JP2002178120A - 連続鋳造の湯面レベルの制御方法 - Google Patents
連続鋳造の湯面レベルの制御方法Info
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- JP2002178120A JP2002178120A JP2000382735A JP2000382735A JP2002178120A JP 2002178120 A JP2002178120 A JP 2002178120A JP 2000382735 A JP2000382735 A JP 2000382735A JP 2000382735 A JP2000382735 A JP 2000382735A JP 2002178120 A JP2002178120 A JP 2002178120A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 定常時における定値制御特性を最適に保持し
つつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定化を図って短
時間で定常制御へ移行できるようにする。 【解決手段】 湯面レベルの制御開始点ＭＬ0 前の該湯
面レベルの実測値から湯面レベル変化率を求めると共
に、該湯面レベル変化率に基づいて制御開始点ＭＬ 0 か
ら定常制御レベルＭＬまでの間の湯面レベルの設定値Ｓ
Ｖ(n) を制御周期毎に求め、該設定値ＳＶ(n) に湯面レ
ベルの測定値が一致するようにスライディングノズルの
開度を制御し、且つ、ＭＬ0 からＭＬまでの間はＩ−Ｐ
Ｄ制御とし、ＭＬ以降はＰＩＤ制御とする。
つつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定化を図って短
時間で定常制御へ移行できるようにする。 【解決手段】 湯面レベルの制御開始点ＭＬ0 前の該湯
面レベルの実測値から湯面レベル変化率を求めると共
に、該湯面レベル変化率に基づいて制御開始点ＭＬ 0 か
ら定常制御レベルＭＬまでの間の湯面レベルの設定値Ｓ
Ｖ(n) を制御周期毎に求め、該設定値ＳＶ(n) に湯面レ
ベルの測定値が一致するようにスライディングノズルの
開度を制御し、且つ、ＭＬ0 からＭＬまでの間はＩ−Ｐ
Ｄ制御とし、ＭＬ以降はＰＩＤ制御とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続鋳造のモール
ド内の湯面レベルを測定し、該測定値が所定の設定値に
なるようにタンディッシュに取り付けられたスライディ
ングノズルの開度を制御してモールド内の湯面レベルを
制御する方法に関する。
ド内の湯面レベルを測定し、該測定値が所定の設定値に
なるようにタンディッシュに取り付けられたスライディ
ングノズルの開度を制御してモールド内の湯面レベルを
制御する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、連続鋳造のモールド内の湯面レベ
ル制御は、鋳込開始時において、湯面の上方に配置され
た渦電流センサ（湯面レベル測定手段）の測定範囲に湯
面レベルが達するまでの湯面上昇速度を予め設定し、こ
の設定速度に基づいてスライディングノズルの開度を決
定し、次いで、湯面レベルが渦電流センサの測定範囲内
まで上昇した後、該湯面レベルが一定の設定値ＭＬ0 に
到達するのを待って、モールドの下方に配置された鋳片
引き抜き用のピンチロールを起動し、これにより、鋳片
の引き抜きを開始すると同時に、湯面レベル制御を開始
し、湯面レベルを定常時の一定の設定値ＭＬに合わせて
いく。
ル制御は、鋳込開始時において、湯面の上方に配置され
た渦電流センサ（湯面レベル測定手段）の測定範囲に湯
面レベルが達するまでの湯面上昇速度を予め設定し、こ
の設定速度に基づいてスライディングノズルの開度を決
定し、次いで、湯面レベルが渦電流センサの測定範囲内
まで上昇した後、該湯面レベルが一定の設定値ＭＬ0 に
到達するのを待って、モールドの下方に配置された鋳片
引き抜き用のピンチロールを起動し、これにより、鋳片
の引き抜きを開始すると同時に、湯面レベル制御を開始
し、湯面レベルを定常時の一定の設定値ＭＬに合わせて
いく。
【０００３】ところで、一般には、湯面レベル制御系
は、定常鋳込中の定値制御特性を最適とすべく調整され
るため、制御開始時から定常時までの湯面レベルの設定
値と渦電流センサによる測定値との偏差が大きい場合で
は、修正動作が大きく働いてしまい、結果的に湯面が変
