JP2002170680A - 炭化水素化合物および有機電界発光素子 - Google Patents
炭化水素化合物および有機電界発光素子Info
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Abstract
電界発光素子、およびそれに適した新規炭化水素化合物
を提供すること。 【解決手段】 一般式(1−A)で表される化合物およ
び該化合物を使用する電界発光素子。 【化1】 (式中、X1〜X24はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。)
Description
および該発光素子に好適に使用できる新規な炭化水素化
合物に関する。
ックライトなどのパネル型光源として使用されてきた
が、該発光素子を駆動させるには、交流の高電圧が必要
である。最近になり、発光材料に有機材料を用いた有機
電界発光素子(有機エレクトロルミネッセンス素子:有
機EL素子)が開発された[Appl.Phys.Lett.,51,913(19
87)]。
含む薄膜を、陽極と陰極間に挟持された構造を有し、該
薄膜に電子および正孔(ホール)を注入して、再結合さ
せることにより励起子(エキシトン)を生成させ、この
励起子が失活する際に放出される光を利用して発光する
素子である。有機電界発光素子は、数V〜数十V程度の
直流の低電圧で、発光が可能であり、また蛍光性有機化
合物の種類を選択することにより種々の色(例えば、赤
色、青色、緑色)の発光が可能である。このような特徴
を有する有機電界発光素子は、種々の発光素子、表示素
子等への応用が期待されている。しかしながら、一般
に、発光輝度が低く、実用上十分ではない。
として、例えば、トリス(8−キノリノラート)アルミ
ニウムをホスト化合物、クマリン誘導体、ピラン誘導体
をゲスト化合物(ドーパント)として用いた有機電界発
光素子が提案されている[J.Appl.Phys.,65,3610(198
9)]。また、発光層として、例えば、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)
アルミニウムをホスト化合物、アクリドン誘導体(例え
ば、N−メチル−2−メトキシアクリドン)をゲスト化
合物として用いた有機電界発光素子が提案されている
(特開平8−67873号公報)。
発光輝度を有しているとは言い難い。現在では、一層高
輝度に発光する有機電界発光素子が望まれている。
効率に優れ、高輝度に発光する有機電界発光素子を提供
することである。さらには、該発光素子に好適に使用で
きる新規な炭化水素化合物を提供することである。
発光素子に関して鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち本発明は、 一対の電極間に、ベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フ
ルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-l
m]ペリレン誘導体を少なくとも一種含有する層を、少な
くとも一層挟持してなる有機電界発光素子を提供する。
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体を含有する層が、さらに、発光性有機金属
錯体を含有することを特徴とする前記または記載の
有機電界発光素子は、本発明の好ましい態様である。
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体を含有する層が、さらに、トリアリールア
ミン誘導体を含有することを特徴とする前記または
記載の有機電界発光素子も、好ましい態様である。
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体を含有する層が、発光層である前記〜
のいずれかに記載の有機電界発光素子は、本発明の好ま
しい態様である。
層を有する前記に記載の有機電界発光素子も、本発明
の好ましい態様である。
層を有する前記〜のいずれかに記載の有機電界発光
素子も、本発明の好ましい態様である。
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体が、一般式(1−A)で表される化合物で
ある前記〜のいずれかに記載の有機電界発光素子
は、本発明の好ましい態様である。
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換または
未置換のアリール基を表す。)
表される化合物を提供する。
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換または
未置換のアリール基を表す。)
明する。本発明の有機電界発光素子は、一対の電極間
に、ベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオランテノ
[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペリレン誘
導体を少なくとも一種含有する層を少なくとも一層挟持
してなるものである。
cd]フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,
2,3-lm]ペリレン誘導体(以下、本発明に係る化合物A
と略記する)とは、一般式(1)で表される骨格を有す
る化合物を表すものである。
換基で置換されていてもよく、本発明に係る化合物A
は、好ましくは、一般式(1−A)で表される化合物で
ある。
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。)
て、X1〜X24はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン
原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐
または環状のアルコキシ基、あるいは、置換または未置
換のアリール基を表す。
ば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環式芳香族基、
例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基などの複素
環式芳香族基を表す。
て、好ましくは、X1〜X24は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル
基、炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルコキ
シ基、あるいは炭素数4〜20の置換または未置換のア
リール基を表す。
ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子などのハロゲン原子が挙げられる。
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n
−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert
−ペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル
基、4−メチル−2−ペンチル基、3,3−ジメチルブ
チル基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、1−メ
チルヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、n−オクチ
ル基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−
エチルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、n−ノニ
ル基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル
−4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル
基、n−デシル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシ
ル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、1−ヘキシ
ルヘプチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル
基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オ
クタデシル基、n−エイコシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−
tert−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シ
クロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル
基を挙げることができる。
キシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−
ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペン
チルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、3,3−ジメチ
ルブチルオキシ基、2−エチルブチルオキシ基、シクロ
ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチ
ルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニル
オキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ
基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、
n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ
基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキ
シ基、n−オクタデシルオキシ基、n−エイコシルオキ
シ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基を挙げ
ることができる。
ルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェ
ニル基、4−エチルフェニル基、4−n−プロピルフェ
ニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチル
フェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−tert−ブ
チルフェニル基、4−イソペンチルフェニル基、4−te
rt−ペンチルフェニル基、4−n−ヘキシルフェニル
基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−n−ヘプチル
フェニル基、4−n−オクチルフェニル基、4−n−ノ
ニルフェニル基、4−n−デシルフェニル基、4−n−
ウンデシルフェニル基、4−n−ドデシルフェニル基、
4−n−テトラデシルフェニル基、2,3−ジメチルフ
ェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメ
チルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4
−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、
3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,5,6−
テトラメチルフェニル基、5−インダニル基、1,2,
3,4−テトラヒドロ−5−ナフチル基、1,2,3,
4−テトラヒドロ−6−ナフチル基、2−メトキシフェ
ニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニ
ル基、3−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル
基、4−n−プロポキシフェニル基、4−イソプロポキ
シフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、4−イソ
ブトキシフェニル基、4−n−ペンチルオキシフェニル
基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、4−シクロヘ
キシルオキシフェニル基、4−n−ヘプチルオキシフェ
ニル基、4−n−オクチルオキシフェニル基、4−n−
ノニルオキシフェニル基、4−n−デシルオキシフェニ
ル基、4−n−ウンデシルオキシフェニル基、4−n−
ドデシルオキシフェニル基、4−n−テトラデシルオキ
シフェニル基、2,3−ジメトキシフェニル基、2,4
−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル
基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキ
シフェニル基、3,5−ジエトキシフェニル基、2−メ
トキシ−4−メチルフェニル基、2−メトキシ−5−メ
チルフェニル基、2−メチル−4−メトキシフェニル
基、3−メチル−4−メトキシフェニル基、3−メチル
−5−メトキシフェニル基、2−フルオロフェニル基、
3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2
−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロ
ロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−トリフルオ
ロメチルフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、
2,4−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニ
ル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メチル−4−
クロロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフェニル
基、3−クロロ−4−メチルフェニル基、2−クロロ−
4−メトキシフェニル基、3−メトキシ−4−フルオロ
フェニル基、3−メトキシ−4−クロロフェニル基、3
−フルオロ−4−メトキシフェニル基、4−フェニルフ
ェニル基、3−フェニルフェニル基、4−(4’−メチ
ルフェニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニ
ル)フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4
−メチル−1−ナフチル基、4−エトキシ−1−ナフチ
ル基、6−n−ブチル−2−ナフチル基、6−メトキシ
−2−ナフチル基、7−エトキシ−2−ナフチル基、2
−フリル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−ピ
リジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基などの置換
または未置換のアリール基を挙げることができる。
塩素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜1
0のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜12のアリー
ル基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原
子、塩素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜
6のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜10のアリー
ル基である。
ンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオランテノ[3',4':5,
6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペリレン誘導体を少な
くとも一種使用することが特徴であり、例えば、ベンゾ
[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオランテノ[3',4':5,6,7]
−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペリレン誘導体を発光成分
として発光層に用いると、従来にはない、高輝度で耐久
性に優れた赤色に発光する有機電界発光素子を提供する
ことが可能となる。
を形成すると、高輝度で耐久性に優れた白色に発光する
有機電界発光素子も提供することが可能となる。
以下のA−1〜A−35、B−1〜B−10、C−1〜
C−62、D−1〜D−18およびE−1〜E−24の
化合物を例示することができるが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
(1−A)で表される化合物は、例えば、以下の方法に
より製造することができる。すなわち、下記一般式
(2)で表される3−(ベンゾ[k]フルオランテン−
3’−イル)ナフト[1',8':5,6,7]−s−インダセノ[1,
2,3-cd]フルオランテン誘導体を、酸化剤(例えば、塩
化アルミニウム/塩化第二銅、塩化アルミニウム/塩化
ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タリ
ウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄)の存在下で反応さ
せて閉環する〔例えば、J.Amer.Chem.Soc.,102,6504(19
80)、Chem.Rev.,87,357(1987)に記載の方法を参考にす
ることができる〕ことにより製造することができる。
意味を表す。)
ば、下記一般式(3)で表されるホウ酸化合物を、下記
一般式(4)で表される3−ハロゲノナフト[1',8':5,
6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]フルオランテン誘導体
とを、例えば、パラジウム化合物〔例えば、テトラキス
(トリフェニルフォスフィン)パラジウム、ビス(トリ
フェニルフォスフィン)パラジウムクロライド〕および
塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、
トリエチルアミン)の存在下で反応させることにより製
造することができる(例えば、Chem.Rev.,95,2457(199
5)に記載の方法を参照)。
−A)の場合と同じ意味を表し、Z1はハロゲン原子を
表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
は、例えば、下記一般式(5)で表されるホウ酸化合物
を、下記一般式(6)で表される3−ハロゲノベンゾ
[k]フルオランテン誘導体とを、例えば、パラジウム化
