JP2002190385A - Transfer material for manufacturing electroluminescence element, and method for manufacturing the electroluminescence element - Google Patents

Transfer material for manufacturing electroluminescence element, and method for manufacturing the electroluminescence element

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JP2002190385A
JP2002190385A JP2000388549A JP2000388549A JP2002190385A JP 2002190385 A JP2002190385 A JP 2002190385A JP 2000388549 A JP2000388549 A JP 2000388549A JP 2000388549 A JP2000388549 A JP 2000388549A JP 2002190385 A JP2002190385 A JP 2002190385A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer material for easy manufacturing of an electroluminescence element at a high degree of design freedom, and to provide a method for manufacturing the electroluminescence element. SOLUTION: A peeling layer, an illuminant layer, a dielectrics layer, and an adhesive layer are laminated sequentially on a support body, with the support body being allowed to detach from the illuminant layer, thus providing the transfer material for manufacturing the electroluminescent element. The transfer material for manufacturing the electroluminescent element is stacked on an electrode formed on a substrate, so that the adhesive layer abuts against it. Heat is applied in a desired pattern from the support body side of the transfer material. Then, the support body is detached to transfer a pattern laminate comprising the adhesive layer, dielectrics layer, and illuminant layer onto the electrode. Then, a transparent substrate, on which a transparent electrode is formed is fitted so that the transparent electrode abuts against the illuminant layer of the pattern laminate, and the electroluminescent element is thus manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はエレクトロルミネッ
センス素子、特にディスプレー装置に使用される交流型
のエレクトロルミネッセンス素子を製造するための転写
材料およびエレクトロルミネッセンス素子の製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer material for manufacturing an electroluminescent device, particularly an AC type electroluminescent device used for a display device, and a method of manufacturing the electroluminescent device.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロルミネッセンス(EL)素子
は、自己発色による視認性の高さ、液晶ディスプレーと
異なり全固体ディスプレーであること、温度変化の影響
をあまり受けない、視野角が大きい等の利点をもってお
り、近年、ディスプレー装置の画素、および、液晶ディ
スプレーの背面光源等としての実用化が進んでいる。
2. Description of the Related Art Electroluminescent (EL) elements have the advantages of high visibility due to self-coloration, being all solid-state displays unlike liquid crystal displays, being less affected by temperature changes, and having a large viewing angle. In recent years, practical application as a pixel of a display device and a back light source of a liquid crystal display has been advanced.

【0003】EL素子は、主に交流型と直流型に分類さ
れる。交流型のEL素子では、発光体層と誘電体層を二
つの電極間に設置するのが一般的な構造である。この構
造では、酸化インジウムスズ(ITO)電極に代表され
る透明電極を使用し、基材、対電極、誘電体層、発光体
層、透明電極、透明基材の順に積層し、対電極と透明電
極の間で基材に垂直方向に交流印加するものである。
[0003] EL elements are mainly classified into AC type and DC type. In an AC type EL device, a light emitting layer and a dielectric layer are generally disposed between two electrodes. In this structure, a transparent electrode typified by an indium tin oxide (ITO) electrode is used, and a base material, a counter electrode, a dielectric layer, a luminescent layer, a transparent electrode, and a transparent base material are laminated in this order, and a counter electrode and a transparent base material are laminated. This is for applying an alternating current in a vertical direction to the base material between the electrodes.

【0004】上述の交流型のEL素子は、誘電体層と発
光体層を積層した構造を有し、従来、これらの2層の形
成には、厚膜の塗工に適したスクリーン印刷が主に使わ
れてきた。
The above-mentioned AC type EL element has a structure in which a dielectric layer and a light emitting layer are laminated. Conventionally, formation of these two layers is mainly performed by screen printing suitable for coating a thick film. Has been used for

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スクリ
ーン印刷を用いたEL素子の形成では、予めスクリーン
版に設けられている形状のみパターン形成が可能である
ため、多品種少ロットのEL素子製造では、複数のスク
リーン版が必要となる。このため、製造コストの増大を
来たし、EL素子の設計の自由度と製造コストは相反す
るという問題があった。
However, in the formation of an EL element using screen printing, it is possible to form a pattern only in a shape provided in advance on a screen plate. Multiple screen versions are required. For this reason, there has been a problem that the manufacturing cost is increased, and the degree of freedom in designing the EL element and the manufacturing cost are contradictory.

【0006】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、エレクトロルミネッセンス素子を高い設
計自由度で容易に製造するための転写材料と、エレクト
ロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的
とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a transfer material for easily manufacturing an electroluminescent element with a high degree of design freedom, and a method for manufacturing the electroluminescent element. Aim.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のエレクトロルミネッセンス素子製造
用の転写材料は、支持体と、該支持体上に順次積層され
た剥離層、発光体層、誘電体層および接着層とを備え、
前記支持体と前記発光体層との間で剥離可能であるよう
な構成とした。
In order to achieve the above object, a transfer material for producing an electroluminescent device according to the present invention comprises a support, a release layer sequentially laminated on the support, and a luminescent material. A layer, a dielectric layer and an adhesive layer,
The structure was such that it could be peeled off between the support and the luminescent layer.

【0008】また、本発明のエレクトロルミネッセンス
素子製造用の転写材料の好ましい他の態様として、前記
発光体層、前記誘電体層が、バインダーとして熱溶融性
樹脂、熱軟化性樹脂およびワックスの少なくとも1種を
含有するような構成とした。
In another preferred embodiment of the transfer material for producing an electroluminescent element according to the present invention, the luminous layer and the dielectric layer are each formed of at least one of a hot-melt resin, a thermo-softening resin and a wax as a binder. It was configured to contain seeds.

【0009】そして、本発明のエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、電極を形成した基材の該電極上
に、上記のエレクトロルミネッセンス素子製造用の転写
材料を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前記転
写材料の支持体側から所望のパターン形状で熱を印加
し、その後、前記支持体を剥離することにより前記パタ
ーン形状で接着層と誘電体層と発光体層からなるパター
ン積層体を前記電極上に転写し、その後、透明電極を形
成した透明基材を該透明電極が前記パターン積層体の発
光体層と当接するように固着するような構成とした。
In the method of manufacturing an electroluminescent element according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent element is superposed on the electrode on a substrate on which the electrode is formed so that the adhesive layer is in contact with the transfer material. Heat is applied in a desired pattern shape from the support side of the transfer material, and then, the support is peeled off to form a pattern laminate comprising an adhesive layer, a dielectric layer, and a luminescent layer in the pattern shape on the electrode. Then, the transparent substrate on which the transparent electrode was formed was fixed so that the transparent electrode was in contact with the luminescent layer of the pattern laminate.

【0010】また、本発明のエレクトロルミネッセンス
素子の製造方法の好ましい他の態様として、上記のエレ
クトロルミネッセンス素子製造用の転写材料を所望のパ
ターン形状に加工し、基材に形成された電極上に、前記
加工後の転写材料を前記接着層が当接するように重ね合
わせ、前記転写材料の支持体側から熱を印加し、その
後、前記支持体を剥離することにより前記パターン形状
で接着層と誘電体層と発光体層からなるパターン積層体
を前記電極上に転写し、その後、透明電極を形成した透
明基材を該透明電極が前記パターン積層体の発光体層と
当接するように固着するような構成とした。
In another preferred embodiment of the method for manufacturing an electroluminescent device of the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent device described above is processed into a desired pattern shape, and an electrode formed on a base material is formed on the transfer material. The processed transfer material is overlapped so that the adhesive layer abuts, heat is applied from the support side of the transfer material, and then the support is peeled off to form the adhesive layer and the dielectric layer in the pattern shape. And transferring the pattern laminate comprising the luminescent layer onto the electrode, and then fixing the transparent substrate on which the transparent electrode is formed such that the transparent electrode is in contact with the luminescent layer of the pattern laminate. And

【0011】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製
造用の転写材料の好ましい他の態様として、支持体と、
該支持体上に順次積層された発光体層、誘電体層、接着
層および電極とを備え、前記支持体と前記発光体層との
間で剥離可能であるような構成とした。
[0011] In another preferred embodiment of the transfer material for producing an electroluminescent element of the present invention, a support,
A light-emitting layer, a dielectric layer, an adhesive layer, and an electrode were sequentially laminated on the support, and the structure was such that the support could be separated from the light-emitting layer.

【0012】そして、本発明のエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、基材上に上記のエレクトロルミネ
ッセンス素子製造用の転写材料を前記電極が当接するよ
うに重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から所望のパ
ターン形状で熱を印加し、その後、前記支持体を剥離す
ることにより前記パターン形状で電極と接着層と誘電体
層と発光体層からなるパターン積層体を前記基材上に転
写し、その後、透明電極を形成した透明基材を該透明電
極が前記パターン積層体の発光体層と当接するように固
着するような構成とした。
In the method for manufacturing an electroluminescent element according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent element is overlapped on a base material such that the electrode is in contact with the transfer material, and a desired material is applied from the support side of the transfer material. Applying heat in a pattern shape, and then transferring the pattern laminate including the electrode, the adhesive layer, the dielectric layer, and the light emitting layer in the pattern shape onto the base material by peeling the support, and then, The transparent substrate on which the transparent electrode was formed was configured to be fixed so that the transparent electrode was in contact with the light emitting layer of the pattern laminate.

