JP2002234273A

JP2002234273A - ブランケットおよびその製造方法

Info

Publication number: JP2002234273A
Application number: JP2001033758A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Muneta; 明博棟田
Original assignee: Fujikura Rubber Ltd
Current assignee: Fujikura Composites Inc
Priority date: 2001-02-09
Filing date: 2001-02-09
Publication date: 2002-08-20

Abstract

(57)【要約】【課題】シリコーンゴムによる優れたインキ転写性を
確保しながら、良好なインキ受理性を安定して発揮する
ことができるオフセット印刷用のブランケットを提供す
ること。【解決手段】基布を貼り合わせてなる基材層１０の表
面に、表面ゴム層３０を積層形成して構成されるオフセ
ット印刷用のブランケットであって、表面ゴム層３０
は、ビニル基含有オルガノポリシロキサンからなる主剤
（Ａ）と、分岐構造または網目構造を有するオルガノハ
イドロジェンポリシロキサンからなる硬化剤（Ｂ）と
を、前記主剤（Ａ）中のビニル基のモル数をＶ、前記硬
化剤（Ｂ）中のＳｉＨ基のモル数をＨとするとき、比
（Ｈ／Ｖ）の値が１．５〜２．０となる割合で配合し、
両者を付加反応させることにより得られるシリコーンゴ
ムからなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷用
のブランケットおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】最近において、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）のアドレス電極の印刷、セラミック積層
基盤への回路印刷、エッチングレジストの印刷などの技
術分野において、オフセット印刷法の適用が検討されて
いる。

【０００３】図１は、このようなオフセット印刷に使用
するブランケットの層構成の一例を示す断面図である。
このブランケットは、基布を貼り合わせてなる基材層６
０の表面に、接着ゴム層７０（ゴム系の接着剤）を介し
て表面ゴム層８０が積層形成されて構成されている。ブ
ランケットを構成する基材層６０は、第１の基布６１１
と、スポンジ層６２と、第２の基布６１２と、接着ゴム
層６３と、第３の基布６１３とが積層されて形成されて
いる。

【０００４】しかして、インキの受理および転写を行う
表面ゴム層８０の表面特性は印刷品質に大きな影響を与
える。ここに、表面ゴム層８０の構成材料としては、ニ
トリルゴム、水素化ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレ
ンプロピレンジエン三元共重合体などの汎用ゴムが使用
されている。

【０００５】然るに、上記のような汎用ゴムからなる表
面ゴム層を備えたブランケットでは、転写時においてイ
ンキの凝集破壊（転写不良）が生じ、この結果、所期の
印刷膜厚が得られなかったり、印刷膜厚にバラツキを生
じたりすることがある。そして、電子回路における印刷
膜厚の不足およびバラツキは、抵抗のバラツキを招き、
電子回路としての機能を発揮することができなくなる。

【０００６】このような問題に対して、表面ゴム層の構
成材料としてシリコーンゴムを使用することが知られて
いる。シリコーンゴムからなる表面ゴム層によれば、Ｗ
ＦＢＬ効果に起因する低い表面張力により、受理したイ
ンキをほぼ１００％の割合で転写（剥離）することがで
き、このようにして転写形成される印刷画像は、鮮明性
に優れたものとなる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シリコ
ーンゴムからなる表面ゴム層は、低い表面張力のために
インキ受理性に劣るという問題がある。この結果、画像
形成に必要な量のインキを受理することができず、所期
の印刷膜厚が得られなかったり、印刷画像に欠損部が発
生したりすることがある。そして、印刷画像の欠損部
は、回路および電極において致命的な欠陥となる。

【０００８】このため、シリコーンゴムからなる表面ゴ
ム層を備えたブランケットを用いる場合には、オフセッ
ト印刷における受理速度を、通常の１００ｍｍ／秒程度
から３０〜５０ｍｍ／秒に低下させないと、印刷に必要
なインキを受理することができず、製造効率の点から不
利であった。

【０００９】ここに、インキの受理は、電極および回路
形成に使用される金属ペーストなど、当該インキの粘度
が高いものほど困難となる傾向がある。また、非画像領
域がシリコーンゴム層で構成されている水無し平版を使
用するオフセット印刷にあっては、表面ゴム層（シリコ
ーンゴム）によるインキの受理は特に困難である。

【００１０】本発明は以上のような事情に基いてなされ
たものである。本発明の目的は、シリコーンゴムによる
優れたインキ転写性を確保しながら、良好なインキ受理
性を安定して発揮することができるオフセット印刷用の
ブランケットを提供することにある。本発明の他の目的
は、インキ転写性およびインキ受理性に優れたブランケ
ットを好適に製造する方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明のブランケット
は、基布を貼り合わせてなる基材層の表面に、表面ゴム
層を積層形成して構成されるオフセット印刷用のブラン
ケットであって、前記表面ゴム層は、ビニル基含有オル
ガノポリシロキサンからなる主剤（Ａ）と、分岐構造ま
たは網目構造を有するオルガノハイドロジェンポリシロ
キサンからなる硬化剤（Ｂ）とを、前記主剤（Ａ）中の
ビニル基のモル数をＶ、前記硬化剤（Ｂ）中のＳｉＨ基
のモル数をＨとするとき、比（Ｈ／Ｖ）の値が１．５〜
２．０となる割合で配合し、両者を付加反応させること
により得られるシリコーンゴムからなることを特徴とす
る。

