JP2002194532A - 真空蒸着方法及び真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安価な原料を用いて、長時間にわたる連続成
膜を省スペースにて実現する。 【解決手段】 真空室内で、るつぼ５内に収容された原
料を加熱手段により溶解させ、蒸発させることによって
基体上に被膜を形成する真空蒸着方法において、周状に
配された複数の棒状の原料２１を順次押し出す工程と、
これら複数の棒状の原料２１を周方向に回転させる工程
とを交互に行い、押し出された棒状の原料を加熱・溶解
させてるつぼ５へ供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空室内で、るつ
ぼ内に収容された原料を加熱手段により溶解させ、蒸発
させることによって基体上に被膜を形成する真空蒸着方
法及び真空蒸着装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】オーディオ装置やビデオ装置、コンピュ
ータ装置等の記録再生装置に用いられる記録媒体とし
て、非磁性支持体上に磁性層を備える磁気記録媒体が広
く使用されている。近年、磁気記録の分野では、記録再
生装置の小型軽量化や高記録容量化が進行しており、こ
れに伴い、磁気記録媒体にはこれまで以上の高密度記録
化が要求されている。

【０００３】このため、磁気記録媒体として、非磁性支
持体上に、磁性層として強磁性金属材料からなる金属薄
膜を形成した、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体が採
用されている。この金属薄膜型の磁気記録媒体は、いわ
ゆる塗布型の磁気記録媒体に比べて、磁性金属の結晶微
細化及び配向の均一化に優れ、抗磁力や角形比等の磁気
特性に優れ、短波長領域での高出力化が可能となる。さ
らに、金属薄膜型の磁気記録媒体は、磁性層の厚みを極
めて薄くできるので記録減磁や再生時の厚み損失が著し
く小さいことや、磁性層中に非磁性材料である有機バイ
ンダ等の結合剤を混入させる必要がないので磁性材料の
充填密度が高いこと等、数々の利点を有している。

【０００４】ところで、金属薄膜型の磁気記録媒体、特
に金属薄膜型の磁気テープの磁性層を形成する際に採用
される真空蒸着法は、一般に、以下のようにして行われ
る。

【０００５】先ず、真空室内で、走査型電子銃から照射
される電子ビームによって、るつぼ内に収容された原料
となるＣｏ系合金を溶解及び蒸発させる。これにより生
じた蒸着粒子を、円筒状の冷却キャンに巻き付けられた
長尺状の高分子フィルム上に堆積させ、磁性層となる金
属薄膜を成膜する。高分子フィルム上への金属薄膜の成
膜は、冷却キャンを回転させることにより連続的に数時
間にわたって行われる。

【０００６】このような真空蒸着法においては、高分子
フィルム上に金属薄膜を成膜することに伴って、るつぼ
内の原料が蒸発し、減少する。るつぼ内の原料の量が変
動すると、蒸発量を制御できず、金属薄膜の膜厚が変化
する等の不都合が生じる。このため、蒸発により減少し
た量に相当する原料を、るつぼ内へ随時補給し、るつぼ
内の原料の量を一定に維持する必要がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】るつぼ内に原料を補給
する方法としては様々な方法が存在するが、現在、ペレ
ット方式とロッド方式とが主流である。このうち、ペレ
ット方式は、原料を直径１０ｍｍ程度、長さ３０ｍｍ程
度の小型のペレットに成形し、このペレットを原料供給
部に並べ、原料を固体状態のまま順次るつぼ内に投下す
ることにより、るつぼ内へ原料を供給するものである。

【０００８】しかしながら、このペレット方式では、各
ペレットが小さいため、ペレットの成形が煩雑となり、
同重量あたりの原料価格が比較的高価となる。したがっ
て磁気記録媒体の製造コストが高くなるという問題があ
る。

【０００９】また、各ペレットが小さいため、同重量あ
たりの表面積が増大し、それに比例してペレットに付着
する不純物の量も増加する。この結果、るつぼ内で原料
が蒸発する際に不純物も同時にガス化して真空室内の真
空を汚染し、金属薄膜の膜質を劣化させる虞がある。

