JP2002173503A - オレフィン類重合用触媒 - Google Patents
オレフィン類重合用触媒Info
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- JP2002173503A JP2002173503A JP2001296454A JP2001296454A JP2002173503A JP 2002173503 A JP2002173503 A JP 2002173503A JP 2001296454 A JP2001296454 A JP 2001296454A JP 2001296454 A JP2001296454 A JP 2001296454A JP 2002173503 A JP2002173503 A JP 2002173503A
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
い重合体を高収率で生成できるオレフィン類重合用触媒
を提供する。 【解決手段】 (A)ジアルコキシマグネシウム
(a)、4価のチタンハロゲン化合物(b)、フタル酸
ジエステル(c)を、融点50〜150℃の芳香族炭化
水素(d)中で接触させて調製される固体触媒成分、
(B)一般式R1 p AlQ3-p で表される有機アルミニ
ウム化合物、(C)一般式R2 q Si( OR3) 4-p で表
されるハロゲン含有有機ケイ素化合物及び一般式R4 r
Si( OR5)4- r-s Xs で表される有機ケイ素化合物か
ら成るオレフィン類重合用触媒。
Description
活性が良好であり、更に高立体規則性ポリマーを高収率
で得ることのできるオレフィン類重合用触媒に関する。
重合においては、マグネシウム、チタン、電子供与性化
合物及びハロゲンを必須成分として含有する固体触媒成
分が知られている。また該固体触媒成分、有機アルミニ
ウム化合物及び有機ケイ素化合物から成るオレフィン類
重合用触媒の存在下に、プロピレンを重合もしくは共重
合させるオレフィン類の重合方法が数多く提案されてい
る。例えば、特開昭57−63310号並びに同57−
63311号公報においては、マグネシウム化合物、チ
タン化合物及び電子供与体を含有する固体触媒成分と、
有機アルミニウム化合物及びSi−O−C結合を有する
有機ケイ素化合物との組み合わせから成る触媒を用い
て、特に炭素数が3以上のオレフィン類を重合させる方
法が提案されている。しかしながら、これらの方法は、
高立体規則性重合体を高収率で得るには、必ずしも充分
に満足したものではなく、より一層の改良が望まれてい
た。
ては、ジアルコキシマグネシウム、芳香族ジカルボン酸
ジエステル、芳香族炭化水素及びチタンハロゲン化物を
接触して得られた生成物を、粉末状態で加熱処理するこ
とにより調製した固体触媒成分と、有機アルミニウム化
合物及び有機ケイ素化合物より成るオレフィン類重合用
触媒とオレフィン類の重合方法が提案されている。
いては、ジエトキシマグネシウムとアルキルベンゼンと
で形成された懸濁液に、四塩化チタンを接触させ、次い
でフタル酸ジクロライドを加えて反応させることによっ
て固体生成物を得、該固体生成物を更にアルキルベンゼ
ンの存在下で四塩化チタンと接触反応させることによっ
て調製された固体触媒成分と、有機アルミニウム化合物
及び有機ケイ素化合物より成るオレフィン類重合用触媒
及び該触媒の存在下でのオレフィン類の重合方法が提案
されている。
中に残留する塩素やチタン等の触媒残渣を除去する所謂
脱灰行程を省略し得る程の高活性を有すると共に、併せ
て立体規則性重合体の収率の向上や、重合時の触媒活性
の持続性を高めることに注力したものであり、それぞれ
優れた成果を上げている。
るポリマーは、自動車あるいは家電製品等の成型品の
他、容器やフィルム等種々の用途に利用されている。こ
れらは、重合により生成したポリマーパウダーを溶融
し、各種の成型機により成型されるが、特に射出成型等
でかつ大型の成型品を製造する際に、溶融ポリマーの流
動性(メルトフローレイト)が高いことが要求される場
合があり、そのためポリマーのメルトフローレイトを上
げるべく多くの研究が為されている。
に大きく依存する。当業界においてはプロピレンの重合
に際し、生成ポリマーの分子量調節剤として水素を添加
することが一般的に行われている。このとき低分子量の
ポリマーを製造する場合、すなわち高メルトフローレイ
トのポリマーを製造するためには通常多くの水素を添加
するが、リアクターの耐圧にはその安全性から限度があ
り、添加し得る水素量にも制限がある。このため、より
多くの水素を添加するためには重合するモノマーの分圧
を下げざるを得ず、この場合生産性が低下することにな
る。また、水素を多量に用いることからコストの面の問
題も生じる。従って、より少ない水素量で高メルトフロ
ーレイトのポリマーが製造できるような、いわゆる対水
素活性が高くかつ高立体規則性ポリマーを高収率で得ら
れる触媒の開発が望まれていたが、上記従来技術では係
る課題を解決するには充分ではなかった。
は、かかる従来技術に残された問題点を解決し、より高
い対水素活性を有し、更に高活性で、高立体規則性のポ
リマーを高収率で得ることができるオレフィン類重合用
触媒を提供することにある。
術に残された課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、
特定のハロゲン含有有機ケイ素化合物、及び特定の有機
ケイ素化合物をオレフィン類の重合時の第三成分(外部
ドナー)として用いた触媒が、極めて高い対水素活性を
有し、上記問題を解決し得ることを見出し、本発明を完
成するに至った。
マグネシウム(a)、4価のチタンハロゲン化合物
(b)およびフタル酸ジエステル(c)を沸点が50〜
150℃の芳香族炭化水素(d)中で接触させることに
より調製される固体触媒成分、(B)下記一般式
(1); R1 p AlQ3-p (1) (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、Qは
水素原子あるいはハロゲン原子を示し、pは0<p≦3
の実数である。)で表される有機アルミニウム化合物、