【００１２】本発明のブランケットにおいては、下記の
形態が好ましい。（１）前記主剤（Ａ）であるビニル基
含有オルガノポリシロキサンが、１分子中に５００〜３
０００のＳｉＯ単位を有し、前記架橋剤（Ｂ）であるオ
ルガノハイドロジェンポリシロキサンが１分子中に１０
０〜２０００のＳｉＯ単位を有すること。（２）前記主剤（Ａ）であるビニル基含有オルガノポリ
シロキサンが、分子鎖の両末端にビニル基を有する直鎖
状分子からなり、前記硬化剤（Ｂ）であるオルガノハイ
ドロジェンポリシロキサンが、分子鎖の両末端および分
子鎖内にＳｉＨ基を有する分岐状分子からなること。（３）３０００ポイズ（２５℃）以上のインキを受理
し、転写するオフセット印刷に供されるものであるこ
と。（４）水無し平版を使用するオフセット印刷に供される
ものであること。（５）前記基材層の一部を構成する層として、スポンジ
層を有していること。（６）ニトリルゴム系の接着剤により基布を貼り合わせ
て基材層が構成されていること。（７）前記基材層の裏面側に、樹脂フィルムからなる目
止層が形成されていること。

【００１３】本発明の製造方法は、下記の工程を有する
ことを特徴とする。（ａ）ゴム系の接着剤により基布を貼り合わせて基材層
を形成する工程。（ｂ）主剤（Ａ）と硬化剤（Ｂ）とを、比（Ｈ／Ｖ）の
値が１．５〜２．０となる割合で配合し、両者を付加反
応させて、表面ゴム層となるシリコーンゴム層を形成す
る工程。（ｃ）前記基材層の表面に、シリコーンゴム系の接着剤
を介して、前記シリコーンゴム層を貼り合わせ、これを
プレスすることによって前記接着剤を構成するシリコー
ンゴムを架橋させて、前記基材層と前記シリコーンゴム
層とを接着するる工程。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。図２は、本発明のブランケットの層構成の一例を
示す断面図である。この例のブランケットは、基布を貼
り合わせてなる基材層１０の表面に、接着ゴム層２０
（シリコーンゴム系の接着剤）を介して表面ゴム層３０
が積層形成されているといともに、基材層１０の裏面側
には、接着ゴム層１５を介して目止層４０が形成されて
構成されている。

【００１５】＜基材層＞図２に示すブランケットを構成
する基材層１０は、第１の基布１１１と、スポンジ層
（圧縮層）１２と、第２の基布１１２と、接着ゴム層１
３と、第３の基布１１３とが積層されて形成されてい
る。基材層１０の厚さは、例えば１．２〜１．６ｍｍと
される。

【００１６】基材層１０を構成する第１の基布１１１、
第２の基布１１２および第３の基布１１３としては、通
常綿布が使用される。第１の基布１１１と第２の基布１
１２との間に設けられたスポンジ層１２は、ブランケッ
トに好適な圧縮特性を付与し、印圧を緩和して良好な印
刷を可能にするために形成された任意の層である。かか
るスポンジ層１２の構成材料としては、ニトリルゴムな
どからなるスポンジゴムを例示することができ、スポン
ジ層１２を構成するスポンジゴムは、連泡型であっても
独立気泡型であってもよい。

【００１７】第２の基布１１２と第３の基布１１３との
間に設けられた接着ゴム層１３は、これらを接着するた
めの接着剤層である。かかる接着ゴム層１３の構成材料
としてはニトリルゴムを例示することができる。

【００１８】＜接着ゴム層＞基材層１０と表面ゴム層３
０との間に設けられた接着ゴム層２０は、これらを接着
するためのシリコーンゴム系の接着剤層である。接着ゴ
ム層２０を構成するシリコーンゴムとしては、シリカな
どの充填剤を含有する過酸化物架橋型のシリコーンゴム
（ＭＱ，ＶＭＱ，ＰＶＭＱ，ＦＶＭＱ）を例示すること
ができる。

【００１９】＜表面ゴム層＞インキの受理および転写を
行う表面ゴム層３０は、ビニル基含有オルガノポリシロ
キサンからなる主剤（Ａ）と、分岐構造または網目構造
を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンからな
る硬化剤（Ｂ）とを、特定の割合で配合し、両者を付加
反応させることにより得られるシリコーンゴムからな
る。

