JP2002241475A - Polyphenol resin, its production method, and epoxy resin composition and its use - Google Patents

Polyphenol resin, its production method, and epoxy resin composition and its use

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JP2002241475A JP2001307359A JP2001307359A JP2002241475A JP 2002241475 A JP2002241475 A JP 2002241475A JP 2001307359 A JP2001307359 A JP 2001307359A JP 2001307359 A JP2001307359 A JP 2001307359A JP 2002241475 A JP2002241475 A JP 2002241475A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition having high flexibility and capable of forming a thin film, and its cured material has flame-retardant property. SOLUTION: This polyphenol resin having a weight average molecular weight of not less than 3,000 is obtained by condensing a phenol with a bischloromethylbiphenyl or bismethoxymethylbiphenyl, then removing unreacted phenol, and again reacting with the bischloromethylbiphenyl, and this resin is used as a curing agent for an epoxy resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン系難燃剤や
アンチモン化合物を含有しなくても難燃性に優れる硬化
物を与え、しかもフィルムを形成するだけのフレキシビ
リティーを有するポリフェノール樹脂、エポキシ樹脂組
成物およびその硬化物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyphenol resin or an epoxy resin which provides a cured product having excellent flame retardancy without containing a halogen-based flame retardant or an antimony compound, and which has flexibility enough to form a film. The present invention relates to a composition and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は種々の硬化剤で硬化させ
ることにより、一般的に機械的性質、耐水性、耐薬品
性、耐熱性、電気的性質などに優れた硬化物となり、接
着剤、塗料、積層板、成形材料、注型材料などの幅広い
分野に利用されている。従来、最も一般的に使用されて
きたエポキシ樹脂としてはビスフェノールA型エポキシ
樹脂が挙げられる。その他難燃剤としてはテトラブロモ
ビスフェノールA及びそのエポキシ化物、或いはテトラ
ブロモビスフェノールAにビスフェノールA型エポキシ
樹脂を反応させた化合物などが一般的に知られている。
またエポキシ樹脂の硬化剤としては酸無水物やアミン系
化合物が知られているが電気・電子部品分野では信頼性
の面からフェノールノボラックが使用されることが多
い。
2. Description of the Related Art Epoxy resins can be cured with various curing agents to give cured products having generally excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance, and electrical properties. It is used in a wide range of fields, such as laminates, molding materials, and casting materials. Conventionally, the most commonly used epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin. As other flame retardants, tetrabromobisphenol A and epoxidized products thereof, and compounds obtained by reacting tetrabromobisphenol A with a bisphenol A type epoxy resin are generally known.
Acid anhydrides and amine compounds are known as curing agents for epoxy resins, but phenol novolak is often used in the field of electrical and electronic components from the viewpoint of reliability.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たような臭素を含有する化合物は、難燃性には優れてい
るものの廃棄、焼却時に環境汚染の原因となる物質を発
生させる可能性がある点が指摘されている。また難燃性
助剤として使用されるアンチモン化合物も同様にその毒
性が懸念されている。こうした現状に対し近年の環境保
護意識の高まりからエポキシ樹脂組成物においてもハロ
ゲンフリー、アンチモンフリーの要望が高まっている。
また、フェノールノボラックによるエポキシ樹脂の硬化
物は信頼性には優れているものの、その硬化物は剛直で
フレキシビリティーに欠ける。近年の電気・電子部品の
形態は従来の大型パッケージやガラス繊維を基材とした
基板とは異なり、ポリイミドやPET(ポリエチレング
リコールテレフタレート)フィルム、金属箔上にワニス
の状態で塗布した後、溶剤を除去するシート状の成形物
が開発されている。この様な場合使用される樹脂には十
分なフレキシビリティーが要求される。
However, the compounds containing bromine as described above are excellent in flame retardancy, but may generate substances that cause environmental pollution during disposal or incineration. Has been pointed out. Antimony compounds used as flame retardant auxiliaries are also concerned about their toxicity. In response to this situation, demand for halogen-free and antimony-free epoxy resin compositions has been increasing in recent years as environmental protection awareness has increased.
Although a cured product of an epoxy resin by phenol novolak is excellent in reliability, the cured product is rigid and lacks flexibility. In recent years, the form of electric and electronic components is different from conventional large packages and substrates based on glass fiber. Unlike varnishes on polyimide, PET (polyethylene glycol terephthalate) films and metal foils, the solvent is Sheet-like moldings to be removed have been developed. In such a case, the resin used is required to have sufficient flexibility.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らはこうした実
状に鑑み、難燃性に優れた硬化物を与え、シート状に成
形してもフレキシビリティーを損なわないエポキシ樹脂
組成物を求めて鋭意研究した結果、本発明を完成させる
に到った。
In view of these circumstances, the present inventors have sought to provide an epoxy resin composition which gives a cured product having excellent flame retardancy and which does not impair flexibility even when molded into a sheet. As a result of intensive research, the present invention has been completed.

【0005】すなわち本発明は(1)下記式(1)That is, the present invention provides (1) the following formula (1)

【0006】[0006]

【化5】 Embedded image

【0007】(式中nは平均分子量により決まる平均重
合度である。)で表され、GPC(ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー;以下同様)による重量平均分子
量が3000以上であるポリフェノール樹脂、(2)下
記式(1’)
(Wherein n is an average degree of polymerization determined by an average molecular weight), and a polyphenol resin having a weight average molecular weight of 3,000 or more by GPC (gel permeation chromatography; the same applies hereinafter); Equation (1 ')

【0008】[0008]

【化6】 Embedded image

【0009】(式中、n’ は平均分子量により決まる
平均重合度を表す。)で表され、GPCによる重量平均
分子量が1500以下であるポリフェノール化合物のフ
ェノール性水酸基1当量に対して、式(2)
(Wherein n ′ represents an average degree of polymerization determined by an average molecular weight), and the formula (2) is calculated based on 1 equivalent of a phenolic hydroxyl group of a polyphenol compound having a weight average molecular weight of 1500 or less by GPC. )

【0010】[0010]

【化7】 Embedded image

【0011】(式中、Xはハロゲン原子、炭素数1〜3
のアルコキシ基又は水酸基のいずれかを表す。)で表さ
れるビフェニル化合物を0.01モル以上で0.5モル
より少ない量で、縮合反応させることを特徴とするGP
Cによる重量平均分子量が3000以上であるポリフェ
ノール樹脂の製造方法、(3)(a)1分子中にエポキ
シ基を少なくとも2個以上有するエポキシ樹脂 (b)前記(1)項記載のポリフェノール樹脂を含有す
るエポキシ樹脂組成物、(4)エポキシ樹脂が下記式
(a)
(Wherein X is a halogen atom, having 1 to 3 carbon atoms)
Represents either an alkoxy group or a hydroxyl group. Wherein the biphenyl compound represented by the formula (1) is subjected to a condensation reaction in an amount of 0.01 mol or more and less than 0.5 mol.
A method for producing a polyphenol resin having a weight-average molecular weight of 3,000 or more by C, (3) (a) an epoxy resin having at least two epoxy groups in one molecule, and (b) containing the polyphenol resin described in (1) above. Epoxy resin composition, (4) epoxy resin having the following formula (a)

