JP2002193859A - 高純度ビスマスアルコキシドの工業的製造方法 - Google Patents

高純度ビスマスアルコキシドの工業的製造方法

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JP2002193859A JP2000399682A JP2000399682A JP2002193859A JP 2002193859 A JP2002193859 A JP 2002193859A JP 2000399682 A JP2000399682 A JP 2000399682A JP 2000399682 A JP2000399682 A JP 2000399682A JP 2002193859 A JP2002193859 A JP 2002193859A
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Masayoshi Kaneko
公良 金子
Akiyoshi Nagai
明義 永井
Kunitoshi Yoshida
邦俊 吉田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ビスマス層状化合物の薄膜形成剤あるいはビス
マスを含む複合酸化物の中間原料として有用なアルカリ
金属残存量の極めて少ない高純度ビスマスアルコキシド
の工業的製造方法を提供する。 【解決手段】ハロゲン化ビスマスと、これに対して0.
935〜0.960当量のアルカリ金属アルコキシドと
を反応させることを特徴とする、高純度ビスマスアルコ
キシドの工業的製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、超電導性あるいは
強誘電性を有するビスマス層状化合物の薄膜形成剤ある
いはビスマスを含む複合酸化物の中間原料として有用で
あり、不純物としてのアルカリ金属残存量が極めて少な
い高純度ビスマスアルコキシドの工業的製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ビスマスアルコキシドの製造方法はいく
つか知られている。
【0003】「インディアン ジャーナル ケミスト
リー(Indian J.Chem.)」 第4巻 第
537頁(1966年)には、塩化ビスマスと理論量の
アルカリ金属アルコキシドを反応させ、Bi(OM
e)、Bi(OEt)、Bi(OPr−i)を得る方
法が記載されている。
【0004】なお、Meはメチル基、Etはエチル基、
Pr−iはイソプロピル基を示す(以下の記載も同
じ)。
【0005】この方法は、ビスマスアルコキシドを製造
する最も一般的な方法ではあるが、塩化ビスマスに理論
量のアルカリ金属アルコキシドを用いるため、生成物の
ビスマスアルコキシド中に多量のアルカリ金属が不純物
として混入する欠点があった。
【0006】「インオーガニック ケミストリー(I
norganic Chemistry)」 第29巻
第358頁(1990年)には、トリジメチルアミノ
ビスマス Bi(NMe)とアルコ−ルとを反応さ
せ、Bi(OC11−t)あるいはBi(OC
OMe)などを得る方法が記載されている。
【0007】この方法は、原料としてのBi(NMe)
を効率的に製造することが困難であり、工業的規模で
の製造法としては適当とはいいがたい。
【0008】特開平8−217709号公報には、ハ
ロゲン化ビスマスとストロンチウムアルコキシドとを反
応させ、ビスマスアルコキシドを得る方法が記載されて
いる。
【0009】この方法は、アルカリ金属の混入を極く僅
かに抑えられる利点を有しているが、反面ストロンチウ
ムがビスマスアルコキシド中に数千ppmのレベルで混
入するという問題がある。またビスマスアルコキシド製
造の際、3当量のストロンチウムアルコキシドを反応さ
せるため、3当量のハロゲン化ストロンチウムが副生す
ることとなり、この処理工程が必要となるとともに、原
料として高価なストロンチウムを利用する必要があるの
で、経済的ではない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】電子材料、特に半導体