【００２０】表面ゴム層３０の表面粗さ（Ｒａ）は、
０．３〜１．０μｍとされ、好ましくは０．５〜０．７
μｍとされる。表面ゴム層３０の表面粗さ（Ｒａ）が過
大となる場合には、鮮明な印刷画像を形成することがで
きない。表面ゴム層３０の厚さは３０〜３００μｍであ
ることが好ましく、更に好ましくは５０〜２００μｍと
される。表面ゴム層３０の硬度は、ＪＩＳ−Ａ硬度計で
３０〜７０であることが好ましく、更に好ましくは４０
〜６０とされる。表面ゴム層の硬度が過大である場合に
は、印刷画像が潰れてしまい、版に対する印刷寸法の安
定性が低下する。一方、この硬度が過小である場合に
は、圧力が十分に掛からず、受理不良や転写不良を招き
やすい。

【００２１】以下、本発明のブランケットの表面ゴム層
を構成するシリコーンゴムについて詳述する。表面ゴム
層を構成するシリコーンゴムは、主剤（Ａ）と主剤
（Ｂ）とを、反応触媒の存在下に付加反応させて得られ
る付加架橋型のシリコーンゴムである。

【００２２】（１）主剤（Ａ）：主剤（Ａ）であるビニ
ル基含有オルガノポリシロキサンは、ケイ素原子に結合
されたビニル基（Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ₂）を１分子中に２
個以上有するオルガノポリシロキサンである。ビニル基
含有オルガノポリシロキサン１分子中に存在するＳｉＯ
（シロキサン結合）単位の数としては、５００〜３００
０であることが好ましく、更に好ましくは８００〜２０
００、特に好ましくは８００〜１０００である。ビニル
基含有オルガノポリシロキサンの分子構造としては、直
鎖状、分岐状、網目状の何れであってもよいが、直鎖状
であることが好ましく、特に、下記式（１）に示すよう
な分子鎖の両末端にビニル基を有する直鎖状分子からな
ることが好ましい。

【００２３】

【化１】

【００２４】〔式中、Ｒ¹は、それぞれ、同一または異
なる、置換または非置換の１価の炭化水素基を示し、ｍ
は５００〜３０００の整数である。〕

【００２５】上記式（１）において、Ｒ¹で示される炭
化水素基としては、メチル基、フェニル基、トリフルオ
ロプロピル基であることが好ましい。

【００２６】（２）硬化剤（Ｂ）：硬化剤（Ｂ）である
オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、ケイ素原子
に結合された水素原子（ビニル基との付加反応に供され
るＳｉＨ基）を１分子中に２個以上、好ましくは３個以
上有するオルガノポリシロキサンである。オルガノハイ
ドロジェンポリシロキサン１分子中に存在するＳｉＯ
（シロキサン結合）単位の数としては、１００〜２００
０であることが好ましく、更に好ましくは１００〜１５
００、特に好ましくは５００〜１５００である。

【００２７】オルガノハイドロジェンポリシロキサンの
分子構造は、分岐状または網目状とされる。このような
分子構造を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンは、シリコーンレジン系の硬化剤である。分岐状また
は網目状の分子構造を有する硬化剤を使用することによ
り、得られるシリコーンゴムからなる表面ゴム層を備え
たブランケットは、良好なインキ受理性を安定して発揮
することができる。オルガノハイドロジェンポリシロキ
サンとしては、下記式（２）に示すように分子鎖の両末
端および分子鎖（主鎖および／または側鎖）内にＳｉＨ
基を有する分岐状分子からなることが好ましい。

【００２８】

【化２】

【００２９】（式中、Ｒ²は、それぞれ、同一または異
なる、置換または非置換の１価の炭化水素基を示す。）

【００３０】上記式（２）において、Ｒ²で示される炭
化水素基としては、メチル基、フェニル基、トリフルオ
ロプロピル基であることが好ましい。

【００３１】（３）配合割合：本発明において、表面ゴ
ム層を得るために使用する主剤（Ａ）と硬化剤（Ｂ）と
の配合割合としては、主剤（Ａ）中のビニル基のモル数
をＶ、硬化剤（Ｂ）中のＳｉＨ基のモル数をＨとすると
き、比（Ｈ／Ｖ）の値が１．５〜２．０となる割合とさ
れ、好ましくは１．７〜２．０となる割合である。

【００３２】ビニル基含有オルガノポリシロキサンと、
オルガノハイドロジェンポリシロキサンとの配合割合を
上記の範囲とすることにより、最終的に得られるブラン
ケットは、シリコーンゴムによる優れたインキ転写性
（１００％の転写率）を確保しながら、良好なインキ受
理性を発揮することが可能となる。

