JP2002190638A - レーザダイオード装置およびレーザダイオード励起固体レーザ装置 - Google Patents
レーザダイオード装置およびレーザダイオード励起固体レーザ装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザダイオードの冷却液に細菌やバクテリ
アなどが発生するのを防止して、冷却液が通るフィルタ
などの劣化を防ぎ、これらの耐久性を向上させる。 【解決手段】 レーザダイオード（１２）を冷却する冷
却液を循環させる冷却装置（２６）を備えるレーザダイ
オード装置において、冷却液の循環路（３４）に冷却液
を殺菌する殺菌機構（４０）を設けた。殺菌機構（４
０）は、冷却液の循環路（３４）に設けた迂回路（３
６）に設けてもよい。この迂回路（３６）に流量可変バ
ルブ（４２、４４）を設けてもよい。殺菌機構（４０）
は循環路（３４）に対して着脱可能として、定期的に殺
菌処理してもよい。殺菌機構（４０）は紫外線ランプの
紫外線で殺菌するものや、ヒータによる加熱により殺菌
するものが適する。殺菌機構（４０）は放電ランプを用
いたランプ励起機構で兼用してもよい。
アなどが発生するのを防止して、冷却液が通るフィルタ
などの劣化を防ぎ、これらの耐久性を向上させる。 【解決手段】 レーザダイオード（１２）を冷却する冷
却液を循環させる冷却装置（２６）を備えるレーザダイ
オード装置において、冷却液の循環路（３４）に冷却液
を殺菌する殺菌機構（４０）を設けた。殺菌機構（４
０）は、冷却液の循環路（３４）に設けた迂回路（３
６）に設けてもよい。この迂回路（３６）に流量可変バ
ルブ（４２、４４）を設けてもよい。殺菌機構（４０）
は循環路（３４）に対して着脱可能として、定期的に殺
菌処理してもよい。殺菌機構（４０）は紫外線ランプの
紫外線で殺菌するものや、ヒータによる加熱により殺菌
するものが適する。殺菌機構（４０）は放電ランプを用
いたランプ励起機構で兼用してもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液冷式のレーザ
ダイオードを有するレーザダイオード装置と、液冷式の
レーザダイオードを励起光源としてレーザダイオードお
よび固体レーザ媒質を冷却液で冷却する固体レーザ装置
とに関するものである。
ダイオードを有するレーザダイオード装置と、液冷式の
レーザダイオードを励起光源としてレーザダイオードお
よび固体レーザ媒質を冷却液で冷却する固体レーザ装置
とに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来一般に広く用いられているランプ励
起固体レーザ装置は、グローランプやフラッシュランプ
やアークランプなどのランプ（放電管）を励起光源とす
る。この装置では固体レーザ媒質および励起ランプを励
起チャンバに収容し、この励起チャンバに冷却液を循環
させることによって冷却している。
起固体レーザ装置は、グローランプやフラッシュランプ
やアークランプなどのランプ（放電管）を励起光源とす
る。この装置では固体レーザ媒質および励起ランプを励
起チャンバに収容し、この励起チャンバに冷却液を循環
させることによって冷却している。
【０００３】ここに用いる冷却液として純水や一般水
（水道水など）を用いるものがある。純水を用いる場合
には、イオン交換樹脂やフィルタを用いて純水の電気抵
抗を維持したりゴミを除去している。また一般水を用い
る場合は電気抵抗の多少の変化を問題としない場合であ
るが、この場合でもゴミを除去するために少なくともフ
ィルタは用いるのが一般的である。
（水道水など）を用いるものがある。純水を用いる場合
には、イオン交換樹脂やフィルタを用いて純水の電気抵
抗を維持したりゴミを除去している。また一般水を用い
る場合は電気抵抗の多少の変化を問題としない場合であ
るが、この場合でもゴミを除去するために少なくともフ
ィルタは用いるのが一般的である。
【０００４】一方励起光源として液冷式のレーザダイオ
ードを用いたレーザダイオード励起固体レーザ装置も知
られている。この装置においても固体レーザ媒質やレー
