JP2002181653A - Gas detection system - Google Patents

Gas detection system

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JP2002181653A
JP2002181653A JP2000382678A JP2000382678A JP2002181653A JP 2002181653 A JP2002181653 A JP 2002181653A JP 2000382678 A JP2000382678 A JP 2000382678A JP 2000382678 A JP2000382678 A JP 2000382678A JP 2002181653 A JP2002181653 A JP 2002181653A
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JP
Japan
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gas
sampling
detected
detector
detection system
Prior art date
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Application number
JP2000382678A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Shirotani
康之 城谷
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To overcome the disadvantage of increase in total number of gas detectors and cost-up due to required installation of detectors for gases used for every monitoring point when detecting leakage of a plurality of types of gases. SOLUTION: The system mainly comprises high coherence gas detectors 2 installed in a plurality of monitoring points, sampling gas valves 5 for starting sampling of an environmental gas from the monitoring points when gas is detected and sending through sampling piping 3, one piece of detection piping 4 connected at the confluence of a plurality of sampling piping 3, and a plurality of gas detectors 6 for identification of gas type connected to the detection piping 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はガス検知システムに
関し、特に半導体装置の製造工場のように多種類のガス
を取り扱う場所における複箇所のガスの漏洩を検知する
為のガス検知システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas detection system, and more particularly to a gas detection system for detecting gas leaks at a plurality of locations in a place where various kinds of gases are handled, such as a semiconductor device manufacturing factory.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の製造工場のように多種類の
有毒ガスを使用する設備等においては、ガスを使用する
設備や漏洩ガスが滞留する可能性のある場所を監視箇所
として、ガス検知器を設置している。
2. Description of the Related Art In a facility such as a semiconductor device manufacturing plant that uses various kinds of toxic gases, a gas detector is used as a monitoring point, using a facility using the gas or a place where a leaked gas may be retained. Is installed.

【0003】使用するガスが一種類であれば、例えば特
公平4−79407号公報や特開平6−307967号
公報に記載されているように、複数の監視箇所から順次
雰囲気ガスを吸引し、ガス検知器でサンプリングガスの
濃度を測定することによりガスの漏洩を検知することが
可能である。
If one kind of gas is used, as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 4-79407 and Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 6-307967, the atmospheric gas is sequentially sucked from a plurality of monitoring points, and Gas leaks can be detected by measuring the concentration of the sampling gas with a detector.

【0004】しかしながら複数種のガスを同じ場所で扱
う場合はこのように順次ガスのサンプリングをして複数
種のガスを検知するのでは、漏洩ガスを検知するまでの
時間がかかり実用的ではない。従って一般的には複数種
のガスを取り扱う場合は、図2に示すように、各監視箇
所1(1A〜1N)に複数種のガス検知器6(6A〜6
Z)を設置し、常時監視箇所の雰囲気をサンプリングし
てガスの漏洩を監視し、ガスが検知された場合、ガス供
給系に対するガスの供給停止等の処置がとられている。
However, when a plurality of types of gases are handled in the same place, it is not practical to sample the gases sequentially and detect a plurality of types of gases as described above because it takes a long time to detect a leaked gas. Therefore, in general, when a plurality of types of gases are handled, as shown in FIG. 2, a plurality of types of gas detectors 6 (6A to 6N) are provided at each monitoring point 1 (1A to 1N).
Z) is installed, the atmosphere at the monitoring point is constantly sampled, and gas leakage is monitored. When gas is detected, measures such as stopping supply of gas to the gas supply system are taken.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のガス検知システムでは、複数種のガスの漏洩を
検知する場合は、各監視箇所ごとに、使用するガス用の
検知器の設置が必要となり、ガス検知器の総数が増え、
コスト増となる欠点がある。
However, in the above-described conventional gas detection system, when detecting a plurality of types of gas leaks, it is necessary to install a detector for the gas to be used at each monitoring point. , The total number of gas detectors increased,
There is a disadvantage that the cost increases.

【0006】また一台の装置で複数の危険ガスを使用す
るケースが増加し、物理的・化学的性質が類似したガス
においても、安全基準濃度値等の管理濃度が異なる為、
各々のガス用の検知器が必要である。
[0006] In addition, the number of cases where a plurality of dangerous gases are used in one apparatus increases, and even for gases having similar physical and chemical properties, control concentrations such as safety standard concentration values are different.
A detector for each gas is required.