合物〔例えば、テトラキス(トリフェニルフォスフィ
ン)パラジウム、ビス(トリフェニルフォスフィン)パ
ラジウムクロライド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン)の存在
下で反応させる(例えば、Chem.Rev.,95,2457(1995)に
記載の方法を参考にすることができる)ことにより製造
することができる。
−A)の場合と同じ意味を表し、Z2はハロゲン原子を
表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
物は、例えば、一般式(6)および(4)で表される化
合物より、例えば、n−ブチルリチウム、金属マグネシ
ウムを作用させて調整できるリチオ化合物またはグリニ
ヤール試薬と、例えば、トリメトキシホウ素、トリイソ
プロポキシホウ素などにより調整することができる(例
えば、Chem.Rev.,95,2457(1995)に記載の方法を参考に
することができる)。
例えば、以下の方法により製造することができる。すな
わち、下記一般式(7)で表される化合物を一般式
(8)で表わされる5−ハロゲノアセナフチレン誘導体
と反応させることにより製造することができる。
−A)の場合と同じ意味を表し、Z1はハロゲン原子を
表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
ば、下記一般式(9)で表わされる化合物を下記一般式
(10)で表わされる化合物と反応させることにより製
造することができる。
(1−A)の場合と同じ意味を表す。)
ば、下記一般式(11)で表わされるシクロペンタジエ
ノン誘導体を、下記一般式(12)で表わされるピラシ
ロキノン誘導体と反応後、脱一酸化炭素した後、脱水素
することにより製造することができる。
(1−A)の場合と同じ意味を表す。)
えば、J.Org.Chem.,62,530(1997)に記載の方法に従って
製造することができる。すなわち、例えば、5−ハロゲ
ノアセナフチレン誘導体とイソベンゾフラン誘導体を反
応後、脱水することにより製造することができる。
は、3−ハロゲノシクロペンタ[a]アセナフチレン−8
−オン誘導体とベンザイン誘導体を反応させることによ
り製造することができる。
した溶媒(例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒)との溶媒和を形成した形で製造されることがある
が、本発明においては、本発明に係る化合物Aはこのよ
うな溶媒和物を包含するものである。勿論、溶媒を含有
しない無溶媒和物をも包含するものである。本発明の有
機電界発光素子には、本発明に係る化合物Aの無溶媒和
物は勿論、このような溶媒和物をも使用することができ
る。
に使用する場合、再結晶法、カラムクロマトグラフィー
法、昇華精製法などの精製方法、あるいはこれらの方法
を併用して、純度を高めた化合物を使用することは好ま
しいことである。
に、少なくとも一種の発光成分を含有する発光層を、少
なくとも一層挟持してなるものである。発光層に使用す
る化合物の正孔注入および正孔輸送、電子注入および電
子輸送の各機能レベルを考慮し、所望に応じて、正孔注
入輸送成分を含有する正孔注入輸送層および/または電
子注入輸送成分を含有する電子注入輸送層を設けること
もできる。
入機能、正孔輸送機能および/または電子注入機能、電
子輸送機能が良好な場合には、発光層が正孔注入輸送層
および/または電子注入輸送層を兼ねた型の素子の構成
とすることができる。勿論、場合によっては、正孔注入
輸送層および電子注入輸送層の両方の層を設けない型の
素子(一層型素子)の構成とすることもできる。
よび発光層のそれぞれの層は、一層構造であっても、ま
た、多層構造であってもよく、正孔注入輸送層および電
子注入輸送層は、それぞれの層において、注入機能を有
する層と輸送機能を有する層を別々に設けて構成するこ
ともできる。
明に係る化合物Aは、正孔注入輸送成分、発光成分また
は電子注入輸送成分に用いることが好ましく、正孔注入
輸送成分または発光成分に用いることがより好ましく、
発光成分に用いることが特に好ましい。
発明に係る化合物Aは、単独で使用してもよく、あるい
は複数併用してもよい。
は、特に限定するものではなく、例えば、(A)陽極/
正孔注入輸送層/発光層/電子注入輸送層/陰極型素子
(図1)、(B)陽極/正孔注入輸送層/発光層/陰極
型素子(図2)、(C)陽極/発光層/電子注入輸送層
/陰極型素子(図3)、(D)陽極/発光層/陰極型素
子(図4)などを挙げることができる。さらには、発光
層を電子注入輸送層で挟み込んだ型の素子である(E)
陽極/正孔注入輸送層/電子注入輸送層/発光層/電子
注入輸送層/陰極型素子(図5)とすることもできる。
(D)型の素子構成としては、発光成分を一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子を包含するものである
が、さらには、例えば、(F)正孔注入輸送成分、発光
成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図6)、(G)正孔
注入輸送成分および発光成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図7)、(H)発光
成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図8)がある。
れらの素子構成に限るものではなく、それぞれの型の素
子において、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層
を複数層設けたりすることができる。また、それぞれの
型の素子において、正孔注入輸送層と発光層との間に、
正孔注入輸送成分と発光成分の混合層および/または発
光層と電子注入輸送層との間に、発光成分と電子注入輸
送成分の混合層を設けることもできる。
(A)型素子、(B)型素子、(C)型素子、(E)型
素子、(F)型素子、(G)型素子または(H)型素子
であり、さらに好ましくは、(A)型素子、(B)型素
子、(C)型素子、(F)型素子、または(H)型素子
である。
に示す(A)陽極/正孔注入輸送層/発光層/電子注入
輸送層/陰極型素子を代表例として説明する。
正孔注入輸送層、4は発光層、5は電子注入輸送層、6
は陰極、7は電源を示す。
れていることが好ましく、基板としては、特に限定する
ものではないが、透明ないし半透明であることが好まし
く、例えば、ガラス板、透明プラスチックシート(例え
ば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのシート)、半透明プラスチックシート、
石英、透明セラミックスあるいはこれらを組み合わせた
複合シートからなるものを挙げることができる。さら
に、基板に、例えば、カラーフィルター膜、色変換膜、
誘電体反射膜を組み合わせて、発光色をコントロールす
ることもできる。
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。
ば、金、白金、銀、銅、コバルト、ニッケル、パラジウ
ム、バナジウム、タングステン、酸化錫、酸化亜鉛、I
TO(インジウム・ティン・オキサイド)、ポリチオフ
ェン、ポリピロールなどを挙げることができる。これら
の電極物質は、単独で使用してもよく、あるいは複数併
用してもよい。
ば、蒸着法、スパッタリング法などの方法により、基板
の上に形成することができる。また、陽極は一層構造で
あってもよく、あるいは多層構造であってもよい。陽極
のシート電気抵抗は、好ましくは、数百Ω/□以下、よ
り好ましくは、5〜50Ω/□程度に設定する。陽極の
厚みは、使用する電極物質の材料にもよるが、一般に、
5〜1000nm程度、より好ましくは、10〜500
nm程度に設定する。
ール)の注入を容易にする機能、および注入された正孔
を輸送する機能を有する化合物を含有する層である。正
孔注入輸送層は、本発明に係る化合物Aおよび/または
他の正孔注入輸送機能を有する化合物を少なくとも一種
用いて形成することができる。
能を有する化合物の例としては、フタロシアニン誘導
体、トリアリールメタン誘導体、トリアリールアミン誘
導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチル
ベン誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリシラン誘導体、ポ
リフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリチオフェ
ンおよびその誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール誘
導体などを挙げることができる。尚、正孔注入輸送機能
を有する化合物は、単独で使用してもよく、あるいは複
数併用してもよい。
ては、4,4’−ビス〔N−フェニル−N−(4”−メ
チルフェニル)アミノ〕ビフェニル、4,4’−ビス
〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、4,4’−ビス〔N−フェニル−N−
(3”−メトキシフェニル)アミノ〕ビフェニル、4,
4’−ビス〔N−フェニル−N−(1”−ナフチル)ア
ミノ〕ビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、1,1−ビス〔4’−[N,N−ジ
(4”−メチルフェニル)アミノ]フェニル〕シクロヘ
キサン、9,10−ビス〔N−(4’−メチルフェニ
ル)−N−(4”−n−ブチルフェニル)アミノ〕フェ
ナントレン、3,8−ビス(N,N−ジフェニルアミ
ノ)−6−フェニルフェナントリジン、4−メチル−
N,N−ビス〔4”,4'''−ビス[N’,N’−ジ