(C)下記一般式(2); R2 q Si( OR3)4-q (2) (式中、R2 は炭素数1〜12の直鎖状あるいは分岐鎖
状のアルキル基の1つあるいは2つの水素原子がハロゲ
ン原子に置換したものであって、同一または異なってい
てもよく、R3 は炭素数1〜4のアルキル基、シクロア
ルキル基、フェニル基、ビニル基、アリル基、アラルキ
ル基を示し、同一または異なっていてもよく、qは1≦
q≦3の整数である。)で表されるハロゲン含有有機ケ
イ素化合物、及び(D)下記一般式(3); R4 r Si( OR5 )4-r-s Xs (3) (式中、R4 は炭素数1〜12のアルキル基、シクロア
ルキル基、フェニル基、ビニル基、アリル基、アラルキ
ル基のいずれかで、同一または異なっていてもよく、R
5 は炭素数1〜4のアルキル基、シクロアルキル基、フ
ェニル基、ビニル基、アリル基、アラルキル基を示し、
同一または異なっていてもよく、Xは塩素、臭素、ヨウ
素から選ばれるハロゲン原子を示し、rは0又は1〜3
の整数、sは0、1又は2であり、0≦r+s≦3であ
る。)で表される有機ケイ素化合物から形成されるオレ
フィン類重合用触媒を提供するものである。
のうち固体触媒成分(A)(以下、「成分(A)」とい
うことがある。)の調製に用いられるジアルコキシマグ
ネシウム(a)(以下、「成分(a)」ということがあ
る。)としては、一般式Mg( OR6)( OR7)(式中、
R6 及びR7 は炭素数1〜10のアルキル基を示し、そ
れぞれ同一でも異なってもよい。)で表される化合物が
好ましく、より具体的には、ジメトキシマグネシウム、
ジエトキシマグネシウム、ジプロポキシマグネシウム、
ジブトキシマグネシウム、エトキシメトキシマグネシウ
ム、エトキシプロポキシマグネシウム、ブトキシエトキ
シマグネシウム等が挙げられ、ジエトキシマグネシウム
が特に好ましい。また、これらのジアルコキシマグネシ
ウムは、金属マグネシウムを、ハロゲンあるいはハロゲ
ン含有金属化合物等の存在下にアルコールと反応させて
得たものでもよい。また、上記のジアルコキシマグネシ
ウムは、単独あるいは2種以上併用することもできる。
用いられるジアルコキシマグネシウムは、顆粒状又は粉
末状であり、その形状は不定形あるいは球状のものを使
用し得る。例えば球状のジアルコキシマグネシウムを使
用した場合、より良好な粒子形状と狭い粒度分布を有す
る重合体粉末が得られ、重合操作時の生成重合体粉末の
取扱い操作性が向上し、生成重合体粉末に含まれる微粉
に起因する閉塞等の問題が解消される。
必ずしも真球状である必要はなく、楕円形状あるいは馬
鈴薯形状のものを用いることもできる。具体的にその粒
子の形状は、長軸径lと短軸径wとの比(l/w)が3
以下であり、好ましくは1から2であり、より好ましく
は1から1.5である。
均粒径は1から200μmのものが使用し得る。好まし
くは5から150μmである。球状のジアルコキシマグ
ネシウムの場合、その平均粒径は1から100μm、好
ましくは5から50μmであり、更に好ましくは10か
ら40μmである。また、その粒度については、微粉及
び粗粉の少ない、粒度分布の狭いものを使用することが
望ましい。具体的には、5μm以下の粒子が20%以下
であり、好ましくは10%以下である。一方、100μ
m以上の粒子が10%以下であり、好ましくは5%以下
である。更にその粒度分布をln(D90/D10)(ここ
で、D90は積算粒度で90%における粒径、D10は積算
粒度で10%における粒径である。)で表すと3以下で
あり、好ましくは2以下である。
ムの製造方法は、例えば特開昭58−41832号公
報、同62−51633号公報、特開平3−74341
号公報、同4−368391号公報、同8−73388
号公報などに例示されている。
れる4価のチタンハロゲン化合物(b)(以下「成分
(b)」ということがある。)は、一般式Ti( OR8)
n X4- n (式中、R8 は炭素数1〜4のアルキル基を示
し、Xは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子を示し、
nは0≦n≦4の整数である。)で表されるチタンハラ
イドもしくはアルコキシチタンハライド群から選択され
る化合物の1種あるいは2種以上である。
テトラクロライド、チタンテトラブロマイド、チタンテ
トラアイオダイド等のチタンテトラハライド、アルコキ
シチタンハライドとしてメトキシチタントリクロライ
ド、エトキシチタントリクロライド、プロポキシチタン
トリクロライド、n−ブトキシチタントリクロライド、
ジメトキシチタンジクロライド、ジエトキシチタンジク
ロライド、ジプロポキシチタンジクロライド、ジ−n−
ブトキシチタンジクロライド、トリメトキシチタンクロ
ライド、トリエトキシチタンクロライド、トリプロポキ
シチタンクロライド、トリ−n−ブトキシチタンクロラ
イド等が例示される。このうち、チタンテトラハライド
が好ましく、特に好ましくはチタンテトラクロライドで
ある。これらのチタン化合物は単独あるいは2種以上併
用することもできる。
れるフタル酸ジエステル(c)(以下「成分(c)」と
いうことがある。)は、特に、アルコキシカルボニル基
に含有されるアルキル基が、炭素数が2〜10の直鎖状
あるいは分岐鎖状のアルキル基であることが望ましく、
具体例としては、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジ−n−プロピル、フタル酸ジイソプロピ
ル、フタル酸ジ−n−ブチル、フタル酸ジイソブチル、
フタル酸エチルメチル、フタル酸メチル(イソプロピ
ル)、フタル酸エチル(n−プロピル)、フタル酸エチ
ル(n−ブチル)、フタル酸エチル(イソブチル)、フ
タル酸ジ−n−ペンチル、フタル酸ジイソペンチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジ−n−ヘプチル、フタル
酸ジ−n−オクチル、フタル酸ビス(2,2−ジメチル
ヘキシル)、フタル酸ビス(2−エチルヘキシル)、フ
タル酸ジ−n−ノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル
酸ビス(2,2−ジメチルヘプチル)、フタル酸n−ブ
