JP2002214151A - Surface flaw inspecting method - Google Patents

Surface flaw inspecting method

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JP2002214151A
JP2002214151A JP2001009078A JP2001009078A JP2002214151A JP 2002214151 A JP2002214151 A JP 2002214151A JP 2001009078 A JP2001009078 A JP 2001009078A JP 2001009078 A JP2001009078 A JP 2001009078A JP 2002214151 A JP2002214151 A JP 2002214151A
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image
flaw
cut
binarized
area ratio
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Takanori Kajiya
孝則 加治屋
Shuji Naito
修治 内藤
Takahiro Tasaka
隆弘 田坂
Toshiyuki Taya
利之 田谷
Shuntaro Saito
俊太郎 齊藤
Hajime Hashimoto
肇 橋本
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Nippon Steel Corp
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Nippon Steel Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface flaw inspecting method capable of detecting only substantially harmful flaws. SOLUTION: An inspected material surface is photographed, and its image is binarized to detect a surface flaw by this surface flaw inspecting method. The binary process is performed at the threshold determined based on the luminance standard deviation of the image pre-processed on the original image obtained by photographing the inspected material surface. The vicinity of a flaw candidate image detected on the binarized image is cut out from the original image, the cut-out image is rebinarized at a threshold so that the area ratio of the flaw candidate image against the whole area of the cut-out image becomes a set area ratio, and a flaw is detected on the rebinarized image.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は表面疵検査方法、
特に被検査材表面を撮像し、画像処理により表面疵を検
出する方法に関する。
The present invention relates to a method for inspecting surface flaws,
In particular, the present invention relates to a method of imaging the surface of a material to be inspected and detecting surface flaws by image processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来はCCDカメラなどで撮像した疵画
像をフィルタ処理等の前処理後、あらかじめ設定した閾
値を用いて2値化して疵候補を検出し、疵の特徴量判別
を行って疵かどうかを判別していた。また、複数の閾値
をあらかじめ用意し、何度か疵候補検出を行う方法をと
っていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a flaw image picked up by a CCD camera or the like is pre-processed such as a filtering process, and then binarized using a preset threshold to detect a flaw candidate and discriminate a flaw feature quantity to perform flaw feature determination. Had been determined. Further, a method has been adopted in which a plurality of thresholds are prepared in advance and flaw candidate detection is performed several times.

【0003】しかし、従来の方法は次のような問題があ
った。例えば、閾値が1つしかない場合、疵候補を確
実に拾うために疵候補を見つけやすい厳しい閾値を設定
するか、2値化閾値をあまめにして、疵ではない地合
模様を拾わないように設定するかの選択を迫られる。こ
のため、の場合は地合模様を疵候補として頻繁に拾う
過検出気味の疵検査となり、またの場合は地合模様を
頻繁には拾わなくなるものの、本来の疵をも見逃す未検
出気味の疵検査となる。疵検査の現場では疵見逃しを防
止する要求が強く、のように厳しい閾値を設定する必
要があり、過検出気味の疵検出となり、これが問題とな
っていた。また、閾値を複数用意し、各々の閾値で疵検
出した実績に基づいて最適な閾値を選ぶという方法も開
示されているが、疵検出の対象となる被検査材表面の状
態は時々刻々と変化するため、用意した閾値をすべて用
いて疵検査をしてもやはり、過検出あるいは未検出とな
る場合もあり、時々刻々と閾値を変化させる必要があ
る。
However, the conventional method has the following problems. For example, if there is only one threshold, set a strict threshold that makes it easy to find a flaw candidate to reliably pick up a flaw candidate, or broaden the binarization threshold to avoid picking up non-flaw formation patterns. You have to choose whether to set it. For this reason, in the case of the above, it is an over-detection flaw inspection in which the formation pattern is frequently picked up as a flaw candidate, and in the other case, the formation pattern is not frequently picked up, but the undetected flaw that misses the original flaw is also missed. Inspection. At the flaw inspection site, there is a strong demand to prevent flaws from being overlooked, and it is necessary to set a strict threshold value as described above, which leads to flaw detection that is almost overdetected, which has been a problem. In addition, a method has been disclosed in which a plurality of thresholds are prepared, and an optimum threshold is selected based on the results of flaw detection at each threshold.However, the state of the surface of the inspection target material for which flaw detection is performed is constantly changing. Therefore, even if the flaw inspection is performed using all of the prepared thresholds, overdetection or undetection may still occur, and it is necessary to change the threshold every moment.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、実
質的に有害な疵のみを検出することができる表面疵検査
方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for inspecting surface flaws, which can detect substantially only harmful flaws.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明の表面疵検査方
法は、被検査材表面を撮像し、その画像を2値化処理し
て表面疵を検出する表面疵検査方法において、被検査材
表面を撮像した原画像に前処理を行った画像の輝度標準
偏差に基づいて決定した閾値で2値化処理し、前記2値
化処理画像で検出された疵候補画像の近傍を原画像から
切り出し、前記切出し画像の全体面積に対する疵候補画
像の面積比が設定面積比となる閾値で前記切出し画像を
再2値化処理し、再2値化処理画像について疵を検出す
る。
A surface flaw inspection method according to the present invention is directed to a surface flaw inspection method for imaging a surface of a material to be inspected and binarizing the image to detect the surface flaw. Is binarized with a threshold determined on the basis of the luminance standard deviation of the image obtained by performing preprocessing on the original image that has been captured, and the vicinity of the flaw candidate image detected in the binarized image is cut out from the original image. The cut-out image is re-binarized with a threshold value at which the area ratio of the flaw candidate image to the entire area of the cut-out image becomes a set area ratio, and a flaw is detected in the re-binarized image.

