JP2001146546A - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JP2001146546A
JP2001146546A JP33058699A JP33058699A JP2001146546A JP 2001146546 A JP2001146546 A JP 2001146546A JP 33058699 A JP33058699 A JP 33058699A JP 33058699 A JP33058699 A JP 33058699A JP 2001146546 A JP2001146546 A JP 2001146546A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
polyamide
epoxy
compound
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JP33058699A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuhiro Yoshida
達弘 吉田
Michio Nakajima
道男 中嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin composition excellent in heat resistance and low water absorption while keeping excellent electrical properties. SOLUTION: This epoxy resin composition comprises as its main components a compound (A) having two epoxy compounds in the molecule and a polyamide (B) represented general formula (1) (wherein X and Y are each an aromatic residue, amino group and hydroxyl group are mutually in ortho positions and (n) is an integer of 2-100.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、低吸水
性、および電気的特性に優れた、エポキシ樹脂組成物に
関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent heat resistance, low water absorption, and excellent electrical properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は、電気絶縁特性、機械的
性質、耐薬品性、接着性などに優れていることから、電
気絶縁分野、電子材料分野、構造材用接着剤、塗料など
の多くの分野に使用されている。近年、これらの分野で
は、種々の高性能な特性を併せ持った材料が必要となっ
てきている。例えば、電気絶縁分野では、高耐熱性、低
吸水性、低誘電率が要求されている。しかし、これらの
高性能化の要求に十分答えることのできる材料は、これ
までに得られていない。
2. Description of the Related Art Epoxy resins are excellent in electrical insulating properties, mechanical properties, chemical resistance, adhesiveness, etc., and are used in many fields such as electrical insulating fields, electronic material fields, adhesives for structural materials, and paints. Used in the field. In recent years, in these fields, materials having various high-performance characteristics have been required. For example, in the field of electric insulation, high heat resistance, low water absorption, and low dielectric constant are required. However, a material that can sufficiently satisfy these demands for high performance has not been obtained so far.

【0003】このような要求を満足する樹脂を得る手段
として、ビスマレイミドによるエポキシ樹脂の改良が行
われている。しかしながら、耐熱性を向上させることは
可能であるが、イミド環のカルボニル基を2個有してい
ることから、電気特性や吸水性に問題があり、すべての
要求を満足するレベルには至っていない。また、分子構
造中にフッ素原子を含む置換基を導入することで、吸水
性と電気特性を改良しようとする試みが数多くなされて
いるが、フッ素を含有するガスの発生により、金属材料
が腐食されることもおこり、耐熱性が懸念されている。
[0003] As a means of obtaining a resin satisfying such requirements, an epoxy resin has been improved with bismaleimide. However, although it is possible to improve the heat resistance, since it has two carbonyl groups of the imide ring, there is a problem in electric characteristics and water absorption, and it has not yet reached a level satisfying all requirements. . Many attempts have been made to improve water absorption and electrical properties by introducing a substituent containing a fluorine atom into the molecular structure.However, the generation of a gas containing fluorine corrodes metal materials. In some cases, heat resistance is a concern.

【0004】ビスマレイミド樹脂の替わりに、ポリイミ
ド樹脂で変性することによる、エポキシ樹脂の改質も行
われているが、その優れた耐熱性と機械特性により、要
求されるレベルをクリアすることはできるものの、逆に
電気特性や吸水性の低下を招いてしまうといった欠点も
有している。これらの問題に対して、フッ素ならびにト
リフルオロメチル基を高分子内に導入することにより、
電気特性と吸水性、耐熱性を改良することも試みられて
いる。一方、ポリイミド樹脂に比べて電気特性と吸水性
に優れ、かつ耐熱性も同等程度の性能を示す、ポリベン
ゾオキサゾール樹脂が盛んに研究され、様々な用途展開
が進められている。このような状況において、近年ます
ます電子部品用途での要求がより一層厳しくなってお
り、上記のような要求特性をすべて満足することが求め
られている。
[0004] Epoxy resins have been modified by modifying them with polyimide resins instead of bismaleimide resins, but the required levels can be cleared due to their excellent heat resistance and mechanical properties. However, on the contrary, it also has a drawback that the electrical characteristics and the water absorption are reduced. To solve these problems, by introducing fluorine and trifluoromethyl groups into the polymer,
Attempts have also been made to improve electrical properties, water absorption and heat resistance. On the other hand, polybenzoxazole resins, which are superior in electrical properties and water absorption to polyimide resins and exhibit performance comparable to heat resistance, have been actively studied and are being developed for various applications. Under such circumstances, in recent years, requirements for use in electronic components have become even more severe, and it is required to satisfy all the above-mentioned required characteristics.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のエポ
キシ樹脂組成物のこのような問題点を解消すべく、鋭意
検討を重ねた結果なされたもので、耐熱性、低吸水性、
および電気的特性に優れた、エポキシ樹脂組成物を提供
することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made as a result of intensive studies in order to solve such problems of the conventional epoxy resin composition, and it has been found that heat resistance, low water absorption,
Another object of the present invention is to provide an epoxy resin composition having excellent electrical characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、1分子中
に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物(A)
と、一般式(1)で表されるポリアミド(B)とを、必
須成分として含有することを特徴とするエポキシ樹脂組
成物である。
That is, the present invention relates to a compound (A) having at least two epoxy groups in one molecule.
And a polyamide (B) represented by the general formula (1) as an essential component.