動し、定常鋳込中の設定値ＭＬへの合わせ込みに長時間
を要することになる。当然のことながら、鋳込開始時の
湯面レベル制御性能は、この期間に鋳込まれる鋳片品質
に与える影響大であり、より早く定常制御に移行するこ
とが求められている。
は、定常鋳込中の定値制御特性を最適とすべく調整され
るため、制御開始時から定常時までの湯面レベルの設定
値と渦電流センサによる測定値との偏差が大きい場合で
は、修正動作が大きく働いてしまい、結果的に湯面が変
動し、定常鋳込中の設定値ＭＬへの合わせ込みに長時間
を要することになる。当然のことながら、鋳込開始時の
湯面レベル制御性能は、この期間に鋳込まれる鋳片品質
に与える影響大であり、より早く定常制御に移行するこ
とが求められている。
【０００４】そこで、従来においては、定常時における
定値制御特性を最適にしつつ、鋳込開始時の制御特性も
良好にするため、制御開始時の湯面レベルの設定値ＭＬ
0 から定常時の設定値ＭＬまで設定値をランプ状に変化
させ、これにより、過大な修正動作を抑制してより早く
定常制御に移行できるようにしている。
定値制御特性を最適にしつつ、鋳込開始時の制御特性も
良好にするため、制御開始時の湯面レベルの設定値ＭＬ
0 から定常時の設定値ＭＬまで設定値をランプ状に変化
させ、これにより、過大な修正動作を抑制してより早く
定常制御に移行できるようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
湯面レベルの制御方法においては、スライディングノズ
ルの計算開度より得られる実際の湯面上昇速度は、種々
の操業要因により変化するため、結果的に湯面のレベル
変動を小さく抑えることができず、定常制御への移行に
長時間を要していまうという不都合がある。
湯面レベルの制御方法においては、スライディングノズ
ルの計算開度より得られる実際の湯面上昇速度は、種々
の操業要因により変化するため、結果的に湯面のレベル
変動を小さく抑えることができず、定常制御への移行に
長時間を要していまうという不都合がある。
【０００６】本発明はこのような不都合を解消するため
になされたものであり、定常時における定値制御特性を
最適に保持しつつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定
化を図り、これにより、短時間で定常制御へ移行するこ
とができるようにした連続鋳造の湯面レベルの制御方法
を提供することを目的とする。
になされたものであり、定常時における定値制御特性を
最適に保持しつつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定
化を図り、これにより、短時間で定常制御へ移行するこ
とができるようにした連続鋳造の湯面レベルの制御方法
を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に係る連続鋳造の湯面レベル制御方法は、
連続鋳造のモールド内の湯面レベルを測定し、該測定値
が所定の設定値になるようにタンディッシュに取り付け
られたスライディングノズルの開度を制御してモールド
内の湯面レベルを制御する方法であって、湯面レベルの
制御を開始する前の該湯面レベルの測定値から湯面レベ
ル変化率を求めると共に、該湯面レベル変化率に基づい
て制御開始時から定常状態になるまでの間の湯面レベル
の設定値を制御周期毎に求め、該設定値に湯面レベルの
測定値が一致するようにスライディングノズルの開度を
制御することを特徴とする。
に、請求項１に係る連続鋳造の湯面レベル制御方法は、
連続鋳造のモールド内の湯面レベルを測定し、該測定値
が所定の設定値になるようにタンディッシュに取り付け
られたスライディングノズルの開度を制御してモールド
内の湯面レベルを制御する方法であって、湯面レベルの
制御を開始する前の該湯面レベルの測定値から湯面レベ
ル変化率を求めると共に、該湯面レベル変化率に基づい
て制御開始時から定常状態になるまでの間の湯面レベル
の設定値を制御周期毎に求め、該設定値に湯面レベルの
測定値が一致するようにスライディングノズルの開度を
制御することを特徴とする。
【０００８】請求項２に係る連続鋳造の湯面レベルの制
御方法は、請求項１において、湯面レベルの制御開始時
から湯面レベルが定常状態となるまでの間はＩ−ＰＤ制
御とし、湯面レベルが定常状態となった後はＰＩＤ制御
としたことを特徴とする。
御方法は、請求項１において、湯面レベルの制御開始時
から湯面レベルが定常状態となるまでの間はＩ−ＰＤ制
