JP2002208276A - Memory device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、メモリ装置に関す
る。[0001] The present invention relates to a memory device.
【0002】[0002]
【従来の技術】図3を参照して、従来のD(ダイナミッ
ク)−RAMメモリ装置を説明する。このメモリ装置
は、互いに交叉する複数のワード線WL(0)、WL
(1)、WL(2)、‥‥‥、WL(2n)、WL(2
n+1)及び複数対の第1及び第2のビット線‥‥‥、
BL−(m−1);BLB−(m−1)、BL−m;B
LB−m、BL−(m+1);BLB−(m+1)、‥
‥‥と、複数のワード線WL(0)、WL(1)、WL
(2)、‥‥‥、WL(2n)、WL(2n+1)及び
複数対の第1及び第2のビット線‥‥‥、BL−(m−
1);BLB−(m−1)、BL−m;BLB−m、B
L−(m+1);BLB−(m+1)、‥‥‥の交互の
ビット線の交叉部にそれぞれ接続されたメモリセルMC
(0)、MC(1)、‥‥‥、MC(2n)、MC(2
n+1)とを有する。2. Description of the Related Art A conventional D (dynamic) RAM memory device will be described with reference to FIG. This memory device has a plurality of word lines WL (0), WL
(1), WL (2), ‥‥‥, WL (2n), WL (2
n + 1) and a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥,
BL- (m-1); BLB- (m-1), BL-m; B
LB-m, BL- (m + 1); BLB- (m + 1), ‥
} And a plurality of word lines WL (0), WL (1), WL
(2), ‥‥‥, WL (2n), WL (2n + 1) and a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL− (m−
1); BLB- (m-1), BL-m; BLB-m, B
L- (m + 1); BLB- (m + 1), the memory cells MC respectively connected to the intersections of the alternate bit lines
(0), MC (1), ‥‥‥, MC (2n), MC (2
n + 1).
【0003】メモリセルMC(0)、MC(1)、‥‥
‥、MC(2n)、MC(2n+1)は、それぞれスイ
ッチングトランジスタ(MOS−FET)Q及びキャパ
シタCの直列回路から構成され、MOS−FET Qの
ドレインが、複数対の第1及び第2のビット線‥‥‥、
BL−(m−1);BLB−(m−1)、BL−m;B
LB−m、BL−(m+1);BLB−(m+1)、‥
‥‥に交互に接続され、MOS−FET Qのゲート
は、複数のワード線WL(0)、WL(1)、WL
(2)、‥‥‥、WL(2n)、WL(2n+1)にそ
れぞれ接続される。直列回路のキャパシタC側は、図示
を省略したセルプレート電位線に接続される。[0003] Memory cells MC (0), MC (1),
‥, MC (2n), MC (2n + 1) are each formed of a series circuit of a switching transistor (MOS-FET) Q and a capacitor C, and the drain of the MOS-FET Q is a plurality of pairs of first and second bits. line‥‥‥,
BL- (m-1); BLB- (m-1), BL-m; B
LB-m, BL- (m + 1); BLB- (m + 1), ‥
, And the gate of the MOS-FET Q is connected to a plurality of word lines WL (0), WL (1), WL
(2), ‥‥‥, WL (2n), WL (2n + 1). The capacitor C side of the series circuit is connected to a cell plate potential line (not shown).
【0004】又、複数対の第1及び第2のビット線‥‥
‥、BL−(m−1);BLB−(m−1)、BL−
m;BLB−m、BL−(m+1);BLB−(m+
1)、‥‥‥間には、それぞれセンスアンプSA及び各
メモリセルMC(0)、MC(1)、‥‥‥、MC(2
n)、MC(2n+1)における読出し及び書込み終了
後に、複数対の第1及び第2のビット線‥‥‥、BL−
(m−1);BLB−(m−1)、BL−m;BLB−
m、BL−(m+1);BLB−(m+1)、‥‥‥間
の電位を同電位にするイコライズ回路EQが接続されて
いる。A plurality of pairs of first and second bit lines {
‥, BL- (m-1); BLB- (m-1), BL-
m; BLB-m, BL- (m + 1); BLB- (m +
1) and ‥‥‥, the sense amplifier SA and each memory cell MC (0), MC (1), MC, MC (2
n), after completion of reading and writing in MC (2n + 1), a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL-
(M-1); BLB- (m-1), BL-m; BLB-
An equalizing circuit EQ for making the potential between m, BL- (m + 1); BLB- (m + 1), ‥‥‥ the same is connected.
