JP2002208300A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2002208300A
JP2002208300A JP2001004298A JP2001004298A JP2002208300A JP 2002208300 A JP2002208300 A JP 2002208300A JP 2001004298 A JP2001004298 A JP 2001004298A JP 2001004298 A JP2001004298 A JP 2001004298A JP 2002208300 A JP2002208300 A JP 2002208300A
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JP
Japan
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semiconductor device
stable state
power
dummy data
lsi
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Application number
JP2001004298A
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English (en)
Inventor
Yoshinobu Kaneda
義宣 金田
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電源投入後の実動作開始時間を短縮する。 【解決手段】 インフォローメモリ領域4内にダミーデ
ータ4Aを格納しておき、電源投入後に当該ダミーデー
タ4Aを実行できたか否かでLSI内部の安定状態を確
認することで、電源投入後の実動作開始までの待ち時間
を短縮することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、更に言えば、このような半導体装置における電源投
入後の正常動作可能な安定状態であるか否かを確認する
技術に関する。
【0002】
【従来の技術】以下、従来の半導体装置について説明す
る。
【0003】一般的に、半導体装置における電源投入後
の正常動作可能な安定状態であるか否かを確認する方式
として、電源投入した後に十分なスペックを持つように
所定タイミングを設定しておき、この所定タイミングが
経過するのを待って、上記正常動作可能な安定状態に入
ったものと判断し、各種実動作に移行するように制御さ
れていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように従来方式で
は、電源投入した後に、十分なスペックを持たせて所定
タイミングを設定していたため、実動作開始するまでに
無駄な待ち時間が生じていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の半導体
装置は、情報エリア内にダミーデータを格納しておき、
電源投入後に当該ダミーデータを実行できたか否かでL
SI内部の安定状態を確認することを特徴とする。
【0006】これにより、電源投入した後に上記ダミー
データに基づいて所定作業が実行できたか否かでLSI
内部の安定状態を確認するため、従来のように十分過ぎ
るスペックを持たせて所定タイミングを設定する必要が
なくなり、実動作開始するまでの無駄な待ち時間を短縮
でき、高速化が図れる。
【0007】また、本発明の半導体装置は、電源電圧レ
ベル検知回路との併用により、LSI内部の安定状態を
確認することを特徴とし、実動作開始可能であるか否か
の確認作業の信頼性が向上する。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の半導体装置に係る
一実施形態について図面を参照しながら説明する。
【0009】図1は本発明の半導体装置の概略構成を説
明するための回路図である。尚、図1では、半導体装置
の一例として、いわゆるフラッシュメモリと呼ばれる不
揮発性半導体メモリセルを例にして説明する。
【0010】この不揮発性半導体メモリセルの特徴は、
電気的に書き込み、読み出し及び消去が可能なことであ
り、複数の不揮発性半導体メモリセルから成るメモリマ
ット1は、メインメモリ領域2(Mainメモリ)、メインメ
モリ領域2に発生した欠陥のあるメモリ領域を代替する
ための冗長メモリ領域3(Redundancyメモリ)、各種の製
造情報等を記憶する情報エリアとしてのインフォローメ
モリ領域4(Inforowメモリ)で構成されている。
【0011】また、5はアドレスデータに基づいてメイ
ンメモリ領域2をアクセスするための第1のアドレスデ
コーダ、6は冗長アドレスデータに基づいて冗長メモリ
領域3をアクセスするための第2のアドレスデコーダで
ある。
【0012】そして、7は欠陥の発生したメモリ領域の
アドレスデータが書き込まれ、記憶される冗長アドレス
メモリである。
【0013】ここで、上述したメモリマット1内に構成
される不揮発性半導体メモリセルは、スプリットゲート
型とスタックゲート型に大きく分類されるが、以下では
例えば、WO92/18980公報(G11C13/0
0)に開示されているスプリットゲート型の不揮発性半
導体メモリセルについて説明する。
【0014】図2は不揮発性半導体メモリセル10A,
10B,10C及び10Dがマトリクス配置されて成る
メモリマット1の一部を示す回路図である。
【0015】図2において、隣り合う不揮発性半導体メ
モリセル10A及び10B、不揮発性半導体メモリセル
10C及び10D同士は、そのソース領域同士がソース
ラインSLに共通接続され、そのドレイン領域はそれぞ
れビットラインBL0,BL2に接続されている。ま
た、不揮発性半導体メモリセル10A及び10B、10
C及び10DのコントロールゲートCGは、それぞれワ
ードラインWL0,WL1に接続されている。
【0016】ここで、本発明の特徴は、上記メモリマッ
ト1内のインフォローメモリ領域4内に予め、あるダミ
ーデータ4Aを格納しておくことで、例えば、電源投入
後、繰り返される当該ダミーデータ4Aの実行命令に基
づいて所定の作業が実行できたことを検知した時点で、
LSI内部の正常動作可能な安定状態を確認し、制御手
段を介して実動作させるようにしたことである。
【0017】これにより、電源投入した後に上記ダミー
データ4Aに基づいて所定作業が実行できたか否かでL
SI内部の安定状態を確認することができるようにな
り、従来のように十分過ぎるスペックを持たせて所定タ
イミングを設定する必要がなくなり、実動作開始までの
無駄な待ち時間を短縮することができ、高速化が可能に
なる。
【0018】また、本発明の半導体装置は、上記構成に
加えて電源電圧レベル検知回路を併用することにより、
LSI内部の安定状態か否かを確認するようにしても良
い。
【0019】尚、電源電圧レベル検知回路の一例を図3
の回路図を用いて説明すると、電源電圧と接地電圧間に
直列接続された抵抗R1,R2で抵抗分割された所定電
圧がインバータINVを介して内部回路に印加される構
成となっている。
【0020】そして、このような電源電圧レベル検知回
路を併用することで、実動作開始可能か否かの確認作業
の信頼性が向上する。
【0021】尚、本実施形態では、不揮発性半導体メモ
リセルに適用した一例を紹介したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、任意の半導体装置に適用可能な
ものである。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、電源投入後に、情報エ
リア内に格納しておいたダミーデータに基づいた所定作
業が実行できたか否かでLSI内部の安定状態を確認す
ることで、従来のように十分過ぎるスペックを持たせて
所定タイミングを設定する必要がなくなり、実動作開始
までの無駄な待ち時間を短縮することができ、高速化が
図れる。
【0023】また、電源電圧レベル検知回路との併用に
より、LSI内部の安定状態の確認作業の信頼性が向上
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の半導体装置を示す回路図
である。
【図2】半導体メモリセルの一例を示す回路図である。
【図3】電源電圧レベル検知回路の一例を示す回路図で
ある。
【符号の説明】
1 メモリマット 2 メインメモリ領域 4 インフォローメモリ領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11C 17/00 601Z

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリマット内の一領域である情報エリ
    ア内にダミーデータを格納しておき、電源投入後に当該
    ダミーデータに基づいた所定作業が実行できたか否かで
    LSI内部の安定状態を確認することを特徴とする半導
    体装置。
  2. 【請求項2】 少なくともメモリマット内にメインメモ
    リ領域と情報エリアとを有する半導体装置において、 電源投入後に、前記情報エリア内に予め格納されたダミ
    ーデータに基づいて所定作業が実行できた時点で、LS
    I内部の安定状態を確認する制御手段を具備したことを
    特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 電源電圧レベル検知回路との併用によ
    り、LSI内部の安定状態を確認することを特徴とする
    請求項1あるいは請求項2に記載の半導体装置。
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