JP2002280182A - 炭化水素化合物および有機電界発光素子 - Google Patents
炭化水素化合物および有機電界発光素子Info
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Abstract
電界発光素子を提供すること、および該発光素子に好適
に使用できる新規な炭化水素化合物を提供すること。 【解決手段】 一対の電極間に、ビスベンゾ[4,5]イン
デノペリレン誘導体を少なくとも一種含有する層を、少
なくとも一層挟持してなる有機電界発光素子、および新
規なビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体。
Description
および該発光素子に好適に使用できる新規な炭化水素化
合物に関する。
ックライトなどのパネル型光源として使用されてきた
が、該発光素子を駆動させるには、交流の高電圧が必要
である。最近になり、発光材料に有機材料を用いた有機
電界発光素子(有機エレクトロルミネッセンス素子:有
機EL素子)が開発された[Appl.Phys.Lett.,51,913(19
87)]。有機電界発光素子は、蛍光性有機化合物を含む薄
膜を、陽極と陰極間に挟持された構造を有し、該薄膜に
電子および正孔(ホール)を注入して、再結合させるこ
とにより励起子(エキシトン)を生成させ、この励起子
が失活する際に放出される光を利用して発光する素子で
ある。有機電界発光素子は、数V〜数十V程度の直流の
低電圧で、発光が可能であり、また蛍光性有機化合物の
種類を選択することにより種々の色(例えば、赤色、青
色、緑色)の発光が可能である。このような特徴を有す
る有機電界発光素子は、種々の発光素子、表示素子等へ
の応用が期待されている。しかしながら、一般に、発光
輝度が低く、実用上十分ではない。
として、例えば、トリス(8−キノリノラート)アルミ
ニウムをホスト化合物、クマリン誘導体、ピラン誘導体
をゲスト化合物(ドーパント)として用いた有機電界発
光素子が提案されている[J.Appl.Phys.,65,3610(198
9)]。また、発光層として、例えば、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)
アルミニウムをホスト化合物、アクリドン誘導体(例え
ば、N−メチル−2−メトキシアクリドン)をゲスト化
合物として用いた有機電界発光素子が提案されている
(特開平8−67873号公報)。しかしながら、これ
らの発光素子も充分な発光輝度を有しているとは言い難
い。現在では、一層高輝度に発光する有機電界発光素子
が望まれている。
効率に優れ、高輝度に発光する有機電界発光素子を提供
することである。さらには、該発光素子に好適に使用で
きる新規な炭化水素化合物を提供することである。
発光素子に関して鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち本発明は、 一対の電極間に、ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン
誘導体を少なくとも一種含有する層を、少なくとも一層
挟持してなる有機電界発光素子を提供する。
体を含有する層が、さらに、発光性有機金属錯体を含有
することを特徴とする前記に記載の有機電界発光素子
は、本発明の好ましい態様である。
体を含有する層が、さらに、トリアリールアミン誘導体
を含有することを特徴とする前記または記載の有機
電界発光素子も、本発明の好ましい態様である。
体を含有する層が、発光層である前記に記載の有機電
界発光素子は、本発明の好ましい態様である。
層を有する前記に記載の有機電界発光素子も、本発明
の好ましい態様である。
層を有する前記またはのいずれかに記載の有機電界
発光素子も、本発明の好ましい態様である。
体が、ビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,3-cd:1',2',3'-l
m]ペリレン誘導体またはビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,
3-cd:3',2',1'-lm]ペリレン誘導体である前記〜の
いずれかに記載の有機電界発光素子は、本発明の好まし
い態様である。
体が、一般式(1−A)または一般式(2−A)で表さ
れる化合物である前記〜のいずれかに記載の有機電
界発光素子も、本発明の好ましい態様である。
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換ま
たは未置換のアリール基を表す。)
される化合物を提供する。
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換ま
たは未置換のアリール基を表す。)
される化合物を提供する。
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換ま
たは未置換のアリール基を表す。)
明する。本発明の有機電界発光素子は、一対の電極間
に、ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体を少なく
とも一種含有する層を少なくとも一層挟持してなるもの
である。
リレン誘導体(以下、本発明に係る化合物Aと略記す
る)とは、一般式(1)または一般式(2)で表される
骨格を有する化合物を表すものである。
る骨格は、種々の置換基で置換されていてもよく、本発
明に係る化合物Aは、好ましくは、一般式(1−A)ま
たは一般式(2−A)で表される化合物である。
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
は未置換のアリール基を表す。)
で表される化合物において、X1〜X20はそれぞれ独
立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状
のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、
あるいは、置換または未置換のアリール基を表す。
えば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環式芳香族
基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基などの
複素環式芳香族基を表す。
で表される化合物において、好ましくは、X1〜X20
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の直鎖、分
岐または環状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖、分
岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数4〜20
の置換または未置換のアリール基を表す。
のX1〜X20のハロゲン原子としては、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子などを挙げることができる。
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−
ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−
ペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、
4−メチル−2−ペンチル基、3,3−ジメチルブチル
基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、1−メチル
ヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、n−オクチル
基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エ
チルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、n−ノニル
基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−
4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、
n−デシル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル
基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、1−ヘキシル
ヘプチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル
基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オ
クタデシル基、n−エイコシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−
tert−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シ
クロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル
基などを挙げることができる。
キシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペ
ンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチ
ルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、3,3−ジメチル
ブチルオキシ基、2−エチルブチルオキシ基、シクロヘ
キシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチル
オキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオ
キシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ
基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、