【0005】センスアンプSAは、センシング動作信号
SA−Onによって制御され、イコライズ回路EQは、
ビットラインリセット信号Eq−Onによって制御され
る。The sense amplifier SA is controlled by a sensing operation signal SA-On.
It is controlled by the bit line reset signal Eq-On.
【0006】以下に、この図3のメモリ装置の動作を、
図4の信号波形を示すタイミングチャートを参照して説
明する。ビットラインリセット信号Eq−Onが、L
(ロー)(解除状態)になっているときに、例えば、ワ
ードラインWL(0)の電圧がLからH(ハイ)に立ち
上がると、メモリセルMC(0)のMOS−FET Q
がONになって、キャパシタCの電荷がビット線BLに
流れて、ビット線BL、BLB間に微少電圧が発生す
る。その後、センシング動作信号SA−OnがLからH
になり、センスアンプSAが微少電圧の増幅を開始し
て、最大振幅にラッチし、ビット線BL−m、BLB−
mの電圧はそれぞれVcc(V)、0(V)に達する。こ
のとき、ビットラインBL、BLBを充放電するため
に、センスアンプSAに大きな電流が流れる。その後、
読出し/書込み(R/W)回路に対し、読出し/書込み
動作が行われる。その後、ワード線WL0の電圧がHか
らLになり、その後、センシング動作信号SA−Onが
HからLになる。その後、ビットラインリセット信号E
q−OnがLからHになる(ビットラインリセット状
態)と、イコライズ回路EQが動作して、ビット線B
L、BLBの電圧が共にVcc/2に等しくなるように、
ビット線BL、BLBにプリチャージが行われた後、待
機状態になる。The operation of the memory device shown in FIG. 3 will be described below.
This will be described with reference to a timing chart showing signal waveforms in FIG. When the bit line reset signal Eq-On is L
For example, when the voltage of the word line WL (0) rises from L to H (high) during (low) (released state), the MOS-FET Q of the memory cell MC (0)
Is turned ON, the electric charge of the capacitor C flows to the bit line BL, and a very small voltage is generated between the bit lines BL and BLB. Thereafter, the sensing operation signal SA-On changes from L to H.
, The sense amplifier SA starts to amplify the very small voltage, latches it to the maximum amplitude, and sets the bit lines BL-m, BLB-
The voltage of m reaches Vcc (V) and 0 (V), respectively. At this time, a large current flows through the sense amplifier SA to charge and discharge the bit lines BL and BLB. afterwards,
A read / write operation is performed on a read / write (R / W) circuit. Thereafter, the voltage of the word line WL0 changes from H to L, and thereafter, the sensing operation signal SA-On changes from H to L. After that, the bit line reset signal E
When q-On changes from L to H (bit line reset state), the equalizing circuit EQ operates and the bit line B
So that the voltages of L and BLB are both equal to Vcc / 2,
After the bit lines BL and BLB are precharged, a standby state is set.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】かかる従来のメモリ装
置では、互いに交叉する複数対の第1及び第2のビット
線及び複数のワード線と、複数対の第1及び第2のビッ
ト線の交互の各一方のビット線及び複数のワード線の各
交叉部にそれぞれ接続されたメモリセルと、各対の第1
及び第2のビット線間にそれぞれ接続されたセンスアン
プとを有するメモリ装置において、センシング動作時
に、複数対の第1及び第2のビット線のうちアクセスさ
れたメモリセルが接続されたビット線のみならず、アク
セスされたメモリセルが接続されていないビット線も、
共にその各電圧がそれぞれの最大振幅のラッチ電圧にな
るまで充放電されるため、消費電流が大きくなり過ぎて
しまう。In such a conventional memory device, a plurality of pairs of first and second bit lines and a plurality of word lines crossing each other and a plurality of pairs of first and second bit lines are alternately arranged. A memory cell respectively connected to each one bit line and each crossing portion of the plurality of word lines;
And a sense amplifier connected between the second bit lines, respectively, wherein only the bit line to which the accessed memory cell of the plurality of pairs of the first and second bit lines is connected during the sensing operation Also, the bit line to which the accessed memory cell is not connected also
In both cases, charging and discharging are performed until the respective voltages reach the latch voltages having the respective maximum amplitudes, so that the current consumption becomes excessively large.