【0007】[0007]

【化3】 式中、X、Yは芳香族残基であり、アミノ基とヒドロキ
シ基は互いにオルソ位の関係にある。また、nは2〜1
00の整数を示す。
Embedded image In the formula, X and Y are aromatic residues, and the amino group and the hydroxy group have an ortho-position with each other. N is 2 to 1
Indicates an integer of 00.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明における1分子中に少なく
とも2個のエポキシ基を有する化合物(A)は、具体的
に例示すると、4,4'-ビス(2,3-エポキシプロポキ
シ)ビフェニル、4,4'-ビス(2,3-エポキシプロポ
キシ)-3,3',5,5'-テトラメチルビフェニル、4,
4'-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)-3,3'-5,5'
-テトラエチルビフェニル、4,4'-ビス(2,3-エポキ
シプロポキシ)-3,3',5,5'-テトラブチルビフェニ
ル等の2官能性のエポキシ化合物、あるいは3官能、4
官能のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ポリカルボン
酸のポリグリシジルエステル、脂肪族ポリヒドロキシ化
合物のポリグリシジルエステル等の多官能性エポキシ樹
脂、シリコン変性エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹
脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ナフタレ
ン骨格をもったエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨
格を持ったエポキシ樹脂、リモネン骨格を持ったエポキ
シ樹脂などがあり、これらについてはハロゲン化されて
いるもの、水素添加されているものでもよく、単独で、
または2種類以上を組み合わせて使用される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compound (A) having at least two epoxy groups in one molecule of the present invention is specifically exemplified by 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl
4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3'-5,5 '
Bifunctional epoxy compounds such as -tetraethylbiphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetrabutylbiphenyl, or trifunctional epoxy compounds
Polyfunctional epoxy resin such as functional glycidylamine type epoxy resin, polyglycidyl ester of polycarboxylic acid, polyglycidyl ester of aliphatic polyhydroxy compound, silicone modified epoxy resin, rubber modified epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin,
There are phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, epoxy resin with naphthalene skeleton, epoxy resin with dicyclopentadiene skeleton, epoxy resin with limonene skeleton, etc. It may be halogenated or hydrogenated.
Alternatively, two or more types are used in combination.

【0009】また、一般式(1)で表されるポリアミド
(B)は、一般式(3)で表されるビスアミノフェノー
ル化合物、またはそのエステル化物もしくはエーテル化
物などの誘導体と、一般式(4)で表されるジカルボン
酸とを、酸クロリド法、またはポリリン酸、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下での縮合
反応等の方法により、製造することができるものであ
る。
Further, the polyamide (B) represented by the general formula (1) is obtained by mixing a bisaminophenol compound represented by the general formula (3) or a derivative thereof such as an esterified product or an etherified product thereof with the general formula (4). ) Can be produced by a method such as an acid chloride method or a condensation reaction in the presence of a dehydrating condensing agent such as polyphosphoric acid and dicyclohexylcarbodiimide.

【0010】[0010]

【化4】 式中、Xは芳香族残基である。Embedded image Wherein X is an aromatic residue.

【0011】[0011]

【化5】 式中、Yは芳香族残基である。Embedded image Wherein Y is an aromatic residue.

【0012】前記のビスアミノフェノール化合物は、一
般式(3)で表されるものであるが、さらには一般式
(5)で表されるものが好ましく、具体的に例示する
と、3,3'-ジアミノ-4,4'-ジヒドロキシビフェニ
ル、4,4'-ジアミノ-3,3'-ジヒドロキシビフェニ
ル、ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)スルフ
ィド、ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ケト
ン、ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェ
ニル)ヘキサフルオロプロパンなどが好適に使用され
る。これらは単独で用いても良く、また2種類以上を組
み合わせて使用することも出来る。
The above bisaminophenol compound is represented by the general formula (3), and more preferably the one represented by the general formula (5). -Diamino-4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ether, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) Sulfide, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ketone, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfone, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl)
Propane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane and the like are preferably used. These may be used alone or in combination of two or more.