n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ
基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキ
シ基、n−オクタデシルオキシ基、n−エイコシルオキ
シ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基などを
挙げることができる。
チルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフ
ェニル基、4−エチルフェニル基、4−n−プロピルフ
ェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチ
ルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−tert−
ブチルフェニル基、4−n−ペンチルフェニル基、4−
イソペンチルフェニル基、4−tert−ペンチルフェニル
基、4−n−ヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシル
フェニル基、4−n−ヘプチルフェニル基、4−n−オ
クチルフェニル基、4−n−ノニルフェニル基、4−n
−デシルフェニル基、4−n−ウンデシルフェニル基、
4−n−ドデシルフェニル基、4−n−テトラデシルフ
ェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメ
チルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6
−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、
3,5−ジメチルフェニル基、3,4,5−トリメチル
フェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル
基、5−インダニル基、1,2,3,4−テトラヒドロ
−5−ナフチル基、1,2,3,4−テトラヒドロ−6
−ナフチル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシ
フェニル基、4−メトキシフェニル基、3−エトキシフ
ェニル基、4−エトキシフェニル基、4−n−プロポキ
シフェニル基、4−イソプロポキシフェニル基、4−n
−ブトキシフェニル基、4−イソブトキシフェニル基、
4−tert−ブトキシフェニル基、−4−n−ペンチルオ
キシフェニル基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、
4−シクロヘキシルオキシフェニル基、4−n−ヘプチ
ルオキシフェニル基、4−n−オクチルオキシフェニル
基、4−n−ノニルオキシフェニル基、4−n−デシル
オキシフェニル基、4−n−ウンデシルオキシフェニル
基、4−n−ドデシルオキシフェニル基、4−n−テト
ラデシルオキシフェニル基、2,3−ジメトキシフェニ
ル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメト
キシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,
5−ジメトキシフェニル基、3,5−ジエトキシフェニ
ル基、2−メトキシ−4−メチルフェニル基、2−メト
キシ−5−メチルフェニル基、2−メチル−4−メトキ
シフェニル基、3−メチル−4−メトキシフェニル基、
3−メチル−5−メトキシフェニル基、2−フルオロフ
ェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェ
ニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル
基、4−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4
−トリフルオロメチルフェニル基、2,4−ジフルオロ
フェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、3,4−ジ
クロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−
メチル−4−クロロフェニル基、3−メチル−4−クロ
ロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフェニル基、3
−クロロ−4−メチルフェニル基、2−クロロ−4−メ
トキシフェニル基、3−メトキシ−4−フルオロフェニ
ル基、3−メトキシ−4−クロロフェニル基、3−フル
オロ−4−メトキシフェニル基、4−フェニルフェニル
基、3−フェニルフェニル基、4−(4’−メチルフェ
ニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニル)フ
ェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4−メチ
ル−1−ナフチル基、4−エトキシ−1−ナフチル基、
6−n−ブチル−2−ナフチル基、6−メトキシ−2−
ナフチル基、7−エトキシ−2−ナフチル基、2−フリ
ル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−ピリジル
基、3−ピリジル基、4−ピリジル基などの置換または
未置換のアリール基を挙げることができる。
塩素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜1
0のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜12のアリー
ル基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原
子、塩素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜
6のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜10のアリー
ル基である。
スベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体を少なくとも一
種使用することが特徴であり、例えば、ビスベンゾ[4,
5]インデノペリレン誘導体を発光成分として発光層に用
いると、従来にはない、高輝度で耐久性に優れた赤色に
発光する有機電界発光素子を提供することが可能とな
る。
を形成すると、高輝度で耐久性に優れた白色に発光する
有機電界発光素子も提供することが可能となる。
下のA−1〜A−15、B−1〜B−20、C−1〜C
−60、D−1〜D−15、E−1〜E−20およびF
−1〜F−60の化合物を挙げることができるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
(1−A)または一般式(2−A)で表される化合物
は、例えば、以下の方法により製造することができる。
すなわち、下記一般式(3)で表される化合物と下記一
般式(4)で表わされる化合物とを、酸化剤(例えば、
塩化アルミニウム/塩化第二銅、塩化アルミニウム/塩
化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タ
リウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄)の存在下で反応
させる(例えば、J.Amer.Chem.Soc.,118,2374(1996)に
記載の方法を参考にすることができる)ことにより製造
することができる。
じ意味を表す。)
れるベンゾ[j]フルオランテン誘導体は、例えば、J.Or
g.Chem.,58、1415(1993)に記載の方法に従って製造する
ことができる。
一般式(1−A)で表わされる化合物は、例えば、下記
一般式(5)で表わされる3,4’−ビベンゾ[j]フル
オランテン誘導体を酸化剤(例えば、塩化アルミニウム
/塩化第二銅、塩化アルミニウム/塩化ナトリウム、三
フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タリウム、四酢酸
鉛、または塩化第二鉄)の存在下で反応させることによ
り製造することができる(例えば、J.Amer.Chem.Soc.,1
18,2374(1996)に記載の方法を参照)。
じ意味を表す。)
ば、一般式(6)で表わされる3−ハロゲノベンゾ[j]
フルオランテン誘導体と下記一般式(7)で表されるホ
ウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例えば、
テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム、
ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムクロライ
ド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応させるこ
とにより製造することができる(例えば、Chem.Rev.,9
5,2457(1995)に記載の方法を参照)。
じ意味を表し、Z1はハロゲン原子を表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
合物は、例えば、一般式(8)で表わされるホウ酸化合
物と下記一般式(9)で表わされる4−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造することが
できる。
じ意味を表し、Z2はハロゲン原子を表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
る化合物は、例えば、一般式(9)および一般式(6)
で表される化合物より、例えば、n−ブチルリチウム、
金属マグネシウムを作用させて調整できるリチオ化合物
またはグリニヤール試薬と、例えば、トリメトキシホウ
素、トリイソプロポキシホウ素などにより調整すること
ができる(例えば、Chem.Rev.,95,2457(1995)に記載の
方法を参照)。
物は、例えば、下記一般式(10)で表わされる3,
