JP2002280182A - 炭化水素化合物および有機電界発光素子 - Google Patents

炭化水素化合物および有機電界発光素子

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JP2002280182A JP2001082846A JP2001082846A JP2002280182A JP 2002280182 A JP2002280182 A JP 2002280182A JP 2001082846 A JP2001082846 A JP 2001082846A JP 2001082846 A JP2001082846 A JP 2001082846A JP 2002280182 A JP2002280182 A JP 2002280182A
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良満 田辺
Yoshiyuki Totani
由之 戸谷
Masakatsu Nakatsuka
正勝 中塚
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 発光効率に優れ、高輝度に発光する有機
電界発光素子を提供すること、および該発光素子に好適
に使用できる新規な炭化水素化合物を提供すること。 【解決手段】 一対の電極間に、ビスベンゾ[4,5]イン
デノペリレン誘導体を少なくとも一種含有する層を、少
なくとも一層挟持してなる有機電界発光素子、および新
規なビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機電界発光素子
および該発光素子に好適に使用できる新規な炭化水素化
合物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、無機電界発光素子は、例えば、バ
ックライトなどのパネル型光源として使用されてきた
が、該発光素子を駆動させるには、交流の高電圧が必要
である。最近になり、発光材料に有機材料を用いた有機
電界発光素子(有機エレクトロルミネッセンス素子:有
機EL素子)が開発された[Appl.Phys.Lett.,51,913(19
87)]。有機電界発光素子は、蛍光性有機化合物を含む薄
膜を、陽極と陰極間に挟持された構造を有し、該薄膜に
電子および正孔(ホール)を注入して、再結合させるこ
とにより励起子(エキシトン)を生成させ、この励起子
が失活する際に放出される光を利用して発光する素子で
ある。有機電界発光素子は、数V〜数十V程度の直流の
低電圧で、発光が可能であり、また蛍光性有機化合物の
種類を選択することにより種々の色(例えば、赤色、青
色、緑色)の発光が可能である。このような特徴を有す
る有機電界発光素子は、種々の発光素子、表示素子等へ
の応用が期待されている。しかしながら、一般に、発光
輝度が低く、実用上十分ではない。
【0003】発光輝度を向上させる方法として、発光層
として、例えば、トリス(8−キノリノラート)アルミ
ニウムをホスト化合物、クマリン誘導体、ピラン誘導体
をゲスト化合物(ドーパント)として用いた有機電界発
光素子が提案されている[J.Appl.Phys.,65,3610(198
9)]。また、発光層として、例えば、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)
アルミニウムをホスト化合物、アクリドン誘導体(例え
ば、N−メチル−2−メトキシアクリドン)をゲスト化
合物として用いた有機電界発光素子が提案されている
(特開平8−67873号公報)。しかしながら、これ
らの発光素子も充分な発光輝度を有しているとは言い難
い。現在では、一層高輝度に発光する有機電界発光素子
が望まれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、発光
効率に優れ、高輝度に発光する有機電界発光素子を提供
することである。さらには、該発光素子に好適に使用で
きる新規な炭化水素化合物を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、有機電界
発光素子に関して鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち本発明は、 一対の電極間に、ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン
誘導体を少なくとも一種含有する層を、少なくとも一層
挟持してなる有機電界発光素子を提供する。
【0006】ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体を含有する層が、さらに、発光性有機金属錯体を含有
することを特徴とする前記に記載の有機電界発光素子
は、本発明の好ましい態様である。
【0007】ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体を含有する層が、さらに、トリアリールアミン誘導体
を含有することを特徴とする前記または記載の有機
電界発光素子も、本発明の好ましい態様である。
【0008】ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体を含有する層が、発光層である前記に記載の有機電
界発光素子は、本発明の好ましい態様である。
【0009】一対の電極間に、さらに、正孔注入輸送
層を有する前記に記載の有機電界発光素子も、本発明
の好ましい態様である。
【0010】一対の電極間に、さらに、電子注入輸送
層を有する前記またはのいずれかに記載の有機電界
発光素子も、本発明の好ましい態様である。
【0011】ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体が、ビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,3-cd:1',2',3'-l
m]ペリレン誘導体またはビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,
3-cd:3',2',1'-lm]ペリレン誘導体である前記〜の
いずれかに記載の有機電界発光素子は、本発明の好まし
い態様である。
【0012】ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
体が、一般式(1−A)または一般式(2−A)で表さ
れる化合物である前記〜のいずれかに記載の有機電
界発光素子も、本発明の好ましい態様である。
【0013】
【化5】
【化6】 (式中、X〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換ま
たは未置換のアリール基を表す。)
【0014】さらに、本発明は、一般式(1−A)で表
される化合物を提供する。
【化7】 (式中、X〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換ま
たは未置換のアリール基を表す。)
【0015】さらに、本発明は、一般式(2−A)で表
される化合物を提供する。
【化8】 (式中、X〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換ま
たは未置換のアリール基を表す。)
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明に関して、詳細に説
明する。本発明の有機電界発光素子は、一対の電極間
に、ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体を少なく
とも一種含有する層を少なくとも一層挟持してなるもの
である。
【0017】本発明に係るビスベンゾ[4,5]インデノペ
リレン誘導体(以下、本発明に係る化合物Aと略記す
る)とは、一般式(1)または一般式(2)で表される
骨格を有する化合物を表すものである。
【0018】
【化9】
【化10】
【0019】一般式(1)または一般式(2)で表され
る骨格は、種々の置換基で置換されていてもよく、本発
明に係る化合物Aは、好ましくは、一般式(1−A)ま
たは一般式(2−A)で表される化合物である。
【0020】
【化11】 (式中、X〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
は未置換のアリール基を表す。)
【0021】一般式(1−A)または一般式(2−A)
で表される化合物において、X〜X20はそれぞれ独
立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状
のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、
あるいは、置換または未置換のアリール基を表す。
【0022】尚、本発明において、アリール基とは、例
えば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環式芳香族
基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基などの
複素環式芳香族基を表す。
【0023】一般式(1−A)または一般式(2−A)
で表される化合物において、好ましくは、X〜X20
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の直鎖、分
岐または環状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖、分
岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数4〜20
の置換または未置換のアリール基を表す。
【0024】一般式(1−A)または一般式(2−A)
のX〜X20のハロゲン原子としては、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子などを挙げることができる。
【0025】アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−
ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−
ペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、
4−メチル−2−ペンチル基、3,3−ジメチルブチル
基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、1−メチル
ヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、n−オクチル
基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エ
チルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、n−ノニル
基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−
4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、
n−デシル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル
基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、1−ヘキシル
ヘプチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル
基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オ
クタデシル基、n−エイコシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−
tert−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シ
クロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル
基などを挙げることができる。
【0026】アルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペ
ンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチ
ルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、3,3−ジメチル
ブチルオキシ基、2−エチルブチルオキシ基、シクロヘ
キシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチル
オキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオ
キシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ
基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、
n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ
基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキ
シ基、n−オクタデシルオキシ基、n−エイコシルオキ
シ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基などを
挙げることができる。
【0027】アリール基としては、フェニル基、2−メ
チルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフ
ェニル基、4−エチルフェニル基、4−n−プロピルフ
ェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチ
ルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−tert−
ブチルフェニル基、4−n−ペンチルフェニル基、4−
イソペンチルフェニル基、4−tert−ペンチルフェニル
基、4−n−ヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシル
フェニル基、4−n−ヘプチルフェニル基、4−n−オ
クチルフェニル基、4−n−ノニルフェニル基、4−n
−デシルフェニル基、4−n−ウンデシルフェニル基、
4−n−ドデシルフェニル基、4−n−テトラデシルフ
ェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメ
チルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6
−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、
3,5−ジメチルフェニル基、3,4,5−トリメチル
フェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル
基、5−インダニル基、1,2,3,4−テトラヒドロ
−5−ナフチル基、1,2,3,4−テトラヒドロ−6
−ナフチル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシ
フェニル基、4−メトキシフェニル基、3−エトキシフ
ェニル基、4−エトキシフェニル基、4−n−プロポキ
シフェニル基、4−イソプロポキシフェニル基、4−n
−ブトキシフェニル基、4−イソブトキシフェニル基、
4−tert−ブトキシフェニル基、−4−n−ペンチルオ
キシフェニル基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、
4−シクロヘキシルオキシフェニル基、4−n−ヘプチ
ルオキシフェニル基、4−n−オクチルオキシフェニル
基、4−n−ノニルオキシフェニル基、4−n−デシル
オキシフェニル基、4−n−ウンデシルオキシフェニル
基、4−n−ドデシルオキシフェニル基、4−n−テト
ラデシルオキシフェニル基、2,3−ジメトキシフェニ
ル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメト
キシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,
5−ジメトキシフェニル基、3,5−ジエトキシフェニ
ル基、2−メトキシ−4−メチルフェニル基、2−メト
キシ−5−メチルフェニル基、2−メチル−4−メトキ
シフェニル基、3−メチル−4−メトキシフェニル基、
3−メチル−5−メトキシフェニル基、2−フルオロフ
ェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェ
ニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル
基、4−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4
−トリフルオロメチルフェニル基、2,4−ジフルオロ
フェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、3,4−ジ
クロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−
メチル−4−クロロフェニル基、3−メチル−4−クロ
ロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフェニル基、3
−クロロ−4−メチルフェニル基、2−クロロ−4−メ
トキシフェニル基、3−メトキシ−4−フルオロフェニ
ル基、3−メトキシ−4−クロロフェニル基、3−フル
オロ−4−メトキシフェニル基、4−フェニルフェニル
基、3−フェニルフェニル基、4−(4’−メチルフェ
ニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニル)フ
ェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4−メチ
ル−1−ナフチル基、4−エトキシ−1−ナフチル基、
6−n−ブチル−2−ナフチル基、6−メトキシ−2−
ナフチル基、7−エトキシ−2−ナフチル基、2−フリ
ル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−ピリジル
基、3−ピリジル基、4−ピリジル基などの置換または
未置換のアリール基を挙げることができる。
【0028】より好ましくは、水素原子、フッ素原子、
塩素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜1
0のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜12のアリー
ル基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原
子、塩素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜
6のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜10のアリー
ル基である。
【0029】本発明の有機電界発光素子においては、ビ
スベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体を少なくとも一
種使用することが特徴であり、例えば、ビスベンゾ[4,
5]インデノペリレン誘導体を発光成分として発光層に用
いると、従来にはない、高輝度で耐久性に優れた赤色に
発光する有機電界発光素子を提供することが可能とな
る。
【0030】また、他の発光成分と組み合わせて発光層
を形成すると、高輝度で耐久性に優れた白色に発光する
有機電界発光素子も提供することが可能となる。
【0031】本発明に係る化合物Aの具体例として、以
下のA−1〜A−15、B−1〜B−20、C−1〜C
−60、D−1〜D−15、E−1〜E−20およびF
−1〜F−60の化合物を挙げることができるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
【0032】
【化12】
【0033】
【化13】
【0034】
【化14】
【0035】
【化15】
【0036】
【化16】
【0037】
【化17】
【0038】
【化18】
【0039】
【化19】
【0040】
【化20】
【0041】
【化21】
【0042】
【化22】
【0043】
【化23】
【0044】
【化24】
【0045】
【化25】
【0046】
【化26】
【0047】
【化27】
【0048】
【化28】
【0049】
【化29】
【0050】
【化30】
【0051】
【化31】
【0052】
【化32】
【0053】
【化33】
【0054】
【化34】
【0055】
【化35】
【0056】
【化36】
【0057】
【化37】
【0058】
【化38】
【0059】
【化39】
【0060】
【化40】
【0061】
【化41】
【0062】
【化42】
【0063】
【化43】
【0064】
【化44】
【0065】
【化45】
【0066】
【化46】
【0067】
【化47】
【0068】
【化48】
【0069】
【化49】
【0070】本発明に係る化合物A、例えば、一般式
(1−A)または一般式(2−A)で表される化合物
は、例えば、以下の方法により製造することができる。
すなわち、下記一般式(3)で表される化合物と下記一
般式(4)で表わされる化合物とを、酸化剤(例えば、
塩化アルミニウム/塩化第二銅、塩化アルミニウム/塩
化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タ
リウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄)の存在下で反応
させる(例えば、J.Amer.Chem.Soc.,118,2374(1996)に
記載の方法を参考にすることができる)ことにより製造
することができる。
【0071】
【化50】
【化51】 (式中、X〜X20は、一般式(1−A)の場合と同
じ意味を表す。)
【0072】一般式(3)または一般式(4)で表わさ
れるベンゾ[j]フルオランテン誘導体は、例えば、J.Or
g.Chem.,58、1415(1993)に記載の方法に従って製造する
ことができる。
【0073】さらに、本発明に関わる化合物A、例えば
一般式(1−A)で表わされる化合物は、例えば、下記
一般式(5)で表わされる3,4’−ビベンゾ[j]フル
オランテン誘導体を酸化剤(例えば、塩化アルミニウム
/塩化第二銅、塩化アルミニウム/塩化ナトリウム、三
フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タリウム、四酢酸
鉛、または塩化第二鉄)の存在下で反応させることによ
り製造することができる(例えば、J.Amer.Chem.Soc.,1
18,2374(1996)に記載の方法を参照)。
【0074】
【化52】 (式中、X〜X20は、一般式(1−A)の場合と同
じ意味を表す。)
【0075】一般式(5)で表わされる化合物は、例え
ば、一般式(6)で表わされる3−ハロゲノベンゾ[j]
フルオランテン誘導体と下記一般式(7)で表されるホ
ウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例えば、
テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム、
ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムクロライ
ド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応させるこ
とにより製造することができる(例えば、Chem.Rev.,9
5,2457(1995)に記載の方法を参照)。
【0076】
【化53】
【化54】 (式中、X〜X20は、一般式(1−A)の場合と同
じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表す。)
【0077】一般式(6)において、Zはハロゲン原
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
【0078】また、同様に一般式(5)で表わされる化
合物は、例えば、一般式(8)で表わされるホウ酸化合
物と下記一般式(9)で表わされる4−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造することが
できる。
【0079】
【化55】
【化56】 (式中、X〜X20は、一般式(1−A)の場合と同
じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表す。)
【0080】一般式(9)において、Zはハロゲン原
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
【0081】一般式(7)および一般式(8)で表され
る化合物は、例えば、一般式(9)および一般式(6)
で表される化合物より、例えば、n−ブチルリチウム、
金属マグネシウムを作用させて調整できるリチオ化合物
またはグリニヤール試薬と、例えば、トリメトキシホウ
素、トリイソプロポキシホウ素などにより調整すること