チル(イソヘキシル)、フタル酸n−ブチル(2−エチ
ルヘキシル)、フタル酸n−ペンチルヘキシル、フタル
酸n−ペンチル(イソヘキシル)、フタル酸イソペンチ
ル(ヘプチル)、フタル酸n−ペンチル(2−エチルヘ
キシル)、フタル酸n−ペンチル(イソノニル)、フタ
ル酸イソペンチル(n−デシル)、フタル酸n−ペンチ
ルウンデシル、フタル酸イソペンチル(イソヘキシ
ル)、フタル酸n−ヘキシル(2−エチルヘキシル)、
フタル酸n−ヘキシル(2−エチルヘキシル)、フタル
酸n−ヘキシル(イソノニル)、フタル酸n−ヘキシル
(n−デシル)、フタル酸n−ヘプチル(2−エチルヘ
キシル)、フタル酸n−ヘプチル(イソノニル)、フタ
ル酸n−ヘプチル(ネオデシル)、フタル酸2−エチル
ヘキシル(イソノニル)が例示され、これらの1種ある
いは2種以上が使用される。
コキシカルボニル基に含有される2つのアルキル基が同
一であるフタル酸ジエステルが好適であり、その中でも
特にフタル酸ジエチル、フタル酸ジ−n−プロピル、フ
タル酸ジイソプロピル、フタル酸ジ−n−ブチル、フタ
ル酸ジイソブチル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル
酸ビス(2−エチルヘキシル)、フタル酸ジイソデシル
が好ましく用いられる。
(c)を、沸点が50〜150℃の芳香族炭化水素
(d)(以下単に「成分(d)」ということがある。)
中で接触させることによって成分(A)を調製するが、
この成分(d)としては具体的にはトルエン、キシレ
ン、エチルベンゼンが好ましく用いられる。また、これ
らは単独で用いても、2種以上混合して使用してもよ
い。
においては、上記(a)〜(d)成分の他、更に、アル
ミニウム化合物または有機酸の金属塩またはポリシロキ
サンを使用することができる。これらの使用は、生成ポ
リマーの結晶性をコントロールする上で有効である。
ルミニウムトリクロライド、ジエトキシアルミニウムク
ロライド、ジイソプロポキシアルミニウムクロライド、
エトキシアルミニウムジクロライド、イソプロポキシア
ルミニウムジクロライド、ブトキシアルミニウムジクロ
ライド、トリエトキシアルミニウム等が挙げられる。
酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン
酸アルミニウム等が挙げられる。
とも総称され、25℃における粘度が2〜10000セ
ンチストークス、より好ましくは3〜500センチスト
ークスを有する、常温で液状あるいは粘稠状の鎖状、部
分水素化、環状あるいは変性ポリシロキサンである。
リシロキサン、メチルフェニルポリシロキサンが、部分
水素化ポリシロキサンとしては、水素化率10〜80%
のメチルハイドロジェンポリシロキサンが、環状ポリシ
ロキサンとしては、ヘキサメチルシクロトリシロキサ
ン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチル
シクロペンタシロキサン、2,4,6−トリメチルシク
ロトリシロキサン、2,4,6,8−テトラメチルシク
ロテトラシロキサンが、また変性ポリシロキサンとして
は、高級脂肪酸基置換ジメチルシロキサン、エポキシ基
置換ジメチルシロキサン、ポリオキシアルキレン基置換
ジメチルシロキサンが例示される。
ついて述べる。具体的には、ジアルコキシマグネシウム
(a)を4価のチタンハロゲン化合物(b)または芳香
族炭化水素(d)に懸濁させ、フタル酸ジエステル
(c)及び/または4価のチタンハロゲン化合物(b)
を接触して固体成分を得る方法が挙げられる。該方法に
おいて、球状のマグネシウム化合物を用いることによ
り、球状でかつ粒度分布のシャープな固体触媒成分を得
ることができ、また球状のマグネシウム化合物を用いな
くとも、例えば噴霧装置を用いて溶液あるいは懸濁液を
噴霧・乾燥させる、いわゆるスプレードライ法により粒
子を形成させることにより、同様に球状でかつ粒度分布
のシャープな固体触媒成分を得ることができる。
分等を除去した状況下で、撹拌機を具備した容器中で、
撹拌しながら行われる。接触温度は、単に接触させて撹
拌混合する場合や、分散あるいは懸濁させて変性処理す
る場合には、室温付近の比較的低温域であっても差し支
えないが、接触後に反応させて生成物を得る場合には、
40〜130℃の温度域が好ましい。反応時の温度が4
0℃未満の場合は充分に反応が進行せず、結果として調
製された固体成分の性能が不充分となり、130℃を超
えると使用した溶媒の蒸発が顕著になるなどして、反応
の制御が困難になる。なお、反応時間は1分以上、好ま
しくは10分以上、より好ましくは30分以上である。
製する際の接触順序をより具体的に例示する。 (1)(a)→(d)→(b)→(c)→《中間洗浄→
(d)→(b)》→最終洗浄→固体触媒成分(A) (2)(a)→(d)→(c)→(b)→《中間洗浄→
(d)→(b)》→最終洗浄→固体触媒成分(A) (3)(a)→(d)→(b)→(c)→《中間洗浄→
(d)→(b)→(c)》→最終洗浄→固体触媒成分
(A) (4)(a)→(d)→(b)→(c)→《中間洗浄→
(d)→(c)→(b)》→最終洗浄→固体触媒成分
(A) (5)(a)→(d)→(c)→(b)→《中間洗浄→
(d)→(b)→(c)》→最終洗浄→固体触媒成分
(A) (6)(a)→(d)→(c)→(b)→《中間洗浄→
(d)→(c)→(b)》→最終洗浄→固体触媒成分
(A)
っこ(《 》)内の工程については、必要に応じ、複数
回繰り返し行なうことで一層活性が向上する。かつ
《 》内の工程で用いる成分(b)あるいは成分(d)
は、新たに加えたものでも、前工程の残留分のものでも
よい。また、上記各接触方法において、いずれかの時点
で、必要に応じアルミニウム化合物または有機酸の金属
塩またはポリシロキサンを接触させることもできる。更
に、上記(1)〜(6)で示した洗浄工程以外でも、各
接触段階で得られる生成物を、常温で液体の炭化水素化
合物で洗浄することもできる。
(A)の特に好ましい調製方法としては、ジアルコキシ
マグネシウム(a)を沸点50〜150℃の芳香族炭化
水素(d)に懸濁させ、次いでこの懸濁液に4価のチタ
ンハロゲン化合物(b)を接触させた後、反応処理を行