【0013】また、本発明のエレクトロルミネッセンス
素子の製造方法の好ましい他の態様として、上記のエレ
クトロルミネッセンス素子製造用の転写材料を所望のパ
ターン形状に加工し、基材上に前記加工後の転写材料を
前記電極が当接するように重ね合わせ、前記転写材料の
支持体側から熱を印加し、その後、前記支持体を剥離す
ることにより前記パターン形状で電極と接着層と誘電体
層と発光体層からなるパターン積層体を前記基材上に転
写し、その後、透明電極を形成した透明基材を該透明電
極が前記パターン積層体の発光体層と当接するように固
着するような構成とした。
In another preferred embodiment of the method for manufacturing an electroluminescent device according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent device is processed into a desired pattern shape, and the processed transfer material is formed on a substrate. Are overlapped so that the electrodes are in contact with each other, heat is applied from the support side of the transfer material, and then the support is peeled off so that the electrodes, the adhesive layer, the dielectric layer, and the luminescent layer in the pattern shape are peeled off. The pattern laminate was transferred onto the substrate, and then the transparent substrate on which the transparent electrode was formed was fixed so that the transparent electrode was in contact with the light emitting layer of the pattern laminate.

【0014】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製
造用の転写材料の好ましい他の態様として、支持体と、
該支持体上に順次積層された剥離層、透明電極、発光体
層、誘電体層および接着層とを備え、前記支持体と前記
透明電極との間で剥離可能であるような構成とした。
In another preferred embodiment of the transfer material for producing an electroluminescent device of the present invention, a support,
A release layer, a transparent electrode, a light-emitting layer, a dielectric layer, and an adhesive layer were sequentially laminated on the support, and the structure was such that the support could be separated from the transparent electrode.

【0015】そして、本発明のエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、電極を形成した基材の該電極上
に、上記のエレクトロルミネッセンス素子製造用の転写
材料を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前記転
写材料の支持体側から所望のパターン形状で熱を印加
し、その後、前記支持体を剥離することにより前記パタ
ーン形状で接着層と誘電体層と発光体層と透明電極から
なるパターン積層体を前記電極上に転写し、その後、透
明基材を前記パターン積層体の透明電極と当接するよう
に固着するような構成とした。
In the method of manufacturing an electroluminescent element according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent element is superimposed on the electrode on a substrate on which the electrode is formed so that the adhesive layer comes into contact with the transfer material. Heat is applied in a desired pattern shape from the support side of the transfer material, and then, by peeling the support, a pattern laminate including an adhesive layer, a dielectric layer, a light emitting layer, and a transparent electrode is formed in the pattern shape. The pattern was transferred onto the electrode, and then the transparent substrate was fixed so as to be in contact with the transparent electrode of the pattern laminate.

【0016】また、本発明のエレクトロルミネッセンス
素子の製造方法の好ましい他の態様として、上記のエレ
クトロルミネッセンス素子製造用の転写材料を所望のパ
ターン形状に加工し、基材に形成された電極上に、前記
加工後の転写材料を前記接着層が当接するように重ね合
わせ、前記転写材料の支持体側から熱を印加し、その
後、前記支持体を剥離することにより前記パターン形状
で接着層と誘電体層と発光体層と透明電極からなるパタ
ーン積層体を前記電極上に転写し、その後、透明基材を
前記パターン積層体の透明電極と当接するように固着す
るような構成とした。
In another preferred embodiment of the method for manufacturing an electroluminescent device according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent device described above is processed into a desired pattern shape, and an electrode formed on a base material is formed on the transfer material. The processed transfer material is overlapped so that the adhesive layer abuts, heat is applied from the support side of the transfer material, and then the support is peeled off to form the adhesive layer and the dielectric layer in the pattern shape. Then, a pattern laminate comprising a light-emitting body layer and a transparent electrode was transferred onto the electrode, and then a transparent substrate was fixed so as to be in contact with the transparent electrode of the pattern laminate.

【0017】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製
造用の転写材料の好ましい他の態様として、支持体と、
該支持体上に順次積層された剥離層、透明電極、発光体
層、誘電体層、接着層および電極とを備え、前記支持体
と前記透明電極との間で剥離可能であるような構成とし
た。
As another preferred embodiment of the transfer material for producing an electroluminescent device of the present invention, a support,
A structure in which a release layer, a transparent electrode, a luminescent layer, a dielectric layer, an adhesive layer, and an electrode are sequentially stacked on the support, and the support and the transparent electrode can be separated. did.

【0018】そして、本発明のエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、基材上に上記のエレクトロルミネ
ッセンス素子製造用の転写材料を前記電極が当接するよ
うに重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から所望のパ
ターン形状で熱を印加し、その後、前記支持体を剥離す
ることにより前記パターン形状で電極と接着層と誘電体
層と発光体層と透明電極からなるパターン積層体を前記
基材上に転写し、その後、透明基材を前記パターン積層
体の透明電極と当接するように固着するような構成とし
た。
In the method of manufacturing an electroluminescent element according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent element is overlapped on a base material so that the electrode is in contact with the transfer material, and a desired material is provided from the support side of the transfer material. Heat is applied in a pattern shape, and then, by peeling the support, a pattern laminate composed of an electrode, an adhesive layer, a dielectric layer, a luminescent layer, and a transparent electrode is transferred onto the substrate in the pattern shape. Thereafter, the transparent base material is fixed so as to be in contact with the transparent electrode of the pattern laminate.

【0019】また、本発明のエレクトロルミネッセンス
素子の製造方法の好ましい他の態様として、上記のエレ
クトロルミネッセンス素子製造用の転写材料を所望のパ
ターン形状に加工し、基材上に前記加工後の転写材料を
前記電極が当接するように重ね合わせ、前記転写材料の
支持体側から熱を印加し、その後、前記支持体を剥離す
ることにより前記パターン形状で電極と接着層と誘電体
層と発光体層と透明電極からなるパターン積層体を前記
基材上に転写し、その後、透明基材を前記パターン積層
体の透明電極と当接するように固着するような構成とし
た。
In another preferred embodiment of the method for manufacturing an electroluminescent device according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent device is processed into a desired pattern shape, and the processed transfer material is formed on a substrate. The electrodes are overlapped so that the electrodes are in contact with each other, heat is applied from the support side of the transfer material, and then, the support is peeled off, and the electrodes, the adhesive layer, the dielectric layer, and the light emitting layer are patterned in the pattern shape. The pattern laminate composed of the transparent electrode was transferred onto the substrate, and then the transparent substrate was fixed so as to be in contact with the transparent electrode of the pattern laminate.

【0020】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製
造用の転写材料の好ましい他の態様として、支持体と、
該支持体上に順次積層された剥離層、透明電極、発光体
層、誘電体層および接着層とを備え、前記支持体と前記
透明電極との間で剥離可能であり、前記支持体が透明基
材であるような構成とした。
In another preferred embodiment of the transfer material for producing an electroluminescent device of the present invention, a support,
A release layer, a transparent electrode, a luminescent layer, a dielectric layer, and an adhesive layer sequentially laminated on the support are provided, and the support is peelable between the support and the transparent electrode, and the support is transparent. It was configured to be a substrate.

【0021】そして、本発明のエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、電極を形成した基材の該電極上
に、上記のエレクトロルミネッセンス素子製造用の転写
材料を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前記転
写材料の支持体側から熱を印加するような構成とした。
In the method for manufacturing an electroluminescent element according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent element is superposed on the electrode on a substrate on which the electrode is formed so that the adhesive layer comes into contact with the transfer material. The structure was such that heat was applied from the support side of the transfer material.

【0022】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製
造用の転写材料の好ましい他の態様として、支持体と、
該支持体上に順次積層された剥離層、透明電極、発光体
層、誘電体層および接着層とを備え、前記支持体と前記
透明電極との間で剥離可能であり、前記接着層上に電極
を備え、前記支持体が透明基材であるような構成とし
た。
As another preferred embodiment of the transfer material for producing an electroluminescent device of the present invention, a support,
A release layer, a transparent electrode, a light-emitting layer, a dielectric layer, and an adhesive layer sequentially laminated on the support are provided, and can be peeled between the support and the transparent electrode, and on the adhesive layer An electrode was provided, and the support was configured to be a transparent substrate.

【0023】そして、本発明のエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、基材上に上記のエレクトロルミネ
ッセンス素子製造用の転写材料を前記電極が当接するよ
うに重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から熱を印加
するような構成とした。
In the method for manufacturing an electroluminescent element according to the present invention, the transfer material for manufacturing an electroluminescent element is overlapped on a substrate so that the electrodes are in contact with each other, and heat is applied from the support side of the transfer material. It was configured to apply voltage.