(4−メチルフェニル)アミノ]ビフェニル−4−イ
ル〕アニリン、N,N’−ビス〔4−(ジフェニルアミ
ノ)フェニル〕−N,N’−ジフェニル−1,3−ジア
ミノベンゼン、N,N’−ビス〔4−(ジフェニルアミ
ノ)フェニル〕−N,N’−ジフェニル−1,4−ジア
ミノベンゼン、5,5”−ビス〔4−(ビス[4−メチ
ルフェニル]アミノ)フェニル〕−2,2’:5’,
2”−ターチオフェン、1,3,5−トリス(ジフェニ
ルアミノ)ベンゼン、4,4’,4”−トリス(N−カ
ルバゾリイル)トリフェニルアミン、4,4’,4”−
トリス〔N−(3'''−メチルフェニル)−N−フェニ
ルアミノ〕トリフェニルアミン、4,4’,4”−トリ
ス〔N,N−ビス(4'''−tert−ブチルビフェニル−
4""−イル)アミノ〕トリフェニルアミン、1,3,5
−トリス〔N−(4’−ジフェニルアミノフェニル)−
N−フェニルアミノ〕ベンゼンなどトリアリールアミン
誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリ−N−
ビニルカルバゾール誘導体などが好ましい。
機能を有する化合物を併用する場合、正孔注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により励起子を
生成させる機能を有する化合物を含有する層である。
または他の発光機能を有する化合物を少なくとも一種用
いて形成することができる。
は、アクリドン誘導体、キナクリドン誘導体、ジケトピ
ロロピロール誘導体、多環芳香族化合物、トリアリール
アミン誘導体、有機金属錯体、スチルベン誘導体、クマ
リン誘導体、ピラン誘導体、オキサゾン誘導体、ベンゾ
チアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾ
イミダゾール誘導体、ピラジン誘導体、ケイ皮酸エステ
ル誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾールおよびその誘
導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリフェニレ
ンおよびその誘導体、ポリフルオレンおよびその誘導
体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリビ
フェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリターフェニ
レンビニレンおよびその誘導体、ポリナフチレンビニレ
ンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびそ
の誘導体などを挙げることができる。
レン、アントラセン、テトラセン、ピレン、ペリレン、
クリセン、デカシクレン、コロネン、テトラフェニルシ
クロペンタジエン、ペンタフェニルシクロヘキサジエ
ン、9,10−ジフェニルアントラセン、9,10−ビ
ス(フェニルエチニル)アントラセン、1,4−ビス
(9’−エチニルアントラセニル)ベンゼン、4,4’
−ビス(9”−エチニルアントラセニル)ビフェニルな
どを挙げることができる。
正孔注入輸送機能を有する化合物として前述した化合物
を挙げることができる。
キノリラート)アルミニウム、ビス(10−ベンゾ[h]
キノリノラート)ベリリウム、2−(2’−ヒドロキシ
フェニル)ベンゾオキサゾールの亜鉛塩、2−(2’−
ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾールの亜鉛塩、4−
ヒドロキシアクリジンの亜鉛塩、3−ヒドロキシフラボ
ンの亜鉛塩、5−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、
5−ヒドロキシフラボンのアルミニウム塩などを挙げる
ことができる。
4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン、4,
4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル、
4,4’−ビス〔(1,1,2−トリフェニル)エテニ
ル〕ビフェニルなどを挙げることができる。
マリン6、クマリン7、クマリン30、クマリン10
6、クマリン138、クマリン151、クマリン15
2、クマリン153、クマリン307、クマリン31
1、クマリン314、クマリン334、クマリン33
8、クマリン343、クマリン500などを挙げるこて
おができる。
M1、DCM2などであり、オキサゾン誘導体の好まし
い例は、ナイルレッドなどである。
光層に本発明に係る化合物Aを含有していることが好ま
しい。
する化合物を併用する場合、発光層中に占める本発明に
係る化合物Aの割合は、好ましくは、0.001〜9
9.999重量%程度、より好ましくは、0.01〜9
9.99重量%程度、さらに好ましくは、0.1〜9
9.9重量%程度に調製する。
る化合物としては、発光性有機金属錯体が好ましい。例
えば、J.Appl.Phys.,65,3610(1989)、特開平5−214
332号公報に記載のように、発光層をホスト化合物と
ゲスト化合物(ドーパント)とより構成することもでき
る。
して用いて発光層を形成することができ、さらには、ゲ
スト化合物として用いて発光層を形成することもでき
る。本発明に係る化合物Aを、ゲスト化合物として用い
て発光層を形成する場合、ホスト化合物としては、例え
ば、前記の他の発光機能を有する化合物を挙げることが
でき、例えば、発光性有機金属錯体または前記のトリア
リールアミン誘導体はより好ましい。
アリールアミン誘導体に対して、本発明に係る化合物A
を、好ましくは、0.001〜40重量%程度、より好
ましくは、0.01〜30重量%程度、特に好ましく
は、0.1〜20重量%程度使用する。
機金属錯体としては、特に限定するものではないが、発
光性有機アルミニウム錯体が好ましく、置換または未置
換の8−キノリノラート配位子を有する発光性有機アル
ミニウム錯体がより好ましい。好ましい発光性有機金属
錯体としては、例えば、一般式(a)〜一般式(c)で
表される発光性有機アルミニウム錯体を挙げることがで
きる。
位子を表す) (Q)2−Al−O−L (b) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表し、O
−Lはフェノラート配位子であり、Lはフェニル部分を
含む炭素数6〜24の炭化水素基を表す) (Q)2−Al−O−Al−(Q)2 (c) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表す)
えば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム、ト
リス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、トリス(5−メチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウム、トリス(3,4−ジメチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、トリス(4,5−ジメチル−8−キ
ノリノラート)アルミニウム、トリス(4,6−ジメチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メ
チル−8−キノリノラート)(フェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3−メチルフェノラート)ア
ルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(4−メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2−フェニルフェノラ
ート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノ
ラート)(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−フェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,3−ジメチルフェノラート)
アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)(2,6−ジメチルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(3,4−ジ
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ート)(3,5−ジ−tert−ブチルフェノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(2,6−ジフェニルフェノラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−
トリフェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−トリメチ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,4,5,6−テトラメチルフ
ェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−ナフトラ
ート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キ
ノリノラート)(2−フェニルフェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)
(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス
(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)(4−フェ
ニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメ
チル−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラート)(3,5−ジ−tert−ブチル
フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)ア
ルミニウム−μ−オキソ−ビス(2,4−ジメチル−8
−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−
4−エチル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−
オキソ−ビス(2−メチル−4−エチル−8−キノリノ
ラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−4−メトキ
シ−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−4−メトキシ−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル
−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビ
ス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリ
ノラート)アルミニウムなどを挙げることができる。勿
論、発光性有機金属錯体は、単独で使用してもよく、あ
るいは複数併用してもよい。
入を容易にする機能、そして注入された電子を輸送する
機能を有する化合物を含有する層である。
および/または他の電子注入輸送機能を有する化合物、
例えば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム、
ビス(10−ベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム、
5−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、5−ヒドロキ
シフラボンのアルミニウム塩などの有機金属錯体;1,
3−ビス[5’−(p−tert−ブチルフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール−2’−イル]ベンゼンなど
のオキサジアゾール誘導体; 3−(4’−tert−ブチ
ルフェニル)−4−フェニル−5−(4”−ビフェニ
ル)−1,2,4−トリアゾールなどのトリアゾール誘
導体; トリアジン誘導体、ペリレン誘導体、キノリン
誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導
体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキ
サイド誘導体などを少なくとも一種用いて形成すること
ができる。
機能を有する化合物を併用する場合、電子注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
有機金属錯体(例えば、前記一般式(a)〜一般式
(c)で表される化合物)を併用して、電子注入輸送層
を形成することは好ましい。
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。
ば、リチウム、リチウム−インジウム合金、ナトリウ
ム、ナトリウム−カリウム合金、カルシウム、マグネシ
ウム、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウ
ム合金、インジウム、ルテニウム、チタニウム、マンガ
ン、イットリウム、アルミニウム、アルミニウム−リチ
ウム合金、アルミニウム−カルシウム合金、アルミニウ
ム−マグネシウム合金、グラファイト薄膜などを挙げる
ことができる。これらの電極物質は、単独で使用しても
よく、あるいは、複数併用してもよい。
ば、蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオ
ンプレーティング法、クラスターイオンビーム法などの
方法により、電子注入輸送層の上に形成することができ
る。
るいは多層構造であってもよい。尚、陰極のシート電気
抵抗は、数百Ω/□以下に設定することが好ましい。陰
極の厚みは、使用する電極物質の材料にもよるが、一般
に、5〜1000nm程度、より好ましくは、10〜5
00nm程度に設定する。
り出すために、陽極または陰極の少なくとも一方の電極
が、透明ないし半透明であることが好ましく、一般に、
発光光の透過率が70%以上となるように陽極の材料、
厚みを設定することがより好ましい。
は、その少なくとも一層中に、一重項酸素クエンチャー
が含有されていてもよい。
定するものではなく、例えば、ルブレン、ニッケル錯
体、ジフェニルイソベンゾフランなどが挙げられ、特に
好ましくは、ルブレンである。
層としては、特に限定するものではないが、好ましく
は、発光層または正孔注入輸送層であり、より好ましく
は、正孔注入輸送層である。尚、例えば、正孔注入輸送
層に一重項クエンチャーを含有させる場合、正孔注入輸
送層中に均一に含有させてもよく、正孔注入輸送層と隣
接する層(例えば、発光層、発光機能を有する電子注入
輸送層)の近傍に含有させてもよい。
は、含有される層(例えば、正孔注入輸送層)を構成す
る全体量の0.01〜50重量%、好ましくは、0.0
5〜30重量%、より好ましくは、0.1〜20重量%
である。
の形成方法に関しては、特に限定するものではなく、例
えば、真空蒸着法、イオン化蒸着法、溶液塗布法(例え
ば、スピンコート法、キャスト法、ディップコート法、
バーコート法、ロールコート法、ラングミュア・ブロゼ
ット法、インクジェット法など)により薄膜を形成する
ことにより作成することができる。
真空蒸着の条件は、特に限定するものではないが、10
-5Torr程度の真空下で、50〜600℃程度のボート温
度(蒸着源温度)、−50〜300℃程度の基板温度
で、0.005〜50nm/sec程度の蒸着速度で実
施することが好ましい。
注入輸送層などの各層は、真空下で、連続して形成する
ことにより、諸特性に一層優れた有機電界発光素子を製
造することができる。
層、電子注入輸送層などの各層を、複数の化合物を用い
て形成する場合、化合物を入れた各ボートを個別に温度
制御して、共蒸着することが好ましい。
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、溶媒に溶解、または分散させて塗布液とする。
の各層に使用しうるバインダー樹脂としては、例えば、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアリレート、ポリ
スチレン、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリメチル
アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテ
ル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリ
フェニレンオキサイド、ポリエーテルスルフォン、ポリ
アニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその
誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポ
リフルオレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレ
ンおよびその誘導体などの高分子化合物が挙げられる。
バインダー樹脂は、単独で使用してもよく、あるいは、
複数併用してもよい。
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、適当な有機溶媒および/または水に溶解、または分
散させて塗布液とし、各種の塗布法により、薄膜を形成
することができる。有機溶媒の例としては、ヘキサン、
オクタン、デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、1−メチルナフタレンなどの炭化水素系溶媒; ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒; ジクロロ
メタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロ
エタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどの
ハロゲン化炭化水素系溶媒; 酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸アミルなどのエステル系溶媒; メタノール、
プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、エチレングリコールなどのアルコール系溶
媒; ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、アニソールなどのエーテル系溶媒; N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
1−メチル−2−ピロリドン、1−メチル−2−イミダ
ゾリジノン、ジメチルスルフォキサイドなどの極性溶媒
などを挙げることができる。
ではないが、例えば、ボールミル、サンドミル、ペイン
トシェーカー、アトライター、ホモジナイザーなどを用
いて微粒子状に分散することができる。