【0008】かかる点に鑑み、本発明は、互いに交叉す
る複数対の第1及び第2のビット線及び複数のワード線
と、複数対の第1及び第2のビット線の交互の各一方の
ビット線及び複数のワード線の各交叉部にそれぞれ接続
されたメモリセルと、各対の第1及び第2のビット線間
にそれぞれ接続されたセンスアンプとを有するメモリ装
置において、センシング動作時における複数対の第1及
び第2のビット線に対する充放電のための消費電流を少
なくすることのできるメモリ装置を提案しようとするも
のである。In view of the foregoing, the present invention provides a plurality of pairs of first and second bit lines and a plurality of word lines which cross each other, and a plurality of pairs of first and second bit lines which alternate with each other. In a memory device having a memory cell connected to each intersection of a bit line and a plurality of word lines, and a sense amplifier connected between each pair of first and second bit lines, a memory device having a An object of the present invention is to propose a memory device capable of reducing current consumption for charging and discharging a plurality of pairs of first and second bit lines.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】第1の発明は、互いに交
叉する複数対の第1及び第2のビット線及び複数のワー
ド線と、複数対の第1及び第2のビット線の交互の各一
方のビット線及び複数のワード線の各交叉部にそれぞれ
接続されたメモリセルと、各対の第1及び第2のビット
線間にそれぞれ接続されたセンスアンプとを有するメモ
リ装置において、各対の第1及び第2のビット線を、各
メモリセルが接続された部分と、各センスアンプが接続
された部分とに分割し、その各対のビット線の2つの部
分間を、それぞれ接続及び分離する第1及び第2のゲー
ト手段を設けてなり、複数のメモリセルのうちのアクセ
スされたメモリセルが接続されているビット線が、第1
のビット線である場合には、センシング動作中に、第1
のゲート手段をON、第2のゲート手段をOFFし、第
2のビット線である場合には、センシング動作中に、第
2のゲート手段をON、第1のゲート手段をOFFする
ように、複数の第1及び第2のゲート手段を制御するよ
うにしたメモリ装置である。According to a first aspect of the present invention, a plurality of pairs of first and second bit lines and a plurality of word lines crossing each other, and a plurality of pairs of first and second bit lines are alternately provided. In a memory device having a memory cell connected to each one bit line and each crossing portion of a plurality of word lines, and a sense amplifier connected between each pair of first and second bit lines, The pair of first and second bit lines are divided into a portion to which each memory cell is connected and a portion to which each sense amplifier is connected, and the two portions of each pair of bit lines are connected to each other. And first and second gate means for separating the memory cells, and the bit line to which the accessed memory cell of the plurality of memory cells is connected is the first
When the sensing operation is performed, the first
The second gate means is turned on, the second gate means is turned off, and if it is the second bit line, the second gate means is turned on and the first gate means is turned off during the sensing operation. A memory device for controlling a plurality of first and second gate means.
【0010】第1の発明によれば、複数のメモリセルの
うちのアクセスされたメモリセルが接続されているビッ
ト線が、第1のビット線である場合には、センシング動
作中に、第1のゲート手段をON、第2のゲート手段を
OFFし、第2のビット線である場合には、センシング
動作中に、第2のゲート手段をON、第1のゲート手段
をOFFする。According to the first aspect, when the bit line to which the accessed memory cell of the plurality of memory cells is the first bit line, the first bit line is connected during the sensing operation. The second gate means is turned on, the second gate means is turned off, and if it is the second bit line, the second gate means is turned on and the first gate means is turned off during the sensing operation.
【0011】第2の発明は、第1の発明のメモリ装置に
おいて、各対の第1及び第2のビット線に対するプリチ
ャージ期間は、各第1及び第2のゲート手段は、共にO
Nであるメモリ装置である。According to a second aspect, in the memory device according to the first aspect, during the precharge period for each pair of the first and second bit lines, each of the first and second gate means is set to O.
N is the memory device.