【0007】本発明の目的は、複数種のガスを複数の監
視箇所で検知する場合であっても、ガス検知器の総数を
余り増すことがなく、ランニングコストを低減すること
の出来るガス検知システムを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a gas detection system capable of reducing running costs without increasing the total number of gas detectors even when a plurality of types of gases are detected at a plurality of monitoring locations. Is to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のガス検知システ
ムは、複数の監視箇所に設定され、複数種のガスの検知
が可能なガス漏洩箇所識別用の高干渉性ガス検知器と、
ガスが検出された時に高干渉性ガス検知器からの信号を
受け、その高干渉性ガス検知器が設置された監視箇所か
らの雰囲気ガスのサンプリングを開始し、サンプリング
配管を介して送るサンプリングガスバルブと、複数の前
記サンプリング配管の合流部に接続された1本の検知用
配管と、この検知用配管にそれぞれ接続されたガス種識
別用の、複数のガス検知器とを含むことを特徴とするも
である。
A gas detection system according to the present invention is provided at a plurality of monitoring locations and is capable of detecting a plurality of types of gases.
A sampling gas valve that receives a signal from the high coherent gas detector when gas is detected, starts sampling atmospheric gas from a monitoring location where the high coherent gas detector is installed, and sends it through a sampling pipe. , One detection pipe connected to a junction of the plurality of sampling pipes, and a plurality of gas detectors respectively connected to the detection pipes for gas type identification. It is.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て説明する。図1は本発明の実施の形態を説明するため
のガス検知システムの構成図である。
Next, an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a configuration diagram of a gas detection system for describing an embodiment of the present invention.

【0010】図1を参照すると、本発明のガス検知シス
テムは、複数の監視箇所1(1A〜1N)に設置され、
複数種のガスの検知が可能なガス漏洩箇所識別用の高干
渉性ガス検知器2(2A〜2N)と、ガスが検知された
時に高干渉性ガス検知器2からの信号を受け、その高干
渉性ガス検知器2が設置された監視箇所1からの雰囲気
ガスのサンプリングを開始し、流量調整バルブ7が備え
られたサンプリング配管3を介して送るサンプリングガ
スバルブ5と、複数の前記サンプリング配管3の合流部
に接続された1本の検知用配管4と、この検知用配管4
にそれぞれ接続されたガス種識別用の、複数のガス検知
器6(6A〜6Z)とから主に構成されている。
Referring to FIG. 1, the gas detection system of the present invention is installed at a plurality of monitoring points 1 (1A to 1N),
A high coherence gas detector 2 (2A to 2N) for identifying a gas leaking part capable of detecting a plurality of types of gases, and a signal from the high coherence gas detector 2 when a gas is detected, A sampling gas valve 5 which starts sampling of the atmospheric gas from the monitoring point 1 where the coherent gas detector 2 is installed and sends it through a sampling pipe 3 provided with a flow control valve 7, and a plurality of sampling pipes 3 One detection pipe 4 connected to the junction, and this detection pipe 4
And a plurality of gas detectors 6 (6A to 6Z) for gas type identification, each of which is connected to a corresponding one of the gas detectors.

【0011】そして、高干渉性ガス検知器2又はガス検
知器6は、ガスを検出した場合にガスが検出された監視
箇所1が、例えば、集中監視室8に表示されると共に、
必要に応じて警報が発生されるように構成されている。
The highly coherent gas detector 2 or the gas detector 6 displays the monitoring location 1 where the gas was detected when the gas was detected, for example, in a centralized monitoring room 8,
It is configured to generate an alarm when necessary.

【0012】更に、高干渉性ガス検知器2には、ガスを
検出した場合にそのガスの供給系に対してガスの供給を
停止させる信号を送る手段が設けられている。
Further, the high interference gas detector 2 is provided with means for sending a signal for stopping the gas supply to the gas supply system when the gas is detected.

【0013】尚、検知するガスとしては半導体装置の製
造等に用いられる、AsH3 、SiH4 、B26 、P
3 、NO、H2 、HCl、SO2 、HFのうちの複数
のものがある。これらのガスは、同一の高干渉性ガス検
知器により検出が可能である。
As a gas to be detected, AsH 3 , SiH 4 , B 2 H 6 , P
H 3, NO, H 2, HCl, there is a plurality of SO 2, HF. These gases can be detected by the same highly coherent gas detector.