【００３３】このような優れた効果が奏される理由とし
ては明らかでないが、以下のように考えられる。すなわ
ち、ビニル基含有オルガノポリシロキサン〔主剤
（Ａ）〕と、オルガノハイドロジェンポリシロキサン
〔硬化剤（Ｂ）〕との付加反応により得られるシリコー
ンゴム中には、反応に関与されなかったオルガノハイド
ロジェンポリシロキサンが一定の割合で残留しており、
当該シリコーンゴムからなる表面ゴム層には、ＳｉＨ基
によるインキに対する適度な付着性（インキ転写性を損
なわない程度の付着性）が発現され、これによりインキ
受理性が向上する。

【００３４】この比（Ｈ／Ｖ）の値が１．５未満（但し
１．０以上）となるような配合割合では、得られるシリ
コーンゴム（表面ゴム層）のインキに対する付着性が十
分なものとならず、インキ受理性の向上を図ることがで
きない。また、この比（Ｈ／Ｖ）の値が１．０未満であ
る場合には、得られるシリコーンゴムが十分な硬度を有
するものとならず、さらに、残留するビニル基に起因し
て、当該シリコーンゴム（表面ゴム層）のインキに対す
る付着性が過大となり、インキ転写性が損なわれること
がある。一方、比（Ｈ／Ｖ）の値が２．０を超える場合
には、過剰に残留するＳｉＨ基に起因して、得られるシ
リコーンゴム（表面ゴム層）のインキに対する付着性が
過大となり、インキ転写性が損なわれる。

【００３５】さらに、硬化剤（Ｂ）が分岐構造または網
目構造を有することにより、良好なインキ受理性を「安
定的に」発揮することができる。ここに、硬化剤（Ｂ）
に代えて、直鎖状のオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンを使用すると、得られるシリコーンゴムからなる表
面ゴム層において、残留するオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンが表面に移行（ブリード現象）して偏在す
ることにより、初期における好適な付着性（インキ受理
性）が経時的に低下してしまう。これに対して、分岐構
造または網目構造を有する硬化剤（Ｂ）を使用する場合
には、このようなブリード現象は生じないために、初期
における好適なインキ受理性が長期間にわたり発揮され
る。これは、分岐構造・網目構造による立体障害のため
に当該分子の移行が阻害されるからであると考えられ
る。

【００３６】（４）反応触媒：主剤（Ａ）と硬化剤
（Ｂ）との付加反応は、付加反応触媒の存在下に行われ
る。かかる付加反応触媒としては、白金ブラック、塩化
第二白金、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩
化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセ
テート、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金
族金属系触媒を挙げることができる。

【００３７】＜目止層＞接着ゴム層１５を介して、基材
層１０（第３の基布１１３）の裏面に形成された目止層
４０は、樹脂フィルムから構成される任意の層である。
目止層４０を構成する樹脂フィルムとしては、フッ素樹
脂フィルム、フッ素樹脂フィルム（外側層）とアクリル
樹脂フィルム（内側層）との積層フィルムなどを挙げる
ことができる。

【００３８】ここに、フッ素樹脂フィルムの市販品とし
ては、ＰＶＦフィルム「テドラ」（デュポン社製）を挙
げることができ、前記積層フィルムの市販品としては
「ＫＦＣフィルム」（呉羽化学工業（株）製）を挙げる
ことができる。目止層４０厚さは１５〜３０μｍである
ことが好ましく、更に好ましくは１５〜２０μｍとされ
る。

【００３９】目止層４０が形成されていることにより、
基材層１０を構成する基布（第１の基布１１１，第２の
基布１１２，第３の基布１１３）に由来する糸毛羽など
の異物を、当該裏面側から発生させることを確実に防止
することができ、周囲の環境を汚染するようなことがな
い。これにより、クリーンルーム内での印刷にも好適に
使用することができる。

【００４０】目止層４０と基材層１０との間に設けられ
た接着ゴム層１５は、これらを接着するための接着剤層
である。目止層４０としてフッ素樹脂フィルムを使用す
る場合において、接着ゴム層１５の構成材料（接着剤）
としては、イソシアネート化合物を含有するニトリルゴ
ムを挙げることができる。また、目止層４０として、ア
クリル樹脂フィルムを内側層とする前記積層フィルムを
使用する場合には、接着ゴム層１５の構成材料（接着
剤）としてニトリルゴムを挙げることができ、イソシア
ネート化合物を添加しなくても十分な接着力を確保する
ことができる。