関連分野においては、アルカリ金属は移動し易く、粒界
でリ−ク電流発生の原因となるので、その含有量は極力
少なくすることが求められる。ビスマスアルコキシドの
場合もその例外ではない。一方、金属アルコキシド合成
の面から見ると、従来技術で示したに記載の方法、す
なわちハロゲン化ビスマスとアルカリ金属アルコキシド
との置換反応は、反応の簡便さ、工業的生産の場合の経
済性等の点から最も有効な方法である。しかしながら、
この方法についても不純物としてアルカリ金属を含まな
いようにする技術はまだ提供されていない。したがっ
て、本発明はアルカリ金属をほとんど含まない高純度の
ビスマスアルコキシドの工業的製造方法を提供せんとす
るものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、不純物と
して上記したごとくのアルカリ金属をほとんど含まない
高純度ビスマスアルコキシドの工業的製造方法について
鋭意研究を続けてきた。その結果、ハロゲン化ビスマス
とアルカリ金属アルコキシドとを反応させて、目的とす
るビスマスアルコキシドを製造する方法において、アル
カリ金属アルコキシドを構成するアルカリ金属の反応比
率がハロゲン化ビスマスに対して0.95当量を中心と
した極く狭い範囲でのみ、アルカリ金属含有量の極めて
少ない高純度ビスマスアルコキシドが高収率で得られる
ことを見出した。
【0012】すなわち、本発明は、ハロゲン化ビスマス
と、これに対して理論量より若干少ない量の0.935
〜0.960当量のアルカリ金属アルコキシドとを反応
させることにより、アルカリ金属残存量がビスマスアル
コキシドに対して実質的にゼロに近く、多くても5pp
m以下という極めて微量となるビスマスアルコキシドの
工業的製造方法を見出したのである。
【0013】本発明で製造されるビスマスアルコキシド
としては、アルコキシドがメトキシド、エトキシド、i
-プロポキシド、n-ブトキシド,s−ブトキシド、n−
ペントキシド、s−ペントキシド、n−ヘキソキシド、
n−オクトキシドなどの、炭素数1〜8程度の直鎖状、
もしくは分枝状のアルキル基を有するアルコキシドが挙
げられる。またそれ以外のアルコキシドとして、エチレ
ングリコ−ルのメチルエ−テル、エチルエ−テル、ブチ
ルエ−テル、プロピレングリコ−ルのメチルエ−テルな
どの炭素数3〜6程度のアルコキシアルコ−ルによるア
ルコキシアルコキシドであってもよい。
【0014】本発明で用いるハロゲン化ビスマスとして
は、塩化ビスマス、もしくは臭化ビスマスが使われる。
またアルカリ金属アルコキシドを形成するアルカリ金属
としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが使われる
が、操作性、経済性の点よりナトリウムがより好まし
い。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明は、次に示す方法により実
施することができる。
【0016】製造操作としては、まず、ハロゲン化ビス
マスの所定量を反応容器に入れ、メタノール、エタノー
ル、i−プロパノール、n−プロパノール、n−ブタノ
ール、s−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサ
ノール、n−オクタノール、メトキシエタノール、エト
キシエタノール、ブトキシエタノール、メトキシプロパ
ノール、エトキシプロパノールなどの所望のアルコ−ル
をハロゲン化ビスマス1モルに対して1〜3Lの割合で
加え,ハロゲン化ビスマスを溶解させるか、もしくは懸
濁させる。場合によってはトルエン、キシレン、ベンゼ
ン、もしくはn−ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの
ハイドロカ−ボンを加えた混合溶剤としてもよい。次い
で反応容器をマントルヒ−タ−で加温し,溶剤の還流温
度程度に調節したところへ、ハロゲン化ビスマスの使用
量に対して理論量の0.935〜0.960当量になる
よう精秤したアルカリ金属を少量ずつ投入すると、H
ガスの発生を伴い穏やかに反応が進行する。1〜4時間