ができる(例えば、Chem.Rev.,95,2457(1995)に記載の
方法を参照)。
【0082】また、一般式(1−A)で表わされる化合
物は、例えば、下記一般式(10)で表わされる3,
4’−ビベンゾ[j]フルオランテン誘導体を酸化剤(例
えば、塩化アルミニウム/塩化第二銅、塩化アルミニウ
ム/塩化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ
酢酸タリウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄)の存在下
で反応させることにより製造することができる(例え
ば、J.Amer.Chem.Soc.,118,2374(1996)に記載の方法を
参照)。
【0083】
【化57】 (式中、X〜X20は、一般式(1−A)の場合と同
じ意味を表す。)
【0084】一般式(10)で表わされる化合物は、例
えば、一般式(11)で表わされる4−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体と下記一般式(12)で表さ
れるホウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例
えば、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム、ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムク
ロライド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応さ
せることにより製造することができる(例えば、Chem.R
ev.,95,2457(1995)に記載の方法を参照)。
【0085】
【化58】
【化59】 (式中、X〜X20は、一般式(1−A)の場合と同
じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表す。)
【0086】一般式(11)において、Zはハロゲン
原子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子を表す。
【0087】また、同様に一般式(10)で表わされる
化合物は、例えば、一般式(13)で表わされるホウ酸
化合物と下記一般式(14)で表わされる3−ハロゲノ
ベンゾ[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造する
ことができる。
【0088】
【化60】
【化61】 (式中、X〜X20は、一般式(1−A)の場合と同
じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表す。)
【0089】一般式(14)において、Zはハロゲン
原子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子を表す。
【0090】一般式(12)および一般式(13)で表
される化合物は、例えば、一般式(14)および一般式
(11)で表される化合物より、例えば、n−ブチルリ
チウム、金属マグネシウムを作用させて調整できるリチ
オ化合物またはグリニヤール試薬と、例えば、トリメト
キシホウ素、トリイソプロポキシホウ素などにより調整
することができる(例えば、Chem.Rev.,95,2457(1995)
に記載の方法を参照)。
【0091】さらに、本発明に関わる化合物A、例えば
一般式(2−A)で表わされる化合物は、例えば、下記
一般式(15)で表わされる3,3’−ビベンゾ[j]フ
ルオランテン誘導体を酸化剤(例えば、塩化アルミニウ
ム/塩化第二銅、塩化アルミニウム/塩化ナトリウム、
三フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タリウム、四酢酸
鉛、または塩化第二鉄)の存在下で反応させることによ
り製造することができる(例えば、J.Amer.Chem.Soc.,1
18,2374(1996)に記載の方法を参照)。
【0092】
【化62】 (式中、X〜X20は、一般式(2−A)の場合と同
じ意味を表す。)
【0093】一般式(15)で表わされる化合物は、例
えば、一般式(6)で表わされる3−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体と下記一般式(12)で表さ
れるホウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例
えば、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジ
ウム、ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムク
ロライド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応さ
せることにより製造することができる(例えば、Chem.R
ev.,95,2457(1995)に記載の方法を参照)。
【0094】また、同様に一般式(15)で表わされる
化合物は、例えば、一般式(8)で表わされるホウ酸化
合物と下記一般式(14)で表わされる3−ハロゲノベ
ンゾ[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造するこ
とができる。
【0095】また、一般式(2−A)で表わされる化合
物は、例えば、下記一般式(16)で表わされる4,
4’−ビベンゾ[j]フルオランテン誘導体を酸化剤(例
えば、塩化アルミニウム/塩化第二銅、塩化アルミニウ
ム/塩化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ
酢酸タリウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄)の存在下
で反応させることにより製造することができる(例え
ば、J.Amer.Chem.Soc.,118,2374(1996)に記載の方法を
参照)。
【0096】
【化63】 (式中、X〜X20は、一般式(2−A)の場合と同
じ意味を表す。)
【0097】一般式(16)で表わされる化合物は、例
えば、一般式(11)で表わされる4−ハロゲノベンゾ
[j]フルオランテン誘導体と下記一般式(7)で表され
るホウ酸化合物とを、例えば、パラジウム化合物〔例え
ば、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウ
ム、ビス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムクロ
ライド〕および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水
素ナトリウム、トリエチルアミン)の存在下で反応させ
ることにより製造することができる(例えば、Chem.Re
v.,95,2457(1995)に記載の方法を参照)。
【0098】また、同様に一般式(16)で表わされる
化合物は、例えば、一般式(13)で表わされるホウ酸
化合物と下記一般式(9)で表わされる4−ハロゲノベ
ンゾ[j]フルオランテン誘導体とを用いても製造するこ
とができる。
【0099】本発明に係る化合物Aは、場合により使用
した溶媒(例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒)との溶媒和を形成した形で製造されることがある
が、本発明においては、本発明に係る化合物Aはこのよ
うな溶媒和物を包含するものである。勿論、溶媒を含有
しない無溶媒和物をも包含するものである。本発明の有
機電界発光素子には、本発明に係る化合物Aの無溶媒和
物は勿論、このような溶媒和物をも使用することができ
る。
【0100】本発明に係る化合物Aを有機電界発光素子
に使用する場合、再結晶法、カラムクロマトグラフィー
法、昇華精製法などの精製方法、あるいはこれらの方法
を併用して、純度を高めた化合物を使用することは好ま
しいことである。
【0101】有機電界発光素子は、通常、一対の電極間
に、少なくとも一種の発光成分を含有する発光層を、少
なくとも一層挟持してなるものである。発光層に使用す
る化合物の正孔注入および正孔輸送、電子注入および電
子輸送の各機能レベルを考慮し、所望に応じて、正孔注
入輸送成分を含有する正孔注入輸送層および/または電
子注入輸送成分を含有する電子注入輸送層を設けること
もできる。
【0102】例えば、発光層に使用する化合物の正孔注
入機能、正孔輸送機能および/または電子注入機能、電
子輸送機能が良好な場合には、発光層が正孔注入輸送層
および/または電子注入輸送層を兼ねた型の素子の構成
とすることができる。勿論、場合によっては、正孔注入
輸送層および電子注入輸送層の両方の層を設けない型の
素子(一層型素子)の構成とすることもできる。
【0103】また、正孔注入輸送層、電子注入輸送層お
よび発光層のそれぞれの層は、一層構造であっても、ま
た、多層構造であってもよく、正孔注入輸送層および電
子注入輸送層は、それぞれの層において、注入機能を有
する層と輸送機能を有する層を別々に設けて構成するこ
ともできる。
【0104】本発明の有機電界発光素子において、本発
明に係る化合物Aは、正孔注入輸送成分、発光成分また
は電子注入輸送成分に用いることが好ましく、正孔注入
輸送成分または発光成分に用いることがより好ましく、
発光成分に用いることが特に好ましい。本発明の有機電
界発光素子においては、本発明に係る化合物Aは、単独
で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
【0105】本発明の有機電界発光素子の構成として
は、特に限定するものではなく、例えば、(A)陽極/
正孔注入輸送層/発光層/電子注入輸送層/陰極型素子
(図1)、(B)陽極/正孔注入輸送層/発光層/陰極
型素子(図2)、(C)陽極/発光層/電子注入輸送層
/陰極型素子(図3)、(D)陽極/発光層/陰極型素
子(図4)などを挙げることができる。さらには、発光
層を電子注入輸送層で挟み込んだ型の素子である(E)
陽極/正孔注入輸送層/電子注入輸送層/発光層/電子
注入輸送層/陰極型素子(図5)とすることもできる。
(D)型の素子構成としては、発光成分を一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子を包含するものである
が、さらには、例えば、(F)正孔注入輸送成分、発光
成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図6)、(G)正孔
注入輸送成分および発光成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図7)、(H)発光
成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一
対の電極間に挟持させた型の素子(図8)がある。
【0106】本発明の有機電界発光素子においては、こ
れらの素子構成に限るものではなく、それぞれの型の素
子において、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層
を複数層設けたりすることができる。また、それぞれの
型の素子において、正孔注入輸送層と発光層との間に、
正孔注入輸送成分と発光成分の混合層および/または発
光層と電子注入輸送層との間に、発光成分と電子注入輸
送成分の混合層を設けることもできる。
【0107】より好ましい有機電界発光素子の構成は、
(A)型素子、(B)型素子、(C)型素子、(E)型
素子、(F)型素子、(G)型素子または(H)型素子
であり、さらに好ましくは、(A)型素子、(B)型素
子、(C)型素子、(F)型素子、または(H)型素子
である。
【0108】本発明の有機電界発光素子について、図1
に示す(A)陽極/正孔注入輸送層/発光層/電子注入
輸送層/陰極型素子を代表例として説明する。図1にお
いて、1は基板、2は陽極、3は正孔注入輸送層、4は
発光層、5は電子注入輸送層、6は陰極、7は電源を示
す。
【0109】本発明の電界発光素子は、基板1に支持さ
れていることが好ましく、基板としては、特に限定する
ものではないが、透明ないし半透明であることが好まし
く、例えば、ガラス板、透明プラスチックシート(例え
ば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのシート)、半透明プラスチックシート、
石英、透明セラミックスあるいはこれらを組み合わせた
複合シートからなるものを挙げることができる。さら
に、基板に、例えば、カラーフィルター膜、色変換膜、
誘電体反射膜を組み合わせて、発光色をコントロールす
ることもできる。
【0110】陽極2としては、比較的仕事関数の大きい
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。