御とし、湯面レベルが定常状態となった後はＰＩＤ制御
としたことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
を図を参照して説明する。図１は本発明の実施の形態の
一例である連続鋳造の湯面レベルの制御方法を説明する
ための設備構成図、図２は制御装置の作動を説明するた
めのグラフ図である。図１において符号１は溶鋼２が収
容されたタンディッシュ、３はタンディッシュ１の底壁
に取り付けられたスライディングノズル、４はスライデ
ィングノズル３の下方に配置されたモールド、５はモー
ルド４内の湯面の上方に配置されて該湯面のレベルを測
定する渦電流センサ、６はスライディングノズル３の開
度を制御する制御装置である。制御装置６には、モール
ド４内の湯面レベルの設定値として、渦電流センサ５に
よる測定範囲の下限値ＭＬmin 、制御開始設定値ＭＬ0
及び定常制御設定値ＭＬが設けられている。
を図を参照して説明する。図１は本発明の実施の形態の
一例である連続鋳造の湯面レベルの制御方法を説明する
ための設備構成図、図２は制御装置の作動を説明するた
めのグラフ図である。図１において符号１は溶鋼２が収
容されたタンディッシュ、３はタンディッシュ１の底壁
に取り付けられたスライディングノズル、４はスライデ
ィングノズル３の下方に配置されたモールド、５はモー
ルド４内の湯面の上方に配置されて該湯面のレベルを測
定する渦電流センサ、６はスライディングノズル３の開
度を制御する制御装置である。制御装置６には、モール
ド４内の湯面レベルの設定値として、渦電流センサ５に
よる測定範囲の下限値ＭＬmin 、制御開始設定値ＭＬ0
及び定常制御設定値ＭＬが設けられている。
【００１０】次に、図２を参照して、鋳込開始時におけ
る制御装置６の作動を説明する。まず、スライディング
ノズル３の初期開度をタンディッシュ１内の溶鋼重量、
スライディングノズル３の径、モールド４のサイズ（厚
さ、幅）等により求め、求められた計算開度となるよう
にスライディングノズル３の開度を制御する。これによ
り、モールド４内に溶鋼が注入され、湯面が上昇してく
るが、この時点では湯面レベルが渦電流センサ５の測定
範囲外にあるため、湯面レベルの制御動作は行われない
（図中（イ）及び（ロ）参照）。
る制御装置６の作動を説明する。まず、スライディング
ノズル３の初期開度をタンディッシュ１内の溶鋼重量、
スライディングノズル３の径、モールド４のサイズ（厚
さ、幅）等により求め、求められた計算開度となるよう
にスライディングノズル３の開度を制御する。これによ
り、モールド４内に溶鋼が注入され、湯面が上昇してく
るが、この時点では湯面レベルが渦電流センサ５の測定
範囲外にあるため、湯面レベルの制御動作は行われない
（図中（イ）及び（ロ）参照）。
【００１１】湯面が上昇してきて、渦電流センサ５の測
定範囲の下限値ＭＬmin に入ってから制御開始設定値
（制御開始点）ＭＬ0 に到達するまでの間、渦電流セン
サ５によって湯面レベルを測定し、該湯面レベルの変化
率（上昇率）を計算する（図中（ハ）参照）。そして、
湯面が上昇して渦電流センサ５による測定値が制御開始
設定値ＭＬ0に到達したときに、モールド４の下方に配
置された鋳片引き抜き用のピンチロール（図示せず。）
を起動し、これにより、鋳片の引き抜きを開始すると同
時に、湯面レベルの制御を開始して該湯面レベルを定常
制御設定値ＭＬに合わせていく。このとき、制御開始点
ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまでの湯面レベルの設定
値ＳＶ(n) を次のように変化させ、該設定値ＳＶ(n) と
渦電流センサ５の測定値とが一致するようにスライディ
ングノズル３の開度を制御する（図中（ニ）参照）。
定範囲の下限値ＭＬmin に入ってから制御開始設定値
（制御開始点）ＭＬ0 に到達するまでの間、渦電流セン
サ５によって湯面レベルを測定し、該湯面レベルの変化
率（上昇率）を計算する（図中（ハ）参照）。そして、
湯面が上昇して渦電流センサ５による測定値が制御開始
設定値ＭＬ0に到達したときに、モールド４の下方に配
置された鋳片引き抜き用のピンチロール（図示せず。）
を起動し、これにより、鋳片の引き抜きを開始すると同
時に、湯面レベルの制御を開始して該湯面レベルを定常
制御設定値ＭＬに合わせていく。このとき、制御開始点
ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまでの湯面レベルの設定
値ＳＶ(n) を次のように変化させ、該設定値ＳＶ(n) と