【0012】第1及び第2の発明のメモリ装置におい
て、メモリセルは、D−RAMメモリセルである。In the memory device according to the first and second aspects, the memory cell is a D-RAM memory cell.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下に、図1を参照して、本発明
の実施の形態のメモリ装置(D−RAMメモリ装置)の
例を説明する。尚、図1において、図3と対応する部分
には、同一符号を付してある。このメモリ装置は、互い
に交叉する複数のワード線WL(0)、WL(1)、W
L(2)、‥‥‥、WL(2n)、WL(2n+1)及
び複数対の第1及び第2のビット線‥‥‥、BL−(m
−1);BLB−(m−1)、BL−m;BLB−m、
BL−(m+1);BLB−(m+1)、‥‥‥と、複
数のワード線WL(0)、WL(1)、WL(2)、‥
‥‥、WL(2n)、WL(2n+1)及び複数対の第
1及び第2のビット線‥‥‥、BL−(m−1);BL
B−(m−1)、BL−m;BLB−m、BL−(m+
1);BLB−(m+1)、‥‥‥の交互のビット線の
交叉部にそれぞれ接続されたメモリセル(D−RAMメ
モリセル)MC(0)、MC(1)、‥‥‥、MC(2
n)、MC(2n+1)とを有する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example of a memory device (D-RAM memory device) according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In FIG. 1, parts corresponding to those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. This memory device includes a plurality of word lines WL (0), WL (1), W
L (2), ‥‥‥, WL (2n), WL (2n + 1) and a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL- (m
-1); BLB- (m-1), BL-m; BLB-m,
BL- (m + 1); BLB- (m + 1), ‥‥‥, and a plurality of word lines WL (0), WL (1), WL (2), ‥
‥‥, WL (2n), WL (2n + 1) and a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL- (m−1); BL
B- (m-1), BL-m; BLB-m, BL- (m +
1); memory cells (D-RAM memory cells) MC (0), MC (1),..., MC () connected to the intersections of the alternate bit lines BLB- (m + 1), 2
n) and MC (2n + 1).
【0014】メモリセルMC(0)、MC(1)、‥‥
‥、MC(2n)、MC(2n+1)は、それぞれスイ
ッチングトランジスタ(MOS−FET)Q及びキャパ
シタCの直列回路から構成され、MOS−FET Qの
ドレインが、複数対の第1及び第2のビット線‥‥‥、
BL−(m−1);BLB−(m−1)、BL−m;B
LB−m、BL−(m+1);BLB−(m+1)、‥
‥‥に交互に接続され、MOS−FET Qのゲート
は、複数のワード線WL(0)、WL(1)、WL
(2)、‥‥‥、WL(2n)、WL(2n+1)にそ
れぞれ接続される。直列回路のキャパシタC側は、図示
を省略したセルプレート電位線に接続される。Memory cells MC (0), MC (1),.
‥, MC (2n), MC (2n + 1) are each formed of a series circuit of a switching transistor (MOS-FET) Q and a capacitor C, and the drain of the MOS-FET Q is a plurality of pairs of first and second bits. line‥‥‥,
BL- (m-1); BLB- (m-1), BL-m; B
LB-m, BL- (m + 1); BLB- (m + 1), ‥
, And the gate of the MOS-FET Q is connected to a plurality of word lines WL (0), WL (1), WL
(2), ‥‥‥, WL (2n), WL (2n + 1). The capacitor C side of the series circuit is connected to a cell plate potential line (not shown).
【0015】図1では、センスアンプSA及びメモリセ
ルMC(0)、MC(1)、‥‥‥、MC(2n)、M
C(2n+1)間を、接続及び分離するための第1及び
第2のゲートとしてのMOS−FET Q1、Q2を、
複数対の第1及び第2のビット線‥‥‥、BL−(m−
1);BLB−(m−1)、BL−m;BLB−m、B
L−(m+1);BLB−(m+1)、‥‥‥にそれぞ
れ挿入する。図1では、便宜上、MOS−FET Q
1、Q2の左側の部分のビット線に、符号BL−SA、
BLB−SAの符号を付す。従って、複数対の第1及び
第2のビット線‥‥‥、BL−(m−1);BLB−
(m−1)、BL−m;BLB−m、BL−(m+
1);BLB−(m+1)、‥‥‥は、それぞれMOS
−FET Q1、Q2を介して、第1及び第2のビット
線BL−SA、BLB−SAに接続されることになる。In FIG. 1, a sense amplifier SA and memory cells MC (0), MC (1),..., MC (2n), M
MOS-FETs Q1 and Q2 as first and second gates for connecting and separating between C (2n + 1)
A plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL- (m-
1); BLB- (m-1), BL-m; BLB-m, B
L- (m + 1); BLB- (m + 1), respectively. In FIG. 1, for convenience, MOS-FET Q
1, the bit line on the left side of Q2 is denoted by BL-SA,
The symbol of BLB-SA is assigned. Therefore, a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL- (m-1); BLB-
(M-1), BL-m; BLB-m, BL- (m +
1); BLB- (m + 1), ‥‥‥ are MOS
-Connected to the first and second bit lines BL-SA, BLB-SA via FETs Q1, Q2.