【0111】陽極に使用する電極物質としては、例え
ば、金、白金、銀、銅、コバルト、ニッケル、パラジウ
ム、バナジウム、タングステン、酸化錫、酸化亜鉛、I
TO(インジウム・ティン・オキサイド)、ポリチオフ
ェン、ポリピロールなどを挙げることができる。これら
の電極物質は、単独で使用してもよく、あるいは複数併
用してもよい。
【0112】陽極は、これらの電極物質を用いて、例え
ば、蒸着法、スパッタリング法などの方法により、基板
の上に形成することができる。また、陽極は一層構造で
あってもよく、あるいは多層構造であってもよい。
【0113】陽極のシート電気抵抗は、好ましくは、数
百Ω/□以下、より好ましくは、5〜50Ω/□程度に
設定する。
【0114】陽極の厚みは、使用する電極物質の材料に
もよるが、一般に、5〜1000nm程度、より好まし
くは、10〜500nm程度に設定する。
【0115】正孔注入輸送層3は、陽極からの正孔(ホ
ール)の注入を容易にする機能、および注入された正孔
を輸送する機能を有する化合物を含有する層である。
【0116】正孔注入輸送層は、本発明に係る化合物A
および/または他の正孔注入輸送機能を有する化合物
(例えば、フタロシアニン誘導体、トリアリールメタン
誘導体、トリアリールアミン誘導体、オキサゾール誘導
体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ピラゾリン
誘導体、ポリシラン誘導体、ポリフェニレンビニレンお
よびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール誘導体など)を少なくとも
一種用いて形成することができる。尚、正孔注入輸送機
能を有する化合物は、単独で使用してもよく、あるいは
複数併用してもよい。
【0117】本発明において用いる他の正孔注入輸送機
能を有する化合物としては、トリアリールアミン誘導
体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール誘導体が好ましい。
【0118】トリアリールアミン誘導体の例としては、
4,4’−ビス〔N−フェニル−N−(4”−メチルフ
ェニル)アミノ〕ビフェニル、4,4’−ビス〔N−フ
ェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミノ〕ビフェ
ニル、4,4’−ビス〔N−フェニル−N−(3”−メ
トキシフェニル)アミノ〕ビフェニル、4,4’−ビス
〔N−フェニル−N−(1”−ナフチル)アミノ〕ビフ
ェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ビス〔N−フ
ェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミノ〕ビフェ
ニル、1,1−ビス〔4’−[N,N−ジ(4”−メチ
ルフェニル)アミノ]フェニル〕シクロヘキサン、9,
10−ビス〔N−(4’−メチルフェニル)−N−
(4”−n−ブチルフェニル)アミノ〕フェナントレ
ン、3,8−ビス(N,N−ジフェニルアミノ)−6−
フェニルフェナントリジン、4−メチル−N,N−ビス
〔4”,4'''−ビス[N’,N''−ジ(4−メチルフ
ェニル)アミノ]ビフェニル−4−イル〕アニリン、
N,N'’−ビス〔4−(ジフェニルアミノ)フェニ
ル〕−N,N’−ジフェニル−1,3−ジアミノベンゼ
ン、N,N’−ビス〔4−(ジフェニルアミノ)フェニ
ル〕−N,N’−ジフェニル−1,4−ジアミノベンゼ
ン、5,5”−ビス〔4−(ビス[4−メチルフェニ
ル]アミノ)フェニル〕−2,2’:5’,2”−ター
チオフェン、1,3,5−トリス(ジフェニルアミノ)
ベンゼン、4,4’,4”−トリス(N−カルバゾリイ
ル)トリフェニルアミン、4,4’,4”−トリス〔N
−(3'''−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕
トリフェニルアミン、4,4’,4”−トリス〔N,N
−ビス(4'''−tert−ブチルビフェニル−4""−イ
ル)アミノ〕トリフェニルアミン、1,3,5−トリス
〔N−(4’−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェ
ニルアミノ〕ベンゼンなどを挙げることができる。
【0119】本発明に係る化合物Aと他の正孔注入輸送
機能を有する化合物を併用する場合、正孔注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
【0120】発光層4は、正孔および電子の注入機能、
それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により励起子を
生成させる機能を有する化合物を含有する層である。
【0121】発光層は、本発明に係る化合物Aおよび/
または他の発光機能を有する化合物、例えばアクリドン
誘導体、キナクリドン誘導体、ジケトピロロピロール誘
導体、多環芳香族化合物、トリアリールアミン誘導体、
有機金属錯体、スチルベン誘導体、クマリン誘導体、ピ
ラン誘導体、オキサゾン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘
導体、ピラジン誘導体、ケイ皮酸エステル誘導体、ポリ
−N−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリチオ
フェンおよびその誘導体、ポリフェニレンおよびその誘
導体、ポリフルオレンおよびその誘導体、ポリフェニレ
ンビニレンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレ
ンおよびその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよ
びその誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導
体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体などを少
なくとも一種用いて形成することができる。
【0122】多環芳香族化合物の例としては、ルブレ
ン、アントラセン、テトラセン、ピレン、ペリレン、ク
リセン、デカシクレン、コロネン、テトラフェニルシク
ロペンタジエン、ペンタフェニルシクロヘキサジエン、
9,10−ジフェニルアントラセン、9,10−ビス
(フェニルエチニル)アントラセン、1,4−ビス
(9’−エチニルアントラセニル)ベンゼン、4,4’
−ビス(9”−エチニルアントラセニル)ビフェニルな
どを挙げることができる。
【0123】トリアリールアミン誘導体の例としては、
正孔注入輸送機能を有する化合物として前述した化合物
を挙げることができる。
【0124】有機金属錯体としては、トリス(8−キノ
リラート)アルミニウム、ビス(10−ベンゾ[h]キノ
リノラート)ベリリウム、2−(2’−ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾオキサゾールの亜鉛塩、2−(2’−ヒド
ロキシフェニル)ベンゾチアゾールの亜鉛塩、4−ヒド
ロキシアクリジンの亜鉛塩、3−ヒドロキシフラボンの
亜鉛塩、5−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、5−
ヒドロキシフラボンのアルミニウム塩などを挙げること
ができる。
【0125】スチルベン誘導体としては、1,1,4,
4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン、4,4’−
ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル、4,
4’−ビス〔(1,1,2−トリフェニル)エテニル〕
ビフェニルなどを挙げることができる。
【0126】クマリン誘導体としては、クマリン1、ク
マリン6、クマリン7、クマリン30、クマリン10
6、クマリン138、クマリン151、クマリン15
2、クマリン153、クマリン307、クマリン31
1、クマリン314、クマリン334、クマリン33
8、クマリン343、クマリン500などを挙げること
ができる。
【0127】ピラン誘導体の好ましい例は、DCM1、
DCM2などであり、オキサゾン誘導体の好ましい例
は、ナイルレッドなどである。
【0128】本発明の有機電界発光素子においては、発
光層に本発明に係る化合物Aを含有していることが好ま
しい。
【0129】本発明に係る化合物Aと他の発光機能を有
する化合物を併用する場合、発光層中に占める本発明に
係る化合物Aの割合は、好ましくは、0.001〜9
9.999重量%程度、より好ましくは、0.01〜9
9.99重量%程度、さらに好ましくは、0.1〜9
9.9重量%程度に調製する。
【0130】本発明において用いる他の発光機能を有す
る化合物としては、発光性有機金属錯体が好ましい。例
えば、J.Appl.Phys.,65,3610(1989)、特開平5−214
332号公報に記載のように、発光層をホスト化合物と
ゲスト化合物(ドーパント)とより構成することもでき
る。
【0131】本発明に係る化合物Aを、ホスト化合物と
して用いて発光層を形成することができ、さらには、ゲ
スト化合物として用いて発光層を形成することもでき
る。
【0132】本発明に係る化合物Aを、ゲスト化合物と
して用いて発光層を形成する場合、ホスト化合物として
は、例えば、前記の他の発光機能を有する化合物を挙げ
ることができ、例えば、発光性有機金属錯体または前記
のトリアリールアミン誘導体はより好ましい。
【0133】この場合、発光性有機金属錯体またはトリ
アリールアミン誘導体に対して、本発明に係る化合物A
を、好ましくは、0.001〜40重量%程度、より好
ましくは、0.01〜30重量%程度、特に好ましく
は、0.1〜20重量%程度使用する。
【0134】本発明に係る化合物Aと併用する発光性有
機金属錯体としては、特に限定するものではないが、発
光性有機アルミニウム錯体が好ましく、置換または未置
換の8−キノリノラート配位子を有する発光性有機アル
ミニウム錯体がより好ましい。好ましい発光性有機金属
錯体としては、例えば、一般式(a)〜一般式(c)で
表される発光性有機アルミニウム錯体を挙げることがで
きる。
【0135】 (Q)−Al (a) (式中、Qは置換または未置換の8−キノリノラート配
位子を表す) (Q)−Al−O−L (b) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表し、O
−Lはフェノラート配位子であり、Lはフェニル部分を
含む炭素数6〜24の炭化水素基を表す) (Q)−Al−O−Al−(Q) (c) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表す)
【0136】発光性有機金属錯体の具体例としては、例
えば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム、ト
リス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、トリス(5−メチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウム、トリス(3,4−ジメチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、トリス(4,5−ジメチル−8−キ
ノリノラート)アルミニウム、トリス(4,6−ジメチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メ
チル−8−キノリノラート)(フェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3−メチルフェノラート)ア
ルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(4−メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2−フェニルフェノラ
ート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノ
ラート)(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−フェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,3−ジメチルフェノラート)
アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)(2,6−ジメチルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(3,4−ジ
