JP2002190629A - Method for manufacturing piezoelectric element - Google Patents

Method for manufacturing piezoelectric element

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JP2002190629A
JP2002190629A JP2001153562A JP2001153562A JP2002190629A JP 2002190629 A JP2002190629 A JP 2002190629A JP 2001153562 A JP2001153562 A JP 2001153562A JP 2001153562 A JP2001153562 A JP 2001153562A JP 2002190629 A JP2002190629 A JP 2002190629A
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JP
Japan
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reinforcing plate
piezoelectric material
substrate made
adhesive
plate
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JP2001153562A
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Japanese (ja)
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Atsushi Sugisono
敦之 杉園
Shinji Murakami
信治 村上
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Hitachi Metals Ltd
Original Assignee
Sumitomo Special Metals Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a piezoelectric element in which a substrate of piezoelectric material having high planarity and parallelism can be formed without having any adverse effect on the resonance characteristics thereof. SOLUTION: The method for manufacturing a piezoelectric element comprises a step for making trenches 1a on the surface of a reinforcing plate 1, and a step for bonding the reinforcing plate 1 to a quartz plate (a substrate of piezoelectric material) 2 by introducing an adhesive having fluidity into the trenches 1a of the reinforcing plate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、圧電素子の製造
方法に関し、より特定的には、圧電材料からなる基板に
補強板を貼り付けた状態で圧電材料からなる基板を加工
する圧電素子の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a piezoelectric element, and more particularly, to a method for manufacturing a piezoelectric element by processing a substrate made of a piezoelectric material with a reinforcing plate attached to the substrate made of the piezoelectric material. About the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器における情報量の増大と
高速化に伴って、電子機器の発振周波数とクロック周波
数の高周波化が求められている。そのため、たとえば、
圧電材料からなる圧電素子の一例である水晶振動子は、
100MHz以上の基本波共振周波数を持つことが要求
されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as the amount of information in electronic devices has increased and the speed has increased, the oscillation frequency and clock frequency of electronic devices have been required to be higher. So, for example,
Quartz crystal resonator, which is an example of a piezoelectric element made of a piezoelectric material,
It is required to have a fundamental resonance frequency of 100 MHz or more.

【0003】ここで、厚み滑り水晶振動子の場合は、厚
みによって共振周波数が決定される。このため、水晶板
に100MHz以上の基本波共振周波数を持たせるため
には、水晶板を20μm以下に薄くする必要がある。こ
の場合、水晶板が薄くなると破損しやすいという不都合
が生じる。
Here, in the case of a thickness-sliding quartz crystal resonator, the resonance frequency is determined by the thickness. For this reason, in order for the quartz plate to have a fundamental resonance frequency of 100 MHz or more, it is necessary to reduce the thickness of the quartz plate to 20 μm or less. In this case, there is an inconvenience that the thin quartz plate is easily damaged.

【0004】従来では、上記のような不都合を防止する
ため、水晶板に接着剤を介して補強板を貼り付けた状態
で、水晶板を所定の厚みに加工するという方法が採られ
ている。より詳細には、まず、補強板の接合表面に接着
剤を塗布した後、その接着剤が塗布された補強板の接合
表面に水晶板を貼り付けることによって、水晶板と補強
板とを接合していた。そして、補強板を貼り付けて補強
した状態で、水晶板を所定の厚みになるように研磨して
いた。
Conventionally, in order to prevent the above-mentioned inconveniences, a method has been adopted in which a quartz plate is processed to a predetermined thickness with a reinforcing plate attached to the quartz plate via an adhesive. More specifically, first, an adhesive is applied to the bonding surface of the reinforcing plate, and then the crystal plate and the reinforcing plate are bonded by bonding the crystal plate to the bonding surface of the reinforcing plate to which the adhesive has been applied. I was Then, the quartz plate was polished to a predetermined thickness in a state where the reinforcing plate was attached and reinforced.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の方法では、補強板の接合表面に塗布される接着
剤は、通常、流動性が悪いため、補強板の接合面に均一
に広がりにくいという不都合があった。そのため、補強
板と水晶板との接合面に均一な接着剤層を形成するのは
困難であった。このように、水晶板と補強板との接合面
の接着剤層が均一に形成されていないと、補強板と水晶
板とを接合した状態で水晶板の表面を所定の厚み分研磨
した場合に、水晶板の平面度および平行度が低下してし
まうという問題点があった。このため、上記した従来の
方法では、高い平面度および平行度を有する水晶板を形
成することは困難であった。
However, in the above-described conventional method, the adhesive applied to the joint surface of the reinforcing plate usually has poor fluidity, and therefore, it is difficult to spread the adhesive uniformly on the joint surface of the reinforcing plate. There was an inconvenience. Therefore, it has been difficult to form a uniform adhesive layer on the joint surface between the reinforcing plate and the quartz plate. As described above, if the adhesive layer on the joining surface between the quartz plate and the reinforcing plate is not formed uniformly, the surface of the quartz plate is polished by a predetermined thickness in a state where the reinforcing plate and the quartz plate are joined. In addition, there is a problem that the flatness and parallelism of the quartz plate are reduced. Therefore, it is difficult to form a quartz plate having high flatness and parallelism by the above-described conventional method.

【0006】そこで、従来、特開平8−46475号公
報において、補強板としてのシリコン板の表面に、接着
剤を介さずに分子間力を用いて水晶板を物理的に接合し
た後、水晶板を15μm程度にまで研磨する技術が提案
されている。この提案された技術では、接着剤を用いな
いので、接着剤層の不均一に起因する水晶板の平面度お
よび平行度の低下を防止することが可能であると考えら
れる。
In view of the above, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-46475, a quartz plate is physically bonded to the surface of a silicon plate as a reinforcing plate using intermolecular force without using an adhesive, and then the quartz plate is There has been proposed a technique for polishing the surface to about 15 μm. Since the proposed technique does not use an adhesive, it is considered possible to prevent the flatness and the parallelism of the quartz plate from lowering due to the non-uniformity of the adhesive layer.

【0007】しかしながら、この提案された技術では、
シリコン板と水晶板とを分子間力を用いて物理的に接合
しているため、加工後に水晶板からシリコン板を剥がす
際に、水晶板に物理的な応力が加わる。このため、水晶
板の共振特性が変化してしまう可能性があるという問題
点があった。また、分子間力を用いた場合、所望の厚み
分の研磨に耐える接合強度がないので、高い平行度およ
び平面度を有する水晶板を形成できないという問題点も
ある。
However, in this proposed technique,
Since the silicon plate and the quartz plate are physically bonded using intermolecular force, when the silicon plate is peeled off from the quartz plate after processing, a physical stress is applied to the quartz plate. For this reason, there is a problem that the resonance characteristics of the quartz plate may change. In addition, when an intermolecular force is used, there is no bonding strength enough to withstand polishing of a desired thickness, and thus there is a problem that a quartz plate having high parallelism and flatness cannot be formed.

【0008】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたものであり、この発明の一つの目的は、圧
電材料からなる基板(水晶板)の共振特性を変化させる
ことなく、高い平行度および平面度を有する圧電材料か
らなる基板を形成することが可能な圧電素子の製造方法
を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a high parallelism substrate without changing the resonance characteristics of a substrate (quartz plate) made of a piezoelectric material. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a piezoelectric element capable of forming a substrate made of a piezoelectric material having a degree and a degree of flatness.

【0009】この発明のもう一つの目的は、補強板と圧
電材料からなる基板との間に厚みの薄い均一な接着剤層
を容易に形成することが可能な圧電素子の製造方法を提
供することである。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a piezoelectric element which can easily form a thin and uniform adhesive layer between a reinforcing plate and a substrate made of a piezoelectric material. It is.

【0010】この発明のさらにもう一つの目的は、補強
板と圧電材料からなる基板との接合面に接着剤層が実質
的にない状態で補強板と圧電材料からなる基板とを接合
することが可能な圧電素子の製造方法を提供することで
ある。
Still another object of the present invention is to join a reinforcing plate and a substrate made of a piezoelectric material in a state in which there is substantially no adhesive layer on a joining surface between the reinforcing plate and the substrate made of a piezoelectric material. It is to provide a possible method of manufacturing a piezoelectric element.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1における圧電素
子の製造方法は、補強板の表面に凹部を形成する工程
と、補強板の凹部に流動性を有する接着剤を導入するこ
とによって、補強板と圧電材料からなる基板とを接合す
る工程とを備えている。なお、本発明における凹部は、
溝状の凹部や、微少な凹凸形状における凹部などを含む
概念である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a piezoelectric element, comprising the steps of forming a concave portion on a surface of a reinforcing plate, and introducing a fluid adhesive into the concave portion of the reinforcing plate. Bonding the plate and a substrate made of a piezoelectric material. Incidentally, the recess in the present invention,
This is a concept including a groove-shaped concave portion, a concave portion in a minute uneven shape, and the like.

【0012】請求項1では、上記のように、補強板に凹
部を形成するとともに、その凹部に流動性を有する接着
剤を導入することによって、補強板と圧電材料からなる
基板とを所定の強度で接合することができる。そして、
そのような接着剤によって補強板に接合された圧電材料
からなる基板を研磨することにより、高い平行度および
平面度を有する圧電材料からなる基板を形成することが
できる。また、接着剤層は有機溶剤などによって容易に
溶解することが可能であるので、圧電材料からなる基板
の加工後に補強板を圧電材料からなる基板から剥がす際
にも、接着剤層を溶解することによって、圧電材料から
なる基板に物理的な力が加わることなく補強板を剥がす
ことができる。これにより、圧電材料からなる基板の共
振特性が変化するのを有効に防止することができる。こ
のように、請求項1に記載の発明では、圧電材料からな
る基板の共振特性を変化させることなく高い平行度およ
び平面度を有する圧電材料からなる基板を形成すること
ができる。
According to the first aspect, as described above, the concave portion is formed in the reinforcing plate, and the adhesive having fluidity is introduced into the concave portion, so that the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material have a predetermined strength. Can be joined. And
By polishing a substrate made of a piezoelectric material bonded to a reinforcing plate with such an adhesive, a substrate made of a piezoelectric material having high parallelism and flatness can be formed. Also, since the adhesive layer can be easily dissolved by an organic solvent or the like, the adhesive layer must be dissolved even when the reinforcing plate is peeled off from the substrate made of the piezoelectric material after processing the substrate made of the piezoelectric material. Thereby, the reinforcing plate can be peeled off without applying a physical force to the substrate made of the piezoelectric material. Thus, it is possible to effectively prevent the resonance characteristic of the substrate made of the piezoelectric material from being changed. As described above, according to the first aspect of the present invention, it is possible to form a substrate made of a piezoelectric material having high parallelism and flatness without changing the resonance characteristics of the substrate made of the piezoelectric material.

【0013】請求項2における圧電素子の製造方法で
は、請求項1の構成において、補強板と圧電材料からな
る基板とを接合する工程は、補強板と圧電材料からなる
基板とを貼り合わせて加圧した状態で、凹部から流動性
を有する接着剤を導入することによって、補強板と圧電
材料からなる基板とを接合する工程を含む。請求項2で
は、このように、補強板と圧電材料からなる基板とを貼
り合わせて加圧した状態で、流動性を有する接着剤を導
入することによって、補強板の接合面と圧電材料からな
る基板の接合面とが互いに接触された状態で、その接合
面に流動性を有する接着剤が浸透する。これにより、補
強板と圧電材料からなる基板との間に、厚みの薄い均一
な接着剤層を容易に形成することができる。
According to a second aspect of the present invention, in the method of the first aspect, the step of bonding the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material includes bonding the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material together. The method includes a step of joining the reinforcing plate and the substrate made of a piezoelectric material by introducing a flowable adhesive from the recess in a pressed state. In the second aspect, the bonding surface of the reinforcing plate and the piezoelectric material are formed by introducing a fluid adhesive in a state where the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material are bonded and pressed. In a state where the joining surfaces of the substrates are in contact with each other, the adhesive having fluidity permeates the joining surfaces. Thereby, a thin and uniform adhesive layer can be easily formed between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material.

【0014】請求項3における圧電素子の製造方法で
は、請求項1または2の構成において、補強板の凹部
は、少なくとも、補強板と圧電材料からなる基板との接
合部分の端部にまで延びて形成されている。請求項3で
は、このように、補強板の凹部を、少なくとも補強板と
圧電材料からなる基板との接合部分の端部にまで延びて
形成することによって、補強板と圧電材料からなる基板
とを貼り合わせた状態においても、補強板と圧電材料か
らなる基板との接合部分の端部の凹部から容易に接着剤
を導入することができる。
According to a third aspect of the present invention, in the configuration of the first or second aspect, the concave portion of the reinforcing plate extends at least to an end of a joint portion between the reinforcing plate and a substrate made of a piezoelectric material. Is formed. According to the third aspect, the recess of the reinforcing plate is formed so as to extend at least to the end of the joint between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material, so that the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material are separated from each other. Even in the bonded state, the adhesive can be easily introduced from the concave portion at the end of the joint between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material.