【0024】このような本発明では、転写材料による所
望のパターン転写が可能なので、種々の設計によるエレ
クトロルミネッセンス素子の製造が容易である。
According to the present invention, since a desired pattern can be transferred by using a transfer material, it is easy to manufacture an electroluminescent element by various designs.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0026】エレクトロルミネッセンス素子製造用の転
写材料 図1は、本発明のエレクトロルミネッセンス(EL)素
子製造用の転写材料の一例を示す概略断面図である。図
1において、EL素子製造用の転写材料1は、支持体2
と、この支持体2上に剥離層3を介して形成された発光
体層4、この発光体層4上に積層された誘電体層5、接
着層6を備えるものである。
[0026] A conversion element for manufacturing an electroluminescence element.
Copy material Figure 1 is a schematic sectional view showing an example of an electroluminescent (EL) transfer material for device fabrication of the present invention. In FIG. 1, a transfer material 1 for manufacturing an EL element comprises a support 2
And a luminescent layer 4 formed on the support 2 via a release layer 3, a dielectric layer 5 laminated on the luminescent layer 4, and an adhesive layer 6.

【0027】また、図2は、EL素子製造用の転写材料
の他の例を示す概略断面図である。図2において、EL
素子製造用の転写材料11は、支持体12と、この支持
体12上に剥離層13を介して形成された発光体層14
と、この発光体層14上に順次積層された誘電体層1
5、接着層16、電極17を備えるものである。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of a transfer material for manufacturing an EL element. In FIG. 2, EL
A transfer material 11 for manufacturing an element includes a support 12 and a light-emitting layer 14 formed on the support 12 with a release layer 13 interposed therebetween.
And the dielectric layer 1 sequentially laminated on the light emitting layer 14
5, an adhesive layer 16, and an electrode 17.

【0028】また、図3は、EL素子製造用の転写材料
の他の例を示す概略断面図である。図3において、EL
素子製造用の転写材料21は、支持体22と、この支持
体22上に剥離層23を介して形成された透明電極28
と、この透明電極28上に順次積層された発光体層2
4、誘電体層25、接着層26を備えるものである。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of a transfer material for manufacturing an EL element. In FIG. 3, EL
A transfer material 21 for manufacturing an element includes a support 22 and a transparent electrode 28 formed on the support 22 with a release layer 23 interposed therebetween.
And the luminescent layer 2 sequentially laminated on the transparent electrode 28
4, a dielectric layer 25 and an adhesive layer 26.

【0029】さらに、図4は、EL素子製造用の転写材
料の他の例を示す概略断面図である。図4において、E
L素子製造用の転写材料31は、支持体32と、この支
持体32上に剥離層33を介して形成された透明電極3
8と、この透明電極38上に順次積層された発光体層3
4、誘電体層35、接着36および電極37を備えるも
のである。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of a transfer material for producing an EL element. In FIG.
The transfer material 31 for manufacturing the L element is composed of a support 32 and a transparent electrode 3 formed on the support 32 via a release layer 33.
8 and the luminescent layer 3 sequentially laminated on the transparent electrode 38.
4, a dielectric layer 35, an adhesive 36, and an electrode 37.

【0030】上述のような本発明の転写材料1,11,
21,31は、被転写体に接着層6,26、あるいは、
電極17,37を接着して支持体2,12,22,32
を剥離することにより、接着層6と誘電体層5と発光体
層4からなる積層体、電極17と接着層16と誘電体層
15と発光体層14からなる積層体、接着層26と誘電
体層25と発光体層24と透明電極28からなる積層
体、あるいは、電極37と接着層36と誘電体層35と
発光体層34と透明電極38からなる積層体を転写する
ことができる。例えば、液晶ディスプレーの背面光源と
してのEL素子を作製する場合には、所定の形状で転写
することができ、文字や記号等のディスプレー装置に使
用するEL素子の製造では、対応した文字や記号のパタ
ーンで転写することができる。さらに、ディスプレー装
置の微細な画素の形成も容易に行うことができる。転写
方式は、熱転写、光転写、圧転写等、いずれの転写方式
であってもよい。
The transfer materials 1, 11, and
21 and 31 are the adhesive layers 6 and 26 or
The electrodes 17, 37 are adhered and the supports 2, 12, 22, 32
Is peeled off, a laminate composed of the adhesive layer 6, the dielectric layer 5, and the luminous layer 4, a laminated body composed of the electrode 17, the adhesive layer 16, the dielectric layer 15, and the luminous layer 14, the adhesive layer 26, and the dielectric A laminate composed of the body layer 25, the light-emitting layer 24, and the transparent electrode 28, or a laminate composed of the electrode 37, the adhesive layer 36, the dielectric layer 35, the light-emitting layer 34, and the transparent electrode 38 can be transferred. For example, when manufacturing an EL element as a back light source of a liquid crystal display, it can be transferred in a predetermined shape, and in the manufacture of an EL element used for a display device such as a character or a symbol, the corresponding character or symbol can be transferred. It can be transferred in a pattern. Further, fine pixels of the display device can be easily formed. The transfer method may be any transfer method such as thermal transfer, light transfer, pressure transfer, and the like.

【0031】以下に、上述のEL素子製造用の転写材料
1,11,21,31の構成部材を説明する。本発明の
EL素子製造用の転写材料1,11,21,31を構成
する支持体2,12,22,32としては、例えば、ポ
リエステル、ポリプロピレン、セロハン、ポリカーボネ
ート、酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化
ビニリデン、ポリビニルアルコール、フッ素樹脂、塩化
ゴム、アイオノマー等のプラスチック、コンデンサー
紙、パラフィン紙等の紙類、不織布等が挙げられ、ま
た、これらを複合した複合フィルムを使用することもで
きる。支持体2,12,22,32の厚みは、その強
度、熱伝導性が適切となるように材料に応じて適宜設定
することができ、例えば、3〜50μmの範囲で設定す
ることができる。
Hereinafter, the components of the transfer materials 1, 11, 21, 31 for manufacturing the EL element will be described. As the supports 2, 12, 22, 32 constituting the transfer materials 1, 11, 21, 31 for manufacturing the EL element of the present invention, for example, polyester, polypropylene, cellophane, polycarbonate, cellulose acetate, polyethylene, polyvinyl chloride , Polystyrene, polyamide, polyimide, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, fluororesin, chlorinated rubber, plastics such as ionomers, condenser paper, papers such as paraffin paper, nonwoven fabrics and the like, and a composite film obtained by combining these. Can also be used. The thickness of the supports 2, 12, 22, and 32 can be appropriately set according to the material so that the strength and the thermal conductivity are appropriate, and can be set, for example, in the range of 3 to 50 μm.

【0032】また、本発明のEL素子製造用の転写材料
21,31を構成する支持体22,32として、透明基
材を使用してもよい。これにより、支持体22,32を
剥離することなく、そのままEL素子の透明基材として
用いることができる。使用する透明基材としては、光透
過性を有するガラス材料、樹脂材料、これらの複合材料
により形成することができる。尚、転写においてサーマ
ルヘッドを用いた熱転写を行う場合、支持体2,12,
22,32に耐熱材料を混入させる、あるいは、支持体
2,12,22,32の裏面に耐熱材料層を形成しても
よい。
Further, a transparent base material may be used as the supports 22 and 32 constituting the transfer materials 21 and 31 for manufacturing the EL element of the present invention. Thereby, the support members 22 and 32 can be used as a transparent substrate of the EL element without peeling. The transparent base material to be used can be formed of a glass material, a resin material, or a composite material having a light transmitting property. When performing thermal transfer using a thermal head in transfer, the supports 2, 12,
A heat-resistant material may be mixed in 22, 22 or a heat-resistant material layer may be formed on the back surfaces of the supports 2, 12, 22, 32.

【0033】本発明の転写材料1,11,21,31の
剥離層3,13,23,33は、低分子量の樹脂、もし
くはワックス等の材料を単独で、あるいは、2種以上の
組み合わせで使用して形成することができ、具体的な材
料としては、カルナバワックス、ライスワックス、モン
タンワックス、パラフィンワックス、ポリイソプレンゴ
ム、スチレンブタジエンゴム、ポリオレフィン、ポリ塩
化オレフィン等を挙げることができる。この剥離層3,
13,23,33の厚みは、例えば、0.05〜3μm
の範囲で設定することができる。このような剥離層3,
13,23,33は、転写条件、使用する材料によっ
て、支持体から剥離して転写される場合、剥離層内で層
間剥離を生じ一部が転写される場合、転写されずに支持
体側に残る場合とがある。
The release layers 3, 13, 23, and 33 of the transfer materials 1, 11, 21, and 31 of the present invention use a material such as a low-molecular-weight resin or wax alone or in combination of two or more. Specific examples of the material include carnauba wax, rice wax, montan wax, paraffin wax, polyisoprene rubber, styrene butadiene rubber, polyolefin, and polychlorinated olefin. This release layer 3,
13, 23, 33 have a thickness of, for example, 0.05 to 3 μm.
Can be set in the range. Such a release layer 3,
Depending on the transfer conditions and the material used, the transfer layers 13, 23, and 33 remain on the support side without being transferred when they are delaminated in the release layer and partially transferred, when they are transferred from the support. There are cases.