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ート)(3,5−ジ−tert−ブチルフェノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(2,6−ジフェニルフェノラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−
トリフェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−トリメチ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,4,5,6−テトラメチルフ
ェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−ナフトラ
ート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キ
ノリノラート)(2−フェニルフェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)
(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス
(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)(4−フェ
ニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメ
チル−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラート)(3,5−ジ−tert−ブチル
フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)ア
ルミニウム−μ−オキソ−ビス(2,4−ジメチル−8
−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−
4−エチル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−
オキソ−ビス(2−メチル−4−エチル−8−キノリノ
ラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−4−メトキ
シ−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−4−メトキシ−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル
−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビ
ス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリ
ノラート)アルミニウムなどを挙げることができる。勿
論、発光性有機金属錯体は、単独で使用してもよく、あ
るいは複数併用してもよい。
【0137】電子注入輸送層5は、陰極からの電子の注
入を容易にする機能、そして注入された電子を輸送する
機能を有する化合物を含有する層である。
【0138】電子注入輸送層は、本発明に係る化合物A
および/または他の電子注入輸送機能を有する化合物、
例えば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム、
ビス(10−ベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム、
5−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、5−ヒドロキ
シフラボンのアルミニウム塩などの有機金属錯体;1,
3−ビス[5’−(p−tert−ブチルフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール−2’−イル]ベンゼンなど
のオキサジアゾール誘導体; 〔例えば、3−(4’−
tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4”−
ビフェニル)−1,2,4−トリアゾールなどのトリア
ゾール誘導体; トリアジン誘導体、ペリレン誘導体、
キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノ
ン誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピラン
ジオキサイド誘導体などを少なくとも一種用いて形成す
ることができる。
【0139】本発明に係る化合物Aと他の電子注入輸送
機能を有する化合物を併用する場合、電子注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
【0140】本発明において、本発明に係る化合物Aと
有機金属錯体(例えば、前記一般式(a)〜一般式
(c)で表される化合物)を併用して、電子注入輸送層
を形成することは好ましい。
【0141】陰極6としては、比較的仕事関数の小さい
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。
【0142】陰極に使用する電極物質としては、例え
ば、リチウム、リチウム−インジウム合金、ナトリウ
ム、ナトリウム−カリウム合金、カルシウム、マグネシ
ウム、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウ
ム合金、インジウム、ルテニウム、チタニウム、マンガ
ン、イットリウム、アルミニウム、アルミニウム−リチ
ウム合金、アルミニウム−カルシウム合金、アルミニウ
ム−マグネシウム合金、グラファイト薄膜などを挙げる
ことができる。これらの電極物質は、単独で使用しても
よく、あるいは、複数併用してもよい。
【0143】陰極は、これらの電極物質を用いて、例え
ば、蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオ
ンプレーティング法、クラスターイオンビーム法などの
方法により、電子注入輸送層の上に形成することができ
る。
【0144】また、陰極は一層構造であってもよく、あ
るいは多層構造であってもよい。尚、陰極のシート電気
抵抗は、数百Ω/□以下に設定することが好ましい。
【0145】陰極の厚みは、使用する電極物質の材料に
もよるが、一般に、5〜1000nm程度、より好まし
くは、10〜500nm程度に設定する。
【0146】尚、有機電界発光素子の発光を効率よく取
り出すために、陽極または陰極の少なくとも一方の電極
が、透明ないし半透明であることが好ましく、一般に、
発光光の透過率が70%以上となるように陽極の材料、
厚みを設定することがより好ましい。
【0147】また、本発明の有機電界発光素子において
は、その少なくとも一層中に、一重項酸素クエンチャー
が含有されていてもよい。一重項酸素クエンチャーとし
ては、特に限定するものではなく、例えば、ルブレン、
ニッケル錯体、ジフェニルイソベンゾフランなどが挙げ
られ、特に好ましくは、ルブレンである。
【0148】一重項酸素クエンチャーが含有されている
層としては、特に限定するものではないが、好ましく
は、発光層または正孔注入輸送層であり、より好ましく
は、正孔注入輸送層である。尚、例えば、正孔注入輸送
層に一重項クエンチャーを含有させる場合、正孔注入輸
送層中に均一に含有させてもよく、正孔注入輸送層と隣
接する層(例えば、発光層、発光機能を有する電子注入
輸送層)の近傍に含有させてもよい。
【0149】一重項酸素クエンチャーの含有量として
は、含有される層(例えば、正孔注入輸送層)を構成す
る全体量の0.01〜50重量%、好ましくは、0.0
5〜30重量%、より好ましくは、0.1〜20重量%
である。
【0150】正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層
の形成方法に関しては、特に限定するものではなく、例
えば、真空蒸着法、イオン化蒸着法、溶液塗布法(例え
ば、スピンコート法、キャスト法、ディップコート法、
バーコート法、ロールコート法、ラングミュア・ブロゼ
ット法、インクジェット法など)により薄膜を形成する
ことにより作成することができる。
【0151】真空蒸着法により、各層を形成する場合、
真空蒸着の条件は、特に限定するものではないが、10
-3Pa程度の真空下で、50〜600℃程度のボート温
度(蒸着源温度)、−50〜300℃程度の基板温度
で、0.005〜50nm/sec程度の蒸着速度で実
施することが好ましい。
【0152】この場合、正孔注入輸送層、発光層、電子
注入輸送層などの各層は、真空下で、連続して形成する
ことにより、諸特性に一層優れた有機電界発光素子を製
造することができる。
【0153】真空蒸着法により、正孔注入輸送層、発光
層、電子注入輸送層などの各層を、複数の化合物を用い
て形成する場合、化合物を入れた各ボートを個別に温度
制御して、共蒸着することが好ましい。
【0154】溶液塗布法により、各層を形成する場合、
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、溶媒に溶解、または分散させて塗布液とする。
【0155】正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層
の各層に使用しうるバインダー樹脂としては、例えば、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアリレート、ポリ
スチレン、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリメチル
アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテ
ル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリ
フェニレンオキサイド、ポリエーテルスルフォン、ポリ
アニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその
誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポ
リフルオレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレ
ンおよびその誘導体などの高分子化合物が挙げられる。
バインダー樹脂は、単独で使用してもよく、あるいは、
複数併用してもよい。
【0156】溶液塗布法により、各層を形成する場合、
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、適当な有機溶媒および/または水に溶解、または分
散させて塗布液とし、各種の塗布法により、薄膜を形成
することができる。
【0157】有機溶媒の例としては、ヘキサン、オクタ
ン、デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、1
−メチルナフタレンなどの炭化水素系溶媒; アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン系溶媒; ジクロロメタ
ン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどのハロ
ゲン化炭化水素系溶媒; 酢酸エチル、酢酸ブチル、酢
酸アミルなどのエステル系溶媒; メタノール、プロパ
ノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、エチレングリコールなどのアルコール系溶媒; ジ
ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ア
ニソールなどのエーテル系溶媒; N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチ
ル−2−ピロリドン、1−メチル−2−イミダゾリジノ
ン、ジメチルスルフォキサイドなどの極性溶媒)
【0158】尚、分散する方法としては、特に限定する
ものではないが、例えば、ボールミル、サンドミル、ペ
イントシェーカー、アトライター、ホモジナイザーなど
を用いて微粒子状に分散することができる。
【0159】塗布液の濃度に関しては、特に限定するも
のではなく、実施する塗布法により、所望の厚みを作成
するに適した濃度範囲に設定することができ、一般に
は、0.1〜50重量%程度、好ましくは、1〜30重
量%程度の溶液濃度である。尚、バインダー樹脂を使用
する場合、その使用量に関しては、特に制限するもので
はないが、一般には、各層を形成する成分に対して(一
層型の素子を形成する場合には、各成分の総量に対し
て)、5〜99.9重量%程度、好ましくは、10〜9
9.9重量%程度、より好ましくは、15〜90重量%