のではなく、実施する塗布法により、所望の厚みを作成
するに適した濃度範囲に設定することができ、一般に
は、0.1〜50重量%程度、好ましくは、1〜30重
量%程度の溶液濃度である。尚、バインダー樹脂を使用
する場合、その使用量に関しては、特に制限するもので
はないが、一般には、各層を形成する成分に対して(一
層型の素子を形成する場合には、各成分の総量に対し
て)、5〜99.9重量%程度、好ましくは、10〜9
9.9重量%程度、より好ましくは、15〜90重量%
程度に設定する。
の膜厚に関しては、特に限定するものではないが、一般
に、5nm〜5μm程度に設定することが好ましい。
接触を防止する目的で、保護層(封止層)を設けたり、
また、素子を、例えば、パラフィン、流動パラフィン、
シリコンオイル、フルオロカーボン油、ゼオライト含有
フルオロカーボン油などの不活性物質中に封入して保護
することができる。
高分子材料、無機材料、さらには光硬化性樹脂などを挙
げることができ
エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、エポキシシリコーン樹
脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリパラ
キシレン、ポリエチレン、ポリフェニレンオキサイドな
どを挙げることができる。
モルファスシリカ、電気絶縁性ガラス、金属酸化物、金
属窒化物、金属炭素化物、金属硫化物などを挙げること
ができる。
使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。保護層
は、一層構造であってもよく、また多層構造であっても
よい。
酸化膜(例えば、酸化アルミニウム膜)、金属フッ化膜
を設けることもできる。
合物、ポリシラン、芳香族アミン誘導体、フタロシアニ
ン誘導体などから成る界面層(中間層)を設けることも
できる。さらに、電極、例えば、陽極はその表面を、例
えば、酸、アンモニア/過酸化水素、あるいはプラズマ
で処理して使用することもできる。
流駆動型の素子として使用されるが、パルス駆動型また
は交流駆動型の素子としても使用することができる。
尚、印可電圧は、一般に、2〜30V程度である。
ネル型光源、各種の発光素子、各種の表示素子、各種の
標識、各種のセンサーなどに使用することができる。
更に詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定
されるものではない。
[1',8':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]フルオラン
テン6.51gと三フッ化コバルト11.59gをトリ
フルオロ酢酸100ml中、室温にて、5時間撹拌し
た。水500mlを加えた後、析出している結晶を濾取
し、水で洗浄した。
フィー(溶出液:トルエン)で処理した。トルエンを減
圧下留去した後、残渣をトルエンとアセトンの混合溶媒
より再結晶し、前記で例示した化合物(以下例示化合
物)番号A−1の化合物を紫色の結晶として3.82g
得た。 質量分析:m/z=648 融点250℃以上 尚、この化合物は、500℃、10-5Torrの条件下
で昇華した。吸収極大(トルエン中)585nm
−(ベンゾ[k]フルオランテン−3’−イル)ナフト
[1',8':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]フルオラン
テンを使用する代わりに、種々の3−(ベンゾ[k]フル
オランテン−3’−イル)ナフト[1',8':5,6,7]−s−
インダセノ[1,2,3-cd]フルオランテン誘導体を使用した
以外は、製造例1に記載した方法に従い、種々のベンゾ
[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオランテノ[3',4':5,6,7]
−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペリレン誘導体を製造し
た。
オランテン−3’−イル)ナフト[1',8':5,6,7]−s−
インダセノ[1,2,3-cd]フルオランテン誘導体、および製
造したベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオランテノ
[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペリレン誘
導体を例示化合物番号で示した。また、トルエン中の吸
収極大(nm)も併せて示した。尚、製造された化合物
は、紫色の結晶であり、それらの化合物の融点は、25
0℃以上であった。
電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒
素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムとベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]ベンゾ[8',
9']フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,
2,3-lm]ペリレン(例示化合物番号A−1の化合物)
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:0.5)し、
発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2560cd/m2の赤色の発
光が確認された。
光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物を使用
する代わりに、例示化合物番号A−8の化合物(実施例
2)、例示化合物番号A−10の化合物(実施例3)、
例示化合物番号A−12の化合物(実施例4)、例示化
合物番号A−18の化合物(実施例5)、例示化合物番
号A−19の化合物(実施例6)、例示化合物番号A−
25の化合物(実施例7)、例示化合物番号A−29の
化合物(実施例8)、例示化合物番号A−34の化合物
(実施例9)、例示化合物番号B−1の化合物(実施例
10)、例示化合物番号B−3の化合物(実施例1
1)、 例示化合物番号B−8の化合物(実施例1
2)、例示化合物番号C−1の化合物(実施例13)、
例示化合物番号C−4の化合物(実施例14)、例示化
合物番号C−6の化合物(実施例15)、例示化合物番
号C−7の化合物(実施例16)、例示化合物番号C−
10の化合物(実施例17)、例示化合物番号C−12
の化合物(実施例18)、例示化合物番号C−16の化
合物(実施例19)、例示化合物番号C−18の化合物
(実施例20)、例示化合物番号C−24の化合物(実
施例21)、例示化合物番号C−30の化合物(実施例
22)、例示化合物番号C−38の化合物(実施例2
3)、例示化合物番号C−40の化合物(実施例2
4)、例示化合物番号C−42の化合物(実施例2
5)、例示化合物番号C−47の化合物(実施例2
6)、例示化合物番号C−49の化合物(実施例2
7)、例示化合物番号C−50の化合物(実施例2
8)、例示化合物番号C−51の化合物(実施例2
9)、例示化合物番号C−52の化合物(実施例3
0)、例示化合物番号C−58の化合物(実施例3
1)、例示化合物番号C−60の化合物(実施例3
2)、例示化合物番号D−1の化合物(実施例33)、
例示化合物番号D−2の化合物(実施例34)、例示化
合物番号D−5の化合物(実施例35)、例示化合物番
号D−8の化合物(実施例36)、例示化合物番号D−
15の化合物(実施例37)、例示化合物番号D−17
の化合物(実施例38)、例示化合物番号E−1の化合
物(実施例39)、例示化合物番号E−3の化合物(実
施例40)、例示化合物番号E−4の化合物(実施例4
1)、例示化合物番号E−5の化合物(実施例42)、
例示化合物番号E−7の化合物(実施例43)、例示化
合物番号E−9の化合物(実施例44)、例示化合物番
号E−10の化合物(実施例45)、例示化合物番号E
−13の化合物(実施例46)、例示化合物番号E−1
7の化合物(実施例47)、例示化合物番号E−18の
化合物(実施例48)、例示化合物番号E−23の化合
物(実施例49)、例示化合物番号E−24の化合物
(実施例50)を使用した以外は、実施例1に記載の方
法により有機電界発光素子を作製した。それぞれの素子
に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したとこ
ろ、橙赤〜赤色の発光が確認された。さらにその特性を
調べ、結果を第2表に示した。
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用せ
ずに、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−
フェニルフェノラート)アルミニウムだけを用いて、5
0nmの厚さに蒸着し、発光層とした以外は、実施例1
に記載の方法により有機電界発光素子を作製した。この
素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したと
ころ、青色の発光が確認された。さらにその特性を調
べ、結果を第2表に示した。
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用す
る代わりに、N−メチル−2−メトキシアクリドンを使
用した以外は、実施例1に記載の方法により有機電界発
光素子を作製した。この素子に、乾燥雰囲気下、12V
の直流電圧を印加したところ、青色の発光が確認され