う。この際、該懸濁液に4価のチタンハロゲン化合物
(b)を接触させる前又は接触した後に、フタル酸ジエ
ステル(c)の1種あるいは2種以上を、−20〜13
0℃で接触させ、固体反応生成物(1)を得る。この
際、フタル酸ジエステルの1種あるいは2種以上を接触
させる前または後に、低温で熟成反応を行なうことが望
ましい。この固体反応生成物(1)を常温で液体の炭化
水素化合物で洗浄(中間洗浄)した後、再度4価のチタ
ンハロゲン化合物(b)を、芳香族炭化水素化合物の存
在下に、−20〜100℃で接触させ、反応処理を行
い、固体反応生成物(2)を得る。この際、固体反応生
成物に4価のチタンハロゲン化合物(b)を接触させる
前又は接触した後に、更にフタル酸ジエステル(c)の
1種あるいは2種以上を接触させることも好ましい態様
である。なお必要に応じ、中間洗浄及び反応処理を更に
複数回繰り返してもよい。次いで固体反応生成物(2)
を、常温で液体の炭化水素化合物で洗浄(最終洗浄)
し、固体触媒成分(A)を得る。
以下の通りである。 ・低温熟成反応:−20〜70℃、好ましくは−10〜
60℃、より好ましくは0〜30℃で、1分〜6時間、
好ましくは5分〜4時間、特に好ましくは10分〜3時
間。 ・反応処理:40〜130℃、好ましくは70〜120
℃、特に好ましくは80〜115℃で、0.5〜6時
間、好ましくは0.5〜5時間、特に好ましくは1〜4
時間。 ・洗浄:0〜110℃、好ましくは30〜100℃、特
に好ましくは30〜90℃で、1〜20回、好ましくは
1〜15回、特に好ましくは1〜10回。なお、洗浄の
際に用いる炭化水素化合物は、常温で液体の芳香族ある
いは飽和炭化水素が好ましく、具体的には、芳香族炭化
水素としてトルエン、キシレン、エチルベンゼンなど、
飽和炭化水素としてヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ンなどが挙げられる。好ましくは、中間洗浄では芳香族
炭化水素を、最終洗浄では飽和炭化水素を用いることが
望ましい。
の使用量比は、調製法により異なるため一概には規定で
きないが、例えばジアルコキシマグネシウム(a) 1モル
当たり、4価のチタンハロゲン化合物(b)が0.5〜
100モル、好ましくは0.5〜50モル、より好まし
くは1〜10モルであり、フタル酸ジエステル(c)が
0.01〜10モル、好ましくは0.01〜1モル、よ
り好ましくは0.02〜0.6モルであり、芳香族炭化
水素(d)が0.001〜500モル、好ましくは0.
001〜100モル、より好ましくは0.005〜10
モルである。
のチタン、マグネシウム、ハロゲン原子、フタル酸ジエ
ステルの含有量は特に規定されないが、好ましくは、チ
タンが1.0〜8.0重量%、好ましくは2.0〜8.
0重量%、より好ましくは3.0〜8.0重量%、マグ
ネシウムが10〜70重量%、より好ましくは10〜5
0重量%、特に好ましくは15〜40重量%、更に好ま
しくは15〜25重量%、ハロゲン原子が20〜80重
量%、より好ましくは30〜80重量%、特に好ましく
は40〜80重量%、更に好ましくは45〜75重量
%、またフタル酸ジエステルが合計0.5〜30重量
%、より好ましくは合計1〜25重量%、特に好ましく
は合計2〜20重量%である。
際に用いられる有機アルミニウム化合物(B)(以下単
に「成分(B)」ということがある。)としては、上記
一般式(1)で表される化合物であれば、特に制限され
ないが、R1 としては、エチル基、イソブチル基が好ま
しく、Qとしては、水素原子、塩素原子、臭素原子が好
ましく、pは、2又は3が好ましく、3が特に好まし
い。このような有機アルミニウム化合物(B)の具体例
としては、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニ
ウムクロライド、トリイソブチルアルミニウム、ジエチ
ルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムハイ
ドライドが挙げられ、1種あるいは2種以上が使用でき
る。好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウムである。
る際に用いられるハロゲン含有有機ケイ素化合物(C)
(以下単に「成分(C)」ということがある。)として
は、上記一般式(2)で表される化合物であれば、特に
制限されないが、R2 としては、1又は2の水素原子が
ハロゲンで置換された炭素数1〜4のアルキル基が好ま
しく、ClCH2 −基、Cl2 CH−基、BrCH2 −
基、Br2 CH−基、ClC2 H4 −基、Cl2 C2 H
3 −基、BrC2 H4 −基、及びBr2 C2 H 3 −基が
特に好ましく、qが2以上である場合には、R2 が同一
であることが好ましい。また、R3 としては、メチル
基、及びエチル基が好ましい。このようなハロゲン含有
有機ケイ素化合物としては、ハロゲン化アルキルトリア
ルコキシシラン、ジハロゲン化アルキルジアルコキシシ
ラン、トリハロゲン化アルキルアルコキシシランが挙げ
られが、このうち、ハロゲン化アルキルトリアルコキシ
シラン、及びジハロゲン化アルキルジアルコキシシラン
が好ましく、ハロゲン化アルキルトリアルコキシシラン
が特に好ましい。
3 、ClCH2 Si(OC2 H5 ) 3 、Cl2 CHSi
(OCH3 )3 、Cl2 CHSi(OC2 H5 )3 、B
rCH2 Si(OCH3 )3 、BrCH2 Si(OC2
H5 )3 、Br2 CHSi(OCH3 )3 、Br2 CH
Si(OC2 H5 )3 、ClC2 H4 Si(OCH3)
3 、ClC2 H4 Si(OC2 H5 )3 、Cl2 C2 H
3 Si(OCH3 )3、Cl2 C2 H3 Si(OC2 H
5 )3 、BrC2 H4 Si(OCH3 )3 、BrC2 H
4 Si(OC2 H5 )3 、Br2 C2 H3 Si(OCH
3 )3 、Br2C2 H3 Si(OC2 H5 )3 、(Cl
CH2 )2 Si(OCH3 )2 、(ClCH2 )2 Si
(OC2 H5 )2 、(Cl2 CH)2 Si(OCH3 )
2 、(Cl2 CH)2 Si(OC2 H5 )2 、(BrC