4’−ビベンゾ[j]フルオランテン誘導体を酸化剤(例
えば、塩化アルミニウム/塩化第二銅、塩化アルミニウ
ム/塩化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ
酢酸タリウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄)の存在下
で反応させることにより製造することができる(例え
ば、J.Amer.Chem.Soc.,118,2374(1996)に記載の方法を
参照)。
じ意味を表す。)
えば、一般式(11)で表わされる4−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体と下記一般式(12)で表さ
れるホウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例
えば、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム、ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムク
ロライド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応さ
せることにより製造することができる(例えば、Chem.R
ev.,95,2457(1995)に記載の方法を参照)。
じ意味を表し、Z3はハロゲン原子を表す。)
原子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子を表す。
化合物は、例えば、一般式(13)で表わされるホウ酸
化合物と下記一般式(14)で表わされる3−ハロゲノ
ベンゾ[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造する
ことができる。
じ意味を表し、Z4はハロゲン原子を表す。)
原子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子を表す。
される化合物は、例えば、一般式(14)および一般式
(11)で表される化合物より、例えば、n−ブチルリ
チウム、金属マグネシウムを作用させて調整できるリチ
オ化合物またはグリニヤール試薬と、例えば、トリメト
キシホウ素、トリイソプロポキシホウ素などにより調整
することができる(例えば、Chem.Rev.,95,2457(1995)
に記載の方法を参照)。
一般式(2−A)で表わされる化合物は、例えば、下記
一般式(15)で表わされる3,3’−ビベンゾ[j]フ
ルオランテン誘導体を酸化剤(例えば、塩化アルミニウ
ム/塩化第二銅、塩化アルミニウム/塩化ナトリウム、
三フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タリウム、四酢酸
鉛、または塩化第二鉄)の存在下で反応させることによ
り製造することができる(例えば、J.Amer.Chem.Soc.,1
18,2374(1996)に記載の方法を参照)。
じ意味を表す。)
えば、一般式(6)で表わされる3−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体と下記一般式(12)で表さ
れるホウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例
えば、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム、ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムク
ロライド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応さ
せることにより製造することができる(例えば、Chem.R
ev.,95,2457(1995)に記載の方法を参照)。
化合物は、例えば、一般式(8)で表わされるホウ酸化
合物と下記一般式(14)で表わされる3−ハロゲノベ
ンゾ[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造するこ
とができる。
物は、例えば、下記一般式(16)で表わされる4,
4’−ビベンゾ[j]フルオランテン誘導体を酸化剤(例
えば、塩化アルミニウム/塩化第二銅、塩化アルミニウ
ム/塩化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ
酢酸タリウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄)の存在下
で反応させることにより製造することができる(例え
ば、J.Amer.Chem.Soc.,118,2374(1996)に記載の方法を
参照)。
じ意味を表す。)
えば、一般式(11)で表わされる4−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体と下記一般式(7)で表され
るホウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例え
ば、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウ
ム、ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムクロ
ライド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水
素ナトリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応させ
ることにより製造することができる(例えば、Chem.Re
v.,95,2457(1995)に記載の方法を参照)。
化合物は、例えば、一般式(13)で表わされるホウ酸
化合物と下記一般式(9)で表わされる4−ハロゲノベ
ンゾ[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造するこ
とができる。
した溶媒(例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒)との溶媒和を形成した形で製造されることがある
が、本発明においては、本発明に係る化合物Aはこのよ
うな溶媒和物を包含するものである。勿論、溶媒を含有
しない無溶媒和物をも包含するものである。本発明の有
機電界発光素子には、本発明に係る化合物Aの無溶媒和
物は勿論、このような溶媒和物をも使用することができ
る。
に使用する場合、再結晶法、カラムクロマトグラフィー
法、昇華精製法などの精製方法、あるいはこれらの方法
を併用して、純度を高めた化合物を使用することは好ま
しいことである。
に、少なくとも一種の発光成分を含有する発光層を、少
なくとも一層挟持してなるものである。発光層に使用す
る化合物の正孔注入および正孔輸送、電子注入および電
子輸送の各機能レベルを考慮し、所望に応じて、正孔注
入輸送成分を含有する正孔注入輸送層および/または電
子注入輸送成分を含有する電子注入輸送層を設けること
もできる。
入機能、正孔輸送機能および/または電子注入機能、電
子輸送機能が良好な場合には、発光層が正孔注入輸送層
および/または電子注入輸送層を兼ねた型の素子の構成
とすることができる。勿論、場合によっては、正孔注入
輸送層および電子注入輸送層の両方の層を設けない型の
素子(一層型素子)の構成とすることもできる。
よび発光層のそれぞれの層は、一層構造であっても、ま
た、多層構造であってもよく、正孔注入輸送層および電
子注入輸送層は、それぞれの層において、注入機能を有
する層と輸送機能を有する層を別々に設けて構成するこ
ともできる。
明に係る化合物Aは、正孔注入輸送成分、発光成分また
は電子注入輸送成分に用いることが好ましく、正孔注入
輸送成分または発光成分に用いることがより好ましく、
発光成分に用いることが特に好ましい。本発明の有機電
界発光素子においては、本発明に係る化合物Aは、単独
で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
は、特に限定するものではなく、例えば、(A)陽極/
正孔注入輸送層/発光層/電子注入輸送層/陰極型素子
(図1)、(B)陽極/正孔注入輸送層/発光層/陰極
型素子(図2)、(C)陽極/発光層/電子注入輸送層
/陰極型素子(図3)、(D)陽極/発光層/陰極型素
子(図4)などを挙げることができる。さらには、発光
層を電子注入輸送層で挟み込んだ型の素子である(E)
陽極/正孔注入輸送層/電子注入輸送層/発光層/電子
注入輸送層/陰極型素子(図5)とすることもできる。
(D)型の素子構成としては、発光成分を一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子を包含するものである
が、さらには、例えば、(F)正孔注入輸送成分、発光
成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図6)、(G)正孔
注入輸送成分および発光成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図7)、(H)発光
成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図8)がある。
れらの素子構成に限るものではなく、それぞれの型の素
子において、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層
を複数層設けたりすることができる。また、それぞれの
型の素子において、正孔注入輸送層と発光層との間に、
正孔注入輸送成分と発光成分の混合層および/または発
光層と電子注入輸送層との間に、発光成分と電子注入輸
送成分の混合層を設けることもできる。
(A)型素子、(B)型素子、(C)型素子、(E)型
素子、(F)型素子、(G)型素子または(H)型素子
であり、さらに好ましくは、(A)型素子、(B)型素
子、(C)型素子、(F)型素子、または(H)型素子
である。
に示す(A)陽極/正孔注入輸送層/発光層/電子注入
輸送層/陰極型素子を代表例として説明する。図1にお
いて、1は基板、2は陽極、3は正孔注入輸送層、4は