【００１０】また、金属薄膜の組成を変更する際には、
原料供給部内に残存した多数のペレットを手作業で除去
し、代わりに新たな組成の多数のペレットを手作業で原
料供給部に並べるといった長時間を要する作業が必要と
なる。すなわち原料交換作業の作業効率が悪いという問
題がある。

【００１１】一方、ロッド方式とは、電子ビームの照射
範囲内に、棒状に加工した原料（以下、ロッドと称す
る。）の先端を徐々に進入させ、当該ロッドの先端を電
子ビームにより溶解させることによって、るつぼ内へ液
体の状態の原料を供給するものである。このロッド方式
では、ロッドの断面積が大きいと、電子ビームにより溶
解される原料の量が増加するため、るつぼ内への供給量
の調節が困難となる。このため、通常はロッドの直径を
３０ｍｍ程度とし、電子ビームの照射範囲へのロッドの
進入速度を制御することによって、原料の供給量を調節
している。

【００１２】しかしながら、ロッド方式で金属薄膜を連
続成膜する場合、高分子フィルムの長さや金属薄膜の膜
厚にも依存するが、通常５ｍ程度の長さのロッドが必要
となる。すなわち、原料を真空室内に収容するために、
５ｍ分のスペースが必要となり、真空室及び真空排気装
置の大型化が不可避である。このため、長時間の連続成
膜を実現するためには、高額の設備投資が必要となる。

【００１３】また、ロッド方式で金属薄膜を連続成膜す
る場合、大量の原料が必要となるため、ロッド自体も大
型化し、その重量は４０ｋｇになることがある。このた
め、ロッドの運搬や、原料供給部への原料の装填に特別
な装置が必要となる。

【００１４】そこで本発明はこのような従来の実状に鑑
みて提案されたものであり、安価な原料を用いて、長時
間にわたる連続成膜を省スペースにて実現する真空蒸着
方法及び真空蒸着装置を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る真空蒸着方法は、真空室内で、るつ
ぼ内に収容された原料を加熱手段により溶解させ、蒸発
させることによって基体上に被膜を形成する真空蒸着方
法において、中心軸に対して周状に配された複数の棒状
の原料を順次押し出す工程と、これら複数の棒状の原料
を周方向に回転させる工程とを交互に行い、押し出され
た棒状の原料を加熱・溶解させてるつぼへ供給すること
を特徴とする。

【００１６】以上のような真空蒸着方法では、周状に配
された複数の棒状の原料を押し出して、当該棒状の原料
を加熱・溶解させ、るつぼ内へ液体の状態で原料を供給
する。それとともに、未使用の棒状の原料を周方向に回
転させる。上述したような操作を繰り返すことにより、
大量の原料を長時間にわたって連続してるつぼ内へ供給
することができる。

【００１７】また、本発明に係る真空蒸着装置は、基体
上に被膜を形成する真空蒸着装置であって、真空室内
に、原料を収容するるつぼと、原料を溶解させる加熱手
段と、るつぼへ原料を供給する原料供給部とを有し、上
記原料供給部は、中心軸に対して回転自在とされ、この
中心軸に対して周状に配されるとともに平行方向に穿設
された複数の貫通孔を有し、当該貫通孔が棒状の原料を
装填可能である回転体と、上記貫通孔内へ進退自在であ
る押し出し部材とを有することを特徴とする。

【００１８】以上のような構成の真空蒸着装置は、原料
供給部に装填される原料として、棒状に加工された原料
を使用するため、従来のペレット状に成形された原料を
使用する場合に比べて原料コストが抑えられ、同重量あ
たりの原料の表面に付着する不純物の量を低減でき、原
料の交換作業が短時間で完了する。

【００１９】また、原料供給部は、回転体内に、長時間
にわたる連続供給に必要な量の原料を、貫通孔の数に応
じて分割した状態で保持できる。このため、省スペース
で大量の原料を保持可能である。また、長時間にわたる
連続供給に必要な量の原料が、貫通孔の数に応じて分割
されるため、１個あたりの棒状の原料の小型化及び軽量
化を図ることができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用して磁気記録
媒体を製造する場合について、図面を参照しながら詳細
に説明する。なお、本発明は、以下の記述に限定される
ことはなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更
可能である。