た。さらにその特性を調べ、結果を第2表に示した。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号A−8の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2340cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号A−12の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2430cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号A−19の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2380cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号A−29の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2440cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−6の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、57mA/c
m2の電流が流れた。輝度2330cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−10の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)
し、電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。さらにその
上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/se
cで200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して
陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、
蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、57mA/c
m2の電流が流れた。輝度2350cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号C−12の化合物を、異なる
蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2390cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号C−24の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2330cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号C−30の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
m2の電流が流れた。輝度2370cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号D−1の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)し、
発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2470cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号D−8の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2320cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号E−4の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、
電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2260cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号E−7の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2370cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号E−10の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2370cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号E−17の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2290cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号E−18の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2360cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号E−23の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、
発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2330cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
の化合物を、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、発光層とした。
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速
度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着(重
量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製
した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施
した。
下、14Vの直流電圧を印加したところ、42mA/c
m2の電流が流れた。輝度1860cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
号E−4の化合物を蒸着速度0.2nm/secで55
nmの厚さに蒸着し、発光層とした。
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで75nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速
度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着(重
量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製
した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施
した。
下、14Vの直流電圧を印加したところ、65mA/c
m2の電流が流れた。輝度1550cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
4”−トリス〔N−(3'''−メチルフェニル)−N−フ
ェニルアミノ〕トリフェニルアミンを蒸着速度0.1n
m/secで、50nmの厚さに蒸着し、第一正孔注入
輸送層とした。
−N−(1”−ナフチル)アミノ〕ビフェニルと例示化
合物番号A−1の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速
度0.2nm/secで20nmの厚さに共蒸着(重量
比100:5)し、第二正孔注入輸送層を兼ねた発光層
とした。
ラート)アルミニウムを、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さ
らにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2n
m/secで200nmの厚さに共蒸着(重量比10:
1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、
蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、63mA/c
m2の電流が流れた。輝度2600cd/m2の赤色の発
光が確認された。
て、発光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物
を使用する代わりに、例示化合物番号A−10の化合物
(実施例71)、例示化合物番号A−18の化合物(実
施例72)、例示化合物番号A−25の化合物(実施例
73)、例示化合物番号B−1の化合物(実施例7
4)、例示化合物番号B−8の化合物(実施例75)、
例示化合物番号C−1の化合物(実施例76)、例示化
合物番号C−4の化合物(実施例77)、例示化合物番
号C−10の化合物(実施例78)、例示化合物番号C
−16の化合物(実施例79)、例示化合物番号C−4
7の化合物(実施例80)、 例示化合物番号D−1の
化合物(実施例81)、例示化合物番号D−5の化合物
(実施例82)、例示化合物番号D−8の化合物(実施
例83)、例示化合物番号D−15の化合物(実施例8
4)、例示化合物番号D−17の化合物(実施例8
5)、例示化合物番号E−1の化合物(実施例86)、
例示化合物番号E−3の化合物(実施例87)、例示化
合物番号E−4の化合物(実施例88)、例示化合物番
号E−9の化合物(実施例89)、例示化合物番号E−