程度に設定する。
【0160】正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層
の膜厚に関しては、特に限定するものではないが、一般
に、5nm〜5μm程度に設定することが好ましい。
【0161】尚、作製した素子に対し、酸素や水分との
接触を防止する目的で、保護層(封止層)を設けたり、
また、素子を、例えば、パラフィン、流動パラフィン、
シリコンオイル、フルオロカーボン油、ゼオライト含有
フルオロカーボン油などの不活性物質中に封入して保護
することができる。
【0162】保護層に使用する材料としては、例えば、
有機高分子材料、無機材料、さらには光硬化性樹脂など
を挙げることができ、保護層に使用する材料は、単独で
使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。保護層
は、一層構造であってもよく、また多層構造であっても
よい。
【0163】有機高分子材料の例としては、フッ素化樹
脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、エポキシシリコー
ン樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
パラキシレン、ポリエチレン、ポリフェニレンオキサイ
ドなどを挙げることができる。
【0164】無機材料としては、ダイヤモンド薄膜、ア
モルファスシリカ、電気絶縁性ガラス、金属酸化物、金
属窒化物、金属炭素化物、金属硫化物などを挙げること
ができる。
【0165】電極に保護層として、例えば、金属酸化膜
(例えば、酸化アルミニウム膜)、金属フッ化膜を設け
ることもできる。
【0166】また、例えば、陽極の表面に、例えば、有
機リン化合物、ポリシラン、芳香族アミン誘導体、フタ
ロシアニン誘導体から成る界面層(中間層)を設けるこ
ともできる。
【0167】さらに、電極、例えば、陽極はその表面
を、例えば、酸、アンモニア/過酸化水素、あるいはプ
ラズマで処理して使用することもできる。
【0168】本発明の有機電界発光素子は、一般に、直
流駆動型の素子として使用されるが、パルス駆動型また
は交流駆動型の素子としても使用することができる。印
可電圧は、一般に、2〜30V程度である。
【0169】本発明の有機電界発光素子は、例えば、パ
ネル型光源、各種の発光素子、各種の表示素子、各種の
標識、各種のセンサーなどに使用することができる。
【0170】
【実施例】以下に、製造例および実施例により、本発明
を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例により何
ら限定されるものではない。
【0171】(製造例1) 例示化合物A−1の製造 3,4’−ビベンゾ[j]フルオランテン5.03gと三
フッ化コバルト11.59gをトリフルオロ酢酸100
ml中、室温にて、5時間撹拌した。水500mlを加
えた後、析出している結晶を濾取し、水で洗浄した。
【0172】この結晶をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出液:トルエン)で処理した。トルエンを減
圧下留去した後、残渣をトルエンとアセトンの混合溶媒
より再結晶し、前記で例示した化合物(以下例示化合
物)A−1の化合物を紫色の結晶として2.64g得
た。 質量分析:m/z=500 元素分析:(C40H20として) 融点250℃以上 尚、この化合物は、500℃、10-3Paの条件下で昇
華した。吸収極大(トルエン中)585nm
【0173】(製造例2〜50)製造例1において、
3,4’−ビベンゾ[j]フルオランテンを使用する代わ
りに、種々のビベンゾ[j]フルオランテン誘導体を使用
した以外は、製造例1に記載した方法に従い、種々のビ
スベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導体を製造した。
【0174】第1表には使用したビベンゾ[j]フルオラ
ンテン誘導体、および製造したビスベンゾ[4,5]インデ
ノペリレン誘導体を例示化合物番号で示した。また、ト
ルエン中の吸収極大(nm)も併せて示した。尚、製造
された化合物は、紫色の結晶であり、それらの化合物の
融点は、250℃以上であった。
【0175】
【表1】
【0176】
【表2】
【0177】
【表3】
【0178】
【表4】
【0179】(実施例1)厚さ200nmのITO透明
電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒
素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10-3Paに減圧した。
【0180】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。次いで、そ
の上に、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4
−フェニルフェノラート)アルミニウムとビスベンゾ
[4,5]インデノペリレン(例示化合物番号A−1の化合
物)を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/se
cで50nmの厚さに共蒸着(重量比100:0.5)
し、発光層とした。
【0181】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0182】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
の電流が流れた。輝度2460cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0183】(実施例2〜50)実施例1において、発
光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物を使用
する代わりに、例示化合物番号A−6の化合物(実施例
2)、例示化合物番号A−9の化合物(実施例3)、例
示化合物番号A−14の化合物(実施例4)、例示化合
物番号B−5の化合物(実施例5)、例示化合物番号B
−9の化合物(実施例6)、例示化合物番号B−15の
化合物(実施例7)、例示化合物番号B−20の化合物
(実施例8)、例示化合物番号C−2の化合物(実施例
9)、例示化合物番号C−4の化合物(実施例10)、
例示化合物番号C−7の化合物(実施例11)、 例示
化合物番号C−12の化合物(実施例12)、例示化合
物番号C−16の化合物(実施例13)、例示化合物番
号C−20の化合物(実施例14)、例示化合物番号C
−22の化合物(実施例15)、例示化合物番号C−2
4の化合物(実施例16)、例示化合物番号C−28の
化合物(実施例17)、例示化合物番号C−30の化合
物(実施例18)、例示化合物番号C−32の化合物
(実施例19)、例示化合物番号C−40の化合物(実
施例20)、例示化合物番号C−42の化合物(実施例
21)、例示化合物番号C−47の化合物(実施例2
2)、例示化合物番号C−52の化合物(実施例2
3)、例示化合物番号C−55の化合物(実施例2
4)、例示化合物番号C−59の化合物(実施例2
5)、例示化合物番号D−1の化合物(実施例26)、
例示化合物番号D−6の化合物(実施例27)、例示化
合物番号D−9の化合物(実施例28)、例示化合物番
号D−14の化合物(実施例29)、例示化合物番号E
−5の化合物(実施例30)、例示化合物番号E−9の
化合物(実施例31)、例示化合物番号E−15の化合
物(実施例32)、例示化合物番号E−20の化合物
(実施例33)、例示化合物番号F−2の化合物(実施
例34)、例示化合物番号F−4の化合物(実施例3
5)、例示化合物番号F−7の化合物(実施例36)、
例示化合物番号F−12の化合物(実施例37)、例示
化合物番号F−16の化合物(実施例38)、例示化合
物番号F−20の化合物(実施例39)、例示化合物番
号F−22の化合物(実施例40)、例示化合物番号F
−24の化合物(実施例41)、例示化合物番号F−2
8の化合物(実施例42)、例示化合物番号F−30の
化合物(実施例43)、例示化合物番号F−32の化合
物(実施例44)、例示化合物番号F−40の化合物
(実施例45)、例示化合物番号F−42の化合物(実
施例46)、例示化合物番号F−47の化合物(実施例
47)、例示化合物番号F−52の化合物(実施例4
8)、例示化合物番号F−55の化合物(実施例4
9)、例示化合物番号F−59の化合物(実施例50)
を使用した以外は、実施例1に記載の方法により有機電
界発光素子を作製した。それぞれの素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、橙赤〜赤色の
発光が確認された。さらにその特性を調べ、結果を第2
表に示した。
【0184】(比較例1)実施例1において、発光層の
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用せ
ずに、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−
フェニルフェノラート)アルミニウムだけを用いて、5
0nmの厚さに蒸着し、発光層とした以外は、実施例1
に記載の方法により有機電界発光素子を作製した。この
素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したと
ころ、青色の発光が確認された。さらにその特性を調
べ、結果を第2表に示した。
【0185】(比較例2)実施例1において、発光層の
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用す
る代わりに、N−メチル−2−メトキシアクリドンを使
用した以外は、実施例1に記載の方法により有機電界発
光素子を作製した。この素子に、乾燥雰囲気下、12V
の直流電圧を印加したところ、青色の発光が確認され
た。さらにその特性を調べ、結果を第2表に示した。
【0186】
【表5】
【0187】
【表6】
【0188】
【表7】
【0189】(実施例51)厚さ200nmのITO透明
電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒
素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0190】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0191】次いで、その上に、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号A−9の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
【0192】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0193】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
の電流が流れた。輝度2320cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0194】(実施例52)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0195】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0196】次いで、その上に、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号A−14の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
【0197】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0198】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
の電流が流れた。輝度2380cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0199】(実施例53)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0200】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0201】次いで、その上に、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号B−9の化合物を、異なる蒸着
源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さ
に共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とした。
