JP2002217329A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2002217329A
JP2002217329A JP2001013045A JP2001013045A JP2002217329A JP 2002217329 A JP2002217329 A JP 2002217329A JP 2001013045 A JP2001013045 A JP 2001013045A JP 2001013045 A JP2001013045 A JP 2001013045A JP 2002217329 A JP2002217329 A JP 2002217329A
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solder
semiconductor device
internal electrode
interposer
substrate
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Japanese (ja)
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Tatsuro Shinohara
達郎 篠原
Takuma Tamura
卓磨 田村
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device in which ooze-out of solder due to thermal stress and malfunction caused by ooze-out of solder are suppressed. SOLUTION: The semiconductor device comprises a semiconductor chip 1, an interposer electrode 3 being connected with the semiconductor chip 1 through solder bumps 2, and an interposer substrate 4 having external terminals wherein these semiconductor chip 1 and interposer electrode 3 are resin sealed on the interposer substrate 4 and the interposer electrode 3 is provided with vacant holes 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に関し、
特に、半導体装置のパッケージ内部において半田バンプ
を介して半導体チップと外部端子とを接続する構造を持
つ半導体装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor device,
In particular, the present invention relates to a semiconductor device having a structure in which a semiconductor chip and external terminals are connected via solder bumps inside a package of the semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は従来の半導体装置の構造を示した
図である。この半導体装置は、パッケージ内部において
半田バンプを用いて半導体チップと外部端子を接続する
構造を有する。同図に示すように半導体装置において、
半導体チップ1が内部半田バンプ2を介してインターポ
ーザ電極3に接続され、内部半田バンプ2とインターポ
ーザ電極3の接続部の周辺には電極間の絶縁性を確保す
るためのソルダレジスト6の層が設けられている。半導
体チップ1、内部半田バンプ2及びインターポーザ電極
3はインターポーザ基板4上でモールド樹脂5により封
止されている。半導体装置内の半導体チップ1は、内部
半田バンプ2、インターポーザ電極3及び半田ボール7
を介して外部回路基板と信号のやりとりを行なう。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a diagram showing a structure of a conventional semiconductor device. This semiconductor device has a structure in which a semiconductor chip and external terminals are connected using solder bumps inside a package. As shown in FIG.
The semiconductor chip 1 is connected to the interposer electrode 3 via the internal solder bump 2, and a layer of a solder resist 6 for ensuring insulation between the electrodes is provided around a connection portion between the internal solder bump 2 and the interposer electrode 3. Have been. The semiconductor chip 1, the internal solder bumps 2 and the interposer electrodes 3 are sealed on the interposer substrate 4 by a mold resin 5. A semiconductor chip 1 in a semiconductor device includes an internal solder bump 2, an interposer electrode 3, and a solder ball 7.
Exchanges signals with an external circuit board via the.

【0003】図5はこのような半導体装置の組み立て工
程を説明した図である。まず、インターポーザ基板4上
にインターポーザ電極3とそれを覆うようにソルダレジ
スト6が配される(図5(a)参照)。そして、これら
に対して半導体チップ1を取りつけるが、その際、内部
半田2を介して半導体チップ1をインターポーザ電極3
に接続する(図5(b)参照)。その後、インターポー
ザ基板4上に設けられた半導体チップ1等をモールド樹
脂5により封止する(図5(c)参照)。最後に、イン
ターポーザ基板4下部において外部端子として半田ボー
ル7を取りつける(図5(d)参照)。以上のように構
成される半導体装置の内部半田バンプ2近傍部分の断面
を図6に示す。
FIG. 5 is a diagram for explaining an assembling process of such a semiconductor device. First, the interposer electrode 3 and the solder resist 6 are disposed on the interposer substrate 4 so as to cover the interposer electrode 3 (see FIG. 5A). Then, the semiconductor chip 1 is attached to them, and at this time, the semiconductor chip 1 is
(See FIG. 5B). Thereafter, the semiconductor chip 1 and the like provided on the interposer substrate 4 are sealed with a mold resin 5 (see FIG. 5C). Finally, solder balls 7 are attached as external terminals below the interposer substrate 4 (see FIG. 5D). FIG. 6 shows a cross section of a portion near the internal solder bump 2 of the semiconductor device configured as described above.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】図6に示すような、パ
ッケージ内部において半田バンプを有し、その半田バン
プを介して半導体チップと半導体の外部端子を接続する
構造を持つ半導体装置の場合、半導体装置の外部に半田
ボールを取りつけるとき、また、この半導体装置を基板
に接合して実装するときに230度を超える熱ストレス
を受ける。
As shown in FIG. 6, in the case of a semiconductor device having a structure in which a solder bump is provided inside a package and a semiconductor chip and an external terminal of the semiconductor are connected via the solder bump, When solder balls are attached to the outside of the device or when the semiconductor device is bonded to a substrate and mounted, the device receives a thermal stress exceeding 230 degrees.