【0034】本発明の転写材料1,11,21,31の
発光体層4,14,24,34は、正孔と電子の再結合
で得られるエネルギーにより発光する材料であれば、そ
の種類は限定されないが、一般的には金属化合物を使用
することができる。具体的には、金属化合物として、Z
1-xMgxS:Mn、SrS:Ce、SrS:Ce,M
n、SrS:Ce,Mn,Ag、ZnS:Mn/Sr
S:Ce、ZnGa23:Mn、Ga23:Mn、Ga
23:Eu、Ga23:Sn、ZnS:Cu等が挙げら
れ、これらを単独で、あるいは、2種以上の組み合わせ
で使用することができる。
The light-emitting layers 4, 14, 24, and 34 of the transfer materials 1, 11, 21, and 31 of the present invention may be any material that emits light by energy obtained by recombination of holes and electrons. Although not limited, generally a metal compound can be used. Specifically, as the metal compound, Z
n 1-x Mg x S: Mn, SrS: Ce, SrS: Ce, M
n, SrS: Ce, Mn, Ag, ZnS: Mn / Sr
S: Ce, ZnGa 2 O 3 : Mn, Ga 2 O 3 : Mn, Ga
2 O 3 : Eu, Ga 2 O 3 : Sn, ZnS: Cu and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0035】また、発光体層4,14,24,34は、
上述のような発光体材料をバインダーで保持したもので
あってもよい。バインダーとしては、熱溶融性あるいは
熱軟化性の樹脂、もしくはワックス等を用いることがで
き、例えばマイクロクリスタリンワックス、カルナバワ
ックス、パラフィンワックス等がある。更に、フィッシ
ャートロプシュワックス、各種低分子量ポリエチレン、
木ロウ、ミツロウ、鯨ロウ、イボタロウ、羊毛ロウ、セ
ラックワックス、キャンデリラワックス、ペトロラクタ
ム、ポリエステルワックス、一部変性ワックス、脂肪酸
エステル、脂肪酸アミド等、種々のワックス、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル
共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブデン、石油樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、塩化
ビニリデン樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド、ポリカ
ーボネート、フッ素樹脂、ポリビニルフォルマール、ポ
リビニルブチラール、アセチルセルロース、ニトロセル
ロース、ポリ酢酸ビニル、ポリイソブチレン、エチルセ
ルロース又はポリアセタール等の樹脂が挙げられ、これ
らを単独で、あるいは、2種以上の組み合わせで使用す
ることができる。このような発光体層4,14,24,
34の厚みは、例えば、5〜40μmの範囲で設定する
ことができる。
The light emitting layers 4, 14, 24, 34 are
The above-mentioned luminescent material may be held by a binder. As the binder, a heat-meltable or heat-softening resin or wax can be used, and examples thereof include microcrystalline wax, carnauba wax, and paraffin wax. Furthermore, Fischer-Tropsch wax, various low molecular weight polyethylenes,
Wood wax, beeswax, whale wax, Ibota wax, wool wax, shellac wax, candelilla wax, petrolactam, polyester wax, partially modified wax, fatty acid ester, fatty acid amide, etc., various waxes, ethylene-vinyl acetate copolymer, Ethylene-acrylate copolymer, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polybutene, petroleum resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl alcohol, vinylidene chloride resin, methacrylic resin, polyamide, polycarbonate, fluorine resin, Resins such as polyvinyl formal, polyvinyl butyral, acetylcellulose, nitrocellulose, polyvinyl acetate, polyisobutylene, ethyl cellulose or polyacetal, and these alone, It can be used in combination of two or more thereof. Such luminous body layers 4, 14, 24,
The thickness of 34 can be set, for example, in the range of 5 to 40 μm.

【0036】本発明の転写材料1,11,21,31の
誘電体層5,15,25,35は、エネルギーの印加に
より誘電分極する材料、成膜性があり転写に適するもの
を用いて形成することができる。このような材料として
は、一般的に金属酸化物が用いられ、具体的には、チタ
ン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化チタン、
チタン酸鉛、ジルコニウム酸チタン酸鉛、スズ酸カルシ
ウム等が挙げられ、これらを単独で、あるいは、2種以
上の組み合わせで使用することができる。
The dielectric layers 5, 15, 25, and 35 of the transfer materials 1, 11, 21, and 31 of the present invention are formed using a material that is dielectrically polarized by application of energy and has a film-forming property and is suitable for transfer. can do. As such a material, a metal oxide is generally used, and specifically, barium titanate, strontium titanate, titanium oxide,
Examples thereof include lead titanate, lead zirconate titanate, and calcium stannate, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0037】また、誘電体層5,15,25,35は、
上述のような材料をバインダーで保持したものであって
もよい。バインダーとしては、上述のようなバインダー
が挙げられる。誘電体層5,15,25,35の厚み
は、例えば、5〜40μmの範囲で設定することができ
る。
The dielectric layers 5, 15, 25, 35
The above materials may be held by a binder. Examples of the binder include the binders described above. The thickness of the dielectric layers 5, 15, 25, 35 can be set, for example, in the range of 5 to 40 μm.

【0038】本発明の転写材料1,11,21,31の
接着層6,16,26,36は、転写材料1,21にお
いて誘電体層5,25以下の層を、あるいは、転写材料
11,31において電着層17,37と誘電体層15,
35以下の層を、被転写体に確実に転写するためのもの
である。この接着層6,16,26,36は、上述の発
光体層の発光体材料のバインダーとして挙げられた熱溶
融性樹脂、熱軟化性樹脂およびワックス等の材料を単独
で、あるいは、2種以上の組み合わせで使用して形成す
ることができ、厚みは、例えば、0.5〜3μmの範囲
で設定することができる。
The adhesive layers 6, 16, 26, and 36 of the transfer materials 1, 11, 21, and 31 of the present invention may be the same as the transfer materials 1 and 21 except for the dielectric layers 5 and 25 or less. At 31, the electrodeposition layers 17, 37 and the dielectric layer 15,
This is for surely transferring 35 or less layers to the transfer target. The adhesive layers 6, 16, 26, and 36 may be made of a material such as a heat-meltable resin, a heat-softening resin, and a wax, which are listed as binders for the luminescent material of the luminescent layer, or may be two or more kinds. And the thickness can be set, for example, in the range of 0.5 to 3 μm.

【0039】本発明の転写材料11,31の電極17,
37は、一般には、金属材料が用いられるが、有機バイ
ンダー中に金属材料を混入した導電性インキを用いても
よい。金属材料としては、金、銀、銅、マグネシウム合
金(MgAg等)、アルミニウム合金(AlLi、Al
Ca、AlMg等)、金属カルシウム等を挙げることが
できる。
The electrodes 17 of the transfer materials 11 and 31 of the present invention,
For 37, a metal material is generally used, but a conductive ink in which a metal material is mixed in an organic binder may be used. Examples of metal materials include gold, silver, copper, magnesium alloys (MgAg, etc.), aluminum alloys (AlLi, Al
Ca, AlMg, etc.), metallic calcium and the like.

【0040】電極17,37は、蒸着、スパッタリング
等の真空成膜法、めっき法、導電性インキを用いた印刷
法等、いずれの方法でも形成することができるが、湿気
排除の点から、真空成膜法が好ましい。また、電極1
5,35の厚みは、真空成膜法により形成した場合、2
0〜200nm、塗布方法により形成した場合、2〜4
0μm程度の範囲で設定することができる。
The electrodes 17 and 37 can be formed by any method such as a vacuum film forming method such as vapor deposition and sputtering, a plating method, and a printing method using a conductive ink. A film forming method is preferred. Also, electrode 1
The thickness of 5, 35 is 2 when formed by a vacuum film forming method.
0 to 200 nm, when formed by a coating method, 2 to 4
It can be set in a range of about 0 μm.

【0041】本発明の転写材料21,31の透明電極2
8,38は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化イン
ジウム、酸化亜鉛、酸化第二スズ等の導電材料を用い
て、蒸着、スパッタリング等の真空成膜法により形成し
たものである。この透明電極28,38の厚みは、20
〜200nm程度の範囲で設定することができる。
The transparent electrodes 2 of the transfer materials 21 and 31 of the present invention
Reference numerals 8 and 38 are formed by using a conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide by a vacuum film forming method such as evaporation and sputtering. The thickness of the transparent electrodes 28 and 38 is 20
It can be set in the range of about 200 nm.

【0042】エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 次に、本発明のエレクトロルミネッセンス(EL)素子
の製造方法について説明する。図5は、本発明のEL素
子の製造方法の一例を示す工程図である。まず、電極5
5を備えた基材52上に、本発明のEL素子製造用の転
写材料1を接着層6が当接するように重ね合わせ、転写
材料1側から所望のパターンで熱を印加する(図5
(A))。基材52は、樹脂材料、ガラス材料、金属材
料、セラミックス材料、これらの複合材料等からなる。
また、電極55は、一般には、金属材料が用いられ、有
機バインダー中に金属材料を混入した導電性インキを用
いてもよい。金属材料としては、金、銀、銅、マグネシ
ウム合金(MgAg等)、アルミニウム合金(AlL
i、AlCa、AlMg等)、金属カルシウム等を挙げ
ることができる。電極55の形成は、蒸着、スパッタリ
ング等の真空成膜法、めっき法、導電性インキを用いた
印刷法等により行うことができ、図示例では全ベタの電
極であるが、所望のパターンをもつ電極であってもよ
い。
The manufacturing method of the electroluminescent device will be described a manufacturing method of the electroluminescent (EL) device of the present invention. FIG. 5 is a process chart showing an example of a method for manufacturing an EL device of the present invention. First, electrode 5
The transfer material 1 for manufacturing an EL element of the present invention is superimposed on the base material 52 provided with the adhesive layer 6 so that the adhesive layer 6 is in contact with the transfer material 1, and heat is applied in a desired pattern from the transfer material 1 side (FIG. 5).
(A)). The base material 52 is made of a resin material, a glass material, a metal material, a ceramic material, a composite material thereof, or the like.
In addition, for the electrode 55, generally, a metal material is used, and a conductive ink in which a metal material is mixed in an organic binder may be used. Examples of metal materials include gold, silver, copper, magnesium alloys (MgAg, etc.), aluminum alloys (AlL
i, AlCa, AlMg, etc.), metallic calcium and the like. The electrode 55 can be formed by a vacuum film forming method such as vapor deposition or sputtering, a plating method, a printing method using a conductive ink, or the like. In the illustrated example, the electrodes are all solid, but have a desired pattern. It may be an electrode.