発光層、5は電子注入輸送層、6は陰極、7は電源を示
す。
れていることが好ましく、基板としては、特に限定する
ものではないが、透明ないし半透明であることが好まし
く、例えば、ガラス板、透明プラスチックシート(例え
ば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのシート)、半透明プラスチックシート、
石英、透明セラミックスあるいはこれらを組み合わせた
複合シートからなるものを挙げることができる。さら
に、基板に、例えば、カラーフィルター膜、色変換膜、
誘電体反射膜を組み合わせて、発光色をコントロールす
ることもできる。
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。
ば、金、白金、銀、銅、コバルト、ニッケル、パラジウ
ム、バナジウム、タングステン、酸化錫、酸化亜鉛、I
TO(インジウム・ティン・オキサイド)、ポリチオフ
ェン、ポリピロールなどを挙げることができる。これら
の電極物質は、単独で使用してもよく、あるいは複数併
用してもよい。
ば、蒸着法、スパッタリング法などの方法により、基板
の上に形成することができる。また、陽極は一層構造で
あってもよく、あるいは多層構造であってもよい。
百Ω/□以下、より好ましくは、5〜50Ω/□程度に
設定する。
もよるが、一般に、5〜1000nm程度、より好まし
くは、10〜500nm程度に設定する。
ール)の注入を容易にする機能、および注入された正孔
を輸送する機能を有する化合物を含有する層である。
および/または他の正孔注入輸送機能を有する化合物
(例えば、フタロシアニン誘導体、トリアリールメタン
誘導体、トリアリールアミン誘導体、オキサゾール誘導
体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ピラゾリン
誘導体、ポリシラン誘導体、ポリフェニレンビニレンお
よびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール誘導体など)を少なくとも
一種用いて形成することができる。尚、正孔注入輸送機
能を有する化合物は、単独で使用してもよく、あるいは
複数併用してもよい。
能を有する化合物としては、トリアリールアミン誘導
体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール誘導体が好ましい。
4,4’−ビス〔N−フェニル−N−(4”−メチルフ
ェニル)アミノ〕ビフェニル、4,4’−ビス〔N−フ
ェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミノ〕ビフェ
ニル、4,4’−ビス〔N−フェニル−N−(3”−メ
トキシフェニル)アミノ〕ビフェニル、4,4’−ビス
〔N−フェニル−N−(1”−ナフチル)アミノ〕ビフ
ェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ビス〔N−フ
ェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミノ〕ビフェ
ニル、1,1−ビス〔4’−[N,N−ジ(4”−メチ
ルフェニル)アミノ]フェニル〕シクロヘキサン、9,
10−ビス〔N−(4’−メチルフェニル)−N−
(4”−n−ブチルフェニル)アミノ〕フェナントレ
ン、3,8−ビス(N,N−ジフェニルアミノ)−6−
フェニルフェナントリジン、4−メチル−N,N−ビス
〔4”,4'''−ビス[N’,N''−ジ(4−メチルフ
ェニル)アミノ]ビフェニル−4−イル〕アニリン、
N,N'’−ビス〔4−(ジフェニルアミノ)フェニ
ル〕−N,N’−ジフェニル−1,3−ジアミノベンゼ
ン、N,N’−ビス〔4−(ジフェニルアミノ)フェニ
ル〕−N,N’−ジフェニル−1,4−ジアミノベンゼ
ン、5,5”−ビス〔4−(ビス[4−メチルフェニ
ル]アミノ)フェニル〕−2,2’:5’,2”−ター
チオフェン、1,3,5−トリス(ジフェニルアミノ)
ベンゼン、4,4’,4”−トリス(N−カルバゾリイ
ル)トリフェニルアミン、4,4’,4”−トリス〔N
−(3'''−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕
トリフェニルアミン、4,4’,4”−トリス〔N,N
−ビス(4'''−tert−ブチルビフェニル−4""−イ
ル)アミノ〕トリフェニルアミン、1,3,5−トリス
〔N−(4’−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェ
ニルアミノ〕ベンゼンなどを挙げることができる。
機能を有する化合物を併用する場合、正孔注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により励起子を
生成させる機能を有する化合物を含有する層である。
または他の発光機能を有する化合物、例えばアクリドン
誘導体、キナクリドン誘導体、ジケトピロロピロール誘
導体、多環芳香族化合物、トリアリールアミン誘導体、
有機金属錯体、スチルベン誘導体、クマリン誘導体、ピ
ラン誘導体、オキサゾン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘
導体、ピラジン誘導体、ケイ皮酸エステル誘導体、ポリ
−N−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリチオ
フェンおよびその誘導体、ポリフェニレンおよびその誘
導体、ポリフルオレンおよびその誘導体、ポリフェニレ
ンビニレンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレ
ンおよびその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよ
びその誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導
体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体などを少
なくとも一種用いて形成することができる。
ン、アントラセン、テトラセン、ピレン、ペリレン、ク
リセン、デカシクレン、コロネン、テトラフェニルシク
ロペンタジエン、ペンタフェニルシクロヘキサジエン、
9,10−ジフェニルアントラセン、9,10−ビス
(フェニルエチニル)アントラセン、1,4−ビス
(9’−エチニルアントラセニル)ベンゼン、4,4’
−ビス(9”−エチニルアントラセニル)ビフェニルな
どを挙げることができる。
正孔注入輸送機能を有する化合物として前述した化合物
を挙げることができる。
リラート)アルミニウム、ビス(10−ベンゾ[h]キノ
リノラート)ベリリウム、2−(2’−ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾオキサゾールの亜鉛塩、2−(2’−ヒド
ロキシフェニル)ベンゾチアゾールの亜鉛塩、4−ヒド
ロキシアクリジンの亜鉛塩、3−ヒドロキシフラボンの
亜鉛塩、5−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、5−
ヒドロキシフラボンのアルミニウム塩などを挙げること
ができる。
4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン、4,4’−
ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル、4,
4’−ビス〔(1,1,2−トリフェニル)エテニル〕
ビフェニルなどを挙げることができる。
マリン6、クマリン7、クマリン30、クマリン10
6、クマリン138、クマリン151、クマリン15
2、クマリン153、クマリン307、クマリン31
1、クマリン314、クマリン334、クマリン33
8、クマリン343、クマリン500などを挙げること
ができる。
DCM2などであり、オキサゾン誘導体の好ましい例
は、ナイルレッドなどである。
光層に本発明に係る化合物Aを含有していることが好ま
しい。
する化合物を併用する場合、発光層中に占める本発明に
係る化合物Aの割合は、好ましくは、0.001〜9
9.999重量%程度、より好ましくは、0.01〜9
9.99重量%程度、さらに好ましくは、0.1〜9
9.9重量%程度に調製する。
る化合物としては、発光性有機金属錯体が好ましい。例
えば、J.Appl.Phys.,65,3610(1989)、特開平5−214
332号公報に記載のように、発光層をホスト化合物と
ゲスト化合物(ドーパント)とより構成することもでき
る。
して用いて発光層を形成することができ、さらには、ゲ
スト化合物として用いて発光層を形成することもでき
る。
して用いて発光層を形成する場合、ホスト化合物として
は、例えば、前記の他の発光機能を有する化合物を挙げ
ることができ、例えば、発光性有機金属錯体または前記
のトリアリールアミン誘導体はより好ましい。
アリールアミン誘導体に対して、本発明に係る化合物A
を、好ましくは、0.001〜40重量%程度、より好
ましくは、0.01〜30重量%程度、特に好ましく
は、0.1〜20重量%程度使用する。
機金属錯体としては、特に限定するものではないが、発
光性有機アルミニウム錯体が好ましく、置換または未置
換の8−キノリノラート配位子を有する発光性有機アル
ミニウム錯体がより好ましい。好ましい発光性有機金属
錯体としては、例えば、一般式(a)〜一般式(c)で
表される発光性有機アルミニウム錯体を挙げることがで
きる。
位子を表す) (Q)2−Al−O−L (b) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表し、O
−Lはフェノラート配位子であり、Lはフェニル部分を
含む炭素数6〜24の炭化水素基を表す) (Q)2−Al−O−Al−(Q)2 (c) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表す)
えば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム、ト