【0006】上記表面疵検査方法では、原画像を2値化
処理した画像に現れた疵候補画像の近傍を切り出し、原
画像に戻って閾値を調整、設定して再2値化処理を行
う。したがって、フィルタリングで画像強調された疵候
補画像であっても疵でないものを疵として誤ることはな
い。
In the above-mentioned surface flaw inspection method, the vicinity of a flaw candidate image appearing in an image obtained by binarizing the original image is cut out, and the threshold value is adjusted and set by returning to the original image to perform re-binarization processing. Therefore, even if the flaw candidate image is image-enhanced by filtering, an image that is not a flaw is not mistaken as a flaw.

【0007】上記表面疵検査方法において、前記切出し
画像が疵候補画像の最大長さおよび最大幅に対し、縦方
向に0〜80画素、横方向に0〜40画素のマージンを
とり、疵候補画像を囲む四角形の画像であることが好ま
しい。また、前記設定面積比を10〜20%、好ましく
は14〜16%とするとよい。これらマージンまたは設
定面積比を上記の範囲とすることにより、再2値化処理
のための閾値を疵検出に適した値に設定することができ
る。
In the above surface flaw inspection method, the cut image has a margin of 0 to 80 pixels in the vertical direction and 0 to 40 pixels in the horizontal direction with respect to the maximum length and the maximum width of the flaw candidate image. It is preferable that the image is a square image surrounding. Further, the set area ratio is set to 10 to 20%, preferably 14 to 16%. By setting the margin or the set area ratio in the above range, the threshold value for the re-binarization process can be set to a value suitable for flaw detection.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】図1は、この発明の表面疵検査方
法を実施する装置の1例を模式的に示している。ここで
は、被検査材1は被検査対象の鋳片である。表面疵検査
装置は、主として照明装置10、撮像装置12、および
画像処理装置20からなっている。照明装置10は、メ
タルハライドランプなどのような高輝度ランプを備えて
いる。撮像装置12は、固体カメラ(例えばCCDカメ
ラ)であり、画像処理装置20に接続されている。画像
処理装置20は、演算部21と画像メモリ28とからな
っている。演算部21は前処理手段22、2値化処理手
段23、閾値決定・設定手段24、疵候補検出部25お
よび切出し手段26を備えている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 schematically shows an example of an apparatus for carrying out a surface flaw inspection method according to the present invention. Here, the material to be inspected 1 is a cast piece to be inspected. The surface flaw inspection device mainly includes an illumination device 10, an imaging device 12, and an image processing device 20. The lighting device 10 includes a high-intensity lamp such as a metal halide lamp. The imaging device 12 is a solid-state camera (for example, a CCD camera), and is connected to the image processing device 20. The image processing device 20 includes a calculation unit 21 and an image memory 28. The calculation unit 21 includes a preprocessing unit 22, a binarization processing unit 23, a threshold value determination / setting unit 24, a flaw candidate detection unit 25, and a cutout unit 26.

