JP2002170751A - 基板処理装置の排気ダクトにおけるクリーニング機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オリフィス付の排気管内のローラの回転が常
時安定に行なわれる基板処理装置の排気ダクトにおける
クリーニング機構を提供すること。 【解決手段】 基板処理装置の内部に連通する排気ダク
ト１１に、オリフィスを有し、前記オリフィスに相対向
し電動機２０で回転駆動される一対のローラ１４ａ、１
４ｂを設け、前記ローラ１４ａ、１４ｂに付着する反応
生成物ｍを前記オリフィスに設けた掻取手段ｈにより掻
取るようにした基板処理装置の排気ダクトにおけるクリ
ーニング機構において、前記電動機２０又は前記ローラ
１４ａ、１４ｂのいずれか一方又は両者の回転速度を検
出する回転速度検出手段２２を設け、前記回転速度検出
手段２２の検出出力が所定の回転速度より低下すると、
警報手段を駆動するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板処理装置の排気
ダクトにおけるクリーニング機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】特許第３０８３３９７号公報に記載の
「配管クリーニング機構」によれば、成膜装置内に連通
する配管内にブラシ体を摺接可能に設け、この往復動に
より配管内に付着する反応生成物を除去せんとしている
が、この除去時には、成膜装置の作業は停止される。従
って、管壁に付着する反応生成物を除去するためにブラ
シ体を常時稼動することはできない。

【０００３】次に、特開平５−２６３２４８号公報に記
載の「配管クリーニング機構」によれば、反応炉内に連
通する排気管もしくは排気ダクトの外壁に少なくとも１
個の超音波振動子を取り付け、これを定期的に駆動させ
て付着する反応生成物品を除去するものであるが、超音
波振動子により配管クリーニングを行なう場合、成膜作
業自体は行なわない。また付着する反応生成物の塊の大
きさや付着力によっては、相当大きなエネルギーを必要
とするので、コスト高となろう。

【０００４】次に特許第２７４５８１９号公報に記載の
「気相膜成長装置」によれば、成長炉内に連通する排気
ダクト内にオリフィスを設けて排気速度を高めている。
この場合には、上記公報とは違って、成長炉の作業を停
止させることなく、常に成膜効率及び排気効率を高める
ものであるが、反応生成物がこのオリフィスに付着する
場合の対策については何ら記載されていない。

【０００５】然るに一方、本出願人は、先に排気ダクト
内にオリフィスを設け排気速度を高めると共に、これに
付着する反応生成物を除去するために一対の回転ローラ
を設けて、これに付着する反応生成物を除去するために
オリフィスに設けた掻き取り部で、ローラの回転と共に
付着した反応生成物を掻き取って、このオリフィスが目
詰まりしないようにしている。然しながら場合によって
は、フレーク状の反応生成物が堆積してきて、終にはこ
のローラの回転を停止させる場合がある。この場合に
は、基板処理装置内の排気が充分に行なわれないか、全
く行なわれなくなる。基板処理効率は低下し、また排気
すべきガスが周囲に悪影響を及ぼす。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の問題点
に鑑みてなされ、排気ダクトの排気速度を高めながら、
常時排気効率を向上させて周囲には悪影響を及ぼすこと
のない基板処理装置の排気ダクトにおけるクリーニング
機構を提供することを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】以上の課題は、基板処理
装置の内部に連通する排気ダクトに、オリフィスを有
し、前記オリフィスに相対向し電動機で回転駆動される
一対のローラを設け、前記ローラに付着する反応生成物
を前記オリフィスに設けた掻取手段により掻取るように
した基板処理装置の排気ダクトにおけるクリーニング機
構において、前記電動機又は前記ローラのいずれか一方
又は両者の回転速度を検出する回転速度検出手段を設
け、前記回転速度検出手段の検出出力が所定の回転速度
より低下すると、警報手段を駆動するようにしたことを
特徴とする基板処理装置の排気ダクトにおけるクリーニ
ング機構、によって解決される。