【0013】[0013]

【化6】 Embedded image

【0014】また、前記ジカルボン酸は、一般式(4)
で表されるものであるが、さらには一般式(6)で表さ
れるものが好ましく、具体的に例示すると、テレフタル
酸、イソフタル酸、4,4'-ジカルボキシビフェニル、
3,3'-ジカルボキシビフェニル、4,4'-ジカルボキシ
ジフェニルエーテル、4,4'-ジカルボキシジフェニル
ケトン、4,4'-ジカルボキシジフェニルスルフィド、
4,4'-ジカルボキシジフェニルスルホン、2,2-ビス
(4-カルボキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-
カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが好
適に用いられる。これらは単独で用いても良く、また2
種類以上を組み合わせて使用することも出来る。
The dicarboxylic acid is represented by the general formula (4)
And further preferably those represented by the general formula (6), and specific examples include terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4′-dicarboxybiphenyl,
3,3′-dicarboxybiphenyl, 4,4′-dicarboxydiphenyl ether, 4,4′-dicarboxydiphenyl ketone, 4,4′-dicarboxydiphenyl sulfide,
4,4'-dicarboxydiphenylsulfone, 2,2-bis (4-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-
(Carboxyphenyl) hexafluoropropane is preferably used. These may be used alone, or 2
Combinations of more than one type can also be used.

【0015】[0015]

【化7】 Embedded image

【0016】即ち、本発明において好ましいポリアミド
(B)は、一般式(5)で表されるビスアミノフェノー
ル化合物と、一般式(6)で表されるジカルボン酸とか
ら合成され、一般式(2)で表される繰り返し単位を有
する構造となる。
That is, the preferred polyamide (B) in the present invention is synthesized from a bisaminophenol compound represented by the general formula (5) and a dicarboxylic acid represented by the general formula (6). ).

【0017】[0017]

【化8】 Embedded image

【0018】ポリアミド(B)は、公知の方法に従って
合成される。具体的な合成方法のひとつとして酸クロリ
ド法を挙げると、前記ジカルボン酸を、N-メチル-2-
ピロリドン等の極性溶媒に溶解し、過剰の塩化チオニル
存在下で、室温ないし75℃で反応させ、次いで、減圧
下で余分な塩化チオニルを留去する。その後、析出物を
ヘキサン等の溶媒で再結晶することにより、ジカルボン
酸クロリドを得る。次に、前記ビスアミノフェノール化
合物を、N-メチル-2-ピロリドン等の極性溶媒に溶解
し、ピリジン等の酸受容剤存在下で、ジカルボン酸クロ
リドと−30℃ないし室温で反応させることにより、ポ
リアミドを得ることができる。
The polyamide (B) is synthesized according to a known method. As an example of a specific synthesis method, an acid chloride method may be used. The dicarboxylic acid is converted to N-methyl-2-
It is dissolved in a polar solvent such as pyrrolidone and reacted at room temperature to 75 ° C. in the presence of excess thionyl chloride, and then excess thionyl chloride is distilled off under reduced pressure. Thereafter, the precipitate is recrystallized with a solvent such as hexane to obtain dicarboxylic acid chloride. Next, the bisaminophenol compound is dissolved in a polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone and reacted with dicarboxylic acid chloride at -30 ° C. to room temperature in the presence of an acid acceptor such as pyridine. A polyamide can be obtained.

【0019】本発明において、エポキシ基化合物(A)
とポリアミド(B)は必須成分であり、その量比は重要
である。エポキシ化合物とポリアミドの両成分の固形分
全体に対して、ポリアミドを10〜40重量%とするこ
とが好ましく、より好ましくは10〜30重量%であ
る。配合されるポリアミドが10重量%未満では、ポリ
アミド添加による耐熱性向上が十分発現され得ない。ま
た、40重量%を越えると、エポキシ樹脂が持つ優れた
機械特性を低下させてしまい好ましくない。
In the present invention, the epoxy group compound (A)
And polyamide (B) are essential components, and their ratio is important. The content of the polyamide is preferably 10 to 40% by weight, more preferably 10 to 30% by weight, based on the total solid content of both the epoxy compound and the polyamide. When the amount of the polyamide to be blended is less than 10% by weight, the improvement in heat resistance by the addition of the polyamide cannot be sufficiently exhibited. On the other hand, if it exceeds 40% by weight, the excellent mechanical properties of the epoxy resin are undesirably reduced.