【0202】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0203】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
の電流が流れた。輝度2370cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0204】(実施例54)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3に減圧した。
【0205】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0206】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号B−20の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
【0207】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0208】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
の電流が流れた。輝度2330cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0209】(実施例55)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0210】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0211】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−2の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
【0212】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0213】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
の電流が流れた。輝度2430cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0214】(実施例56)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0215】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0216】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−7の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、
電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0217】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
の電流が流れた。輝度2420cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0218】(実施例57)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0219】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0220】次いで、その上に、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号C−12の化合物を、異なる
蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
【0221】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0222】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
の電流が流れた。輝度2440cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0223】(実施例58)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0224】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0225】次いで、その上に、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号C−22の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
【0226】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0227】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、52mA/c
の電流が流れた。輝度2380cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0228】(実施例59)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0229】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0230】次いで、その上に、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号C−30の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
【0231】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0232】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
の電流が流れた。輝度2360cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0233】(実施例60)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0234】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0235】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−52の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
【0236】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0237】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
の電流が流れた。輝度2360cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0238】(実施例61)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0239】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0240】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−59の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、
発光層とした。
【0241】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0242】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
の電流が流れた。輝度2370cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0243】(実施例62)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0244】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0245】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号D−1の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、
電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0246】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
の電流が流れた。輝度2370cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0247】(実施例63)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0248】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0249】次いで、その上に、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号D−9の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
【0250】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0251】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
の電流が流れた。輝度2240cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0252】(実施例64)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0253】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0254】次いで、その上に、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号D−14の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
【0255】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0256】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
の電流が流れた。輝度2390cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0257】(実施例65)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0258】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0259】次いで、その上に、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号E−9の化合物を、異なる蒸着
源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さ
に共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とした。
【0260】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0261】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
の電流が流れた。輝度2340cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0262】(実施例66)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10-3Paに減圧した。
【0263】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0264】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号F−2の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)し、