【０００８】以上の構成により、反応生成物がローラに
付着し、この反応生成物の掻き取りが不充分になってオ
リフィスが閉塞状態もしくはこれに近い状態になってロ
ーラが停止しそうになると、これを作業者に報知して未
然にオリフィスでの反応生成物の目詰まりによる悪影響
を防止することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、図面を参照して説明する。図１は本発明の実施の形
態が適用される常圧ＣＶＤ装置の全体を示すが、プロセ
スチャンバもしくは基板処理室１０内に連通して排気ダ
クト１１が接続され、この出口には排気手段１２が設け
られている。図２に示すように、排気ダクト１１内には
一対の山形の突起部１３ａ、１３ｂが形成されており、
（下側がプロセスチャンバ側、上側が除害設備側）これ
らにそれぞれ形成されるほぼ円筒形の凹所に一対のロー
ラ１４ａ、１４ｂが回転可能に配設されており、この回
転軸１５ａ、１５ｂは図３に示すように排気ダクト１１
の一側壁部に設けた各ベアリングに支持され外方に突出
する部分にはギア１６ａ、１６ｂが固定されている。一
方の回転軸１５ａの外端部には大ギア１８が固定されて
おり、これに小ギア１９が係合している。この小ギア１
９は電動機２０の回転軸２１に固定され、さらにこの端
部には本発明に関わる回転速度検出装置２２が設けられ
ている。

【００１０】図２において突出部１３ａ、１３ｂの頂部
には、掻き取り部ｈが形成されており、ローラ１４ａ、
１４ｂが矢印に示す方向に回転するが、掻き取り部ｈに
至るとこれに付着した反応生成物ｍはこれにより掻き取
られるように構成されている。次に図４を参照して本発
明に係わる回転速度検出装置２２について説明する。図
４Ａで示すように、電動機２０の近傍の図示しない静止
体に固定されているフレーム２２の垂下アーム部２２
ａ、２２ｂには貫通穴Ｓが形成されており、これらを挟
んで対向するように発光素子２４及び受光素子２５が配
設されている。垂下アーム部２２ａ、２２ｂの間に図４
Ｂで示すような円板２３が配設されており、円板２３の
周縁部には９０度間隔でスリット２３ａ、２３ｂ、２３
ｃ、２３ｄが形成されている。円板２３は電動機２０の
回転軸２１に固定されている。図５は本発明の実施の形
態の動作モードを示すが、ステップａで上記回転速度検
出装置２２よりスリット２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３
ｄにより９０度回転する時間が計測され、これが設定時
間以内かどうか判断されてＹＥＳであれば再び回転時間
が計測され、ＮＯであればブザー駆動出力をＯＮとして
警報を発するようにしている。さらに本発明の実施の形
態によれば、ステップａにおける回転時間計測と同時に
それまでの回転時間と比較して、最大回転時間が表示部
３０に表示させるようにしている。

【００１１】本発明の実施の形態は以上のように構成さ
れるが、次にこの作用について説明する。図２を参照し
て反応生成物ｍが図示するようにローラ１４ａ、１４ｂ
の周面に付着するのであるが、この図は誇張して示さ
れ、実際にはさらにこのオリフィスの径は小さいもので
ある。したがってこのようなクリーニング機構が設けら
れているとしても、フレーク状の反応生成物ｍの大きさ
やその特性によっては掻き取り部ｈで除去することがで
きず掻き取り部ｈにも付着する場合があり、長期の使用
に亘ってローラ１４ａ、１４ｂの化学的な腐食などもあ
り、さらに反応生成物ｍが付着し易くなって、ついには
このオリフィスが閉塞するか閉塞状態に近くなることが
ある。他方、電動機２０の回転速度は、回転速度検出装
置２２により計測されているのであるが、本実施の形態
によれば、円板２３の周縁部に形成した４つのスリット
もしくは切欠２３ａ、２３ｂ、２３ｃ及び２３ｄを通る
光が遮断されるたびにパルスが得られるが、このパルス
間の時間が計測される。一回転に４回計測されるのであ
るが、これがステップａにおける回転時間計測であり、
このルーティンを回るごとに計測され、それまでに計測
した時間と比較して現ルーティンにおける回転時間が最
も長ければ、これを表示部３０で表示させるようにして
いる。例えば図６で示すように現在までの最大回転時間
が１．２５２ｍｓｅｃと表示される。回転時間は時々刻
々変化するものであるが、先に得た回転時間より大きく
ならなければ、これより大きい回転時間が計測されるま
で先に得た最大値が常時表示部３０で表示されることに
なり、チラチラすることなく見やすくしている。さら
に、このオリフィス部における目詰まりの程度がどのよ
うに変化しているかも察知することができる。目詰まり
がひどくなると、ついにはローラ１４ａ、１４ｂの回転
速度が著しく低下し、図５で示すフローチャートで「回
転時間は設定時間以内か？」とのステップｂにおいて、
ついにはこの設定時間以内でなくなる、つまり回転速度
が設定回転速度よりも小さくなって、ステップｃでブザ
ー駆動出力をオンとする。よってブザーを鳴らし、作業
者に目詰まりが起こり、ついに使用に耐えない程にロー
ラ１４ａ、１４ｂの回転速度が落ちたことを知らせる。
以上により、ローラ１４ａ、１４ｂが停止する前に作業
者に目詰まりが著しくなったことを知らせ、排気効率が
極端に低下して周囲に悪影響を及ぼすことを未然に防止
することができる。