リス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、トリス(5−メチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウム、トリス(3,4−ジメチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、トリス(4,5−ジメチル−8−キ
ノリノラート)アルミニウム、トリス(4,6−ジメチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メ
チル−8−キノリノラート)(フェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3−メチルフェノラート)ア
ルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(4−メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2−フェニルフェノラ
ート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノ
ラート)(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−フェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,3−ジメチルフェノラート)
アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)(2,6−ジメチルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(3,4−ジ
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ート)(3,5−ジ−tert−ブチルフェノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(2,6−ジフェニルフェノラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−
トリフェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−トリメチ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,4,5,6−テトラメチルフ
ェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−ナフトラ
ート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キ
ノリノラート)(2−フェニルフェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)
(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス
(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)(4−フェ
ニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメ
チル−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラート)(3,5−ジ−tert−ブチル
フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)ア
ルミニウム−μ−オキソ−ビス(2,4−ジメチル−8
−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−
4−エチル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−
オキソ−ビス(2−メチル−4−エチル−8−キノリノ
ラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−4−メトキ
シ−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−4−メトキシ−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル
−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビ
ス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリ
ノラート)アルミニウムなどを挙げることができる。勿
論、発光性有機金属錯体は、単独で使用してもよく、あ
るいは複数併用してもよい。
入を容易にする機能、そして注入された電子を輸送する
機能を有する化合物を含有する層である。
および/または他の電子注入輸送機能を有する化合物、
例えば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム、
ビス(10−ベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム、
5−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、5−ヒドロキ
シフラボンのアルミニウム塩などの有機金属錯体;1,
3−ビス[5’−(p−tert−ブチルフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール−2’−イル]ベンゼンなど
のオキサジアゾール誘導体; 〔例えば、3−(4’−
tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4”−
ビフェニル)−1,2,4−トリアゾールなどのトリア
ゾール誘導体; トリアジン誘導体、ペリレン誘導体、
キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノ
ン誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピラン
ジオキサイド誘導体などを少なくとも一種用いて形成す
ることができる。
機能を有する化合物を併用する場合、電子注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
有機金属錯体(例えば、前記一般式(a)〜一般式
(c)で表される化合物)を併用して、電子注入輸送層
を形成することは好ましい。
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。
ば、リチウム、リチウム−インジウム合金、ナトリウ
ム、ナトリウム−カリウム合金、カルシウム、マグネシ
ウム、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウ
ム合金、インジウム、ルテニウム、チタニウム、マンガ
ン、イットリウム、アルミニウム、アルミニウム−リチ
ウム合金、アルミニウム−カルシウム合金、アルミニウ
ム−マグネシウム合金、グラファイト薄膜などを挙げる
ことができる。これらの電極物質は、単独で使用しても
よく、あるいは、複数併用してもよい。
ば、蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオ
ンプレーティング法、クラスターイオンビーム法などの
方法により、電子注入輸送層の上に形成することができ
る。
るいは多層構造であってもよい。尚、陰極のシート電気
抵抗は、数百Ω/□以下に設定することが好ましい。
もよるが、一般に、5〜1000nm程度、より好まし
くは、10〜500nm程度に設定する。
り出すために、陽極または陰極の少なくとも一方の電極
が、透明ないし半透明であることが好ましく、一般に、
発光光の透過率が70%以上となるように陽極の材料、
厚みを設定することがより好ましい。
は、その少なくとも一層中に、一重項酸素クエンチャー
が含有されていてもよい。一重項酸素クエンチャーとし
ては、特に限定するものではなく、例えば、ルブレン、
ニッケル錯体、ジフェニルイソベンゾフランなどが挙げ
られ、特に好ましくは、ルブレンである。
層としては、特に限定するものではないが、好ましく
は、発光層または正孔注入輸送層であり、より好ましく
は、正孔注入輸送層である。尚、例えば、正孔注入輸送
層に一重項クエンチャーを含有させる場合、正孔注入輸
送層中に均一に含有させてもよく、正孔注入輸送層と隣
接する層(例えば、発光層、発光機能を有する電子注入
輸送層)の近傍に含有させてもよい。
は、含有される層(例えば、正孔注入輸送層)を構成す
る全体量の0.01〜50重量%、好ましくは、0.0
5〜30重量%、より好ましくは、0.1〜20重量%
である。
の形成方法に関しては、特に限定するものではなく、例
えば、真空蒸着法、イオン化蒸着法、溶液塗布法(例え
ば、スピンコート法、キャスト法、ディップコート法、
バーコート法、ロールコート法、ラングミュア・ブロゼ
ット法、インクジェット法など)により薄膜を形成する
ことにより作成することができる。
真空蒸着の条件は、特に限定するものではないが、10
-3Pa程度の真空下で、50〜600℃程度のボート温
度(蒸着源温度)、−50〜300℃程度の基板温度
で、0.005〜50nm/sec程度の蒸着速度で実
施することが好ましい。
注入輸送層などの各層は、真空下で、連続して形成する
ことにより、諸特性に一層優れた有機電界発光素子を製
造することができる。
層、電子注入輸送層などの各層を、複数の化合物を用い
て形成する場合、化合物を入れた各ボートを個別に温度
制御して、共蒸着することが好ましい。
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、溶媒に溶解、または分散させて塗布液とする。
の各層に使用しうるバインダー樹脂としては、例えば、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアリレート、ポリ
スチレン、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリメチル
アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテ
ル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリ
フェニレンオキサイド、ポリエーテルスルフォン、ポリ
アニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその
誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポ
リフルオレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレ
ンおよびその誘導体などの高分子化合物が挙げられる。
バインダー樹脂は、単独で使用してもよく、あるいは、
複数併用してもよい。
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、適当な有機溶媒および/または水に溶解、または分
散させて塗布液とし、各種の塗布法により、薄膜を形成
することができる。
ン、デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、1
−メチルナフタレンなどの炭化水素系溶媒; アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン系溶媒; ジクロロメタ
ン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどのハロ
ゲン化炭化水素系溶媒; 酢酸エチル、酢酸ブチル、酢
酸アミルなどのエステル系溶媒; メタノール、プロパ
ノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、エチレングリコールなどのアルコール系溶媒; ジ
ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ア
ニソールなどのエーテル系溶媒; N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチ
ル−2−ピロリドン、1−メチル−2−イミダゾリジノ
ン、ジメチルスルフォキサイドなどの極性溶媒)
ものではないが、例えば、ボールミル、サンドミル、ペ
イントシェーカー、アトライター、ホモジナイザーなど
を用いて微粒子状に分散することができる。
のではなく、実施する塗布法により、所望の厚みを作成
するに適した濃度範囲に設定することができ、一般に
は、0.1〜50重量%程度、好ましくは、1〜30重
量%程度の溶液濃度である。尚、バインダー樹脂を使用
する場合、その使用量に関しては、特に制限するもので
はないが、一般には、各層を形成する成分に対して(一
層型の素子を形成する場合には、各成分の総量に対し
て)、5〜99.9重量%程度、好ましくは、10〜9
9.9重量%程度、より好ましくは、15〜90重量%
程度に設定する。
の膜厚に関しては、特に限定するものではないが、一般
に、5nm〜5μm程度に設定することが好ましい。
接触を防止する目的で、保護層(封止層)を設けたり、
また、素子を、例えば、パラフィン、流動パラフィン、
シリコンオイル、フルオロカーボン油、ゼオライト含有
フルオロカーボン油などの不活性物質中に封入して保護
することができる。
有機高分子材料、無機材料、さらには光硬化性樹脂など
を挙げることができ、保護層に使用する材料は、単独で
使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。保護層
は、一層構造であってもよく、また多層構造であっても
よい。
脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、エポキシシリコー
ン樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
パラキシレン、ポリエチレン、ポリフェニレンオキサイ
ドなどを挙げることができる。
モルファスシリカ、電気絶縁性ガラス、金属酸化物、金
属窒化物、金属炭素化物、金属硫化物などを挙げること
ができる。
(例えば、酸化アルミニウム膜)、金属フッ化膜を設け
ることもできる。
機リン化合物、ポリシラン、芳香族アミン誘導体、フタ
ロシアニン誘導体から成る界面層(中間層)を設けるこ
ともできる。
を、例えば、酸、アンモニア/過酸化水素、あるいはプ
ラズマで処理して使用することもできる。
流駆動型の素子として使用されるが、パルス駆動型また
は交流駆動型の素子としても使用することができる。印
可電圧は、一般に、2〜30V程度である。
ネル型光源、各種の発光素子、各種の表示素子、各種の
標識、各種のセンサーなどに使用することができる。
を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例により何
ら限定されるものではない。
フッ化コバルト11.59gをトリフルオロ酢酸100
ml中、室温にて、5時間撹拌した。水500mlを加
えた後、析出している結晶を濾取し、水で洗浄した。
フィー(溶出液:トルエン)で処理した。トルエンを減
圧下留去した後、残渣をトルエンとアセトンの混合溶媒
より再結晶し、前記で例示した化合物(以下例示化合
物)A−1の化合物を紫色の結晶として2.64g得
た。 質量分析:m/z=500 元素分析:(C40H20として) 融点250℃以上 尚、この化合物は、500℃、10-3Paの条件下で昇
華した。吸収極大(トルエン中)585nm
3,4’−ビベンゾ[j]フルオランテンを使用する代わ
りに、種々のビベンゾ[j]フルオランテン誘導体を使用
した以外は、製造例1に記載した方法に従い、種々のビ
スベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体を製造した。
ンテン誘導体、および製造したビスベンゾ[4,5]インデ
ノペリレン誘導体を例示化合物番号で示した。また、ト
ルエン中の吸収極大(nm)も併せて示した。尚、製造
された化合物は、紫色の結晶であり、それらの化合物の
融点は、250℃以上であった。
電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒
素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10-3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。次いで、そ
の上に、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4
−フェニルフェノラート)アルミニウムとビスベンゾ
[4,5]インデノペリレン(例示化合物番号A−1の化合
物)を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/se
cで50nmの厚さに共蒸着(重量比100:0.5)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2460cd/m2の赤色の
発光が確認された。
光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物を使用
する代わりに、例示化合物番号A−6の化合物(実施例
2)、例示化合物番号A−9の化合物(実施例3)、例
示化合物番号A−14の化合物(実施例4)、例示化合
物番号B−5の化合物(実施例5)、例示化合物番号B
−9の化合物(実施例6)、例示化合物番号B−15の
化合物(実施例7)、例示化合物番号B−20の化合物
(実施例8)、例示化合物番号C−2の化合物(実施例
9)、例示化合物番号C−4の化合物(実施例10)、
例示化合物番号C−7の化合物(実施例11)、 例示
化合物番号C−12の化合物(実施例12)、例示化合
物番号C−16の化合物(実施例13)、例示化合物番
号C−20の化合物(実施例14)、例示化合物番号C
−22の化合物(実施例15)、例示化合物番号C−2
4の化合物(実施例16)、例示化合物番号C−28の
化合物(実施例17)、例示化合物番号C−30の化合
物(実施例18)、例示化合物番号C−32の化合物
(実施例19)、例示化合物番号C−40の化合物(実
施例20)、例示化合物番号C−42の化合物(実施例
21)、例示化合物番号C−47の化合物(実施例2
2)、例示化合物番号C−52の化合物(実施例2
3)、例示化合物番号C−55の化合物(実施例2
4)、例示化合物番号C−59の化合物(実施例2
5)、例示化合物番号D−1の化合物(実施例26)、
例示化合物番号D−6の化合物(実施例27)、例示化
合物番号D−9の化合物(実施例28)、例示化合物番
号D−14の化合物(実施例29)、例示化合物番号E
−5の化合物(実施例30)、例示化合物番号E−9の
化合物(実施例31)、例示化合物番号E−15の化合
物(実施例32)、例示化合物番号E−20の化合物
(実施例33)、例示化合物番号F−2の化合物(実施
例34)、例示化合物番号F−4の化合物(実施例3
5)、例示化合物番号F−7の化合物(実施例36)、
例示化合物番号F−12の化合物(実施例37)、例示
化合物番号F−16の化合物(実施例38)、例示化合
物番号F−20の化合物(実施例39)、例示化合物番
号F−22の化合物(実施例40)、例示化合物番号F
−24の化合物(実施例41)、例示化合物番号F−2
8の化合物(実施例42)、例示化合物番号F−30の
化合物(実施例43)、例示化合物番号F−32の化合
物(実施例44)、例示化合物番号F−40の化合物
(実施例45)、例示化合物番号F−42の化合物(実
施例46)、例示化合物番号F−47の化合物(実施例
47)、例示化合物番号F−52の化合物(実施例4
8)、例示化合物番号F−55の化合物(実施例4
9)、例示化合物番号F−59の化合物(実施例50)
を使用した以外は、実施例1に記載の方法により有機電
界発光素子を作製した。それぞれの素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、橙赤〜赤色の
発光が確認された。さらにその特性を調べ、結果を第2
表に示した。
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用せ
ずに、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−