H2 )2 Si(OCH3 )2 、(BrCH2 )2 Si
(OC2 H5 )2 、(Br2 CH)2 Si(OCH3 )
2 、(Br2 CH)2 Si(OC2 H5 )2 、(ClC
2 H4 )2 Si(OCH3 ) 2 、(ClC2 H4 )2 S
i(OC2 H5 )2 、(Cl2 C2 H3 )2 Si(OC
H3 )2 、(Cl2 C2 H3 )2 Si(OC
2 H5 )2 、(BrC2 H4 )2Si(OCH3 )2 、
(BrC2 H4 )2 Si(OC2 H5 )2 、(Br2 C
2H3 )2 Si(OCH3 )2 、(Br2 C2 H3 )2
Si(OC2 H5 )2 、(ClCH2 )3 Si(OCH
3 )、(ClCH2 )3 Si(OC2 H5 )、(Cl2
CH)3 Si(OCH3 )、(Cl2 CH)3 Si(O
C2 H5 )、(BrCH2 )3 Si(OCH3 )、(B
rCH2 )3 Si(OC2 H5 )、(Br2CH)3 S
i(OCH3 )、(Br2 CH)3 Si(OC
2 H5 )、(ClC2H4 )3 Si(OCH3 )、(C
lC2 H4 )3 Si(OC2 H5 )、(Cl2C
2 H3 )3 Si(OCH3 )、(Cl2 C2 H3 )3 S
i(OC2 H5 )、(BrC2 H4 )3 Si(OC
H3 )、(BrC2 H4 )3 Si(OC2 H5 )、(B
r2 C2 H3 )3 Si(OCH3 )、(Br2 C
2 H3 )3 Si(OC2 H 5 )、であって、この中でも
ClCH2 Si(OCH3 )3 、ClCH2 Si(OC
2 H5 )3 、BrCH2 Si(OCH3 )3 、BrCH
2 Si(OC2 H5)3 、(ClCH2 )2 Si(OC
H3 )2 、(ClCH2 )2 Si(OC2 H 5 )2 、
(BrC2 H4 )2 Si(OCH3 )2 、(BrC2 H
4 )2 Si(OC2 H5 )2 が好ましく用いられ、Cl
CH2 Si(OC2 H5 )3 が特に好ましく用いられ
る。これらは、1種単独でまたは2種以上を併用して用
いることができる。
る際に用いられる有機ケイ素化合物(D)(以下単に
「成分(D)」ということがある。)としては、上記一
般式(3)で表される化合物であれば、特に制限されな
いが、R4 はメチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、シク
ロヘキシル基、シクロペンチル基、3−メチルシクロヘ
キシル基、4−メチルシクロヘキシル、及び3,5−ジ
メチルシクロヘキシル基が好ましく、R5 はメチル基及
びエチル基が好ましく、Xは塩素が好ましい。このよう
な有機ケイ素化合物としては、フェニルアルコキシシラ
ン、アルキルアルコキシシラン、フェニルアルキルアル
コキシシラン、シクロアルキルアルコキシシラン、シク
ロアルキルアルキルアルコキシシラン、トリアルコキシ
クロルシラン、トリアルコキシブロムシラン、ジアルコ
キシジクロルシラン、ジアルコキシジブロムシラン、ア
ルキルジアルコキシクロルシラン及びアルキルジアルコ
キシブロムシランを挙げることができる。
有機ケイ素化合物(D)としては、トリメチルメトキシ
シラン、トリメチルエトキシシラン、トリ−n−プロピ
ルメトキシシラン、トリ−n−プロピルエトキシシラ
ン、トリ−n−ブチルメトキシシラン、トリイソブチル
メトキシシラン、トリ−t−ブチルメトキシシラン、ト
リ−n−ブチルエトキシシラン、トリシクロヘキシルメ
トキシシラン、トリシクロヘキシルエトキシシラン、シ
クロヘキシルジメチルメトキシシラン、シクロヘキシル
ジエチルメトキシシラン、シクロヘキシルジエチルエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジ
イソプロピルジメトキシシラン、ジ−n−プロピルジエ
トキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、ジ−
n−ブチルジメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシ
シラン、ジ−t−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブ
チルジエトキシシラン、n−ブチルメチルジメトキシシ
ラン、ビス(2 −エチルヘキシル)ジメトキシシラン、
ビス(2 −エチルヘキシル)ジエトキシシラン、ジシク
ロペンチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジエト
キシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、ジシ
クロヘキシルジエトキシシラン、ビス(3 −メチルシク
ロヘキシル)ジメトキシシラン、ビス(4 −メチルシク
ロヘキシル)ジメトキシシラン、ビス(3,5 −ジメチル
シクロヘキシル)ジメトキシシラン、シクロヘキシルシ
クロペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルシクロ
ペンチルジエトキシシラン、シクロヘキシルシクロペン
チルジプロポキシシラン、3 −メチルシクロヘキシルシ
クロペンチルジメトキシシラン、4 −メチルシクロヘキ
シルシクロペンチルジメトキシシラン、3,5 −ジメチル
シクロヘキシルシクロペンチルジメトキシシラン、3 −
メチルシクロヘキシルシクロヘキシルジメトキシシラ
ン、4 −メチルシクロヘキシルシクロヘキシルジメトキ
シシラン、3,5 −ジメチルシクロヘキシルシクロヘキシ
ルジメトキシシラン、シクロペンチルメチルジメトキシ
シラン、シクロペンチルメチルジエトキシシラン、シク
ロペンチルエチルジエトキシシラン、シクロペンチル
(イソプロピル)ジメトキシシラン、シクロペンチル
(イソブチル)ジメトキシシラン、シクロヘキシルメチ
ルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジエトキシ
シラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シク
