JP2002212449A - Curable composition, its manufacturing method, molding method, and cured material - Google Patents

Curable composition, its manufacturing method, molding method, and cured material

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JP2002212449A JP2001009522A JP2001009522A JP2002212449A JP 2002212449 A JP2002212449 A JP 2002212449A JP 2001009522 A JP2001009522 A JP 2001009522A JP 2001009522 A JP2001009522 A JP 2001009522A JP 2002212449 A JP2002212449 A JP 2002212449A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition having good moldability with uniform, suitable viscosity and melt characteristics, having versatility in obtaining raw material, and having industrially high utility, its manufacturing method, and a cured material obtained by curing it. SOLUTION: The curable composition can be obtained by previously subjecting a part of the carbon-carbon double bonds capable of undergoing hydrosilylation and a part of the SiH groups in a mixture containing as the essential constituents (A) an organic compound having in the molecule at least two carbon-carbon double bonds capable of undergoing hydrosilylation, (B) a silicon compound having at least two SiH groups in the molecule, and (C) a hydrosilylation catalyst to hydrosilylation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は硬化性組成物に関す
るものであり、更に詳しくは均一であり適当な粘度およ
び溶融特性を有しており成形性が良好な硬化性組成物、
その製造方法、およびそれを硬化させてなる硬化物に関
するものである。また、硬化性組成物の成形方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a curable composition, and more particularly to a curable composition which is uniform, has appropriate viscosity and melting properties, and has good moldability.
The present invention relates to a method for producing the same and a cured product obtained by curing the method. The present invention also relates to a method for molding a curable composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】硬化性組成物としては種々のものが提案
されている。これらの中でヒドロシリル化反応を硬化反
応として利用するものも種々提案されている(例えば特
開昭55−778055号公報)。しかし、これらの構
成成分であるSiH基含有成分としてポリオルガノハイ
ドロジェンシロキサン等のシロキサン化合物を用い、炭
素−炭素二重結合含有成分として有機系骨格からなる有
機化合物を用いた場合には、一般に両者の相溶性が悪い
ため、発泡、硬化不良などが起こり、機械特性が著しく
損なわれるという問題がある。
2. Description of the Related Art Various curable compositions have been proposed. Among these, various proposals utilizing a hydrosilylation reaction as a curing reaction have been proposed (for example, JP-A-55-77855). However, when a siloxane compound such as a polyorganohydrogen siloxane is used as the SiH group-containing component, and an organic compound having an organic skeleton is used as the carbon-carbon double bond-containing component, these components are generally used. Is poor in compatibility, so that foaming, poor curing and the like occur, and there is a problem that mechanical properties are significantly impaired.

【0003】この問題を解決する手段としては、SiH
基含有化合物として、有機系骨格からなる有機化合物と
SiH基含有シロキサンとの反応物(有機変性シロキサ
ン)を用いる方法が提案されている(例えば特開昭63
−241034号公報、特許第2732315号公
報)。しかし、特に炭素−炭素二重結合含有成分として
高極性の有機化合物を用いた場合等、十分な相溶性が得
られないという問題があり、炭素−炭素二重結合含有成
分の骨格構造に合わせて相溶性の良いものを設計、選択
する必要があり、さらに、有機変性シロキサンは特殊化
合物であり種々のものが容易に入手可能であるとは言い
難いため、工業的な実用性が低いという問題を有してい
た。
As means for solving this problem, SiH
As a group-containing compound, there has been proposed a method of using a reaction product (organic modified siloxane) of an organic compound having an organic skeleton and a siloxane having a SiH group (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 63).
Japanese Patent No. 241034, Japanese Patent No. 2732315). However, there is a problem that sufficient compatibility cannot be obtained, particularly when a highly polar organic compound is used as the carbon-carbon double bond-containing component. It is necessary to design and select a compound having good compatibility, and furthermore, the organically modified siloxane is a special compound, and it is difficult to say that various compounds are easily available. Had.

【0004】また、炭素−炭素二重結合含有成分あるい
はSiH基含有成分として低分子化合物を用いた場合
等、硬化性組成物の粘度が低くなり、プレス成形、キャ
スト成形等の場合の成形性が必ずしも良好ではないとい
う問題もあった。
Further, when a low molecular weight compound is used as the carbon-carbon double bond-containing component or the SiH group-containing component, the viscosity of the curable composition becomes low, and the formability in press molding, cast molding, etc. becomes poor. There was also a problem that it was not always good.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、均一であり適当な粘度および溶融特性を有しており
成形性が良好であって、原料入手性においても汎用性が
あり工業的に実用性が高い硬化性組成物、その製造方
法、およびそれを硬化させてなる硬化物を提供すること
である。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a composition which is uniform, has appropriate viscosity and melting properties, has good moldability, is versatile in raw material availability, and is industrially suitable. Another object of the present invention is to provide a curable composition having high practicality, a method for producing the same, and a cured product obtained by curing the composition.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに本発明者らは鋭意研究の結果、(A)ヒドロシリル
化可能な炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2
個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2
個のSiH基を含有するケイ素化合物および(C)ヒド
ロシリル化触媒を必須成分として含有する混合物中のヒ
ドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合およびSiH基
のそれぞれ一部をあらかじめヒドロシリル化反応により
反応させてなる硬化性組成物が、上記課題を解決できる
ことを見出し、さらに、未反応の(A)成分及び/又は
(B)成分を除去してなる硬化性組成物はその効果が高
いことを見出し、本発明に至った。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present inventors have made intensive studies and have found that (A) a hydrosilylatable carbon-carbon double bond has at least two carbon atoms per molecule.
(B) at least two organic compounds per molecule
A silicon compound containing two SiH groups and a part of each of the hydrosilylatable carbon-carbon double bonds and the SiH groups in a mixture containing (C) a hydrosilylation catalyst as essential components, by a hydrosilylation reaction. Curable composition that can solve the above-mentioned problems, furthermore, the curable composition obtained by removing the unreacted component (A) and / or component (B) has a high effect, The present invention has been reached.

【0007】すなわち、本発明は、(A)ヒドロシリル
化可能な炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2
個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2
個のSiH基を含有するケイ素化合物、および(C)ヒ
ドロシリル化触媒、を必須成分として含有する混合物中
のヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合およびSi
H基のそれぞれ一部をあらかじめヒドロシリル化反応に
より反応させて得ることができる硬化性組成物である。
That is, the present invention relates to (A) a method for preparing a hydrosilylatable carbon-carbon double bond in a molecule of at least 2 carbon atoms.
(B) at least two organic compounds per molecule
Compound containing two SiH groups and (C) a hydrosilylation catalyst as essential components in a mixture containing a hydrosilylatable carbon-carbon double bond and Si
It is a curable composition obtainable by previously reacting a part of each H group by a hydrosilylation reaction.

【0008】あらかじめヒドロシリル化反応により反応
させるヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合の数
が、ヒドロシリル化反応以前の(A)成分中のヒドロシ
リル化可能な炭素−炭素二重結合の数の80%以下であ
り、かつ、あらかじめヒドロシリル化反応により反応さ
せるSiH基の数が、ヒドロシリル化反応以前の(B)
成分中のSiH基の数の80%以下であることが好まし
い。上記硬化性組成物は、互いに非相溶性である(A)
成分および(B)成分を含有し、かつ、均一であること
が好ましい。上記硬化性組成物においては、未反応の
(A)成分の含有量が10重量%以下及び/又は未反応
の(B)成分の含有量が10重量%以下であることが好
ましい。
The number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds previously reacted by the hydrosilylation reaction is 80% of the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in the component (A) before the hydrosilylation reaction. And the number of SiH groups that are preliminarily reacted by the hydrosilylation reaction is (B) before the hydrosilylation reaction.
It is preferable that the number is 80% or less of the number of SiH groups in the component. The curable compositions are mutually incompatible (A)
It is preferable that the composition contains the component and the component (B) and is uniform. In the curable composition, it is preferable that the content of the unreacted component (A) is 10% by weight or less and / or the content of the unreacted component (B) is 10% by weight or less.

【0009】(A)成分及び/又は(B)成分がイミド
基を含有する化合物であることが好ましい。上記硬化性
組成物は、さらに(D)硬化遅延剤を含有してなること
が好ましい。(A)成分が、構成元素としてC、H、
O、N、S、ハロゲンのみを含む化合物であることが好
ましい。(A)成分が、ビニル基を1分子中に少なくと
も1個含有する有機化合物であることが好ましい。
(A)成分、(B)成分および(C)成分を含有する混
合物において、(A)成分に含有されるヒドロシリル化
可能な炭素−炭素二重結合の数(X)と、(B)成分に
含有されるSiH基の数(Y)の比が、2>Y/Xであ
り、かつ、(B)成分が常圧での沸点が200℃以下の
化合物であることが好ましい。
It is preferable that the component (A) and / or the component (B) is a compound containing an imide group. It is preferable that the curable composition further contains (D) a curing retarder. The component (A) is composed of C, H,
It is preferable that the compound contains only O, N, S, and halogen. The component (A) is preferably an organic compound containing at least one vinyl group in one molecule.
In the mixture containing the component (A), the component (B) and the component (C), the number (X) of the hydrosilylatable carbon-carbon double bonds contained in the component (A) and the component (B) It is preferable that the ratio of the number (Y) of the contained SiH groups is 2> Y / X, and the component (B) is a compound having a boiling point of 200 ° C. or less at normal pressure.

【0010】また、本発明は、上記硬化性組成物を製造
する方法であって、(A)ヒドロシリル化可能な炭素−
炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機
化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を
含有するケイ素化合物、および(C)ヒドロシリル化触
媒、を必須成分として含有する混合物中のヒドロシリル
化可能な炭素−炭素二重結合およびSiH基のそれぞれ
一部をあらかじめヒドロシリル化反応により反応させる
ことからなる製造方法である。上記製造方法において
は、ヒドロシリル化反応を溶媒存在下に実施することが
好ましい。
The present invention also relates to a method for producing the above-mentioned curable composition, comprising (A) a hydrosilylatable carbon-
Organic compounds containing at least two carbon double bonds in one molecule, (B) a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, and (C) a hydrosilylation catalyst as essential components. This is a production method comprising reacting a part of each of a hydrosilylatable carbon-carbon double bond and a SiH group in a mixture by a hydrosilylation reaction in advance. In the above production method, the hydrosilylation reaction is preferably performed in the presence of a solvent.

【0011】上記製造方法においては、ヒドロシリル化
可能な炭素−炭素二重結合およびSiH基のそれぞれ一
部をヒドロシリル化反応により反応させた後、温度を低
下させることによりヒドロシリル化反応の進行を抑止す
ることが好ましい。上記製造方法においては、ヒドロシ
リル化可能な炭素−炭素二重結合およびSiH基のそれ
ぞれ一部をヒドロシリル化反応により反応させた後、硬
化遅延剤を添加することによりヒドロシリル化反応の進
行を抑止することが好ましい。上記製造方法において
は、ヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合およびS
iH基のそれぞれ一部をヒドロシリル化反応により反応
させた後、未反応の(A)成分及び/又は未反応の
(B)成分を除去することが好ましい。
In the above-mentioned production method, the hydrosilylation-reactive carbon-carbon double bond and a part of the SiH group are respectively reacted by a hydrosilylation reaction, and then the temperature is lowered to suppress the progress of the hydrosilylation reaction. Is preferred. In the above-mentioned production method, after a part of each of the carbon-carbon double bond capable of hydrosilylation and the SiH group is reacted by a hydrosilylation reaction, the progress of the hydrosilylation reaction is suppressed by adding a curing retarder. Is preferred. In the above production method, the hydrosilylatable carbon-carbon double bond and S
After reacting a part of each iH group by a hydrosilylation reaction, it is preferable to remove the unreacted component (A) and / or the unreacted component (B).

【0012】さらに、本発明は、上記硬化性組成物を硬
化させてなる硬化物である。上記硬化性組成物を含有し
てなる接着剤又は封止剤でもある。さらにまた、本発明
は、(A)ヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合を
1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)
1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素
化合物、および(C)ヒドロシリル化触媒、を必須成分
として含有する硬化性組成物中のヒドロシリル化可能な
炭素−炭素二重結合およびSiH基のそれぞれ一部をあ
らかじめヒドロシリル化反応により反応させた後、成形
することによる、硬化性組成物の成形方法でもある。以
下、本発明を詳細に説明する。
Furthermore, the present invention is a cured product obtained by curing the above curable composition. It is also an adhesive or a sealant containing the curable composition. Furthermore, the present invention relates to (A) an organic compound containing at least two hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in one molecule, (B)
In a curable composition containing, as an essential component, a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, and (C) a hydrosilylation catalyst, a carbon-carbon double bond and a SiH group capable of being hydrosilylatable. This is also a method for molding a curable composition, in which a part of each is reacted in advance by a hydrosilylation reaction and then molded. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0013】まず、本発明における(A)成分について
説明する。(A)成分はヒドロシリル化可能な炭素−炭
素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化
合物である。このような化合物としては、ポリシロキサ
ン−有機ブロックコポリマーやポリシロキサン−有機グ
ラフトコポリマーのようなシロキサン単位(Si−O−
Si)を含むものではなく、構成元素としてC、H、
N、O、S、ハロゲンのみからなるものが好ましい。シ
ロキサン単位を含むものの場合は、ガス透過性やはじき
の問題があるからである。ハロゲンを含むものの場合は
燃焼時に毒性物質を発生する恐れがあるため、さらに好
ましくはC、H、N、O、Sのみからなるものである。
First, the component (A) in the present invention will be described. Component (A) is an organic compound containing at least two hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in one molecule. Such compounds include siloxane units (Si-O-) such as polysiloxane-organic block copolymers and polysiloxane-organic graft copolymers.
Not containing Si), but as constituent elements C, H,
Those composed of only N, O, S and halogen are preferred. This is because those containing a siloxane unit have problems of gas permeability and repellency. In the case of a substance containing halogen, a toxic substance may be generated at the time of combustion, so that it is more preferably composed of only C, H, N, O, and S.