【００１２】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。例
えば以上の実施の形態においては、図６において現時点
までの最大回転時間を表示させるようにしたが、これに
代えて最小の回転速度を表示させるようにしてもよい。
この場合には単位がｍｓｅｃの代わりに例えばｒ．ｐ．
ｍが用いられる。また以上の実施の形態には円板２３に
９０度間隔でスリット２３ａ、２３ｂ、２３ｃ及び２３
ｄを形成して、速度又は回転時間を精密に測定するよう
にしたが、これは一個であってもよい。あるいは、更に
多数個形成させるようにしてもよい。この場合には、更
に回転変化が精密に観測される。またスリットに代えて
円形開口としてもよい。以上の実施の形態においては、
発光素子２４と受光素子２５によって回転時間を検出す
るようにしたが、これに代えて円板２３に近接して近接
スイッチを設け、この出力により円板２３の回転速度又
は回転時間を計測するようにしてもよい。また以上の基
板処理装置としては常圧ＣＶＤ装置を用いたが、もちろ
んこれに限ることなく例えば何らかの成膜を施すような
反応装置全てに適用可能である。また以上の実施の形態
においては、現時点よりも先の計測値で最低値を表示さ
せるようにしたが、これに限ることなく現時点での回転
速度又は回転時間をそのまま表示させるようにしてもよ
い。また上記発明の実施の形態においては、警報手段は
ブザーとしたが、これに代えて赤ランプであってもよ
い。また以上の実施の形態において、ブザー駆動出力で
電動機２０の電源を遮断するようにしてもよい。また基
板処理装置による処理作業を停止させるようにしてもよ
い。また、以上の実施の形態では電動機２０の回転軸２
１の先端部に円板を取り付け、これにより回転速度を検
出するようにしたが、これに代えてローラ１４ａ、１４
ｂのいずれかの回転軸１５ａ、１５ｂに上述のような回
転速度検出装置２２を設けるようにしてもよい。

【００１３】

【発明の効果】以上述べたように発明の基板処理装置の
排気ダクトにおけるクリーニング機構によれば、基板処
理装置からの排気の排気速度を大きくしながら、オリフ
ィスに設けた一対のローラ上に付着する反応生成物によ
るオリフィスでの排気効率の大きな低下を未然に防止す
ることができ、また基板処理装置内で発生する排気ガス
が周囲に悪影響を及ぼすことを防止する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態が適用される基板処理装置
の概略正面図である。

【図２】図１における排気ダクトの一部拡大断面図であ
る。

【図３】同排気ダクト内に設けられる一対のローラと電
動機との間に介在する伝達機構を示す拡大断面図であ
る。

【図４】回転時間計測装置を示し、Ａはその全体の縦断
面図。Ｂは円板の正面図である。

【図５】本発明の実施の形態の作用を示すフローチャー
トである。

【図６】表示部の正面図である。

【符号の説明】

１０……基板処理室、１１……排気ダクト、１３ａ、１
３ｂ……突出部、１４ａ、１４ｂ……ローラ、２０……
電動機、 ２２……回転速度検出装置。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板処理装置の内部に連通する排気ダク
   トに、オリフィスを有し、前記オリフィスに相対向し電
   動機で回転駆動される一対のローラを設け、前記ローラ
   に付着する反応生成物を前記オリフィスに設けた掻取手
   段により掻取るようにした基板処理装置の排気ダクトに
   おけるクリーニング機構において、前記電動機又は前記
   ローラのいずれか一方又は両者の回転速度を検出する回
   転速度検出手段を設け、前記回転速度検出手段の検出出
   力が所定の回転速度より低下すると、警報手段を駆動す
   るようにしたことを特徴とする基板処理装置の排気ダク
   トにおけるクリーニング機構。
2. 【請求項２】 前記回転速度検出手段は、等角度間隔で
   周縁部にスリット又は開口を複数個形成させた円板と、
   前記円板の周縁部の両側に配設された発光素子と受光素
   子とで成り、前記円板は前記電動機の回転軸又は前記ロ
   ーラの回転軸に取り付けられていることを特徴とする請
   求項１に記載の基板処理装置の排気ダクトにおけるクリ
   ーニング機構。
3. 【請求項３】 常時、前記回転速度検出手段の検出出力
   をデジタル値で表示させるようにし、現時点で、それま
   での最低の回転速度を表示させるようにしたことを特徴
   とする請求項１又は２に記載の基板処理装置の排気ダク
   トにおけるクリーニング機構。