【0020】本発明のエポキシ樹脂組成物には、好まし
くはエポキシ樹脂用硬化剤が配合される。硬化剤として
は、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として使用されている
ものであれば如何なるものでも良く、例えば、アミン化
合物、酸無水物、イミダゾール類、多価フェノール化合
物、フェノール樹脂、ジシアンジアミドまたはその誘導
体等を使用できる。その配合量は、エポキシ化合物
(A)100重量部に対し、0.1〜10重量部配合す
るのが望ましい。配合量は使用目的により決められ、必
ずしもエポキシ化合物と当量でなくとも良い。
The epoxy resin composition of the present invention preferably contains a curing agent for epoxy resin. As the curing agent, any one may be used as long as it is generally used as a curing agent for an epoxy resin, for example, an amine compound, an acid anhydride, an imidazole, a polyhydric phenol compound, a phenol resin, dicyandiamide or a derivative thereof. Can be used. The compounding amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy compound (A). The amount is determined according to the purpose of use, and does not necessarily have to be equivalent to the epoxy compound.

【0021】また、硬化反応を促進するために硬化促進
剤を使用してもよく、例えば、1,8-ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン-7、トリエチレンジアミン、
ベンジルジアミン、α-メチルベンジルジメチルアミ
ン、2-(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,
6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリ
エタノールアミン、ジエチルアミノエタノール等の3級
アミン類、2-メチルイミダゾール、2,4-ジメチルイ
ミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フ
ェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾ
ール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、ト
リメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチ
ルホスフィン等の有機ホスフィン化合物、テトラフェニ
ルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェ
ニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テト
ラブチルホスホニウム・テトラブチルボレート等のテト
ラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル
−4−メチルイミダゾール・テトラメチルボレート、N
−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテト
ラフェニルボロン塩等があり、これらの硬化促進剤は2
種以上を併用してもよい。その添加量は、エポキシ化合
物(A)100重量部に対して、0.01〜1重量部の
範囲であることが好ましい。
A curing accelerator may be used to accelerate the curing reaction, for example, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine,
Benzyldiamine, α-methylbenzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,
Tertiary amines such as 6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, triethanolamine, diethylaminoethanol, 2-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, Imidazoles such as -phenyl-4-methylimidazole, organic phosphine compounds such as triphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine and tributylphosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate, and tetrabutylphosphonium Tetra-substituted phosphonium such as tetrabutyl borate, tetra-substituted borate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetramethyl borate, N
Tetraphenylboron salts such as -methylmorpholine / tetraphenylborate, and the like;
More than one species may be used in combination. The addition amount is preferably in the range of 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the epoxy compound (A).

【0022】本発明のエポキシ樹脂組成物には、所期の
性能を損なわない範囲で、酸化防止剤、難燃剤、難燃助
剤、滑剤、着色剤、充填剤などの添加剤を加えることが
できる。
The epoxy resin composition of the present invention may contain additives such as an antioxidant, a flame retardant, a flame retardant auxiliary, a lubricant, a coloring agent, and a filler as long as the desired performance is not impaired. it can.

【0023】本発明のエポキシ樹脂組成物の使用方法と
して、エポキシ樹脂成形材料やフェノール樹脂成形材料
として、あるいはその改質剤として固体状で添加するこ
とが可能であり、圧縮成型法、トランスファー成形法、
押し出し成形法、射出成形法などの公知の成形法により
成形され、実用に供される。また、積層板などの絶縁材
料として、有機溶剤に溶解させて使用することも可能で
ある。具体的に例示すると、当該樹脂組成物を前述の有
機溶剤に溶解させ、適当な支持体、例えばガラス、繊
維、金属、シリコンウエハー、セラミック基板等に塗布
する。その塗布方法は、浸漬、スクリーン印刷、スプレ
ー、回転塗布、ロールコーティングなどが挙げられ、塗
布後に加熱乾燥して溶剤を揮発せしめ、タックフリーな
塗膜とすることができる。
The epoxy resin composition of the present invention can be used in a solid form as an epoxy resin molding material or a phenol resin molding material, or as a modifier thereof, by a compression molding method or a transfer molding method. ,
It is molded by a known molding method such as an extrusion molding method or an injection molding method, and is put to practical use. It is also possible to dissolve in an organic solvent and use it as an insulating material such as a laminate. More specifically, the resin composition is dissolved in the above-mentioned organic solvent and applied to a suitable support, for example, glass, fiber, metal, silicon wafer, ceramic substrate, or the like. Examples of the application method include dipping, screen printing, spraying, spin coating, roll coating, and the like. After application, the coating is heated and dried to volatilize the solvent, and a tack-free coating film can be obtained.