【0015】請求項4における圧電素子の製造方法で
は、請求項1〜3のいずれかの構成において、圧電材料
からなる基板と補強板とを接合する工程に先だって、補
強板の接合面と圧電材料からなる基板の接合面とを、そ
れぞれ、鏡面加工する工程をさらに備える。請求項4で
は、このように、補強板の接合面と圧電材料からなる基
板の接合面とを鏡面加工することによって、補強板と圧
電材料からなる基板との接合面における接着剤の浸透性
が高まるので、補強板と圧電材料からなる基板との接合
面に容易に均一な接着剤層を形成することができる。さ
らに、圧電材料からなる基板の両面を鏡面加工し、補強
板の接合面を鏡面加工すれば、オプティカルフラット法
(光の干渉による方法)を用いて、圧電材料からなる基
板と補強板との接合表面に現れる干渉じまを観察するこ
とができる。これにより、接着時の圧電材料からなる基
板の平面度を測定することができる。その結果、その測
定結果に基づいて、接着時の圧電材料からなる基板の平
面度を容易に調節することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method of any one of the first to third aspects, prior to the step of joining the substrate made of the piezoelectric material and the reinforcing plate, the joining surface of the reinforcing plate and the piezoelectric material are connected. Further comprising a step of mirror-finishing the bonding surface of the substrate made of According to the fourth aspect of the present invention, the bonding surface of the reinforcing plate and the bonding surface of the substrate made of the piezoelectric material are mirror-finished, so that the permeability of the adhesive at the bonding surface of the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material is reduced. As a result, the uniform adhesive layer can be easily formed on the joint surface between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material. Furthermore, if both surfaces of the substrate made of the piezoelectric material are mirror-finished and the bonding surface of the reinforcing plate is mirror-finished, the bonding between the substrate made of the piezoelectric material and the reinforcing plate can be performed using an optical flat method (a method based on light interference). Interference fringes appearing on the surface can be observed. Thereby, the flatness of the substrate made of the piezoelectric material at the time of bonding can be measured. As a result, based on the measurement result, the flatness of the substrate made of the piezoelectric material at the time of bonding can be easily adjusted.

【0016】請求項5における圧電素子の製造方法で
は、請求項1〜4のいずれかの構成において、補強板
は、圧電材料からなる基板の熱膨張係数に近い熱膨張係
数を有する材料を含む。請求項5では、このように、圧
電材料からなる基板の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有
する材料を含むように補強板を構成することによって、
温度変化が生じた場合に補強板と圧電材料からなる基板
との接合界面に熱応力が発生するのを有効に防止するこ
とができる。これにより、補強板と圧電材料からなる基
板との間のひずみの発生による平面度の低下を防止する
ことができる。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the reinforcing plate includes a material having a thermal expansion coefficient close to that of a substrate made of a piezoelectric material. According to the fifth aspect, the reinforcing plate is configured to include a material having a thermal expansion coefficient close to the thermal expansion coefficient of the substrate made of a piezoelectric material,
When a temperature change occurs, it is possible to effectively prevent generation of thermal stress at a bonding interface between the reinforcing plate and the substrate made of a piezoelectric material. Thus, it is possible to prevent a decrease in flatness due to generation of a strain between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material.

【0017】請求項6における圧電素子の製造方法で
は、請求項1〜5のいずれかの構成において、圧電材料
からなる基板と補強板とを接合する工程の後、圧電材料
からなる基板の表面を所定の板厚分、研磨する工程と、
その後、接着剤を溶解することによって、補強板から圧
電材料からなる基板を剥がす工程とをさらに備えてい
る。請求項6では、このように、接着剤を溶解すること
によって、圧電材料からなる基板に物理的な力が加わる
ことなく、容易に補強板から圧電材料からなる基板を剥
離することができる。その結果、圧電材料からなる基板
の共振特性に悪影響を与えることなく、補強板から圧電
材料からなる基板を剥離することができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the method of any one of the first to fifth aspects, after the step of joining the substrate made of the piezoelectric material and the reinforcing plate, the surface of the substrate made of the piezoelectric material is removed. Polishing a predetermined plate thickness,
Thereafter, a step of peeling the substrate made of the piezoelectric material from the reinforcing plate by dissolving the adhesive is further provided. According to the sixth aspect, by dissolving the adhesive, the substrate made of the piezoelectric material can be easily separated from the reinforcing plate without applying a physical force to the substrate made of the piezoelectric material. As a result, the substrate made of the piezoelectric material can be separated from the reinforcing plate without adversely affecting the resonance characteristics of the substrate made of the piezoelectric material.

【0018】請求項7における圧電素子の製造方法は、
補強板の表面に凹部を形成する工程と、補強板の表面に
圧電材料からなる基板を貼り合わせた状態で、補強板と
圧電材料からなる基板との貼り合わせ面の側部から熱硬
化性の第1接着剤を導入するとともに、補強板の凹部か
ら流動性を有する第2接着剤を導入することによって、
補強板と圧電材料からなる基板とを接合する工程と、補
強板と圧電材料からなる基板とを接合した状態で圧電材
料からなる基板を所定の大きさに切断することによって
圧電材料片を形成する工程と、流動性を有する第2接着
剤を溶解することによって、第1接着剤を介して圧電材
料片に接合されている補強板部分を剥がさないで、第2
接着剤を介して圧電材料片に接合されている補強板部分
のみを剥がす工程とを備えている。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a piezoelectric element.
A step of forming a concave portion on the surface of the reinforcing plate and, in a state in which a substrate made of a piezoelectric material is bonded to the surface of the reinforcing plate, a thermosetting resin is applied from the side of the bonding surface between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material By introducing the first adhesive and the second adhesive having fluidity from the concave portion of the reinforcing plate,
A step of joining the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material, and forming the piezoelectric material piece by cutting the substrate made of the piezoelectric material into a predetermined size in a state where the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material are joined. Dissolving the second adhesive having a flowability and the second adhesive without peeling off the reinforcing plate portion joined to the piezoelectric material piece via the first adhesive;
Removing only the reinforcing plate portion bonded to the piezoelectric material piece via the adhesive.

【0019】請求項7では、このように構成することに
よって、補強板部分が表面の一部に接合された圧電材料
片を容易に形成することができる。これにより、圧電材
料片を持ち運ぶ際に、その補強板部分を保持して容易に
持ち運ぶことができる。その結果、圧電材料片が小型化
された場合にも、圧電材料片のハンドリングを容易に行
うことができる。
According to the seventh aspect of the present invention, a piezoelectric material piece in which the reinforcing plate portion is joined to a part of the surface can be easily formed. Thus, when the piezoelectric material piece is carried, the reinforcing plate portion can be held and easily carried. As a result, even when the size of the piezoelectric material piece is reduced, handling of the piezoelectric material piece can be easily performed.

【0020】請求項8における圧電素子の製造方法は、
請求項1の構成において、補強板の表面に形成された凹
部は、補強板の少なくとも接合表面に形成された気孔を
含む。
[0020] The method of manufacturing a piezoelectric element according to claim 8 is as follows.
In the structure of the first aspect, the concave portion formed on the surface of the reinforcing plate includes pores formed on at least the joint surface of the reinforcing plate.

【0021】請求項8では、上記のように、補強板の少
なくとも接合表面に凹部としての気孔を形成することに
よって、その補強板表面の気孔に流動性を有する接着剤
を導入すれば、その気孔に導入された接着剤により、補
強板と圧電材料からなる基板とを容易に接合することが
できる。この場合、接着剤は補強板表面の気孔内に位置
するので、補強板と圧電材料からなる基板との接合面に
接着剤層が実質的にない状態で補強板と圧電材料からな
る基板とを接合することができる。これにより、補強板
上に接合された圧電材料からなる基板を研磨した場合
に、接着剤層の厚みのバラツキに起因して圧電材料から
なる基板の平行度および平面度が低下するという不都合
が生じない。その結果、より高い平行度および高い平面
度を有する圧電材料からなる基板を形成することができ
る。また、接着剤は有機溶剤などによって容易に溶解す
ることが可能であるので、圧電材料からなる基板の加工
後に補強板を圧電材料からなる基板から剥がす際にも、
接着剤を溶解することによって、圧電材料からなる基板
に物理的な力が加わることなく補強板を剥がすことがで
きる。これにより、圧電材料からなる基板の共振特性が
変化するのを有効に防止することができる。このよう
に、請求項8に記載の発明では、圧電材料からなる基板
の共振特性を変化させることなく、より高い平行度およ
び高い平面度を有する圧電材料からなる基板を形成する
ことができる。
According to the eighth aspect, as described above, by forming pores as recesses on at least the joining surface of the reinforcing plate, if a flowable adhesive is introduced into the pores on the surface of the reinforcing plate, the pores can be formed. Can easily join the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material. In this case, since the adhesive is located in the pores on the surface of the reinforcing plate, the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material are separated from each other in a state where the bonding layer between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material has substantially no adhesive layer. Can be joined. As a result, when the substrate made of the piezoelectric material bonded to the reinforcing plate is polished, the parallelism and the flatness of the substrate made of the piezoelectric material are reduced due to the variation in the thickness of the adhesive layer. Absent. As a result, a substrate made of a piezoelectric material having higher parallelism and higher flatness can be formed. Also, since the adhesive can be easily dissolved by an organic solvent or the like, even when the reinforcing plate is peeled off from the substrate made of the piezoelectric material after processing the substrate made of the piezoelectric material,
By dissolving the adhesive, the reinforcing plate can be peeled off without applying a physical force to the substrate made of the piezoelectric material. Thus, it is possible to effectively prevent the resonance characteristic of the substrate made of the piezoelectric material from being changed. Thus, according to the invention of claim 8, a substrate made of a piezoelectric material having higher parallelism and higher flatness can be formed without changing the resonance characteristics of the substrate made of a piezoelectric material.

【0022】請求項9における圧電素子の製造方法は、
請求項8の構成において、気孔を有する補強板は、多孔
質セラミックスからなる補強板を含む。請求項9では、
このように、多孔質セラミックスからなる補強板を用い
ることによって、補強板の表面に多くの気孔が存在する
ことになる。これにより、その多くの気孔に接着剤を導
入すれば、補強板と圧電材料からなる基板との接合面に
接着剤層が実質的にない状態で補強板と圧電材料からな
る基板とを容易に接合することができる。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a piezoelectric element.
In the structure of claim 8, the reinforcing plate having pores includes a reinforcing plate made of porous ceramics. In claim 9,
Thus, by using the reinforcing plate made of porous ceramics, many pores exist on the surface of the reinforcing plate. Thus, if the adhesive is introduced into many of the pores, the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material can be easily separated from each other in a state where the adhesive layer is substantially absent on the joint surface between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material. Can be joined.

【0023】請求項10における圧電素子の製造方法
は、請求項9の構成において、多孔質セラミックスから
なる補強板は、多孔質フェライト、多孔質アルミナおよ
び多孔質カーボンからなるグループより選択される1つ
の材料からなる補強板を含む。請求項10では、多孔質
セラミックスからなる補強板として上記のような従来か
ら存在する材料を用いることによって、容易に市販の材
料を補強板として流用することができる。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a piezoelectric element manufacturing method according to the ninth aspect, wherein the reinforcing plate made of porous ceramics is one selected from the group consisting of porous ferrite, porous alumina, and porous carbon. Includes a reinforcing plate made of a material. According to the tenth aspect, a commercially available material can be easily diverted as the reinforcing plate by using the above-mentioned conventional material as the reinforcing plate made of porous ceramics.

【0024】請求項11における圧電素子の製造方法
は、請求項10の構成において、多孔質フェライトを形
成する工程は、フェライト成形体を焼結する工程と、フ
ェライト成形体の焼結後に、仕上げ加工する工程とを含
む。請求項11では、このような工程を用いることによ
って、容易に多孔質フェライトを形成することができ
る。
According to a eleventh aspect of the present invention, in the configuration of the tenth aspect, the step of forming the porous ferrite includes the step of sintering the ferrite compact and the step of finishing after sintering the ferrite compact. And a step of performing. According to the eleventh aspect, by using such a process, a porous ferrite can be easily formed.