10の化合物(実施例90)、例示化合物番号E−13
の化合物(実施例91)、例示化合物番号E−18の化
合物(実施例92)を使用した以外は、実施例70に記
載の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞれ
の素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加した
ところ、橙赤〜赤色の発光が確認された。さらにその特
性を調べ、結果を第3表に示した。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,1,4,4,−テトラフェニル1,3−ブタジエン
(青色の発光成分)、クマリン6〔”3−(2’−ベン
ゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン”(緑色
の発光成分)〕、および例示化合物番号A−18の化合
物を、それぞれ重量比100:5:3:2の割合で含有
する3重量%のジクロロエタン溶液を用いて、ディップ
コート法により、400nmの発光層を形成した。
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3×1
0-6Torrに減圧した。さらに、発光層の上に、3−
(4’−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−
(4”−ビフェニル)1,2,4−トリアゾールを蒸着
速度0.2nm/secで20nmの厚さに蒸着した
後、さらにその上に、トリス(8−キノリノラート)ア
ルミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで30nm
の厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、65mA/c
m2の電流が流れた。輝度1260cd/m2の白色の発
光が確認された。
て、例示化合物番号A−18の化合物を用いる代わり
に、例示化合物番号A−19の化合物(実施例94)、
例示化合物番号A−29の化合物(実施例95)、例示
化合物番号C−18の化合物(実施例96)、例示化合
物番号C−30の化合物(実施例97)、例示化合物番
号C−49の化合物(実施例98)、例示化合物番号D
−5の化合物(実施例99)、例示化合物番号D−8の
化合物(実施例100)、例示化合物番号E−7の化合
物(実施例101)、例示化合物番号E−9の化合物
(実施例102)を使用した以外は、実施例93に記載
の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞれの
素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したと
ころ、白色の発光が観察された。さらにその特性を調
べ、結果を第4表に示した。
透明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、ア
セトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板
を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,3−ビス〔5’−(p−tert−ブチルフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール−2’−イル〕ベンゼン
および例示化合物番号C−12の化合物を、それぞれ重
量比100:30:3の割合で含有する3重量%のジク
ロロエタン溶液を用いて、ディップコート法により、3
00nmの発光層を形成した。次に、この発光層を有す
るガラス基板を、蒸着装置の基板ホルダーに固定した
後、蒸着槽を3×10-6Torrに減圧した。さらに、発光
層の上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/
secで200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)
して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、67mA/c
m2の電流が流れた。輝度1450cd/m2の赤色の発
光が確認された。
層の形成に際して、例示化合物番号C−12の化合物の
代わりに、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−
ブタジエンを使用した以外は、実施例103に記載の方
法により有機電界発光素子を作製した。作製した有機電
界発光素子に、乾燥雰囲気下、15Vの直流電圧を印加
したところ、86mA/cm2の電流が流れた。輝度7
60cd/m2の青色の発光が確認された。
透明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、ア
セトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板
を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ート(重量平均分子量50000)、4,4’−ビス
〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)アルミニウムおよび例示化合物番号
D−8の化合物を、それぞれ重量比100:40:6
0:1の割合で含有する3重量%のジクロロエタン溶液
を用いて、ディップコート法により、300nmの発光
層を形成した。
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3×1
0-6Torrに減圧した。
を、蒸着速度0.2nm/secで200nmの厚さに
共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光
素子を作製した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、63mA/c
m2の電流が流れた。輝度990cd/m2の赤色の発
光が確認された。
界発光素子を提供することが可能になった。さらに、該
発光素子に適した炭化水素化合物を提供することが可能
になった。
Claims (8)
- 【請求項1】 一対の電極間に、ベンゾ[5,6]インデノ
[1,2,3-cd]フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダ
セノ[1,2,3-lm]ペリレン誘導体を少なくとも一種含有す
る層を、少なくとも一層挟持してなる有機電界発光素
子。 - 【請求項2】 ベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオ
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体を含有する層が、さらに、発光性有機金属
錯体を含有することを特徴とする請求項1に記載の有機
電界発光素子。 - 【請求項3】 ベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオ
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体を含有する層が、さらに、トリアリールア
ミン誘導体を含有することを特徴とする請求項1または
2記載の有機電界発光素子。 - 【請求項4】 ベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオ
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体を含有する層が、発光層である請求項1〜
3のいずれかに記載の有機電界発光素子。 - 【請求項5】 一対の電極間に、さらに、正孔注入輸送
層を有する請求項4に記載の有機電界発光素子。 - 【請求項6】 一対の電極間に、さらに、電子注入輸送
層を有する請求項4または5に記載の有機電界発光素
子。 - 【請求項7】 ベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3-cd]フルオ
ランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-lm]ペ
リレン誘導体が、一般式(1−A)で表される化合物で
ある請求項1〜6のいずれかに記載の有機電界発光素
子。 【化1】 (式中、X1〜X24はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。) - 【請求項8】 一般式(1−A)で表される化合物。 【化2】 (式中、X1〜X24はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。)
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---|---|---|---|---|
WO2007099802A1 (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-07 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 赤色系有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2020033329A (ja) * | 2018-08-31 | 2020-03-05 | キヤノン株式会社 | 有機化合物、有機発光素子、表示装置、撮像装置、電子機器、照明装置及び移動体 |
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