【0024】その際に、ポリアミドを閉環させてポリベ
ンゾオキサゾールに変換し、あるいは、エポキシ化合物
の架橋反応を起こさせることが可能である。使用用途に
よっては、溶剤の揮発のみにとどめ、所定の工程を行っ
た後、閉環・硬化を行うことも可能である。また、ガラ
ス繊維布やその他の布、紙等の基材に含浸して乾燥し、
プリプレグとすることができる。含浸方法は、はけ塗
り、吹き付け、浸漬などを利用することができ、加熱乾
燥して溶剤を除去しただけのもの、部分的に硬化させた
ものを得ることができる。
At this time, it is possible to convert the polyamide into a polybenzoxazole by ring closure, or to cause a crosslinking reaction of the epoxy compound. Depending on the intended use, it is also possible to carry out ring closure and curing after performing a predetermined step, only volatilization of the solvent. In addition, impregnated into a substrate such as glass fiber cloth or other cloth, paper and dried,
It can be a prepreg. As the impregnation method, brushing, spraying, dipping, or the like can be used, and a method in which the solvent is removed by heating and drying or a method in which the solvent is partially cured can be obtained.

【0025】前述のエポキシ樹脂組成物を溶解させる有
機溶媒としては、固形分を完全に溶解する溶媒が好まし
く、例えば、N-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラク
トン、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、セロ
ソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、1,
3-ブチレングリコール-3-モノメチルエーテル、メチ
ル-1,3-ブチレングリコールアセテート、乳酸エチ
ル、乳酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチ
ル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン、シクロペンタノン、テトラヒドロキシ
フランなどが挙げられ、これらを1種、または2種以上
を混合して用いることができる。その使用量としては、
エポキシ化合物とポリアミドとを完全に溶解し得る量な
らば問題なく、その使用用途に応じて調整可能である。
As the organic solvent for dissolving the above-mentioned epoxy resin composition, a solvent which completely dissolves the solid content is preferable. For example, N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide, dimethyl Sulfoxide, cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 1,
3-butylene glycol-3-monomethyl ether, methyl-1,3-butylene glycol acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, tetrahydroxyfuran, etc. These can be used alone or in combination of two or more. As the usage amount,
There is no problem as long as the amount can completely dissolve the epoxy compound and the polyamide, and it can be adjusted according to the intended use.

【0026】[0026]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はそれによって何ら限定されるものではな
い。先ず、酸クロリドを合成し、それを用いてポリアミ
ドの合成を行い、さらに、エポキシ樹脂組成物を調製し
て、その硬化フィルムを作製して、特性評価のため、ガ
ラス転移温度、吸水率、および電気特性を測定した。測
定方法は下記の通りとし、評価結果はまとめて表1に示
した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the invention thereto. First, an acid chloride is synthesized, a polyamide is synthesized using the acid chloride, and further, an epoxy resin composition is prepared, and a cured film is prepared.For property evaluation, a glass transition temperature, a water absorption, and The electrical characteristics were measured. The measurement method was as described below, and the evaluation results were summarized in Table 1.

【0027】1.ガラス転移温度(Tg) 粘弾性測定装置(セイコーインスツルメント(株)製DM
S210)を用いて、周波数10Hz、昇温速度3℃/
分、引張りモードで測定し、動的粘弾性曲線におけるt
anδのピーク温度を、ガラス転移温度(℃)とした。
1. Glass transition temperature (Tg) Viscoelasticity measurement device (DM manufactured by Seiko Instruments Inc.)
S210), using a frequency of 10 Hz and a heating rate of 3 ° C. /
Minute, measured in tensile mode, and t in the dynamic viscoelastic curve
The peak temperature of an δ was defined as the glass transition temperature (° C.).

【0028】2.吸水率 5cm角、厚み20μmの試験フィルムを、23℃の純
水に24時間浸漬した後の、重量変化率を算出した。
2. The weight change rate after immersing a test film having a water absorption of 5 cm square and a thickness of 20 μm in pure water at 23 ° C. for 24 hours was calculated.