【0025】請求項12における圧電素子の製造方法
は、請求項10または11の構成において、多孔質フェ
ライトの気孔の密度は、4000個/mm2以上100
00個/mm2以下である。請求項12では、このよう
に構成することによって、接着強度の低下を防止するこ
とができるとともに、圧電材料からなる基板の平行度お
よび平面度に悪影響を与えるのを防止することができ
る。すなわち、多孔質フェライトの気孔の密度が400
0個/mm2よりも小さいと、気孔の数が少なくなるこ
とに起因して気孔に埋め込まれる接着剤の量も減少す
る。その結果、接着強度が低下するという不都合が生じ
る。また、多孔質フェライトの気孔の密度が10000
個/mm2を越えると、気孔の数が多くなり密集するこ
とによって径が大きな孔と同じになるので、補強板の表
面の平坦性が低下する。このため、補強板上に接着され
た圧電材料からなる基板を加工した場合に、圧電材料か
らなる基板の平行度および平面度が低下するという不都
合が生じる。請求項12では、これらの不都合を防止す
るため、多孔質フェライトの気孔の密度を、4000個
/mm2以上10000個/mm2以下に構成している。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the method of the tenth or eleventh aspect, the density of the pores of the porous ferrite is 4000 / mm 2 or more.
00 / mm 2 or less. According to the twelfth aspect, by adopting such a configuration, it is possible to prevent a decrease in the adhesive strength and to prevent an adverse effect on the parallelism and flatness of the substrate made of the piezoelectric material. That is, the pore density of the porous ferrite is 400
If it is smaller than 0 / mm 2 , the amount of the adhesive embedded in the pores also decreases due to the decrease in the number of pores. As a result, there is a disadvantage that the adhesive strength is reduced. Further, the pore density of the porous ferrite is 10,000
If the number exceeds the number of pores / mm 2 , the number of pores increases and the pores become denser, so that the pores have the same diameter as the pores. Therefore, when a substrate made of a piezoelectric material bonded to a reinforcing plate is processed, there is a disadvantage that the parallelism and flatness of the substrate made of a piezoelectric material are reduced. According to claim 12, for preventing these disadvantages, the density of pores of the porous ferrite constitutes the 4000 / mm 2 or more 10000 / mm 2 or less.

【0026】請求項13における圧電素子の製造方法
は、請求項10〜12のいずれかの構成において、多孔
質フェライトの気孔の平均孔径は、5μm以下である。
請求項13では、このように構成することによって、圧
電材料からなる基板の平行度に悪影響を与えるのを防止
することができる。すなわち、多孔質フェライトの気孔
の平均孔径が、5μmよりも大きくなると、圧電材料か
らなる基板の研磨時に、砥石の押圧力によって補強板の
気孔上に位置する圧電材料からなる基板の部分が変形す
る場合がある。この場合、圧電材料からなる基板の平行
度が低下するという不都合が生じる。請求項13では、
このような不都合を防止するため、多孔質フェライトの
気孔の平均孔径を、5μm以下に構成している。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the method of any of the tenth to twelfth aspects, the average pore diameter of the pores of the porous ferrite is 5 μm or less.
According to the thirteenth aspect, with such a configuration, it is possible to prevent the parallelism of the substrate made of the piezoelectric material from being adversely affected. That is, when the average pore diameter of the pores of the porous ferrite is larger than 5 μm, the portion of the substrate made of the piezoelectric material located on the pores of the reinforcing plate is deformed by the pressing force of the grindstone during polishing of the substrate made of the piezoelectric material. There are cases. In this case, there is a disadvantage that the parallelism of the substrate made of the piezoelectric material is reduced. In claim 13,
In order to prevent such inconvenience, the average pore diameter of the pores of the porous ferrite is set to 5 μm or less.

【0027】請求項14における圧電素子の製造方法
は、少なくとも接合表面に気孔を有する補強板を形成す
る工程と、補強板の気孔に、接着剤を導入する工程と、
補強板の表面上に圧電材料からなる基板を接着する工程
と、補強板上に接着された圧電材料からなる基板を研磨
する工程とを備えている。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a piezoelectric element manufacturing method comprising the steps of: forming a reinforcing plate having pores on at least a bonding surface; and introducing an adhesive into the pores of the reinforcing plate.
The method includes a step of bonding a substrate made of a piezoelectric material on the surface of the reinforcing plate, and a step of polishing the substrate made of the piezoelectric material bonded on the reinforcing plate.

【0028】請求項14では、上記のように、補強板の
気孔に接着剤を導入することによって、その気孔に導入
された接着剤により、補強板と圧電材料からなる基板と
を容易に接合することができる。この場合、接着剤は補
強板表面の気孔内に位置するので、補強板と圧電材料か
らなる基板との接合面に接着剤層が実質的にない状態で
補強板と圧電材料からなる基板とを接合することができ
る。これにより、補強板上に接合された圧電材料からな
る基板を研磨した場合に、接着剤層の厚みのバラツキに
起因して圧電材料からなる基板の平行度および平面度が
低下するという不都合が生じない。その結果、より高い
平行度および高い平面度を有する圧電材料からなる基板
を形成することができる。また、接着剤は有機溶剤など
によって容易に溶解することが可能であるので、圧電材
料からなる基板の加工後に補強板を圧電材料からなる基
板から剥がす際にも、接着剤を溶解することによって、
圧電材料からなる基板に物理的な力が加わることなく補
強板を剥がすことができる。これにより、圧電材料から
なる基板の共振特性が変化するのを有効に防止すること
ができる。
According to the fourteenth aspect, as described above, by introducing the adhesive into the pores of the reinforcing plate, the reinforcing plate and the substrate made of a piezoelectric material are easily joined by the adhesive introduced into the pores. be able to. In this case, since the adhesive is located in the pores on the surface of the reinforcing plate, the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material are separated from each other in a state where the bonding layer between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material has substantially no adhesive layer. Can be joined. As a result, when the substrate made of the piezoelectric material bonded to the reinforcing plate is polished, the parallelism and flatness of the substrate made of the piezoelectric material are reduced due to the variation in the thickness of the adhesive layer. Absent. As a result, a substrate made of a piezoelectric material having higher parallelism and higher flatness can be formed. In addition, since the adhesive can be easily dissolved by an organic solvent or the like, when the reinforcing plate is peeled off from the substrate made of the piezoelectric material after processing the substrate made of the piezoelectric material, the adhesive is dissolved by dissolving the adhesive.
The reinforcing plate can be peeled off without applying a physical force to the substrate made of the piezoelectric material. Thus, it is possible to effectively prevent the resonance characteristic of the substrate made of the piezoelectric material from being changed.

【0029】請求項15における圧電素子の製造方法
は、請求項14の構成において、接着剤を導入する工程
は、補強板の気孔内および補強板の表面上に接着剤を導
入した後、補強板の気孔以外の部分の接着剤を除去する
工程を含む。請求項15では、このように構成すること
により、補強板の気孔のみに容易に接着剤を埋め込むこ
とができる。これにより、気孔に埋め込まれた接着剤に
よって、補強板と圧電材料からなる基板との接合面に接
着剤層が実質的にない状態で補強板と圧電材料からなる
基板とを接合することができる。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the construction of the fourteenth aspect, the step of introducing the adhesive includes the step of introducing the adhesive into the pores of the reinforcing plate and onto the surface of the reinforcing plate. And removing the adhesive in a portion other than the pores. According to the present invention, the adhesive can be easily embedded only in the pores of the reinforcing plate. Thereby, the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material can be bonded by the adhesive embedded in the pores in a state where the bonding layer between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material has substantially no adhesive layer. .

【0030】請求項16における圧電素子の製造方法
は、請求項8〜15のいずれかの構成において、気孔を
有する補強板は、その上に複数の上記圧電材料からなる
基板が配置可能な大きさを有する。請求項16では、こ
のように構成することによって、気孔を有する補強板上
に複数の圧電材料からなる基板を配置することができる
ので、載置台を用いる必要がなくなる。これにより、補
強板と圧電材料からなる基板との接着時の熱に起因して
補強板と載置台との間に歪みが発生するという不都合を
解消することができるので、その補強板と載置台との間
に発生する歪みによって圧電材料からなる基板の平面度
および平行度が低下するという不都合も生じない。その
結果、圧電材料からなる基板の平面度および平行度をよ
り向上させることができる。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a piezoelectric element according to any one of the eighth to fifteenth aspects, wherein the reinforcing plate having pores has a size on which a plurality of substrates made of the piezoelectric material can be arranged. Having. According to the sixteenth aspect, by adopting such a configuration, a substrate made of a plurality of piezoelectric materials can be arranged on the reinforcing plate having pores, so that there is no need to use a mounting table. Accordingly, it is possible to eliminate a disadvantage that distortion occurs between the reinforcing plate and the mounting table due to heat generated when the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material are bonded. Also, there is no inconvenience that the flatness and the parallelism of the substrate made of the piezoelectric material are reduced by the strain generated between the substrate and the substrate. As a result, the flatness and parallelism of the substrate made of the piezoelectric material can be further improved.

【0031】請求項17における圧電素子の製造方法
は、請求項1〜16のいずれかの構成において、圧電材
料からなる基板は、水晶およびランガサイト(La3
5SiO14)のいずれかを含む。請求項17では、こ
のような圧電材料からなる基板を用いることによって、
平面度および平行度の優れた圧電素子を容易に形成する
ことができる。
According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a piezoelectric element according to any one of the first to sixteenth aspects, wherein the substrate made of the piezoelectric material comprises quartz and langasite (La 3 G).
a 5 SiO 14 ). In claim 17, by using a substrate made of such a piezoelectric material,
A piezoelectric element having excellent flatness and parallelism can be easily formed.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0033】(第1実施形態)図1〜図9は、本発明の
第1実施形態による水晶振動子の製造プロセスを説明す
るための斜視図である。図1〜図9を参照して、以下に
第1実施形態による水晶振動子の製造プロセスについて
説明する。なお、水晶振動子は、本発明の「圧電素子」
の一例である。
(First Embodiment) FIGS. 1 to 9 are perspective views for explaining a manufacturing process of a quartz oscillator according to a first embodiment of the present invention. The manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment will be described below with reference to FIGS. In addition, the quartz oscillator is the “piezoelectric element” of the present invention.
This is an example.

【0034】まず、図1に示すように、15mm×15
mm×1mmの補強板1を準備する。この補強板1は、
後述する水晶板2の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有す
る材料によって形成するのが好ましい。たとえば、本実
施形態では、Al23−TiCからなる補強板1を用い
る。
First, as shown in FIG.
A 1 mm × 1 mm reinforcing plate 1 is prepared. This reinforcing plate 1
It is preferably formed of a material having a coefficient of thermal expansion close to the coefficient of thermal expansion of the quartz plate 2 described later. For example, in the present embodiment, the reinforcing plate 1 made of Al 2 O 3 —TiC is used.

【0035】次に、図2に示すように、補強板1の接合
表面に複数の溝1aを形成する。この溝1aは、0.1
mm程度の幅と、0.2mm程度の深さとを有する矩形
形状に形成する。この溝1aは、補強板1の両方の端部
にまで延びて形成されている。なお、この溝1aが、本
発明の「凹部」の一例である。
Next, as shown in FIG. 2, a plurality of grooves 1a are formed on the joint surface of the reinforcing plate 1. This groove 1a has a thickness of 0.1
It is formed in a rectangular shape having a width of about mm and a depth of about 0.2 mm. The groove 1a extends to both ends of the reinforcing plate 1. The groove 1a is an example of the "recess" of the present invention.

【0036】次に、図3に示すように、12mm×12
mm×0.2mmの大きさを有する水晶板2を準備す
る。なお、水晶板2は、本発明の「圧電材料からなる基
板」の一例である。この状態での水晶板2の表面および
裏面は、梨地状の表面である。
Next, as shown in FIG.
A quartz plate 2 having a size of mm × 0.2 mm is prepared. The quartz plate 2 is an example of the “substrate made of a piezoelectric material” of the present invention. The front and back surfaces of the quartz plate 2 in this state are satin-like surfaces.

【0037】この状態から、図4に示すように、水晶板
2の両面を鏡面加工することによって、水晶板2の厚み
を0.07mmに加工するとともに、水晶板2の表面お
よび裏面を鏡面に仕上げる。この鏡面加工は、水晶板2
の両表面の表面粗さが、Ra(中心線平均粗さ)値で
0.003μm以下になるように加工するのが好まし
い。これは、水晶板2の表面粗さが、Ra値で0.00
3μm以上になると、所望の共振周波数を得ることが困
難になるとともに、水晶板2と補強板1との間に均一な
接着剤層を形成することが困難になるからである。
From this state, as shown in FIG. 4, both sides of the quartz plate 2 are mirror-polished, so that the thickness of the quartz plate 2 is reduced to 0.07 mm, and the front and back surfaces of the quartz plate 2 are mirror-finished. Finish. This mirror finishing is performed on the quartz plate 2
It is preferable to process the both surfaces so that the surface roughness Ra (center line average roughness) value is 0.003 μm or less. This is because the surface roughness of the quartz plate 2 is Ra value of 0.00.
If the thickness is 3 μm or more, it becomes difficult to obtain a desired resonance frequency, and it becomes difficult to form a uniform adhesive layer between the quartz plate 2 and the reinforcing plate 1.