【００２１】まず、本発明を適用した真空蒸着装置につ
いて、図１及び図２を参照しながら説明する。この図１
に示す真空蒸着装置１は、長尺状の非磁性支持体２の一
主面上に、強磁性金属材料からなる金属薄膜を形成す
る、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体の製造装置であ
る。

【００２２】この真空蒸着装置１は、真空室３内に、略
円筒型の冷却キャン４と、この冷却キャン４の外周面と
対向する位置に配された略直方体状のるつぼ５と、るつ
ぼ５内の強磁性金属材料へ電子ビーム６を照射する走査
型電子銃７と、るつぼ５へ原料を供給する原料供給部と
を備えるものである。

【００２３】冷却キャン４は、例えば−２０℃程度に冷
却され、その外周面に非磁性支持体２を巻き付けた状態
で図１中矢印Ａ方向に回転することによって、非磁性支
持体２上に強磁性金属材料を堆積させる。

【００２４】るつぼ５は、酸化マグネシウム等からな
り、略直方体形状を呈する。このるつぼ５は、冷却キャ
ン４の回転軸と平行方向、すなわち長手方向に溝が形成
されており、この溝内に、電子ビーム６によって溶解さ
れた液体状態の強磁性金属材料を収容する。

【００２５】走査型電子銃７は、放出した電子ビーム６
を、スキャナ８を通過させることによって、るつぼ５内
の強磁性金属材料を繰り返し走査する。これにより、走
査型電子銃７は、るつぼ５内の強磁性金属材料及び原料
供給部から供給される原料を加熱し、蒸発させる。

【００２６】また、この真空蒸着装置１は、図１に示す
ように、回転自在とされた供給軸９に供給ロール１０が
装着されるとともに、図示しない駆動源により回転駆動
される巻き取り軸１１に巻き取りロール１２が装着さ
れ、非磁性支持体２を冷却キャン４の外周面に巻き付け
た状態で連続して走行させる。

【００２７】また、真空蒸着装置１では、るつぼ５と冷
却キャン４との間に防着板１３を設け、この防着板１３
にシャッタ１４を位置調整可能に設けて、非磁性支持体
２に対して所定の角度で入射する蒸着粒子のみを通過さ
せる。

【００２８】そして、真空蒸着装置１内には、るつぼ５
の長手方向の延長線上に、図２に示すような原料供給部
２０が配設されている。この原料供給部２０は、原料で
ある例えば強磁性金属材料を棒状に加工してなるロッド
を収容・保持するとともに、るつぼ５内へ最適量の液体
状の原料を供給するものである。なお、原料供給部２０
は、耐熱性を有する材料から構成される。耐熱性を有す
る材料としては、例えばステンレス等が挙げられる。

【００２９】原料供給部２０は、図３に示すような略円
柱状の回転体２２と、回転体２２の中心軸を貫通する支
軸２３と、支軸２３と連結されたインデックスモータ２
４と、押し出し棒２５と、押し出し棒２５と連結された
モータ２６とを有している。

【００３０】回転体２２は、支軸２３が水平となるよう
に設けられるとともに、支軸２３に対して回転自在とさ
れている。この回転体２２は、８個の貫通孔２７ａ，２
７ｂ，２７ｃ，２７ｄ，２７ｅ，２７ｆ，２７ｇ，２７
ｈ（以下、貫通孔２７とまとめて称することがある。）
が、支軸２３、すなわち回転体の中心軸に対して平行方
向に穿設されている。これら８個の貫通孔２７は、回転
体２２の中心軸に対して同一円周上に略等間隔に配され
ている。また、貫通孔２７ａ，２７ｂ，２７ｃ，２７
ｄ，２７ｅ，２７ｆ，２７ｇ，２７ｈは、内部にロッド
２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆ，２
１ｇ，２１ｈ（以下、ロッド２１とまとめて称すること
がある。）をそれぞれ装填可能である。