【0029】3.電気特性 JIS−C−6481の方法に従い、体積抵抗率と1M
Hzにおける室温での比誘電率の値を測定した。
3. Electrical properties According to the method of JIS-C-6481, volume resistivity and 1M
The value of the relative dielectric constant at room temperature in Hz was measured.

【0030】[酸クロリドの合成] 合成例1 4,4'-ジカルボキシジフェニルエーテル6g、塩化チ
オニル24g、および乾燥N,N-ジメチルホルムアミド
(DMF)0.1gを反応容器に入れ、60℃で2時間
反応させた。反応終了後、未反応の塩化チオニルを加熱
および減圧により留去した。反応容器内の析出物を、ヘ
キサンを用いて再結晶しカルボン酸クロリド6.2gを
得た。
[Synthesis of Acid Chloride] Synthesis Example 1 6 g of 4,4′-dicarboxydiphenyl ether, 24 g of thionyl chloride and 0.1 g of dry N, N-dimethylformamide (DMF) were placed in a reaction vessel and reacted at 60 ° C. for 2 hours. Allowed to react for hours. After completion of the reaction, unreacted thionyl chloride was distilled off by heating and reduced pressure. The precipitate in the reaction vessel was recrystallized using hexane to obtain 6.2 g of carboxylic acid chloride.

【0031】合成例2 合成例1と同様に操作して、2,2'-ビス(4-カルボキ
シフェニル)ヘキサフルオロプロパンの酸クロリドを得
た。
Synthetic Example 2 The same procedure as in Synthetic Example 1 was carried out to obtain 2,2′-bis (4-carboxyphenyl) hexafluoropropane acid chloride.

【0032】[ポリアミドの合成] 合成例3 攪拌装置、窒素導入管、および滴下漏斗を付けたフラス
コに、2,2'-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン7.33g(0.02モル)
を入れ、ジメチルアセトアミド30gに溶解し、ピリジ
ン3.0gを添加した後、乾燥窒素導入下、ジメチルア
セトアミド24gに、合成例1で得た酸クロリド5.9
0g(0.02モル)を溶解させたものを、系内温度を
−15℃に保ちながら30分かけて滴下した。滴下終了
後、室温まで戻し、さらに4時間攪拌を続けた。次い
で、反応液を蒸留水1L中に滴下し、沈澱物を濾過、洗
浄し、50℃/24hr乾燥することにより、ポリアミ
ド10.1gを得た。
[Synthesis of Polyamide] Synthesis Example 3 To a flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a dropping funnel, 7.33 g of 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane ( 0.02 mol)
Was dissolved in 30 g of dimethylacetamide, and 3.0 g of pyridine was added. Then, under dry nitrogen introduction, 4.9 g of the acid chloride obtained in Synthesis Example 1 was added to 24 g of dimethylacetamide.
A solution having 0 g (0.02 mol) dissolved therein was added dropwise over 30 minutes while maintaining the system temperature at -15 ° C. After completion of the dropwise addition, the temperature was returned to room temperature, and the stirring was further continued for 4 hours. Then, the reaction solution was dropped into 1 L of distilled water, and the precipitate was filtered, washed, and dried at 50 ° C./24 hr to obtain 10.1 g of polyamide.

【0033】(合成例4)2,2'-ビス(3-アミノ-4-
ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン7.33
g(0.02モル)に対して、合成例2で得た酸クロリ
ド7.85g(0.02モル)を用いた以外は、すべて合
成例3と同様に操作して、ポリアミド12.4gを得
た。
(Synthesis example 4) 2,2'-bis (3-amino-4-
Hydroxyphenyl) hexafluoropropane7.33
Except for using 7.85 g (0.02 mol) of the acid chloride obtained in Synthesis Example 2 with respect to g (0.02 mol), all operations were performed in the same manner as in Synthesis Example 3 to obtain 12.4 g of polyamide. Obtained.