【0005】半導体装置がこの熱ストレスを受けると、
内部の半田バンプが膨張し、応力を発生する。その応力
がソルダレジストとモールド樹脂との界面に加わること
によって、剥離が発生すると共に剥離が発生した界面部
分を通って隣接する半田バンプの方向に溶融した半田が
染み出す現象が起こる場合がある。この染み出し現象に
よって隣接する半田バンプ間で、溶融した半田によるシ
ョートが発生し、半導体装置の機能不具合を引き起こす
ことがある。
When a semiconductor device receives this thermal stress,
Internal solder bumps expand and generate stress. When the stress is applied to the interface between the solder resist and the mold resin, peeling may occur, and a phenomenon may occur in which molten solder leaks out toward the adjacent solder bumps through the interface where the peeling has occurred. This seepage phenomenon may cause a short circuit between the adjacent solder bumps due to the molten solder, which may cause a malfunction of the semiconductor device.

【0006】より具体的には、半導体装置は、実装等を
行なう際に熱ストレスを受けると、内部半田バンプ2が
膨張し、応力を発生する。その応力がモールド樹脂5と
ソルダレジスト6との界面に加わることによりモールド
樹脂5とソルダレジスト6との界面に剥離が発生する。
例えば、図7に示すように、モールド樹脂5とソルダレ
ジスト6との界面に剥離2cが発生する。剥離が発生す
ると、その剥離部分に界面を通って隣接する半田バンプ
の溶融した半田が染み出す。すなわち、図8に示すよう
に剥離部分に内部バンプ2の半田成分2dが染み出す。
この染み出し現象により、図9に示すように隣接する半
田バンプ間で溶融した半田2eを介してショートが発生
し、これにより、半導体装置の動作の不具合が発生す
る。
More specifically, when a semiconductor device receives a thermal stress during mounting or the like, the internal solder bumps 2 expand and generate stress. When the stress is applied to the interface between the mold resin 5 and the solder resist 6, peeling occurs at the interface between the mold resin 5 and the solder resist 6.
For example, as shown in FIG. 7, peeling 2c occurs at the interface between the mold resin 5 and the solder resist 6. When peeling occurs, the molten solder of the solder bump adjacent to the peeled portion through the interface leaks out. That is, as shown in FIG. 8, the solder component 2d of the internal bump 2 oozes into the peeled portion.
Due to the seepage phenomenon, as shown in FIG. 9, a short circuit occurs between the adjacent solder bumps via the molten solder 2e, thereby causing a malfunction of the semiconductor device.

【0007】本発明は上記課題を解決すべくなされたも
のであり、その目的とするところは、熱ストレスによる
半田の染み出し現象及び染み出し現象によって引き起こ
される半導体装置の機能不具合の発生を抑える半導体装
置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to suppress the occurrence of solder bleeding phenomenon due to thermal stress and the occurrence of a malfunction of a semiconductor device caused by the bleeding phenomenon. It is to provide a device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明に係る第1の半導
体装置は、半導体素子と、半導体素子と半田バンプを介
して接続される内部電極と、内部電極と電気的に接続さ
れる外部端子を有する基板とを有し、半導体素子及び内
部電極が基板上に樹脂により封止されており、内部電極
に空孔が設けられている。
A first semiconductor device according to the present invention comprises a semiconductor element, an internal electrode connected to the semiconductor element via a solder bump, and an external terminal electrically connected to the internal electrode. Wherein the semiconductor element and the internal electrode are sealed on the substrate with a resin, and a hole is provided in the internal electrode.

【0009】本発明に係る第2の半導体装置は、半導体
素子と、半導体素子と半田バンプを介して接続される内
部電極と、内部電極と電気的に接続される外部端子を有
する基板とを有し、半導体素子及び内部電極が基板上に
樹脂により封止され、半導体素子と半田バンプとの接続
部分周辺にソルダレジストが配置され、そのソルダレジ
ストには凹部が設けられている。
A second semiconductor device according to the present invention has a semiconductor element, an internal electrode connected to the semiconductor element via a solder bump, and a substrate having an external terminal electrically connected to the internal electrode. The semiconductor element and the internal electrode are sealed on the substrate with resin, and a solder resist is arranged around a connection portion between the semiconductor element and the solder bump, and the solder resist has a recess.