フェニルフェノラート)アルミニウムだけを用いて、5
0nmの厚さに蒸着し、発光層とした以外は、実施例1
に記載の方法により有機電界発光素子を作製した。この
素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したと
ころ、青色の発光が確認された。さらにその特性を調
べ、結果を第2表に示した。
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用す
る代わりに、N−メチル−2−メトキシアクリドンを使
用した以外は、実施例1に記載の方法により有機電界発
光素子を作製した。この素子に、乾燥雰囲気下、12V
の直流電圧を印加したところ、青色の発光が確認され
た。さらにその特性を調べ、結果を第2表に示した。
電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒
素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号A−9の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
m2の電流が流れた。輝度2320cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号A−14の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
m2の電流が流れた。輝度2380cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号B−9の化合物を、異なる蒸着
源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さ
に共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2370cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3に減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号B−20の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2330cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−2の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2430cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−7の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、
電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
m2の電流が流れた。輝度2420cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号C−12の化合物を、異なる
蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2440cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号C−22の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、52mA/c
m2の電流が流れた。輝度2380cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号C−30の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2360cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−52の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2360cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−59の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、
発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2370cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号D−1の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、
電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2370cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号D−9の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2240cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号D−14の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2390cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号E−9の化合物を、異なる蒸着
源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さ
に共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2340cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10-3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号F−2の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)し、
発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
m2の電流が流れた。輝度2330cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号F−7の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
m2の電流が流れた。輝度2380cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
6の化合物を、蒸着速度0.2nm/secで50nm
の厚さに蒸着し、発光層とした。
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速
度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着(重
量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製
した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施
した。
下、14Vの直流電圧を印加したところ、42mA/c
m2の電流が流れた。輝度1870cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
号F−22の化合物を蒸着速度0.2nm/secで5
5nmの厚さに蒸着し、発光層とした。
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで75nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速
度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着(重
量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製
した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施
した。
下、14Vの直流電圧を印加したところ、62mA/c
m2の電流が流れた。輝度1600cd/m2の赤色の
発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
4”−トリス〔N−(3'''−メチルフェニル)−N−フ
ェニルアミノ〕トリフェニルアミンを蒸着速度0.1n
m/secで、50nmの厚さに蒸着し、第一正孔注入
輸送層とした。
−N−(1”−ナフチル)アミノ〕ビフェニルと例示化
合物番号A−1の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速
度0.2nm/secで20nmの厚さに共蒸着(重量
比100:5)し、第二正孔注入輸送層を兼ねた発光層
とした。
ラート)アルミニウムを、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さ
らにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2n
m/secで200nmの厚さに共蒸着(重量比10:
1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、
蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、61mA/c
m2の電流が流れた。輝度2570cd/m2の赤色の
発光が確認された。
て、発光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物
を使用する代わりに、例示化合物番号A−9の化合物
(実施例71)、例示化合物番号A−14の化合物(実
施例72)、例示化合物番号B−5の化合物(実施例7
3)、例示化合物番号B−9の化合物(実施例74)、
例示化合物番号B−20の化合物(実施例75)、例示