【0014】以下具体的に更に説明する。例えば監視箇
所1Aとしてのウエハ処理室と、監視箇所1Bとして
の、複数のガス分配ユニットから配管によりガスを集め
このウエハ処理室に送るための、バルブや圧力制御ユニ
ット等が設けられたガスボックスと、監視箇所1Cとし
ての、ウエハ処理室内の雰囲気ガスを排出するポンプが
設けられたポンプキャビネットと、監視箇所1Dとして
の、排出されたガスを除害するための除害装置とから構
成されるシステムでは、これら監視箇所(1A〜1D)
内に、高干渉性ガス検知器2A〜2Dを設置しておく。
[0014] This will be described more specifically below. For example, a wafer processing chamber as a monitoring point 1A, and a gas box provided with a valve, a pressure control unit, and the like for collecting gas by a pipe from a plurality of gas distribution units and sending the gas to the wafer processing chamber as a monitoring point 1B. A system including a pump cabinet provided with a pump for discharging the atmospheric gas in the wafer processing chamber as a monitoring point 1C, and an abatement apparatus for removing the discharged gas as a monitoring point 1D. Then, these monitoring points (1A ~ 1D)
Inside, the highly coherent gas detectors 2A to 2D are installed.

【0015】そして例えば、ポンプキャビネット(監視
箇所1C)内にてガスが漏洩し、高干渉性ガス検知器2
Cが作動してガスが検知された場合、ポンプキャビネッ
ト内にガスが漏洩したことが集中監視室に表示され、警
報が発せられる。そして同時に高干渉ガス検知器2Cか
らの信号により、ウエハ処理室に処理ガスを供給してい
る各ガス分配ユニットとガスボックス内の全バルブが閉
じられ、処理ガスの供給が停止される。さらに監視箇所
1C内のサンプリングバルブ5が開かれポンプキャビネ
ット内の雰囲気がガス検知器6(6A〜6Z)に送ら
れ、漏洩ガスが測定される。ガス検知器6が漏洩ガスを
検知した場合、特定されたガスの漏洩箇所が発見される
ためその修復処置を迅速に行うことが出来る。
Then, for example, gas leaks in the pump cabinet (monitoring point 1C), and the high interference gas detector 2
When C is activated and gas is detected, the central monitoring room indicates that gas has leaked into the pump cabinet, and an alarm is issued. At the same time, in response to a signal from the high interference gas detector 2C, each gas distribution unit supplying the processing gas to the wafer processing chamber and all valves in the gas box are closed, and the supply of the processing gas is stopped. Further, the sampling valve 5 in the monitoring location 1C is opened, the atmosphere in the pump cabinet is sent to the gas detector 6 (6A to 6Z), and the leak gas is measured. When the gas detector 6 detects a leaked gas, a leak point of the specified gas is found, so that the repairing process can be quickly performed.

【0016】このように実施の形態においては各監視箇
所に高干渉性ガス検知器を設置することにより、ガスの
漏洩を迅速に知ることが出来ると共に、ガスの供給を停
止することが出来るため、漏洩箇所の早い修復と安全性
を確保することが出来る。
As described above, in the embodiment, by installing the highly coherent gas detector at each monitoring point, it is possible to quickly know the gas leakage and to stop the gas supply. The leak can be quickly repaired and safety can be ensured.

【0017】なお漏洩箇所が連続して検知された場合で
も、ガスの供給を停止させ、漏洩箇所の雰囲気を順次測
定することにより、同様に漏洩箇所の修復と安全性を確
保出来る。
Even if a leak is detected continuously, the supply of gas is stopped and the atmosphere at the leak is sequentially measured, so that the repair and safety of the leak can be similarly ensured.

【0018】尚、上記実施の形態においては、半導体装
置の製造設備について説明したが、これに限定されるも
のではない。
In the above embodiment, the semiconductor device manufacturing equipment has been described, but the present invention is not limited to this.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、各
監視箇所にガス種識別用のガス検知器を設置しなくて
も、高干渉性ガス検知器による漏洩箇所の特定、及びガ
ス検知器による漏洩ガス種が特定でき、ガス停止等の瞬
時安全性処置が可能となる。そのためガス検知器台数の
削減により導入コスト低減を図ることが出来るという効
果がある。また、常時稼働するガス検知器を減少できる
ため、ランニングコストの低減を図ることも出来る。
As described above, according to the present invention, even if a gas detector for identifying a gas type is not installed at each monitoring location, the leak location can be specified by the highly coherent gas detector and the gas can be detected. The type of gas leaked by the vessel can be specified, and instantaneous safety measures such as gas stop can be performed. Therefore, there is an effect that the introduction cost can be reduced by reducing the number of gas detectors. In addition, since the number of gas detectors that operate at all times can be reduced, the running cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態を説明するためのガス検知
システムの構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram of a gas detection system for describing an embodiment of the present invention.