【0010】本発明に係る第3の半導体装置は、半導体
素子と、半導体素子と半田バンプを介して接続される内
部電極と、内部電極と電気的に接続される外部端子を有
する基板とを有し、半導体素子及び内部電極が基板上に
樹脂により封止され、半導体素子と半田バンプとの接続
部分周辺にソルダレジストが配置され、そのソルダレジ
ストには突起部分が設けられている。
A third semiconductor device according to the present invention includes a semiconductor element, an internal electrode connected to the semiconductor element via a solder bump, and a substrate having external terminals electrically connected to the internal electrode. Then, the semiconductor element and the internal electrode are sealed on the substrate with a resin, a solder resist is arranged around a connection portion between the semiconductor element and the solder bump, and the solder resist has a projection.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下添付の図面を参照して、本発
明に係る半導体装置の実施の形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

【0012】実施の形態1.図1(a)に本発明に係る
半導体装置の実施形態の断面図を示す。同図に示す半導
体装置において、半導体チップ1が内部半田バンプ2を
介してインターポーザ電極3に接続され、半田バンプ2
とインターポーザ電極3の接続部周辺にはソルダレジス
ト6が配置されており、これらがインターポーザ基板4
上に実装されている。半導体チップ1、内部半田バンプ
2、インターポーザ電極3及びソルダレジスト6はイン
ターポーザ基板4上でモールド樹脂5により封止されて
いる。これらの点において本実施形態の半導体装置は全
体的に図4に示す従来の半導体装置と同様の構成を有す
る。しかし、本実施形態の半導体装置では、特に、イン
ターポーザ電極3において空孔11を設けた点が従来の
ものと大きく異なる。空孔11は、エッチング処理やレ
ーザ加工処理によってインターポーザ電極3上に設けら
れる。なお、インターポーザ基板4は図4に示す半田ボ
ール7のような外部端子を有している。
Embodiment 1 FIG. 1A is a sectional view of an embodiment of a semiconductor device according to the present invention. In the semiconductor device shown in FIG. 1, a semiconductor chip 1 is connected to an interposer electrode 3 via an internal solder bump 2,
Solder resist 6 is arranged around the connection portion between the interposer electrode 3 and the interposer substrate 3.
Implemented above. The semiconductor chip 1, the internal solder bumps 2, the interposer electrodes 3, and the solder resist 6 are sealed on the interposer substrate 4 with a mold resin 5. In these respects, the semiconductor device of the present embodiment has the same overall configuration as the conventional semiconductor device shown in FIG. However, the semiconductor device of the present embodiment is significantly different from the conventional semiconductor device in that the holes 11 are provided in the interposer electrode 3. The holes 11 are provided on the interposer electrode 3 by etching or laser processing. The interposer substrate 4 has external terminals such as the solder balls 7 shown in FIG.

【0013】このように空孔11をインターポーザ電極
3上に設けることにより、熱ストレスを受けて半田バン
プが膨張した場合であっても、図1(b)に示すように
半田バンプの膨張した部分が空孔11に入りこむ。この
ため、熱ストレスにより膨張した半田が、隣接する半田
バンプへ染み出すことを抑えることができる。これによ
り、半田バンプ間のショート及び半導体装置の動作の不
具合を防止することができる。
By providing the holes 11 on the interposer electrode 3 as described above, even if the solder bump expands due to thermal stress, as shown in FIG. Enters the hole 11. Therefore, it is possible to prevent the solder expanded due to the thermal stress from seeping out to the adjacent solder bump. This can prevent a short circuit between the solder bumps and a malfunction of the semiconductor device.

【0014】実施の形態2.図2(a)に本発明に係る
半導体装置の別の実施形態の断面図を示す。本実施形態
の半導体装置は、実施の形態1の半導体装置とほぼ同様
の構成を有するが、ソルダレジスト6上に凹部9が設け
られている。凹部9はエッチング処理やレーザ加工処理
によってソルダレジスト6上に設けられる。なお、本実
施形態の半導体装置では、インターポーザ基板4に空孔
を設けていないが、実施の形態1のようにインターポー
ザ基板4に空孔を設けてもよい。
Embodiment 2 FIG. FIG. 2A is a sectional view of another embodiment of the semiconductor device according to the present invention. The semiconductor device of the present embodiment has substantially the same configuration as the semiconductor device of the first embodiment, except that a recess 9 is provided on the solder resist 6. The recess 9 is provided on the solder resist 6 by etching or laser processing. In the semiconductor device of this embodiment, no holes are provided in the interposer substrate 4, but holes may be provided in the interposer substrate 4 as in the first embodiment.