【0038】次に、図5に示すように、円盤形状の載置
台100の上に複数個(本実施形態では3個)の補強板
1を配置する。この状態で、補強板1の表面を鏡面加工
する。この補強板1の鏡面加工は、補強板1の表面粗さ
がRa値で0.01μm以下になるように加工するのが
好ましい。これは、補強板1の接合面の表面粗さが、R
a値で0.01μm以上になると、水晶板2との間に形
成される接着剤層にうねり(波打ち)が発生するため
に、均一な接着剤層を形成することが困難になるからで
ある。これに対し、補強板1の表面粗さが、Ra値で
0.01μm以下では、補強板1の表面への接着剤の浸
透性が高まるので、水晶板2と補強板1との間に容易に
均一な接着剤層を形成することができる。
Next, as shown in FIG. 5, a plurality (three in this embodiment) of reinforcing plates 1 are arranged on a disk-shaped mounting table 100. In this state, the surface of the reinforcing plate 1 is mirror-finished. The mirror finishing of the reinforcing plate 1 is preferably performed so that the surface roughness of the reinforcing plate 1 becomes 0.01 μm or less in Ra value. This is because the surface roughness of the bonding surface of the reinforcing plate 1 is R
If the value of a is 0.01 μm or more, the adhesive layer formed between the quartz plate 2 and the quartz plate 2 undulates (undulates), making it difficult to form a uniform adhesive layer. . On the other hand, when the surface roughness of the reinforcing plate 1 is 0.01 μm or less in Ra value, the permeability of the adhesive to the surface of the reinforcing plate 1 increases, so that the reinforcing plate 1 can easily be placed between the quartz plate 2 and the reinforcing plate 1. A uniform adhesive layer can be formed.

【0039】上記のように、補強板1の接合表面を鏡面
加工した後、図6に示すように、補強板1の接合表面上
に、両面が鏡面加工された水晶板2を貼り合わせて加圧
する。この加圧は、水晶板2の上部を20×104Pa
〜30×104Paの加圧力で押圧することによって行
う。この状態で、補強板1の溝1aからワックス系の接
着剤をディスペンサなどを用いて注入する。そして、上
記した加圧力で水晶板2の上部を加圧した状態で、約1
00℃で約12時間の加熱を行う。
As described above, after the joining surface of the reinforcing plate 1 is mirror-finished, a quartz plate 2 having both surfaces mirror-finished is bonded to the joining surface of the reinforcing plate 1 as shown in FIG. Press. This pressurization applies a pressure of 20 × 10 4 Pa
This is performed by pressing with a pressing force of 3030 × 10 4 Pa. In this state, a wax-based adhesive is injected from the groove 1a of the reinforcing plate 1 using a dispenser or the like. Then, in a state where the upper portion of the quartz plate 2 is pressurized by the above-described pressing force, about 1
Heat at 00 ° C. for about 12 hours.

【0040】なお、ワックス系の接着剤は、粘度の低い
流動性を有する接着剤を用いる。本実施形態では、フタ
リックグルー(日化精工社製)をアセトンで溶解した接
着剤を用いる。より詳細には、フタリックグルーとアセ
トンとを1:5の混合比で混合した17質量%の濃度を
有するフタリックグルーを用いる。なお、フタリックグ
ルーの濃度は、15質量%〜20質量%の範囲内である
のが好ましい。フタリックグルーの濃度が15質量%よ
り低いと、接着剤の成分が少なくなるため、接着強度が
低下する。また、フタリックグルーの濃度が20質量%
より大きいと、流動性が悪くなり、そのため、接着剤が
均一に広がりにくくなるという不都合が生じる。このた
め、フタリックグルーの濃度は、15質量%以上20質
量%以下の範囲内に設定するのが好ましい。
As the wax-based adhesive, an adhesive having low viscosity and fluidity is used. In this embodiment, an adhesive obtained by dissolving phthalic glue (manufactured by Nikka Seiko) with acetone is used. More specifically, a phthalic glue having a concentration of 17% by mass in which phthalic glue and acetone are mixed at a mixing ratio of 1: 5 is used. Note that the concentration of the phthalic glue is preferably in the range of 15% by mass to 20% by mass. When the concentration of the phthalic glue is lower than 15% by mass, the components of the adhesive are reduced, and the adhesive strength is reduced. In addition, the concentration of the phthalic glue is 20% by mass.
If it is larger, the fluidity becomes poor, and therefore, there is a disadvantage that the adhesive is difficult to spread evenly. For this reason, the concentration of the phthalic glue is preferably set within a range of 15% by mass or more and 20% by mass or less.

【0041】ここで、第1実施形態では、水晶板2の両
表面を鏡面加工し、かつ、補強板1の表面を鏡面に加工
しているので、補強板1と水晶板2との接着時に、オプ
ティカルフラット法により水晶板2と補強板1との接合
界面に現れる干渉じまを観察することができる。これに
より、水晶板2の接着時の平面度を測定することができ
る。その結果、その測定結果に基づいて、高い平面度に
なるように水晶板2の接着状態を容易に調整することが
可能となる。なお、オプティカルフラット法とは、測定
表面に光の干渉じまを表示させてその干渉じまから平面
度を測定する方法をいう。
Here, in the first embodiment, both surfaces of the quartz plate 2 are mirror-finished and the surface of the reinforcing plate 1 is mirror-finished. By the optical flat method, interference fringes appearing at the joint interface between the quartz plate 2 and the reinforcing plate 1 can be observed. Thereby, the flatness at the time of bonding the quartz plate 2 can be measured. As a result, based on the measurement result, it is possible to easily adjust the bonding state of the quartz plate 2 so as to have a high flatness. Note that the optical flat method refers to a method of displaying light interference fringes on a measurement surface and measuring flatness from the interference fringes.

【0042】図6に示した補強板1と水晶板2との接合
工程の後、図7に示すように、補強板1と水晶板2とを
接合した状態で、水晶板2の表面を研磨することによっ
て、水晶板2の厚みを20μm以下の厚みに加工する。
この研磨工程では、まず、FO#3000砥粒(粒径3
〜6μm)により荒研磨を行う。その後、酸化セリウム
砥粒(平均一次粒径0.5μm)により仕上げ研磨を行
う。この研磨の際には、補強板1の上面を基準として水
晶板2の上面までの高さを電気的マイクロメータなどを
用いて測定することによって、水晶板2の厚みを制御し
ている。
After the joining step of the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2 shown in FIG. 6, the surface of the quartz plate 2 is polished while the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2 are joined as shown in FIG. Thereby, the thickness of the quartz plate 2 is processed to a thickness of 20 μm or less.
In this polishing step, first, FO # 3000 abrasive grains (particle diameter 3
66 μm). After that, finish polishing is performed using cerium oxide abrasive grains (average primary particle size: 0.5 μm). During the polishing, the thickness of the quartz plate 2 is controlled by measuring the height from the upper surface of the reinforcing plate 1 to the upper surface of the quartz plate 2 using an electric micrometer or the like.

【0043】この研磨によって、本実施形態では、平面
度が0.2μm/2mm□(P−V値)以下、平行度が
0.1μm/4mm以下の高い平面度および平行度を有
する水晶板2を形成することができる。これにより、副
振動を発生させない良好な共振特性を有する水晶板2を
形成することができる。
By this polishing, in the present embodiment, the quartz plate 2 having a high flatness and a high parallelism of 0.2 μm / 2 mm □ (PV value) or less and a parallelism of 0.1 μm / 4 mm or less in this embodiment. Can be formed. As a result, it is possible to form the quartz plate 2 having good resonance characteristics that does not generate sub-vibration.

【0044】この後、図8の一点鎖線に示すように、水
晶板2を、例えば、レジン系砥石を用いて切断した後、
補強板1と水晶板2との間の接着剤(フタリックグル
ー)を有機溶剤(アセトン)によって溶解することによ
って、水晶板2を補強板1から剥がす。これにより、図
9に示すような水晶片2aが得られる。なお、水晶片2
aは、本発明の「圧電材料片」の一例である。
Thereafter, as shown by a dashed line in FIG. 8, the quartz plate 2 is cut using, for example, a resin grindstone.
The quartz plate 2 is peeled from the reinforcing plate 1 by dissolving an adhesive (phthalic glue) between the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2 with an organic solvent (acetone). Thus, a crystal blank 2a as shown in FIG. 9 is obtained. In addition, crystal piece 2
a is an example of the “piezoelectric material piece” of the present invention.

【0045】第1実施形態による水晶振動子の製造プロ
セスでは、上記したように、補強板1に溝1aを形成す
るとともに、その溝1aから流動性を有する接着剤(1
7質量%のフタリックグルー)を注入することによっ
て、溝1aから導入された流動性を有する接着剤は、補
強板1と水晶板2との接合面に容易に均一に浸透する。
これにより、補強板1と水晶板2との接合面に接着剤層
を均一に形成することができる。そして、そのような均
一な接着剤層によって補強板に接合された水晶板を所定
の厚みになるように研磨することによって、高い平行度
および平面度を有する水晶板を形成することができる。
In the manufacturing process of the quartz resonator according to the first embodiment, as described above, the groove 1a is formed in the reinforcing plate 1 and the adhesive (1) having fluidity is formed from the groove 1a.
By injecting 7% by mass of phthalic glue), the adhesive having fluidity introduced from the groove 1a easily and uniformly penetrates into the joint surface between the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2.
Thereby, the adhesive layer can be uniformly formed on the joint surface between the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2. Then, the quartz plate bonded to the reinforcing plate with such a uniform adhesive layer is polished to a predetermined thickness, whereby a quartz plate having high parallelism and flatness can be formed.

【0046】また、水晶板2を所定の大きさに切断した
後に、接着剤を溶解することによって、水晶板2に物理
的な力が加わることなく容易に補強板1から水晶板2を
剥離することができる。その結果、水晶板2の共振特性
に悪影響を与えることなく補強板1から水晶板2を剥離
することができる。
Further, after cutting the quartz plate 2 to a predetermined size, the adhesive is dissolved, so that the quartz plate 2 can be easily separated from the reinforcing plate 1 without applying a physical force to the quartz plate 2. be able to. As a result, the quartz plate 2 can be separated from the reinforcing plate 1 without adversely affecting the resonance characteristics of the quartz plate 2.

【0047】また、補強板1と水晶板2とを貼り合わせ
て加圧した状態で流動性を有する接着剤(17質量%の
フタリックグルー)を導入することにより、補強板1の
接合面と水晶板2の接合面とが互いに接触した状態で、
その接合面に流動性を有する接着剤が導入されるので、
厚みの薄い均一な接着剤層を容易に形成することができ
る。
Further, by bonding the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2 together and introducing a flowable adhesive (17 mass% phthalic glue) in a pressurized state, the bonding surface of the reinforcing plate 1 is With the bonding surfaces of the crystal plate 2 in contact with each other,
Since an adhesive having fluidity is introduced to the joining surface,
A thin and uniform adhesive layer can be easily formed.

【0048】さらに、上記第1実施形態では、補強板1
を水晶板2の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有する材料
(Al23−TiC)によって形成することにより、温
度変化が生じた場合に補強板1と水晶板2との接合面に
熱応力が発生するのを有効に防止することができる。こ
れにより、補強板1と水晶板2との間のひずみの発生に
よる平面度の低下を防止することができる。
Further, in the first embodiment, the reinforcing plate 1
Is formed of a material (Al 2 O 3 —TiC) having a thermal expansion coefficient close to the thermal expansion coefficient of the quartz plate 2 so that when a temperature change occurs, heat is applied to the joint surface between the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2. The generation of stress can be effectively prevented. Thereby, it is possible to prevent a decrease in flatness due to generation of distortion between the reinforcing plate 1 and the quartz plate 2.

【0049】(第2実施形態)図10〜図15は、本発
明の第2実施形態による水晶振動子の製造プロセスを説
明するための断面図および斜視図である。図10〜図1
5を参照して、以下に第2実施形態の製造プロセスにつ
いて説明する。
(Second Embodiment) FIGS. 10 to 15 are a sectional view and a perspective view for explaining a manufacturing process of a quartz oscillator according to a second embodiment of the present invention. 10 to 1
5, the manufacturing process according to the second embodiment will be described below.

