5%平編み部を2000枚印
刷毎にプレートクリーナー(A.B.C. Chemical社製、ウ
イルトラプレートクリーナー)で版面を10往復拭き、
1万枚目の版の様子で耐薬品性テストを行った。耐薬品
性は、1万枚印刷後の5%の再現状態で判定した。 ○;再現率90%以上 △;再現率50%以上、90%未満 ×;再現率50%未満
Chemical resistance The obtained lithographic printing plate was applied to a printing machine (RP-R
While printing over 1), the plate surface was wiped 10 times back and forth with a plate cleaner (Wiltra plate cleaner, manufactured by ABC Chemical Co.) every 2,000 sheets of 5% flat knitted parts,
A chemical resistance test was performed on the 10,000th plate. Chemical resistance was determined in a reproduction state of 5% after printing 10,000 sheets. ;: Reproducibility of 90% or more △: Reproducibility of 50% or more, less than 90% ×: Reproducibility of less than 50%

【0107】各実施例及び比較例について、高分子結合
剤の処方及び評価結果を表1にまとめた。尚、高分子結
合剤の重量部は共重合体固形分の正味重量を示してお
り、溶媒を含まないものである。高分子結合剤として
(C1)と(C2)を併用した実施例1〜5の感光性平
板印刷版は耐刷性、耐薬品性とも優れている。一方、
(C1)のみの場合(比較例1、2、5)は、耐薬品性
は良好なるも耐刷性に問題がある。また、(C2)のみ
の場合(比較例3〜4)は、耐刷性は良好なるも耐薬品
性に問題があり、(C2)を2種類併用しても同様であ
ることがわかる。
Table 1 summarizes the formulation and evaluation results of the polymer binder for each of the examples and comparative examples. The parts by weight of the polymer binder indicate the net weight of the solid content of the copolymer and does not include the solvent. The photosensitive lithographic printing plates of Examples 1 to 5 in which (C1) and (C2) are used in combination as the polymer binder are excellent in both printing durability and chemical resistance. on the other hand,
In the case of only (C1) (Comparative Examples 1, 2, and 5), although the chemical resistance is good, there is a problem in printing durability. In addition, when only (C2) was used (Comparative Examples 3 and 4), although the printing durability was good, there was a problem in the chemical resistance.

【0108】[0108]

【表1】 [Table 1]

【0109】[0109]

【発明の効果】本発明によれば、支持体と感光層の接着
性に優れ、耐薬品性・耐刷性に優れた感光性平板印刷版
が得られる。特に、レーザー光の走査露光によって得ら
れた画像に、十分な画像強度と耐刷力を与えることがで
きる。
According to the present invention, a photosensitive lithographic printing plate having excellent adhesion between a support and a photosensitive layer and excellent chemical resistance and printing durability can be obtained. Particularly, an image obtained by scanning exposure with laser light can be given sufficient image intensity and printing durability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/027 G03F 7/027 7/028 7/028 7/038 501 7/038 501 Fターム(参考) 2H025 AA06 AA07 AA08 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC03 BC19 BC32 BC42 BC51 BC53 BC81 CA14 CA28 CA39 CA41 FA10 FA17 2H096 AA07 BA05 BA06 BA20 EA04 GA08 4J002 BG00W BG00X BG02W BG02X BG04W BG04X BG05W BG05X BG07W BG07X BG10W BG10X BG12W BG12X EH076 EH106 ET006 FD206 GP03 4J011 AA05 AA07 BA04 CA05 CA08 DA02 DA04 FA07 FB01 PA69 PB40 PC02 QA02 QA03 QA05 QA06 QA07 QA12 QA13 QA14 QA21 QA22 QA26 QA42 QB19 SA73 SA76 SA78 SA85 SA87 SA90 UA02 VA01 WA01 4J026 AA43 AA45 AA49 AA50 AA72 BA28 BA29 BA41 BB02 DA02 DA12 DB02 DB05 DB09 DB17 DB36 FA05 GA06 GA07 GA08 GA10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03F 7/027 G03F 7/027 7/028 7/028 7/038 501 7/038 501 F term (reference) 2H025 AA06 AA07 AA08 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC03 BC19 BC32. AA05 AA07 BA04 CA05 CA08 DA02 DA04 FA07 FB01 PA69 PB40 PC02 QA02 QA03 QA05 QA06 QA07 QA12 QA13 QA14 QA21 QA22 QA26 QA42 QB19 SA73 SA76 SA78 SA85 SA87 SA90 UA02 VA01 WA01 4J026 AA43 AA02 AA43 AA42 AA42 AA42 AA45 AA42 AA42 AA45 AA45 AA45 AA42 AA45 AA45 AA45 AA42 AA45 DB36 FA05 GA06 GA07 GA08 GA10