ザダイオードを冷却する必要があり、これらに冷却液を
循環させる冷却装置を設けている。
ードを用いたレーザダイオード励起固体レーザ装置も知
られている。この装置においても固体レーザ媒質やレー
ザダイオードを冷却する必要があり、これらに冷却液を
循環させる冷却装置を設けている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしこのようなレー
ザダイオード励起固体レーザ装置では、冷却装置に設け
るイオン交換樹脂やフィルタが目詰まりなどによって劣
化し易く、これらの耐久性が前記ランプ励起のものに比
べて著しく悪くなるという問題があることが解った。
ザダイオード励起固体レーザ装置では、冷却装置に設け
るイオン交換樹脂やフィルタが目詰まりなどによって劣
化し易く、これらの耐久性が前記ランプ励起のものに比
べて著しく悪くなるという問題があることが解った。
【０００６】また同様の問題は、液冷式レーザダイオー
ド装置でも生じることが解った。すなわちレーザダイオ
ード装置は固体レーザ装置の励起に用いるだけでなく、
マーキング用などの種々の用途に用いられるが、このレ
ーザダイオード装置においてもフィルタなどが目詰まり
などにより劣化し易く、その耐久性が悪いという問題が
あった。
ド装置でも生じることが解った。すなわちレーザダイオ
ード装置は固体レーザ装置の励起に用いるだけでなく、
マーキング用などの種々の用途に用いられるが、このレ
ーザダイオード装置においてもフィルタなどが目詰まり
などにより劣化し易く、その耐久性が悪いという問題が
あった。
【０００７】発明者は劣化したイオン交換樹脂やフィル
タを詳細に調べた結果、この劣化の原因は冷却液に細菌
やバクテリアが繁殖するためであることを知った。これ
らの細菌やバクテリアは、装置製作当初の洗浄状態や使
用環境等により発生すると考えられる。なお前記ランプ
励起の装置で従来このような問題が発生していないの
は、放電管が発生する紫外線の殺菌作用や、放電管に加
わる高電圧大電流が冷却液を電気分解した結果発生する
イオンの殺菌作用などがあるためであると考えられる。
タを詳細に調べた結果、この劣化の原因は冷却液に細菌
やバクテリアが繁殖するためであることを知った。これ
らの細菌やバクテリアは、装置製作当初の洗浄状態や使
用環境等により発生すると考えられる。なお前記ランプ
励起の装置で従来このような問題が発生していないの
は、放電管が発生する紫外線の殺菌作用や、放電管に加
わる高電圧大電流が冷却液を電気分解した結果発生する
イオンの殺菌作用などがあるためであると考えられる。
【０００８】この発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、液冷式のレーザダイオードの冷却液に細菌
やバクテリアなどが発生するのを防止して、冷却液が通
るフィルタなどの劣化を防ぎ、これらの耐久性を向上さ
せることができるレーザダイオード装置を提供すること
を第１の目的とする。
ものであり、液冷式のレーザダイオードの冷却液に細菌
やバクテリアなどが発生するのを防止して、冷却液が通
るフィルタなどの劣化を防ぎ、これらの耐久性を向上さ
せることができるレーザダイオード装置を提供すること
を第１の目的とする。
【０００９】またこのレーザダイオード装置を利用した
レーザダイオード励起固体レーザ装置を提供することを
第２の目的とする。
レーザダイオード励起固体レーザ装置を提供することを
第２の目的とする。
【００１０】
【発明の構成】この発明によればこの目的は、液冷式レ
ーザダイオードを冷却する冷却液を循環させる冷却装置
を備えるレーザダイオード装置において、前記冷却液の
循環路に冷却液を殺菌する殺菌機構を設けたことを特徴
とするレーザダイオード装置、により達成される。
ーザダイオードを冷却する冷却液を循環させる冷却装置
を備えるレーザダイオード装置において、前記冷却液の
循環路に冷却液を殺菌する殺菌機構を設けたことを特徴
とするレーザダイオード装置、により達成される。
【００１１】この発明によれば第２の目的は、液冷式レ
ーザダイオードを励起光源として固体レーザ媒質を励起