【0014】(A)成分の構造を、骨格部分と、その骨
格に共有結合によって(場合によっては2価以上の置換
基を介して)結合しているヒドロシリル化可能な炭素−
炭素二重結合を有する基(アルケニル基)とに分けて表
した場合、アルケニル基は分子内のどこに存在してもよ
い。なお、本明細書において、「ヒドロシリル化可能な
炭素−炭素二重結合」とは、従来公知の条件下でSiH
基とヒドロシリル化が可能な炭素−炭素二重結合のこと
をいう。有機化合物である(A)成分の骨格としては特
に限定はなく、有機重合体骨格または有機単量体骨格を
用いればよい。
The structure of component (A) is formed by bonding a skeleton portion to a hydrosilylatable carbon-bonded to the skeleton by a covalent bond (in some cases, via a divalent or higher valent substituent).
When expressed separately from a group having a carbon double bond (alkenyl group), the alkenyl group may be present anywhere in the molecule. In the present specification, “hydrosilylatable carbon-carbon double bond” refers to SiH under conventionally known conditions.
A carbon-carbon double bond capable of hydrosilylation with a group. The skeleton of the component (A), which is an organic compound, is not particularly limited, and an organic polymer skeleton or an organic monomer skeleton may be used.

【0015】有機重合体骨格の例としては、ポリエーテ
ル系、ポリエステル系、ポリアリレート系、ポリカーボ
ネート系、飽和炭化水素系、ポリアクリル酸エステル
系、ポリアミド系、フェノール−ホルムアルデヒド系
(フェノール樹脂系)、ポリイミド系の骨格を用いるこ
とができる。また単量体骨格としては、例えば、フェノ
ール系、ビスフェノール系、ベンゼン、ナフタレンなど
の芳香族炭化水素系、脂肪族炭化水素系、ビスイミド等
のイミド系、イソシアヌレート系およびこれらの混合物
が挙げられる。(A)成分のアルケニル基としてはSi
H基と反応性を有するものであれば特に制限されない
が、下記一般式(I)
Examples of the organic polymer skeleton include polyether type, polyester type, polyarylate type, polycarbonate type, saturated hydrocarbon type, polyacrylate type, polyamide type, phenol-formaldehyde type (phenol resin type), A polyimide skeleton can be used. Examples of the monomer skeleton include aromatic hydrocarbons such as phenols, bisphenols, benzene and naphthalene, aliphatic hydrocarbons, imides such as bisimides, isocyanurates, and mixtures thereof. As the alkenyl group of the component (A), Si is used.
There is no particular limitation as long as it has reactivity with the H group, but the following general formula (I)

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】(式中Rは水素原子あるいはメチル基を表
す。)で示されるアルケニル基が反応性の点から好適で
ある。また、さらに原料の入手が容易であることから、
An alkenyl group represented by the formula (wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferred from the viewpoint of reactivity. Also, because it is easier to obtain raw materials,

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】が特に好ましい。(A)成分のアルケニル
基としては、下記一般式(II)
Is particularly preferred. As the alkenyl group of the component (A), the following general formula (II)

【0020】[0020]

【化3】 Embedded image

【0021】(式中Rは水素原子あるいはメチル基を表
す。)で示されるアルケニル基が、硬化物の耐熱性が高
いという点から好適である。また、さらに原料の入手が
容易であることから、
An alkenyl group represented by the formula (wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferred from the viewpoint that the cured product has high heat resistance. Also, because it is easier to obtain raw materials,

【0022】[0022]

【化4】 Embedded image

【0023】が特に好ましい。アルケニル基は2価以上
の置換基を介して(A)成分の骨格部分に共有結合して
いても良く、2価以上の置換基としては炭素数0〜10
の置換基であれば特に制限はないが、構成元素として
C、H、N、O、S、ハロゲンのみを含むものが好まし
い。これらの置換基の例としては、
Is particularly preferred. The alkenyl group may be covalently bonded to the skeleton portion of the component (A) via a divalent or higher valent substituent, and the divalent or higher valent substituent may have 0 to 10 carbon atoms.
The substituent is not particularly limited, but a substituent containing only C, H, N, O, S, and halogen as a constituent element is preferable. Examples of these substituents include

【0024】[0024]

【化5】 Embedded image

【0025】[0025]

【化6】 Embedded image

【0026】等が挙げられる。また、これらの2価以上
の置換基の2つ以上が共有結合によりつながって1つの
2価以上の置換基を構成していてもよい。以上のような
骨格部分に共有結合するアルケニル基の例としては、ビ
ニル基、アリル基、メタリル基、アクリル基、メタクリ
ル基、2−ヒドロキシ−3−(アリルオキシ)プロピル
基、2−アリルフェニル基、3−アリルフェニル基、4
−アリルフェニル基、2−(アリルオキシ)フェニル
基、3−(アリルオキシ)フェニル基、4−(アリルオ
キシ)フェニル基、2−(アリルオキシ)エチル基、
2,2−ビス(アリルオキシメチル)ブチル基、3−ア
リルオキシ−2,2−ビス(アリルオキシメチル)プロ
ピル基、
And the like. Also, two or more of these divalent or more substituents may be connected by a covalent bond to form one divalent or more substituent. Examples of the alkenyl group covalently bonded to the skeleton as described above include a vinyl group, an allyl group, a methallyl group, an acryl group, a methacryl group, a 2-hydroxy-3- (allyloxy) propyl group, a 2-allylphenyl group, 3-allylphenyl group, 4
-Allylphenyl group, 2- (allyloxy) phenyl group, 3- (allyloxy) phenyl group, 4- (allyloxy) phenyl group, 2- (allyloxy) ethyl group,
2,2-bis (allyloxymethyl) butyl group, 3-allyloxy-2,2-bis (allyloxymethyl) propyl group,

【0027】[0027]

【化7】 Embedded image

【0028】等が挙げられる。(A)成分としては、上
記のように骨格部分とアルケニル基とに分けて表現し難
い、低分子量化合物も用いることができる。これらの低
分子量化合物の具体例としては、ブタジエン、イソプレ
ン、オクタジエン、デカジエンなどの脂肪族鎖状ポリエ
ン化合物系、シクロペンタジエン、シクロオクタジエ
ン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、
ノルボルナジエンなどの脂肪族環状ポリエン化合物系、
ビニルシクロペンテン、ビニルシクロヘキセンなどの置
換脂肪族環状オレフィン化合物系などが挙げられる。
And the like. As the component (A), a low-molecular-weight compound that is difficult to be expressed separately as a skeleton portion and an alkenyl group as described above can also be used. Specific examples of these low-molecular weight compounds include aliphatic chain polyene compounds such as butadiene, isoprene, octadiene, and decadiene, cyclopentadiene, cyclooctadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene,
Aliphatic cyclic polyene compounds such as norbornadiene,
Substituted aliphatic cyclic olefin compounds such as vinylcyclopentene and vinylcyclohexene are exemplified.

【0029】(A)成分のヒドロシリル化可能な炭素−
炭素二重結合の数は、平均して1分子当たり少なくとも
2個あればよいが、硬化物の耐熱性をより向上し得ると
いう観点から、2を超えることが好ましく、3個以上で
あることがより好ましく、4個以上であることが特に好
ましい。(A)成分のヒドロシリル化可能な炭素−炭素
二重結合の数が1分子内当たり1個以下の場合は、
(B)成分と反応してもグラフト構造となるのみで架橋
構造とならない。
The hydrosilylatable carbon of the component (A)
The number of carbon double bonds may be at least two per molecule on average, but is preferably more than 2 and preferably 3 or more from the viewpoint that the heat resistance of the cured product can be further improved. More preferably, the number is particularly preferably 4 or more. When the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds of the component (A) is 1 or less per molecule,
Even if it reacts with the component (B), it only forms a graft structure and does not form a crosslinked structure.

【0030】さらに(B)成分との反応性を高めるた
め、(A)成分としては、ビニル基を1分子中に少なく
とも1個含有する有機化合物であることが好ましく、さ
らに好ましくはビニル基を1分子中に少なくとも2個含
有する有機化合物であることが好ましい。また、(B)
成分との反応性をさらに高めるため、(A)成分として
は、アリル基を1分子中に少なくとも1個含有する有機
化合物であることが好ましい。
In order to further enhance the reactivity with the component (B), the component (A) is preferably an organic compound containing at least one vinyl group in one molecule, and more preferably one vinyl group. It is preferable that the organic compound contains at least two organic compounds in the molecule. (B)
In order to further increase the reactivity with the component, the component (A) is preferably an organic compound containing at least one allyl group in one molecule.

【0031】工業的入手性の容易さからは、好ましい
(A)成分の具体例として、ポリブタジエン、ビニルシ
クロヘキセン、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジ
エン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、トリア
リルイソシアヌレート、トリビニルシクロヘキサンまた
はビスフェノールAジアリルエーテル、2,2′−ジア
リルビスフェノールA、ビスフェノールSジアリルエー
テル、2,2′−ジアリルビスフェノールS等を挙げる
ことが出来る。得られる硬化物の耐熱性が高いという観
点からは、(A)成分としてはイミド基を含有する化合
物が好ましい。これらの化合物としては例えば下記一般
式(III)
From the viewpoint of industrial availability, preferred examples of the component (A) include polybutadiene, vinylcyclohexene, cyclopentadiene, dicyclopentadiene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, triallyl isocyanurate, trivinylcyclohexane and Examples include bisphenol A diallyl ether, 2,2'-diallyl bisphenol A, bisphenol S diallyl ether, and 2,2'-diallyl bisphenol S. From the viewpoint that the obtained cured product has high heat resistance, a compound containing an imide group is preferable as the component (A). As these compounds, for example, the following general formula (III)

【0032】[0032]

【化8】 Embedded image

【0033】[式中、Rは、芳香族基を含有する炭素
数6〜30個の4価の有機基を表す。Rは、芳香族基
を含有する炭素数6〜30個の2価の有機基、又は、一
般式(IV)
[In the formula, R 1 represents an aromatic group-containing tetravalent organic group having 6 to 30 carbon atoms. R 2 is a divalent organic group having 6 to 30 carbon atoms containing an aromatic group, or a compound represented by the general formula (IV)

【0034】[0034]

【化9】 Embedded image

【0035】(式中、Rは、炭素数1〜20個の2価
の有機基を表す。Rは炭素数1〜20個の1価の有機
基を表す。複数のR及びRは同一であってもよく、
また異なっていてもよい。mは1〜20の正の整数を表
す)で表される2価の基を表す。Rは、ヒドロシリル
化可能な炭素−炭素二重結合を有する炭素数2〜20個
の1価の有機基を表し、2つのRは同一であってもよ
く、また異なっていてもよい。nは0〜100の整数を
表す。]で表されるイミド化合物、及び、一般式(V)
[0035] (wherein, R 4 represents a divalent organic group having 1 to 20 carbons .R 5 represents a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. Plurality of R 4 and R 5 may be the same,
They may also be different. m represents a positive integer of 1 to 20). R 3 is hydrosilylatable carbon - represents a monovalent organic group having 2-20 carbon having a carbon-carbon double bond, two R 3 may be may be the same, or different. n represents an integer of 0 to 100. An imide compound represented by the general formula (V):

【0036】[0036]

【化10】 Embedded image

【0037】(式中、R、R及びnは上記と同じで
ある。Rは、少なくとも1つのヒドロシリル化可能な
炭素−炭素二重結合を含む炭素数2〜20個の2価の有
機基を表す。2つのRは同一であってもよく、また異
なっていてもよい。)で表されるイミド化合物が挙げら
れる。
Wherein R 1 , R 2 and n are the same as above. R 6 is a divalent C 2-20 carbon atom containing at least one hydrosilylatable carbon-carbon double bond. Represents an organic group, and two R 6 s may be the same or different.).

【0038】上記一般式(III)および(V)におい
て、Rは、芳香族基を含有する炭素数6〜30個の4
価の有機基を表す。本明細書中、「有機基」とは、無置
換の炭化水素基、又は、スルホニル基、水酸基、カルボ
ニル基、エーテル基、ハロゲン基等の置換基を持つ炭化
水素基をいう。Rとしては、硬化後に耐熱性に優れた
硬化物を与えるという点から、炭素数6〜30個の4価
の芳香族基、又は、2価の基を介して結合した芳香族環
からなる炭素数6〜30個の4価の基が好ましい。
In the above formulas (III) and (V), R 1 is an aromatic group-containing 4 to 6 carbon atoms.
Represents a valent organic group. In the present specification, the “organic group” refers to an unsubstituted hydrocarbon group or a hydrocarbon group having a substituent such as a sulfonyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, an ether group, and a halogen group. R 1 is composed of a tetravalent aromatic group having 6 to 30 carbon atoms or an aromatic ring bonded through a divalent group, from the viewpoint of providing a cured product having excellent heat resistance after curing. A tetravalent group having 6 to 30 carbon atoms is preferable.