【0050】まず、この第2実施形態では、図1〜図5
に示した第1実施形態の製造プロセスと同様のプロセス
を経た後、図10に示す製造プロセスに移行する。図1
0に示した製造プロセスでは、複数の溝11aが設けら
れた補強板11の接合表面上に水晶板12を貼り合わせ
た状態で加圧する。この加圧は、第1実施形態と同様、
水晶板12の上部を20×104Pa〜30×104Pa
の加圧力で押圧することによって行う。なお、溝11a
は、本発明の「凹部」の一例であり、水晶板12は、本
発明の「圧電材料からなる基板」の一例である。
First, in the second embodiment, FIGS.
After going through the same process as the manufacturing process of the first embodiment shown in FIG. 10, the process shifts to the manufacturing process shown in FIG. FIG.
In the manufacturing process shown in FIG. 0, pressure is applied in a state where the quartz plate 12 is bonded to the joint surface of the reinforcing plate 11 provided with the plurality of grooves 11a. This pressurization is performed similarly to the first embodiment.
The top of the quartz plate 12 20 × 10 4 Pa~30 × 10 4 Pa
This is performed by pressing with a pressing force of The groove 11a
Is an example of a “recess” of the present invention, and the quartz plate 12 is an example of a “substrate made of a piezoelectric material” of the present invention.

【0051】この状態で、溝11aが延びる方向と直交
する方向の補強板11と水晶板12との接合面の側端部
から熱硬化性接着剤を注入する。これにより、補強板部
分11cの表面に熱硬化性接着剤が浸透する。この熱硬
化性接着剤としては、たとえば、エイブルボンド(エイ
ブルスティック社製)を用いる。この後、図6に示した
第1実施形態の製造プロセスと同様、補強板11の溝1
1aからワックス系接着剤(17質量%のフタリックグ
ルー)を注入する。これにより、溝11a間に位置する
補強板部分11bの表面に、フタリックグルーが浸透す
る。そして、上記した加圧力で水晶板12の上部を加圧
した状態で、約100℃で約12時間の加熱を行う。こ
れにより、補強板11に水晶板12が接合される。
In this state, a thermosetting adhesive is injected from the side end of the joint surface between the reinforcing plate 11 and the quartz plate 12 in a direction perpendicular to the direction in which the groove 11a extends. Thereby, the thermosetting adhesive permeates the surface of the reinforcing plate portion 11c. As this thermosetting adhesive, for example, Able Bond (manufactured by Able Stick) is used. Thereafter, similarly to the manufacturing process of the first embodiment shown in FIG.
A wax-based adhesive (17 mass% phthalic glue) is injected from 1a. Thereby, the phthalic glue permeates the surface of the reinforcing plate portion 11b located between the grooves 11a. Then, heating is performed at about 100 ° C. for about 12 hours while the upper portion of the quartz plate 12 is pressurized by the above-described pressing force. Thereby, the quartz plate 12 is joined to the reinforcing plate 11.

【0052】この後、図11に示すように、水晶板12
の上面を研磨することによって、水晶板12を20μm
以下の厚みに加工する。この場合の研磨条件は、第1実
施形態と同様である。この後、図12に示すように、水
晶板12を所定の大きさに切断する。
Thereafter, as shown in FIG.
By polishing the upper surface of the
Process to the following thickness. The polishing conditions in this case are the same as in the first embodiment. Thereafter, as shown in FIG. 12, the quartz plate 12 is cut into a predetermined size.

【0053】そして、図13に示すように、補強板11
の裏面側から補強板11を一点鎖線の位置まで削る。こ
れにより、図14に示すような、水晶片12aと補強板
部分11bおよび11cとからなる部分に分離される。
図14に示された部分をアセトンに浸漬することによっ
て、水晶片12aと補強板部分11bとの間および溝1
1a内に位置するワックス系接着剤(フタリックグル
ー)を溶解させる。なお、水晶片12aと補強板部分1
1cとの間に位置する熱硬化性接着剤は、アセトンには
溶解しない。これにより、補強板部分11bのみを水晶
片12aから剥がすことができる。その結果、図15に
示すような、補強板部分11cのみが水晶片12aの表
面の一部に接合された形状が形成される。なお、水晶片
12aは、本発明の「圧電材料片」の一例である。
Then, as shown in FIG.
Of the reinforcing plate 11 from the back side to the position indicated by the alternate long and short dash line. As a result, as shown in FIG. 14, the crystal blank 12a and the reinforcing plate portions 11b and 11c are separated.
By immersing the portion shown in FIG. 14 in acetone, the space between the crystal blank 12a and the reinforcing plate portion 11b and the groove 1
The wax-based adhesive (phthalic glue) located in 1a is dissolved. The crystal blank 12a and the reinforcing plate portion 1
1c does not dissolve in acetone. Thereby, only the reinforcing plate portion 11b can be peeled off from the crystal blank 12a. As a result, a shape in which only the reinforcing plate portion 11c is joined to a part of the surface of the crystal blank 12a is formed as shown in FIG. The quartz piece 12a is an example of the “piezoelectric material piece” of the present invention.

【0054】第2実施形態では、上記のような製造プロ
セスによって、補強板部分11cが表面の一部に接合さ
れた水晶片12aを容易に形成することができる。これ
により、水晶片12aを持ち運ぶ際に、その補強板部分
11cを保持して容易に持ち運ぶことができる。その結
果、水晶片12aが小型化された場合にも、水晶片12
aのハンドリングを容易に行うことができる。
In the second embodiment, the crystal blank 12a in which the reinforcing plate portion 11c is joined to a part of the surface can be easily formed by the above manufacturing process. Thus, when carrying the crystal blank 12a, the reinforcing plate portion 11c can be held and easily carried. As a result, even when the crystal blank 12a is downsized,
a can be easily handled.

【0055】(第3実施形態)図16〜図24は、本発
明の第3実施形態による水晶振動子の製造プロセスを説
明するための斜視図および拡大断面図である。図16〜
図24を参照して、以下に第3実施形態の製造プロセス
について説明する。
(Third Embodiment) FIGS. 16 to 24 are a perspective view and an enlarged sectional view for explaining a manufacturing process of a quartz oscillator according to a third embodiment of the present invention. FIG.
The manufacturing process of the third embodiment will be described below with reference to FIG.

【0056】この第3実施形態の製造プロセスでは、補
強板21として、表面に気孔が多く形成されたMn−Z
n系多孔質フェライトを用いる。このMn−Zn系多孔
質フェライトの形成方法としては、まず、65〜75質
量%のFeOと、15〜20質量%のMnOと、10〜
15質量%のZnOとに、純水とアロンとを加えて混合
する。そして、その混合物を仮焼する。この仮焼は、約
850℃〜900℃で約4時間〜6時間行う。その後、
ボールミルを用いて、仮焼した混合物を約1μm〜3μ
mの微粒子に粉砕する。そして、結合剤を加えて乾燥さ
せることによって、流動性の良い粉末にする(造粒)。
さらに、プレスで押し固めることによって、所定の形状
の圧縮体を形成する。そして、約1200℃〜1300
℃の高温で焼結する。最後に、研磨による仕上げ加工を
行うことによって、Mn−Zn系多孔質フェライトの寸
法と形状を整える。
In the manufacturing process of the third embodiment, the reinforcing plate 21 is formed of Mn-Z having many pores on its surface.
An n-type porous ferrite is used. As a method of forming the Mn-Zn porous ferrite, first, 65 to 75% by mass of FeO, 15 to 20% by mass of MnO,
Pure water and Aron are added to and mixed with 15% by mass of ZnO. Then, the mixture is calcined. This calcination is performed at about 850 ° C. to 900 ° C. for about 4 hours to 6 hours. afterwards,
Using a ball mill, calcine the mixture to about 1 μm to 3 μm.
crushed into fine particles of m. Then, a binder is added and dried to obtain a powder having good fluidity (granulation).
Further, a compressed body having a predetermined shape is formed by compacting with a press. And about 1200 ° C ~ 1300
Sintering at high temperature of ℃. Finally, the size and shape of the Mn—Zn-based porous ferrite are adjusted by performing finishing by polishing.

【0057】なお、高密度で気孔の少ないフェライトを
形成する際には、通常、焼結後にHIP(熱間静水圧プ
レス)で高密度化させることが行われている。しかし、
この第3実施形態では、気孔の多い多孔質フェライトを
形成することを目的としているため、HIPによる高密
度化処理は行わない。
When forming ferrite with high density and few pores, usually, after sintering, the density is increased by HIP (Hot Isostatic Press). But,
In the third embodiment, since the purpose is to form porous ferrite having many pores, the densification processing by HIP is not performed.

【0058】上記のように、Mn−Zn系多孔質フェラ
イトからなる補強板21を形成した後、図16に示すよ
うに、補強板21を円盤形状の載置台100の上に配置
する。この状態で、補強板21の表面を鏡面加工する。
この補強板21の鏡面加工は、上記した第1実施形態と
同様、補強板21の表面粗さがRa値で0.01μm以
下になるように加工するのが好ましい。このように鏡面
加工されたMn−Zn系多孔質フェライトからなる補強
板21の断面を拡大して観察すると、図17に示される
ような形状になる。図17を参照して、補強板21の表
面には複数の結晶粒21aが配置されている。そして、
その結晶粒21a間には気孔21bが形成されている。
この気孔21bが、本発明の「凹部」の一例である。
After forming the reinforcing plate 21 made of Mn-Zn porous ferrite as described above, the reinforcing plate 21 is placed on the disk-shaped mounting table 100 as shown in FIG. In this state, the surface of the reinforcing plate 21 is mirror-finished.
The mirror finishing of the reinforcing plate 21 is preferably performed such that the surface roughness of the reinforcing plate 21 becomes 0.01 μm or less in Ra value, as in the first embodiment. When the cross section of the reinforcing plate 21 made of the Mn-Zn-based porous ferrite which has been mirror-finished in this way is enlarged and observed, a shape as shown in FIG. 17 is obtained. Referring to FIG. 17, a plurality of crystal grains 21 a are arranged on the surface of reinforcing plate 21. And
Pores 21b are formed between the crystal grains 21a.
The pores 21b are an example of the "recess" of the present invention.

【0059】なお、多孔質フェライトの気孔21bの密
度は、4000個/mm2以上10000個/mm2以下
であるのが好ましい。これは以下の理由による。すなわ
ち、多孔質フェライトの気孔21bの密度が4000個
/mm2よりも小さいと、気孔21bの数が少なくなる
ことに起因して気孔21bに埋め込まれる接着剤の量も
減少する。その結果、接着強度が低下するという不都合
が生じる。また、多孔質フェライトの気孔21bの密度
が10000個/mm2を越えると、気孔21bの数が
多くなって密集することに起因して補強板21の表面の
平坦性が低下する。このため、後述するプロセスにおい
て、補強板21上に接着された水晶板23を研磨した場
合に、水晶板23の平行度および平面度が低下するとい
う不都合が生じる。第3実施形態では、これらの不都合
を防止するため、多孔質フェライトの孔の密度を、40
00個/mm2以上10000個/mm2以下にするのが
好ましい。
The density of the pores 21b of the porous ferrite is preferably 4,000 / mm 2 or more and 10,000 / mm 2 or less. This is for the following reason. That is, when the density of the pores 21b of the porous ferrite is smaller than 4000 / mm 2 , the amount of the adhesive embedded in the pores 21b also decreases due to the decrease in the number of the pores 21b. As a result, there is a disadvantage that the adhesive strength is reduced. When the density of the pores 21b of the porous ferrite exceeds 10,000 / mm 2 , the number of the pores 21b increases and the pores 21b are densely packed, so that the flatness of the surface of the reinforcing plate 21 is reduced. For this reason, in the process described later, when the quartz plate 23 bonded on the reinforcing plate 21 is polished, there is a disadvantage that the parallelism and flatness of the quartz plate 23 are reduced. In the third embodiment, in order to prevent these inconveniences, the pore density of the porous ferrite is set to 40%.
It is preferable that the number be not less than 00 pieces / mm 2 and not more than 10,000 pieces / mm 2 .