【００３１】なお、回転体２２は、例えば直径２５０ｍ
ｍ〜４００ｍｍ、長さ４００ｍｍ〜６００ｍｍ程度とさ
れる。また、回転体２２は、合計で６０ｋｇ〜１２０ｋ
ｇ程度のロッド２１を装填できることが好ましい。

【００３２】ロッド２１の形状及び大きさは任意に設定
可能であるが、回転体２２へ装填する際等に作業し易い
形状及び大きさであることが好ましい。例えば、ロッド
２１は、直径４０ｍｍ〜６０ｍｍ、長さ５００ｍｍ程
度、重量５ｋｇ〜１５ｋｇ程度とされる。

【００３３】また、貫通孔２７の内径は、ロッド２１の
直径よりも１ｍｍ〜２ｍｍ程度大とされることが好まし
い。これにより、貫通孔２７とロッド２１との間に適度
な隙間が生じ、貫通孔２７とロッド２１との摩擦を低減
し、ロッド２１の押し出しを円滑に行うことが可能とな
るとともに、ロッド２１を貫通孔２７内へ挿入し易くな
る。具体的には、貫通孔２７の内径は、４０ｍｍ〜６０
ｍｍ程度とされる。

【００３４】また、貫通孔２７には、図４に示すよう
な、複数の溝２８が形成されていても良い。これによ
り、貫通孔２７とロッド２１との接触面積が小となり、
貫通孔２７とロッド２１との摩擦をさらに低減できる。
この各溝２８の幅は、例えば３ｍｍ〜１０ｍｍ程度とさ
れる。

【００３５】なお、回転体２２に穿設される貫通孔２７
の数は、図３に示すような８個に限定されるものではな
く、例えば回転体２２の径、ロッド２１の重量、回転体
２２の強度、作業性等に応じて任意に設定可能である。
回転体２２に穿設される貫通孔２７の数は、例えば８〜
１４個であることが好ましい。

【００３６】このような回転体２２は、図２に示すよう
に、回転体２２の中心軸を貫通する支軸２３を介して、
回転体２２を回転駆動させるインデックスモータ２４と
連結されている。

【００３７】インデックスモータ２４は、回転体２２を
支軸２３を中心に回転させる。回転体２２を回転させる
際に、インデックスモータ２４は、各貫通孔２７と押し
出し棒２５との位置を検知し、貫通孔２７と押し出し棒
２５の進行方向とが一致するように、回転体２２の位置
決めを行うことが可能である。

【００３８】押し出し棒２５は、回転体２２のるつぼ５
とは反対側において、貫通孔２７のいずれか１つの長手
方向の延長線上に、回転体２２の中心軸に対して平行と
なるように配設される。上述したように、貫通孔２７が
回転体の中心軸に対して同一円周上に配されているた
め、押し出し棒２５は、貫通孔２７内へ進退自在とされ
る。なお、図２において、押し出し棒２５は、その進行
方向が、各貫通孔２７のうち最も高い位置に位置決めさ
れる貫通孔２７の長手方向と一致するように、設置され
ている。

【００３９】押し出し棒２５の直径は、貫通孔２７より
やや小径とされる。具体的には押し出し棒２７の直径は
２０ｍｍ〜３０ｍｍ程度とされる。また、押し出し棒２
５は、ボールねじ形状又は台形ねじ形状であることが好
ましい。

【００４０】モータ２６は、押し出し棒２５を、押し出
し棒２５の長手方向、すなわち回転体２２の中心軸に対
して平行方向に、所望の速度で移動させる。

【００４１】以上のような構成の真空蒸着装置１は、原
料供給部２０に装填される原料として、棒状の原料であ
るロッド２１を使用する。ロッド２１は、ペレット状に
成形された小型の原料に比べて、原料の加工が簡単であ
り、安価である。したがって、この真空蒸着装置１は、
磁気記録媒体の低価格での製造を実現する。