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】(式中mは平均重合度を示し、正数を表
す。)である上記(3)項記載のエポキシ樹脂組成物、
(5)硬化促進剤を含有する上記(3)又は(4)項記
載のエポキシ樹脂組成物、(6)上記(1)項に記載の
ポリフェノール樹脂及び溶剤を含有するワニス、(7)
溶剤を含有する上記(3)〜(5)項のいずれか1項に
記載のエポキシ樹脂組成物からなるワニス、(8)平面
支持体面に上記(6)又は(7)項に記載のワニスを乾
燥した層を有するシート、(9)平面状支持体がポリイ
ミドフィルムである上記(8)項記載のシート、(1
0)平面状支持体が金属箔である上記(8)項記載のシ
ート、(11)平面状支持体が剥離フィルムである上記
(8)項記載のシート、(12)上記(3)〜(5)項
のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して
なる硬化物(13)上記(1)項に記載のポリフェノー
ル樹脂を含有することを特徴とするエポキシ樹脂用硬化
剤、を提供するものである。
The epoxy resin composition according to the above (3), wherein m is an average degree of polymerization and is a positive number,
(5) The epoxy resin composition according to the above (3) or (4), containing a curing accelerator, (6) a varnish containing the polyphenol resin according to the above (1) and a solvent, (7)
A varnish comprising the epoxy resin composition according to any one of the above items (3) to (5) containing a solvent, and (8) a varnish according to the above item (6) or (7) on a plane support surface. (9) The sheet according to the above (8), wherein the planar support is a polyimide film,
0) The sheet according to the above (8), wherein the planar support is a metal foil, (11) the sheet according to the above (8), wherein the planar support is a release film, (12) the above (3) to (3). 5) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of the above items (13) a curing agent for an epoxy resin, comprising the polyphenol resin according to the above item (1). To provide.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
尚、以下において「部」及び「%」は特に断らない限り
それぞれ「質量部」及び「質量%」を意味する。本発明
において、ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ素等
があげられ、炭素数1〜3のアルコキシ基としてはメト
キシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基又はi−プロポ
キシ基等があげられる。式(2)における各フェニル基
上の置換基XCH−はそれぞれ2、3、4位又は
2’、3’、4’位から選ばれる任意の位置に置換して
いるものとする。また、式(1)におけるこの置換基に
対応する架橋基(−CH−)も同様である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
In the following, “parts” and “%” mean “parts by mass” and “% by mass”, respectively, unless otherwise specified. In the present invention, examples of the halogen atom include chlorine, bromine, and iodine, and examples of the alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, and an i-propoxy group. It is assumed that the substituent XCH 2 — on each phenyl group in the formula (2) is substituted at an arbitrary position selected from positions 2, 3, 4 or 2 ′, 3 ′, 4 ′. The same applies to the crosslinking group (—CH 2 —) corresponding to this substituent in the formula (1).

【0015】本発明の前記式(1)で表される構造を有
し、GPCによる重量平均分子量が3000以上である
ポリフェノール樹脂は例えば前記式(1’) で示され
るポリフェノール化合物に、該ポリフェノール化合物の
フェノール性水酸基1当量に対して、前記式(2)で表
されるビフェニル化合物を通常0.01モル以上で0.
5モルより少ない量、好ましくは0.01〜0.45モ
ル、より好ましくは0.05〜0.4モルの範囲で、無
溶剤下、或いは溶剤の存在下で縮合反応させることによ
り得ることが出来る。
The polyphenol resin of the present invention having the structure represented by the above formula (1) and having a weight average molecular weight by GPC of 3,000 or more is, for example, a polyphenol compound represented by the above formula (1 '), The biphenyl compound represented by the above formula (2) is usually used in an amount of 0.01 mol or more per 1 equivalent of the phenolic hydroxyl group.
It can be obtained by a condensation reaction in an amount of less than 5 mol, preferably 0.01 to 0.45 mol, more preferably 0.05 to 0.4 mol, in the absence of a solvent or in the presence of a solvent. I can do it.

【0016】本発明の縮合反応において、酸触媒は必要
に応じて適宜使用される。例えば、Xがハロゲン原子で
ある式(2)のビフェニル化合物を使用する場合、触媒
は特に必要ではないが、アルコキシ基又は水酸基の場合
は酸触媒を用いる。また、 本発明のポリフェノール樹
脂は、場合により、前記式(1’) で示されるポリフ
ェノール化合物を後記方法で合成し(1段目縮合反
応)、該ポリフェノール化合物を単離することなく、式
(2)のビフェニル化合物との縮合反応(2段目縮合反
応)を行って得ることもできる。
In the condensation reaction of the present invention, an acid catalyst is appropriately used as needed. For example, when a biphenyl compound of the formula (2) in which X is a halogen atom is used, a catalyst is not particularly required, but when an alkoxy group or a hydroxyl group is used, an acid catalyst is used. In some cases, the polyphenol resin of the present invention is obtained by synthesizing a polyphenol compound represented by the formula (1 ′) by the method described below (first-stage condensation reaction) and isolating the polyphenol compound of the formula (2) without isolating the polyphenol compound. ) With a biphenyl compound (second stage condensation reaction).

【0017】式(2)のビフェニル化合物としては、例
えば2,2’−、3,3’−または4,4’−ビスメト
キシメチルビフェニル、2,2’−、3,3’−または
4,4’−ビスエメトキシメチルビフェニル、2,2’
−、3,3’−または4,4’−ビスプロポキシメチル
ビフェニル、2,2’−、3,3’−または4,4’−
ビスクロルメチルビフェニル、2,2’−、3,3’−
または4,4’−ビスブロムメチルビフェニル、2,
2’−、3,3’−または4,4’−ビスヒドロキシメ
チルビフェニル等の化合物が挙げられる。式(2)の好
ましい化合物としては、Xがハロゲン原子、好ましくは
塩素原子、又はアルコキシ基、好ましくはメトキシ基で
ある化合物があげられる。なお、式(2)の化合物は
2,2’体、3,3’体、4,4’体等の混合物が一般
に入手可能で、中でも4,4’体を主成分とするものが
好ましい。
The biphenyl compound of the formula (2) includes, for example, 2,2'-, 3,3'- or 4,4'-bismethoxymethylbiphenyl, 2,2'-, 3,3'- or 4'-bisemethoxymethylbiphenyl, 2,2 '
-, 3,3'- or 4,4'-bispropoxymethylbiphenyl, 2,2'-, 3,3'- or 4,4'-
Bischloromethylbiphenyl, 2,2'-, 3,3'-
Or 4,4′-bisbromomethylbiphenyl, 2,
Compounds such as 2'-, 3,3'- or 4,4'-bishydroxymethylbiphenyl are exemplified. Preferred compounds of formula (2) include those wherein X is a halogen atom, preferably a chlorine atom, or an alkoxy group, preferably a methoxy group. As the compound of the formula (2), a mixture of 2,2'-form, 3,3'-form, 4,4'-form and the like is generally available, and among them, a compound mainly containing 4,4'-form is preferable.