【0034】[エポキシ樹脂組成物の調製] 実施例1 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量92
5)80g、合成例3で得られたポリアミド20g、
4,4'-ジアミノジフェニルメタン5g、およびジシア
ンジアミド1gを、N,N-ジメチルホルムアミド80重
量%とメチルイソブチルケトン20重量%の混合溶媒
に、室温で溶解させてワニスを得た。このワニスをガラ
ス板上に、ギャップ300μmのドクターブレードを用
いて塗布した。その後、オーブン中で70℃/1時間、
100℃/30分乾燥し、剥離して膜厚20μmの樹脂
組成物フィルムを得た。そのフィルムを金枠で固定し、
150℃/30分、250℃/30分、350℃/30
分の順で窒素雰囲気下で加熱し、樹脂組成物の硬化フィ
ルムを得た。
[Preparation of Epoxy Resin Composition] Example 1 Bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 92
5) 80 g, 20 g of the polyamide obtained in Synthesis Example 3,
A varnish was obtained by dissolving 5 g of 4,4′-diaminodiphenylmethane and 1 g of dicyandiamide in a mixed solvent of 80% by weight of N, N-dimethylformamide and 20% by weight of methyl isobutyl ketone at room temperature. The varnish was applied on a glass plate using a doctor blade having a gap of 300 μm. After that, in an oven at 70 ° C for 1 hour,
After drying at 100 ° C./30 minutes and peeling, a resin composition film having a thickness of 20 μm was obtained. Fix the film with a metal frame,
150 ° C / 30 minutes, 250 ° C / 30 minutes, 350 ° C / 30
The mixture was heated under a nitrogen atmosphere in the order of minutes to obtain a cured film of the resin composition.

【0035】実施例2 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量92
5)60g、合成例4で得られたポリアミド40g、
4,4'-ジアミノジフェニルメタン3g、および2-エチ
ル-4-メチルイミダゾール0.3gを、N,N-ジメチル
ホルムアミド80重量%とメチルイソブチルケトン20
重量%の混合溶媒に、室温で溶解させ、実施例1と同様
に操作して、硬化フィルムを作成した。
Example 2 Bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 92
5) 60 g, 40 g of the polyamide obtained in Synthesis Example 4,
3 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane and 0.3 g of 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed with 80% by weight of N, N-dimethylformamide and 20 g of methyl isobutyl ketone.
A cured film was prepared in the same manner as in Example 1 by dissolving at room temperature in a mixed solvent of weight%.

【0036】実施例3 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
00)90g、合成例3で得られたポリアミド10g、
フェノールノボラック樹脂(水酸基当量108、軟化点
90℃)4.5g、およびテトラフェニルホスフィン0.
1gを、N,N-ジメチルホルムアミド80重量%とメチ
ルイソブチルケトン20重量%の混合溶媒に、室温で溶
解させ、実施例1と同様に操作して、硬化フィルムを作
成した。
Example 3 Cresol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 2
00) 90 g, 10 g of the polyamide obtained in Synthesis Example 3,
4.5 g of a phenol novolak resin (hydroxyl equivalent: 108, softening point: 90 ° C.), and 0.4 g of tetraphenylphosphine.
1 g was dissolved in a mixed solvent of N, N-dimethylformamide 80% by weight and methyl isobutyl ketone 20% by weight at room temperature, and the same operation as in Example 1 was carried out to prepare a cured film.

【0037】実施例4 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
00)50g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポ
キシ当量925)20g、合成例4で得られたポリアミ
ド30g、メチルテトラヒドロ無水フタル酸5g、およ
び2-エチル-4-メチルイミダゾール0.5gを、N,N-
ジメチルホルムアミド80重量%とメチルイソブチルケ
トン20重量%の混合溶媒に、室温で溶解させ、実施例
1と同様に操作して、硬化フィルムを作成した。
Example 4 Cresol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 2
00), 20 g of a bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 925), 30 g of the polyamide obtained in Synthesis Example 4, 5 g of methyltetrahydrophthalic anhydride, and 0.5 g of 2-ethyl-4-methylimidazole were added to N, N -
It was dissolved in a mixed solvent of 80% by weight of dimethylformamide and 20% by weight of methyl isobutyl ketone at room temperature, and the same operation as in Example 1 was performed to prepare a cured film.

【0038】比較例1 実施例1において、合成例3で得たポリアミドを配合し
なかったこと以外は、すべて実施例1と同様に操作し
て、ワニスを調製した。このワニスを、ガラス板上にギ
ャップ300μmのドクターブレードを用いて塗布し、
オーブン中で70℃/1時間、100℃/30分乾燥
し、剥離して膜厚20μmの樹脂組成物フィルムを得
た。そのフィルムを金枠で固定し、150℃/30分、
200℃/30分の順で窒素雰囲気下で加熱し、樹脂組
成物の硬化フィルムを得た。
Comparative Example 1 A varnish was prepared in the same manner as in Example 1, except that the polyamide obtained in Synthesis Example 3 was not blended. This varnish was applied on a glass plate using a doctor blade with a gap of 300 μm,
The film was dried in an oven at 70 ° C. for 1 hour and at 100 ° C. for 30 minutes, and peeled to obtain a resin composition film having a thickness of 20 μm. The film is fixed with a metal frame, 150 ° C./30 minutes,
Heating was performed at 200 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere to obtain a cured film of the resin composition.