渦電流センサ５の測定値とが一致するようにスライディ
ングノズル３の開度を制御する（図中（ニ）参照）。
【００１２】設定値ＳＶ(n) の求め方については、ま
ず、上記（ハ）で求めた渦電流センサ５の測定範囲下限
値ＭＬmin から制御開始点ＭＬ0 までの実績変化率に基
づいて初期目標値変化率ΔＬを求め、該変化率ΔＬを用
いて制御周期ΔＴ（ｓｅｃ）毎の湯面レベルの設定値Ｓ
Ｖ(n) を次式により求める。 ＳＶ(n) ＝ＭＬ0 ＋ΔＬ×α(n) 但し、ＳＶ(0) ＝ＭＬ0 α(n) ＝α(n-1) ×β 但し、α(0) ＝１．０ ここで、α(n) ：制御目標変化率係数 β ：制御目標変化率速度 さらに、制御開始点ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまで
の制御アルゴリズムとしては、追値性能重視のＩ−ＰＤ
型を用いる。
ず、上記（ハ）で求めた渦電流センサ５の測定範囲下限
値ＭＬmin から制御開始点ＭＬ0 までの実績変化率に基
づいて初期目標値変化率ΔＬを求め、該変化率ΔＬを用
いて制御周期ΔＴ（ｓｅｃ）毎の湯面レベルの設定値Ｓ
Ｖ(n) を次式により求める。 ＳＶ(n) ＝ＭＬ0 ＋ΔＬ×α(n) 但し、ＳＶ(0) ＝ＭＬ0 α(n) ＝α(n-1) ×β 但し、α(0) ＝１．０ ここで、α(n) ：制御目標変化率係数 β ：制御目標変化率速度 さらに、制御開始点ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまで
の制御アルゴリズムとしては、追値性能重視のＩ−ＰＤ
型を用いる。
【００１３】Ｉ−ＰＤ型アルゴリズムとは、ΔＭＶ(n)
＝Ｋｐ・Ｋｓ｛ΔＰＶ(n) ＋（ΔＴ／ＴＩ）・Ｅ(n) ＋
（ＴＤ／ΔＴ）・Δ（ΔＰＶ(n) ）｝に従って、スライ
ディングノズル３の開度ＭＶを制御するアルゴリズムで
ある。即ち、現時点のスライディングノズル３の開度を
ＭＶとするとき、ΔＴ（ｓｅｃ）先のスライディングノ
ズル３の開度をＭＶ＋ΔＭＶに制御するものである。
＝Ｋｐ・Ｋｓ｛ΔＰＶ(n) ＋（ΔＴ／ＴＩ）・Ｅ(n) ＋
（ＴＤ／ΔＴ）・Δ（ΔＰＶ(n) ）｝に従って、スライ
ディングノズル３の開度ＭＶを制御するアルゴリズムで
ある。即ち、現時点のスライディングノズル３の開度を
ＭＶとするとき、ΔＴ（ｓｅｃ）先のスライディングノ
ズル３の開度をＭＶ＋ΔＭＶに制御するものである。
【００１４】ここで、 ΔＭＶ：スライディングノズル３の開度ＭＶの１制御周
期（ΔＴ）の変化量 ＰＶ(n) ：渦電流センサ５による湯面レベルの測定値 ΔＰＶ(n) ：測定値変化量 ΔＰＶ(n) ＝ＰＶ(n) −Ｐ
Ｖ(n-1) Ｅ(n) ＝ＰＶ(n) −ＳＶ(n) Ｋｐ＝１００／ＰＢ ＰＢ：比例帯（％） Ｋｓ：スケール変換係数、Ｋｓ＝（ＭＳＨ−ＭＳＬ）／
（ＳＨ−ＳＬ） ＳＨ：ＰＶスケール（湯面レベルの測定範囲）上限値 ＳＬ：ＰＶスケール（湯面レベルの測定範囲）下限値 ＭＳＨ：ＭＶスケール（スライディングノズル開度）上
限値 ＭＳＬ：ＭＶスケール（スライディングノズル開度）下
限値 ΔＴ：制御周期（ｓｅｃ） ＴＩ：積分時間（ｓｅｃ） ＴＤ：微分時間（ｓｅｃ） そして、設定値ＳＶ(n) ≧定常制御設定値ＭＬとなった
とき、ＳＶ(n) ＝ＭＬと判断して、定常制御に移行す
る。このとき、制御アルゴリズムをＩ−ＰＤ型から定値
性能重視のＰＩＤ型に切替え、これを用いる（図中
（ホ）参照）。
期（ΔＴ）の変化量 ＰＶ(n) ：渦電流センサ５による湯面レベルの測定値 ΔＰＶ(n) ：測定値変化量 ΔＰＶ(n) ＝ＰＶ(n) −Ｐ
Ｖ(n-1) Ｅ(n) ＝ＰＶ(n) −ＳＶ(n) Ｋｐ＝１００／ＰＢ ＰＢ：比例帯（％） Ｋｓ：スケール変換係数、Ｋｓ＝（ＭＳＨ−ＭＳＬ）／
（ＳＨ−ＳＬ） ＳＨ：ＰＶスケール（湯面レベルの測定範囲）上限値 ＳＬ：ＰＶスケール（湯面レベルの測定範囲）下限値 ＭＳＨ：ＭＶスケール（スライディングノズル開度）上
限値 ＭＳＬ：ＭＶスケール（スライディングノズル開度）下
限値 ΔＴ：制御周期（ｓｅｃ） ＴＩ：積分時間（ｓｅｃ） ＴＤ：微分時間（ｓｅｃ） そして、設定値ＳＶ(n) ≧定常制御設定値ＭＬとなった
とき、ＳＶ(n) ＝ＭＬと判断して、定常制御に移行す
る。このとき、制御アルゴリズムをＩ−ＰＤ型から定値
性能重視のＰＩＤ型に切替え、これを用いる（図中
（ホ）参照）。
【００１５】ＰＩＤ型アルゴリズムとは、ΔＭＶ(n) ＝
Ｋｐ・Ｋｓ｛ΔＥ(n) ＋（ΔＴ／ＴＩ）・Ｅ(n) ＋（Ｔ
Ｄ／ΔＴ）・Δ（ΔＥ(n) ）｝により、スライディング