【0018】本発明の縮合反応において使用する好まし
い式(2)のビフェニル化合物としては、Xがハロゲン
原子、好ましくは塩素原子である化合物が挙げられる。
本発明の縮合反応を行う場合、式(1’)の化合物のフ
ェノール性水酸基1当量に対し、前記式(2)で表され
るビフェニル化合物を通常0.01以上で0.5モルよ
り少ない量、好ましくは0.01〜0.45モル、より
好ましくは0.05〜0.4モル使用する。本発明の縮
合反応は無溶剤でも、溶剤の存在下でも行うことが出来
るが生成物の分子量が大きくなるにつれ粘度も上昇する
ため溶剤を使用することが好ましい。溶剤としては反応
に悪影響を与えない物であれば特に支障はないが、好ま
しいものとしては低級アルキレングリコールモノ又はジ
低級アルキルエーテルが挙げられる。低級アルキレン及
び低級アルキルにおける好ましい炭素数は1〜5であ
る。好ましい溶媒としては例えばプロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチル
エーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、メ
チルセルソルブ、エチルセルソルブ等が挙げられる。溶
剤の使用量としては生成物の質量に対して通常5〜50
0%、好ましくは10〜400%である。
Preferred biphenyl compounds of the formula (2) used in the condensation reaction of the present invention include those wherein X is a halogen atom, preferably a chlorine atom.
When the condensation reaction of the present invention is carried out, the amount of the biphenyl compound represented by the formula (2) is usually 0.01 or more and less than 0.5 mol per 1 equivalent of the phenolic hydroxyl group of the compound of the formula (1 ′). , Preferably 0.01 to 0.45 mol, more preferably 0.05 to 0.4 mol. The condensation reaction of the present invention can be carried out without a solvent or in the presence of a solvent, but it is preferable to use a solvent because the viscosity increases as the molecular weight of the product increases. The solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but preferred examples include lower alkylene glycol mono- or di-lower alkyl ethers. The preferred number of carbon atoms in lower alkylene and lower alkyl is 1 to 5. Preferred solvents include, for example, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve and the like. The amount of the solvent used is usually 5 to 50 based on the mass of the product.
0%, preferably 10 to 400%.

【0019】本発明の縮合反応において、前記式(2)
で表されるビフェニル化合物として、Xがアルコキシ
基、好ましくはメトキシ基である化合物を用いた場合、
塩酸、硫酸、パラトルエンスルホン酸などの酸触媒を使
用するのが好ましい。これらの酸触媒のの中で、パラト
ルエンスルホン酸が最も好ましい。反応は前記式(2)
で表されるビフェニル化合物が完全に消失するまで行
う。反応温度は通常60〜140℃、反応時間は通常1
〜20時間である。
In the condensation reaction of the present invention, the above-mentioned formula (2)
When a compound in which X is an alkoxy group, preferably a methoxy group, is used as the biphenyl compound represented by
It is preferable to use an acid catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these acid catalysts, paratoluenesulfonic acid is most preferred. The reaction is performed according to the above formula (2)
Until the biphenyl compound represented by the formula is completely disappeared. The reaction temperature is usually 60 to 140 ° C, and the reaction time is usually 1
~ 20 hours.

【0020】なお、前記式(1’) で示されるポリフ
ェノール化合物は、前記式(2)で表されるビフェニル
化合物1モルに対しフェノールを通常1.5〜10モ
ル、好ましくは2〜8モルの割合で縮合反応させた後、
未反応のフェノールを除去することにより得ることがで
きる。式(1’)のポリフェノール化合物の合成(上記
1段目の縮合反応)において、酸触媒は必要に応じて使
用される。例えば、Xがハロゲン原子である式(2)の
ビフェニル化合物を使用する場合、触媒は特に必要では
ないが、アルコキシ基又は水酸基の場合は酸触媒を用い
る。この反応において使用する好ましい式(2)のビフ
ェニル化合物としては、Xがアルコキシ基、好ましくは
メトキシ基である化合物が挙げられる。この1段目の縮
合反応において酸触媒としては塩酸、硫酸、パラトルエ
ンスルホン酸などが挙げられるが、特にパラトルエンス
ルホン酸が好ましい。酸触媒の使用量は式(2)で表さ
れる化合物1モルに対し通常0.001〜0.1部、好
ましくは0.005〜0.05部である。1段目の縮合
反応は無溶剤下でも溶剤の存在下でも行うことが出来
る。溶剤を使用する場合、溶剤としては反応に悪影響を
与えないものであれば特に支障はないが、好ましいもの
としてはメタノール、エタノール、イソプロパノール等
の低級アルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等の低級アルキル低級アルキルケトンが挙げ
られる。溶剤の使用量は式(2)で表される化合物とフ
ェノールの合計質量に対して通常10〜300%、好ま
しくは20〜250%である。反応は前記式(2)で表
される化合物が完全に消失するまで行う。反応温度は通
常40〜150℃、反応時間は通常1〜10時間であ
る。縮合反応終了後、中和、水洗などにより酸触媒を除
去し、次いで加熱減圧下で溶剤及び未反応のフェノール
を除去する。 こうして得られた縮合物は、式(1’)
で示され、ビフェニル分子とフェノール分子がメチレン
結合を介して結合した構造を有し、その重量平均分子量
は通常500〜1500程度である。その軟化点は平均
分子量によって異なり一概には言えないが、通常50〜
100℃程度となる。
The polyphenol compound represented by the above formula (1 ') contains phenol in an amount of usually 1.5 to 10 mol, preferably 2 to 8 mol, per mol of the biphenyl compound represented by the above formula (2). After the condensation reaction at a ratio
It can be obtained by removing unreacted phenol. In the synthesis of the polyphenol compound of the formula (1 ′) (the first-stage condensation reaction), an acid catalyst is used as necessary. For example, when a biphenyl compound of the formula (2) in which X is a halogen atom is used, a catalyst is not particularly required, but when an alkoxy group or a hydroxyl group is used, an acid catalyst is used. Preferred biphenyl compounds of the formula (2) used in this reaction include those wherein X is an alkoxy group, preferably a methoxy group. Examples of the acid catalyst in the first-stage condensation reaction include hydrochloric acid, sulfuric acid, paratoluenesulfonic acid and the like, with paratoluenesulfonic acid being particularly preferred. The amount of the acid catalyst to be used is generally 0.001 to 0.1 part, preferably 0.005 to 0.05 part, per 1 mol of the compound represented by the formula (2). The first-stage condensation reaction can be performed in the absence of a solvent or in the presence of a solvent. When a solvent is used, there is no particular problem as long as the solvent does not adversely affect the reaction, but preferred are lower alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, and lower alkyl lower alkyls such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. Ketones. The amount of the solvent to be used is generally 10 to 300%, preferably 20 to 250%, based on the total mass of the compound represented by the formula (2) and phenol. The reaction is performed until the compound represented by the formula (2) completely disappears. The reaction temperature is usually from 40 to 150 ° C, and the reaction time is usually from 1 to 10 hours. After the completion of the condensation reaction, the acid catalyst is removed by neutralization, washing with water, and the like, and then the solvent and unreacted phenol are removed under reduced pressure while heating. The condensate thus obtained has the formula (1 ′)
And has a structure in which a biphenyl molecule and a phenol molecule are bonded via a methylene bond, and the weight average molecular weight is usually about 500 to 1500. The softening point varies depending on the average molecular weight and cannot be unconditionally determined, but is usually 50 to
It is about 100 ° C.

【0021】尚、本発明の縮合反応及び1段目の縮合反
応とも式(2)のXがハロゲン原子である化合物を使用
した場合、副反応物として生成するハロゲン化水素を系
外に除去するのが好ましい。その方法はハロゲン化水素
を系外に除去できる方法であれば特に限定されない。例
えば、該縮合反応の際に、反応器の一方から窒素を吹き
込み、他方から副反応物として生成する塩酸ガスをチュ
ーブなどで取り出す。取り出された塩酸は水酸化ナトリ
ウム水溶液などのアルカリ性水溶液中にバブリングして
トラップすることにより除去することができる。
When a compound of the formula (2) wherein X is a halogen atom is used in both the condensation reaction of the present invention and the first-stage condensation reaction, hydrogen halide produced as a by-product is removed out of the system. Is preferred. The method is not particularly limited as long as it can remove hydrogen halide out of the system. For example, during the condensation reaction, nitrogen is blown from one side of the reactor, and hydrochloric acid gas generated as a by-product is taken out from the other side by a tube or the like. The extracted hydrochloric acid can be removed by bubbling and trapping in an alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution.