【0039】特に好ましい具体例としては、ピロメリッ
ト酸、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン
酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホンテトラ
カルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルエーテル
テトラカルボン酸、ナフタレン−1,2,5,6−テト
ラカルボン酸、下記一般式(VI)
Particularly preferred specific examples are pyromellitic acid, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 3,3 ', 4 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid, 3,3 ', 4,4'-diphenylethertetracarboxylic acid, naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid, represented by the following general formula (VI)

【0040】[0040]

【化11】 Embedded image

【0041】(式中、Rは、炭素数1〜16個の2価
の有機基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン
基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、イソプ
ロピレン基、イソブチレン基、フェニレン基、ナフチレ
ン基、ベンジレン基、フェネチレン基、
(Wherein R 7 is a divalent organic group having 1 to 16 carbon atoms, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group, an octylene group, an isopropylene group, an isobutylene group, Phenylene group, naphthylene group, benzylene group, phenylene group,

【0042】[0042]

【化12】 Embedded image

【0043】で表される基などを表す)で表されるテト
ラカルボン酸などからカルボン酸基を除いた残基などが
あげられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を
併用してもよい。上記一般式(III)および(V)に
おいて、Rは、芳香族基を含有する炭素数6〜30個
の2価の有機基、又は、一般式(IV)で表される2価
の基を表す。
And a residue obtained by removing a carboxylic acid group from a tetracarboxylic acid represented by the following formula: These may be used alone or in combination of two or more. In the general formulas (III) and (V), R 2 is a divalent organic group having 6 to 30 carbon atoms containing an aromatic group, or a divalent group represented by the general formula (IV) Represents

【0044】[0044]

【化13】 Embedded image

【0045】式中、Rは、炭素数1〜20個の2価の
有機基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン
基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、イソプ
ロピレン基、イソブチレン基、フェニレン基、ナフチレ
ン基、ベンジレン基、フェネチレン基などを表す。R
は、炭素数1〜20個の1価の有機基、例えばメチル、
エチル、プロピル、フェニルなどを表す。複数のR
びRは同一であってもよく、また異なっていてもよ
い、mは1〜20の正の整数を表す。このようなR
うち、芳香族基を含有する炭素数6〜30個の2価の有
機基が、硬化物の耐熱性をより向上しうるという点で好
ましい。
In the formula, R 4 represents a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group, an octylene group, an isopropylene group, an isobutylene group, a phenylene group. Group, naphthylene group, benzylene group, phenethylene group and the like. R 5
Is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, for example, methyl,
Represents ethyl, propyl, phenyl and the like. A plurality of R 4 and R 5 may be the same or different, and m represents a positive integer of 1 to 20. Among such R 2 , an aromatic group-containing divalent organic group having 6 to 30 carbon atoms is preferable in that the heat resistance of the cured product can be further improved.

【0046】このようなRの具体例としては、例え
ば、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′
−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジ
フェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルスル
フィド、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフ
ェニル、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
3′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミ
ノベンゾフェノン、ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェ
ノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(2−アミノ
フェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]エーテル、1,4−ビス
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−ア
ミノフェニル)ベンゼン、4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)メ
タン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニル)メタ
ン、4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′−ジアミ
ノオクタフルオロビフェニル、3,3′−ジメトキシ−
4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジメチル−
4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジクロロ−
4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′,5,5′−
テトラクロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、3,
3′−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノビフェニ
ル、2,4−ジアミノトルエン、1,3−ジアミノベン
ゼン、1,4−ジアミノベンゼン、2,2′−ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,
2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]スルホン、9,9′−ビス(4−ア
ミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、9,9′
−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、オルトトリ
ジンスルホン;1,3−ビス(3−アミノプロピル)テ
トラメチルジシロキサン、1,5−ビス(3−アミノプ
ロピル)ヘキサメチルトリシロキサン、
[0046] Specific examples of such R 2 may, for example, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4 '
-Diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,
3'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (2- [Aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4
-Aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) benzene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (3-methyl-4-aminophenyl) methane, bis (3-chloro-4-aminophenyl) ) Methane, 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminooctafluorobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-
4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-
4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-
4,4'-diaminobiphenyl, 2,2 ', 5,5'-
Tetrachloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,
3'-dicarboxy-4,4'-diaminobiphenyl,
3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 2,4-diaminotoluene, 1,3-diaminobenzene, 1,4-diaminobenzene, 2,2'-bis [4
-(4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,
2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl]
Hexafluoropropane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 9,9'-bis (4-aminophenyl) -10-hydroanthracene, 9,9 '
-Bis (4-aminophenyl) fluorene, ortho-tolidine sulfone; 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,5-bis (3-aminopropyl) hexamethyltrisiloxane,

【0047】[0047]

【化14】 Embedded image

【0048】(式中、R、mは上記一般式(IV)の
、mの例と同じ)で表されるアミノ末端ポリシロキ
サンなどのシロキサンジアミンからアミノ基を除いた残
基などがあげられる。これらは単独で用いてもよく、2
種以上を併用してもよい。上記一般式(III)におい
て、Rは、炭素−炭素二重結合を有する炭素数2〜2
0個の1価の有機基を表すが、このような基の具体例と
しては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル
基、ヘキセニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニ
ル基、ウンデセニル基、イソプロぺニル基、2−メチル
−2−プロピレン基、2−ビニルフェニル基、3−ビニ
ルフェニル基、4−ビニルフェニル基、アリロキシフェ
ニル基などがあげられる。
(Wherein R 5 and m are the same as the examples of R 5 and m in the general formula (IV)), and a residue obtained by removing an amino group from a siloxane diamine such as an amino-terminated polysiloxane. can give. These may be used alone,
More than one species may be used in combination. In the general formula (III), R 3 has 2 to 2 carbon atoms having a carbon-carbon double bond.
It represents zero monovalent organic groups, and specific examples of such groups include vinyl, allyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, octenyl, nonenyl, decenyl, undecenyl, and isopropyl. Examples thereof include a benzyl group, a 2-methyl-2-propylene group, a 2-vinylphenyl group, a 3-vinylphenyl group, a 4-vinylphenyl group and an allyloxyphenyl group.

【0049】上記一般式(V)において、Rは、少な
くとも1つの炭素−炭素二重結合を有する炭素数2〜2
0個の2価の有機基を表す。なかでも、環を形成する炭
素−炭素二重結合を有する基が好ましい。具体例として
In the above general formula (V), R 6 has 2 to 2 carbon atoms having at least one carbon-carbon double bond.
Represents zero divalent organic groups. Among them, a group having a carbon-carbon double bond forming a ring is preferable. As a specific example

【0050】[0050]

【化15】 Embedded image

【0051】などが挙げられる。上記一般式(III)
および(V)において、nは0〜100の正の整数を表
す。なかでも、溶解性や溶融性が良いため成形性に優
れ、かつ、得られる硬化物の耐熱性が優れるなどの点か
ら、0〜50が好ましく、0〜20がより好ましい。こ
れらのイミド化合物としては例えば、
And the like. The above general formula (III)
And in (V), n represents a positive integer of 0 to 100. Among these, 0 to 50 are preferable, and 0 to 20 are more preferable, from the viewpoints of excellent moldability due to good solubility and meltability, and excellent heat resistance of the obtained cured product. As these imide compounds, for example,

【0052】[0052]

【化16】 Embedded image

【0053】(nは0〜10)で表される化合物などが
挙げられる。(A)成分としては、耐熱性をより向上し
得るという観点からは、ヒドロシリル化可能な炭素−炭
素二重結合を(A)成分1gあたり0.001mol以
上含有するものが好ましく、1gあたり0.005mo
l以上含有するものがより好ましく、0.008mol
以上含有するものが特に好ましい。具体的な例として
は、ブタジエン、イソプレン、ビニルシクロヘキセン、
シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロヘ
キサジエン、デカジエン、ジアリルフタレート、トリメ
チロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリト
ールトリアリルエーテル、ジビニルベンゼン類(純度5
0〜100%のもの、好ましくは純度80〜100%の
もの)、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−
ジイソプロペニルベンゼン、およびそれらのオリゴマ
ー、1,2−ポリブタジエン(1,2比率10〜100
%のもの、好ましくは1,2比率50〜100%のも
の)、
Compounds represented by (n is 0 to 10) are exemplified. From the viewpoint that the heat resistance can be further improved, the component (A) preferably contains a hydrosilylatable carbon-carbon double bond in an amount of 0.001 mol or more per 1 g of the component (A), and preferably contains 0.1 to 1 mol per gram. 005mo
l or more is more preferable, and 0.008 mol
Those containing the above are particularly preferred. Specific examples include butadiene, isoprene, vinylcyclohexene,
Cyclopentadiene, dicyclopentadiene, cyclohexadiene, decadiene, diallyl phthalate, trimethylolpropane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, divinylbenzenes (purity 5
0-100%, preferably 80-100%), 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-
Diisopropenyl benzene and its oligomers, 1,2-polybutadiene (1,2 ratio 10-100
%, Preferably 1,2 ratio of 50 to 100%),

【0054】[0054]

【化17】 Embedded image

【0055】などが挙げられる。上記したような各種
(A)成分は単独もしくは2種以上のものを混合して用
いることが可能である。
And the like. The various components (A) as described above can be used alone or as a mixture of two or more.

【0056】次に、(B)成分であるSiH基を有する
化合物について説明する。本発明に使用できるSiH基
を有する化合物については特に制限がなく、例えば国際
公開WO96/15194に記載される化合物で、1分
子中に少なくとも2個のSiH基を有するものなどが使
用できる。
Next, the compound having a SiH group as the component (B) will be described. The compound having a SiH group that can be used in the present invention is not particularly limited. For example, compounds described in International Publication WO 96/15194 having at least two SiH groups in one molecule can be used.

【0057】これらのうち、入手性の面からは、1分子
中に少なくとも2個のSiH基を有する鎖状及び/又は
環状のオルガノポリシロキサンが好ましく、(A)成分
との相溶性が良いという観点から、さらに、下記一般式
(VII)
Among these, from the viewpoint of availability, a chain and / or cyclic organopolysiloxane having at least two SiH groups in one molecule is preferable, and has good compatibility with the component (A). From the viewpoint, the following general formula (VII)

【0058】[0058]

【化18】 Embedded image

【0059】(式中、Rは、炭素数1〜6の有機基を
表し、nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子
中に少なくとも2個のSiH基を有する環状オルガノポ
リシロキサンが好ましい。(B)成分の分子量は特に制
約はなく任意のものが好適に使用できるが、より流動性
を発現しやすいという観点からは低分子量のものが好ま
しく用いられる。具体的には、分子量が50〜100,
000のものが好ましく、50〜1,000のものがよ
り好ましく、50〜700のものがさらに好ましい。
(Wherein R 8 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents a number of 3 to 10), and has at least two SiH groups in one molecule. Cyclic organopolysiloxanes are preferred. The molecular weight of the component (B) is not particularly limited, and any one can be suitably used. However, a low molecular weight one is preferably used from the viewpoint that fluidity is more easily developed. Specifically, the molecular weight is 50-100,
000 is preferable, 50 to 1,000 is more preferable, and 50 to 700 is more preferable.

【0060】上記したような(B)成分の具体例として
は、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキ
サン、1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタ
シロキサン、ポリメチルハイドロジェンシロキサン等を
挙げることができる。得られる硬化物の耐熱性が高いと
いう観点からは、(B)成分としてはイミド基を含有す
る化合物が好ましい。これらの化合物としては、例え
ば、下記一般式(VIII)
Specific examples of the above component (B) include 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethylcyclopentasiloxane, polymethylhydro Gensiloxane and the like can be mentioned. From the viewpoint that the obtained cured product has high heat resistance, a compound containing an imide group is preferable as the component (B). As these compounds, for example, the following general formula (VIII)

【0061】[0061]

【化19】 Embedded image

【0062】(式中、R、R、nは、上記一般式
(III)の説明と同じであり、R10は炭素数2〜2
0個の2価の有機基を表し、Xは少なくとも1個のSi
H基を含有する1価の基を表す。)で表されるイミド化
合物が挙げられる。
(Wherein R 1 , R 2 , and n are the same as those described in the general formula (III), and R 10 has a carbon number of 2 to 2).
Represents zero divalent organic groups, and X represents at least one Si
Represents a monovalent group containing an H group. )).

【0063】一般式(VIII)において、R10は炭
素数2〜20個の2価の有機基であるが、このような基
の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、イソ
プロピレン基、イソブチレン基、フェニレン基、ナフチ
レン基、ベンジレン基、フェネチレン基などが挙げられ
る。一般式(VIII)において、Xは少なくとも1個
のSiH基を含有する1価の基であるが、このような基
の具体例としては、
In the general formula (VIII), R 10 is a divalent organic group having 2 to 20 carbon atoms. Specific examples of such a group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and a butylene group. Hexylene group, octylene group, isopropylene group, isobutylene group, phenylene group, naphthylene group, benzylene group, phenethylene group and the like. In the general formula (VIII), X is a monovalent group containing at least one SiH group, and specific examples of such a group include:

【0064】[0064]

【化20】 Embedded image

【0065】(nは2〜5の数を表す。)等が挙げられ
る。このような(B)成分としては、例えば、
(N represents a number of 2 to 5) and the like. As such a component (B), for example,

【0066】[0066]

【化21】 Embedded image

【0067】等が挙げられる。上記したような各種
(B)成分は単独もしくは2種以上のものを混合して用
いることが可能である。
And the like. The various (B) components as described above can be used alone or in combination of two or more.