ロヘキシルエチルジエトキシシラン、シクロヘキシル
(n−プロピル)ジメトキシシラン、シクロヘキシル
(イソプロピル)ジメトキシシラン、シクロヘキシル
(n−プロピル)ジエトキシシラン、シクロヘキシル
(イソブチル)ジメトキシシラン、シクロヘキシル(n
−ブチル)ジエトキシシラン、シクロヘキシル(n−ペ
ンチル)ジメトキシシラン、シクロヘキシル(n−ペン
チル)ジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルメチルジメ
トキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、フェ
ニルエチルジメトキシシラン、フェニルエチルジエトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエ
トキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、イソ
プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキ
シシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、n−ブチ
ルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラ
ン、t−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエ
トキシシラン、2-エチルヘキシルトリメトキシシラン、
2-エチルヘキシルトリエトキシシラン、シクロペンチル
トリメトキシシラン、シクロペンチルトリエトキシシラ
ン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシ
ルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
及びテトラブトキシシランを挙げることができる。
ケイ素化合物(D)としては、トリメトキシクロルシラ
ン、トリエトキシクロロシラン、トリメトキシブロムシ
ラン、トリエトキシブロムシラン、ジメトキシジクロル
シラン、ジエトキシジクロルシラン、ジエトキシジブロ
ムシラン、ジエトキシジブロムシラン、メチルジメトキ
シクロルシラン、メチルジエトキシクロルシラン、メチ
ルジエトキシブロムシラン、メチルジエトキシブロムシ
ラン、エチルジメトキシクロルシラン、エチルジエトキ
シクロルシラン、エチルジエトキシブロムシラン、エチ
ルジエトキシブロムシラン、n−プロピルジメトキシク
ロルシラン、n−プロピルジエトキシクロルシラン、n
−プロピルジエトキシブロムシラン、n−プロピルジエ
トキシブロムシラン、イソプロピルジメトキシクロルシ
ラン、イソプロピルジエトキシクロルシラン、イソプロ
ピルジエトキシブロムシラン、イソプロピルジエトキシ
ブロムシラン、n−ブチルジメトキシクロルシラン、n
−ブチルジエトキシクロルシラン、n−ブチルジエトキ
シブロムシラン、n−ブチルジエトキシブロムシラン、
イソブチルジメトキシクロルシラン、イソブチルジエト
キシクロルシラン、イソブチルジエトキシブロムシラ
ン、イソブチルジエトキシブロムシラン、t−ブチルジ
メトキシクロルシラン、t−ブチルジエトキシクロルシ
ラン、t−ブチルジエトキシブロムシラン、t−ブチル
ジエトキシブロムシラン、n−ペンチルジメトキシクロ
ルシラン、n−ペンチルジエトキシクロルシラン、n−
ペンチルジエトキシブロムシラン、n−ペンチルジエト
キシブロムシラン、イソペンチルジメトキシクロルシラ
ン、イソペンチルジエトキシクロルシラン、イソペンチ
ルジエトキシブロムシラン、イソペンチルジエトキシブ
ロムシラン、ネオペンチルジメトキシクロルシラン、ネ
オペンチルジエトキシクロルシラン、ネオペンチルジエ
トキシブロムシラン、ネオペンチルジエトキシブロムシ
ラン、n−ヘキシルジメトキシクロルシラン、n−ヘキ
シルジエトキシクロルシラン、n−ヘキシルジエトキシ
ブロムシラン、n−ヘキシルジエトキシブロムシラン、
n−ヘプチルジメトキシクロルシラン、n−ヘプチルジ
エトキシクロルシラン、n−ヘプチルジエトキシブロム
シラン、n−ヘプチルジエトキシブロムシラン、n−オ
クチルジメトキシクロルシラン、n−オクチルジエトキ
シクロルシラン、n−オクチルジエトキシブロムシラ
ン、n−オクチルジエトキシブロムシラン、イソオクチ
ルジメトキシクロルシラン、イソオクチルジエトキシク
ロルシラン、イソオクチルジエトキシブロムシラン、イ
ソオクチルジエトキシブロムシラン、シクロヘキシルジ
メトキシクロルシラン、シクロヘキシルジエトキシクロ
ルシラン、シクロヘキシルジエトキシブロムシラン、シ
クロヘキシルジエトキシブロムシラン、シクロペンチル
ジメトキシクロルシラン、シクロペンチルジエトキシク
ロルシラン、シクロペンチルジエトキシブロムシラン、
シクロペンチルジエトキシブロムシランが挙げられ、1
種あるいは2種以上が使用できる。
ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジイソプロピルジ
メトキシシラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ
イソブチルジメトキシシラン、ジ−t−ブチルジメトキ
シシラン、ジ−n−ブチルジエトキシシラン、t−ブチ
ルトリメトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシ
ラン、ジシクロヘキシルジエトキシシラン、シクロヘキ
シルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジ
エトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラ
ン、シクロヘキシルエチルジエトキシシラン、ジシクロ
ペンチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジエトキ
シシラン、シクロペンチルメチルジメトキシシラン、シ
クロペンチルメチルジエトキシシラン、シクロペンチル
エチルジエトキシシラン、シクロヘキシルシクロペンチ