ノズル３の開度の変化量を定め、現時点のスライディン
グノズル３の開度をＭＶとするときに、ΔＴ（ｓｅｃ）
先のスライディングノズル３の開度をＭＶ＋ΔＭＶに制
御するものである。但し、ΔＥ(n) ：偏差変化量ΔＥ
(n) ＝Ｅ(n) −Ｅ(n-1) とする。
Ｋｐ・Ｋｓ｛ΔＥ(n) ＋（ΔＴ／ＴＩ）・Ｅ(n) ＋（Ｔ
Ｄ／ΔＴ）・Δ（ΔＥ(n) ）｝により、スライディング
ノズル３の開度の変化量を定め、現時点のスライディン
グノズル３の開度をＭＶとするときに、ΔＴ（ｓｅｃ）
先のスライディングノズル３の開度をＭＶ＋ΔＭＶに制
御するものである。但し、ΔＥ(n) ：偏差変化量ΔＥ
(n) ＝Ｅ(n) −Ｅ(n-1) とする。
【００１６】このようにこの実施の形態では、制御開始
点ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまでの湯面レベルの設
定値ＳＶ(n) を制御開始前の湯面レベルの実績変化率を
用いて算出しているので、従来のように、ＭＬ0 からＭ
Ｌまで設定値をランプ状に変化させて湯面のレベル制御
を行う場合に比べて、設定値と渦電流センサ５による測
定値との偏差を小さく保ったまま制御を開始・継続する
ことができ、この結果、定常時における定値制御特性を
最適に保持しつつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定
化を図ることができ、短時間で定常制御に移行すること
ができる。
点ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまでの湯面レベルの設
定値ＳＶ(n) を制御開始前の湯面レベルの実績変化率を
用いて算出しているので、従来のように、ＭＬ0 からＭ
Ｌまで設定値をランプ状に変化させて湯面のレベル制御
を行う場合に比べて、設定値と渦電流センサ５による測
定値との偏差を小さく保ったまま制御を開始・継続する
ことができ、この結果、定常時における定値制御特性を
最適に保持しつつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定
化を図ることができ、短時間で定常制御に移行すること
ができる。
【００１７】また、制御アルゴリズムについても、制御
開始点ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまでは追値性能重
視のＩ−ＰＤ型を用い、 定常制御に移行した後はＩ−
ＰＤ型から定値性能重視のＰＩＤ型に切替えるようにし
ているので、安定した制御特性を得ることができる。
開始点ＭＬ0 から定常制御レベルＭＬまでは追値性能重
視のＩ−ＰＤ型を用い、 定常制御に移行した後はＩ−
ＰＤ型から定値性能重視のＰＩＤ型に切替えるようにし
ているので、安定した制御特性を得ることができる。
【００１８】
【実施例】２３５ｔ底吹転炉２基を有する製鋼工場の連
続鋳造設備にて本発明を実施した。連続鋳造設備は、２
ストランドの垂直曲型連続鋳造機であり、鋳込速度は
０．３〜２．０ｍ／ｍｉｎである。この設備に本発明を
適用することにより、鋳込開始時のモールド内湯面レベ
ル制御性能を著しく改善することができ、スラブ良品の
歩留りが年平均で０．５％向上した。また、本発明によ
り、鋳込開始時の湯面変動によるオペレータ介入頻度を
抑制することができ、オペレータ作業負荷が１０％減少
した。
続鋳造設備にて本発明を実施した。連続鋳造設備は、２
ストランドの垂直曲型連続鋳造機であり、鋳込速度は
０．３〜２．０ｍ／ｍｉｎである。この設備に本発明を
適用することにより、鋳込開始時のモールド内湯面レベ
ル制御性能を著しく改善することができ、スラブ良品の
歩留りが年平均で０．５％向上した。また、本発明によ
り、鋳込開始時の湯面変動によるオペレータ介入頻度を
抑制することができ、オペレータ作業負荷が１０％減少
した。
【００１９】
【発明の効果】上記の説明から明らかなように、本発明
によれば、定常時における定値制御特性を最適に保持し
つつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定化を図り、短
時間で定常制御へ移行することができるので、鋳込開始
時鋳片の品質を向上させることができると共に、鋳込開
始時の湯面変動によるオペレータ介入頻度を抑制するこ
とができるという効果が得られる。
によれば、定常時における定値制御特性を最適に保持し
つつ、鋳込開始時の湯面レベル制御の安定化を図り、短
時間で定常制御へ移行することができるので、鋳込開始