【0068】上記したような(A)成分と(B)成分の
混合比率は、特に限定されないが、一般に上記(A)成
分中のヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合の数
(X)と、上記(B)成分中のSiH基の数(Y)との
比が、10≧Y/X≧0.1であることが好ましい。Y
/X>10、あるいは0.1>Y/Xの場合は、十分な
相溶性が得られ難い。また、特に(B)成分が常圧での
沸点が200℃以下の化合物である場合は、2>Y/X
であることが好ましい。Y/X≧2の場合には得られる
硬化性組成物中に多量の揮発性の(B)成分が存在する
ことになるため、成形性が悪くなったり、未反応の
(B)成分を除去した場合に得られる硬化物の充分な強
度が得られない場合があり、耐熱性も低くなりうる。
The mixing ratio of component (A) and component (B) as described above is not particularly limited, but generally, the number (X) of the hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in component (A) and It is preferable that the ratio with respect to the number (Y) of SiH groups in the component (B) is 10 ≧ Y / X ≧ 0.1. Y
If / X> 10 or 0.1> Y / X, it is difficult to obtain sufficient compatibility. In particular, when the component (B) is a compound having a boiling point of 200 ° C. or less at normal pressure, 2> Y / X
It is preferred that When Y / X ≧ 2, a large amount of the volatile (B) component is present in the obtained curable composition, so that the moldability deteriorates and the unreacted (B) component is removed. In some cases, the resulting cured product may not have sufficient strength, and may have low heat resistance.

【0069】上記したような(A)成分と(B)成分が
互いに対して非相溶性である場合に特に本発明は有用で
ある。この場合、非相溶とは、単に液体同士が均一に混
合できないことを意味するのみではなく、一方が液体で
あり一方が気体あるいは固体であって気体あるいは固体
が液体に均一に溶解しない状態も含む。また、エマルジ
ョンのように巨視的に均一であっても微視的には不均一
である場合も含む。また、温度についても特に限定され
ず、例えば20℃〜200℃の間のいずれかの限定され
た温度領域で上記のような非相溶状態となる場合も両者
は非相溶と考える。また、硬化性組成物が均一であると
は、硬化性組成物に含まれる各成分が互いに相溶してお
り、巨視的にも微視的にも均一な状態になっていること
をいう。
The present invention is particularly useful when the components (A) and (B) are incompatible with each other as described above. In this case, immiscible means not only that the liquids cannot be mixed uniformly, but also that one is a liquid and one is a gas or solid and the gas or solid is not uniformly dissolved in the liquid. Including. In addition, it includes a case where the composition is macroscopically uniform but not microscopically uniform, such as an emulsion. The temperature is not particularly limited. For example, in the case where the above-mentioned incompatible state is obtained in any limited temperature range between 20 ° C. and 200 ° C., both are considered to be incompatible. Further, that the curable composition is uniform means that the components contained in the curable composition are mutually compatible and are in a macroscopically and microscopically uniform state.

【0070】次に(C)成分であるヒドロシリル化触媒
について説明する。ヒドロシリル化触媒としては、ヒド
ロシリル化反応の触媒活性があれば特に限定されない
が、例えば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボン
ブラックなどの担体に固体白金を担持させたもの、塩化
白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン
などとの錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt
(CH=CH(PPh、Pt(CH
CHCl)、白金−ビニルシロキサン錯体(例
えば、Pt(ViMeSiOSiMeVi)、P
t[(MeViSiO))、白金−ホスフィン錯
体(例えば、Pt(PPh、Pt(PB
)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt
[P(OPh)、Pt[P(OBu)
(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニ
ル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示
す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト
(Karstedt)触媒、また、アシュビー(Ash
by)の米国特許第3159601号および31596
62号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、な
らびにラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3
220972号明細書中に記載された白金アルコラート
触媒が挙げられる。さらに、モディック(Modic)
の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩
化白金−オレフィン複合体も本発明において有用であ
る。
Next, the hydrosilylation catalyst as the component (C) will be described. The hydrosilylation catalyst is not particularly limited as long as it has the catalytic activity of the hydrosilylation reaction, and examples thereof include a simple substance of platinum, alumina, silica, carbon black and the like on which solid platinum is supported, chloroplatinic acid, platinum chloride Complexes of acids with alcohols, aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (for example, Pt
(CH 2 = CH 2) 2 (PPh 3) 2, Pt (CH 2 =
CH 2 ) 2 Cl 2 ), a platinum-vinylsiloxane complex (for example, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , P
t [(MeViSiO) 4 ] m ), a platinum-phosphine complex (for example, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PB
u 3 ) 4 ), a platinum-phosphite complex (for example, Pt
[P (OPh) 3 ] 4 , Pt [P (OBu) 3 ] 4 )
(In the formula, Me is a methyl group, Bu is a butyl group, Vi is a vinyl group, Ph is a phenyl group, and n and m are integers.), Dicarbonyldichloroplatinum, Karstedt's catalyst, Ashby (Ash
by) US Patents 3,159,601 and 31,596
No. 62, as well as the platinum-hydrocarbon complex described in Lamoreaux.
Platinum alcoholate catalysts described in U.S. Pat. No. 2,209,72. In addition, Modic
Platinum chloride-olefin complexes described in U.S. Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.

【0071】また、白金化合物以外の触媒の例として
は、RhCl(PPh)、RhCl、RhAl
、RuCl、IrCl、FeCl、AlC
、PdCl・2HO、NiCl、TiC
、などが挙げられる。これらの中では、触媒活性の
点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニ
ルシロキサン錯体などが好ましい。また、これらの触媒
は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , and RhAl 2 O
3 , RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlC
l 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiC
l 4, and the like. Among these, chloroplatinic acid, a platinum-olefin complex, a platinum-vinylsiloxane complex and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

【0072】触媒の添加量は特に限定されないが、十分
な硬化性を有し、かつ硬化性組成物のコストを比較的低
く抑えるために、(B)成分のSiH基1モルに対し
て、10 −1〜10−8モルの範囲が好ましく、より好
ましくは、10−2〜10−6モルの範囲である。
The amount of the catalyst to be added is not particularly limited.
Curability and the cost of the curable composition is relatively low
(B) component 1 mole of SiH group
Ten -1-10-8The molar range is preferred, more preferably
Preferably 10-2-10-6Range of moles.

【0073】また、上記触媒には助触媒を併用すること
が可能であり、例としてトリフェニルホスフィンなどの
リン系化合物、ジメチルマレエートなどの1,2−ジエ
ステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブ
チンなどのアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄
などの硫黄系化合物、トリエチルアミンなどのアミン系
化合物などが挙げられる。助触媒の添加量は特に限定さ
れないが、触媒1モルに対して、10−2〜10モル
の範囲が好ましく、より好ましくは10−1〜10モル
の範囲である。
Further, a co-catalyst can be used in combination with the above-mentioned catalyst, and examples thereof include a phosphorus compound such as triphenylphosphine, a 1,2-diester compound such as dimethyl maleate, and 2-hydroxy-2-ester. Examples include acetylene alcohol compounds such as methyl-1-butyne, sulfur compounds such as simple sulfur, and amine compounds such as triethylamine. The addition amount of the co-catalyst is not particularly limited, the catalyst 1 mol, preferably 10-2 to 2 mols, more preferably from 10 -1 to 10 mol.

【0074】本発明の組成物には(D)成分として硬化
遅延剤を使用することができる。硬化遅延剤としては、
脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、
有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有
機過酸化物などが挙げられ、これらを併用してもかまわ
ない。
In the composition of the present invention, a curing retarder can be used as the component (D). As a curing retarder,
A compound containing an aliphatic unsaturated bond, an organic phosphorus compound,
Examples thereof include organic sulfur compounds, nitrogen-containing compounds, tin-based compounds, and organic peroxides, and these may be used in combination.

【0075】脂肪族不飽和結合を含有する化合物とし
て、プロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、マ
レイン酸エステル類などが例示される。有機リン化合物
としては、トリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフ
ォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノ
フォスファイト類などが例示される。
Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include propargyl alcohols, ene-yne compounds, and maleic esters. Examples of the organic phosphorus compound include triorganophosphines, diorganophosphines, organophosphones, and triorganophosphites.

【0076】有機イオウ化合物としては、オルガノメル
カプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、チア
ゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾールジサルフ
ァイドなどが例示される。窒素含有化合物としては、ア
ンモニア、テトラメチルエチレンジアミンなどの1〜3
級アルキルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒドラ
ジンなどが例示される。
Examples of the organic sulfur compound include organomercaptans, diorganosulfides, hydrogen sulfide, thiazole, benzothiazole, benzothiazole disulfide and the like. Examples of the nitrogen-containing compound include ammonia, tetramethylethylenediamine, and the like.
Examples include secondary alkylamines, arylamines, urea, hydrazine and the like.

【0077】スズ系化合物としては、ハロゲン化第一ス
ズ2水和物、カルボン酸第一スズなどが例示される。有
機過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジ
クミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息
香酸t−ブチルなどが例示される。
Examples of the tin compound include stannous halide dihydrate, stannous carboxylate and the like. Examples of the organic peroxide include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.

【0078】これらの硬化遅延剤のうち、遅延活性が良
好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾ
ール、チアゾール、ジメチルマレート、3−ヒドロキシ
−3−メチル−1−ブチンが好ましい。高温での遅延活
性が良好であるという観点からは、テトラメチルエチレ
ンジアミン等のアルキルアミン類が好ましい。
Among these curing retarders, benzothiazole, thiazole, dimethylmalate, and 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne are preferred from the viewpoint of good retarding activity and good raw material availability. From the viewpoint of good delay activity at high temperatures, alkylamines such as tetramethylethylenediamine are preferred.

【0079】これらの硬化遅延剤は単独で用いることも
できるし、いくつかのものを併用することもできる。硬
化遅延剤の添加量は、使用するヒドロシリル化触媒
(C)1molに対し、10−1〜10モルの範囲が
好ましい。
These curing retarders can be used alone or in combination. Amount of the curing retarder, with respect to the hydrosilylation catalyst (C) 1 mol to be used, preferably 10 -1 to 10 3 mols.

【0080】本発明の硬化性組成物は、上記したような
(A)〜(C)成分あるいは(A)〜(D)成分を混合
し、該混合物中のヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重
結合およびSiH基のそれぞれ一部をあらかじめヒドロ
シリル化反応により反応させて得ることができる。この
場合、ヒドロシリル化反応は、単に各成分を混合するの
みでも進行させることができるが、加熱によっても進行
させることができる。反応のコントロール性が良いとい
う観点からは、加熱によって反応を進行させることが好
ましい。この場合の反応温度としては反応速度に応じて
適宜設定できるが、たとえば50〜200℃の温度が適
用できる。反応温度は反応中において一定であっても良
いし、必要に応じて経時的に変化させても良い。
The curable composition of the present invention is obtained by mixing the components (A) to (C) or the components (A) to (D) as described above, and forming a hydrosilylatable carbon-carbon double in the mixture. It can be obtained by reacting each of the bond and a part of the SiH group in advance by a hydrosilylation reaction. In this case, the hydrosilylation reaction can be advanced by simply mixing the components, but can also be advanced by heating. From the viewpoint of good controllability of the reaction, the reaction is preferably advanced by heating. The reaction temperature in this case can be appropriately set according to the reaction rate, but for example, a temperature of 50 to 200 ° C. can be applied. The reaction temperature may be constant during the reaction, or may be changed over time as needed.

【0081】このヒドロシリル化反応を実施する場合に
は、各種溶媒を使用しても良い。溶媒を使用した場合に
は反応の進行が穏やかとなり制御が容易となり易い。こ
の場合各種の溶媒を使用できるが、例を挙げると、ベン
ゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素系
溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,
3−ジオキソラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶
媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエ
タンなどのハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドが挙げられる。溶媒は2種類以上の混合溶媒とし
て用いることもできる。溶媒としては、反応性が良好で
あるという観点からトルエン、1,3−ジオキソラン、
テトラヒドロフラン、クロロホルムが好ましい。使用す
る溶媒量も特に制限されないが、用いる(A)〜(C)
成分あるいは(A)〜(D)成分の合計1gに対し、1
0mL以下の範囲で用いるのが製造コストが低くなると
いう観点から好ましい。
In carrying out the hydrosilylation reaction, various solvents may be used. When a solvent is used, the progress of the reaction becomes gentle and the control is easily performed. In this case, various solvents can be used. Examples thereof include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, and heptane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane,
Examples include ether solvents such as 3-dioxolan and diethyl ether, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, halogen solvents such as chloroform, methylene chloride and 1,2-dichloroethane, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, dimethylformamide and dimethylacetamide. . The solvent can be used as a mixed solvent of two or more kinds. As the solvent, from the viewpoint of good reactivity, toluene, 1,3-dioxolan,
Tetrahydrofuran and chloroform are preferred. Although the amount of the solvent used is not particularly limited, it is used (A) to (C).
For 1 g of the total of the components or the components (A) to (D), 1
Use in the range of 0 mL or less is preferable from the viewpoint that the production cost is reduced.

【0082】本発明の硬化性組成物はヒドロシリル化可
能な炭素−炭素二重結合およびSiH基を含む。従っ
て、(A)成分中のヒドロシリル化可能な炭素−炭素二
重結合と(B)成分中のSiH基の全てを反応させず、
それぞれの一部が反応した時点で反応を実質的に停止さ
せる。この場合の反応の停止とは、本発明の硬化性組成
物の貯蔵に問題がない程度(例えば、室温/24時間で
組成物中に残留しているSiH基の10%以下が消費さ
れる程度)に反応速度を低下させた状態も含む。この場
合の反応を停止させる方法としては、温度を低下させる
ことによることもできるし、硬化遅延剤を添加すること
によることもできる。温度を低下させることにより反応
を停止させる場合は、室温より高温でヒドロシリル化反
応を実施し、これを例えば10〜30℃の室温まで低下
させることが、硬化性組成物の貯蔵安定性が良好である
という観点から好ましい。硬化遅延剤を添加することに
より反応を停止させる場合は、好ましい硬化遅延剤の種
類、添加量等は、上記(D)成分の好ましい種類、添加
量と同じである。
The curable composition of the present invention contains a hydrosilylatable carbon-carbon double bond and a SiH group. Therefore, the hydrosilylatable carbon-carbon double bond in the component (A) and all of the SiH groups in the component (B) are not reacted,
The reaction is substantially stopped when a portion of each has reacted. In this case, the terminating of the reaction means the extent that there is no problem in storage of the curable composition of the present invention (for example, the extent that 10% or less of the SiH groups remaining in the composition is consumed at room temperature / 24 hours). ) Includes the state where the reaction rate is reduced. In this case, the reaction can be stopped by lowering the temperature or by adding a curing retarder. When the reaction is stopped by lowering the temperature, the hydrosilylation reaction is carried out at a temperature higher than room temperature, and this is lowered to room temperature of, for example, 10 to 30 ° C., so that the storage stability of the curable composition is good. It is preferable from the viewpoint that there is. When the reaction is stopped by adding a curing retarder, the preferred type and amount of the curing retarder are the same as the preferred type and amount of the component (D).