【0060】また、多孔質フェライトの気孔21bの表
面平均孔径は、5μm以下であるのが好ましい。これは
以下の理由による。すなわち、多孔質フェライトの気孔
21bの平均孔径が、5μmよりも大きくなると、後述
するプロセスにおいて、水晶板23を研磨した時に、砥
石の押圧力によって補強板21の気孔21b上に位置す
る水晶板23の部分が気孔に落ち込み変形する場合があ
る。この場合、水晶板23の平行度が低下するという不
都合が生じる。このような不都合を防止するため、第3
実施形態では、多孔質フェライトの気孔21bの平均孔
径を、5μm以下にするのが好ましい。
The average surface diameter of the pores 21b of the porous ferrite is preferably 5 μm or less. This is for the following reason. That is, when the average pore diameter of the pores 21b of the porous ferrite is larger than 5 μm, in the process described later, when the quartz plate 23 is polished, the quartz plate 23 located on the pores 21b of the reinforcing plate 21 is pressed by the pressing force of the grindstone. May fall into the pores and deform. In this case, there is a disadvantage that the parallelism of the quartz plate 23 is reduced. To prevent such inconvenience,
In the embodiment, the average pore diameter of the pores 21b of the porous ferrite is preferably set to 5 μm or less.

【0061】図16および図17に示した補強板21の
鏡面加工の後、図18および図19に示すように、補強
板21の接合表面上にワックス系の接着剤22を刷毛な
どを用いて塗布する。このワックス系の接着剤22は、
第1実施形態と同様、粘度の低い流動性を有する接着剤
を用いる。すなわち、フタリックグルーとアセトンとを
1:5の混合比で混合した17質量%の濃度を有するフ
タリックグルーを用いる。このような17質量%の濃度
を有する流動性の高いフタリックグルー(接着剤22)
を補強板21上に塗布する。この接着剤22は、図19
に示すように、補強板21の表面の気孔21b内に埋め
込まれるとともに、補強板21の表面上に所定の厚みで
形成される。
After the mirror finishing of the reinforcing plate 21 shown in FIGS. 16 and 17, as shown in FIGS. 18 and 19, a wax-based adhesive 22 is applied on the joining surface of the reinforcing plate 21 by using a brush or the like. Apply. This wax-based adhesive 22
As in the first embodiment, an adhesive having low viscosity and fluidity is used. That is, a phthalic glue having a concentration of 17% by mass in which phthalic glue and acetone are mixed at a mixing ratio of 1: 5 is used. Highly fluid phthalic glue having such a concentration of 17% by mass (adhesive 22)
Is applied on the reinforcing plate 21. This adhesive 22 is used in FIG.
As shown in the figure, the reinforcing plate 21 is embedded in the pores 21b on the surface of the reinforcing plate 21 and is formed on the surface of the reinforcing plate 21 with a predetermined thickness.

【0062】なお、アセトンによって薄められたフタリ
ックグルーからなる流動性を有する接着剤22は、塗布
された後、アセトン成分が蒸発する。このため、フタリ
ックグルーからなる接着剤22は固化した状態となる。
It is to be noted that, after the adhesive 22 having fluidity and made of phthalic glue diluted with acetone is applied, the acetone component evaporates. Therefore, the adhesive 22 made of phthalic glue is in a solidified state.

【0063】このように接着剤22が固化した後、接着
剤22を研磨することによって、補強板21の表面に位
置する接着剤22を除去する。これにより、図20に示
すように、補強板21の表面の気孔21b内にのみ接着
剤22が埋め込まれ、気孔21b以外の補強板21の表
面には接着剤22が残存しない状態になる。
After the adhesive 22 is solidified in this way, the adhesive 22 located on the surface of the reinforcing plate 21 is removed by polishing the adhesive 22. As a result, as shown in FIG. 20, the adhesive 22 is embedded only in the pores 21b on the surface of the reinforcing plate 21, and the adhesive 22 does not remain on the surface of the reinforcing plate 21 other than the pores 21b.

【0064】この後、図21に示すように、補強板21
の接合表面上に、両面が鏡面加工された水晶板23を張
り合わせて加圧接着する。この加圧接着工程は、水晶板
23の上部を20×104Pa〜30×104Paの加圧
力で押圧するとともに、約100℃で約3〜約12時間
加熱することによって行う。これにより、補強板21の
表面の気孔21bに埋め込まれた接着剤22が再び溶融
状態となり、その接着剤22によって補強板21と水晶
板23との接合が行われる。ここで、加熱時間を約10
〜約12時間とするのが好ましい。接着剤、水晶板の収
縮率の差による水晶板の歪みを発生させずに接合できる
からである。なお、水晶板23は、本発明の「圧電材料
からなる基板」の一例である。
Thereafter, as shown in FIG.
A quartz plate 23, both sides of which are mirror-finished, is adhered to and bonded to the bonding surface of the above by pressing. The pressure bonding step, together with the upper portion of the quartz plate 23 is pressed with pressure of 20 × 10 4 Pa~30 × 10 4 Pa, carried out by heating at about 100 ° C. to about 3 to about 12 hours. As a result, the adhesive 22 embedded in the pores 21b on the surface of the reinforcing plate 21 becomes molten again, and the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23 are joined by the adhesive 22. Here, the heating time is about 10
Preferably, it is about 12 hours. This is because bonding can be performed without generating distortion of the quartz plate due to a difference in the shrinkage ratio between the adhesive and the quartz plate. The quartz plate 23 is an example of the “substrate made of a piezoelectric material” of the present invention.

【0065】上記のように、補強板21上に水晶板23
を接合した後、図22に示すように、補強板21と水晶
板23とを接合した状態で、水晶板23の表面を研磨す
る。これにより、水晶板23の厚みを20μm以下の厚
みに加工する。この工程における研磨条件は、上記した
第1実施形態と同様である。
As described above, the quartz plate 23 is placed on the reinforcing plate 21.
Then, as shown in FIG. 22, the surface of the quartz plate 23 is polished while the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23 are joined. Thus, the thickness of the quartz plate 23 is processed to a thickness of 20 μm or less. The polishing conditions in this step are the same as those in the first embodiment.

【0066】この研磨によって、第3実施形態では、平
面度が0.2μm/2mm□(P−V値)以下、平行度
が0.1μm/4mm以下の高い平面度および平行度を
有する水晶板23を形成することができる。これによ
り、副振動を発生しない良好な共振特性を有する水晶板
23を形成することができる。
By this polishing, in the third embodiment, a quartz plate having high flatness and parallelism with a flatness of 0.2 μm / 2 mm □ (PV value) or less and a parallelism of 0.1 μm / 4 mm or less. 23 can be formed. Thereby, it is possible to form the quartz plate 23 having good resonance characteristics without generating the sub vibration.

【0067】この後、図23の一点鎖線に示すように、
水晶板23を、たとえば、レジン系砥石を用いて切断し
た後、補強板21と水晶板23との間の気孔21bに埋
め込まれた接着剤(フタリックグルー)を有機溶剤(ア
セトン)によって溶解する。これにより、水晶板23を
補強板21から剥がす。その結果、図24に示すような
水晶片23aが得られる。なお、水晶片23aは、本発
明の「圧電材料片」の一例である。
Thereafter, as shown by the dashed line in FIG.
After cutting the quartz plate 23 using, for example, a resin grindstone, the adhesive (phthalic glue) embedded in the pores 21b between the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23 is dissolved by an organic solvent (acetone). . Thereby, the quartz plate 23 is peeled off from the reinforcing plate 21. As a result, a crystal piece 23a as shown in FIG. 24 is obtained. The crystal piece 23a is an example of the “piezoelectric material piece” of the present invention.

【0068】第3実施形態では、上記のように、補強板
21の気孔21bに接着剤22を導入することによっ
て、その気孔21bに導入された接着剤22により、補
強板21と水晶板23とを容易に接合することができ
る。この場合、接着剤22は気孔21b内にのみ位置す
るので、補強板21と水晶板23との接合面に接着剤層
が実質的に存在しない状態で補強板と水晶板とを接合す
ることができる。これにより、補強板21上に接合され
た水晶板23を研磨した場合に、接着剤層の厚みのバラ
ツキに起因して水晶板の平行度および平面度が低下する
という不都合が生じない。その結果、より高い平行度お
よび高い平面度を有する水晶板23を形成することがで
きる。
In the third embodiment, as described above, by introducing the adhesive 22 into the pores 21b of the reinforcing plate 21, the adhesive 22 introduced into the pores 21b allows the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23 to be in contact with each other. Can be easily joined. In this case, since the adhesive 22 is located only in the pores 21b, it is possible to join the reinforcing plate and the quartz plate in a state where the adhesive layer does not substantially exist on the joining surface between the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23. it can. Thus, when the quartz plate 23 bonded on the reinforcing plate 21 is polished, the inconvenience that the parallelism and the flatness of the quartz plate decrease due to the variation in the thickness of the adhesive layer does not occur. As a result, the quartz plate 23 having higher parallelism and higher flatness can be formed.

【0069】また、この第3実施形態においては、上記
した第1実施形態と同様、接着剤(フタリックグルー)
22は、有機溶剤(アセトン)などによって容易に溶解
することが可能であるので、水晶板23の加工後に補強
板21を水晶板23から剥がす際にも、接着剤22を溶
解することによって、水晶板23に物理的な力が加わる
ことなく補強板21を剥がすことができる。その結果、
水晶板23の共振特性が変化するのを有効に防止するこ
とができる。
In the third embodiment, an adhesive (phthalic glue) is used as in the first embodiment.
The crystal 22 can be easily dissolved by an organic solvent (acetone) or the like. Therefore, when the reinforcing plate 21 is peeled off from the crystal plate 23 after the processing of the crystal plate 23, the adhesive 22 is dissolved by dissolving the adhesive 22. The reinforcing plate 21 can be peeled off without applying any physical force to the plate 23. as a result,
It is possible to effectively prevent the resonance characteristic of the quartz plate 23 from changing.

【0070】また、第3実施形態では、上記した第1実
施形態に比べて水晶板の材料効率を向上させることがで
きる。すなわち、第1実施形態では、図7に示した工程
において、補強板1上に接合した水晶板2を研磨する際
に、溝1a上に位置する水晶板2の部分が変形する場合
がある。このため、図8に示した工程において、水晶板
2を切断する際に、溝1a上に位置する部分以外の部分
を水晶片2aとして用いる。これに対して、第3実施形
態では、補強板21に溝が存在しないため、図23に示
した工程において、水晶板23を切り出す際に、すべて
の部分を水晶片23a(図24参照)として用いること
が可能である。その結果、第3実施形態の製造方法で
は、第1実施形態に比べて、水晶板23の材料効率を向
上させることができる。
In the third embodiment, the material efficiency of the quartz plate can be improved as compared with the first embodiment. That is, in the first embodiment, in the step shown in FIG. 7, when the quartz plate 2 bonded on the reinforcing plate 1 is polished, a portion of the quartz plate 2 located on the groove 1a may be deformed. For this reason, in the step shown in FIG. 8, when cutting the quartz plate 2, a portion other than the portion located on the groove 1a is used as the quartz piece 2a. On the other hand, in the third embodiment, since there is no groove in the reinforcing plate 21, when the crystal plate 23 is cut out in the step shown in FIG. 23, all parts are formed as crystal blanks 23 a (see FIG. 24). It can be used. As a result, in the manufacturing method of the third embodiment, the material efficiency of the quartz plate 23 can be improved as compared with the first embodiment.

【0071】また、第3実施形態では、補強板21の気
孔21b内および補強板21の表面上に接着剤(フタリ
ックグルー)を導入した後、補強板21の気孔21b以
外の部分の接着剤22を研磨によって除去することによ
り、補強板21の気孔21bのみに容易に接着剤22を
埋め込むことができる。これにより、気孔21bに埋め
込まれた接着剤によって、補強板21と水晶板23との
接合面に接着剤層が実質的に存在しない状態で補強板2
1と水晶板23とを接合することができる。
In the third embodiment, after the adhesive (phthalic glue) is introduced into the pores 21 b of the reinforcing plate 21 and on the surface of the reinforcing plate 21, the adhesive is applied to portions of the reinforcing plate 21 other than the pores 21 b. By removing 22 by polishing, adhesive 22 can be easily embedded only in pores 21b of reinforcing plate 21. As a result, the reinforcing plate 2 does not substantially exist on the bonding surface between the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23 by the adhesive embedded in the pores 21b.
1 and the quartz plate 23 can be joined.