【0009】上記表面疵検査装置によるこの発明の表面
疵検査方法を、図1および図2を参照して説明する。図
2は、表面疵検査方法の工程を示すフローチャートであ
る。
The surface flaw inspection method of the present invention using the above-described surface flaw inspection apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a flowchart showing the steps of the surface flaw inspection method.

【0010】画像処理装置20において、画像処理条件
を設定する。画像処理条件として、前処理におけるフィ
ルタリング条件、2値化処理閾値、画像切出しのマージ
ン、再2値化処理閾値調整のための面積比などがある。
鋳片1を移送装置3で検査位置に移送し、照明装置10
で鋳片1の所要の検査領域を照明する。撮像装置12は
設定された撮像領域ごとに鋳片表面を撮像する。画像処
理装置20は、撮像領域ごとの画像を1原画像として処
理する。
In the image processing apparatus 20, image processing conditions are set. As image processing conditions, there are a filtering condition in pre-processing, a binarization processing threshold, a margin for image extraction, an area ratio for adjusting a re-binarization processing threshold, and the like.
The slab 1 is transferred to the inspection position by the transfer device 3 and the lighting device 10
Illuminates the required inspection area of the slab 1 with. The imaging device 12 images the slab surface for each set imaging region. The image processing device 20 processes an image for each imaging region as one original image.

【0011】撮像装置12から入力された原画像は、前
処理手段22で濃度補正、フィルター処理による雑音除
去、歪み修正などなどの前処理がなされる。前処理によ
り、原画像中の疵候補画像が強調される。前処理を終え
た画像は、前処理を行った画像の輝度標準偏差に基づい
て決定された閾値(閾値決定・設定手段24により実行
される)により2値化手段23で2値化処理される。輝
度標準偏差は、画像の中に含まれる疵以外のいわゆる模
様がどの程度多く含まれるかを判断する重要な指標であ
り、これを用いて初期閾値を決定することで、過検出要
因を大幅に低減することができる。
The original image input from the image pickup device 12 is subjected to preprocessing such as density correction, noise removal by filter processing, distortion correction, and the like by the preprocessing means 22. The pre-processing emphasizes the flaw candidate image in the original image. The preprocessed image is binarized by the binarizing unit 23 using a threshold value (executed by the threshold value determining / setting unit 24) determined based on the luminance standard deviation of the preprocessed image. . The luminance standard deviation is an important index for determining how many so-called patterns other than the flaws included in the image are included, and by using this to determine the initial threshold value, the over-detection factor is significantly reduced. Can be reduced.