【００４１】＜ブランケットの製造方法＞図２に示した
ような層構成を有する本発明のブランケットは、下記工
程を含む方法により製造することができる。

【００４２】（ａ）基材層の形成工程：図３（１）に示
すように、第３の基布１１３の表面に、ニトリルゴム系
の接着剤層１３Ａ（未架橋ゴム層）と、第２の基布１１
２と、ニトリルゴム系のスポンジ層形成用材料層１２Ａ
（未架橋ゴム層）と、第１の基布１１１とを積層し、こ
の積層体を加熱することにより、接着剤層１３Ａを架橋
させるとともに、スポンジ層形成用材料層１２Ａを構成
するニトリルゴムを架橋および発泡させる。これによ
り、図３（２）に示すように、第３の基布１１３の表面
に、接着ゴム層１３と、第２の基布１１２と、スポンジ
層１２と、第１の基布１１１とが積層されてなる基材層
１０が得られる。次いで、図３（３）に示すように、基
材層１０（第３の基布１１３）の裏面に、適宜の接着剤
（接着ゴム層１５）を用いて目止層４０を貼り付ける。

【００４３】（ｂ）表面ゴム層の形成工程：図４（１）
に示すように、主剤（Ａ）と硬化剤（Ｂ）と付加反応触
媒とを配合してなる表面ゴム層形成用材料層３０Ａ（未
架橋ゴム層）を樹脂フィルム５０の表面（表面粗さ（Ｒ
ａ）：０．３〜１．０μｍ）に形成し、主剤（Ａ）と硬
化剤（Ｂ）とを付加反応させる。これにより、図４
（２）に示すように、樹脂フィルム５０と、表面ゴム層
３０（シリコーンゴムの架橋層）との積層体が得られ
る。ここに、表面ゴム層形成用材料層３０Ａの形成方法
としてはコーティング法を挙げることができる。また、
主剤（Ａ）と硬化剤（Ｂ）との反応条件としては、１２
０〜１５０℃で５〜１０分間であることが好ましい。

【００４４】（ｃ）基材層と表面ゴム層との接着工程：
図５（１）に示すように、シリカおよび過酸化物架橋剤
を含有するシリコーンゴム系の接着剤層２０Ａ（未架橋
ゴム層）を基材層１０の表面に形成し、次いで、この接
着剤層２０Ａを介して、上記工程（ｂ）で得られた樹脂
フィルム５０と表面ゴム層３０との積層体を貼り合わせ
る。これにより、目止層４０と、接着ゴム層１５と、基
材層１０と、接着剤層２０Ａ（未架橋ゴム層）と、表面
ゴム層３０と、樹脂フィルム５０との積層体が得られ
る。次いで、接着剤層２０Ａを構成するシリコーンゴム
を過酸化物架橋する。これにより、図５（２）に示すよ
うに、目止層４０と、接着ゴム層１５と、基材層１０
と、接着ゴム層２０と、表面ゴム層３０と、樹脂フィル
ム５０との積層体である本発明のブランケットが得られ
る。ここに、樹脂フィルム５０は、本発明のブランケッ
トの使用時まで保護フィルムとして機能する。そして、
樹脂フィルム５０を剥離することにより、その表面状態
が転写された平滑性に優れた表面ゴム層３０があらわれ
る。

【００４５】上記のような製造方法によれば、基材層１
０を形成する際の架橋（ニトリルゴムの架橋）と、表面
ゴム層３０を形成する際の架橋（シリコーンゴムの付加
架橋）と、基材層１０と表面ゴム層３０とを接着するた
めの接着剤層２０Ａの架橋（シリコーンゴムの過酸化物
架橋）とが、それぞれ別工程で実施されているので、各
々の架橋反応をスムーズに進行させることができる。ニ
トリルゴムの架橋反応とシリコーンゴムの架橋反応とを
同時に実施する場合、例えば、未架橋ゴムを有する積層
体を一括して架橋処理する場合には、一方の架橋剤が、
他方の架橋系に移行して、当該他方の架橋系の反応を阻
害する傾向がある。

【００４６】＜ブランケットの用途＞本発明のブランケ
ットによれば、従来公知のシリコーンゴムからなる表面
ゴム層では受理することができなかった高粘度のイン
キ、例えば、３０００ポイズ（２５℃）以上の金属ペー
スト、有機金属ペースト、エッチングレジストなどであ
っても、確実に受理することができ、しかも、表面ゴム
層に受理されたインキを確実に転写することができる。
従って、本発明のブランケットは、高粘度のインキを受
理し、転写するオフセット印刷に特に好適に供すること
ができる。

【００４７】また、本発明のブランケットの表面ゴム層
を構成するシリコーンゴムは、水無し平版の非画像領域
を構成するシリコーンゴムよりもインキに対する付着力
が高く、当該水無し平版の画像領域におけるインキを確
実に受理することができる。従って、本発明のブランケ
ットは、水無し平版を使用するオフセット印刷特に好適
に供することができる。

【００４８】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、本発明のブランケットおよび比較用のブランケット
を構成する基材層としては、以下に示すものを使用し
た。また、本発明のブランケットにおいては、基材層
（１０）の裏面に接着ゴム層（１５）を用いて目止層
（４０）を貼り付けた。