すると共に、前記固体レーザ媒質およびレーザダイオー
ドを冷却する冷却液を循環させる冷却装置を備えるレー
ザダイオード励起固体レーザ装置において、前記冷却液
の循環路に冷却液を殺菌する殺菌機構を設けたことを特
徴とするレーザダイオード励起固体レーザ装置、により
達成される。
ーザダイオードを励起光源として固体レーザ媒質を励起
すると共に、前記固体レーザ媒質およびレーザダイオー
ドを冷却する冷却液を循環させる冷却装置を備えるレー
ザダイオード励起固体レーザ装置において、前記冷却液
の循環路に冷却液を殺菌する殺菌機構を設けたことを特
徴とするレーザダイオード励起固体レーザ装置、により
達成される。
【００１２】殺菌機構は、冷却液の循環路に設けた迂回
路に設けてもよく、この場合にはこの迂回路に流れる流
量を制御する流量可変バルブを設けることにより殺菌処
理量や頻度などを制御できる。すなわち殺菌処理は必ず
しも常時行う必要が無く定期的に行ってもよいし、冷却
液の一部を殺菌し続ければ足りることがあるからであ
る。従って殺菌機構は循環路に対して着脱可能として、
定期的に殺菌処理するようにしてもよい。
路に設けてもよく、この場合にはこの迂回路に流れる流
量を制御する流量可変バルブを設けることにより殺菌処
理量や頻度などを制御できる。すなわち殺菌処理は必ず
しも常時行う必要が無く定期的に行ってもよいし、冷却
液の一部を殺菌し続ければ足りることがあるからであ
る。従って殺菌機構は循環路に対して着脱可能として、
定期的に殺菌処理するようにしてもよい。
【００１３】殺菌機構は紫外線ランプの紫外線で殺菌す
るものや、ヒータによる加熱により殺菌するものが適す
る。冷却液に殺菌用の薬剤を添加するものであってもよ
いが、通常は冷却液の特性が変わって悪影響を及ぼす恐
れがあるので好ましくない。
るものや、ヒータによる加熱により殺菌するものが適す
る。冷却液に殺菌用の薬剤を添加するものであってもよ
いが、通常は冷却液の特性が変わって悪影響を及ぼす恐
れがあるので好ましくない。
【００１４】殺菌機構は放電ランプを用いたランプ励起
機構で兼用してもよい。すなわち励起光源としてレーザ
ダイオードと放電ランプとを併用し、これら両者に共通
の冷却液を循環させるものである。このようにすれば独
立した殺菌機構を設ける必要が無くなる。
機構で兼用してもよい。すなわち励起光源としてレーザ
ダイオードと放電ランプとを併用し、これら両者に共通
の冷却液を循環させるものである。このようにすれば独
立した殺菌機構を設ける必要が無くなる。
【００１５】
【実施態様】図１は本発明の一実施態様であるレーザダ
イオード（ＬＤ）励起固体レーザ装置の概念図である。
この図において符号１０はＮｄ：ＹＡＧなどの固体レー
ザ媒質（ＹＡＧロッド）であり、断面円形のロッド状で
ある。１２は複数のレーザダイオード（ＬＤ）を設けた
レーザダイオードモジュールである。
イオード（ＬＤ）励起固体レーザ装置の概念図である。
この図において符号１０はＮｄ：ＹＡＧなどの固体レー
ザ媒質（ＹＡＧロッド）であり、断面円形のロッド状で
ある。１２は複数のレーザダイオード（ＬＤ）を設けた
レーザダイオードモジュールである。
【００１６】固体レーザ媒質１０とＬＤモジュール１２
は励起チャンバ１４に収容されている。この励起チャン
バ１４内には冷却液が流れて、固体レーザ媒質１０およ
びＬＤモジュール１２を冷却する。
は励起チャンバ１４に収容されている。この励起チャン
バ１４内には冷却液が流れて、固体レーザ媒質１０およ
びＬＤモジュール１２を冷却する。
【００１７】なお実際の構造は、励起チャンバ１４に固
体レーザ媒質１０だけを収容し、ＬＤモジュール１２は
この励起チャンバ１４の外側からガラスウィンドウを通
して中の固体レーザ媒質にレーザビームを当てるように
作られている。この場合冷却液は励起チャンバ１４内と
ＬＤモジュール１２内を別々に循環する。図１ではこの
冷却液の流路を簡単に示すため、励起チャンバ１４内に
ＬＤモジュール１２を入れて示したにすぎない。
体レーザ媒質１０だけを収容し、ＬＤモジュール１２は
この励起チャンバ１４の外側からガラスウィンドウを通