【0022】また本発明の縮合反応は、好ましくは溶剤
中で行われるが、上記の操作で除去し切れなかった塩酸
が濃度にして数千ppm程度溶剤中に溶存することがあ
る。後述するように得られたポリフェノール樹脂の溶剤
溶液をそのまま本発明のワニス用に使用するような場合
は、このような残留塩酸が好ましくないため下記の様に
して除去する。即ち、反応終了後、溶液を100℃以下
に冷却し水を加えて撹拌し懸濁条件下で塩酸を水側に移
し、その後加熱して共沸脱水により塩酸を含んだ水と溶
剤を同時に留去し、溶剤は系内に戻す。この操作を繰り
返すことにより溶剤中に溶解している塩酸をほとんど除
去することが出来る。また、Xが水酸基またはアルコキ
シ基の場合は本発明の縮合反応においても酸触媒を必要
とする。この場合の触媒の種類、使用量などは1段目の
反応と同様で構わない。反応の結果水もしくはアルコー
ルが発生するがこれらは分留管を用いて系外へ除去す
る。反応終了後、副生物や必要により用いた溶剤などを
除去し固形のポリフェノール樹脂を得ることが出来る。
また、本発明のポリフェノール樹脂は高分子量であるた
め、使用目的によっては溶剤を除去しないか又は適当な
粘度になるまで除去して好適な作業性を確保することも
出来る。
The condensation reaction of the present invention is preferably carried out in a solvent, but the hydrochloric acid that cannot be completely removed by the above operation may be dissolved in the solvent at a concentration of about several thousand ppm. When the solvent solution of the polyphenol resin obtained as described below is used as it is for the varnish of the present invention, such residual hydrochloric acid is not preferable, and thus is removed as follows. That is, after the completion of the reaction, the solution is cooled to 100 ° C. or lower, water is added and stirred, hydrochloric acid is transferred to the water side under a suspension condition, and then heated and azeotropically dehydrated to simultaneously remove water containing hydrochloric acid and the solvent. And the solvent is returned to the system. By repeating this operation, most of the hydrochloric acid dissolved in the solvent can be removed. When X is a hydroxyl group or an alkoxy group, the condensation reaction of the present invention also requires an acid catalyst. In this case, the type and amount of the catalyst may be the same as in the first-stage reaction. Water or alcohol is generated as a result of the reaction, and these are removed to the outside of the system using a fractionating tube. After the completion of the reaction, by-products and, if necessary, the solvent used are removed to obtain a solid polyphenol resin.
Further, since the polyphenol resin of the present invention has a high molecular weight, depending on the purpose of use, the solvent may not be removed or the solvent may be removed until the viscosity thereof reaches an appropriate level, so that suitable workability can be ensured.

【0023】こうして得られた式(1)のポリフェノー
ル樹脂において、nは重合度の平均値を表し、通常4以
上、好ましくは4〜20、更に好ましくは4.5〜15
である。なお、重合度の平均値はGPCの測定による数
平均分子量から算出された値である。また、その重量平
均分子量(GPC)は、3000以上であるが、300
0〜20000が好ましい。また、その軟化点は通常1
10〜150℃、好ましい実施態様で得られたものは1
15〜145℃程度となる。また、その水酸基当量は2
10〜300g/eq、好ましくは215〜290g/
eqであるのが好ましい。
In the polyphenol resin of the formula (1) thus obtained, n represents an average value of the degree of polymerization, and is usually 4 or more, preferably 4 to 20, more preferably 4.5 to 15.
It is. The average value of the degree of polymerization is a value calculated from the number average molecular weight measured by GPC. The weight average molecular weight (GPC) is 3000 or more, but 300
0 to 20,000 is preferred. The softening point is usually 1
10 to 150 ° C., obtained in the preferred embodiment is 1
It is about 15 to 145 ° C. The hydroxyl equivalent is 2
10 to 300 g / eq, preferably 215 to 290 g / eq
eq is preferred.

【0024】このようにして得られた本発明のポリフェ
ノール樹脂組成物はエポキシ樹脂の硬化剤及びワニスに
おける膜形成成分等として好適に使用される。
The polyphenol resin composition of the present invention thus obtained is suitably used as a curing agent for an epoxy resin, a film-forming component in a varnish, and the like.

【0025】本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明の
ポリフェノール樹脂及び1分子中にエポキシ基を2個以
上有するエポキシ樹脂を含有することを特徴とするもの
で、通常両者及び必要に応じて他の配合剤加えて、それ
らを均一に混合することにより得ることが出来る。該エ
ポキシ樹脂としては1分子中にエポキシ基を2個以上有
するものであれば特に制限はない。具体的にはノボラッ
ク型エポキシ樹脂又はトリフェニルメタン型エポキシ樹
脂、ジシクロペンタジエンフェノール縮合型エポキシ樹
脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂、ビフェニル骨格含有ノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェノール型エポキ
シ樹脂などが挙げられるがこれらに限定されるものでは
ない。これらのエポキシ樹脂は単独でも使用でき、2種
以上を併用することも出来る。これらエポキシ樹脂のう
ち下記式(a)
The epoxy resin composition of the present invention is characterized by containing the polyphenol resin of the present invention and an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. And uniformly mixing them. The epoxy resin is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. Specifically, novolak type epoxy resin or triphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene phenol condensed type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin containing xylylene skeleton, novolak type epoxy resin containing biphenyl skeleton, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F Type epoxy resin, tetramethylbiphenol type epoxy resin, and the like, but are not limited thereto. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. Among these epoxy resins, the following formula (a)

【0026】[0026]

【化9】 Embedded image

【0027】(式中mは平均値を示し、通常1.0〜
5、好ましくは1.1〜4の正数を表す。)で表される
樹脂を使用すると耐熱性に優れた硬化物が得られ好まし
い。本発明のエポキシ樹脂組成物において硬化剤とし
て、本発明のポリフェノール樹脂以外に他の硬化剤を併
用しても良い。他の硬化剤としてはエポキシ樹脂の硬化
剤として使用されるものであればいずれも使用可能であ
る。例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレント
リアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニ
ルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、
リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成され
るポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無
水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチ
ルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノ−ルノボラック、
トリフェニルメタン及びこれらの変性物、イミダゾ−
ル、BF3 −アミン錯体、グアニジン誘導体などが挙げ
られるがこれらに限定されるものではない。これらを併
用する場合、本発明のポリフェノール樹脂が全硬化剤中
に占める割合としては通常0.2当量以上、好ましくは
0.3当量以上である。
(Where m represents an average value, usually 1.0 to
5, preferably a positive number from 1.1 to 4. Use of the resin represented by the formula (1) is preferable because a cured product having excellent heat resistance can be obtained. As the curing agent in the epoxy resin composition of the present invention, other curing agents may be used in addition to the polyphenol resin of the present invention. Any other curing agent can be used as long as it is used as a curing agent for an epoxy resin. For example, diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide,
Polyamide resin synthesized from a dimer of linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, Hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, phenol novolak,
Triphenylmethane and modified products thereof, imidazo-
BF 3 -amine complex, guanidine derivative and the like, but are not limited thereto. When these are used in combination, the proportion of the polyphenol resin of the present invention in the total curing agent is usually 0.2 equivalent or more, preferably 0.3 equivalent or more.