化合物番号C−2の化合物(実施例76)、例示化合物
番号C−7の化合物(実施例77)、例示化合物番号C
−12の化合物(実施例78)、例示化合物番号C−2
0の化合物(実施例79)、例示化合物番号C−30の
化合物(実施例80)、 例示化合物番号C−52の化
合物(実施例81)、例示化合物番号D−1の化合物
(実施例82)、例示化合物番号D−9の化合物(実施
例83)、例示化合物番号E−5の化合物(実施例8
4)、例示化合物番号E−9の化合物(実施例85)、
例示化合物番号E−20の化合物(実施例86)、例示
化合物番号F−2の化合物(実施例87)、例示化合物
番号F−7の化合物(実施例88)、例示化合物番号F
−16の化合物(実施例89)、例示化合物番号F−2
2の化合物(実施例90)、例示化合物番号F−40の
化合物(実施例91)、例示化合物番号F−52の化合
物(実施例92)を使用した以外は、実施例70に記載
の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞれの
素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したと
ころ、橙赤〜赤色の発光が確認された。さらにその特性
を調べ、結果を第3表に示した。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,1,4,4,−テトラフェニル1,3−ブタジエン
(青色の発光成分)、クマリン6〔”3−(2’−ベン
ゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン”(緑色
の発光成分)〕、および例示化合物番号A−14の化合
物を、それぞれ重量比100:5:3:2の割合で含有
する3重量%のジクロロエタン溶液を用いて、ディップ
コート法により、400nmの発光層を形成した。
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4×1
0−3Paに減圧した。さらに、発光層の上に、3−
(4’−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−
(4”−ビフェニル)1,2,4−トリアゾールを蒸着
速度0.2nm/secで20nmの厚さに蒸着した
後、さらにその上に、トリス(8−キノリノラート)ア
ルミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで30nm
の厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、61mA/c
m2の電流が流れた。輝度1310cd/m2の白色の
発光が確認された。
て、例示化合物番号A−14の化合物を用いる代わり
に、例示化合物番号B−9の化合物(実施例94)、例
示化合物番号C−16の化合物(実施例95)、例示化
合物番号C−24の化合物(実施例96)、例示化合物
番号C−55の化合物(実施例97)、例示化合物番号
C−59の化合物(実施例98)、例示化合物番号D−
14の化合物(実施例99)、例示化合物番号E−15
の化合物(実施例100)、例示化合物番号F−24の
化合物(実施例101)、例示化合物番号F−59の化
合物(実施例102)を使用した以外は、実施例93に
記載の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞ
れの素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加し
たところ、白色の発光が観察された。さらにその特性を
調べ、結果を第4表に示した。
透明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、ア
セトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板
を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,3−ビス〔5’−(p−tert−ブチルフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール−2’−イル〕ベンゼン
および例示化合物番号C−22の化合物を、それぞれ重
量比100:30:3の割合で含有する3重量%のジク
ロロエタン溶液を用いて、ディップコート法により、3
00nmの発光層を形成した。
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4×1
0−3Paに減圧した。さらに、発光層の上に、マグネ
シウムと銀を、蒸着速度0.2nm/secで200n
mの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、有
機電界発光素子を作製した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、63mA/c
m2の電流が流れた。輝度1480cd/m2の赤色の
発光が確認された。
層の形成に際して、例示化合物番号C−12の化合物の
代わりに、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−
ブタジエンを使用した以外は、実施例103に記載の方
法により有機電界発光素子を作製した。作製した有機電
界発光素子に、乾燥雰囲気下、15Vの直流電圧を印加
したところ、86mA/cm2の電流が流れた。輝度7
60cd/m2の青色の発光が確認された。
透明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、ア
セトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板
を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ート(重量平均分子量50000)、4,4’−ビス
〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)アルミニウムおよび例示化合物番号
E−9の化合物を、それぞれ重量比100:40:6
0:1の割合で含有する3重量%のジクロロエタン溶液
を用いて、ディップコート法により、300nmの発光
層を形成した。
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4×1
0−3Paに減圧した。さらに、発光層の上に、マグネ
シウムと銀を、蒸着速度0.2nm/secで200n
mの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、有
機電界発光素子を作製した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、59mA/c
m2の電流が流れた。輝度950cd/m2の赤色の発
光が確認された。
界発光素子を提供することが可能になった。さらに、該
発光素子に適した炭化水素化合物を提供することが可能
になった。
合した層) 4'' :発光層(発光成分および電子注入輸送成分を混
合した層) 4''' :発光層(発光成分、正孔注入輸送成分および電
子注入輸送成分を混合した層) 5 :電子注入輸送層 6 :陰極 7 :電源
Claims (10)
- 【請求項1】 一対の電極間に、ビスベンゾ[4,5]イン
デノペリレン誘導体を少なくとも一種含有する層を、少
なくとも一層挟持してなる有機電界発光素子。 - 【請求項2】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体を含有する層が、さらに、発光性有機金属錯体を含有
することを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素
子。 - 【請求項3】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体を含有する層が、さらに、トリアリールアミン誘導体
を含有することを特徴とする請求項1に記載の有機電界
発光素子。 - 【請求項4】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体を含有する層が、発光層である請求項1または2に記
載の有機電界発光素子。 - 【請求項5】 一対の電極間に、さらに、正孔注入輸送
層を有する請求項4に記載の有機電界発光素子。 - 【請求項6】 一対の電極間に、さらに、電子注入輸送
層を有する請求項4または5のいずれかに記載の有機電
界発光素子。 - 【請求項7】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体が、ビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,3-cd:1',2',3'-l
m]ペリレン誘導体またはビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,
3-cd:3',2',1'-lm]ペリレン誘導体である請求項1〜6
のいずれかに記載の有機電界発光素子。 - 【請求項8】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体が、一般式(1−A)または一般式(2−A)で表さ
れる化合物である請求項1〜6のいずれかに記載の有機
電界発光素子。 【化1】 【化2】 (式中、X1〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
は未置換のアリール基を表す。) - 【請求項9】 一般式(1−A)で表される化合物。 【化3】 (式中、X1〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
は未置換のアリール基を表す。) - 【請求項10】 一般式(2−A)で表される化合物。 【化4】 (式中、X1〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
は未置換のアリール基を表す。)
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