して中の固体レーザ媒質にレーザビームを当てるように
作られている。この場合冷却液は励起チャンバ１４内と
ＬＤモジュール１２内を別々に循環する。図１ではこの
冷却液の流路を簡単に示すため、励起チャンバ１４内に
ＬＤモジュール１２を入れて示したにすぎない。
【００１８】１６はこのＬＤモジュール１２を駆動する
ためのドライバ回路、１８はその制御回路である。２０
は全反射鏡、２２は出力鏡であり、これらは固体レーザ
媒質１０の両端面に対向している。出力鏡２２の光反射
率は全反射鏡２０より僅かに小さい。ＬＤモジュール１
２が出力する励起光は固体レーザ媒質１０に含まれた動
作物質（Ｎｄイオン）を光ポンピングして、動作物質の
エネルギー順位間に反転分布状態を創り出す。そして全
反射鏡２０と出力鏡２２との条件が満たされるとレーザ
発振が起こり、レーザビームすなわちレーザ発振出力２
４が出力される。
ためのドライバ回路、１８はその制御回路である。２０
は全反射鏡、２２は出力鏡であり、これらは固体レーザ
媒質１０の両端面に対向している。出力鏡２２の光反射
率は全反射鏡２０より僅かに小さい。ＬＤモジュール１
２が出力する励起光は固体レーザ媒質１０に含まれた動
作物質（Ｎｄイオン）を光ポンピングして、動作物質の
エネルギー順位間に反転分布状態を創り出す。そして全
反射鏡２０と出力鏡２２との条件が満たされるとレーザ
発振が起こり、レーザビームすなわちレーザ発振出力２
４が出力される。
【００１９】次に冷却装置２６を説明する。冷却装置２
６は励起チャンバ１４と、フィルタ２８と、循環液ポン
プ（Ｐ）３０と、熱交換器３２とをつなぐ循環路３４を
持つ。ポンプ３０には迂回路３６が設けられている。こ
の迂回路３６には、イオン交換樹脂３８と殺菌機構４０
とが並列接続されている。これらイオン交換樹脂３８お
よび殺菌機構４０にはそれぞれ流量可変バルブ４２，４
４が直列に取付けられている。
６は励起チャンバ１４と、フィルタ２８と、循環液ポン
プ（Ｐ）３０と、熱交換器３２とをつなぐ循環路３４を
持つ。ポンプ３０には迂回路３６が設けられている。こ
の迂回路３６には、イオン交換樹脂３８と殺菌機構４０
とが並列接続されている。これらイオン交換樹脂３８お
よび殺菌機構４０にはそれぞれ流量可変バルブ４２，４
４が直列に取付けられている。
【００２０】冷却液は純水あるいは一般水であり、循環
路３４を実線矢印（→）方向または破線矢印（−→）方
向に流れる。冷却液は固体レーザ媒質１０およびＬＤモ
ジュール１２から熱を奪い、奪った熱を熱交換器３２で
外部へ放出する。フィルタ２８は冷却液に含まれるゴミ
を除去する。イオン交換樹脂３８は冷却液にレーザビー
ムが当たることにより発生するイオンを除去して電気抵
抗を調整する。殺菌機構４０は紫外線ランプを内蔵し冷
却液に紫外線を照射して細菌やバクテリアを殺す。この
殺菌機構４０は冷却液を加熱することによって殺菌する
ヒータであってもよい。
路３４を実線矢印（→）方向または破線矢印（−→）方
向に流れる。冷却液は固体レーザ媒質１０およびＬＤモ
ジュール１２から熱を奪い、奪った熱を熱交換器３２で
外部へ放出する。フィルタ２８は冷却液に含まれるゴミ
を除去する。イオン交換樹脂３８は冷却液にレーザビー
ムが当たることにより発生するイオンを除去して電気抵
抗を調整する。殺菌機構４０は紫外線ランプを内蔵し冷
却液に紫外線を照射して細菌やバクテリアを殺す。この
殺菌機構４０は冷却液を加熱することによって殺菌する
ヒータであってもよい。
【００２１】この実施態様において、固体レーザ装置の
作動中には、ＬＤモジュール１２がレーザビームを固体
レーザ媒質１０に向って射出する。固定レーザ媒質１０
およびＬＤモジュール１２の熱は冷却液に吸収される。
冷却液は冷却装置２６により熱交換器３２に送られ、こ
こで冷却される。フィルタ２８は冷却液の中のゴミなど
を除去する。なお単体の細菌やバクテリアは、フィルタ
２８の微細な孔の大きさに比べて著しく小さいから、フ
ィルタ２８には捕獲されない。冷却液のイオンはイオン
交換樹脂３８で除去されて電気抵抗が調整され、細菌や
バクテリアは殺菌機構４０で殺菌される。