【0028】本発明のエポキシ樹脂組成物において硬化
剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対し
て0.7〜1.2当量が好ましい。また本発明のエポキ
シ樹脂組成物を用いる際に、上記硬化剤と共に硬化促進
剤を併用しても差し支えない。該硬化促進剤の具体例と
しては2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾー
ル、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾ
−ル類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、
1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−
7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィン等のホ
スフィン類、オクチル酸スズ等の金属化合物等が挙げら
れる。該硬化促進剤はエポキシ樹脂100部に対して
0.1〜5.0部が必要に応じ用いられ、本発明のエポ
キシ樹脂組成物の一成分として配合されていてもよい
し、該エポキシ樹脂の使用時に配合してもよい。
The amount of the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.7 to 1.2 equivalents per equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. When the epoxy resin composition of the present invention is used, a curing accelerator may be used in combination with the curing agent. Specific examples of the curing accelerator include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol,
1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-
Tertiary amines such as 7, phosphines such as triphenylphosphine, and metal compounds such as tin octylate. The curing accelerator is used in an amount of 0.1 to 5.0 parts as needed with respect to 100 parts of the epoxy resin, and may be blended as one component of the epoxy resin composition of the present invention. You may mix at the time of use.

【0029】本発明のエポキシ樹脂組成物は必要により
無機充填材を含有してもよい。無機充填材の具体例とし
てはシリカ、アルミナ、タルク等が挙げられる。無機充
填材は本発明のエポキシ樹脂組成物中において0〜90
%を占める量が用いられる。更に本発明のエポキシ樹脂
組成物は、シランカップリング剤、ステアリン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム
等の離型剤、顔料等の種々の配合剤を必要に応じて含有
していてもよい。
The epoxy resin composition of the present invention may contain an inorganic filler if necessary. Specific examples of the inorganic filler include silica, alumina, and talc. The inorganic filler is used in the epoxy resin composition of the present invention in an amount of from 0 to 90.
% Are used. Furthermore, the epoxy resin composition of the present invention may contain various compounding agents such as silane coupling agents, release agents such as stearic acid, palmitic acid, zinc stearate, and calcium stearate, and pigments as necessary. Good.

【0030】本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成
分を所定の割合で均一に混合して得ることができ、従来
使用されてきたエポキシ樹脂組成物と同様に種々の分野
で使用することができる。ビフェニル基がメチレン基を
介してフェノールと結合した骨格を有する本発明のポリ
フェノール樹脂は高屈折率を示すことから、該ポリフェ
ノール樹脂を含む本発明のエポキシ樹脂組成物も高屈折
率を示し、光学用レンズ、眼鏡レンズ、光ディスク用基
板、プラスチック光ファイバ等の光学材料用として好適
に使用できる。この場合、エポキシ樹脂成分として、本
発明のポリフェノール樹脂と同様の骨格を有するビフェ
ニル骨格含有ノボラック型エポキシ樹脂(例えば日本化
薬製NC−3000S、NC−3000S−H等)を採
用すると好ましい効果がある。
The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above-mentioned components at a predetermined ratio, and can be used in various fields like the conventionally used epoxy resin compositions. it can. Since the polyphenol resin of the present invention having a skeleton in which a biphenyl group is bonded to phenol via a methylene group shows a high refractive index, the epoxy resin composition of the present invention containing the polyphenol resin also shows a high refractive index, It can be suitably used for optical materials such as lenses, spectacle lenses, substrates for optical disks, and plastic optical fibers. In this case, it is preferable to employ a novolak-type epoxy resin having a biphenyl skeleton having the same skeleton as the polyphenol resin of the present invention (for example, NC-3000S, NC-3000SH) manufactured by Nippon Kayaku. .

【0031】また本発明のエポキシ樹脂組成物は場合に
より溶剤を含んでいてもよい。溶剤を含むエポキシ樹脂
組成物はガラス繊維、カ−ボン繊維、ポリエステル繊
維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含
浸させ加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形する
ことにより、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物とす
ることができる。このエポキシ樹脂組成物の溶剤含量
は、本発明のエポキシ樹脂組成物と該溶剤の総量に対し
て通常10〜70%、好ましくは15〜70%程度であ
る。また、該溶剤を含むエポキシ樹脂組成物は下記ワニ
スとしても使用できる。該溶剤としては後記ワニスの項
で挙げる溶剤、例えばトルエン、キシレン、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等を挙げ
ることができる。
The epoxy resin composition of the present invention may optionally contain a solvent. The epoxy resin composition containing a solvent is impregnated into a base material such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc., and is heated and dried to form a prepreg according to the present invention. Cured product of the above epoxy resin composition. The solvent content of the epoxy resin composition is usually from 10 to 70%, preferably from about 15 to 70%, based on the total amount of the epoxy resin composition of the present invention and the solvent. The epoxy resin composition containing the solvent can also be used as the following varnish. As the solvent, solvents mentioned in the section of varnish described below, for example, toluene, xylene, acetone,
Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like can be mentioned.

【0032】本発明のワニスは、本発明のポリフェノー
ル樹脂と溶剤を含有する限り、その他の成分は特に限定
されない。本発明のワニスはポリフェノール樹脂と溶剤
の両者及び必要に応じて添加される任意成分が均一に混
合された液状組成物であればよく、該液状組成物を得る
方法は特に限定されない。例えば上記したように本発明
のポリフェノール樹脂を製造する際に得られた、溶剤と
該ポリフェノール樹脂を含む反応液をそのまま使用し
て、必要に応じて、他の任意成分、該ポリフェノール樹
脂及び溶剤からなる群から選ばれる一つ又は二つ以上を
添加するか、又は該反応液を濃縮し、必要に応じて、他
の任意成分及び/又は該ポリフェノール樹脂を添加して
本発明のワニスとしてもよい。また、単離されたポリフ
ェノール樹脂を、必要に応じて任意成分と共に、溶剤に
均一に混合して本発明のワニスとしてもよい。
Other components of the varnish of the present invention are not particularly limited as long as they contain the polyphenol resin of the present invention and a solvent. The varnish of the present invention only needs to be a liquid composition in which both the polyphenol resin and the solvent and optional components added as required are uniformly mixed, and the method for obtaining the liquid composition is not particularly limited. For example, as described above, obtained when producing the polyphenol resin of the present invention, using the solvent and the reaction solution containing the polyphenol resin as it is, if necessary, other optional components, from the polyphenol resin and the solvent One or two or more selected from the group may be added, or the reaction solution may be concentrated, and if necessary, other optional components and / or the polyphenol resin may be added to form the varnish of the present invention. . The varnish of the present invention may be obtained by uniformly mixing the isolated polyphenol resin with a solvent, if necessary, together with optional components.