【0043】図示例では、所望の熱印加パターンを領域
Aで示してあり、このようなパターン形状の熱印加は、
サーマルヘッド、レーザー光照射、ヒートプレス等によ
り行うことができる。このような熱印加により、領域A
において、接着層6が電極55に接着する。
In the illustrated example, a desired heat application pattern is indicated by a region A.
It can be performed by a thermal head, laser beam irradiation, heat press, or the like. By such heat application, the region A
At this time, the adhesive layer 6 adheres to the electrode 55.

【0044】次に、支持体2を剥離することにより、上
記のパターン形状で接着層6と誘電体層5と発光体層4
からなるパターン積層体P1が電極55上に転写される
(図5(B))。
Next, by peeling the support 2, the adhesive layer 6, the dielectric layer 5, and the luminous layer 4 are formed in the above-mentioned pattern shape.
Is transferred onto the electrode 55 (FIG. 5B).

【0045】次いで、透明電極56を備える透明基材5
7を、上記のパターン積層体P1上に固着することによ
り、EL素子51が得られる(図5(C))。透明基材
57は、光透過性を有するガラス材料、樹脂材料、これ
らの複合材料により形成することができる。また、透明
電極56は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化イン
ジウム、酸化亜鉛、酸化第二スズ等の導電材料を用い
て、蒸着、スパッタリング等の真空成膜法により形成し
た透明電極である。この透明電極56は、ベタ電極、所
望のパターン電極等、EL素子の使用目的に応じて形成
することができる。このような本発明のEL素子製造方
法では、本発明の転写材料を用いて誘電体層と発光体層
からなるパターン積層体を所望のパターンで転写するこ
とができる。
Next, the transparent substrate 5 having the transparent electrode 56
The EL element 51 is obtained by fixing 7 on the pattern laminate P1 (FIG. 5C). The transparent substrate 57 can be formed of a light-transmitting glass material, a resin material, or a composite material thereof. The transparent electrode 56 is a transparent electrode formed using a conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide by a vacuum film forming method such as evaporation and sputtering. The transparent electrode 56 can be formed according to the intended use of the EL element, such as a solid electrode or a desired pattern electrode. According to such an EL element manufacturing method of the present invention, a pattern laminate including a dielectric layer and a light emitting layer can be transferred in a desired pattern using the transfer material of the present invention.

【0046】また、本発明のEL素子の製造方法では、
本発明の転写材料1を予め所望のパターン形状に加工
し、次に、加工した転写材料1を、基材52に設けた電
極55上に、電極55と接着層6とが当接するように重
ね合わせ、転写材料1側から全面加熱を行い、その後、
支持体2を剥離することにより、パターン形状で接着層
6と誘電体層5と発光体層4からなるパターン積層体P
1を電極55上に転写してもよい。転写材料1の上記の
加工は、カッティングプロッター、金型切断、カッター
やハサミによる切断等により行うことができる。また、
全面加熱は、熱板、熱ローラー等によるヒートプレス等
により行うことができる。
In the method of manufacturing an EL device according to the present invention,
The transfer material 1 of the present invention is processed in advance into a desired pattern shape, and then the processed transfer material 1 is overlaid on the electrode 55 provided on the base material 52 so that the electrode 55 and the adhesive layer 6 are in contact with each other. And heat the entire surface from the transfer material 1 side.
By peeling the support 2, a pattern laminate P composed of the adhesive layer 6, the dielectric layer 5, and the light emitting layer 4 is formed in a pattern shape.
1 may be transferred onto the electrode 55. The above processing of the transfer material 1 can be performed by cutting plotter, die cutting, cutting with a cutter or scissors, or the like. Also,
The entire surface can be heated by a heat press using a hot plate, a hot roller, or the like.

【0047】図6は、本発明のEL素子の製造方法の他
の例を示す工程図である。まず、基材62上に、電極1
7が当接するように本発明のEL素子製造用の転写材料
11を重ね合わせ、転写材料11側から所望のパターン
で熱を印加する(図6(A))。基材62は、樹脂材
料、ガラス材料、金属材料、セラミックス材料、これら
の複合材料等からなる。
FIG. 6 is a process chart showing another example of the method for manufacturing an EL device of the present invention. First, the electrode 1 is placed on the substrate 62.
The transfer material 11 for manufacturing an EL element of the present invention is overlapped so that the contact 7 comes into contact, and heat is applied in a desired pattern from the transfer material 11 side (FIG. 6A). The base material 62 is made of a resin material, a glass material, a metal material, a ceramic material, a composite material thereof, or the like.

【0048】図示例では、所望の熱印加パターンを領域
Aで示してあり、パターン形状の熱印加は、サーマルヘ
ッド、レーザー光照射、ヒートプレス等により行うこと
ができる。このような熱印加により、領域Aにおいて、
電極17が基材62に接着する。
In the illustrated example, a desired heat application pattern is indicated by a region A, and heat application of the pattern shape can be performed by a thermal head, laser beam irradiation, heat press, or the like. By such heat application, in the region A,
The electrode 17 adheres to the substrate 62.

【0049】次に、支持体12を剥離することにより、
上記のパターン形状で電極17、接着層16、誘電体層
15、発光体層14からなるパターン積層体P2が基材
62に転写される(図6(B))。次いで、透明電極6
6を備える透明基材67を、上記のパターン積層体P2
上に固着することにより、EL素子61が得られる(図
6(C))。透明電極66、透明基材67は、上述の透
明電極56や透明基材57と同様である。
Next, by peeling the support 12,
The pattern laminate P2 including the electrode 17, the adhesive layer 16, the dielectric layer 15, and the light emitting layer 14 is transferred to the base 62 in the above pattern shape (FIG. 6B). Next, the transparent electrode 6
6 with the pattern laminate P2
The EL element 61 is obtained by being fixed on the upper surface (FIG. 6C). The transparent electrode 66 and the transparent substrate 67 are the same as the transparent electrode 56 and the transparent substrate 57 described above.

【0050】このような本発明のEL素子製造方法で
は、本発明の転写材料を用いて電極と誘電体層と発光体
層からなるパターン積層体を所望のパターンで転写する
ことができる。
According to the EL device manufacturing method of the present invention, a pattern laminate including an electrode, a dielectric layer, and a light emitting layer can be transferred in a desired pattern using the transfer material of the present invention.

【0051】また、上記態様のEL素子の製造方法にお
いても、本発明の転写材料11を予め所望のパターン形
状に加工し、次に、加工した転写材料11を、基材62
上に電極17が当接するように重ね合わせ、転写材料1
1側から全面加熱を行い、その後、支持体12を剥離す
ることにより、パターン形状で電極17と接着層16と
誘電体層15と発光体層14からなるパターン積層体P
2を基材62上に転写することができる。
In the method of manufacturing an EL element according to the above-described embodiment, the transfer material 11 of the present invention is processed into a desired pattern in advance, and the processed transfer material 11 is then transferred to the substrate 62.
The transfer material 1 is overlaid so that the electrode 17 is in contact with the
By heating the entire surface from the first side and then peeling off the support 12, the pattern laminate P including the electrode 17, the adhesive layer 16, the dielectric layer 15, and the light emitting layer 14 in a pattern shape is formed.
2 can be transferred onto the substrate 62.

【0052】図7は、本発明のEL素子の製造方法の他
の例を示す工程図である。まず、電極75を備えた基材
72上に、本発明のEL素子製造用の転写材料21を接
着層26が当接するように重ね合わせ、転写材料21側
から所望のパターンで熱を印加する(図7(A))。基
材72と電極75は、上述の基材52、電極55と同様
である。図示例では、所望の熱印加パターンを領域Aで
示してあり、このようなパターン形状の熱印加は、サー
マルヘッド、レーザー光照射、ヒートプレス等により行
うことができる。このような熱印加により、領域Aにお
いて、接着層26が電極75に接着する。
FIG. 7 is a process chart showing another example of the method for manufacturing an EL device of the present invention. First, the transfer material 21 for manufacturing an EL element of the present invention is overlaid on the base material 72 provided with the electrodes 75 so that the adhesive layer 26 is in contact with the transfer material 21, and heat is applied from the transfer material 21 side in a desired pattern ( (FIG. 7 (A)). The base material 72 and the electrode 75 are the same as the base material 52 and the electrode 55 described above. In the illustrated example, a desired heat application pattern is indicated by a region A, and heat application in such a pattern shape can be performed by a thermal head, laser beam irradiation, heat press, or the like. By such heat application, the adhesive layer 26 adheres to the electrode 75 in the region A.