作動中には、ＬＤモジュール１２がレーザビームを固体
レーザ媒質１０に向って射出する。固定レーザ媒質１０
およびＬＤモジュール１２の熱は冷却液に吸収される。
冷却液は冷却装置２６により熱交換器３２に送られ、こ
こで冷却される。フィルタ２８は冷却液の中のゴミなど
を除去する。なお単体の細菌やバクテリアは、フィルタ
２８の微細な孔の大きさに比べて著しく小さいから、フ
ィルタ２８には捕獲されない。冷却液のイオンはイオン
交換樹脂３８で除去されて電気抵抗が調整され、細菌や
バクテリアは殺菌機構４０で殺菌される。
【００２２】冷却液中に発生する不用なイオン量、細菌
あるいはバクテリアの量は装置の運転状況などによって
変わる。そこでこの場合にはイオン交換樹脂３８や殺菌
機構４０に通す冷却液の流量を流量可変バルブ４２，４
４によって制御すればよい。またこれらのバルブ４２，
４４を制御することによって励起チャンバ１４に流れる
冷却液量を制御することもできる。
あるいはバクテリアの量は装置の運転状況などによって
変わる。そこでこの場合にはイオン交換樹脂３８や殺菌
機構４０に通す冷却液の流量を流量可変バルブ４２，４
４によって制御すればよい。またこれらのバルブ４２，
４４を制御することによって励起チャンバ１４に流れる
冷却液量を制御することもできる。
【００２３】
【他の実施態様】図２〜４は冷却装置の他の実施態様を
示す。これらの図では図１と同一部分に同一符号を付し
たからその説明は繰り返さない。
示す。これらの図では図１と同一部分に同一符号を付し
たからその説明は繰り返さない。
【００２４】図２に示した冷却装置２６Ａは循環路３４
Ａに殺菌機構４０を設け、ポンプ３０および殺菌機構４
０を迂回する迂回路３６Ａにイオン交換樹脂３８および
バルブ４２を設けたものである。この実施態様によれば
冷却液は装置の作動中は常に殺菌機構４０に流れるか
ら、殺菌効果が大きくなる。
Ａに殺菌機構４０を設け、ポンプ３０および殺菌機構４
０を迂回する迂回路３６Ａにイオン交換樹脂３８および
バルブ４２を設けたものである。この実施態様によれば
冷却液は装置の作動中は常に殺菌機構４０に流れるか
ら、殺菌効果が大きくなる。
【００２５】図３に示した冷却装置２６Ｂは、循環路３
４Ｂに殺菌機構４０を設け、励起チャンバ１４に流れる
冷却液が全量殺菌機構４０に流れるようにする。またポ
ンプ３０を迂回する迂回路３６Ｂにイオン交換樹脂３８
およびバルブ４２を設けた。
４Ｂに殺菌機構４０を設け、励起チャンバ１４に流れる
冷却液が全量殺菌機構４０に流れるようにする。またポ
ンプ３０を迂回する迂回路３６Ｂにイオン交換樹脂３８
およびバルブ４２を設けた。
【００２６】図４に示した冷却装置２６Ｃは、循環路３
４Ｃにポンプ３０を迂回する２つの迂回路３６Ｃ1、お
よび３６Ｃ2を設け、これらの迂回路３６Ｃ1，３６Ｃ2
にそれぞれイオン交換樹脂３８およびバルブ４２と殺菌
機構４０およびバルブ４４を設けた。
４Ｃにポンプ３０を迂回する２つの迂回路３６Ｃ1、お
よび３６Ｃ2を設け、これらの迂回路３６Ｃ1，３６Ｃ2
にそれぞれイオン交換樹脂３８およびバルブ４２と殺菌
機構４０およびバルブ４４を設けた。
【００２７】以上の各実施態様では、独立の殺菌機構４
０を設けたものである。しかし固体レーザ媒質の励起光
源として、ＬＤモジュール１２と共に放電管（グローラ
ンプ、フラッシュランプ、クリプトンランプなど）を併
用する場合には、このランプ励起光源の冷却路にＬＤモ
ジュール１２の冷却液の全部または一部を導くことによ
り、ランプ励起光源を殺菌機構として利用することがで
きる。
０を設けたものである。しかし固体レーザ媒質の励起光
源として、ＬＤモジュール１２と共に放電管（グローラ
ンプ、フラッシュランプ、クリプトンランプなど）を併
用する場合には、このランプ励起光源の冷却路にＬＤモ
ジュール１２の冷却液の全部または一部を導くことによ
り、ランプ励起光源を殺菌機構として利用することがで
きる。
【００２８】
【他の実施態様】以上のように図１〜４に示した実施態
様は、いずれも固体レーザ媒質１０およびレーザダイオ
ード（ＬＤモジュール）１２を共に励起チャンバ１４に