【図2】従来のガス検知システムの構成図。FIG. 2 is a configuration diagram of a conventional gas detection system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 監視箇所 2 高干渉ガス検知器 3 サンプリング配管 4 検知用配管 5 サンプリングバルブ 6 ガス検知器 7 流量調整バルブ 8 集中監視室 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Monitoring point 2 High interference gas detector 3 Sampling pipe 4 Detection pipe 5 Sampling valve 6 Gas detector 7 Flow control valve 8 Centralized monitoring room

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の監視箇所に設定され、複数種のガ
スの検知が可能なガス漏洩箇所識別用の高干渉性ガス検
知器と、ガスが検出された時に高干渉性ガス検知器から
の信号を受け、その高干渉性ガス検知器が設置された監
視箇所からの雰囲気ガスのサンプリングを開始し、サン
プリング配管を介して送るサンプリングガスバルブと、
複数の前記サンプリング配管の合流部に接続された1本
の検知用配管と、この検知用配管にそれぞれ接続された
ガス種識別用の、複数のガス検知器とを含むことを特徴
とするガス検知システム。
1. A high-interference gas detector set at a plurality of monitoring locations and capable of detecting a plurality of types of gases, for identifying a gas leak location, and detecting a gas from the high-interference gas detector when a gas is detected. A sampling gas valve that receives a signal, starts sampling of the atmospheric gas from a monitoring location where the highly coherent gas detector is installed, and sends it through a sampling pipe,
Gas detection comprising: one detection pipe connected to a junction of a plurality of the sampling pipes; and a plurality of gas detectors respectively connected to the detection pipes for gas type identification. system.
【請求項2】 前記サンプリング配管にはサンプリング
流量調整バルブが備えられている請求項1記載のガス検
知システム。
2. The gas detection system according to claim 1, wherein the sampling pipe is provided with a sampling flow rate adjusting valve.
【請求項3】 前記高干渉性ガス検知器には、ガスを検
出した場合にそのガスの供給系に対してガスの供給を停
止させる信号を送る手段が設けられている請求項1又は
請求項2記載のガス検知システム。
3. The high-interference gas detector according to claim 1, further comprising means for sending a signal for stopping a gas supply to a gas supply system when the gas is detected. 3. The gas detection system according to 2.
【請求項4】 前記高干渉性ガス検知器又は前記ガス検
知器は、ガスを検出した場合にガスが検出された監視箇
所を表示する表示手段に接続されている請求項1から請
求項3のいずれかに記載のガス検知システム。
4. The gas sensor according to claim 1, wherein said highly coherent gas detector or said gas detector is connected to a display means for displaying a monitoring location where gas is detected when gas is detected. The gas detection system according to any one of the above.
【請求項5】 前記高干渉性ガス検知器又は前記ガス検
知器は、ガスを検出した場合に警報を発生する警報発生
手段に接続されている請求項1から請求項3のいずれか
に記載のガス検知システム。
5. The method according to claim 1, wherein the highly coherent gas detector or the gas detector is connected to an alarm generating unit that generates an alarm when a gas is detected. Gas detection system.
【請求項6】 検知するガスは、AsH3 、SiH4
26 、PH3 、NO、H2 、HCl、SO2 、HF
のうちの複数のものである請求項1から請求項5のいず
れかに記載のガス検知システム。
6. The gas to be detected is AsH 3 , SiH 4 ,
B 2 H 6 , PH 3 , NO, H 2 , HCl, SO 2 , HF
The gas detection system according to claim 1, wherein the gas detection system is a plurality of the gas detection systems.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101455031B1 (en) 2014-06-16 2014-11-04 도원기술 주식회사 Fire Monitoring System using CO Data
CN110005959A (en) * 2019-04-22 2019-07-12 中国石油天然气集团有限公司 A kind of gas pipeline makings analysis integration detection device
CN114396693A (en) * 2021-12-28 2022-04-26 中国原子能科学研究院 Micro-negative pressure cabinet ventilation system and leakage detection method thereof
WO2024066189A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 福建天甫电子材料有限公司 Assay and detection device for ammonium fluoride production

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101455031B1 (en) 2014-06-16 2014-11-04 도원기술 주식회사 Fire Monitoring System using CO Data
CN110005959A (en) * 2019-04-22 2019-07-12 中国石油天然气集团有限公司 A kind of gas pipeline makings analysis integration detection device
CN114396693A (en) * 2021-12-28 2022-04-26 中国原子能科学研究院 Micro-negative pressure cabinet ventilation system and leakage detection method thereof
WO2024066189A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 福建天甫电子材料有限公司 Assay and detection device for ammonium fluoride production

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