【0016】MOS−FET Q1、Q2を纏めて、分
離ゲートDGと称する。MOS−FET Q1、Q2
は、各別のゲート信号Cut−BL、Cut−BLBに
よってON、OFF制御される。この例では、MOS−
FET Q1、Q2として、Nチャンネル型MOS−F
ETを使用しているので、ゲート信号Cut−BL、C
ut−BLBがHのとき、MOS−FET Q1、Q2
がONになり、Lのとき、OFFになる。MOS−FE
T Q1、Q2として、Pチャンネル型MOS−FET
を使用しても良く、その場合には、ゲート信号Cut−
BL、Cut−BLBのH、Lと、MOS−FET Q
1、Q2のON、OFFとの関係は、Nチャンネル型M
OS−FETを使用したときの逆となる。The MOS-FETs Q1 and Q2 are collectively referred to as an isolation gate DG. MOS-FET Q1, Q2
Are turned on and off by respective gate signals Cut-BL and Cut-BLB. In this example, MOS-
N-channel type MOS-F as FETs Q1 and Q2
Since ET is used, the gate signals Cut-BL, C
When ut-BLB is H, the MOS-FETs Q1, Q2
Is ON, and when L, it is OFF. MOS-FE
P-channel type MOS-FET as T Q1 and Q2
May be used, in which case the gate signal Cut-
H and L of BL and Cut-BLB and MOS-FET Q
1, the relationship between Q2 ON and OFF is N channel type M
The reverse is the case when the OS-FET is used.
【0017】尚、N及びPチャンネル型MOS−FET
を併用することもできる。その場合には、N及びPチャ
ンネル型MOS−FETの各ゲートに供給するゲート信
号は、N及びPチャンネル型に応じて各別に生成する必
要がある。Incidentally, N- and P-channel type MOS-FETs
Can also be used in combination. In that case, gate signals to be supplied to the gates of the N- and P-channel type MOS-FETs need to be generated separately according to the N-type and P-channel type.
【0018】そして、例えば、複数対の第1及び第2の
ビット線‥‥‥、BL−(m−1);BLB−(m−
1)、BL−m;BLB−m、BL−(m+1);BL
B−(m+1)、‥‥‥間に、各メモリセルMC
(0)、MC(1)、‥‥‥、MC(2n)、MC(2
n+1)における読出し及び書込み終了後に、複数対の
第1及び第2のビット線‥‥‥、BL−(m−1);B
LB−(m−1)、BL−m;BLB−m、BL−(m
+1);BLB−(m+1)、‥‥‥間の電位を同電位
にするイコライズ回路EQを接続する。Then, for example, a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL- (m-1); BLB- (m-
1), BL-m; BLB-m, BL- (m + 1); BL
B− (m + 1), ‥‥‥, each memory cell MC
(0), MC (1), ‥‥‥, MC (2n), MC (2
After completion of reading and writing at (n + 1), a plurality of pairs of first and second bit lines ‥‥‥, BL- (m−1); B
LB- (m-1), BL-m; BLB-m, BL- (m
+1); an equalizing circuit EQ for making the potential between BLB- (m + 1) and ‥‥‥ the same is connected.
【0019】そして、複数対の第1及び第2のビット線
‥‥‥、BL−(m−1);BLB−(m−1)、BL
−m;BLB−m、BL−(m+1);BLB−(m+
1)、‥‥‥にそれぞれ対応する各対の第1及び第2の
ビット線BL−SA、BLB−SA間に、センスアンプ
BLB−SAを接続する。尚、イコライズ回路EQも、
各対の第1及び第2のビット線BL−SA、BLB−S
A間に接続するようにしても良い。A plurality of pairs of the first and second bit lines ‥‥‥, BL- (m-1); BLB- (m-1), BL
-M; BLB-m, BL- (m + 1); BLB- (m +
1), a sense amplifier BLB-SA is connected between the first and second bit lines BL-SA and BLB-SA of each pair respectively corresponding to ‥‥‥. Note that the equalizing circuit EQ also
Each pair of first and second bit lines BL-SA, BLB-S
A connection may be made between A.
【0020】センスアンプSAは、センシング動作信号
SA−Onによって制御され、イコライズ回路EQは、
ビットラインリセット信号Eq−Onによって制御され
る。The sense amplifier SA is controlled by a sensing operation signal SA-On.
It is controlled by the bit line reset signal Eq-On.
【0021】以下に、この図1のメモリ装置の動作を、
図2の信号波形を示すタイミングチャートを参照して説
明する。待機状態では、ゲート信号Cut−BL、Cut−
BLBの電圧は共にHであるので、MOS−FET Q
1、Q2は共にONである。例えば、ワードラインWL
(0)の電圧がLからHに立ち上がると、メモリセルM
C(0)のMOS−FET QがONになって、キャパ
シタCの電荷が第1のビット線BLに流れて、第1及び
第2のビット線BL、BLB間に微少電圧が発生する。The operation of the memory device shown in FIG. 1 will be described below.