【0012】モニタ30の画面上に表示された2値化処
理画像を基に、疵候補検出部25が疵候補画像を検出す
る。2値化処理で検出された疵候補画像の鋳片表面上の
位置が特定される。撮像領域の位置(原画像の鋳片表面
上の位置)は設置時に決定されているので、検査員は疵
候補画像の位置をモニタ30の画面上でも特定すること
ができる。疵候補画像の位置が特定されると、画像処理
装置20は2値化処理画像から疵候補画像の近傍を切出
し領域として指定する。2値化処理画像で切出し領域を
指定すると、切出し手段26により切出し画像が自動的
に原画像から切り出される。例えば、疵候補画像の最大
長さおよび最大幅に対する適切なマージンをとって、疵
候補画像を囲む四角形の領域を原画像から切り出す。マ
ージンの大きさは、疵候補画像の面積に応じて縦方向に
0〜80画素、横方向に0〜40画素程度とるが、これ
は切り出した画像に対して疵候補画像が占める割合を1
0%〜20%にするために必要な処理である。なぜな
ら、切り出した画像が疵候補画像のみの場合は、当該疵
候補画像が切り出し画像に対して占める割合が高くなる
からである。
The flaw candidate detection section 25 detects a flaw candidate image based on the binarized image displayed on the screen of the monitor 30. The position on the slab surface of the flaw candidate image detected in the binarization processing is specified. Since the position of the imaging region (the position of the original image on the slab surface) is determined at the time of installation, the inspector can also specify the position of the flaw candidate image on the screen of the monitor 30. When the position of the flaw candidate image is specified, the image processing device 20 designates the vicinity of the flaw candidate image from the binarized image as the cutout area. When a cutout area is designated in the binarized image, the cutout image is automatically cut out from the original image by the cutout means 26. For example, a rectangular area surrounding the flaw candidate image is cut out from the original image with an appropriate margin for the maximum length and the maximum width of the flaw candidate image. The size of the margin is about 0 to 80 pixels in the vertical direction and about 0 to 40 pixels in the horizontal direction according to the area of the flaw candidate image.
This is a process necessary to reduce the content to 0% to 20%. This is because, when the cut-out image is only the flaw candidate image, the ratio of the flaw candidate image to the cut-out image increases.

【0013】切出し画像は、調整した閾値で2値化処理
手段23により再2値化処理する。再2値化処理の閾値
は、前記切出し画像の全体面積に対する疵候補画像の面
積比が設定面積比となるように調整し、閾値・決定設定
手段24により設定する。上記面積比は、例えば10%
〜20%、好ましくは14〜16%程度である。モニタ
30の画面上に表示された再2値化処理画像で、検査員
が目視により疵候補画像が実質的に疵かどうかを判断す
る。
The cut-out image is re-binarized by the binarization processing means 23 using the adjusted threshold value. The threshold value of the re-binarization process is adjusted so that the area ratio of the flaw candidate image to the entire area of the cut-out image becomes the set area ratio, and is set by the threshold / determination setting unit 24. The area ratio is, for example, 10%
-20%, preferably about 14-16%. In the re-binarization processing image displayed on the screen of the monitor 30, the inspector visually determines whether or not the flaw candidate image is substantially flaw.

【0014】検出された疵の位置、長さ、幅などは上位
計算機等に出力され、疵は、疵処理装置で除去される。
The position, length, width, etc. of the detected flaw are output to a host computer or the like, and the flaw is removed by a flaw processing device.

【0015】[0015]

【実施例】図3および図4は、この発明の方法により鋳
片について表面疵検査した結果を示している。図3は実
際には有害な疵がない場合であり、図4は有害な疵が鋳
片面に存在した場合である。
FIGS. 3 and 4 show the results of surface flaw inspection of a slab by the method of the present invention. FIG. 3 shows a case where there is actually no harmful flaw, and FIG. 4 shows a case where there is a harmful flaw on the slab surface.

【0016】1.有害疵がない場合 図3の(a) は鋳片表面の原画像であり、原画像上には疵
に相当するものは認められない。(b)は前処理を行っ
た画像の輝度標準偏差に基づいて決定された閾値で疵候
補画像を検出した2値化画像である。縦方向の疵を強調
する処理を行ったため、縦割れのような疵候補画像が認
められる。(c) は、原画像から疵候補画像近傍を切り出
した画像である。当然のことながら、切出し画像上には
疵に相当する模様は認められない。(d)は、切出し画像
で調整した閾値で2値化した画像である。縦割れのよう
な疵候補画像は認められないので、この疵候補画像は有
害疵を示すものではないと判定される。
1. When there is no harmful flaw FIG. 3 (a) is an original image of the slab surface, and no flaw is recognized on the original image. (B) is a binarized image in which a flaw candidate image is detected with a threshold value determined based on the luminance standard deviation of the preprocessed image. Since the process of emphasizing the vertical flaw was performed, a flaw candidate image such as a vertical crack is recognized. (c) is an image obtained by cutting out the vicinity of the flaw candidate image from the original image. Naturally, a pattern corresponding to a flaw is not recognized on the cut-out image. (d) is an image binarized by the threshold value adjusted in the cut-out image. Since no flaw candidate image such as a vertical crack is recognized, it is determined that this flaw candidate image does not indicate a harmful flaw.