時鋳片の品質を向上させることができると共に、鋳込開
始時の湯面変動によるオペレータ介入頻度を抑制するこ
とができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例である連続鋳造の湯
面レベルの制御方法を説明するための設備構成図であ
る。
面レベルの制御方法を説明するための設備構成図であ
る。
【図２】制御装置の作動を説明するためのグラフ図であ
る。
る。
１…タンディッシュ ２…溶鋼 ３…スライディングノズル ４…モールド ５…渦電流センサ ６…制御装置 ＭＬmin …測定範囲下限値 ＭＬ0 …制御開始設定値 ＭＬ…定常制御設定値 ＳＶ(n) …ＭＬ0 〜ＭＬまでの間の制御周期毎の設定値
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4E004 MB02 MB09 5H004 GA02 GB03 HA05 HB05 JA02 JA04 JA12 JB30 KA62 KA69 KB02 KB04 KB06 KB09 LB05 LB06 5H309 AA01 BB05 CC09 DD27 DD37 EE05 FF07 GG03 HH01 HH02 HH21 JJ06
Claims (2)
- 【請求項１】 連続鋳造のモールド内の湯面レベルを測
定し、該測定値が所定の設定値になるようにタンディッ
シュに取り付けられたスライディングノズルの開度を制
御してモールド内の湯面レベルを制御する方法であっ
て、 湯面レベルの制御を開始する前の該湯面レベルの測定値
から湯面レベル変化率を求めると共に、該湯面レベル変
化率に基づいて制御開始時から定常状態になるまでの間
の湯面レベルの設定値を制御周期毎に求め、該設定値に
湯面レベルの測定値が一致するようにスライディングノ
ズルの開度を制御することを特徴とする連続鋳造の湯面
レベルの制御方法。 - 【請求項２】 湯面レベルの制御開始時から湯面レベル
が定常状態となるまでの間はＩ−ＰＤ制御とし、湯面レ
ベルが定常状態となった後はＰＩＤ制御としたことを特
徴とする請求項１記載の連続鋳造の湯面レベルの制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000382735A JP2002178120A (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 連続鋳造の湯面レベルの制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000382735A JP2002178120A (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 連続鋳造の湯面レベルの制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002178120A true JP2002178120A (ja) | 2002-06-25 |
Family
ID=18850509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000382735A Pending JP2002178120A (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 連続鋳造の湯面レベルの制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002178120A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112180997A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-05 | 东北大学 | 基于ccd液位检测的薄带连铸熔池液位控制方法和装置 |
-
2000
- 2000-12-15 JP JP2000382735A patent/JP2002178120A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112180997A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-05 | 东北大学 | 基于ccd液位检测的薄带连铸熔池液位控制方法和装置 |
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