This will be described with reference to a timing chart showing signal waveforms in FIG. In the standby state, the gate signals Cut-BL, Cut-BL
Since the voltage of BLB is both H, the MOS-FET Q
1 and Q2 are both ON. For example, word line WL
When the voltage of (0) rises from L to H, the memory cell M
When the MOS-FET Q of C (0) is turned on, the electric charge of the capacitor C flows to the first bit line BL, and a very small voltage is generated between the first and second bit lines BL and BLB.
【0022】その後、センシング動作信号SA−Onが
LからHになり、センスアンプSAが微少電圧の増幅を
開始して、最大振幅Vcc(V)−0(V)にラッチする
以前に、ゲート信号Cut−BLBの電圧をHからLに変
えて、第2のビット線BLB−mと、第2のビット線B
LB−mに対応する第2のビット線BLB−SAとを分
離する。ゲート信号Cut−BLの電圧はHのままであ
る。その結果、第1のビット線BL−m、BL−SAの
電圧は、一方の側にラッチされ、第2のビット線BLB
−SAの電圧は、他方の側にラッチされるが、第2のビ
ット線BLB−m、BLB−SAが分離されているた
め、第2のビット線BLB−mはフローティング状態と
なり、充放電電流が削減される。又、第2のビット線B
LB−mのビットライン容量は、第2のビット線BLB
−SAのビットライン容量の5〜10倍程度であるの
で、消費電流低減効果は大きい。図2の例では、第1の
ビット線BLB−SAのラッチ電圧は0(V)になる
が、第2のビット線BLB−mのラッチ電圧は、Vcc/
2(V)と0(V)との間の中間の電圧となる。After that, the sensing operation signal SA-On changes from L to H, and the sense amplifier SA starts to amplify the minute voltage and latches the gate signal before latching to the maximum amplitude Vcc (V) -0 (V). By changing the voltage of Cut-BLB from H to L, the second bit line BLB-m and the second bit line B
The second bit line BLB-SA corresponding to LB-m is separated. The voltage of the gate signal Cut-BL remains at H. As a result, the voltages of the first bit lines BL-m and BL-SA are latched on one side and the second bit line BLB
The voltage of -SA is latched on the other side, but the second bit lines BLB-m and BLB-SA are separated, so that the second bit line BLB-m is in a floating state, and the charge / discharge current is Is reduced. Also, the second bit line B
The bit line capacitance of LB-m is the second bit line BLB
Since the bit line capacitance of −SA is about 5 to 10 times, the current consumption reduction effect is large. In the example of FIG. 2, the latch voltage of the first bit line BLB-SA is 0 (V), but the latch voltage of the second bit line BLB-m is Vcc /
The voltage becomes an intermediate voltage between 2 (V) and 0 (V).
【0023】その後、読出し/書込み(R/W)回路に
対し、読出し/書込み動作が行われる。その後、ワード
線WL0の電圧がHからLになる。その後、センシング
動作信号SA−OnがHからLになる。その後、ゲート
信号Cut−BLBの電圧がLからHに変わる(ゲート信
号Cut−BLの電圧は依然としてHのまま)と共に、ビ
ットラインリセット信号Eq−OnがLからHになる
(ビットラインリセット状態になる)と、イコライズ回
路EQが動作して、第1及び第2のビット線BL、BL
Bの電圧が共にVcc/2と等しくなるように、第1及び
第2のビット線BL、BLBがプリチャージされ、その
後待機状態になる。換言すれば、第1及び第2のビット
線BL、BLBのプリチャージ期間は、MOS−FET
Q1、Q2は共にONとなっている。Thereafter, a read / write operation is performed on the read / write (R / W) circuit. Thereafter, the voltage of the word line WL0 changes from H to L. Thereafter, the sensing operation signal SA-On changes from H to L. Thereafter, the voltage of the gate signal Cut-BLB changes from L to H (the voltage of the gate signal Cut-BL remains H), and the bit line reset signal Eq-On changes from L to H (to the bit line reset state). ), The equalizing circuit EQ operates, and the first and second bit lines BL, BL
The first and second bit lines BL and BLB are precharged so that the voltage of B becomes equal to Vcc / 2, and then the standby state is set. In other words, during the precharge period of the first and second bit lines BL and BLB, the MOS-FET
Q1 and Q2 are both ON.