【００４９】〔基材層〕（１）基材層の層構成：図２〔図３（２）〕に示した層
構成（２）基材層の厚さ：１．６０ｍｍ（３）基布（１１１）〜（１１３）の種類：綿布（４）スポンジ層（１２）の構成材料：ニトリルゴムか
らなるスポンジゴム（５）接着ゴム層（１３）の構成材料：ニトリルゴム

【００５０】以下の実施例および比較例において、シリ
コーンゴム組成物を得るために使用した主剤および硬化
剤は次のとおりである。

【００５１】〔主剤（Ａ−１）〕・両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された直鎖
状のビニル基含有ジメチルポリシロキサン（１分子中の
ＳｉＯ単位の数＝８００〜１０００）・商品名：ＫＥ−１９３５−Ａ（信越化学工業製）

【００５２】〔硬化剤（Ｂ−１）〕・分岐構造を有するメチルハイドロジェンポリシロキサ
ン（１分子中のＳｉＯ単位の数＝１００〜１５００）・商品名：ＫＥ−１９３４−Ｂ（信越化学工業製）

【００５３】〔硬化剤（Ｂ−２）〕・直鎖状のメチルハイドロジェンポリシロキサン（１分
子中のＳｉＯ単位の数＝１００〜１５００）・商品名：ＣＹ−５２−２０５−Ｂ（東レダウコーニン
グ製）

【００５４】＜実施例１＞（表面ゴム層の形成工程）直鎖状のビニル基含有ジメチ
ルポリシロキサンからなる主剤（Ａ−１）１００重量部
と、分岐構造を有するメチルハイドロジェンポリシロキ
サンからなる硬化剤（Ｂ−１）１００重量部と、白金量
として１０００ｐｐｍとなる量の白金族金属系触媒と
を、トルエンとヘキサンとの混合溶剤に溶解してシリコ
ーンゴム組成物を調製した。この組成物中における比
（Ｈ／Ｖ）の値は２．０である。

【００５５】上記のようにして得られたシリコーンゴム
組成物を、厚さ１２５μｍ、表面粗さ（Ｒａ）が０．５
μｍのポリエステルフィルムの表面にコーティングし、
形成された塗膜を乾燥し、次いで、１５０℃で５分間に
わたり加熱して、主剤（Ａ−１）と硬化剤（Ｂ−１）と
を付加反応させた。これにより、ポリエステルフィルム
（５０）と、架橋シリコーンゴムからなる厚さ３５０μ
ｍの表面ゴム層（３０）との積層体を得た。

【００５６】（基材層と表面ゴム層との接着工程）シリ
カおよび過酸化物架橋剤を含有するシリコーンゴム系の
接着剤層（２０Ａ）を基材層（１０）の表面に形成し、
次いで、この接着剤層（２０Ａ）を介して、上記工程で
得られた積層体を、表面ゴム層（３０）を接着面として
貼り合わせた。次いで、接着剤層（２０Ａ）を構成する
シリコーンゴムを過酸化物架橋することにより、目止層
（４０）と、接着ゴム層（１５）と、基材層（１０）
と、接着ゴム層（２０）と、表面ゴム層（３０）と、ポ
リエステルフィルム５０との積層体である本発明のブラ
ンケットを製造した。

【００５７】＜実施例２＞下記表１に従って、主剤（Ａ
−１）と硬化剤（Ｂ−１）との配合割合を、比（Ｈ／
Ｖ）の値が１．７となるように変更してシリコーンゴム
組成物を調製し、得られたシリコーンゴム組成物を使用
したこと以外は実施例１と同様にして本発明のブランケ
ットを製造した。

【００５８】＜実施例３＞下記表１に従って、主剤（Ａ
−１）と硬化剤（Ｂ−１）との配合割合を、比（Ｈ／
Ｖ）の値が１．５となるように変更してシリコーンゴム
組成物を調製し、得られたシリコーンゴム組成物を使用
したこと以外は実施例１と同様にして本発明のブランケ
ットを製造した。

【００５９】＜比較例１〜４＞下記表１に従って、主剤
（Ａ−１）と硬化剤（Ｂ−１）との配合割合〔比（Ｈ／
Ｖ）の値〕を変更してシリコーンゴム組成物を調製し、
得られたシリコーンゴム組成物をそれぞれ使用し、基材
層の裏面に目止層を貼り付けなかったこと以外は実施例
１と同様にして比較用のブランケットを製造した。

【００６０】＜比較例５＞下記表１に従って、硬化剤
（Ｂ−１）に代えて、直鎖状のメチルハイドロジェンポ
リシロキサンからなる硬化剤（Ｂ−２）を、比（Ｈ／
Ｖ）の値が２．０となるようにしてシリコーンゴム組成
物を調製し、得られたシリコーンゴム組成物を使用し、
基材層の裏面に目止層を貼り付けなかったこと以外は実
施例１と同様にして比較用のブランケットを製造した。