【0039】比較例2 実施例3において、合成例3で得たポリアミドを配合し
なかったこと以外は、実施例3と同様に操作してワニス
を調製し、その後、比較例1と同様な操作をして硬化フ
ィルムを得た。
Comparative Example 2 A varnish was prepared in the same manner as in Example 3 except that the polyamide obtained in Synthetic Example 3 was not used, and a varnish was prepared. To obtain a cured film.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】表1にまとめた、実施例および比較例の評
価結果から、本発明のエポキシ樹脂組成物は、優れた電
気特性を維持しながら、かつその吸水性と耐熱性は著し
く向上していることが分かる。以上のことから本発明に
より、耐熱性、低吸水性、および電気的特性に優れたエ
ポキシ樹脂組成物が得られることが示される。
From the evaluation results of Examples and Comparative Examples summarized in Table 1, the epoxy resin composition of the present invention has excellent water absorption and heat resistance while maintaining excellent electrical properties. You can see that. From the above, it is shown that the present invention can provide an epoxy resin composition excellent in heat resistance, low water absorption, and electrical properties.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、優れた
電気特性を維持しながら耐熱性と低吸水性を向上させた
もので、これらの特性が要求される様々な分野、例え
ば、多層プリント配線板の絶縁材料として、またフレキ
シブル銅張板の接着剤樹脂、エポキシ成形材料用樹脂と
して有用である。
Industrial Applicability The epoxy resin composition of the present invention has improved heat resistance and low water absorption while maintaining excellent electrical properties. It is useful as an insulating material for wiring boards, as an adhesive resin for flexible copper-clad boards, and as a resin for epoxy molding materials.

フロントページの続き Fターム(参考) 4J001 DA01 DC05 DC08 DC14 EB36 EB37 EB44 EB56 EB57 EB58 EB60 EC23 EC44 EC54 EC66 EC67 EC68 EC70 FA01 FB03 FB05 FC03 FC05 GA13 GA16 HA01 HA02 HA05 JA17 JB07 JB17 JB18 JB36 JB37 JC01 4J002 CD001 CD021 CD031 CD051 CD061 CD081 CD131 CD201 CL062 FD140 FD150 GQ00 4J036 AA01 DA01 DA02 DB05 DB15 DC02 DC12 DC13 DC31 DC41 DC46 DD07 FB07 FB13 FB14 GA23 JA05 JA08 Continued on the front page F-term (reference) 4J001 DA01 DC05 DC08 DC14 EB36 EB37 EB44 EB56 EB57 EB58 EB60 EC23 EC44 EC54 EC66 EC67 EC68 EC70 FA01 FB03 FB05 FC03 FC05 GA13 GA16 HA01 HA02 HA05 JA17 JB07 JB17 JB18 CDB CD CD CD061 CD081 CD131 CD201 CL062 FD140 FD150 GQ00 4J036 AA01 DA01 DA02 DB05 DB15 DC02 DC12 DC13 DC31 DC41 DC46 DD07 FB07 FB13 FB14 GA23 JA05 JA08

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子中に少なくとも2個のエポキシ基
を有する化合物(A)と、一般式(1)で表されるポリ
アミド(B)とを、必須成分として含有することを特徴
とするエポキシ樹脂組成物。 【化1】 式中、X、Yは芳香族残基であり、アミノ基とヒドロキ
シ基は互いにオルソ位の関係にある。また、nは2〜1
00の整数を示す。
1. An epoxy resin comprising, as essential components, a compound (A) having at least two epoxy groups in one molecule and a polyamide (B) represented by the general formula (1). Resin composition. Embedded image In the formula, X and Y are aromatic residues, and the amino group and the hydroxy group have an ortho-position with each other. N is 2 to 1
Indicates an integer of 00.
【請求項2】 ポリアミド(B)が、一般式(2)で表
される繰り返し単位を有するものであることを特徴とす
る、請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 【化2】
2. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the polyamide (B) has a repeating unit represented by the general formula (2). Embedded image
【請求項3】 エポキシ基を有する化合物(A)とポリ
アミド(B)の配合割合が、両成分の固形分全体に対し
て、(A)が90〜60重量%、(B)が10〜40重
量%であることを特徴とする、請求項1または請求項2
記載のエポキシ樹脂組成物。
3. The compounding ratio of the compound (A) having an epoxy group and the polyamide (B) is such that (A) is 90 to 60% by weight and (B) is 10 to 40% by weight based on the total solid content of both components. % By weight
The epoxy resin composition according to the above.
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