【0024】図2において、センシング動作信号SA−
Onの電圧がLからHに立ち上がるタイミングと、ゲー
ト信号Cut−BLBの電圧がHからLに立ち下がるタイ
ミングとの間の時間が短ければ短い程、消費電流の低減
効果が高くなり、又、ゲート信号Cut−BLBの電圧が
LからHに立ち上がるタイミングと、ビットラインリセ
ット信号Eq−OnNOの電圧がLからHに立ち上がる
タイミングとの間の時間が短ければ短い程、ビット線B
L、BLBのプリチャージ期間が短くなる。In FIG. 2, the sensing operation signal SA-
The shorter the time between the timing at which the voltage of On rises from L to H and the timing at which the voltage of the gate signal Cut-BLB falls from H to L, the higher the effect of reducing current consumption, and the greater the gate. The shorter the time between the timing when the voltage of the signal Cut-BLB rises from L to H and the timing when the voltage of the bit line reset signal Eq-OnNO rises from L to H, the shorter the bit line B becomes.
The precharge period of L and BLB is shortened.
【0025】又、ワード線WL(0)、WL(2)、W
L(4)、‥‥‥、WL(2n)の電圧がLからHに変
化したときは、上述したように、ゲート信号Cut−BL
の電圧は常時Hであり、ゲート信号Cut−BLBの電圧
がH→L→Hと変化する。又、ワード線WL(1)、W
L(3)、WL(5)、‥‥‥、WL(2n+1)の電
圧がLからHに変化したときは、上述とは逆に、ゲート
信号Cut−BLBの電圧は常時Hであり、ゲート信号C
ut−BLの電圧がH→L→Hと変化する。The word lines WL (0), WL (2), W
When the voltage of L (4), ‥‥‥, WL (2n) changes from L to H, as described above, the gate signal Cut-BL
Is always H, and the voltage of the gate signal Cut-BLB changes from H → L → H. Also, word lines WL (1), W
When the voltages of L (3), WL (5), ‥‥‥, WL (2n + 1) change from L to H, the voltage of the gate signal Cut-BLB is always H, Signal C
The voltage of ut-BL changes from H → L → H.
【0026】[0026]
【発明の効果】第1の本発明によれば、互いに交叉する
複数対の第1及び第2のビット線及び複数のワード線
と、複数対の第1及び第2のビット線の交互の各一方の
ビット線及び複数のワード線の各交叉部にそれぞれ接続
されたメモリセルと、各対の第1及び第2のビット線間
にそれぞれ接続されたセンスアンプとを有するメモリ装
置において、各対の第1及び第2のビット線を、各メモ
リセルが接続された部分と、各センスアンプが接続され
た部分とに分割し、その各対のビット線の2つの部分間
を、それぞれ接続及び分離する第1及び第2のゲート手
段を設けてなり、複数のメモリセルのうちのアクセスさ
れたメモリセルが接続されているビット線が、第1のビ
ット線である場合には、センシング動作中に、第1のゲ
ート手段をON、第2のゲート手段をOFFし、第2の
ビット線である場合には、センシング動作中に、第2の
ゲート手段をON、第1のゲート手段をOFFするよう
に、複数の第1及び第2のゲート手段を制御するように
したので、センシング動作時における複数対の第1及び
第2のビット線に対する充放電のための消費電流を少な
くすることのできるメモリ装置を得ることができる。According to the first aspect of the present invention, each of a plurality of pairs of first and second bit lines and a plurality of word lines crossing each other and a plurality of pairs of first and second bit lines alternating with each other are provided. In a memory device having a memory cell connected to each intersection of one bit line and a plurality of word lines and a sense amplifier connected between each pair of first and second bit lines, Is divided into a portion to which each memory cell is connected and a portion to which each sense amplifier is connected, and the two portions of each pair of bit lines are connected and connected respectively. First and second gate means for separating are provided, and when the bit line connected to the accessed memory cell among the plurality of memory cells is the first bit line, the sensing operation is performed. Then, the first gate means is turned on, Of the first and second gate lines during the sensing operation so that the second gate means is turned on and the first gate means is turned off during the sensing operation. Since the gate means is controlled, it is possible to obtain a memory device capable of reducing current consumption for charging and discharging a plurality of pairs of first and second bit lines during a sensing operation.
【0027】第2の発明は、第1の発明のメモリ装置に
おいて、各対の第1及び第2のビット線に対するプリチ
ャージ期間は、各第1及び第2のゲート手段は、共にO
Nであるので、センシング動作時における複数対の第1
及び第2のビット線に対する充放電のための消費電流を
少なくすることができる共に、各対の第1及び第2のビ
ット線に対するプリチャージをも確実に行うことのでき
るメモリ装置を得ることができる。According to a second aspect of the present invention, in the memory device of the first aspect, during the precharge period for each pair of the first and second bit lines, both the first and second gate means are set to O.