【0053】次に、支持体22を剥離することにより、
上記のパターン形状で接着層26と誘電体層25と発光
体層24と透明電極28からなるパターン積層体P3が
電極75上に転写される(図7(B))。次いで、透明
基材77を上記のパターン積層体P3上に固着すること
により、EL素子71が得られる(図7(C))。透明
基材77は、上述の透明基板57と同様である。
Next, by peeling off the support 22,
The pattern laminate P3 including the adhesive layer 26, the dielectric layer 25, the light emitting layer 24, and the transparent electrode 28 is transferred onto the electrode 75 in the above pattern shape (FIG. 7B). Next, the EL element 71 is obtained by fixing the transparent substrate 77 on the pattern laminate P3 (FIG. 7C). The transparent substrate 77 is the same as the above-described transparent substrate 57.

【0054】このような本発明のEL素子製造方法で
は、本発明の転写材料を用いて誘電体層と発光体層と透
明電極からなるパターン積層体を所望のパターンで転写
することができる。また、上記の実施形態においても、
本発明の転写材料21を予め所望のパターン形状に加工
し、次に、加工した転写材料21を、基材72に設けた
電極75上に、電極75と接着層26とが当接するよう
に重ね合わせ、転写材料21側から全面加熱を行い、そ
の後、支持体22を剥離することにより、パターン形状
で接着層26と誘電体層25と発光体層24と透明電極
28からなるパターン積層体P3を電極75上に転写す
ることができる。尚、本発明のEL素子製造用の転写材
料21を構成する支持体22として、透明基材を使用し
ている場合、支持体22を剥離することなく、そのまま
EL素子の透明基材77として用いることができる。
According to such an EL element manufacturing method of the present invention, a pattern laminate comprising a dielectric layer, a light emitting layer and a transparent electrode can be transferred in a desired pattern using the transfer material of the present invention. Also, in the above embodiment,
The transfer material 21 of the present invention is processed in advance into a desired pattern shape, and then the processed transfer material 21 is overlaid on the electrode 75 provided on the base material 72 so that the electrode 75 and the adhesive layer 26 are in contact with each other. Then, the entire surface is heated from the transfer material 21 side, and then the support 22 is peeled off, so that the pattern laminate P3 including the adhesive layer 26, the dielectric layer 25, the light emitting layer 24, and the transparent electrode 28 in a pattern shape is formed. It can be transferred onto the electrode 75. When a transparent substrate is used as the support 22 constituting the transfer material 21 for manufacturing an EL element of the present invention, the support 22 is used as the transparent substrate 77 of the EL element without peeling the support 22 without peeling. be able to.

【0055】図8は、本発明のEL素子の製造方法の他
の例を示す工程図である。まず、基材82上に、電極3
7が当接するように本発明のEL素子製造用の転写材料
31を重ね合わせ、転写材料31側から所望のパターン
で熱を印加する(図8(A))。基材82は、上述の基
材62と同様である。図示例では、所望の熱印加パター
ンを領域Aで示してあり、パターン形状の熱印加は、サ
ーマルヘッド、レーザー光照射、ヒートプレス等により
行うことができる。このような熱印加により、領域Aに
おいて、電極37が基材82に接着する。
FIG. 8 is a process chart showing another example of the method for manufacturing an EL device of the present invention. First, the electrode 3 is placed on the base material 82.
The transfer material 31 for manufacturing an EL element of the present invention is overlapped so that 7 comes into contact, and heat is applied in a desired pattern from the transfer material 31 side (FIG. 8A). The substrate 82 is the same as the above-described substrate 62. In the illustrated example, a desired heat application pattern is indicated by a region A, and heat application of the pattern shape can be performed by a thermal head, laser beam irradiation, heat press, or the like. The electrode 37 adheres to the base material 82 in the region A by such heat application.

【0056】次に、支持体32を剥離することにより、
上記のパターン形状で電極37、接着層36、誘電体層
35、発光体層34、透明電極38からなるパターン積
層体P4が基材82に転写される(図8(B))。次い
で、透明基材87を上記のパターン積層体P4上に固着
することにより、EL素子81が得られる(図8
(C))。透明基材87は、上述の透明基材57と同様
である。
Next, by peeling the support 32,
The pattern laminate P4 including the electrode 37, the adhesive layer 36, the dielectric layer 35, the light emitting layer 34, and the transparent electrode 38 is transferred to the substrate 82 in the above pattern shape (FIG. 8B). Next, the EL element 81 is obtained by fixing the transparent substrate 87 on the pattern laminate P4 described above.
(C)). The transparent base material 87 is the same as the transparent base material 57 described above.

【0057】このような本発明のEL素子製造方法で
は、本発明の転写材料を用いて電極と誘電体層と発光体
層と透明電極からなるパターン積層体を所望のパターン
で転写することができる。また、上記実施形態のEL素
子の製造方法においても、本発明の転写材料31を予め
所望のパターン形状に加工し、次に、加工した転写材料
31を、基材82上に電極37が当接するように重ね合
わせ、転写材料31側から全面加熱を行い、その後、支
持体32を剥離することにより、パターン形状で電極3
7と接着層36と誘電体層35と発光体層34と透明電
極38からなるパターン積層体P4を基材82上に転写
することができる。尚、本発明のEL素子製造用の転写
材料31を構成する支持体32として、透明基材を使用
している場合、支持体32を剥離することなく、そのま
まEL素子の透明基材87として用いることができる。
According to the EL device manufacturing method of the present invention, a pattern laminate including an electrode, a dielectric layer, a light emitting layer and a transparent electrode can be transferred in a desired pattern using the transfer material of the present invention. . Also in the method for manufacturing an EL element of the above embodiment, the transfer material 31 of the present invention is processed into a desired pattern shape in advance, and then the processed transfer material 31 is brought into contact with the electrode 37 on the base material 82. Then, the entire surface is heated from the transfer material 31 side, and then the support 32 is peeled off.
The pattern laminate P4 including the layer 7, the adhesive layer 36, the dielectric layer 35, the light emitting layer 34, and the transparent electrode 38 can be transferred onto the substrate 82. When a transparent substrate is used as the support 32 of the transfer material 31 for manufacturing an EL element of the present invention, the support 32 is used as a transparent substrate 87 of the EL element without peeling the support 32 without peeling. be able to.

【0058】[0058]

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。転写材料の作製 まず、支持体として、裏面にサーマルヘッドによる熱転
写時の熱融着防止、滑り性向上のための耐熱活性層を備
えたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム
(東レ(株)製F−57(厚み6μm))を準備した。
このPETフィルムの表面に下記組成の剥離層用組成物
をバーコーターにより塗布(塗布厚0.1g/m2
し、乾燥して剥離層を形成した。 (剥離層用組成物) ・カルナバワックス … 10重量部 ・水/イソプロピルアルコール(重量比1/1) … 90重量部
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Preparation of Transfer Material First, as a support, a polyethylene terephthalate (PET) film (F-57 manufactured by Toray Industries, Inc.) provided with a heat-resistant active layer on the back side for preventing heat fusion during thermal transfer by a thermal head and improving slipperiness. (Thickness: 6 μm)).
A composition for a release layer having the following composition is applied to the surface of this PET film by a bar coater (application thickness: 0.1 g / m 2 ).
And dried to form a release layer. (Composition for release layer) Carnauba wax 10 parts by weight Water / isopropyl alcohol (weight ratio 1/1) 90 parts by weight

【0059】次に、上記の剥離層上に下記組成の緑色発
光体組成物をバーコーターにより塗布(塗布厚10μ
m)し、乾燥して緑色発光の発光体層を形成した。 (発光体組成物) ・緑色発光材料 … 50重量部 (オスラム・シルバニア社製ANE430) ・バインダー(東洋紡(株)製バイロンV700) … 15重量部 ・トルエン … 35重量部
Next, a green luminescent material composition having the following composition was applied on the above-mentioned release layer by a bar coater (coating thickness: 10 μm).
m) and dried to form a green light-emitting layer. (Light emitting composition)-Green light emitting material ... 50 parts by weight (ANE430 manufactured by OSRAM Sylvania)-Binder (Byron V700 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) ... 15 parts by weight-Toluene ... 35 parts by weight