【0083】反応を停止させる時期は、得られる硬化性
組成物がゲル化しない範囲で特に制限されないが、
(A)成分中のヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結
合の数の80%以下のヒドロシリル化可能な炭素−炭素
二重結合および(B)成分中のSiH基の数の80%以
下のSiH基が反応した時期に停止させることが好まし
く、(A)成分中のヒドロシリル化可能な炭素−炭素二
重結合の数の60%以下のヒドロシリル化可能な炭素−
炭素二重結合および(B)成分中のSiH基の数の60
%以下のSiH基が反応した時期に停止させることがよ
り好ましく、(A)成分中のヒドロシリル化可能な炭素
−炭素二重結合の数の3〜60%のヒドロシリル化可能
な炭素−炭素二重結合および(B)成分中のSiH基の
数の60%以下のSiH基が反応した時期に停止させる
ことがさらに好ましく、(A)成分中のヒドロシリル化
可能な炭素−炭素二重結合の数の3〜60%のヒドロシ
リル化可能な炭素−炭素二重結合および(B)成分中の
SiH基の数の3〜60%のSiH基が反応した時期に
停止させることが最も好ましい。反応を停止させる時期
が早すぎると相溶性等の十分な効果が得られず、遅すぎ
ると貯蔵期間中のゲル化の危険性が高くなるため好まし
くない。
The time for stopping the reaction is not particularly limited as long as the curable composition obtained does not gel, but
80% or less of the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in component (A) and 80% or less of SiH groups in component (B) It is preferable to terminate the reaction at the time when the group has reacted, and it is preferable that 60% or less of the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in the component (A) be a hydrosilylatable carbon.
60 of the number of carbon double bonds and SiH groups in component (B)
%, More preferably 3 to 60% of the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in component (A). More preferably, the reaction is terminated at the time when 60% or less of the number of SiH groups in the component (B) and the number of SiH groups in the component (B) have reacted. Most preferably, the reaction is stopped when 3 to 60% of the hydrosilylatable carbon-carbon double bonds and 3 to 60% of the number of SiH groups in the component (B) have reacted. If the timing for stopping the reaction is too early, sufficient effects such as compatibility cannot be obtained, and if it is too late, the risk of gelation during the storage period increases, which is not preferable.

【0084】この場合のヒドロシリル化可能な炭素−炭
素二重結合の数及びSiH基の数は、例えば、核磁気共
鳴装置(NMR)、赤外吸収(IR)等の分光学的方法
によって分析、定量することができるし、ガスクロマト
グラフィー(GC)、液体クロマトグラフィー(L
C)、薄層クロマトグラフィー(TLC)、分子ふるい
クロマトグラフィー(GPC)等の分離分析によっても
分析、定量することができる。その他にも屈折率、粘
度、タック等の間接的、経験的な方法によっても判定す
ることができる。
In this case, the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds and the number of SiH groups are analyzed by, for example, a spectroscopic method such as nuclear magnetic resonance (NMR) and infrared absorption (IR). It can be quantified and can be analyzed by gas chromatography (GC), liquid chromatography (L
It can also be analyzed and quantified by separation analysis such as C), thin layer chromatography (TLC), and molecular sieve chromatography (GPC). In addition, it can also be determined by an indirect or empirical method such as refractive index, viscosity, and tack.

【0085】上記のようにヒドロシリル化反応を停止さ
せた後に、未反応の(A)成分及び/又は未反応の
(B)成分を除去することもできる。未反応の(A)成
分及び/又は未反応の(B)成分が硬化性組成物中に残
留していると、相溶性が悪くなったり、これらの成分の
揮発性により硬化時にボイドが発生しやすくなる等の観
点から好ましくない。この場合、未反応の(A)成分及
び/又は未反応の(B)成分が硬化性組成物のそれぞれ
10重量%以下となるように除去することが好ましく、
それぞれ5重量%以下となるように除去することがより
好ましく、それぞれ1重量%以下となるように除去する
ことがさらに好ましい。なお、本明細書において、「未
反応の(A)成分」又は「未反応の(B)成分」とは、
各成分が分子中に有する複数の「ヒドロシリル化可能な
炭素−炭素二重結合」又は「SiH基」のいずれもが全
くヒドロシリル化反応していないもののことをいう。複
数の「ヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合」又は
「SiH基」のうちいずれか1つでも反応しているもの
は、「未反応」ではない。
After terminating the hydrosilylation reaction as described above, the unreacted component (A) and / or unreacted component (B) can be removed. If the unreacted component (A) and / or the unreacted component (B) remain in the curable composition, the compatibility becomes poor or voids are generated during curing due to the volatility of these components. It is not preferable from the viewpoint that it becomes easy. In this case, it is preferable to remove the unreacted component (A) and / or the unreacted component (B) so that each content of the uncured component is 10% by weight or less of the curable composition.
It is more preferable to remove each so as to be 5% by weight or less, and it is even more preferable to remove each so as to be 1% by weight or less. In the present specification, the “unreacted (A) component” or “unreacted (B) component”
It means that none of a plurality of "hydrosilylatable carbon-carbon double bonds" or "SiH groups" that each component has in the molecule has undergone any hydrosilylation reaction. Those that have reacted with any one of a plurality of “hydrosilylatable carbon-carbon double bonds” or “SiH groups” are not “unreacted”.

【0086】除去する方法としては種々の方法を用いる
ことができる。例えば、常圧あるいは例えば0.1〜1
0torr等の減圧状態での脱揮による方法、活性炭、
シリカゲル、ケイ酸アルミニウム、イオン交換樹脂等の
各種吸着体による処理による方法、水、各種有機溶媒等
による抽出による方法等が挙げられる。これらの内、工
業的実用性が高いという観点から脱揮による方法が好ま
しい。
Various methods can be used for the removal. For example, normal pressure or, for example, 0.1 to 1
Devolatilization under reduced pressure such as 0 torr, activated carbon,
Examples thereof include a method by treatment with various adsorbents such as silica gel, aluminum silicate, and ion exchange resin, and a method by extraction with water, various organic solvents, and the like. Of these, a method based on devolatilization is preferred from the viewpoint of high industrial practicality.

【0087】本発明の硬化性組成物中のヒドロシリル化
可能な炭素−炭素二重結合の数(W)と、SiH基の数
(Z)との比は、2≧W/Z≧0.5であることが好ま
しい。W/Z>2、あるいは0.5>W/Zの場合は、
十分な硬化性が得られず、充分な強度が得られない場合
があり、耐熱性も低くなりうる。
The ratio of the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds (W) to the number of SiH groups (Z) in the curable composition of the present invention is 2 ≧ W / Z ≧ 0.5 It is preferred that If W / Z> 2 or 0.5> W / Z,
In some cases, sufficient curability cannot be obtained, sufficient strength cannot be obtained, and heat resistance can be lowered.

【0088】以上のような操作は、硬化性組成物の成形
前に実施することもできるし、予備成形後に実施するこ
ともできる。例えば、あらかじめ原料混合物あるいは本
発明の硬化性組成物を流延法キャスト成形して薄膜状と
した後、上記のヒドロシリル化反応を初めて又は再度実
施させて本発明の硬化性組成物とし、さらにプレス成形
により被着体との接着等の成形操作を実施することもで
きる。
The above operation can be performed before molding the curable composition, or can be performed after preliminary molding. For example, after the raw material mixture or the curable composition of the present invention is cast into a thin film by casting, the above-mentioned hydrosilylation reaction is performed for the first time or again to obtain the curable composition of the present invention. A molding operation such as adhesion to an adherend can be performed by molding.

【0089】本発明の硬化性組成物には必要に応じて無
機フィラーを添加してもよい。無機フィラーを添加する
と、線膨張係数の低減化、材料の高強度化に効果があ
る。無機フィラーとしては、溶融シリカ、結晶性シリ
カ、超微粉無定型シリカ、疎水性超微粉シリカ、球状シ
リカなどのシリカ類、アルミナ、水酸化アルミニウム、
タルク、硫酸バリウムなどを挙げることができる。これ
らのうち硬化反応を阻害し難く、線膨張係数の低減化効
果が大きいという観点からシリカ類が好ましく、添加し
た場合の粘度が低くなるという観点から球状シリカがさ
らに好ましい。
The curable composition of the present invention may optionally contain an inorganic filler. The addition of the inorganic filler is effective in reducing the coefficient of linear expansion and increasing the strength of the material. As the inorganic filler, fused silica, crystalline silica, ultrafine amorphous silica, hydrophobic ultrafine silica, silica such as spherical silica, alumina, aluminum hydroxide,
Examples include talc and barium sulfate. Among these, silicas are preferred from the viewpoint that they hardly inhibit the curing reaction and the effect of reducing the linear expansion coefficient is large, and spherical silica is more preferred from the viewpoint that the viscosity when added is low.

【0090】電子材料用途に使用する場合等には、電子
回路の保護のためにこれらの無機フィラーは低放射線性
であることが好ましい。無機フィラーの添加量はとくに
限定されないが、線膨張係数の低減化効果が高く、かつ
組成物の流動性が良好であるという観点から、全組成物
中の50〜80重量%であることが好ましい。
When used for electronic materials, etc., these inorganic fillers preferably have low radiation properties to protect electronic circuits. The amount of the inorganic filler to be added is not particularly limited, but is preferably 50 to 80% by weight of the entire composition from the viewpoint that the effect of reducing the coefficient of linear expansion is high and the fluidity of the composition is good. .

【0091】また更に、本発明の硬化性組成物の特性を
改質する目的で、種々の樹脂を添加することも可能であ
る。樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテ
ルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、
シアナート樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリ
イミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ウレタン樹脂
及びポリエステル樹脂シリコーン樹脂などが例示される
がこれに限定されるものではない。樹脂としては各種エ
ラストマーも添加することができる。
Further, for the purpose of improving the properties of the curable composition of the present invention, various resins can be added. As the resin, polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, epoxy resin,
Examples thereof include a cyanate resin, a phenol resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a polyvinyl acetal resin, a urethane resin, a polyester resin, and a silicone resin, but are not limited thereto. Various elastomers can be added as the resin.

【0092】本発明の硬化性組成物をそのまま使用する
ことも可能であるが、低粘度化などの目的で溶剤を添加
することもできる。使用できる溶剤は特に限定されるも
のではなく、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素系溶媒、テトラ
ヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソ
ラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、クロロホ
ルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタンなどのハ
ロゲン系溶媒を好適に用いることができる。溶媒は2種
類以上の混合溶媒として用いることもできる。溶媒とし
ては、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキ
ソラン、クロロホルムが溶解性等の観点から好ましい。
使用する溶媒量は、用いる(A)成分1gに対し、0〜
10mLの範囲で用いるのが好ましく、0.5〜5mL
の範囲で用いるのがさらに好ましく、1〜3mLの範囲
で用いるのが特に好ましい。使用量が少ないと、低粘度
化などの溶媒を用いることの効果が得られにくく、ま
た、使用量が多いと、材料に溶剤が残留して熱クラック
などの問題となり易く、またコスト的にも不利になり工
業的利用価値が低下する。
The curable composition of the present invention can be used as it is, but a solvent can be added for the purpose of lowering the viscosity. Solvents that can be used are not particularly limited, and specific examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, and heptane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolan, and diethyl ether. Ether solvents, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and halogen solvents such as chloroform, methylene chloride and 1,2-dichloroethane can be suitably used. The solvent can be used as a mixed solvent of two or more kinds. As the solvent, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolan, and chloroform are preferred from the viewpoint of solubility and the like.
The amount of the solvent used is 0 to 1 g of the component (A) used.
Preferably used in the range of 10 mL, 0.5-5 mL
Is more preferably used, and particularly preferably used in the range of 1 to 3 mL. If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of using a solvent such as lowering the viscosity, and if the amount used is large, the solvent tends to remain in the material, easily causing problems such as thermal cracks, and also in terms of cost. It is disadvantageous and reduces the industrial use value.

【0093】本発明の硬化性組成物には、接着性を付与
するなどの目的のためカップリング剤を添加することも
できる。カップリング剤としては、例えば、分子中にエ
ポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート
基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基、
SiH基からなる群より選択される少なくとも1個の官
能基と、ケイ素原子結合アルコキシ基を有するシランカ
ップリング剤を用いることができる。上記官能基につい
ては、中でも、硬化性及び接着性の点から、分子中にエ
ポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。
The curable composition of the present invention may contain a coupling agent for the purpose of imparting adhesiveness. Examples of the coupling agent include an epoxy group, a methacryl group, an acryl group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a vinyl group, a carbamate group,
A silane coupling agent having at least one functional group selected from the group consisting of SiH groups and a silicon-bonded alkoxy group can be used. Among the above functional groups, an epoxy group, a methacryl group, and an acryl group are particularly preferable in the molecule from the viewpoint of curability and adhesiveness.