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持体上に、エチレン性不飽和化合物、光
重合開始系、及び高分子結合剤を含有する光重合性感光
層を有する感光性平版印刷版において、該高分子結合剤
が、少なくとも、下記の高分子結合剤(C1)及び高分
子結合剤(C2)からなることを特徴とする感光性平版
印刷版。高分子結合剤(C1):一般式(1) 【化1】 (式中、R3〜R7は各々独立して水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ
基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよ
いアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアルキ
ルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換
基を有していてもよいアリールアミノ基、又は、置換基
を有していてもよいアリールスルホニル基を示し、Z
は酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又は、アルキルイミ
ノ基を示す。)、又は一般式(2) 【化2】 (式中、R3〜R5及びZ は上記と同様を示す。)で示
される重合性不飽和基1種類以上と、一般式(3) 【化3】 (式中、R0 は各々独立して水素原子又はメチル基を示
し、Z0 は酸素原子又はイミノ基を示す。)で示される
重合性不飽和基1種類以上の合計2種以上の不飽和結合
を有するモノマーを共重合成分とする共重合体、高分子
結合剤(C2):一般式(4) 【化4】 (式中、R1は炭素数1〜15のアルキル基を、R2は水
素原子又はメチル基を、R8及びR9は各々独立して水素
原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、
ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基
を示し、Z は上記と同様を示す。)で示される不飽和
基を1個有するモノマーを共重合成分とする共重合体。
A photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer containing an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiation system, and a polymer binder on a support, wherein the polymer binder is: A photosensitive lithographic printing plate comprising at least the following polymer binder (C1) and polymer binder (C2). Polymer binder (C1): General formula (1) (Wherein, R 3 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group,
An alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, Alkylsulfonyl group which may have a substituent, aryl group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, arylamino group which may have a substituent Or an arylsulfonyl group which may have a substituent;
Represents an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group, or an alkylimino group. ) Or the general formula (2) (Wherein, R 3 to R 5 and Z Indicates the same as above. And at least one polymerizable unsaturated group represented by the general formula (3): (Wherein R 0 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 0 represents an oxygen atom or an imino group.) One or more polymerizable unsaturated groups represented by the following formula: A copolymer having a monomer having a bond as a copolymer component, a polymer binder (C2): General formula (4) (Wherein, R 1 is an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group,
Carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group,
A nitro group, a cyano group, an optionally substituted alkyl group, and an optionally substituted alkylsulfonyl group, Indicates the same as above. A) a copolymer having a monomer having one unsaturated group represented by the formula (1) as a copolymer component.
【請求項2】一般式(1)で示される重合性不飽和基と
一般式(3)で示される重合性不飽和基とを有するモノ
マーが、アリル(メタ)アクリレート、3−アリルオキ
シ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N
−アリル(メタ)アクリルアミド、シンナミル(メタ)
アクリレート、クロトニル(メタ)アクリレート、メタ
リル(メタ)アクリレート、アリルクロトネート及び3
−アリルオキシ−2−ヒドロキシプロピルクロトネート
から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の感光
性平版印刷版。
2. A monomer having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (1) and a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (3) is allyl (meth) acrylate, 3-allyloxy-2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, N
-Allyl (meth) acrylamide, cinnamyl (meth)
Acrylate, crotonyl (meth) acrylate, methallyl (meth) acrylate, allyl crotonate and 3
2. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, which is at least one member selected from the group consisting of -allyloxy-2-hydroxypropylcrotonate.
【請求項3】一般式(2)で示される重合性不飽和基と
一般式(3)で示される重合性不飽和基とを有するモノ
マーが、ビニル(メタ)アクリレート、ビニルクロトネ
ート、1−プロペニル(メタ)アクリレート、1−クロ
ロビニル(メタ)アクリレート、2−フェニルビニル
(メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリルアミ
ド、1−クロロビニルクロトネート及び1−プロペニル
クロトネートから選ばれる少なくとも1種である請求項
1記載の感光性平版印刷版。