ルジメトキシシラン、シクロヘキシルシクロペンチルジ
エトキシシラン、3−メチルシクロヘキシルシクロペン
チルジメトキシシラン、4−メチルシクロヘキシルシク
ロペンチルジメトキシシラン、3,5−ジメチルシクロ
ヘキシルシクロペンチルジメトキシシラン、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、トリエトキシクロ
ロシラン、ジエトキシジクロルシラン、メチルジメトキ
シクロルシラン、メチルジエトキシクロルシラン、n−
ブチルジエトキシクロルシラン、t−ブチルジメトキシ
クロルシラン、t−ブチルジエトキシクロルシラン、シ
クロヘキシルジメトキシクロルシラン、シクロペンチル
ジメトキシクロルシランが好ましく、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、メチルジメトキシクロロ
シランが特に好ましい。
にオレフィン類の重合もしくは共重合を行う。オレフィ
ン類としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、ビニルシクロ
ヘキサン等であり、これらのオレフィン類は1種あるい
は2種以上併用することができる。とりわけ、エチレ
ン、プロピレン及び1−ブテンが好適に用いられる。特
に好ましくはプロピレンである。プロピレンの重合の場
合、他のオレフィン類との共重合を行うこともできる。
共重合されるオレフィン類としては、エチレン、1−ブ
テン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、ビニ
ルシクロヘキサン等であり、これらのオレフィン類は1
種あるいは2種以上併用することができる。とりわけ、
エチレン及び1−ブテンが好適に用いられる。
を及ぼすことのない限り任意であり、特に限定されるも
のではないが、通常成分(B)は成分(A)中のチタン
原子1モル当たり、1〜2000モル、好ましくは50
〜1000モルの範囲で用いられる。成分(C)及び成
分(D)は合計で、(B)成分1モル当たり、0.00
2〜10モル、好ましくは0.01〜2モル、特に好ま
しくは0.01〜0.5モルの範囲で用いられる。
内にまず有機アルミニウム化合物(B)を装入し、次い
で有機ケイ素化合物(C)及び(D)を接触させ、更に
固体触媒成分(A)を接触させることが望ましい。ある
いは重合系内にまず有機アルミニウム化合物(B)を装
入し、ここに成分(A)と成分(C)及び(D)を予め
接触させ、これを重合系内に装入接触させ触媒を形成す
ることを特徴とすることも好ましい態様である。このよ
うに予め成分(A)と成分(C)及び(D)を接触させ
処理するこによって、触媒の対水素活性をより向上させ
ることが可能となる。成分(C)及び成分(D)は予め
混合してもそれぞれ単独で接触させてもよいが、好まし
くは予め混合して用いることが望ましい。このときの成
分(C)と成分(D)の混合比率は任意であるが、成分
(C):成分(D)(モル比)で10:90〜90:1
0であることが好ましい。
在下でも不存在下でも行うことができ、またプロピレン
等のオレフィン単量体は、気体及び液体のいずれの状態
でも用いることができる。重合温度は200℃以下、好
ましくは100℃以下であり、重合圧力は10MPa以
下、好ましくは5MPa以下である。また、連続重合
法、バッチ式重合法のいずれでも可能である。更に重合
反応を1段で行ってもよいし、2段以上で行ってもよ
い。
(B)、成分(C)及び成分(D)より成る触媒を用い
てオレフィンを重合するにあたり(本重合ともい
う。)、触媒活性、立体規則性及び生成する重合体の粒
子性状等を一層改善させるために、本重合に先立ち予備
重合を行うことが望ましい。予備重合の際には、本重合
と同様のオレフィン類あるいはスチレン等のモノマーを
用いることができる。具体的には、オレフィン類の存在
下に成分(A)、成分(B)、成分(C)及び成分
(D)を接触させ、成分(A)1gあたり0.1〜10
0gのポリオレフィンを予備的に重合させ、さらに成分
(B)を接触させ触媒を形成する。
マーの接触順序は任意であるが、好ましくは、不活性ガ
ス雰囲気あるいはプロピレンなどの重合を行うガス雰囲
気に設定した予備重合系内にまず成分(B)を装入し、
次いで成分(A)を接触させた後、プロピレン等のオレ
フィン及び/または1種あるいは2種以上の他のオレフ
ィン類を接触させる。成分(C)及び成分(D)を組み
合わせて予備重合を行う場合は、不活性ガス雰囲気ある
いはプロピレンなどの重合を行うガス雰囲気に設定した
予備重合系内にまず成分(B)を装入し、次いで成分
(C)及び(D)を接触させ、更に固体触媒成分(A)
を接触させた後、プロピレン等のオレフィン及び/また
は1種あるいはその他の2種以上のオレフィン類を接触
させる方法、または不活性ガス雰囲気あるいはプロピレ
ンなどの重合を行うガス雰囲気に設定した予備重合系内
にまず成分(B)を装入し、次いで予め成分(A)と成
分(C)及び(D)を接触させ、これを予備重合系内に
装入する方法が望ましい。
で、オレフィン類の重合を行った場合、従来の触媒を使
用した場合に較べ、同じ水素量で生成ポリマーのメルト
フローレイト(MI)が数十倍に向上しており、更に触
媒活性及び生成ポリマーの立体規則性も従来の触媒と同
等の性能を示す。すなわち、本発明の触媒をオレフィン
類の重合に用いると、活性及びポリマーの立体規則性を
高度に維持しつつ、かつ飛躍的に対水素活性が改善され
るという作用が確認された。
に説明するが、これは単に例示であって、本発明を制限
するものではない。
触媒を用いてプロピレンのバルク重合評価を行い、固体
触媒成分当たりの生成ポリマー量(重合活性:Yiel
d)及び生成重合体を高温ソックスレー抽出器にて沸騰
n−ヘプタンで6時間抽出した際の、n−ヘプタンに不
溶解の重合体の存在割合(HI)を測定した。Yiel
d及びHIは、下記の(4)及び(5)式より算出し
た。更に、生成重合体のメルトフローレイト(MI)、
嵩密度(BD)を測定した。MI及びBDの測定方法は
それぞれJIS K 7210及びJIS K 672