収容し、この励起チャンバ１４に供給した共通の冷却液
をこれら固体レーザ媒質１０およびＬＤモジュール１２
に流すものであった。この発明は固体レーザ媒質１０と
ＬＤモジュール１２とを別々の冷却装置で冷却するもの
を含む。
様は、いずれも固体レーザ媒質１０およびレーザダイオ
ード（ＬＤモジュール）１２を共に励起チャンバ１４に
収容し、この励起チャンバ１４に供給した共通の冷却液
をこれら固体レーザ媒質１０およびＬＤモジュール１２
に流すものであった。この発明は固体レーザ媒質１０と
ＬＤモジュール１２とを別々の冷却装置で冷却するもの
を含む。
【００２９】図５はそのような実施態様の概念図であ
る。すなわち、冷却装置２６は固体レーザ媒質１０を収
容する励起チャンバ１４ａだけに冷却液を循環させ、ま
たＬＤモジュール１２には別の冷却装置２６ａから冷却
液を循環させる。ここに冷却装置２６ａは前記冷却装置
２６と同じ構成とすることができるから、同一部分に同
一符号を付すことにより、その説明は繰り返さない。
る。すなわち、冷却装置２６は固体レーザ媒質１０を収
容する励起チャンバ１４ａだけに冷却液を循環させ、ま
たＬＤモジュール１２には別の冷却装置２６ａから冷却
液を循環させる。ここに冷却装置２６ａは前記冷却装置
２６と同じ構成とすることができるから、同一部分に同
一符号を付すことにより、その説明は繰り返さない。
【００３０】この実施態様によれば、固体レーザ媒質１
０とＬＤモジュール１２の冷却液を別にして、それぞれ
に最適なものを使用することが可能になる。また冷却装
置２６、２６ａはそれぞれに最適な構成のものが使用で
きることになる。例えばフィルタ２８やイオン交換樹脂
３８の特性を変えたり、場合によってはイオン交換樹脂
３８などを省いたりしてもよい。
０とＬＤモジュール１２の冷却液を別にして、それぞれ
に最適なものを使用することが可能になる。また冷却装
置２６、２６ａはそれぞれに最適な構成のものが使用で
きることになる。例えばフィルタ２８やイオン交換樹脂
３８の特性を変えたり、場合によってはイオン交換樹脂
３８などを省いたりしてもよい。
【００３１】
【他の実施態様】以上の各実施態様は、いずれもレーザ
ダイオード（ＬＤモジュール）１２によって固体レーザ
媒質１０を励起するものである。しかしここで用いたレ
ーザダイオード装置は、他の用途、例えばマーキング装
置などに用いるものを包含する。
ダイオード（ＬＤモジュール）１２によって固体レーザ
媒質１０を励起するものである。しかしここで用いたレ
ーザダイオード装置は、他の用途、例えばマーキング装
置などに用いるものを包含する。
【００３２】図６は他の用途にも使用可能にしたレーザ
ダイオード装置の概念図である。この図において、冷却
装置２６Ｄは前記図１、５に示した冷却装置２６と同じ
構成であるから、これらの同一部分に同一符号を付すこ
とによりその説明は繰り返さない。この実施態様におい
ては、冷却装置２６ＤはＬＤモジュール１２のみを冷却
する。
ダイオード装置の概念図である。この図において、冷却
装置２６Ｄは前記図１、５に示した冷却装置２６と同じ
構成であるから、これらの同一部分に同一符号を付すこ
とによりその説明は繰り返さない。この実施態様におい
ては、冷却装置２６ＤはＬＤモジュール１２のみを冷却
する。
【００３３】この実施態様によれば、レーザダイオード
１２の冷却液は殺菌機構４０を通る際に殺菌され得る。
このため冷却液に殺菌やバクテリアが繁殖せず、フィル
タ２８やイオン交換樹脂３８などに目詰まりが発生する
のを防いでこれらの耐久性を向上させることができる。
１２の冷却液は殺菌機構４０を通る際に殺菌され得る。
このため冷却液に殺菌やバクテリアが繁殖せず、フィル
タ２８やイオン交換樹脂３８などに目詰まりが発生する
のを防いでこれらの耐久性を向上させることができる。
【００３４】
【発明の効果】請求項１〜２の発明は以上のように、液
冷式レーザダイオードの冷却液が殺菌機構を通るように
したものであるから、この殺菌機構によって冷却液に発
生する雑菌やバクテリアなど殺すことができる。このた
め細菌やバクテリアの繁殖によってフィルタやイオン交