【0094】具体的に例示すると、エポキシ官能基とケ
イ素原子結合アルコキシ基を有する有機ケイ素化合物と
しては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメト
キシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
エチルトリエトキシシランが挙げられる。また、メタク
リル基あるいはアクリル基とケイ素原子結合アルコキシ
基を有する有機ケイ素化合物としては、3−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシ
プロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリ
エトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシ
ラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アク
リロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチ
ルトリエトキシシランが挙げられる。これらのうち硬化
性を特に阻害せず接着性付与効果が高いという観点か
ら、エポキシ官能基とケイ素原子結合アルコキシ基を有
するシランカップリング剤が好ましく用いられる。具体
的には、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
が特に好ましく用いられる。これらのカップリング剤
は、単独で使用してもよいし、2種類以上を混合して使
用することもできる。
Specifically, examples of the organosilicon compound having an epoxy functional group and a silicon-bonded alkoxy group include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 2-glycidoxypropyltriethoxysilane.
-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl)
Ethyltriethoxysilane is mentioned. Examples of the organosilicon compound having a methacryl group or an acryl group and a silicon-bonded alkoxy group include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, Acryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, acryloxymethyltrimethoxysilane, acryloxymethyltriethoxysilane are exemplified. Of these, a silane coupling agent having an epoxy functional group and a silicon-bonded alkoxy group is preferably used from the viewpoint that the curability is not particularly hindered and the adhesion-imparting effect is high. Specifically, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane is particularly preferably used. These coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

【0095】本発明の硬化性組成物には、その他、老化
防止剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良
剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定改良剤、オゾン劣化
防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、酸化防止剤、熱安
定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核
剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化
剤、物性調整剤などを本発明の目的および効果を損なわ
ない範囲において添加することができる。
The curable composition of the present invention further comprises an antioxidant, a radical inhibitor, an ultraviolet absorber, an adhesion improver, a flame retardant, a surfactant, a storage stability improver, an ozone deterioration inhibitor, Stabilizer, thickener, plasticizer, antioxidant, heat stabilizer, conductivity-imparting agent, antistatic agent, radiation blocking agent, nucleating agent, phosphorus-based peroxide decomposer, lubricant, pigment, metal deactivator Agents, physical property modifiers, and the like can be added to the extent that the objects and effects of the present invention are not impaired.

【0096】本発明の硬化性組成物としては上記したよ
うに各種組み合わせのものが使用できるが、耐熱性が良
好であるという観点から、組成物を硬化させて得られる
硬化物のTgが50℃以上となるものが好ましく、10
0℃以上となるものがさらに好ましく、150℃以上と
なるものが特に好ましい。この場合、Tgは例えば粘弾
性測定によるtanδのピーク温度によって求めること
ができる。
As the curable composition of the present invention, various combinations can be used as described above. From the viewpoint of good heat resistance, the cured product obtained by curing the composition has a Tg of 50 ° C. It is preferable that the above be satisfied.
Those having a temperature of 0 ° C or higher are more preferable, and those having a temperature of 150 ° C or higher are particularly preferable. In this case, Tg can be determined, for example, from the peak temperature of tan δ measured by viscoelasticity.

【0097】本発明の硬化性組成物は、均一であり適当
な粘度および溶融特性を有しており成形性が良好である
ため、各種成形方法によって好適に成形できる。具体的
な成形方法としては例えば、セルキャスト、流延法キャ
スト等のキャスト成形、プレス成形、射出成形、トラン
スファー成形、ポッティング成形、ディッピング成形、
あるいはスクリーン印刷もできる。また、ディスペンス
した後隙間に浸透させる方法(例えば半導体用アンダー
フィル等に用いられる)によっても成形することができ
る。プレス成形としては、例えばガラスクロス、カーボ
ンクロス等の繊維に原料混合物あるいは本発明の硬化性
組成物を含浸させた後、必要に応じてさらにヒドロシリ
ル化反応を進行させ、得られたプリプレグをプレス成形
する方法によっても成形することができる。
The curable composition of the present invention is uniform, has appropriate viscosity and melting characteristics, and has good moldability, and can be suitably molded by various molding methods. Specific molding methods include, for example, cast molding such as cell casting and casting method, press molding, injection molding, transfer molding, potting molding, dipping molding,
Alternatively, screen printing can be performed. Further, it can also be formed by a method of dispensing and then penetrating into gaps (for example, used for underfill for semiconductors and the like). As the press molding, for example, after impregnating the raw material mixture or the curable composition of the present invention into fibers such as glass cloth and carbon cloth, the hydrosilylation reaction is further advanced as necessary, and the obtained prepreg is press-molded. It can also be molded by the method described below.

【0098】成形時に必要に応じ各種処理を施すことも
できる。例えば、成形時に発生するボイドの抑制のため
に組成物を遠心、減圧などによりあらかじめ脱泡する処
理などを適用することもできるし、プレス成形時のガス
抜き工程や、各種成形を減圧状態で実施することなど、
成形時の脱泡処理も適用できる。
Various processes can be performed as required during molding. For example, in order to suppress voids generated during molding, it is possible to apply a process of defoaming the composition in advance by centrifugation, decompression, etc., and to perform a degassing step during press molding and various moldings under reduced pressure. To do
Defoaming treatment during molding can also be applied.

【0099】本発明の硬化性組成物は必要な成形を行っ
た後、硬化させて硬化物とすることができる。硬化させ
る方法としては、一般に加熱によって実施できる。この
場合の加熱は熱風や成形型の加熱により直接熱により加
熱する方法の他、赤外線等の光による加熱も可能であ
る。
The curable composition of the present invention can be cured to obtain a cured product after performing necessary molding. The method of curing can be generally carried out by heating. The heating in this case may be heating by direct heat by heating with hot air or a mold, or heating by light such as infrared light.

【0100】反応温度としては種々設定できるが、例え
ば30〜300℃の温度が適用でき、100〜250℃
がより好ましく、150〜200℃がさらに好ましい。
反応温度が低いと十分に反応させるための反応時間が長
くなり、反応温度が高いと成形加工が困難となりやす
い。
The reaction temperature can be variously set. For example, a temperature of 30 to 300 ° C. can be applied, and a temperature of 100 to 250 ° C.
Is more preferable, and 150 to 200C is further preferable.
When the reaction temperature is low, the reaction time for causing a sufficient reaction is prolonged, and when the reaction temperature is high, molding tends to be difficult.

【0101】反応は一定の温度で行ってもよいが、必要
に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよ
い。反応時間も種々設定できる。反応時の圧力も必要に
応じ種々設定でき、常圧、高圧、あるいは減圧状態で反
応させることもできる。
The reaction may be carried out at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as needed. The reaction time can also be set variously. The pressure during the reaction can be variously set as required, and the reaction can be performed at normal pressure, high pressure, or reduced pressure.

【0102】本反応の硬化性組成物は各種用途に好適に
使用することができる。用途としてはエポキシ樹脂等の
熱硬化性樹脂が使用される一般の用途が挙げられ、例え
ば、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料(シー
ト、フィルム、FRP等を含む)、絶縁材料(プリント
基板、電線被覆等を含む)、封止剤の他、他樹脂等への
添加剤等が挙げられる。
The curable composition of this reaction can be suitably used for various applications. Examples of the use include general use in which a thermosetting resin such as an epoxy resin is used. Examples of the use include an adhesive, a paint, a coating agent, a molding material (including a sheet, a film, and an FRP), and an insulating material (a printed circuit board). , An electric wire covering, etc.), a sealant, and additives to other resins and the like.

【0103】接着剤としては、土木用、建築用、自動車
用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接
着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤と
しては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、
ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着
剤、BGA補強用アンダーフィル、異方性導電性フィル
ム(ACF)、異方性導電性ペースト(ACP)等の実
装用接着剤等が挙げられる。
Examples of the adhesive include adhesives for electronic materials, in addition to adhesives for civil engineering, construction, automobiles, general affairs, and medical care. Among these, adhesives for electronic materials include interlayer adhesives for multilayer boards such as build-up boards,
Die bonding agents, adhesives for semiconductors such as underfills, BGA reinforcing underfills, mounting adhesives such as anisotropic conductive films (ACF), anisotropic conductive pastes (ACP), and the like.

【0104】封止剤としては、コンデンサ、トランジス
タ、ダイオード、発光ダイオード、IC、LSIなど用
のポッティング、ディッピング、トランスファーモール
ド封止、IC、LSI類のCOB、COF、TABとい
ったポッティング封止、フリップチップなどの用のアン
ダーフィル、BGA、CSPなどのICパッケージ類実
装時の封止(補強用アンダーフィル)などを挙げること
ができる。
Examples of the sealing agent include potting for capacitors, transistors, diodes, light emitting diodes, ICs, LSIs, etc., dipping, transfer mold sealing, potting sealings for ICs and LSIs such as COB, COF, TAB, and flip chips. And sealing (reinforcement underfill) when mounting IC packages such as BGA and CSP.

【0105】[0105]

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示す
が、本発明は以下によって限定されるものではない。 (合成例1)2Lの4つ口フラスコに、撹拌装置、冷却
管、滴下漏斗をセットした。このフラスコに、窒素雰囲
気下、下式
EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by the following. (Synthesis Example 1) A stirrer, a condenser, and a dropping funnel were set in a 2 L four-necked flask. In this flask, under a nitrogen atmosphere, the following formula

【0106】[0106]

【化22】 Embedded image

【0107】で表される化合物120gおよびジメチル
ホルムアミド560gを入れて室温で撹拌し溶解させ
た。攪拌下、反応液温20℃にてアリルアミン24.5
gを滴下漏斗から約15分かけて滴下した。この操作に
より反応液温は50℃まで上昇した。そのまま室温雰囲
気下に1時間攪拌した後、無水酢酸86g、β−ピコリ
ン50gを加えた。オイルバス中で、内温100℃にて
1時間加熱攪拌した。放冷後得られたオレンジ色の溶液
を、激しく攪拌した3Lのメタノール中に徐々に注ぎ込
み反応生成物を再沈殿させた。得られたベージュ色の固
体をろ別し、200mLのメタノールで3回リスラリー
洗浄した。得られた個体を1torr以下の真空下10
0℃に加熱した真空乾燥器内で乾燥し、105gの固体
として生成物を得た。H−NMRにより、下式
120 g of the compound represented by the formula and 560 g of dimethylformamide were added and dissolved by stirring at room temperature. Allylamine 24.5 at a reaction liquid temperature of 20 ° C. was stirred.
g was dropped from the dropping funnel over about 15 minutes. By this operation, the temperature of the reaction solution was raised to 50 ° C. After stirring for 1 hour in a room temperature atmosphere, 86 g of acetic anhydride and 50 g of β-picoline were added. The mixture was heated and stirred at an internal temperature of 100 ° C. for 1 hour in an oil bath. After cooling, the resulting orange solution was slowly poured into 3 L of vigorously stirred methanol to reprecipitate the reaction product. The obtained beige solid was separated by filtration and reslurried and washed three times with 200 mL of methanol. The obtained solid was placed under a vacuum of 1 torr or less for 10
Drying in a vacuum oven heated to 0 ° C. afforded the product as a solid, 105 g. According to 1 H-NMR, the following formula

【0108】[0108]

【化23】 Embedded image

【0109】で表される化合物(化合物Aと称す)とわ
かった。
(Compound A) was obtained.

【0110】(合成例2)200mLのナスフラスコに
合成例1で合成した化合物A10.0g、1,3,5,
7−テトラメチルシクロテトラシロキサン18.3g、
トルエン100gを入れ室温にて攪拌した。得られたス
ラリーに白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白
金として3wt%含有)23.0μLを添加し、70℃
のオイルバス中で90分加熱攪拌した。この間、反応液
は徐々に透明均一の状態となった。放冷後、ベンゾチア
ゾール7.0mgを添加した。得られた溶液を1tor
r以下の真空下にエバポレートして揮発分(溶媒および
未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン)を除去して赤褐色の粘性液体を得た。H−
NMRにより、下式
(Synthesis Example 2) 10.0 g of the compound A synthesized in Synthesis Example 1, 1, 3, 5,
18.3 g of 7-tetramethylcyclotetrasiloxane,
100 g of toluene was added and stirred at room temperature. 23.0 μL of a xylene solution of platinum vinyl siloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added to the obtained slurry, and 70 ° C.
The mixture was heated and stirred in an oil bath for 90 minutes. During this time, the reaction liquid gradually became transparent and uniform. After cooling, 7.0 mg of benzothiazole was added. 1 Torr of the resulting solution
Evaporation was performed under a vacuum of r or less to remove volatiles (solvent and unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane) to obtain a red-brown viscous liquid. 1 H-
According to NMR, the following formula

【0111】[0111]

【化24】 Embedded image

【0112】で表される化合物(化合物Bと称す)と推
定された。
(Compound B).