加温してアルカリ金属が消失したら、更に2〜8時間加
熱還流して反応を完結させる。
【0017】ここでアルカリ金属を直接投入する代わり
に、別途アルコ−ル類とアルカリ金属とを反応させてア
ルカリ金属アルコキシドを製造した後、ハロゲン化ビス
マスのスラリ−中に注入して反応させ同様に加熱還流し
てもよい。
【0018】反応終了後は、反応液を冷却した後、加圧
もしくは減圧ろ過により副成したアルカリ金属塩を除去
する。遠心沈降による分離も有効な場合がある。ろ過あ
るいは遠心沈降で得た溶液は通常、微細な白色の沈降物
を含有し、濁っているので静置した後、ろ過もしくは遠
心沈降の操作を液が透明になるまで繰り返すことが好ま
しい。
【0019】本発明では、反応に用いるアルカリ金属ア
ルコキシドを構成するアルカリ金属の量が最も重要で、
残存するアルカリ金属の残存量と密接に相関するので、
充分な注意を要する。すなわち、ハロゲン化ビスマスと
それに対してアルカリ金属アルコキシドを理論量に対し
0.960当量以上用いると、残存するアルカリ金属は
ビスマスアルコキシドに対し100ppm以上となり、
好ましくない。一方、アルカリ金属アルコキシドの量が
0.930当量以下になると、未反応のハロゲン化ビス
マスが増加してビスマスアルコキシドの収率がおおむね
60%以下まで低下してしまい、純粋なビスマスアルコ
キシドが得られなくなる。
【0020】このようにして、ハロゲン化ビスマスとア
ルカリ金属アルコキシドとを特定の条件で反応させる
と、アルカリ金属が数ppm以下に規制された高純度の
ビスマスアルコキシドを得ることができる。
【0021】以下、本発明の実施の方法を実施例により
詳細に説明するが、以下の実施例は本発明の一例を示す
ものであって、本発明はこの実施例のみに限定されるも
のではない。
【0022】実施例1 ビスマスn−ブトキシドの製造 500mL容量の丸底フラスコに塩化ビスマスを47.
3g(0.150モル)入れ、トルエン 150mL、
n−ブタノ−ル 80mLを加えて撹拌する。別途30
0mL容量の丸底フラスコにトルエン 120mLを入
れ、次いで金属ナトリウム9.83g(0.428モル
0.950当量)を加えてマントルヒ−タ−で100
〜110℃に加温する。ナトリウムは溶解して撹拌によ
りトルエン中に粒状となって分散する。この中へn−ブ
タノ−ル 100mLを徐々に内温を100〜110℃
に維持しつつ滴下するとHガスを発生して反応し、約
1時間でナトリウムは消失し、ナトリウムn−ブトキシ
ドの白色スラリ−が得られる。このナトリウムn−ブト
キシドのスラリ−を先の塩化ビスマス液中に注入し、n
−ブタノ−ルで洗い入れる。次いでマントルヒ−タ−で
加温し、4時間加熱還流して反応を完結させる。反応物
は黒灰色の粘稠な液体である。冷却後、この粘稠物を吸
引ろ過して副生した食塩を除去する。白濁したろ過液よ
り溶剤を減圧下留去し、残存するタ−ル状粘稠物にトル
エンを100mL加えて撹拌し、溶解する。不溶分があ
ればろ過を繰り返し、最終的に淡黄色透明なビスマスn
−ブトキシドのトルエン溶液を得た。溶液の重量は16
0.0g、ビスマス濃度は0.775モル/Kg、収量
は0.124モル、収率は82.7 %であった。原子
吸光光度計(日立製作所製 偏光ゼーマン原子吸光度計
Z−8100)でこの溶液中のナトリウム量を分析する
と0.6ppm、すなわち、Bi(OBu−n)に対し
ては1.8ppmであった。
【0023】実施例1と同様にして、金属ナトリウム量
を変化させて反応した場合の結果を実施例2〜4および
比較例1〜3として表1に示す。
【0024】
【表1】
【0025】表1から明らかなように、塩化ビスマスに
対して理論量(1.000当量)の金属ナトリウム、す
なわちナトリウムn−ブトキシドを反応させた場合、ビ
スマスn-ブトキシドに対して2300ppmの金属ナ
トリウムが混入する。しかし、0.935〜0.960
当量の金属ナトリウム、すなわちナトリウムn−ブトキ
シドを用いた場合には5ppm以下と極めて低く抑える
ことができる。
【0026】実施例5 ビスマスエトキシドの製造 500mL容量の丸底フラスコに塩化ビスマスを47.