【００４２】また、ロッド２１は、ペレット状に成形さ
れた小型の原料に比べて同重量あたりの表面積が小であ
るため、同重量あたりの原料に付着する不純物の量を低
減できる。したがって、ロッド２１を原料として用いる
ことで、不純物に起因する真空室３内の真空の汚染が抑
制され、非磁性支持体２上に良好な膜質の金属薄膜を形
成できる。

【００４３】また、金属薄膜の組成を変更する場合等に
おいて、ロッド２１の交換作業は、貫通孔２７から余っ
たロッド２１を抜き取り、新たに必要数のロッド２１を
回転体２２の貫通孔２７に装填するのみであるため、簡
単且つ短時間で完了する。また、回転体２２が複数種類
のロッドを各貫通孔に装填されている場合は、インデッ
クスモータ２４が、押し出し棒２５の進行方向と所望の
種類のロット２１が装填された貫通孔２７とが一致する
ように回転体２２を回転させ、停止させる。このよう
に、インデックスモータ２４により、押し出し棒２５の
進行方向に対する回転体２２の位置決めを容易に行うこ
とができるため、金属薄膜の組成を変更する場合に必ず
しも全てのロッドを交換する必要がなくなる。したがっ
て、真空蒸着装置１への原料装着に要する時間が大幅に
短縮され、作業効率の向上を図ることができる。

【００４４】ところで、従来の真空蒸着装置において、
１個の棒状の原料を用いて原料を供給するいわゆるロッ
ド方式を採用する場合、非磁性支持体の長さや金属薄膜
の膜厚にも依存するが、通常５ｍ程度の長さの棒状の原
料が必要となる。すなわち、従来の真空蒸着装置では、
原料を真空室内に収容するために、５ｍ分のスペースが
必要となり、真空室及び真空排気装置の大型化が不可避
である。

【００４５】しかし、本発明を適用した真空蒸着装置１
において、原料供給部２０の回転体２２は、貫通孔２７
を複数有するため、貫通孔２７と同数のロッド２１を装
填可能である。具体的には、図３に示すような回転体２
２を有する原料供給部２０を用いる場合、８個のロッド
２１を用意し、これらを８個の貫通孔２７へ装填する。
すなわち、従来の１／８の長さのスペースにて、従来と
同等又はそれ以上の量の原料を収容できる。すなわち、
従来に比べて原料の収容に必要なスペースを飛躍的に縮
小しつつ、大量の原料を真空室３内に収容できる。この
ため、真空蒸着装置１は、長時間にわたる原料の連続供
給が可能となる。

【００４６】また、従来用いられる１個の棒状の原料に
比べて、ロッド２１は、１／８の長さ及び重量とされて
いる。したがって、原料１個あたりの小型化及び軽量化
が図られ、原料の運搬及び交換作業等における取り扱い
が容易となる。

【００４７】つぎに、上述したような真空蒸着装置１を
用いて磁気記録媒体を製造する方法、すなわち非磁性支
持体２上に磁性層として強磁性金属材料からなる金属薄
膜を形成する方法について説明する。

【００４８】非磁性支持体２上に強磁性金属材料からな
る金属薄膜を形成するためには、先ず、図示しない真空
排気装置を駆動させることにより、真空室３内を約１０
^−３Ｐａ程度の真空状態とする。次に、走査型電子銃７
から電子ビーム６を照射することによって、るつぼ５内
の強磁性金属材料を加熱して溶解し、蒸発させる。

【００４９】そして、強磁性金属材料の蒸発により生じ
た蒸着粒子が、供給軸９に装着された供給ロール１０か
ら図１中矢印Ｂ方向に繰り出されて冷却キャン４の外周
面に沿って走行する非磁性支持体２上に被着し、金属薄
膜が形成される。次に、金属薄膜が形成された非磁性支
持体２は、巻き取り軸１１に装着された巻き取りロール
１２に巻き取られる。

【００５０】以上のようにして、非磁性支持体２上に磁
性層として金属薄膜が形成された磁気記録媒体を作製す
る。

【００５１】ところで、長尺状の非磁性支持体２上に連
続して金属薄膜を形成することに伴って、るつぼ５内の
原料である強磁性金属材料は、蒸発により減少する。る
つぼ５内の原料の量が変動すると、蒸発量を制御でき
ず、金属薄膜の膜厚が変化する等の不都合が生じる。こ
のため、蒸発により減少した量に相当する原料を、るつ
ぼ５内へ随時供給し、るつぼ５内の原料の量を一定に維
持する必要がある。