【0072】なお、第3実施形態では、補強板21の気
孔21b内のみに接着剤22を残した状態で補強板21
と水晶板23とを加圧接着するようにした。この場合、
補強板21と水晶板23の加圧接着の際に、補強板21
と水晶板23との間に隙間があると、気孔21b内の接
着剤22が補強板21と水晶板23との接合界面に染み
出す場合もある。しかし、このように接着剤22が接合
界面に染み出したとしても、その染み出した接着剤22
により形成される接着剤層は0.1μm以下の極めて薄
い厚みである。このため、厚みの厚い接着剤層が補強板
21と水晶板23との接合界面に存在する場合のよう
に、加工後の水晶板23の平行度および平面度が低下す
るという不都合は生じないので、問題はない。
In the third embodiment, the reinforcing plate 21 is kept in a state where the adhesive 22 is left only in the pores 21b of the reinforcing plate 21.
And the quartz plate 23 were bonded under pressure. in this case,
When the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23 are bonded under pressure, the reinforcing plate 21
If there is a gap between the quartz plate and the quartz plate 23, the adhesive 22 in the pores 21b may seep out to the joint interface between the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23. However, even if the adhesive 22 oozes out at the bonding interface, the ooze out of the adhesive 22
Has an extremely small thickness of 0.1 μm or less. Therefore, unlike the case where a thick adhesive layer is present at the joint interface between the reinforcing plate 21 and the quartz plate 23, there is no inconvenience that the parallelism and flatness of the processed quartz plate 23 are reduced. ,No problem.

【0073】なお、今回開示された実施形態は、すべて
の点で例示であって制限的なものではないと考えられる
べきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明
ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請
求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が
含まれる。
It should be noted that the embodiment disclosed this time is an example in all respects and is not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description of the embodiments, and includes all modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

【0074】たとえば、上記第1および第2実施形態で
は、補強板の材料として、水晶板の熱膨張係数に近い熱
膨張係数を有するAl23−TiCを用いたが、本発明
はこれに限らず、水晶板と熱膨張係数の近い材料であれ
ば他の材料を用いてもよい。たとえば、水晶、アルミ
ナ、石英ガラスなどが考えられる。さらに、水晶板とは
熱膨張係数が近くない材料でも用いることは可能であ
る。たとえば、Mn−Zn系またはNi−Zn系フェラ
イト材を用いてもよい。このように加工性の高いフェラ
イト材を用いれば、補強板の加工が容易になるという利
点がある。
For example, in the first and second embodiments, Al 2 O 3 —TiC having a thermal expansion coefficient close to that of a quartz plate is used as the material of the reinforcing plate. The material is not limited to this, and other materials may be used as long as the material has a thermal expansion coefficient close to that of the quartz plate. For example, quartz, alumina, quartz glass and the like can be considered. Further, it is possible to use a material having a thermal expansion coefficient close to that of a quartz plate. For example, a Mn-Zn-based or Ni-Zn-based ferrite material may be used. Use of a ferrite material having high workability as described above has an advantage that the processing of the reinforcing plate is facilitated.

【0075】また、上記第1〜第3実施形態では,流動
性を有する接着剤として、17質量%の濃度を有するフ
タリックグルーを用いたが、本発明はこれに限らず、流
動性を有する接着剤であれば、他の接着剤を用いても同
様の効果を得ることができる。たとえば、アルコワック
ス(日化精工社製)を溶媒を使用せずにそのままの状態
で用いることも可能である。なお、本発明で使用する流
動性を有する接着剤としては、100℃における条件下
で、10cp〜30cp程度の流動粘度を有する接着剤
を用いるのが好ましい。
In the first to third embodiments, phthalic glue having a concentration of 17% by mass is used as the adhesive having fluidity. However, the present invention is not limited to this, and the adhesive having fluidity may be used. As long as the adhesive is used, the same effect can be obtained by using another adhesive. For example, Alcowax (manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd.) can be used as it is without using a solvent. In addition, as the adhesive having fluidity used in the present invention, it is preferable to use an adhesive having a fluid viscosity of about 10 cp to 30 cp at 100 ° C.

【0076】また、上記第1および第2実施形態では、
補強板の溝を、矩形形状に形成したが、本発明はこれに
限らず、V字形状やU字形状、その他の形状の溝であっ
ても同様の効果を得ることができる。さらに、補強板の
表面に微少な凹凸を設けて、その凹部から接着剤を導入
するようにしてもよい。本発明では、このような溝およ
び微少な凹凸の凹部を総称して、凹部としている。
In the first and second embodiments,
Although the groove of the reinforcing plate is formed in a rectangular shape, the present invention is not limited to this, and the same effect can be obtained even if the groove is V-shaped, U-shaped, or another shape. Furthermore, minute unevenness may be provided on the surface of the reinforcing plate, and the adhesive may be introduced from the recess. In the present invention, such grooves and concave portions having minute unevenness are collectively referred to as concave portions.

【0077】また、上記第1および第2実施形態では、
補強板の溝を、補強板の両方の端部にまで延びて貫通す
るように形成したが、本発明では、必ずしも、補強板の
両方の端部にまで延びて貫通している必要はない。すな
わち、補強板の溝は、少なくとも、補強板と水晶板との
接合部分の端部にまで延びていればよい。このようにす
れば、補強板と水晶板とを貼り合わせた状態において
も、補強板と水晶板との接合部分の端部の凹部から容易
に接着剤を導入することができる。
In the first and second embodiments,
Although the groove of the reinforcing plate is formed so as to extend to and penetrate both ends of the reinforcing plate, the present invention does not necessarily need to extend to and penetrate both ends of the reinforcing plate. That is, the groove of the reinforcing plate only needs to extend at least to the end of the joint between the reinforcing plate and the quartz plate. With this configuration, even when the reinforcing plate and the quartz plate are bonded together, the adhesive can be easily introduced from the concave portion at the end of the joint between the reinforcing plate and the quartz plate.

【0078】また、第3実施形態では、補強板21とし
て、Mn−Zn系多孔質フェライトを用いたが、本発明
はこれに限らず、Ni−Zn系多孔質フェライトを用い
てもよい。また、多孔質フェライト以外の多孔質セラミ
ックスを用いても同様の効果を得ることができる。たと
えば、多孔質アルミナや多孔質カーボンを用いてもよ
い。また、多孔質セラミックスに限らず、接合表面に気
孔を有する補強板であれば、同様の効果を得ることがで
きる。
In the third embodiment, a Mn-Zn porous ferrite is used as the reinforcing plate 21, but the present invention is not limited to this, and a Ni-Zn porous ferrite may be used. The same effect can be obtained by using a porous ceramic other than the porous ferrite. For example, porous alumina or porous carbon may be used. The same effect can be obtained not only with porous ceramics but also with a reinforcing plate having pores on the joining surface.

【0079】また、上記第3実施形態では、流動性を有
する接着剤(17質量%のフタリックグルー)を補強板
21の表面に塗布した後、気孔21b以外の部分の接着
剤22を研磨により除去することによって、気孔21b
内にのみ接着剤22を残すようにしたが、本発明はこれ
に限らず、接着剤の塗布および研磨以外の他の方法によ
り気孔21b内に接着剤22を残すようにしてもよい。
In the third embodiment, after the adhesive having fluidity (17% by mass of phthalic glue) is applied to the surface of the reinforcing plate 21, the adhesive 22 other than the pores 21b is polished. By removing, the pores 21b
Although the adhesive 22 is left only in the inside, the present invention is not limited to this, and the adhesive 22 may be left in the pores 21b by a method other than applying and polishing the adhesive.

【0080】また、上記第1〜第3実施形態では、圧電
材料からなる基板の一例として水晶板を用いる例を示し
たが、本発明はこれに限らず、水晶以外のたとえば、ラ
ンガサイト(La3Ga5SiO14)、LT(LiTaO
3:タンタル酸リチウム)やLN(LiNbO3:ニオブ
酸リチウム)などの圧電材料からなる基板を用いても同
様の効果を得ることができる。
In the first to third embodiments, a quartz plate is used as an example of a substrate made of a piezoelectric material. However, the present invention is not limited to this. 3 Ga 5 SiO 14 ), LT (LiTaO)
A similar effect can be obtained by using a substrate made of a piezoelectric material such as 3 : lithium tantalate or LN (LiNbO 3 : lithium niobate).

【0081】すなわち、補強板に凹部(溝または気孔)
を形成するとともに、その凹部に流動性を有する接着剤
を導入することによって、補強板と上記圧電材料からな
る基板とを所定の強度で接合することができる。そし
て、そのような接着剤によって補強板に接合された圧電
材料からなる基板を研磨することにより、高い平行度お
よび平面度を有する圧電材料からなる基板を形成するこ
とができる。また、接着剤層は有機溶剤などによって容
易に溶解することが可能であるので、圧電材料からなる
基板の加工後に補強板を圧電材料からなる基板から剥が
す際にも、接着剤層を溶解することによって、圧電材料
からなる基板に物理的な力が加わることなく補強板を剥
がすことができる。これにより、圧電材料からなる基板
の共振特性が変化するのを有効に防止することができ
る。このように、圧電材料からなる基板の共振特性を変
化させることなく高い平行度および平面度を有する圧電
材料からなる基板を形成することができる。
That is, concave portions (grooves or pores) are formed in the reinforcing plate.
Is formed, and by introducing an adhesive having fluidity into the concave portion, the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material can be joined with a predetermined strength. Then, a substrate made of a piezoelectric material having high parallelism and flatness can be formed by polishing a substrate made of a piezoelectric material bonded to a reinforcing plate with such an adhesive. Also, since the adhesive layer can be easily dissolved by an organic solvent or the like, the adhesive layer must be dissolved even when the reinforcing plate is peeled off from the substrate made of the piezoelectric material after processing the substrate made of the piezoelectric material. Thereby, the reinforcing plate can be peeled off without applying a physical force to the substrate made of the piezoelectric material. Thus, it is possible to effectively prevent the resonance characteristic of the substrate made of the piezoelectric material from being changed. In this manner, a substrate made of a piezoelectric material having high parallelism and flatness can be formed without changing the resonance characteristics of the substrate made of the piezoelectric material.

【0082】また、上記第1〜第3実施形態では、圧電
素子の製造方法として、振動子の製造方法に例をとって
説明したが、本発明はこれに限らず、フィルタなど他の
圧電素子の製造方法にも広く適用可能である。
In the first to third embodiments, the method of manufacturing a piezoelectric element has been described by taking an example of a method of manufacturing a vibrator. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to this. Can be widely applied to the method of manufacturing.

【0083】また、上記第3実施形態では、図16〜図
21に示したように、円盤形状の載置台100の上に気
孔を有する複数個の補強板21を配置した後、その補強
板21上に接着剤を介して水晶板23を接合する例を示
したが、本発明はこれに限らず、第3実施形態の変形例
として、図25に示すように、載置台を用いずに、気孔
を有するたとえば60mm×60mm×7mmの大型の
補強板31を準備するとともに、その大型の補強板31
上に複数個(この変形例では12個)の水晶板(圧電材
料からなる基板)23を接着剤を介して接合するように
してもよい。このように構成すれば、載置台を用いない
ので、補強板と水晶板(圧電材料からなる基板)との接
着時の熱に起因して補強板と載置台との間に歪みが発生
するという不都合を解消することができる。これによ
り、補強板と載置台との間に発生した歪みによって水晶
板(圧電材料からなる基板)の平面度および平行度が低
下するという不都合も生じない。その結果、水晶板(圧
電材料からなる基板)23の平面度および平行度をより
向上させることができる。
In the third embodiment, as shown in FIGS. 16 to 21, after a plurality of reinforcing plates 21 having pores are arranged on a disk-shaped mounting table 100, the reinforcing plates 21 are disposed. Although the example in which the quartz plate 23 is bonded via an adhesive has been described above, the present invention is not limited to this. As a modification of the third embodiment, as shown in FIG. A large reinforcing plate 31 having pores of, for example, 60 mm × 60 mm × 7 mm is prepared, and the large reinforcing plate 31 is provided.
A plurality of (twelve in this modification) quartz plates (substrates made of a piezoelectric material) 23 may be bonded thereto via an adhesive. With this configuration, since the mounting table is not used, distortion occurs between the reinforcing plate and the mounting table due to heat generated when the reinforcing plate and the quartz plate (substrate made of a piezoelectric material) are bonded. Inconvenience can be eliminated. Thus, there is no inconvenience that the flatness and the parallelism of the quartz plate (substrate made of a piezoelectric material) are reduced by the distortion generated between the reinforcing plate and the mounting table. As a result, the flatness and parallelism of the quartz plate (substrate made of a piezoelectric material) 23 can be further improved.