3. A monomer having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (2) and a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (3), wherein vinyl (meth) acrylate, vinyl crotonate, 1- It is at least one selected from propenyl (meth) acrylate, 1-chlorovinyl (meth) acrylate, 2-phenylvinyl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylamide, 1-chlorovinylcrotonate and 1-propenylcrotonate. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1.
【請求項4】一般式(4)で示される重合性不飽和基を
1個有する化合物が、(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、
(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸
ラウリル、β−クロロ(メタ)アクリル酸メチル、β−
メトキシカルボニル(メタ)アクリル酸エチル、N−ブ
チル(メタ)アクリルアミド及びβ−シアノ(メタ)ア
クリル酸オクチルから選ばれる少なくとも1種である請
求項1記載の感光性平版印刷版。
4. A compound having one polymerizable unsaturated group represented by the general formula (4), wherein methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate,
Butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, β-methyl methyl methacrylate, β-
The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the lithographic printing plate is at least one selected from ethyl methoxycarbonyl (meth) acrylate, N-butyl (meth) acrylamide, and octyl β-cyano (meth) acrylate.
【請求項5】一般式(1)又は一般式(2)で示される
重合性不飽和基と一般式(3)で示される重合性不飽和
基とを有するモノマーが、高分子結合剤(C1)を構成
する全モノマーの10〜90重量%である請求項1〜4
いずれか1項に記載の感光性平版印刷版。
5. A monomer having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (1) or (2) and a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (3) is a polymer binder (C1 5) 10 to 90% by weight of the total monomers constituting the composition.
The photosensitive lithographic printing plate according to any one of the preceding claims.
【請求項6】一般式(4)で示される重合性不飽和基を
有する化合物が、高分子結合剤(C2)を構成する全モ
ノマーの5〜95重量%である請求項1〜5いずれか1
項に記載の感光性平版印刷版。
6. The compound having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (4), which accounts for 5 to 95% by weight of all monomers constituting the polymer binder (C2). 1
A photosensitive lithographic printing plate according to the item.
【請求項7】高分子結合剤(C1)を構成するモノマー
が、(メタ)アクリル酸を含むことを特徴とする請求項
1〜6いずれか1項に記載の感光性平版印刷版。
7. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the monomer constituting the polymer binder (C1) contains (meth) acrylic acid.
【請求項8】高分子結合剤(C2)を構成するモノマー
が、(メタ)アクリル酸を含むことを特徴とする請求項
1〜7いずれか1項に記載の感光性平版印刷版。
8. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the monomer constituting the polymer binder (C2) contains (meth) acrylic acid.
【請求項9】高分子結合剤(C1)の酸価が10〜25
0であることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項に
記載の感光性平版印刷版。
9. The polymer binder (C1) having an acid value of 10 to 25.
9. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the value is 0.
【請求項10】高分子結合剤(C2)の酸価が10〜2
50であることを特徴とする請求項1〜9いずれか1項
に記載の感光性平版印刷版。
10. The polymer binder (C2) having an acid value of 10 to 2
The photosensitive lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 9, wherein the number is 50.
【請求項11】高分子結合剤が、高分子結合剤(C1)
10〜97重量%及び高分子結合剤(C2)3〜90重
量%を含むことを特徴とする請求項1〜10いずれか1
項に記載の感光性平版印刷版。
11. The polymer binder (C1)
11. The composition according to claim 1, comprising 10 to 97% by weight and 3 to 90% by weight of a polymer binder (C2).
A photosensitive lithographic printing plate according to the item.
【請求項12】高分子結合剤(C1)が、一般式(1)
で示される重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレー
ト、一般式(2)で示される重合性不飽和基を有する
(メタ)アクリレート、及び不飽和カルボン酸モノマ
ー、及び必要に応じて他の重合性モノマーとの三元以上
の共重合体である請求項1〜11いずれか1項に記載の
感光性平版印刷版。
12. The polymer binder (C1) has the general formula (1)
(Meth) acrylate having a polymerizable unsaturated group represented by formula (1), (meth) acrylate having a polymerizable unsaturated group represented by formula (2), and an unsaturated carboxylic acid monomer, and if necessary, other polymerization. The photosensitive lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 11, wherein the lithographic printing plate is a terpolymer or higher copolymer with a functional monomer.
【請求項13】請求項1〜12いずれか1項に記載の感
光性平版印刷版をレーザー露光することを特徴とする画
像形成方法。
13. An image forming method, comprising subjecting the photosensitive lithographic printing plate according to claim 1 to laser exposure.
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