【００５２】そこで、本発明を適用した真空蒸着装置１
では、非磁性支持体２上への金属薄膜の形成と同時に、
以下に説明するようにして原料供給部２０によって、原
料をるつぼ５内へ供給する。

【００５３】先ず、インデックスモータ２４を駆動させ
て、例えば予めロッド２１ａが装填された貫通孔２７ａ
の長手方向と押し出し棒２５の進行方向とが一致するよ
うに回転体２２を回転させ、停止させる。

【００５４】次に、モータ２６を駆動させて、押し出し
棒２５を、図２中矢印Ｃ方向へ前進させ、貫通孔２７ａ
内に挿入する。押し出し棒２５を前進させることによっ
て、貫通孔２７ａ内のロッド２１ａは、るつぼ５方向、
すなわち図２中矢印Ｄ方向へ押し出され、るつぼ５と回
転体２２との間に配設された受け台２９に支持される。

【００５５】さらに押し出し棒２５を矢印Ｃ方向へ前進
させると、矢印Ｄ方向へ押し出されたロッド２１ａの先
端部は、るつぼ５の一端の上方に到達し、最終的に電子
ビーム６の走査領域Ｆ内に到達する。電子ビーム６の走
査領域Ｆ内に存在するロッド２１ａの先端部は、電子ビ
ーム６を照射されることにより溶解し、液体状の原料と
してるつぼ５内へ落下する。したがって、押し出し棒２
５を一定の速度で貫通孔２７内へ前進させることによ
り、ロッド２１が徐々に溶解し、原料が一定の速度でる
つぼ５内へ供給されることになる。

【００５６】このときのモータ２６の駆動、すなわち押
し出し棒２５の前進速度を調節することにより、原料の
供給速度を所望の値に調節できる。なお、このときの押
し出し棒２５の前進速度は、任意に設定することが可能
であるが、例えば１０ｍｍ／分〜５０ｍｍ／分程度であ
ることが好ましい。

【００５７】次に、貫通孔２７ａ内のロッド２１ａの押
し出しが完了したら、モータ２６を駆動させることによ
り、押し出し棒２５を図２中矢印Ｅ方向へ移動させ、押
し出し棒２５を貫通孔２７ａの外へ後退させる。

【００５８】なお、このときの押し出し棒２５の後退速
度は、任意に設定することが可能であるが、例えば１０
００ｍｍ／分程度であることが好ましい。

【００５９】次に、インデックスモータ２４を駆動させ
ることにより、例えばロッド２１ｂが装填された隣接す
る貫通孔２７ｂの長手方向と押し出し棒２５の進行方向
とが一致するように、回転体２２を回転させ、停止させ
る。

【００６０】そして、上述したような操作を、貫通孔２
７ｂ、貫通孔２７ｃ・・・に連続して繰り返すことによ
って、大量の、原料供給部２０が保持した全てのロッド
２１を、長時間にわたってるつぼ５内に連続して供給す
ることができる。

【００６１】以上のような真空蒸着方法によれば、従来
のペレット状に成形された原料を用いる場合に比べて安
価な原料であるロッド２１を用いるため、磁気記録媒体
を安価に製造することができる。また、省スペースに
て、非磁性支持体２上に良好な膜質の金属薄膜を、長時
間にわたって成膜することが可能である。

【００６２】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る真空蒸着方法では、周状に配された複数の棒状
の原料を押し出して、当該棒状の原料を加熱・溶解さ
せ、るつぼ内へ液体の状態で原料を供給する。それとと
もに、未使用の棒状の原料を周方向に回転させる。上述
したような操作を繰り返すことにより、大量の原料を長
時間にわたって連続してるつぼ内へ供給することができ
る。したがって、本発明に係る真空蒸着方法によれば、
長時間にわたって基体上に被膜を成膜することが可能で
ある。