【0033】本発明のワニスに添加される任意成分とし
ては、本発明のポリフェノール樹脂の膜形成又は接着性
を阻害しないものであれば特に限定はないが、好ましく
は該ポリフェノール樹脂と共に膜を形成する高分子類、
エポキシ化合物類、それに付随する添加物等が挙げられ
る。高分子類は本発明のワニスで使用する溶剤に溶解す
るものが好ましい。好ましいワニスの1つとして、エポ
キシ化合物を含有するワニスを挙げることができる。特
に前記本発明のエポキシ樹脂組成物と本発明のポリフェ
ノール樹脂を含有するワニスは好ましい。本発明のワニ
スに用いられる溶剤としては、例えばγ−ブチロラクト
ン類、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N−ジメ
チルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等のアミド
系溶剤、テトラメチレンスルフォン等のスルフォン類、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルモノアセテート、プロピレ
ングリコールモノブチルエーテル等のエーテル系溶剤、
好ましくは低級アルキレングリコールモノ又はジ低級ア
ルキルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン系溶剤、好ましくは2つのアルキル
基が同一でも異なってもよいジ低級アルキルケトン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤が挙げられる。好
ましい溶剤としては低級アルキレングリコールモノ又は
ジ低級アルキルエーテル及び上記ジ低級アルキルケトン
が挙げられる。これらは単独で合っても、また2以上の
混合溶媒であってもよい。
The optional component added to the varnish of the present invention is not particularly limited as long as it does not inhibit the film formation or adhesiveness of the polyphenol resin of the present invention, but preferably forms a film together with the polyphenol resin. Macromolecules,
Epoxy compounds, additives accompanying them, and the like. The polymers are preferably soluble in the solvent used in the varnish of the present invention. One of the preferred varnishes is a varnish containing an epoxy compound. Particularly, a varnish containing the epoxy resin composition of the present invention and the polyphenol resin of the present invention is preferable. Examples of the solvent used in the varnish of the present invention include γ-butyrolactones, N-methylpyrrolidone (NMP), N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylimidazolidinone Amide solvents, such as sulfones such as tetramethylene sulfone,
Ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether monoacetate, and propylene glycol monobutyl ether;
Ketone solvents such as lower alkylene glycol mono- or di-lower alkyl ethers, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, preferably aromatic solvents such as di-lower alkyl ketones in which two alkyl groups may be the same or different, toluene and xylene Is mentioned. Preferred solvents include lower alkylene glycol mono- or di-lower alkyl ethers and the above-mentioned di-lower alkyl ketones. These may be used alone or as a mixture of two or more solvents.

【0034】得られたワニス中の固形分濃度は通常10
〜90%、好ましくは20〜80%、より好ましくは2
5〜70%である。残部は溶剤である。好ましいワニス
における本発明のポリフェノール樹脂の含量は、ワニス
全量に対して10〜60%、好ましくは20〜50%で
あり、エポキシ樹脂の含量は10〜40%、好ましくは
15〜35%、その他添加剤が0〜20%である。
The solid content concentration of the obtained varnish is usually 10
~ 90%, preferably 20-80%, more preferably 2%
5 to 70%. The balance is solvent. The content of the polyphenol resin of the present invention in a preferred varnish is 10 to 60%, preferably 20 to 50% based on the total amount of the varnish, and the content of the epoxy resin is 10 to 40%, preferably 15 to 35%. The agent is 0-20%.

【0035】本発明のシートは上記のワニスをそれ自体
公知のグラビアコート法、スクリーン印刷、メタルマス
ク法、スピンコート法などの各種塗工方法により基材
上、好ましくは平面支持体面に塗布後乾燥することに得
られる。そのようにして得られるシートの厚さ(乾燥後
の厚さ)は、例えば5〜300μm、好ましくは5〜2
00μm、より好ましくは10〜160μm程度が好ま
しい。平面支持体面に塗布する場合、必要に応じて、片
面、両面又は部分的であってもよい。どの塗工法を用い
るかは基材の種類、形状、大きさ、塗膜の膜厚により適
宜選択される。基材としては、例えばポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケト
ン、ポリケトン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の各
種高分子及び/またはその共重合体から作られるフィル
ム、或いは銅箔等の金属箔などがあげられ、ポリイミド
からなるフィルム又は金属箔が好ましい。このようにし
て得られた本発明のワニスから形成された膜を有するシ
ートは電気・電子部品などの基板などとして有用であ
る。
The sheet of the present invention is applied to a substrate, preferably a plane support, by various coating methods such as gravure coating, screen printing, metal masking, and spin coating, which are known per se, and then dried. To be obtained. The thickness (thickness after drying) of the sheet thus obtained is, for example, 5 to 300 μm, preferably 5 to 2 μm.
It is preferably about 00 μm, more preferably about 10 to 160 μm. When applied to the surface of a planar support, it may be single-sided, double-sided or partial, if desired. Which coating method is used is appropriately selected depending on the type, shape, size, and film thickness of the coating film. As the substrate, for example, various polymers such as polyamide, polyamide imide, polyarylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether ether ketone, polyether imide, polyether ketone, polyketone, polyethylene, polypropylene, and / or copolymers thereof Examples of the film include a film made of united material and a metal foil such as a copper foil. A film or a metal foil made of polyimide is preferable. The thus obtained sheet having a film formed from the varnish of the present invention is useful as a substrate for electric / electronic parts.

【0036】また、剥離フィルム上に本発明のワニスを
塗布し加熱下で溶剤を除去、Bステージ化を行うことに
よりシート状の接着剤を得ることが出来る。このシート
状接着剤は多層基板などにおける層間絶縁層として使用
することが出来る。
Further, the varnish of the present invention is applied on a release film, the solvent is removed under heating, and the B-stage is formed, whereby a sheet-like adhesive can be obtained. This sheet adhesive can be used as an interlayer insulating layer in a multilayer substrate or the like.

【0037】[0037]

【実施例】次に本発明を更に実施例、比較例により具体
的に説明する。尚、GPCの測定条件は以下の通りであ
る。 機種:Shodex SYSTEM−21 カラム:KF−804L+KF−803L(×2本)連
結 溶離液:THF(テトラヒドロフラン); 1ml/m
in.,40℃ 検出器:RI(RI−71S) UV(254nm;UV−41) サンプル:約0.4%THF溶液 (100μlインジ
ェクト) 検量線:Shodex製標準ポリスチレン使用
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The GPC measurement conditions are as follows. Model: Shodex SYSTEM-21 Column: KF-804L + KF-803L (× 2) connected Eluent: THF (tetrahydrofuran); 1 ml / m
in. , 40 ° C Detector: RI (RI-71S) UV (254 nm; UV-41) Sample: Approximately 0.4% THF solution (100 μl injection) Calibration curve: Use standard Shodex polystyrene

【0038】実施例1 温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコ
に窒素ガスパージを施しながら下記式(3)
Example 1 A flask equipped with a thermometer, a cooling tube, a fractionating tube, and a stirrer was purged with nitrogen gas and subjected to the following formula (3).