1に準拠した。 Yield(g-PP/g-cat. )=a(g)/固体触媒成分(g) (4) HI(重量%)={b(g)/a(g)}×100 (5) 上記(4)及び(5)式において、aは重合反応終了後
に生成した重合体の重量を示し、bは重合反応終了後に
生成した重合体を沸騰n−ヘプタンで6時間抽出した際
の、n−ヘプタン不溶解分の重量を示す。
分に置換された、容量2000mlの丸底フラスコに、
ジエトキシマグネシウム150g及びトルエン750m
lを装入し、懸濁状態とした。次いで、該懸濁液を、撹
拌機を具備し、窒素ガスで充分に置換された、容量20
00mlの丸底フラスコに予め装入されたトルエン45
0ml及びチタンテトラクロライド300mlの溶液中
に、添加した。次いで該懸濁液を、5℃で1時間反応さ
せた(低温熟成処理)。その後フタル酸ジ−n−ブチル
22.5mlを添加して、90℃まで昇温した後、撹拌
しながら2時間反応処理(第1処理)を行った。反応終
了後、生成物を80℃のトルエン1300mlで4回洗
浄(中間洗浄)し、新たにトルエン1200ml及びチ
タンテトラクロライド300mlを加えて、撹拌しなが
ら112℃で2時間の反応処理(第2処理)を行った。
この後、中間洗浄及び第2処理を、更にもう一度繰り返
した。次いで、生成物を40℃のヘプタン1300ml
で7回洗浄し、濾過、乾燥して、粉末状の固体触媒成分
(A)を得た。この固体触媒成分中のチタン含有量を測
定したところ、3.74重量%であった。
置換された、内容積2200ml の撹拌装置付きオート
クレーブ内に、先ず、トリエチルアルミニウム1.3m
molを装入し、次いでチタン原子として0.0026
mmol相当量の上記固体触媒成分とClCH2 Si
(OC 2 H5 )3 0.065mmolとテトラエトキシ
シラン0.065mmolを装入して撹拌処理し、重合
触媒を形成した。その後、水素ガス2000ml 、液化
プロピレン1400ml を装入し、20℃で5分間予備
重合を行い、その後本重合を70℃で1時間行った。重
合評価結果を表1に示す。
トラメトキシシラン0.065mmolを用いた以外は
実施例1と同様に実験を行った。得られた結果を表1に
示す。
メトキシメチルクロロシラン0.065mmolを用い
た以外は実施例1と同様に実験を行った。得られた結果
を表1に示す。
びテトラエトキシシラン0.065mmolの代わりに
シクロヘキシルメチルジメトキシシラン0.13mmo
lを用いた以外は実施例1と同様に実験を行った。得ら
れた結果を表1に示す。
びテトラエトキシシラン0.065mmolの代わりに
シクロヘキシルメチルジメトキシシランを0.065m
molおよびジエトキシジクロロシラン0.065mm
olを用いた以外は実施例1と同様に実験を行った。得
られた結果を表1に示す。
びテトラエトキシシラン0.065mmolの代わりに
シクロヘキシルメチルジメトキシシランを0.065m
molおよびトリエトキシクロルシラン0.065mm
olを用いた以外は実施例1と同様に実験を行った。得
られた結果を表1に示す。
記一般式(2)で表されるハロゲン含有ケイ素化合物及
び上記一般式(3)で表される有機ケイ素化合物を用い
ると、対水素活性が飛躍的に向上することがわかる。
を有し、本発明の重合触媒を用いてオレフィン類を重合
することにより、極めて高メルトフローレイトでかつ、
高立体規則性を有するオレフィン重合体を高収率で得る
ことができる。これにより、設備改善や使用水素量増加
などによるコストの増加、あるいは生産性低下などの問
題を解決し得る。
を示すフローチャート図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 (A)ジアルコキシマグネシウム
(a)、4価のチタンハロゲン化合物(b)およびフタ
ル酸ジエステル(c)を沸点が50〜150℃の芳香族
炭化水素(d)中で接触させることにより調製される固
体触媒成分、(B)下記一般式(1); R1 p AlQ3-p (1) (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、Qは
水素原子あるいはハロゲン原子を示し、pは0<p≦3
の実数である。)で表される有機アルミニウム化合物、
(C)下記一般式(2); R2 q Si( OR3)4-q (2) (式中、R2 は炭素数1〜12の直鎖状あるいは分岐鎖
状のアルキル基の1つあるいは2つの水素原子がハロゲ
ン原子に置換したものであって、同一または異なってい
てもよく、R3 は炭素数1〜4のアルキル基、シクロア
ルキル基、フェニル基、ビニル基、アリル基、アラルキ
ル基を示し、同一または異なっていてもよく、qは1≦
q≦3の整数である。)で表されるハロゲン含有有機ケ
イ素化合物、及び(D)下記一般式(3); R4 r Si( OR5 )4-r-s Xs (3) (式中、R4 は炭素数1〜12のアルキル基、シクロア
ルキル基、フェニル基、ビニル基、アリル基、アラルキ
ル基のいずれかで、同一または異なっていてもよく、R
5 は炭素数1〜4のアルキル基、シクロアルキル基、フ
ェニル基、ビニル基、アリル基、アラルキル基を示し、
同一または異なっていてもよく、Xは塩素、臭素、ヨウ
素から選ばれるハロゲン原子を示し、rは0又は1〜3
の整数、sは0、1又は2であり、0≦r+s≦3であ
る。)で表される有機ケイ素化合物から形成されること
を特徴とするオレフィン類重合用触媒。 - 【請求項2】 前記ジアルコキシマグネシウムがジエト
キシマグネシウムであることを特徴とする請求項1に記
載のオレフィン類重合用触媒。 - 【請求項3】 前記ハロゲン含有有機ケイ素化合物がハ
ロゲン化アルキルトリアルコキシシランまたはジハロゲ
ン化アルキルジアルコキシシランであることを特徴とす
る請求項1に記載のオレフィン類重合用触媒。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003064119A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Toho Titanium Co Ltd | オレフィン類重合用触媒 |
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