【００６３】また、本発明に係る真空蒸着装置は、原料
供給部に装填される原料として、棒状に加工された原料
を使用するため、従来のペレット状に成形された原料を
使用する場合に比べて原料コストが抑えられ、同重量あ
たりの原料の表面に付着する不純物の量を低減でき、原
料の交換作業が短時間で完了する。また、真空蒸着装置
に備えられる原料供給部は、回転体内に、長時間にわた
る連続供給に必要な量の原料を、貫通孔の数に応じて分
割した状態で保持できる。このため、省スペースで大量
の原料を保持可能である。また、長時間にわたる連続供
給に必要な量の原料が、貫通孔の数に応じて分割される
ため、１個あたりの棒状の原料の小型化及び軽量化を図
ることができる。したがって、本発明によれば、安価な
原料を用いて、良好な膜質の被膜を省スペースで長時間
成膜することが可能な真空蒸着装置を提供することが可
能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した真空蒸着装置の一構成例を示
す概略構成図である。

【図２】原料供給部の一構成例を示す側面図である。

【図３】原料供給部を構成する回転体を示す断面斜視図
である。

【図４】回転体に穿設された貫通孔を拡大して示す断面
図である。

【符号の説明】

１ 真空蒸着装置、２ 非磁性支持体、３ 真空室、４
冷却キャン、５ るつぼ、６ 電子ビーム、７ 走査
型電子銃、８ スキャナ、９ 供給軸、１０供給ロー
ル、１１ 巻き取り軸、１２ 巻き取りロール、１３
防着板、１４シャッタ、２０ 原料供給部、２１ ロッ
ド、２２ 回転体、２３ 支軸、２４インデックスモー
タ、２５ 押し出し棒、２６ モータ、２７ 貫通孔、
２８溝、２９ 受け台

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空室内で、るつぼ内に収容された原料
   を加熱手段により溶解させ、蒸発させることによって基
   体上に被膜を形成する真空蒸着方法において、 中心軸に対して周状に配された複数の棒状の原料を順次
   押し出す工程と、これら複数の棒状の原料を周方向に回
   転させる工程とを交互に行い、押し出された棒状の原料
   を加熱・溶解させてるつぼへ供給することを特徴とする
   真空蒸着方法。
2. 【請求項２】 上記加熱手段として、電子銃を用いるこ
   とを特徴とする請求項１記載の真空蒸着方法。
3. 【請求項３】 中心軸に対して周状に配されるとともに
   平行方向に穿設された複数の貫通孔を有する回転体に、
   複数の上記棒状の原料を装填することを特徴とする請求
   項１記載の真空蒸着方法。
4. 【請求項４】 上記回転体の貫通孔内へ進退自在である
   押し出し部材によって、上記棒状の原料を押し出すこと
   を特徴とする請求項３記載の真空蒸着方法。
5. 【請求項５】 上記基体として非磁性支持体を用いるこ
   とを特徴とする請求項１記載の真空蒸着方法。
6. 【請求項６】 上記原料として強磁性金属材料を用いる
   ことを特徴とする請求項１記載の真空蒸着方法。
7. 【請求項７】 基体上に被膜を形成する真空蒸着装置で
   あって、真空室内に、原料を収容するるつぼと、原料を
   溶解させる加熱手段と、るつぼへ原料を供給する原料供
   給部とを有し、 上記原料供給部は、 中心軸に対して回転自在とされ、この中心軸に対して周
   状に配されるとともに平行方向に穿設された複数の貫通
   孔を有し、当該貫通孔が棒状の原料を装填可能である回
   転体と、 上記貫通孔内へ進退自在である押し出し部材とを有する
   ことを特徴とする真空蒸着装置。
8. 【請求項８】 上記加熱手段は、電子銃であることを特
   徴とする請求項７記載の真空蒸着装置。
9. 【請求項９】 上記基体は、非磁性支持体であることを
   特徴とする請求項７記載の真空蒸着装置。
10. 【請求項１０】 上記原料は、強磁性金属材料であるこ
    とを特徴とする請求項７記載の真空蒸着装置。