【0039】[0039]

【化10】 Embedded image

【0040】で表される化合物(ビスメトキシメチルビ
フェニル)121部、フェノール188部を仕込み撹拌
下で130℃まで昇温し、溶解させた。次いでパラトル
エンスルホン酸0.5部を添加し、その後、生成するメ
タノールを分留管を用いて系外に除去しながら3時間反
応を行った。反応終了後メチルイソブチルケトン260
部を加え3回水洗を行った後、油層からエバポレーター
を用いて加熱減圧下、メチルイソブチルケトン及び未反
応のフェノールを除去することにより前記式(1’)で
表される化合物(n’=2.2 平均値)(化合物Aと
いう)170部を得た。得られた化合物Aの軟化点は6
8℃、150℃における溶融粘度は0.08Pa・s、
水酸基当量は204g/eqであった。またGPCを用
いて重量平均分子量を測定したところ940であった。
温度計、分留管、撹拌器、冷却管の先端に容器内に発生
した塩酸ガスを系外に追い出せるようシリコンチューブ
を取り付けたフラスコに窒素ガスパージを施しながら、
得られた化合物(A)204部、下記式(4)
121 parts of the compound represented by the formula (bismethoxymethylbiphenyl) and 188 parts of phenol were charged and heated to 130 ° C. with stirring to dissolve. Next, 0.5 parts of paratoluenesulfonic acid was added, and then the reaction was carried out for 3 hours while removing generated methanol outside the system using a fractionating tube. After completion of the reaction, methyl isobutyl ketone 260
After washing with water for three times, methyl isobutyl ketone and unreacted phenol were removed from the oil layer under reduced pressure by heating using an evaporator, whereby the compound represented by the formula (1 ′) (n ′ = 2) was removed. .2 average value) (170 parts). The softening point of the obtained compound A is 6
The melt viscosity at 8 ° C. and 150 ° C. is 0.08 Pa · s,
The hydroxyl equivalent was 204 g / eq. The weight average molecular weight measured by GPC was 940.
While performing a nitrogen gas purge on a flask equipped with a silicon tube so that the hydrochloric acid gas generated in the container at the end of the thermometer, the fractionating tube, the stirrer, and the cooling tube can be expelled out of the system,
204 parts of the obtained compound (A) has the following formula (4)

【0041】[0041]

【化11】 Embedded image

【0042】で表される化合物(ビスクロルメチルビフ
ェニル)50.1部、プロピレングリコールモノブチル
エーテル24.0部を仕込んだ。シリコンチューブの先
端は水酸化ナトリウム水溶液を入れた別の容器に浸る様
に取り付けた。次いで、撹拌下で150℃まで昇温させ
脱塩酸反応を行った。発生した塩酸ガスは水酸化ナトリ
ウム水溶液中にトラップした。6時間反応を続け、次い
で系内を140℃まで冷却しプロピレングリコールモノ
ブチルエーテルを更に72.0部追加した。更に80℃
まで冷却し、80℃の温水120部を加えて懸濁下で3
0分間撹拌した。次いで昇温し共沸脱水により水とプロ
ピレングリコールモノブチルエーテルを系外に留去し、
分留管を用いてプロピレングリコールモノブチルエーテ
ルのみを系内に戻した。この温水を加える操作から分留
管を用いてプロピレングリコールモノブチルエーテルの
みを系内に戻す操作を3度繰り返した後、70℃まで冷
却しメチルエチルケトン144部を加え、本発明のポリ
フェノール樹脂の50%ワニス480部を得た。尚、得
られたポリフェノール樹脂につきGPCを用いて重量平
均分子量を測定したところ12800であり、水酸基当
量は248g/eqであった。また、式(1)における
nは7.0(平均値)であった。
50.1 parts of the compound represented by the formula (bischloromethylbiphenyl) and 24.0 parts of propylene glycol monobutyl ether were charged. The tip of the silicon tube was attached so as to be immersed in another container containing an aqueous solution of sodium hydroxide. Next, the temperature was raised to 150 ° C. with stirring to carry out a dehydrochlorination reaction. The generated hydrochloric acid gas was trapped in the aqueous sodium hydroxide solution. The reaction was continued for 6 hours, and then the system was cooled to 140 ° C., and 72.0 parts of propylene glycol monobutyl ether was further added. 80 ° C
And 80 parts of warm water (120 parts) was added and suspended.
Stirred for 0 minutes. Then, water and propylene glycol monobutyl ether were distilled out of the system by heating and azeotropic dehydration,
Only propylene glycol monobutyl ether was returned to the system using a fractionating tube. The operation of adding only warm water to the operation of returning only propylene glycol monobutyl ether to the system using a fractionating tube was repeated three times, then cooled to 70 ° C., 144 parts of methyl ethyl ketone was added, and the 50% varnish of the polyphenol resin of the present invention was added. 480 parts were obtained. When the weight average molecular weight of the obtained polyphenol resin was measured using GPC, it was 12,800, and the hydroxyl equivalent was 248 g / eq. Further, n in the formula (1) was 7.0 (average value).

【0043】実施例2 エポキシ樹脂として下記式(5)Example 2 An epoxy resin represented by the following formula (5)

【0044】[0044]

【化12】 Embedded image

【0045】で表される化合物NC−3000P(日本
化薬株式会社製、エポキシ当量270g/eq、軟化点
58℃、n=2.5(平均値))を27部、硬化剤とし
て実施例1で得られたポリフェノール樹脂の50重量%
プロピレングリコールモノメチルエーテル・メチルエチ
ルケトン溶液(プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル:メチルエチルケトン=96:144)を73.8
部、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン0.27
部を配合し100℃で3時間撹拌して溶液とした。この
溶液を室温まで冷却し本発明のワニスを得た。この様に
して得たワニスをアプリケータを用いて、乾燥後の厚さ
が25μmになるようにポリイミドに塗布した。この試
験片を150℃で3時間加熱することにより硬化物を得
た。得られたポリイミド上の硬化物はポリイミドを丸め
てもひび割れすることが無く、十分なフィルム形成能を
有していた。この硬化物をUL94−VTMに従って難
燃性の試験を行ったところ、VTM−0をクリアするこ
とが確認された。
A compound NC-3000P (produced by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 270 g / eq, softening point 58 ° C., n = 2.5 (average value)) represented by the following formula: 50% by weight of the polyphenol resin obtained in
73.8 propylene glycol monomethyl ether / methyl ethyl ketone solution (propylene glycol monomethyl ether: methyl ethyl ketone = 96: 144)
Parts, triphenylphosphine 0.27 as curing accelerator
And stirred at 100 ° C. for 3 hours to form a solution. The solution was cooled to room temperature to obtain a varnish of the present invention. The varnish thus obtained was applied to polyimide using an applicator so that the thickness after drying was 25 μm. The test piece was heated at 150 ° C. for 3 hours to obtain a cured product. The cured product on polyimide obtained did not crack even when the polyimide was rolled, and had a sufficient film-forming ability. This cured product was subjected to a flame retardancy test according to UL94-VTM, and it was confirmed that the cured product cleared VTM-0.

【0046】実施例3 前記式(a)で表されるエポキシ樹脂(EPPN−50
2H、日本化薬株式会社製、エポキシ当量170g/e
q、軟化点70.2℃、式(1)におけるm=1.9)
を用い、硬化剤として実施例1で得られたポリフェノー
ル樹脂の50%溶液、硬化促進剤としてトリフェニルホ
スフィンを表1に示す質量比で配合し均一に溶解せしめ
てワニスとした。この溶液を室温まで冷却し本発明のワ
ニスを得た。
Example 3 An epoxy resin represented by the formula (a) (EPPN-50)
2H, Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 170g / e
q, softening point 70.2 ° C, m in formula (1) = 1.9)
And a 50% solution of the polyphenol resin obtained in Example 1 as a curing agent, and triphenylphosphine as a curing accelerator at a mass ratio shown in Table 1 were uniformly dissolved to form a varnish. The solution was cooled to room temperature to obtain a varnish of the present invention.