【0113】(実施例1)50mLナスフラスコに化合
物A3.0gおよび1,3,5,7−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン(沸点135℃)0.83gを入れ
た(ここでY/Xは1.5である)。この混合物を室温
で混合したが、相溶することはなくスラリー状態となっ
た。この混合物にさらにトルエン30gを加えて室温で
混合したが、やはりスラリー状態となった。得られたス
ラリーに、攪拌下、白金ビニルシロキサン錯体のキシレ
ン溶液(白金として3wt%含有)6.0μLを添加し
た。フラスコにコンデンサーを設置し、窒素下、70℃
のオイルバス中で加熱攪拌した。加熱しても初期は反応
液はスラリー状態を保ったが、30分後に反応液は透明
になった。60分後に反応液のうち約1mLを抜き取
り、1torr以下の減圧下で50℃で15分間エバポ
レートして揮発分を除去したところ透明均一の硬化性組
成物が得られた。これをNMR分析したところ、最初に
加えた化合物Aのアリル基のうち10%、最初に加えた
1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン
のSiH基のうち7%がヒドロシリル化反応しているこ
とがわかった。
Example 1 A 50 mL eggplant-shaped flask was charged with 3.0 g of Compound A and 0.83 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane (boiling point 135 ° C.) (where Y / X is 1. 5). The mixture was mixed at room temperature, but did not dissolve and became a slurry. 30 g of toluene was further added to this mixture and mixed at room temperature, but again in a slurry state. 6.0 μL of a xylene solution of platinum vinyl siloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added to the obtained slurry under stirring. Place the condenser in the flask, under nitrogen, 70 ° C
And heated and stirred in an oil bath. The reaction liquid maintained a slurry state at the beginning even after heating, but the reaction liquid became transparent after 30 minutes. After 60 minutes, about 1 mL of the reaction solution was withdrawn and evaporated at 50 ° C. for 15 minutes under reduced pressure of 1 torr or less to remove volatile components, whereby a transparent and uniform curable composition was obtained. NMR analysis showed that 10% of the allyl group of compound A added first and 7% of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane added first had hydrosilylation reaction. I understood that.

【0114】(実施例2)実施例1で得られた硬化性組
成物についてさらに反応を継続し、加熱開始から120
分後にオイルバスの温度を80℃に昇温し、さらに60
分加熱攪拌した。得られた反応液をエバポレートして揮
発分を除去したところ、透明均一の硬化性組成物が得ら
れた。これをNMR分析したところ、最初に加えた化合
物Aのアリル基のうち25%、最初に加えた1,3,
5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH
基のうち17%がヒドロシリル化反応していることがわ
かった。この硬化性組成物をガスクロマトグラフィーで
分析したところ、未反応の1,3,5,7−テトラメチ
ルシクロテトラシロキサンの含有量は0.1重量%以下
であった。
(Example 2) The curable composition obtained in Example 1 was further reacted, and the reaction was continued for 120 minutes from the start of heating.
After one minute, raise the temperature of the oil bath to 80 ° C.
The mixture was heated and stirred for minutes. When the obtained reaction liquid was evaporated to remove volatile components, a transparent and uniform curable composition was obtained. When this was analyzed by NMR, 25% of the allyl group of the compound A added first, 1,3
SiH of 5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane
It was found that 17% of the groups had undergone a hydrosilylation reaction. When this curable composition was analyzed by gas chromatography, the content of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.1% by weight or less.

【0115】(実施例3)100mLナスフラスコに化
合物A3.0g、1,3,5,7−テトラメチルシクロ
テトラシロキサン5.5g、およびトルエン30gを加
えた(ここでY/Xは10である)。得られたスラリー
に、攪拌下、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液
(白金として3wt%含有)6.9μLを添加した。フ
ラスコにコンデンサーを設置し、窒素下、50℃のオイ
ルバス中で50分、65℃のオイルバス中で10分、7
0℃のオイルバス中で30分加熱攪拌した。この間に反
応液は透明になった。得られた反応液にベンゾチアゾー
ル37mgを加えた後、1torr以下の減圧下で50
℃で15分間エバポレートして揮発分を除去したところ
透明均一の硬化性組成物が得られた。これをNMR分析
したところ、最初に加えた化合物Aのアリル基のうち2
7%、最初に加えた1,3,5,7−テトラメチルシク
ロテトラシロキサンのSiH基のうち3%がヒドロシリ
ル化反応していることがわかった。
Example 3 A 100 mL eggplant-shaped flask was charged with 3.0 g of Compound A, 5.5 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, and 30 g of toluene (here, Y / X is 10). ). To the obtained slurry, 6.9 μL of a xylene solution of platinum vinyl siloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added with stirring. A condenser was placed in the flask, and the mixture was placed in a 50 ° C. oil bath for 50 minutes under nitrogen and 10 minutes in a 65 ° C. oil bath.
The mixture was heated and stirred in an oil bath at 0 ° C. for 30 minutes. During this time the reaction became clear. After adding 37 mg of benzothiazole to the obtained reaction solution, the mixture was added under reduced pressure of 1 torr or less.
When the volatile matter was removed by evaporating at 15 ° C. for 15 minutes, a transparent and uniform curable composition was obtained. When this was analyzed by NMR, it was found that two of the allyl groups of Compound A added first were
It was found that 7%, and 3% of the SiH groups of the 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane initially added had undergone a hydrosilylation reaction.

【0116】(実施例4)実施例3で得られた硬化性組
成物を室温下に48時間保存した後NMR分析したが、
さらなるヒドロシル化反応の進行等の変化は認められな
かった。この後トルエンで5倍(wt/wt)希釈し、
110℃のオイルバス中で15分加熱攪拌した後、1t
orr以下の減圧下で50℃で15分間エバポレートし
て揮発分を除去した。得られた透明均一の硬化性組成物
をNMR分析したところ、最初に加えた化合物Aのアリ
ル基のうち50%、最初に加えた1,3,5,7−テト
ラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基のうち5%
がヒドロシリル化反応していることがわかった。この硬
化性組成物をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテト
ラシロキサンの含有量は0.1重量%以下であった。
Example 4 The curable composition obtained in Example 3 was stored at room temperature for 48 hours and analyzed by NMR.
No further change such as the progress of the hydrosilation reaction was observed. After that, it is diluted 5 times (wt / wt) with toluene,
After heating and stirring for 15 minutes in an oil bath at 110 ° C, 1t
Evaporation was performed at 50 ° C. for 15 minutes under reduced pressure of orr to remove volatile components. NMR analysis of the obtained transparent uniform curable composition showed that 50% of the allyl groups of compound A added first and SiH groups of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane added first. 5% of
Was found to undergo a hydrosilylation reaction. When this curable composition was analyzed by gas chromatography, the content of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.1% by weight or less.

【0117】(実施例5)100mLナスフラスコに化
合物A3.0g、1,3,5,7−テトラメチルシクロ
テトラシロキサン5.5g、およびトルエン30gを加
えた(ここでY/Xは10である)。得られたスラリー
に、攪拌下、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液
(白金として3wt%含有)6.9μLを添加した。フ
ラスコにコンデンサーを設置し、窒素下、80℃のオイ
ルバス中で15分加熱攪拌した。この間に反応液は透明
になった。得られた反応液にベンゾチアゾール37mg
を加えた後、1torr以下の減圧下で45℃で15分
間エバポレートして揮発分を除去したところ透明均一の
硬化性組成物が得られた。これをNMR分析したとこ
ろ、最初に加えた化合物Aのアリル基のうち70%、最
初に加えた1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラ
シロキサンのSiH基のうち7%がヒドロシリル化反応
した化合物であることがわかった。この硬化性組成物を
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、未反応の
1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン
の含有量は0.1重量%以下であった。
Example 5 A 100 mL eggplant-shaped flask was charged with 3.0 g of Compound A, 5.5 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, and 30 g of toluene (here, Y / X is 10). ). To the obtained slurry, 6.9 μL of a xylene solution of platinum vinyl siloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added with stirring. A condenser was placed in the flask, and the mixture was heated and stirred in an oil bath at 80 ° C. for 15 minutes under nitrogen. During this time the reaction became clear. 37 mg of benzothiazole was added to the obtained reaction solution.
Was added and evaporated at 45 ° C. for 15 minutes under reduced pressure of 1 torr or less to remove volatile components, whereby a transparent and uniform curable composition was obtained. When this was analyzed by NMR, 70% of the allyl group of the compound A added first and 7% of the SiH group of the 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane initially added reacted with hydrosilylation. It was found to be a compound. When this curable composition was analyzed by gas chromatography, the content of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.1% by weight or less.

【0118】(実施例6)200mLナスフラスコに化
合物A10.0g、1,3,5,7−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン18.3g、およびトルエン100
gを加えた(ここでY/Xは10である)。得られたス
ラリーに、攪拌下、白金ビニルシロキサン錯体のキシレ
ン溶液(白金として3wt%含有)23.0μLおよび
ベンゾチアゾール123.3mgを添加した。フラスコ
にコンデンサーを設置し、窒素下、110℃のオイルバ
ス中で20分加熱攪拌した。この間に反応液は透明にな
った。得られた硬化性組成物をNMR分析したところ、
最初に加えた化合物Aのアリル基のうち95%、最初に
加えた1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロ
キサンのSiH基のうち10%がヒドロシリル化反応し
ていることがわかった。
Example 6 10.0 g of Compound A, 18.3 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, and 100 ml of toluene were placed in a 200 mL eggplant-shaped flask.
g (where Y / X is 10). To the obtained slurry, 23.0 μL of a xylene solution of platinum vinyl siloxane complex (containing 3 wt% as platinum) and 123.3 mg of benzothiazole were added with stirring. A condenser was placed in the flask, and the mixture was heated and stirred in a 110 ° C. oil bath for 20 minutes under nitrogen. During this time the reaction became clear. When the obtained curable composition was subjected to NMR analysis,
It was found that 95% of the allyl group of the compound A added first and 10% of the SiH group of the 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane added first had hydrosilylation reaction.

【0119】(実施例7)実施例6で得られた硬化性組
成物について1torr以下の減圧下で50℃で15分
間エバポレートして揮発分を除去した後、得られた透明
粘液をトルエン50gに再溶解した。この溶液の内3
5.4gをとり、化合物A12.5gおよびトルエン1
0gを加えて、90℃のオイルバス中で60分加熱攪拌
した。反応液のうち約1mLを抜き取り、1torr以
下の減圧下で50℃で15分間エバポレートして揮発分
を除去したところ均一ではなく濁った状態になった。反
応液をさらに110℃のオイルバス中で60分加熱攪拌
した。得られた溶液を1torr以下の減圧下で50℃
で15分間エバポレートして揮発分を除去し、透明均一
の硬化性組成物が得られた。これをNMR分析したとこ
ろ、総仕込量の化合物Aのアリル基のうち31%、最初
に加えた1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシ
ロキサンのSiH基のうち7%がヒドロシリル化反応し
ていることがわかった。この硬化性組成物をガスクロマ
トグラフィーで分析したところ、未反応の1,3,5,
7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの含有量は
0.1重量%以下であった。
Example 7 The curable composition obtained in Example 6 was evaporated at 50 ° C. for 15 minutes under reduced pressure of 1 torr or less to remove volatile components, and the obtained transparent mucus was added to 50 g of toluene. Redissolved. 3 of this solution
Take 5.4 g, 12.5 g of compound A and 1
After adding 0 g, the mixture was heated and stirred in a 90 ° C. oil bath for 60 minutes. About 1 mL of the reaction solution was withdrawn and evaporated at 50 ° C. for 15 minutes under reduced pressure of 1 torr or less to remove volatile components. The reaction solution was further heated and stirred in a 110 ° C. oil bath for 60 minutes. The obtained solution is heated at 50 ° C. under a reduced pressure of 1 torr or less.
For 15 minutes to remove volatile components, and a transparent and uniform curable composition was obtained. NMR analysis showed that 31% of the total charge of allyl groups of compound A and 7% of the initially added 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane SiH groups were hydrosilylation reacted. I understood that. When this curable composition was analyzed by gas chromatography, unreacted 1,3,5
The content of 7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.1% by weight or less.

【0120】(実施例8)100mLナスフラスコに化
合物A6.52g、化合物B4.80gおよびトルエン
15.9gを入れた。この混合物を室温で混合したが、
相溶することはなくスラリー状態となった。このスラリ
ーを110℃のオイルバス中で20分加熱攪拌した。得
られた溶液を1torr以下の減圧下で50℃で15分
間エバポレートして揮発分を除去し、透明均一の硬化性
組成物が得られた。これをNMR分析したところ、最初
に加えた化合物Aのアリル基のうち30%、最初に加え
た1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサ
ンのSiH基のうち30%がヒドロシリル化反応してい
ることがわかった。
Example 8 6.52 g of Compound A, 4.80 g of Compound B and 15.9 g of toluene were placed in a 100 mL eggplant-shaped flask. This mixture was mixed at room temperature,
There was no compatibility and a slurry was obtained. This slurry was heated and stirred in a 110 ° C. oil bath for 20 minutes. The obtained solution was evaporated at 50 ° C. for 15 minutes under reduced pressure of 1 torr or less to remove volatile components, and a transparent and uniform curable composition was obtained. According to NMR analysis, 30% of the allyl group of the compound A added first and 30% of the SiH group of the 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane initially added undergo hydrosilylation reaction. I understood that.

【0121】(実施例9)実施例8で得られた硬化性組
成物を1,3−ジオキソランにSolid Conte
nt(溶液中の組成物の重量%)が76重量%となるよ
うに溶解した。この溶液を225μmのクリアランスの
ハンドコーターでPIフィルム上にキャストし、熱風オ
ーブン中で100℃/3分、150℃/3分加熱した。
得られたものにPIフィルムをかぶせ、面圧20kgf
/cm、150℃にて30分加熱プレスした。得られ
たものをオーブン中でさらに200℃/90分加熱し
た。PIフィルムをはがすと透明均一フィルム状の硬化
物が得られた。得られた硬化物のTg(粘弾性測定のt
anδのピーク温度)は185℃であった。
Example 9 The curable composition obtained in Example 8 was added to 1,3-dioxolane using Solid Conte.
It melt | dissolved so that nt (weight% of the composition in a solution) might be 76 weight%. This solution was cast on a PI film using a hand coater with a clearance of 225 μm, and heated in a hot air oven at 100 ° C./3 minutes and 150 ° C./3 minutes.
Cover the obtained product with a PI film and apply a surface pressure of 20 kgf.
/ Cm 2 at 150 ° C. for 30 minutes. The obtained product was further heated in an oven at 200 ° C./90 minutes. When the PI film was peeled off, a cured product in the form of a transparent uniform film was obtained. Tg of the obtained cured product (t of viscoelasticity measurement)
peak temperature of anδ) was 185 ° C.