換樹脂などに目詰まりを発生させたりこれらを劣化させ
たりする恐れが少くなり、これらの耐久性を向上させる
ことができる。
冷式レーザダイオードの冷却液が殺菌機構を通るように
したものであるから、この殺菌機構によって冷却液に発
生する雑菌やバクテリアなど殺すことができる。このた
め細菌やバクテリアの繁殖によってフィルタやイオン交
換樹脂などに目詰まりを発生させたりこれらを劣化させ
たりする恐れが少くなり、これらの耐久性を向上させる
ことができる。
【００３５】請求項３〜１１の発明によれば、このレー
ザダイオード装置を用いたレーザダイオード励起固体レ
ーザ装置が得られる。
ザダイオード装置を用いたレーザダイオード励起固体レ
ーザ装置が得られる。
【図１】本発明の固体レーザ装置の一実施態様を示す図
【図２】冷却装置の他の実施態様を示す図
【図３】冷却装置の他の実施態様を示す図
【図４】冷却装置の他の実施態様を示す図
【図５】本発明の他の実施態様を示す図
【図６】レーザダイオード装置の概念図
１０ 固体レーザ媒質 １２ レーザダイオードモジュール １４、１４ａ 励起チャンバ ２６、２６Ａ〜Ｄ 冷却装置 ２８ フィルタ ３０ ポンプ ３２ 熱交換器 ３４、３４Ａ〜Ｃ 循環路 ３６、３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃ1、３６Ｃ2 迂回路 ３８ イオン交換樹脂 ４０ 殺菌機構 ４２、４４ 流量可変バルブ
Claims (11)
- 【請求項１】 液冷式レーザダイオードを冷却する冷却
液を循環させる冷却装置を備えるレーザダイオード装置
において、 前記冷却液の循環路に冷却液を殺菌する殺菌機構を設け
たことを特徴とするレーザダイオード装置。 - 【請求項２】 殺菌機構は、レーザダイオードと循環ポ
ンプと熱交換器とをつなぐ循環路に設けた迂回路に設け
られている請求項１のレーザダイオード装置。 - 【請求項３】 冷却式レーザダイオードを励起光源とし
て固体レーザ媒質を励起すると共に、前記固体レーザ媒
質およびレーザダイオードを冷却する冷却液を循環させ
る冷却装置を備えるレーザダイオード励起固体レーザ装
置において、 前記冷却液の循環路に冷却液を殺菌する殺菌機構を設け
たことを特徴とするレーザダイオード励起固体レーザ装
置。 - 【請求項４】 固体レーザ媒質を冷却する冷却液を循環
させる冷却装置と、レーザダイオードを冷却する冷却液
を循環させる冷却装置とが別々に設けられている請求項
３のレーザダイオード励起固体レーザ装置。 - 【請求項５】 固体レーザ媒質およびレーザダイオード
を冷却する冷却液は共通の冷却装置を循環する請求項３
のレーザダイオード励起固体レーザ装置。 - 【請求項６】 殺菌機構は、固体レーザ媒質およびレー
ザダイオードを収容する励起チャンバと循環液ポンプと
熱交換器とをつなぐ循環路に設けた迂回路に設けられて
いる請求項５のレーザダイオード励起固体レーザ装置。 - 【請求項７】 殺菌機構を設けた迂回路には、この迂回
路を通る冷却液の流量を制御する流量可変バルブが設け
られている請求項６のレーザダイオード励起固体レーザ
装置。 - 【請求項８】 殺菌機構は循環路に着脱可能である請求
項３〜７のいずれかのレーザダイオード励起固体レーザ
装置。 - 【請求項９】 殺菌機構は紫外線ランプを有する請求項
３〜８のいずれかのレーザダイオード励起固体レーザ装
置。 - 【請求項１０】 殺菌機構は冷却液を加熱して殺菌する
ヒータを有する請求項３〜８のいずれかのレーザダイオ
ード励起固体レーザ装置。 - 【請求項１１】 固体レーザ媒質の励起光源としてレー
ザダイオードの他に放電管を備え、レーザダイオードの
冷却液と前記放電管の冷却液とを共通にして前記放電管
を殺菌機構とした請求項３または５のレーザダイオード
励起固体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001312167A JP2002190638A (ja) | 2000-10-10 | 2001-10-10 | レーザダイオード装置およびレーザダイオード励起固体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-309173 | 2000-10-10 | ||