3g(0.150モル)入れ、トルエン250mLおよ
びエタノール150mLを加えて撹拌し、マントルヒー
ターで約70℃に加温する。この中へ金属ナトリウム
9.83g(0.428モル 0.950当量)を少量
ずつ徐々に投入するとHガスを発生しながら穏やかに
反応し、約1時間でナトリウムの投入は終了する。その
後80℃で4時間加熱還流し、反応を完結させる。冷却
後副生した塩を吸引ろ過で除き、ろ過液より溶剤を減圧
下留去する。残存する黄褐色固形物にトルエン80mL
およびエタノール20mLを加えて撹拌して固形物を溶
解する。静置後、黄白色不溶分を再度のろ過で除くと黄
褐色透明なBi(OEt)のトルエン/エタノール溶液
が得られた。溶液の重量は148.5gで、Bi濃度は
0.820モル/Kgであった。収量は0.122モ
ル、収率は81.2%であった。この溶液中のナトリウ
ム濃度は0.6ppm、すなわち、Bi(OEt)
対し2.1ppmであった。
【0027】実施例6 ビスマスi−プロポキシドの製
造 500mL容量の丸底フラスコに塩化ビスマスを47.
3g(0.150モル)入れ、キシレン 200mL,
i−プロパノ−ル 100mLを加えて撹拌し、マント
ルヒ−タ−で約80℃に加温する。この中へ金属リチウ
ム2.95g(0.425モル 0.944当量)を少
量ずつ徐々に投入する。Hガスを発生し穏やかに反応
し、約1時間でリチウムの投入を終了する。その後90
℃で4時間加熱還流して反応を完結させる。冷却後副生
した塩を吸引ろ過で除き、ろ過液より溶剤を減圧下留去
し、残存する黄白色粘稠物にキシレン 100mLを加
え、撹拌してBi(OPr−i)を溶解する。静置後、
微細な白色不溶分を再度のろ過により除き、淡黄色透明
なBi(OPr−i)のキシレン溶液が得られた。溶液
の重量は185.5gで、Bi濃度は0.647モル/
Kgであった。収量は0.120モル、収率は80.0
%であった。この溶液中のリチウム濃度は0.5pp
m,すなわち,Bi(OPr−i)に対しては2.0p
pmであった。
【0028】実施例7 ビスマスエトキシエチレートの
製造 500mL容量の丸底フラスコに臭化ビスマスを67.
3g(0.150モル)入れ、トルエン 150mL、
エチルセルソルブ(エトキシエタノール)80mLを加
えて撹拌する。別途300mL容量の丸底フラスコにト
ルエン 120mL、金属カリウムを16.63g
(0.425モル 0.945当量)入れて撹拌し、マ
ントルヒ−タ−で約80℃に加温する。この中へエチル
セルソルブ100mLを徐々に内温約100℃に維持す
るように滴下する。Hガスを発生しながら反応し,約
1時間で金属カリウムは消失し、KOCOEtの
溶液が得られる。この溶液を先のBiBrの懸濁液中
に注入し、更にマントルヒ−タ−で加温し、約106℃
で4時間加熱還流して反応を完結させる。冷却後吸引ろ
過により副生した臭化ナトリウムを取り除き、ろ過液よ
り溶剤を減圧下留去すると黄色粘稠物が得られる。この
粘稠物にトルエンを100mL加えて撹拌し、溶解後不
溶分を再度ろ過して除く。数回この操作を繰り返して黄
色透明なビスマスエトキシエチレ−トのトルエン溶液を
得る。この溶液の重量は172.3gで、ビスマス濃度
は0.751モル/Kgで、収量は0.129モル、収
率は86.3%であった。原子吸光光度計でカリウム濃
度を分析すると0.7ppm、すなわち、Bi(OC
OEt)に対し2.0ppmであった。
【0029】実施例8 ビスマスメトキシプロピレート
の製造 500mL容量の丸底フラスコに臭化ビスマスを67.