N, a plurality of pairs of first
It is possible to obtain a memory device that can reduce current consumption for charging and discharging the first and second bit lines and can surely perform precharging on the first and second bit lines of each pair. it can.
【0028】第1及び第2の発明のメモリ装置におい
て、メモリセルは、D−RAMメモリセルである。In the memory device according to the first and second aspects, the memory cell is a D-RAM memory cell.
【図1】本発明の実施の形態のメモリ装置の例を示す回
路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a memory device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1のメモリ装置の信号波形を示すタイミング
チャートである。FIG. 2 is a timing chart showing signal waveforms of the memory device of FIG. 1;
【図3】従来のメモリ装置を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional memory device.
【図4】図3のメモリ装置の信号波形を示すタイミング
チャートである。FIG. 4 is a timing chart showing signal waveforms of the memory device of FIG. 3;
WL(0)、WL(1)、WL(2)、‥‥‥、WL
(2n)、WL(2n+1) ワード線、‥‥‥、BL
−(m−1);BLB−(m−1)、BL−m;BLB
−m、BL−(m+1);BLB−(m+1)、‥‥‥
複数対の第1及び第2のビット線、MC(0)、MC
(1)、‥‥‥、MC(2n)、MC(2n+1) メ
モリセル、SA センスアンプ、EQ イコライズ回
路、DG 分離ゲート、Q1、Q2 ゲートとしてのM
OS−FET。WL (0), WL (1), WL (2), ‥‥‥, WL
(2n), WL (2n + 1) word line, ‥‥‥, BL
-(M-1); BLB- (m-1), BL-m; BLB
−m, BL− (m + 1); BLB− (m + 1), ‥‥‥
Plural pairs of first and second bit lines, MC (0), MC
(1), ‥‥‥, MC (2n), MC (2n + 1) memory cell, SA sense amplifier, EQ equalizing circuit, DG separation gate, M as gate for Q1, Q2
OS-FET.
Claims (4)
ビット線及び複数のワード線と、上記複数対の第1及び
第2のビット線の交互の各一方のビット線及び上記複数
のワード線の各交叉部にそれぞれ接続されたメモリセル
と、上記各対の第1及び第2のビット線間にそれぞれ接
続されたセンスアンプとを有するメモリ装置において、 上記各対の第1及び第2のビット線を、上記各メモリセ
ルが接続された部分と、上記各センスアンプが接続され
た部分とに分割し、該各対のビット線の2つの部分間
を、それぞれ接続及び分離する第1及び第2のゲート手
段を設けてなり、 上記複数のメモリセルのうちのアクセスされたメモリセ
ルが接続されているビット線が、上記第1のビット線で
ある場合には、センシング動作中に、上記第1のゲート
手段をON、上記第2のゲート手段をOFFし、上記第
2のビット線である場合には、センシング動作中に、上
記第2のゲート手段をON、上記第1のゲート手段をO
FFするように、上記複数の第1及び第2のゲート手段
を制御するようにしたことを特徴とする特徴とするメモ
リ装置。A plurality of pairs of first and second bit lines and a plurality of word lines intersecting with each other; In a memory device having a memory cell connected to each crossing part of a word line and a sense amplifier connected between the first and second bit lines of each pair, the first and second memory cells of each pair are provided. The second bit line is divided into a portion to which each of the memory cells is connected and a portion to which each of the sense amplifiers is connected, and the two portions of each pair of bit lines are connected and separated, respectively. A first and a second gate means, wherein the bit line to which the accessed memory cell of the plurality of memory cells is connected is the first bit line; The first gate hand The ON, and OFF said second gate means, said second when the bit lines, during the sensing operation, ON said second gate means, said first gate means O
A memory device characterized by controlling the plurality of first and second gate means so as to perform FF.
ジ期間は、上記各第1及び第2のゲート手段は、共にO
Nであることを特徴とするメモリ装置。2. The memory device according to claim 1, wherein said first and second gate means are both connected during a precharge period for said pair of first and second bit lines.
N. A memory device, wherein N is
特徴とするメモリ装置。3. The memory device according to claim 1, wherein said memory cells are D-RAM memory cells.
特徴とするメモリ装置。4. The memory device according to claim 2, wherein said memory cells are D-RAM memory cells.
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- 2001-01-12 JP JP2001005466A patent/JP4934897B2/en not_active Expired - Fee Related
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