【0084】[0084]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、補強板
に形成された凹部に流動性を有する接着剤を導入するこ
とによって、補強板と圧電材料からなる基板との接合面
に接着剤層を均一に形成することができる。これによ
り、そのような均一な接着剤層によって補強板に接合さ
れた圧電材料からなる基板を研磨すれば、高い平行度お
よび平面度を有する圧電材料からなる基板を形成するこ
とができる。また、接着剤を有機溶剤などで溶解させる
ことによって、圧電材料からなる基板の共振特性に悪影
響を与えることなく補強板を圧電材料からなる基板から
剥がすことができる。さらに、補強板部分が表面の一部
に接合された水晶片を容易に形成することができるの
で、その補強板部分を保持して容易に水晶片を持ち運ぶ
ことができる。
As described above, according to the present invention, by introducing a flowable adhesive into the concave portion formed in the reinforcing plate, the adhesive is bonded to the joint surface between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material. The agent layer can be formed uniformly. Thus, by polishing a substrate made of a piezoelectric material bonded to a reinforcing plate with such a uniform adhesive layer, a substrate made of a piezoelectric material having high parallelism and flatness can be formed. Further, by dissolving the adhesive with an organic solvent or the like, the reinforcing plate can be peeled from the substrate made of the piezoelectric material without adversely affecting the resonance characteristics of the substrate made of the piezoelectric material. Further, since the crystal blank having the reinforcing plate portion joined to a part of the surface can be easily formed, the crystal blank can be easily carried while holding the reinforcing plate portion.

【0085】また、補強板の気孔に接着剤を導入するこ
とによって、その気孔に導入された接着剤により、補強
板と圧電材料からなる基板との接合面に接着剤層が実質
的にない状態で補強板と圧電材料からなる基板とを接合
することができる。これにより、より高い平行度および
高い平面度を有する圧電材料からなる基板を形成するこ
とができる。
In addition, by introducing an adhesive into the pores of the reinforcing plate, the adhesive introduced into the pores causes substantially no adhesive layer on the bonding surface between the reinforcing plate and the substrate made of a piezoelectric material. Thus, the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material can be joined. Thus, a substrate made of a piezoelectric material having higher parallelism and higher flatness can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view for explaining a manufacturing process of a crystal unit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view for explaining a manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view for explaining a manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view for explaining a manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第1実施形態による水晶振動子の製造
プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the first embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第2実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the crystal unit according to the second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第2実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第2実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第2実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the second embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第2実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the second embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第2実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the second embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第3実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 16 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the third embodiment of the present invention.

【図17】図16に示した製造プロセスにおける補強板
の拡大断面図である。
17 is an enlarged sectional view of a reinforcing plate in the manufacturing process shown in FIG.

【図18】本発明の第3実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the third embodiment of the present invention.

【図19】図18に示した製造プロセスにおける補強板
の拡大断面図である。
19 is an enlarged cross-sectional view of the reinforcing plate in the manufacturing process shown in FIG.

【図20】本発明の第3実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための拡大断面図である。
FIG. 20 is an enlarged cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the third embodiment of the present invention.

【図21】本発明の第3実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 21 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the third embodiment of the present invention.

【図22】本発明の第3実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 22 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the third embodiment of the present invention.

【図23】本発明の第3実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 23 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the third embodiment of the present invention.

【図24】本発明の第3実施形態による水晶振動子の製
造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 24 is a perspective view for explaining the manufacturing process of the crystal unit according to the third embodiment of the present invention.

【図25】本発明の第3実施形態の変形例による水晶振
動子の製造プロセスを説明するための斜視図である。
FIG. 25 is a perspective view for explaining a manufacturing process of a crystal unit according to a modification of the third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11、21、31 補強板 1a、11a 溝(凹部) 2、12、23 水晶板(圧電材料からなる基板) 2a、12a、23a 水晶片(圧電材料片) 11b、11c 補強板部分 21a 結晶粒 21b 気孔(凹部) 22 接着剤 100 載置台 1, 11, 21, 31 Reinforcement plate 1a, 11a Groove (recess) 2, 12, 23 Quartz plate (substrate made of piezoelectric material) 2a, 12a, 23a Quartz piece (piezoelectric material piece) 11b, 11c Reinforcement plate portion 21a Crystal Grains 21b Pores (recess) 22 Adhesive 100 Mounting table

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 補強板の表面に凹部を形成する工程と、 前記補強板の凹部に流動性を有する接着剤を導入するこ
とによって、前記補強板と圧電材料からなる基板とを接
合する工程とを備えた、圧電素子の製造方法。
A step of forming a concave portion on the surface of the reinforcing plate; and a step of joining the reinforcing plate and a substrate made of a piezoelectric material by introducing a flowable adhesive into the concave portion of the reinforcing plate. A method for manufacturing a piezoelectric element, comprising:
【請求項2】 前記補強板と前記圧電材料からなる基板
とを接合する工程は、 前記補強板と前記圧電材料からなる基板とを貼り合わせ
て加圧した状態で、前記凹部から前記流動性を有する接
着剤を導入することによって、前記補強板と前記圧電材
料からなる基板とを接合する工程を含む、請求項1に記
載の圧電素子の製造方法。
2. The step of joining the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material includes: bonding the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material to each other, and pressing the substrate so that the fluidity is reduced from the concave portion. The method for manufacturing a piezoelectric element according to claim 1, comprising a step of joining the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material by introducing an adhesive having the same.
【請求項3】 前記補強板の凹部は、少なくとも、前記
補強板と前記圧電材料からなる基板との接合部分の端部
にまで延びて形成されている、請求項1または2に記載
の圧電素子の製造方法。
3. The piezoelectric element according to claim 1, wherein the concave portion of the reinforcing plate extends at least to an end of a joining portion between the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material. Manufacturing method.
【請求項4】 前記圧電材料からなる基板と前記補強板
とを接合する工程に先だって、前記補強板の接合面と前
記圧電材料からなる基板の接合面とを、それぞれ、鏡面
加工する工程をさらに備える、請求項1〜3のいずれか
1項に記載の圧電素子の製造方法。
4. The method according to claim 1, further comprising, before the step of joining the substrate made of the piezoelectric material and the reinforcing plate, a step of mirror-finishing the joining surface of the reinforcing plate and the joining surface of the substrate made of the piezoelectric material, respectively. The method for manufacturing a piezoelectric element according to claim 1, further comprising:
【請求項5】 前記補強板は、前記圧電材料からなる基
板の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有する材料を含む、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の圧電素子の製造方
法。
5. The reinforcing plate includes a material having a thermal expansion coefficient close to a thermal expansion coefficient of a substrate made of the piezoelectric material.
A method for manufacturing the piezoelectric element according to claim 1.
【請求項6】 前記圧電材料からなる基板と前記補強板
とを接合する工程の後、前記圧電材料からなる基板の表
面を所定の板厚分、研磨する工程と、 その後、前記接着剤を溶解することによって、前記補強
板から前記圧電材料からなる基板を剥がす工程とをさら
に備えた、請求項1〜5のいずれか1項に記載の圧電素
子の製造方法。
6. After the step of joining the substrate made of the piezoelectric material and the reinforcing plate, polishing the surface of the substrate made of the piezoelectric material by a predetermined thickness, and then dissolving the adhesive. The method of manufacturing a piezoelectric element according to any one of claims 1 to 5, further comprising: removing a substrate made of the piezoelectric material from the reinforcing plate.
【請求項7】 補強板の表面に凹部を形成する工程と、 前記補強板の表面に圧電材料からなる基板を貼り合わせ
た状態で、前記補強板と前記圧電材料からなる基板との
貼り合わせ面の側部から熱硬化性の第1接着剤を導入す
るとともに、前記補強板の凹部から流動性を有する第2
接着剤を導入することによって、前記補強板と前記圧電
材料からなる基板とを接合する工程と、 前記補強板と前記圧電材料からなる基板とを接合した状
態で、前記圧電材料からなる基板を所定の大きさに切断
することによって圧電材料片を形成する工程と、 前記流動性を有する第2接着剤を溶解することによっ
て、前記第1接着剤を介して前記圧電材料片に接合され
ている補強板部分を剥がさないで、前記第2接着剤を介
して前記圧電材料片に接合されている補強板部分のみを
剥がす工程とを備えた、圧電素子の製造方法。
7. A step of forming a concave portion on a surface of a reinforcing plate, and a bonding surface of the reinforcing plate and a substrate made of the piezoelectric material in a state where a substrate made of a piezoelectric material is bonded to the surface of the reinforcing plate. The first thermosetting adhesive is introduced from the side of the second plate, and the second fluid having fluidity is formed from the concave portion of the reinforcing plate.
A step of joining the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material by introducing an adhesive; and a step of joining the substrate made of the piezoelectric material in a state where the reinforcing plate and the substrate made of the piezoelectric material are joined. Forming a piezoelectric material piece by cutting to a size of; and dissolving the second adhesive having fluidity, thereby reinforcing the piezoelectric material piece via the first adhesive. Peeling off only the reinforcing plate portion bonded to the piezoelectric material piece via the second adhesive without peeling the plate portion.
【請求項8】 前記補強板の表面に形成された凹部は、 前記補強板の少なくとも接合表面に形成された気孔を含
む、請求項1に記載の圧電素子の製造方法。
8. The method according to claim 1, wherein the concave portion formed on the surface of the reinforcing plate includes pores formed on at least a joint surface of the reinforcing plate.
【請求項9】 前記気孔を有する補強板は、多孔質セラ
ミックスからなる補強板を含む、請求項8に記載の圧電
素子の製造方法。
9. The method according to claim 8, wherein the reinforcing plate having pores includes a reinforcing plate made of porous ceramics.
【請求項10】 前記多孔質セラミックスからなる補強
板は、多孔質フェライト、多孔質アルミナおよび多孔質
カーボンからなるグループより選択される1つの材料か
らなる補強板を含む、請求項9に記載の圧電素子の製造
方法。
10. The piezoelectric plate according to claim 9, wherein the reinforcing plate made of porous ceramics includes a reinforcing plate made of one material selected from the group consisting of porous ferrite, porous alumina, and porous carbon. Device manufacturing method.
【請求項11】 前記多孔質フェライトを形成する工程
は、 フェライト成形体を焼結する工程と、 前記フェライト成形体の焼結後に、仕上げ加工する工程
とを含む、請求項10に記載の圧電素子の製造方法。
11. The piezoelectric element according to claim 10, wherein the step of forming the porous ferrite includes a step of sintering a ferrite molded body, and a step of finishing after sintering the ferrite molded body. Manufacturing method.
【請求項12】 前記多孔質フェライトの気孔の密度
は、4000個/mm 2以上10000個/mm2以下で
ある、請求項10または11に記載の圧電素子の製造方
法。
12. The pore density of the porous ferrite.
Is 4000 pieces / mm TwoMore than 10000 pieces / mmTwoBelow
A method for manufacturing the piezoelectric element according to claim 10.
Law.
【請求項13】 前記多孔質フェライトの気孔の平均孔
径は、5μm以下である、請求項10〜12のいずれか
1項に記載の圧電素子の製造方法。
13. The method for manufacturing a piezoelectric element according to claim 10, wherein the average pore diameter of the pores of the porous ferrite is 5 μm or less.
【請求項14】 少なくとも接合表面に気孔を有する補
強板を形成する工程と、 前記補強板の気孔に、接着剤を導入する工程と、 前記補強板の表面上に圧電材料からなる基板を接着する
工程と、 前記補強板上に接着された圧電材料からなる基板を研磨
する工程とを備えた、圧電素子の製造方法。
14. A step of forming a reinforcing plate having pores on at least a joining surface; a step of introducing an adhesive into pores of the reinforcing plate; and bonding a substrate made of a piezoelectric material on the surface of the reinforcing plate. A method for manufacturing a piezoelectric element, comprising: a step of polishing a substrate made of a piezoelectric material adhered on the reinforcing plate.
【請求項15】 前記接着剤を導入する工程は、 前記補強板の気孔内および前記補強板の表面上に接着剤
を導入した後、前記補強板の気孔以外の部分の接着剤を
除去する工程を含む、請求項14に記載の圧電素子の製
造方法。
15. The step of introducing the adhesive, the step of introducing the adhesive into the pores of the reinforcing plate and on the surface of the reinforcing plate, and then removing the adhesive in a portion other than the pores of the reinforcing plate. The method for manufacturing a piezoelectric element according to claim 14, comprising:
【請求項16】 前記気孔を有する補強板は、その上に
複数の前記圧電材料からなる基板が配置可能な大きさを
有する、請求項8〜15のいずれか1項に記載の圧電素
子の製造方法。
16. The piezoelectric element according to claim 8, wherein the reinforcing plate having the pores has a size such that a plurality of substrates made of the piezoelectric material can be arranged thereon. Method.
【請求項17】 前記圧電材料からなる基板は、水晶お
よびランガサイト(La3Ga5SiO14)のいずれかを
含む、請求項1〜16のいずれか1項に記載の圧電素子
の製造方法。
17. The method for manufacturing a piezoelectric element according to claim 1, wherein the substrate made of the piezoelectric material includes any of quartz and langasite (La 3 Ga 5 SiO 14 ).
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