3g(0.150モル)入れ、トルエン 150mL、
1−メトキシ−2−プロパノール 80mLを加えて攪
拌する。別途300mL容量の丸底フラスコにトルエン
120mL、金属ナトリウムを9.83g(0.42
8モル 0.950当量)を入れて攪拌し、マントルヒ
ーターで約100℃に加温する。この中へ1−メトキシ
−2−プロパノール 100mLを内温約100℃に維
持するように徐々に滴下する。H ガスを発生しながら
反応し、約1時間で金属ナトリウムは消失し、NaOC
HMeCH2OMeの溶液が得られる。この溶液を先の
BiBrの懸濁液中に注入し、更にマントルヒーター
で加温し、約110℃で4時間加熱還流して反応を完結させ
る。冷却後、吸引ろ過により副生した臭化ナトリウムを
取り除き、ろ過液より溶剤を減圧下留去すると黄色粘稠
物が得られる。この粘稠物にトルエンを100mL加え
て攪拌し、溶解後不溶分を再度ろ過により除く。数回こ
の操作を繰り返して黄色透明なビスマスメトキシプロピ
レートのトルエン溶液を得る。この溶液の重量は17
5.0gで、ビスマス濃度は0.762モル/Kgで、
収量は0.133モル、収率は88.9%であった。原
子吸光光度計でナトリウム濃度を分析すると0.8pp
m、すなわち、Bi(OCHMeCHOMe)に対
し2.2ppmであった。
【0030】
【発明の効果】本発明によれば、アルカリ金属の含有量
が極めて少ないビスマスアルコキシドを簡便に、かつ工
業的スケ−ルで製造することができる。こうして得られ
たビスマスアルコキシドは、超電導性あるいは強誘電性
の特性を有するビスマス層状化合物の薄膜もしくは微粉
末作製の中間体として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA02 AC42 BC31 BC37 BE62 FE11 FE19 4H050 AA02 BE62 WB13 WB21

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ハロゲン化ビスマスと、これに対して0.
    935〜0.960当量のアルカリ金属アルコキシドと
    を反応させることを特徴とする、高純度ビスマスアルコ
    キシドの工業的製造方法。
  2. 【請求項2】ハロゲン化ビスマスと、これに対して0.
    935〜0.960当量のアルカリ金属アルコキシドと
    を反応させることにより、アルカリ金属の残存量をビス
    マスアルコキシドに対して5ppm以下としたことを特
    徴とする、高純度ビスマスアルコキシドの工業的製造方
    法。
  3. 【請求項3】ハロゲン化ビスマスが塩化ビスマスあるい
    は臭化ビスマスであり、アルカリ金属アルコキシドのア
    ルカリ金属がナトリウム、リチウムあるいはカリウムで
    あり、アルカリ金属アルコキシドのアルキル基が炭素数
    1〜8の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基あるいは炭
    素数3〜6の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシアルキ
    ル基であることを特徴とする、請求項1〜2記載の高純
    度ビスマスアルコキシドの工業的製造方法。
  4. 【請求項4】 ハロゲン化ビスマスが塩化ビスマスであ
    り、アルカリ金属アルコキシドがナトリウムn-ブトキ
    シドであることを特徴とする、請求項1〜3に記載の高
    純度ビスマスn−ブトキシドの工業的製造方法。
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JP2015157766A (ja) * 2014-02-21 2015-09-03 東ソー・ファインケム株式会社 アルキルビスマスアルコキシド化合物およびその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015157766A (ja) * 2014-02-21 2015-09-03 東ソー・ファインケム株式会社 アルキルビスマスアルコキシド化合物およびその製造方法

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