【００６１】＜比較例６＞下記表１に従って、硬化剤
（Ｂ−１）に代えて、直鎖状のメチルハイドロジェンポ
リシロキサンからなる硬化剤（Ｂ−２）を、比（Ｈ／
Ｖ）の値が１．５となるようにしてシリコーンゴム組成
物を調製し、得られたシリコーンゴム組成物を使用し、
基材層の裏面に目止層を貼り付けなかったこと以外は実
施例１と同様にして比較用のブランケットを製造した。

【００６２】＜インキ受理性およびインキ転写性の評価
＞実施例１〜３および比較例１〜６に係るブランケット
の各々をオフセット印刷機に装着し、図６〔１〕〜
〔２〕に示すような平行線状のパターンＰ（線幅Ｌ＝７
０μｍ／線間距離Ｓ＝５０μｍ）を有する水無し平版を
使用し、ガラス基盤（被転写体）に対して銀系導電ペー
スト〔粘度＝３０００ポイズ（２５℃）〕を印刷材料と
するオフセット印刷を行い、下記の評価基準に従って、
インキ受理性およびインキ転写性について評価した。こ
こに、印刷条件としては、版圧（押込量）を１５０μ
ｍ、印圧（押込量）を１５０μｍとした。

【００６３】〔評価基準〕（１）インキ受理性：印刷速度を段階的に変化（３０ｍ
ｍ／秒，５０ｍｍ／秒，７０ｍｍ／秒，１００ｍｍ／
秒）させてオフセット印刷を行い、印刷方向に伸びる平
行線状のパターンの印刷画像、印刷方向に対して４５°
の方向に伸びる平行状のパターンの印刷画像のそれぞれ
について、目視により観察し、インキの受理不良に起因
する画像不良が発生したときの最低の印刷速度を測定し
た。ここに、「インキの受理不良に起因する画像不良」
とは、印刷画像の欠損、印刷膜厚の不足、印刷膜厚のバ
ラツキの少なくとも１つが発生し、印刷後の表面ゴム層
にインキの残留が認められない場合をいう。

【００６４】（２）インキ転写性：印刷速度を２００ｍ
ｍ／秒に設定してオフセット印刷を行い、印刷方向に伸
びる平行線状のパターンの印刷画像、印刷方向に対して
４５°の方向に伸びる平行状のパターンの印刷画像のそ
れぞれについて、目視により観察し、インキの転写不良
に起因する画像不良の発生の有無を確認した。ここに、
「インキの転写不良に起因する画像不良」とは、印刷画
像の欠損、印刷膜厚の不足、印刷膜厚のバラツキの少な
くとも１つが発生し、かつ、印刷後の表面ゴム層にイン
キの残留が認められた場合をいうものとする。

【００６５】＜インキ受理およびインキ転写の安定性の
評価＞インキ受理性およびインキ転写性を評価した上記
ブランケットの各々を、常温常湿環境下に７日間放置し
た後に、同一の評価を行った。以上の結果を下記表１に
併せて示す。

【００６６】

【表１】

【００６７】表１に示したように、実施例１〜３に係る
ブランケットによれば、１００ｍｍ／秒の印刷速度であ
っても、所期の膜厚を有し、当該膜厚にバラツキのない
良好な印刷画像を基盤上に形成することができた。そし
て、このような優れたインキ受理性およびインキ転写性
は、７日間放置後においても変化せず、これらの安定性
にも優れていた。これに対して、比較例１〜２に係るブ
ランケットでは、表面ゴム層を形成する際の比（Ｈ／
Ｖ）の値が１．５未満であるので、インキ受理性の向上
を図ることができなかった。また、比較例３に係るブラ
ンケットでは、表面ゴム層を形成する際の比（Ｈ／Ｖ）
の値が２．０を超えているので、インキ転写性が損なわ
れていた。また、比較例４に係るブランケットでは、表
面ゴム層を形成する際の比（Ｈ／Ｖ）の値が１．０未満
（ビニル基が残留）であるので、得られた表面ゴム層の
硬度が低く、インキ転写性が損なわれていた。また、比
較例５〜６に係るブランケットでは、直鎖状のオルガノ
ハイドロジェンポリシロキサンを硬化剤として使用した
ので、初期における好適なインキ受理性が経時的に低下
してしまった。

【００６８】＜異物の発生状況＞実施例１〜３および比
較例１〜６に係るブランケットの各々の裏面に、粘着テ
ープを貼り付けて異物の採取を試みたところ、比較例１
〜６に係るブランケットからは糸毛羽状の異物が採取さ
れが、実施例１〜３に係るブランケットからは異物を採
取することはできなかった。