【0017】2.有害疵がある場合 図4の(a) は鋳片表面の原画像であり、画像上には縦割
れ疵に相当する疵候補画像が認められる。(b) は、前処
理を行った画像の輝度標準偏差に基づいて決定された閾
値で疵候補画像を検出した場合の2値化画像である。縦
方向の疵を強調する前処理を行ったため、縦割れのよう
な2値画像がくっきりと認められる。(c) は、原画像か
ら疵候補画像近傍を切り出した画像である。当然のこと
ながら、切出し画像上には縦割れ疵に相当する疵候補画
像が認められる。(d)は、切出し画像について調整した
閾値で2値化した画像である。縦割れのような疵候補画
像が認められるので、この疵候補画像は有害疵を示すも
のと判定される。
2. When there is a harmful flaw FIG. 4A is an original image of the slab surface, and a flaw candidate image corresponding to a vertical crack is recognized on the image. (b) is a binarized image when a flaw candidate image is detected with a threshold value determined based on the luminance standard deviation of the preprocessed image. Since the pre-processing which emphasizes the vertical flaw was performed, a binary image such as a vertical crack is clearly recognized. (c) is an image obtained by cutting out the vicinity of the flaw candidate image from the original image. As a matter of course, a flaw candidate image corresponding to a vertical crack is recognized on the cut-out image. (d) is an image binarized by the threshold value adjusted for the cut-out image. Since a flaw candidate image such as a vertical crack is recognized, this flaw candidate image is determined to indicate a harmful flaw.

【0018】実施例に示すように、1回目の疵候補画像
検出処理の前に疵を強調するためにフィルタリング処理
をしており、疵でないものが恰も疵のように見えてしま
い、これが過検出要因となる。しかし、この発明の方法
では原画像に戻って閾値を調整、設定して疵候補画像を
再検出するため、過検出を防止できる。
As shown in the embodiment, a filtering process is performed to emphasize a flaw before the first flaw candidate image detection processing, and a non-flaw looks like a flaw. It becomes a factor. However, according to the method of the present invention, since the threshold value is adjusted and set by returning to the original image and the flaw candidate image is detected again, overdetection can be prevented.

【0019】[0019]

【発明の効果】この発明では、原画像を2値化処理した
画像に現れた疵候補画像の近傍を切り出し、原画像に戻
って閾値を調整、設定して再2値化処理を行う。したが
って、フィルタリングで画像強調された疵候補画像であ
っても、疵でないものを疵として誤ることはない。ま
た、著しく汚れた被検査材表面でも、疵候補画像近傍に
見られる汚れ等を拾わなくなり、過検出を防止すること
ができる。この結果、表面ノイズを疵と誤認識する誤検
出を大幅に減らすことができるので、人による疵の最終
確認疵個数が減り、疵処理装置への疵手入れ箇所の入力
が減り、手入れ時間の短縮が図れる。
According to the present invention, the vicinity of the flaw candidate image appearing in the image obtained by binarizing the original image is cut out, and the threshold value is adjusted and set by returning to the original image to perform the binarization process again. Therefore, even if a flaw candidate image is image-enhanced by filtering, an image that is not a flaw is not mistaken as a flaw. Further, even on the surface of the inspected material that is significantly contaminated, dirt or the like seen near the flaw candidate image is not picked up, and overdetection can be prevented. As a result, erroneous detection of erroneously recognizing surface noise as a flaw can be greatly reduced, so that the number of final confirmation flaws of flaws by humans is reduced, the number of input of flaw care points to the flaw processing device is reduced, and the care time is reduced Can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の表面疵検査方法を実施する装置の1
例を模式的に示す図面である。
FIG. 1 shows an apparatus for implementing a surface flaw inspection method of the present invention.
It is drawing which shows an example typically.