【0060】次に、上記の発光体層上に、下記の誘電体
組成物をバーコーターにより塗布(塗布厚10μm)
し、乾燥して誘電体層を形成した。さらに、誘電体層上
に下記組成の接着層用組成物をバーコーターにより塗布
(塗布厚10μm)し、乾燥して接着層を形成した。こ
れにより、転写材料を得た。 (誘電体組成物) ・誘電材料(共立窯業原料(株)製BT−SA) … 50重量部 ・バインダー(東洋紡(株)製バイロンV700) … 15重量部 ・トルエン … 35重量部 (接着層用組成物) ・レゼムEU−2(中京油脂(株)製) … 50重量部 ・水/イソプロピルアルコール(重量比1/1) … 50重量部
Next, the following dielectric composition was applied on the above-mentioned light emitting layer by a bar coater (coating thickness: 10 μm).
And dried to form a dielectric layer. Further, a composition for an adhesive layer having the following composition was applied on the dielectric layer by a bar coater (coating thickness: 10 μm), and dried to form an adhesive layer. Thus, a transfer material was obtained. (Dielectric composition) Dielectric material (BT-SA manufactured by Kyoritsu Ceramics Co., Ltd.) 50 parts by weight Binder (Byron V700 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 15 parts by weight Toluene 35 parts by weight (for adhesive layer) Composition) Resem EU-2 (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.) 50 parts by weight Water / isopropyl alcohol (weight ratio 1/1) 50 parts by weight

【0061】EL素子の作製 基材として、厚み6μmのPETフィルム(東レ(株)
製F−57)を準備し、この基材上に真空蒸着法により
アルミニウムからなる電極(膜厚30nm)を形成し
た。次いで、この電極上に、上記の転写材料を、接着層
が電極と当接するように重ね合わせ、サーマルヘッドに
よりパターン形状に熱印加(20mJ/mm2)を行っ
た。その後、支持体を剥離して、接着層と誘電体層と緑
色発光体層とからなるパターン積層体を電極上に転写し
た。
A 6 μm thick PET film ( manufactured by Toray Industries, Inc.)
F-57) was prepared, and an electrode (thickness: 30 nm) made of aluminum was formed on the substrate by a vacuum evaporation method. Next, the above-mentioned transfer material was superimposed on this electrode so that the adhesive layer was in contact with the electrode, and heat was applied to the pattern (20 mJ / mm 2 ) using a thermal head. Thereafter, the support was peeled off, and a pattern laminate composed of the adhesive layer, the dielectric layer, and the green light-emitting layer was transferred onto the electrode.

【0062】次に、厚み150μmのPETフィルム
(東レ(株)製ルミラーT60)を透明基材とし、この
透明基材上に真空蒸着法により膜厚30nmの酸化イン
ジウムスズ(ITO)電極を形成した。次いで、この透
明基材を、ITO電極が上記のパターン積層体を覆うよ
うに固着してEL素子を作製した。
Next, a PET film (Lumirror T60 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 150 μm was used as a transparent substrate, and an indium tin oxide (ITO) electrode having a thickness of 30 nm was formed on the transparent substrate by vacuum evaporation. . Next, this transparent substrate was fixed so that the ITO electrode covered the above-mentioned pattern laminate, thereby producing an EL element.

【0063】EL素子の評価 外部交流電源から、240V、1kHzの条件でエネル
ギー印加を行ったところ、EL素子の発光効率は8ルー
メン/Wとなった。
Evaluation of EL Element When energy was applied from an external AC power supply at 240 V and 1 kHz, the luminous efficiency of the EL element was 8 lumen / W.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば転
写材料を用いて接着層と誘電体層と発光体層からなるパ
ターン積層体、あるいは、電極と接着層と誘電体層と発
光体層からなるパターン積層体、あるいは、接着層と誘
電体層と発光体層と透明電極からなるパターン積層体、
あるいは、電極と接着層と誘電体層と発光体層と透明電
極からなるパターン積層体を所望のパターンで転写する
ことができるので、従来のスクリーン印刷法に比べて多
品種少ロットの対応性が大幅に向上し、種々の設計によ
るエレクトロルミネッセンス素子を簡便に製造すること
ができる。
As described in detail above, according to the present invention, a pattern laminate comprising an adhesive layer, a dielectric layer, and a light emitting layer, or an electrode, an adhesive layer, a dielectric layer, and a light emitting layer are formed using a transfer material. A pattern laminate composed of a body layer, or a pattern laminate composed of an adhesive layer, a dielectric layer, a luminescent layer, and a transparent electrode,
Alternatively, a pattern laminate composed of electrodes, an adhesive layer, a dielectric layer, a luminescent layer, and a transparent electrode can be transferred in a desired pattern. The efficiency is greatly improved, and electroluminescent elements with various designs can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製造用
の転写材料の一実施形態を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a transfer material for producing an electroluminescent element of the present invention.

【図2】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製造用
の転写材料の他の実施形態を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of a transfer material for producing an electroluminescent element of the present invention.

【図3】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製造用
の転写材料の他の実施形態を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of a transfer material for producing an electroluminescent element of the present invention.

【図4】本発明のエレクトロルミネッセンス素子製造用
の転写材料の他の実施形態を示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the transfer material for producing an electroluminescent element of the present invention.

【図5】本発明のエレクトロルミネッセンス素子の製造
方法の一実施形態を示す工程図である。
FIG. 5 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing an electroluminescence element of the present invention.

【図6】本発明のエレクトロルミネッセンス素子の製造
方法の他の実施形態を示す工程図である。
FIG. 6 is a process chart showing another embodiment of the method for manufacturing an electroluminescent element of the present invention.

【図7】本発明のエレクトロルミネッセンス素子の製造
方法の他の実施形態を示す工程図である。
FIG. 7 is a process chart showing another embodiment of the method for manufacturing an electroluminescent element of the present invention.

【図8】本発明のエレクトロルミネッセンス素子の製造
方法の他の実施形態を示す工程図である。
FIG. 8 is a process chart showing another embodiment of the method for manufacturing an electroluminescent element of the present invention.

【符号の説明】 1,11,21,31…エレクトロルミネッセンス素子
製造用の転写材料 2,12,22,32…支持体 3,13,23,33…剥離層 4,14,24,34…発光体層 5,15,25,35…誘電体層 6,16,26,36…接着層 17,37…電極 28,38…透明電極 51,61,71,81…エレクトロルミネッセンス素
子 52,62,72,82…基材 55,75…電極 56,66…透明電極 57,67,77,87…透明基材 P1,P2,P3,P4…パターン積層体
[Description of Signs] 1,11, 21, 31: Transfer material for producing an electroluminescent element 2, 12, 22, 32: Support 3, 13, 23, 33: Release layer 4, 14, 24, 34: Light emission Body layers 5, 15, 25, 35 Dielectric layers 6, 16, 26, 36 Adhesive layers 17, 37 Electrodes 28, 38 Transparent electrodes 51, 61, 71, 81 Electroluminescent elements 52, 62, 72 , 82 ... base material 55, 75 ... electrode 56, 66 ... transparent electrode 57, 67, 77, 87 ... transparent base material P1, P2, P3, P4 ... pattern laminate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB18 CA01 CA05 CA06 CB01 DA04 DA05 DB01 DB02 DC01 DC02 DC04 EA02 EA03 EB00 FA01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3K007 AB18 CA01 CA05 CA06 CB01 DA04 DA05 DB01 DB02 DC01 DC02 DC04 EA02 EA03 EB00 FA01