【００６９】

【発明の効果】（１）本発明のブランケットによれば、
シリコーンゴムによる優れたインキ転写性を確保しなが
ら、良好なインキ受理性を安定して発揮することができ
る。（２）本発明の製造方法によれば、インキ転写性および
インキ受理性に優れたブランケットを好適に製造するこ
とができる。（３）本発明に係るブランケットによれば、従来公知の
シリコーンゴムからなる表面ゴム層を備えたブランケッ
トと比較して、インキの受理速度を格段に向上させるこ
とができる。（４）本発明に係るブランケットによれば、従来公知の
シリコーンゴムからなる表面ゴム層では受理することが
できなかった高粘度のインキであっても、確実に受理す
ることができる。（５）本発明に係るブランケットによれば、水無し平版
の画像領域におけるインキを確実に受理することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】オフセット印刷に使用するブランケットの層構
成の一例を示す断面図である。

【図２】本発明のブランケットの層構成の一例を示す断
面図である。

【図３】図２に示したような層構成のブランケットを製
造する方法の一工程（基材層の形成工程）を示す説明図
である。

【図４】図２に示したような層構成のブランケットを製
造する方法の一工程（表面ゴム層の形成工程）を示す説
明図である。

【図５】図２に示したような層構成のブランケットを製
造する方法の一工程（基材層と表面ゴム層との接着工
程）を示す説明図である。

【図６】実施例および比較例で得られたブランケットを
評価するための版のパターン形状を示す説明図であり、
（１）は、印刷方向に伸びる平行線状のパターン、
（２）は、印刷方向に対して４５°の方向に伸びる平行
状のパターンである。

【符号の説明】

１０基材層１１１第１の基布１１２第２の基布１１３第３の基布１２スポンジ層１３接着ゴム層１５接着ゴム層２０接着ゴム層３０表面ゴム層４０目止層５０樹脂フィルム１２Ａスポンジ層形成用材料層１３Ａ接着剤層２０Ａ接着剤層３０Ａ表面ゴム層形成用材料層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基布を貼り合わせてなる基材層の表面
に、表面ゴム層を積層形成して構成されるオフセット印
刷用のブランケットであって、前記表面ゴム層は、ビニル基含有オルガノポリシロキサ
ンからなる主剤（Ａ）と、分岐構造または網目構造を有
するオルガノハイドロジェンポリシロキサンからなる硬
化剤（Ｂ）とを、前記主剤（Ａ）中のビニル基のモル数
をＶ、前記硬化剤（Ｂ）中のＳｉＨ基のモル数をＨとす
るとき、比（Ｈ／Ｖ）の値が１．５〜２．０となる割合
で配合し、両者を付加反応させることにより得られるシ
リコーンゴムからなることを特徴とするブランケット。
【請求項２】前記主剤（Ａ）であるビニル基含有オル
ガノポリシロキサンが、１分子中に５００〜３０００の
ＳｉＯ単位を有し、前記架橋剤（Ｂ）であるオルガノハ
イドロジェンポリシロキサンが１分子中に１００〜２０
００のＳｉＯ単位を有することを特徴とする請求項１記
載のブランケット。
【請求項３】前記主剤（Ａ）であるビニル基含有オル
ガノポリシロキサンが、分子鎖の両末端にビニル基を有
する直鎖状分子からなり、前記硬化剤（Ｂ）であるオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンが、分子鎖の両末端および分子鎖内にＳｉＨ基
を有する分岐状分子からなることを特徴とする請求項１
または請求項２に記載のブランケット。
【請求項４】３０００ポイズ（２５℃）以上のインキ
を受理し、転写するオフセット印刷に供されるものであ
ることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記
載のブランケット。
【請求項５】水無し平版を使用するオフセット印刷に
供されるものであることを特徴とする請求項１乃至請求
項４の何れかに記載のブランケット。
【請求項６】前記基材層の一部を構成する層として、
スポンジ層を有していることを特徴とする請求項１乃至
請求項５の何れかに記載のブランケット。
【請求項７】ニトリルゴム系の接着剤により基布を貼
り合わせて基材層が構成されていることを特徴とする請
求項１乃至請求項６の何れかに記載のブランケット。
【請求項８】前記基材層の裏面側に、樹脂フィルムか
らなる目止層が形成されていることを特徴とする請求項
１乃至請求項７の何れかに記載のブランケット。
【請求項９】請求項１乃至請求項８の何れかに記載の
ブランケットを製造する方法であって、下記の工程を有
することを特徴とするブランケットの製造方法。（ａ）ゴム系の接着剤により基布を貼り合わせて基材層
を形成する工程。（ｂ）主剤（Ａ）と硬化剤（Ｂ）とを、比（Ｈ／Ｖ）の
値が１．５〜２．０となる割合で配合し、両者を付加反
応させて、表面ゴム層となるシリコーンゴム層を形成す
る工程。（ｃ）前記基材層の表面に、シリコーンゴム系の接着剤
を介して、前記シリコーンゴム層を貼り合わせ、これを
プレスすることによって前記接着剤を構成するシリコー
ンゴムを架橋させて、前記基材層と前記シリコーンゴム
層とを接着する工程。