【図2】表面疵検査方法の工程を示すフローチャートで
ある。
FIG. 2 is a flowchart showing steps of a surface flaw inspection method.

【図3】この発明の表面疵検査方法の画像処理で、有害
疵がない場合の画像例である。
FIG. 3 is an image example when there is no harmful flaw in the image processing by the surface flaw inspection method of the present invention.

【図4】この発明の表面疵検査方法の画像処理で、有害
疵がある場合の画像例である。
FIG. 4 is an image example when there is a harmful flaw in the image processing by the surface flaw inspection method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被検査材(鋳片) 3 移送装置 10 照明装置 12 撮像装置 20 画像処理装置 21 演算部 22 前処理手段 23 2値化処理手段 24 閾値決定・設定手段 25 疵候補検出部 26 切出し手段 28 画像メモリ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inspection material (cast piece) 3 Transfer device 10 Illumination device 12 Imaging device 20 Image processing device 21 Operation part 22 Preprocessing means 23 Binarization processing means 24 Threshold value determination / setting means 25 Flaw candidate detection part 26 Extraction means 28 Image memory

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田坂 隆弘 大分県大分市大字西ノ洲1番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 田谷 利之 大分県大分市大字西ノ洲1番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 齊藤 俊太郎 大分県大分市大字西ノ洲1番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 橋本 肇 大分県大分市大字西ノ洲1番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 Fターム(参考) 2G051 AB02 CA04 EA11 EB01 EB02 ED04 5B057 AA04 CA08 CA12 CA16 CB06 CB12 CB16 CC03 CE09 CH01 CH11 DA08 DB02 DC22  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Takahiro Tasaka Oita Nishi-nosu 1 Oita, Oita Prefecture Inside Nippon Steel Corporation Oita Works (72) Inventor Toshiyuki Taya 1 Nishi-no Osu Oita-shi Oita Prefecture New Japan Inside the Oita Works of Iron & Steel Co., Ltd. 2G051 AB02 CA04 EA11 EB01 EB02 ED04 5B057 AA04 CA08 CA12 CA16 CB06 CB12 CB16 CC03 CE09 CH01 CH11 DA08 DB02 DC22

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検査材表面を撮像し、その画像を2値
化処理して表面疵を検出する表面疵検査方法において、
被検査材表面を撮像した原画像に前処理を行った画像の
輝度標準偏差に基づいて設定した閾値で2値化処理し、
前記2値化処理画像で検出された疵候補画像の近傍を原
画像から切り出し、前記切出し画像の全体面積に対する
疵候補画像の面積比が設定面積比となる閾値で前記切出
し画像を再2値化処理し、再2値化処理画像について疵
を検出することを特徴とする表面疵検査方法。
1. A surface flaw inspection method which images a surface of a material to be inspected and binarizes the image to detect surface flaws.
A binarization process is performed using a threshold set based on the luminance standard deviation of an image obtained by performing a pre-process on an original image obtained by imaging the surface of the inspection target material,
The vicinity of the flaw candidate image detected in the binarized image is cut out from the original image, and the cut-out image is re-binarized with a threshold at which the area ratio of the flaw candidate image to the entire area of the cut-out image becomes a set area ratio. A surface flaw inspection method characterized by processing and detecting flaws in a re-binarized image.
【請求項2】 前記切出し画像が疵候補画像の最大長さ
および最大幅に対し、縦方向に0〜80画素、横方向に
0〜40画素のマージンをとり、疵候補画像を囲む四角
形の画像である請求項1記載の表面疵検査方法。
2. A square image surrounding the flaw candidate image, wherein the cutout image has a margin of 0 to 80 pixels in a vertical direction and 0 to 40 pixels in a horizontal direction with respect to a maximum length and a maximum width of the flaw candidate image. 2. The surface flaw inspection method according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記設定面積比が10〜20%である請
求項1または請求項2記載の表面疵検査方法。
3. The surface flaw inspection method according to claim 1, wherein the set area ratio is 10 to 20%.
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Cited By (5)

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