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体と、該支持体上に順次積層された
剥離層、発光体層、誘電体層および接着層とを備え、前
記支持体と前記発光体層との間で剥離可能であることを
特徴とするエレクトロルミネッセンス素子製造用の転写
材料。
1. A light-emitting device comprising: a support; and a release layer, a luminescent layer, a dielectric layer, and an adhesive layer sequentially laminated on the support, wherein the support and the luminescent layer are peelable. A transfer material for manufacturing an electroluminescent element, wherein the transfer material is provided.
【請求項2】 前記発光体層、前記誘電体層は、バイン
ダーとして熱溶融性樹脂、熱軟化性樹脂およびワックス
の少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1
に記載のエレクトロルミネッセンス素子製造用の転写材
料。
2. The light-emitting body layer and the dielectric layer contain at least one of a hot-melt resin, a thermo-softening resin and a wax as a binder.
3. The transfer material for producing an electroluminescent device according to 1.).
【請求項3】 前記接着層上に電極を備えることを特徴
とする請求項1または請求項2に記載のエレクトロルミ
ネッセンス素子製造用の転写材料。
3. The transfer material for manufacturing an electroluminescent element according to claim 1, wherein an electrode is provided on the adhesive layer.
【請求項4】 支持体と、該支持体上に順次積層された
剥離層、透明電極、発光体層、誘電体層および接着層と
を備え、前記支持体と前記透明電極との間で剥離可能で
あることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子製
造用の転写材料。
4. A support comprising: a support; a release layer, a transparent electrode, a luminescent layer, a dielectric layer, and an adhesive layer sequentially laminated on the support; and a separation between the support and the transparent electrode. A transfer material for producing an electroluminescent element, which is capable of being used.
【請求項5】 前記接着層上に電極を備えることを特徴
とする請求項4に記載のエレクトロルミネッセンス素子
製造用の転写材料。
5. The transfer material for manufacturing an electroluminescent element according to claim 4, wherein an electrode is provided on the adhesive layer.
【請求項6】 前記支持体が透明基材であることを特徴
とする請求項4に記載のエレクトロルミネッセンス素子
製造用の転写材料。
6. The transfer material for producing an electroluminescent device according to claim 4, wherein the support is a transparent substrate.
【請求項7】 前記支持体が透明基材であることを特徴
とする請求項5に記載のエレクトロルミネッセンス素子
製造用の転写材料。
7. The transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 5, wherein the support is a transparent substrate.
【請求項8】 電極を形成した基材の該電極上に、請求
項1に記載のエレクトロルミネッセンス素子製造用の転
写材料を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前記
転写材料の支持体側から所望のパターン形状で熱を印加
し、その後、前記支持体を剥離することにより前記パタ
ーン形状で接着層と誘電体層と発光体層からなるパター
ン積層体を前記電極上に転写し、その後、透明電極を形
成した透明基材を該透明電極が前記パターン積層体の発
光体層と当接するように固着することを特徴とするエレ
クトロルミネッセンス素子の製造方法。
8. The transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 1 is superimposed on the electrode on a substrate on which the electrode is formed so that the adhesive layer is in contact with the transfer material. Heat is applied in a desired pattern shape, and thereafter, the pattern laminate composed of the adhesive layer, the dielectric layer, and the light emitting layer is transferred on the electrode in the pattern shape by peeling the support, and then, transparent. A method for manufacturing an electroluminescent device, comprising: fixing a transparent substrate on which an electrode is formed so that the transparent electrode is in contact with a light emitting layer of the pattern laminate.
【請求項9】 請求項1に記載のエレクトロルミネッセ
ンス素子製造用の転写材料を所望のパターン形状に加工
し、基材に形成された電極上に、前記加工後の転写材料
を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前記転写材
料の支持体側から熱を印加し、その後、前記支持体を剥
離することにより前記パターン形状で接着層と誘電体層
と発光体層からなるパターン積層体を前記電極上に転写
し、その後、透明電極を形成した透明基材を該透明電極
が前記パターン積層体の発光体層と当接するように固着
することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子の
製造方法。
9. The transfer material for manufacturing an electroluminescent element according to claim 1 is processed into a desired pattern shape, and the transfer material after the processing is applied to an electrode formed on a substrate by the adhesive layer. The pattern stack composed of an adhesive layer, a dielectric layer, and a luminous layer in the pattern shape is peeled off by applying heat from the support side of the transfer material, and then peeling off the support, so that the electrode laminates the electrode. The method of manufacturing an electroluminescent device, comprising: transferring a transparent substrate on which a transparent electrode is formed, and then fixing the transparent substrate so that the transparent electrode is in contact with the light emitting layer of the pattern laminate.
【請求項10】 基材上に請求項3に記載のエレクトロ
ルミネッセンス素子製造用の転写材料を前記電極が当接
するように重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から所
望のパターン形状で熱を印加し、その後、前記支持体を
剥離することにより前記パターン形状で電極と接着層と
誘電体層と発光体層からなるパターン積層体を前記基材
上に転写し、その後、透明電極を形成した透明基材を該
透明電極が前記パターン積層体の発光体層と当接するよ
うに固着することを特徴とするエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法。
10. A transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 3 is superimposed on a base material so that the electrodes are in contact with each other, and heat is applied in a desired pattern from the support side of the transfer material. After that, a pattern laminate composed of an electrode, an adhesive layer, a dielectric layer, and a light emitting layer is transferred onto the substrate in the pattern shape by peeling the support, and then, a transparent substrate on which a transparent electrode is formed is formed. A method for manufacturing an electroluminescent device, comprising: fixing a material so that the transparent electrode is in contact with a light emitting layer of the pattern laminate.
【請求項11】 請求項3に記載のエレクトロルミネッ
センス素子製造用の転写材料を所望のパターン形状に加
工し、基材上に前記加工後の転写材料を前記電極が当接
するように重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から熱
を印加し、その後、前記支持体を剥離することにより前
記パターン形状で電極と接着層と誘電体層と発光体層か
らなるパターン積層体を前記基材上に転写し、その後、
透明電極を形成した透明基材を該透明電極が前記パター
ン積層体の発光体層と当接するように固着することを特
徴とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
11. The transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 3 is processed into a desired pattern shape, and the processed transfer material is superimposed on a base material so that the electrode is in contact with the transfer material. Heat is applied from the support side of the transfer material, and then, by peeling off the support, a pattern laminate composed of an electrode, an adhesive layer, a dielectric layer, and a light emitting layer is transferred onto the substrate in the pattern shape. ,afterwards,
A method for manufacturing an electroluminescent device, comprising: fixing a transparent substrate on which a transparent electrode is formed so that the transparent electrode is in contact with the light emitting layer of the pattern laminate.
【請求項12】 電極を形成した基材の該電極上に、請
求項4に記載のエレクトロルミネッセンス素子製造用の
転写材料を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前
記転写材料の支持体側から所望のパターン形状で熱を印
加し、その後、前記支持体を剥離することにより前記パ
ターン形状で接着層と誘電体層と発光体層と透明電極か
らなるパターン積層体を前記電極上に転写し、その後、
透明基材を前記パターン積層体の透明電極と当接するよ
うに固着することを特徴とするエレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法。
12. The transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 4 is superimposed on the electrode on a substrate on which the electrode is formed so that the adhesive layer is in contact with the transfer material. Applying heat in a desired pattern shape, and then transferring a pattern laminate composed of an adhesive layer, a dielectric layer, a luminescent layer and a transparent electrode on the electrode in the pattern shape by peeling the support, afterwards,
A method for manufacturing an electroluminescent device, comprising: fixing a transparent substrate so as to be in contact with a transparent electrode of the pattern laminate.
【請求項13】 請求項4に記載のエレクトロルミネッ
センス素子製造用の転写材料を所望のパターン形状に加
工し、基材に形成された電極上に、前記加工後の転写材
料を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前記転写
材料の支持体側から熱を印加し、その後、前記支持体を
剥離することにより前記パターン形状で接着層と誘電体
層と発光体層と透明電極からなるパターン積層体を前記
電極上に転写し、その後、透明基材を前記パターン積層
体の透明電極と当接するように固着することを特徴とす
るエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
13. The transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 4 is processed into a desired pattern shape, and the transfer material after the processing is applied to an electrode formed on a base material by the adhesive layer. A pattern laminate composed of an adhesive layer, a dielectric layer, a luminescent layer, and a transparent electrode in the pattern shape by applying heat from the support side of the transfer material, and then peeling the support, so that they are in contact with each other. Is transferred onto the electrode, and then a transparent substrate is fixed so as to be in contact with the transparent electrode of the pattern laminate.
【請求項14】 基材上に請求項5に記載のエレクトロ
ルミネッセンス素子製造用の転写材料を前記電極が当接
するように重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から所
望のパターン形状で熱を印加し、その後、前記支持体を
剥離することにより前記パターン形状で電極と接着層と
誘電体層と発光体層と透明電極からなるパターン積層体
を前記基材上に転写し、その後、透明基材を前記パター
ン積層体の透明電極と当接するように固着することを特
徴とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
14. A transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 5 is superimposed on a base material such that the electrodes are in contact with each other, and heat is applied in a desired pattern from the support side of the transfer material. Then, a pattern laminate comprising electrodes, an adhesive layer, a dielectric layer, a luminescent layer and a transparent electrode is transferred onto the substrate in the pattern shape by peeling the support, and then the transparent substrate is removed. A method of manufacturing an electroluminescent device, comprising fixing the pattern laminate so as to be in contact with a transparent electrode.
【請求項15】 請求項5に記載のエレクトロルミネッ
センス素子製造用の転写材料を所望のパターン形状に加
工し、基材上に前記加工後の転写材料を前記電極が当接
するように重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から熱
を印加し、その後、前記支持体を剥離することにより前
記パターン形状で電極と接着層と誘電体層と発光体層と
透明電極からなるパターン積層体を前記基材上に転写
し、その後、透明基材を前記パターン積層体の透明電極
と当接するように固着することを特徴とするエレクトロ
ルミネッセンス素子の製造方法。
15. The transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 5 is processed into a desired pattern shape, and the processed transfer material is superimposed on a substrate such that the electrode is in contact with the transfer material. Heat is applied from the support side of the transfer material, and then the support is peeled off to form a pattern laminate comprising electrodes, an adhesive layer, a dielectric layer, a luminescent layer, and a transparent electrode in the pattern shape on the base material. And then fixing the transparent substrate so as to be in contact with the transparent electrode of the pattern laminate.
【請求項16】 電極を形成した基材の該電極上に、請
求項6に記載のエレクトロルミネッセンス素子製造用の
転写材料を前記接着層が当接するように重ね合わせ、前
記転写材料の支持体側から熱を印加することを特徴とす
るエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
16. The transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 6, which is superimposed on the electrode of the base material on which the electrode is formed so that the adhesive layer is in contact with the transfer material. A method for manufacturing an electroluminescent device, comprising applying heat.
【請求項17】 基材上に請求項7に記載のエレクトロ
ルミネッセンス素子製造用の転写材料を前記電極が当接
するように重ね合わせ、前記転写材料の支持体側から熱
を印加することを特徴とするエレクトロルミネッセンス
素子の製造方法。
17. A transfer material for producing an electroluminescent element according to claim 7, which is overlaid on a base material so that the electrode is in contact with the transfer material, and heat is applied from the support side of the transfer material. A method for manufacturing an electroluminescence element.
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