【0015】このようにソルダレジスト6上に凹部9を
設けることにより、熱ストレスを受けて半田バンプが膨
張した場合であっても、図2(b)に示すように半田バ
ンプの膨張した部分2aが凹部9に入りこむ。このた
め、熱ストレスにより膨張した半田が、隣接する半田バ
ンプへ染み出すことを抑えることができ、半田バンプ間
のショート及び半導体装置の動作の不具合を防止するこ
とができる。
By providing the recess 9 on the solder resist 6 in this manner, even if the solder bump expands due to thermal stress, the expanded portion 2a of the solder bump as shown in FIG. Enters the recess 9. For this reason, it is possible to prevent the solder expanded due to the thermal stress from seeping out to the adjacent solder bumps, and it is possible to prevent a short circuit between the solder bumps and a malfunction of the semiconductor device.

【0016】実施の形態3.図3(a)に本発明に係る
半導体装置のさらに別の実施形態の断面図を示す。実施
の形態2の半導体装置ではソルダレジスト6上に凹部を
設けていたが、本実施形態の半導体装置では、それの代
わりに突起部13を設けている。突起部13はエッチン
グ処理によってソルダレジスト6上に設けられる。
Embodiment 3 FIG. 3A is a sectional view of still another embodiment of the semiconductor device according to the present invention. In the semiconductor device of the second embodiment, the recess is provided on the solder resist 6, but in the semiconductor device of the present embodiment, the projection 13 is provided instead. The protrusion 13 is provided on the solder resist 6 by an etching process.

【0017】このようにソルダレジスト6上に突起部1
3を設けることにより、図3(b)に示すように、熱ス
トレスを受けて半田バンプが膨張した部分2bがモール
ド樹脂5とソルダレジスト6の界面に染み出した場合で
あっても、半田バンプの膨張した部分2bが突起部13
に達することにより、溶融した半田が隣接する半田バン
プ方向へ進行することが阻止される。したがって、隣接
する半田バンプへの染み出しを抑えることができ、半田
バンプ間のショート及び半導体装置の動作の不具合を防
止することができる。
As described above, the projection 1 is formed on the solder resist 6.
By providing the solder bump 3, as shown in FIG. 3 (b), even when the portion 2 b where the solder bump has expanded due to the thermal stress leaks out to the interface between the mold resin 5 and the solder resist 6, The expanded portion 2b of the protrusion 13
, The molten solder is prevented from traveling in the direction of the adjacent solder bumps. Therefore, it is possible to suppress the exudation to the adjacent solder bumps, and it is possible to prevent a short circuit between the solder bumps and a malfunction of the semiconductor device.

【0018】以上のように上記の実施形態で示した半導
体装置は熱ストレスによる半田バンプ間のショート及び
半導体装置の動作の不具合を防止することができる。
As described above, the semiconductor device shown in the above embodiment can prevent a short circuit between solder bumps due to thermal stress and a malfunction of the semiconductor device.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明の第1の半導体装置によれば、半
田バンプと接する内部基板上に空孔を設けたことによ
り、熱ストレスにより半田バンプが膨張しても、膨張し
た半田が空孔に入り込み、その進行が阻止されるため、
半田バンプ間の短絡を防止できる。
According to the first semiconductor device of the present invention, since the holes are provided on the internal substrate in contact with the solder bumps, even if the solder bumps expand due to thermal stress, the expanded solder has holes. To get in and stop the progress,
Short circuit between solder bumps can be prevented.

【0020】本発明の第2の半導体装置によれば、ソル
ダレジスタ上に凹部を設けたことにより、熱ストレスに
より半田バンプが膨張しても、膨張した半田が凹部に入
り込み、その進行が凹部により阻止されるため、半田バ
ンプ間の短絡を防止できる。
According to the second semiconductor device of the present invention, by providing the concave portion on the solder register, even if the solder bump expands due to the thermal stress, the expanded solder enters the concave portion, and the progress is caused by the concave portion. Since this is prevented, a short circuit between the solder bumps can be prevented.