【0122】(実施例10)実施例8で得られた硬化性
組成物を1,3−ジオキソランにSolid Cont
ent(溶液中の組成物の重量%)が76%となるよう
に溶解した。この溶液を225μmのクリアランスのハ
ンドコーターで電解銅箔(mat面)上にキャストし、
熱風オーブン中で100℃/3分、150℃/3分加熱
した。得られたものに電解銅箔(mat面)をかぶせ、
面圧20kgf/cm、150℃にて30分加熱プレ
スした。得られたものをオーブン中でさらに200℃/
90分加熱した。得られた接着体は、成形時の流動性過
剰による接着剤層の流れ出しもなく、また成形時の流動
性不足による接着不良もなく良好な成形状態であった。
得られた接着体の銅箔の接着強度(90°ピール強度)
を測定したところ、4.2N/cmの接着強度を示し
た。
Example 10 The curable composition obtained in Example 8 was added to 1,3-dioxolane using Solid Cont.
ent (% by weight of the composition in the solution) was dissolved. This solution was cast on an electrolytic copper foil (mat surface) with a hand coater having a clearance of 225 μm,
It was heated in a hot air oven at 100 ° C./3 minutes and 150 ° C./3 minutes. Cover the obtained one with electrolytic copper foil (mat surface),
Heat pressing was performed at a surface pressure of 20 kgf / cm 2 and 150 ° C. for 30 minutes. The obtained product is further heated in an oven at 200 ° C /
Heated for 90 minutes. The obtained adhesive body was in a good molded state without flowing out of the adhesive layer due to excessive fluidity during molding and without poor adhesion due to insufficient fluidity during molding.
Adhesion strength (90 ° peel strength) of copper foil of obtained adhesive
Was measured, and showed an adhesive strength of 4.2 N / cm.

【0123】(比較例1)50mLナスフラスコに化合
物A3.0gおよび1,3,5,7−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン0.83gを入れた。攪拌混合した
が、これらは互いに相溶することなく、スラリー状態と
なった。
Comparative Example 1 A 50 mL eggplant-shaped flask was charged with 3.0 g of Compound A and 0.83 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane. After stirring and mixing, they were not compatible with each other and turned into a slurry state.

【0124】(比較例2)50mLナスフラスコに化合
物A3.0g、化合物B5.0gおよび1,3−ジオキ
ソラン10gを入れ、攪拌混合した。得られた均一溶液
をエバポレートして溶媒を除去すると2成分が分離した
不均一な状態となった。
Comparative Example 2 A 50 mL eggplant-shaped flask was charged with 3.0 g of Compound A, 5.0 g of Compound B, and 10 g of 1,3-dioxolane, and stirred and mixed. When the obtained homogeneous solution was evaporated and the solvent was removed, an inhomogeneous state in which two components were separated was obtained.

【0125】(比較例3)100mLナスフラスコに化
合物A6.52g、化合物B4.80gおよびトルエン
15.9gを入れた。このスラリーを225μmのクリ
アランスのハンドコーターで電解銅箔(mat面)上に
キャストし、熱風オーブン中で100℃/3分、150
℃/3分加熱した。得られたものに電解銅箔(mat
面)をかぶせ、面圧20kgf/cm、150℃にて
30分加熱プレスした。接着剤層がほとんど流れ出し、
良好な成形体とならなかった。
(Comparative Example 3) 6.52 g of the compound A, 4.80 g of the compound B and 15.9 g of toluene were placed in a 100 mL eggplant-shaped flask. This slurry was cast on an electrolytic copper foil (mat surface) with a hand coater having a clearance of 225 μm, and was heated in a hot air oven at 100 ° C./3 minutes for 150 minutes.
C./3 minutes. An electrolytic copper foil (mat
Surface), and heat-pressed at 150 ° C. for 30 minutes at a surface pressure of 20 kgf / cm 2 . Almost the adhesive layer flows out,
No good molded product was obtained.

【0126】[0126]

【発明の効果】本発明の硬化性組成物は、均一であり適
当な粘度および溶融特性を有しており成形性が良好であ
って、原料入手性においても汎用性があり工業的に実用
性が高い。
The curable composition of the present invention is uniform, has appropriate viscosity and melting properties, has good moldability, is versatile in raw material availability, and is industrially practical. Is high.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/52 H01L 21/52 E 23/29 23/30 R 23/31 Fターム(参考) 4F071 AA04 AA60 AA67 AH12 BA02 BB02 BC02 4J002 AA03W CM04W CP04X GJ00 GQ01 GQ05 4J040 DA001 DA002 DF021 DF022 DF091 DF092 EB051 EB052 ED001 ED002 EE001 EE002 EH031 EH032 EK041 EK042 EL021 EL022 GA01 GA30 HA026 HA066 HA076 HA136 HA306 HA366 HB07 HB22 HC04 HC06 HC15 HC19 HD23 HD25 HD37 LA11 NA12 NA16 NA19 NA20 4M109 AA01 BA01 BA03 CA05 CA07 CA21 EA02 EA10 EB02 EB04 EB06 EB07 EB08 EB12 EB18 EB19 EC20 GA10 5F047 BA25 BA26 BA34 BB03 BB11 BB16 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) H01L 21/52 H01L 21/52 E 23/29 23/30 R 23/31 F term (reference) 4F071 AA04 AA60 AA67 AH12 BA02 BB02 BC02 4J002 AA03W CM04W CP04X GJ00 GQ01 GQ05 4J040 DA001 DA002 DF021 DF022 DF091 DF092 EB051 EB052 ED001 ED002 EE001 EE002 EH031 EH032 EK041 EK042 EL021 EL022 HA01 HA30 HA07 HA30 HA03 HA01 HA30 HA07 HA30 HA03 HA03 HA15 4M109 AA01 BA01 BA03 CA05 CA07 CA21 EA02 EA10 EB02 EB04 EB06 EB07 EB08 EB12 EB18 EB19 EC20 GA10 5F047 BA25 BA26 BA34 BB03 BB11 BB16

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)ヒドロシリル化可能な炭素−炭素
二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合
物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有
するケイ素化合物、および(C)ヒドロシリル化触媒、
を必須成分として含有する混合物中のヒドロシリル化可
能な炭素−炭素二重結合およびSiH基のそれぞれ一部
をあらかじめヒドロシリル化反応により反応させて得る
ことができる硬化性組成物。
1. An organic compound containing at least two hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in one molecule, (B) a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, And (C) a hydrosilylation catalyst,
A curable composition obtainable by previously reacting a part of each of a hydrosilylatable carbon-carbon double bond and a SiH group in a mixture containing as an essential component by a hydrosilylation reaction.
【請求項2】 あらかじめヒドロシリル化反応により反
応させるヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合の数
が、ヒドロシリル化反応以前の(A)成分中のヒドロシ
リル化可能な炭素−炭素二重結合の数の80%以下であ
り、かつ、あらかじめヒドロシリル化反応により反応さ
せるSiH基の数が、ヒドロシリル化反応以前の(B)
成分中のSiH基の数の80%以下である請求項1に記
載の硬化性組成物。
2. The number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds previously reacted by a hydrosilylation reaction is determined by the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in the component (A) before the hydrosilylation reaction. 80% or less, and the number of SiH groups to be reacted in advance by the hydrosilylation reaction is (B) before the hydrosilylation reaction.
The curable composition according to claim 1, wherein the amount of the curable composition is 80% or less of the number of SiH groups in the component.
【請求項3】 互いに非相溶性である(A)成分および
(B)成分を含有し、かつ、均一である請求項1又は2
に記載の硬化性組成物。
3. The composition according to claim 1, which contains the component (A) and the component (B) which are incompatible with each other and is uniform.
3. The curable composition according to item 1.
【請求項4】 未反応の(A)成分の含有量が10重量
%以下及び/又は未反応の(B)成分の含有量が10重
量%以下である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の
硬化性組成物。
4. The method according to claim 1, wherein the content of the unreacted component (A) is 10% by weight or less and / or the content of the unreacted component (B) is 10% by weight or less. 3. The curable composition according to item 1.
【請求項5】 (A)成分及び/又は(B)成分がイミ
ド基を含有する化合物である請求項1乃至4のいずれか
1項に記載の硬化性組成物。
5. The curable composition according to claim 1, wherein the component (A) and / or the component (B) is a compound containing an imide group.
【請求項6】 さらに(D)硬化遅延剤を含有してなる
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
6. The curable composition according to claim 1, further comprising (D) a curing retarder.
【請求項7】 (A)成分が、構成元素としてC、H、
O、N、S、ハロゲンのみを含む化合物である、請求項
1乃至6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
7. The component (A) comprises C, H,
The curable composition according to any one of claims 1 to 6, which is a compound containing only O, N, S, and halogen.
【請求項8】 (A)成分が、ビニル基を1分子中に少
なくとも1個含有する有機化合物である、請求項1乃至
7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
8. The curable composition according to claim 1, wherein the component (A) is an organic compound containing at least one vinyl group in one molecule.
【請求項9】 (A)成分、(B)成分および(C)成
分を含有する混合物において、(A)成分に含有される
ヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合の数(X)
と、(B)成分に含有されるSiH基の数(Y)の比
が、2>Y/Xであり、かつ、(B)成分が常圧での沸
点が200℃以下の化合物である、請求項1乃至8のい
ずれか1項に記載の硬化性組成物。
9. The mixture containing component (A), component (B) and component (C), wherein the number of hydrosilylatable carbon-carbon double bonds contained in component (A) is (X)
And the ratio of the number (Y) of SiH groups contained in the component (B) is 2> Y / X, and the component (B) is a compound having a boiling point at ordinary pressure of 200 ° C. or lower. The curable composition according to claim 1.
【請求項10】 請求項1乃至9のいずれか1項に記載
の硬化性組成物を製造する方法であって、(A)ヒドロ
シリル化可能な炭素−炭素二重結合を1分子中に少なく
とも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なく
とも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、および
(C)ヒドロシリル化触媒、を必須成分として含有する
混合物中のヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重結合お
よびSiH基のそれぞれ一部をあらかじめヒドロシリル
化反応により反応させることからなる製造方法。
10. A method for producing the curable composition according to claim 1, wherein (A) a hydrosilylatable carbon-carbon double bond is contained in at least two molecules per molecule. (B) a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, and (C) a hydrosilylation catalyst in a mixture containing as essential components a hydrosilylation catalyst. A production method comprising reacting a part of each of a heavy bond and a SiH group by a hydrosilylation reaction in advance.
【請求項11】 ヒドロシリル化反応を溶媒存在下に実
施する、請求項10に記載の製造方法。
11. The production method according to claim 10, wherein the hydrosilylation reaction is carried out in the presence of a solvent.
【請求項12】 ヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重
結合およびSiH基のそれぞれ一部をヒドロシリル化反
応により反応させた後、温度を低下させることによりヒ
ドロシリル化反応の進行を抑止することからなる、請求
項10又は11に記載の製造方法。
12. A method comprising reacting a part of each of a hydrosilylatable carbon-carbon double bond and a SiH group by a hydrosilylation reaction, and then suppressing the progress of the hydrosilylation reaction by lowering the temperature. The method according to claim 10.
【請求項13】 ヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重
結合およびSiH基のそれぞれ一部をヒドロシリル化反
応により反応させた後、硬化遅延剤を添加することによ
りヒドロシリル化反応の進行を抑止することからなる、
請求項10又は11に記載の製造方法。
13. The method according to claim 1, wherein a part of each of the hydrosilylatable carbon-carbon double bond and the SiH group is reacted by a hydrosilylation reaction, and then a curing retarder is added to suppress the progress of the hydrosilylation reaction. Become,
The method according to claim 10.
【請求項14】 ヒドロシリル化可能な炭素−炭素二重
結合およびSiH基のそれぞれ一部をヒドロシリル化反
応により反応させた後、未反応の(A)成分及び/又は
未反応の(B)成分を除去することからなる、請求項1
0乃至13のいずれか1項に記載の製造方法。
14. After reacting each of the hydrosilylatable carbon-carbon double bond and a part of the SiH group by a hydrosilylation reaction, the unreacted component (A) and / or the unreacted component (B) 2. The method of claim 1, comprising removing.
14. The production method according to any one of 0 to 13.
【請求項15】 請求項1〜9のいずれか1項に記載の
硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。
A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of claims 1 to 9.
【請求項16】 請求項1〜9のいずれか1項に記載の
硬化性組成物を含有してなる接着剤。
16. An adhesive containing the curable composition according to claim 1. Description:
【請求項17】 請求項1〜9のいずれか1項に記載の
硬化性組成物を含有してなる封止剤。
17. A sealant comprising the curable composition according to claim 1.
【請求項18】 (A)ヒドロシリル化可能な炭素−炭
素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化
合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含
有するケイ素化合物、および(C)ヒドロシリル化触
媒、を必須成分として含有する硬化性組成物中のヒドロ
シリル化可能な炭素−炭素二重結合およびSiH基のそ
れぞれ一部をあらかじめヒドロシリル化反応により反応
させた後、成形することによる、硬化性組成物の成形方
法。
18. An organic compound containing at least two hydrosilylatable carbon-carbon double bonds in one molecule, (B) a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, And (C) a part of the hydrosilylatable carbon-carbon double bond and the SiH group in the curable composition containing the hydrosilylation catalyst as an essential component in advance by a hydrosilylation reaction, followed by molding. And a method for molding a curable composition.
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