【0047】表1 配合物の組成 実施例1 EPPN−502H 100 ポリフェノール樹脂の50%溶液 291 トリフェニルホスフィン 1Table 1 Composition of the formulation Example 1 EPPN-502H 100 50% solution of polyphenol resin 291 Triphenylphosphine 1

【0048】この様にして得たワニスをアプリケータを
用いて、乾燥後の厚さが25μmになるようにポリイミ
ドフィルムに塗布し試験片を得た。次いでこの試験片を
180℃で3時間加熱することにより硬化物を得た。得
られたポリイミドフィルム上の硬化物はポリイミドフィ
ルムを丸めてもひび割れすることが無く、十分なフィル
ム形成能を有していた。また、この硬化物をUL94−
VTMに従って難燃性の試験を行ったところ、いずれも
VTM−0をクリアすることが確認された。また、この
様にして得たワニスをアプリケータを用いて、乾燥後の
厚さが150μmになるように厚さ30μmの銅箔に塗
布し試験片を得た。次いでこの試験片を180℃で3時
間加熱した後エッチング液中で銅箔を溶解させ硬化物を
得た。得られた硬化物をDMA(動的粘弾性測定装置)
を用いてガラス転移温度を測定したところ、208℃で
あった。
The varnish thus obtained was applied to a polyimide film using an applicator so that the thickness after drying was 25 μm, to obtain a test piece. Next, the test piece was heated at 180 ° C. for 3 hours to obtain a cured product. The cured product on the obtained polyimide film did not crack even when the polyimide film was rolled, and had a sufficient film-forming ability. In addition, this cured product is UL94-
When a flame retardancy test was performed according to VTM, it was confirmed that all of them cleared VTM-0. Further, the varnish thus obtained was applied to a 30-μm-thick copper foil using an applicator so that the thickness after drying became 150 μm to obtain a test piece. Next, after heating this test piece at 180 ° C. for 3 hours, the copper foil was dissolved in the etching solution to obtain a cured product. The obtained cured product is DMA (dynamic viscoelasticity measuring device)
The glass transition temperature was 208 ° C. when measured using

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明のポリフェノール化合物は、エポ
キシ樹脂の硬化剤として使用した場合、従来一般的に使
用されてきたエポキシ樹脂組成物と比較して、フレキシ
ビリティーを有し薄膜状に形成することが可能であり、
しかも難燃性に優れた硬化物を与えることができ、本発
明のエポキシ樹脂組成物は、成形材料、注型材料、積層
材料、塗料、接着剤、レジストなどの広範囲の用途にき
わめて有用である。
When the polyphenol compound of the present invention is used as a curing agent for an epoxy resin, the polyphenol compound has flexibility and is formed into a thin film as compared with a conventionally used epoxy resin composition. Is possible,
Moreover, a cured product excellent in flame retardancy can be provided, and the epoxy resin composition of the present invention is extremely useful for a wide range of applications such as molding materials, casting materials, laminate materials, paints, adhesives, and resists. .

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA42 AA69 AA81 AC11 AE02 AF47 AH12 AH13 BA02 BB02 BC01 BC02 4J032 CA03 CA04 CA14 CA16 CB04 CC01 CD07 CE03 CG07 CG08 4J036 AF06 AF16 AF19 DA04 DA05 DA09 DB15 DC02 DC26 DC41 DD07 FB06 FB07 FB08 FB13 GA06 GA19 JA05 JA08 JA11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F071 AA42 AA69 AA81 AC11 AE02 AF47 AH12 AH13 BA02 BB02 BC01 BC02 4J032 CA03 CA04 CA14 CA16 CB04 CC01 CD07 CE03 CG07 CG08 4J036 AF06 AF16 AF19 DA04 DA05 DA09 DB15 DC02 DC06 DC06 DC06 FB08 FB13 GA06 GA19 JA05 JA08 JA11

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式(1) 【化1】 (式中nは平均分子量により決まる平均重合度であ
る。)で表され、GPC(ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー;以下同様)による重量平均分子量が30
00以上であるポリフェノール樹脂。
(1) The following formula (1): Wherein n is the average degree of polymerization determined by the average molecular weight, and the weight average molecular weight by GPC (gel permeation chromatography; hereinafter the same) is 30.
A polyphenol resin having a molecular weight of 00 or more.
【請求項2】下記式(1’) 【化2】 (式中、n’ は平均分子量により決まる平均重合度を
表す。)で表され、GPCによる重量平均分子量が15
00以下であるポリフェノール化合物のフェノール性水
酸基1当量に対して、式(2) 【化3】 (式中、Xはハロゲン原子、炭素数1〜3のアルコキシ
基又は水酸基のいずれかを表す。)で表されるビフェニ
ル化合物を0.01モル以上で0.5モルより少ない量
で、縮合反応させることを特徴とするGPCによる重量
平均分子量が3000以上であるポリフェノール樹脂の
製造方法。
2. The following formula (1 ′): Wherein n ′ represents an average degree of polymerization determined by the average molecular weight.
With respect to 1 equivalent of a phenolic hydroxyl group of a polyphenol compound having a molecular weight of 00 or less, the formula (2) (Wherein, X represents a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms or a hydroxyl group) in a condensation reaction in an amount of 0.01 mol or more and less than 0.5 mol. A method for producing a polyphenol resin having a weight average molecular weight of 3000 or more by GPC.
【請求項3】(a)1分子中にエポキシ基を少なくとも
2個以上有するエポキシ樹脂 (b)請求項1記
載のポリフェノール樹脂を含有するエポキシ樹脂組成
物。
3. An epoxy resin composition containing the polyphenol resin according to claim 1, wherein (a) an epoxy resin having at least two epoxy groups in one molecule.
【請求項4】エポキシ樹脂が下記式(a) 【化4】 (式中mは平均重合度を示し、正数を表す。)である請
求項3記載のエポキシ樹脂組成物。
4. An epoxy resin having the following formula (a): The epoxy resin composition according to claim 3, wherein m represents an average degree of polymerization and represents a positive number.
【請求項5】硬化促進剤を含有する請求項3又は4に記
載のエポキシ樹脂組成物。
5. The epoxy resin composition according to claim 3, further comprising a curing accelerator.
【請求項6】請求項1に記載のポリフェノール樹脂及び
溶剤を含有するワニス、
6. A varnish containing the polyphenol resin according to claim 1 and a solvent,
【請求項7】溶剤を含有する請求項3〜5のいずれか1
項に記載のエポキシ樹脂組成物からなるワニス。
7. The method according to claim 3, further comprising a solvent.
A varnish comprising the epoxy resin composition described in the above item.
【請求項8】平面支持体面に請求項6又は7に記載のワ
ニスを乾燥した層を有するシート。
8. A sheet having a layer obtained by drying the varnish according to claim 6 or 7 on a plane support surface.
【請求項9】平面状支持体がポリイミドフィルムである
請求項8に記載のシート。
9. The sheet according to claim 8, wherein the planar support is a polyimide film.
【請求項10】平面状支持体が金属箔である請求項8に
記載のシート。
10. The sheet according to claim 8, wherein the planar support is a metal foil.
【請求項11】平面状支持体が剥離フィルムである請求
項8に記載のシート。
11. The sheet according to claim 8, wherein the planar support is a release film.
【請求項12】請求項3〜5のいずれか1項に記載のエ
ポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 3 to 5.
【請求項13】請求項1に記載のポリフェノール樹脂を
含有することを特徴とするエポキシ樹脂用硬化剤。
13. A curing agent for an epoxy resin, comprising the polyphenol resin according to claim 1.
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