| JP2000309173 | 2000-10-10 | ||
| JP2001312167A JP2002190638A (ja) | 2000-10-10 | 2001-10-10 | レーザダイオード装置およびレーザダイオード励起固体レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002190638A true JP2002190638A (ja) | 2002-07-05 |
Family
ID=26601776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001312167A Pending JP2002190638A (ja) | 2000-10-10 | 2001-10-10 | レーザダイオード装置およびレーザダイオード励起固体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002190638A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1617529A2 (en) * | 2004-07-14 | 2006-01-18 | Fanuc Ltd | Laser unit comprising a circuit for cooling water |
| CN100349333C (zh) * | 2004-07-14 | 2007-11-14 | 发那科株式会社 | 激光装置 |
| JP2008300535A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Shibaura Mechatronics Corp | レーザ装置および冷却液の電気抵抗の測定方法 |
| JP2008300532A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Shibaura Mechatronics Corp | レーザ装置および冷却液の電気抵抗の測定方法 |
| JP2009064986A (ja) * | 2007-09-06 | 2009-03-26 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 光源装置 |
-
2001
- 2001-10-10 JP JP2001312167A patent/JP2002190638A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1617529A2 (en) * | 2004-07-14 | 2006-01-18 | Fanuc Ltd | Laser unit comprising a circuit for cooling water |
| EP1617529A3 (en) * | 2004-07-14 | 2006-06-14 | Fanuc Ltd | Laser unit comprising a circuit for cooling water |
| CN100349333C (zh) * | 2004-07-14 | 2007-11-14 | 发那科株式会社 | 激光装置 |
| JP2008300535A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Shibaura Mechatronics Corp | レーザ装置および冷却液の電気抵抗の測定方法 |
| JP2008300532A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Shibaura Mechatronics Corp | レーザ装置および冷却液の電気抵抗の測定方法 |
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