【0021】本発明の第3の半導体装置によれば、ソル
ダレジスタ上に突起部を設けたことにより、熱ストレス
により半田バンプが膨張しても、膨張した半田の進行が
突起部により堰き止められるため、半田バンプ間の短絡
を防止できる。
According to the third semiconductor device of the present invention, since the protrusion is provided on the solder register, even if the solder bump expands due to thermal stress, the progress of the expanded solder is blocked by the protrusion. Therefore, a short circuit between the solder bumps can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る半導体装置の一の実施形態の部
分断面図。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device according to the present invention.

【図2】 本発明に係る半導体装置の別の実施形態の部
分断面図。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view of another embodiment of the semiconductor device according to the present invention.

【図3】 本発明に係る半導体装置のさらに別の実施形
態の部分断面図。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of still another embodiment of the semiconductor device according to the present invention.

【図4】 従来の半導体装置の断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor device.

【図5】 従来の半導体装置の製造工程を説明するため
の図。
FIG. 5 is a diagram illustrating a manufacturing process of a conventional semiconductor device.

【図6】 従来の半導体装置の部分断面図。FIG. 6 is a partial cross-sectional view of a conventional semiconductor device.

【図7】 従来の半導体装置において熱ストレスによる
半田バンプの剥離を説明した図。
FIG. 7 is a diagram illustrating peeling of a solder bump due to thermal stress in a conventional semiconductor device.

【図8】 従来の半導体装置において熱ストレスによる
半田バンプの染み出しを説明した図。
FIG. 8 is a diagram illustrating the exudation of solder bumps due to thermal stress in a conventional semiconductor device.

【図9】 従来の半導体装置において熱ストレスによる
半田バンプ間のショートを説明した図。
FIG. 9 is a diagram illustrating a short circuit between solder bumps due to thermal stress in a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ、 2 内部半田バンプ、 3 イン
ターポーザ電極、 4インターポーザ基板、 5 モー
ルド樹脂、 6 ソルダレジスト、 7 半田ボール、
9 ソルダレジストの凹部、 11 インターポーザ
電極の空孔、13 ソルダレジストの突起部。
1 semiconductor chip, 2 internal solder bump, 3 interposer electrode, 4 interposer board, 5 mold resin, 6 solder resist, 7 solder ball,
9 Solder resist recess, 11 Interposer electrode void, 13 Solder resist protrusion.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子と、該半導体素子と半田バン
プを介して接続される内部電極と、該内部電極と電気的
に接続される外部端子を有する基板とを有し、前記半導
体素子及び前記内部電極が前記基板上に樹脂により封止
されており、前記内部電極に空孔が設けられたことを特
徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising: a semiconductor element; an internal electrode connected to the semiconductor element via a solder bump; and a substrate having an external terminal electrically connected to the internal electrode. A semiconductor device, wherein an internal electrode is sealed on the substrate with a resin, and a hole is provided in the internal electrode.
【請求項2】 半導体素子と、該半導体素子と半田バン
プを介して接続される内部電極と、該内部電極と電気的
に接続される外部端子を有する基板とを有し、前記半導
体素子及び前記内部電極が前記基板上に樹脂により封止
され、前記半導体素子と前記半田バンプとの接続部分周
辺にソルダレジストが配置されており、前記ソルダレジ
ストに凹部が設けられたことを特徴とする半導体装置。
2. A semiconductor device comprising: a semiconductor element; an internal electrode connected to the semiconductor element via solder bumps; and a substrate having an external terminal electrically connected to the internal electrode. A semiconductor device, wherein an internal electrode is sealed on the substrate with a resin, a solder resist is disposed around a connection portion between the semiconductor element and the solder bump, and a concave portion is provided in the solder resist. .
【請求項3】 半導体素子と、該半導体素子と半田バン
プを介して接続される内部電極と、該内部電極と電気的
に接続される外部端子を有する基板とを有し、前記半導
体素子及び前記内部電極が前記基板上に樹脂により封止
され、前記半導体素子と前記半田バンプとの接続部分周
辺にソルダレジストが配置されており、前記ソルダレジ
ストに突起部分が設けられたことを特徴とする半導体装
置。
3. A semiconductor device comprising: a semiconductor element; an internal electrode connected to the semiconductor element via solder bumps; and a substrate having an external terminal electrically connected to the internal electrode. A semiconductor, wherein an internal electrode is sealed with a resin on the substrate, a solder resist is disposed around a connection portion between the semiconductor element and the solder bump, and a protrusion is provided on the solder resist. apparatus.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004026010A1 (en) * 2002-09-12 2004-03-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Circuit-component-containing module

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