発光層とした。
【0265】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0266】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
の電流が流れた。輝度2330cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0267】(実施例67)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0268】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0269】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムと例示化合物番号F−7の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
【0270】次に、トリス(8−キノリノラート)アル
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0271】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、53mA/c
の電流が流れた。輝度2380cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0272】(実施例68)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0273】まず、ITO透明電極上に、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
【0274】次いで、その上に、例示化合物番号F−1
6の化合物を、蒸着速度0.2nm/secで50nm
の厚さに蒸着し、発光層とした。
【0275】次いで、その上に、1,3−ビス〔5’−
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速
度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着(重
量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製
した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施
した。
【0276】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、14Vの直流電圧を印加したところ、42mA/c
の電流が流れた。輝度1870cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0277】(実施例69)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0278】まず、ITO透明電極上に、例示化合物番
号F−22の化合物を蒸着速度0.2nm/secで5
5nmの厚さに蒸着し、発光層とした。
【0279】次いで、その上に、1,3−ビス〔5’−
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで75nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速
度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着(重
量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製
した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施
した。
【0280】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、14Vの直流電圧を印加したところ、62mA/c
の電流が流れた。輝度1600cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0281】(実施例70)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4
×10−3Paに減圧した。
【0282】まず、ITO透明電極上に、4,4’,
4”−トリス〔N−(3'''−メチルフェニル)−N−フ
ェニルアミノ〕トリフェニルアミンを蒸着速度0.1n
m/secで、50nmの厚さに蒸着し、第一正孔注入
輸送層とした。
【0283】次いで、4,4’,−ビス〔N−フェニル
−N−(1”−ナフチル)アミノ〕ビフェニルと例示化
合物番号A−1の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速
度0.2nm/secで20nmの厚さに共蒸着(重量
比100:5)し、第二正孔注入輸送層を兼ねた発光層
とした。
【0284】次いで、その上に、トリス(8−キノリノ
ラート)アルミニウムを、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さ
らにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2n
m/secで200nmの厚さに共蒸着(重量比10:
1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、
蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
【0285】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、15Vの直流電圧を印加したところ、61mA/c
の電流が流れた。輝度2570cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0286】(実施例71〜92)実施例70におい
て、発光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物
を使用する代わりに、例示化合物番号A−9の化合物
(実施例71)、例示化合物番号A−14の化合物(実
施例72)、例示化合物番号B−5の化合物(実施例7
3)、例示化合物番号B−9の化合物(実施例74)、
例示化合物番号B−20の化合物(実施例75)、例示
化合物番号C−2の化合物(実施例76)、例示化合物
番号C−7の化合物(実施例77)、例示化合物番号C
−12の化合物(実施例78)、例示化合物番号C−2
0の化合物(実施例79)、例示化合物番号C−30の
化合物(実施例80)、 例示化合物番号C−52の化
合物(実施例81)、例示化合物番号D−1の化合物
(実施例82)、例示化合物番号D−9の化合物(実施
例83)、例示化合物番号E−5の化合物(実施例8
4)、例示化合物番号E−9の化合物(実施例85)、
例示化合物番号E−20の化合物(実施例86)、例示
化合物番号F−2の化合物(実施例87)、例示化合物
番号F−7の化合物(実施例88)、例示化合物番号F
−16の化合物(実施例89)、例示化合物番号F−2
2の化合物(実施例90)、例示化合物番号F−40の
化合物(実施例91)、例示化合物番号F−52の化合
物(実施例92)を使用した以外は、実施例70に記載
の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞれの
素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したと
ころ、橙赤〜赤色の発光が確認された。さらにその特性
を調べ、結果を第3表に示した。
【0287】
【表8】
【0288】(実施例93)厚さ200nmのITO透
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
【0289】次に、ITO透明電極上に、ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,1,4,4,−テトラフェニル1,3−ブタジエン
(青色の発光成分)、クマリン6〔”3−(2’−ベン
ゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン”(緑色
の発光成分)〕、および例示化合物番号A−14の化合
物を、それぞれ重量比100:5:3:2の割合で含有
する3重量%のジクロロエタン溶液を用いて、ディップ
コート法により、400nmの発光層を形成した。
【0290】次に、この発光層を有するガラス基板を、
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4×1
−3Paに減圧した。さらに、発光層の上に、3−
(4’−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−
(4”−ビフェニル)1,2,4−トリアゾールを蒸着
速度0.2nm/secで20nmの厚さに蒸着した
後、さらにその上に、トリス(8−キノリノラート)ア
ルミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで30nm
の厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
【0291】さらにその上に、マグネシウムと銀を、蒸
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、61mA/c
の電流が流れた。輝度1310cd/mの白色の
発光が確認された。
【0292】(実施例94〜102)実施例93におい
て、例示化合物番号A−14の化合物を用いる代わり
に、例示化合物番号B−9の化合物(実施例94)、例
示化合物番号C−16の化合物(実施例95)、例示化
合物番号C−24の化合物(実施例96)、例示化合物
番号C−55の化合物(実施例97)、例示化合物番号
C−59の化合物(実施例98)、例示化合物番号D−
14の化合物(実施例99)、例示化合物番号E−15
の化合物(実施例100)、例示化合物番号F−24の
化合物(実施例101)、例示化合物番号F−59の化
合物(実施例102)を使用した以外は、実施例93に
記載の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞ
れの素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加し
たところ、白色の発光が観察された。さらにその特性を
調べ、結果を第4表に示した。
【0293】
【表9】
【0294】(実施例103)厚さ200nmのITO
透明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、ア
セトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板
を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
【0295】次に、ITO透明電極上に、ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,3−ビス〔5’−(p−tert−ブチルフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール−2’−イル〕ベンゼン
および例示化合物番号C−22の化合物を、それぞれ重
量比100:30:3の割合で含有する3重量%のジク
ロロエタン溶液を用いて、ディップコート法により、3
00nmの発光層を形成した。
【0296】次に、この発光層を有するガラス基板を、
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4×1
−3Paに減圧した。さらに、発光層の上に、マグネ
シウムと銀を、蒸着速度0.2nm/secで200n
mの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、有
機電界発光素子を作製した。
【0297】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、15Vの直流電圧を印加したところ、63mA/c
の電流が流れた。輝度1480cd/mの赤色の
発光が確認された。
【0298】(比較例3)実施例103において、発光
層の形成に際して、例示化合物番号C−12の化合物の
代わりに、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−
ブタジエンを使用した以外は、実施例103に記載の方
法により有機電界発光素子を作製した。作製した有機電
界発光素子に、乾燥雰囲気下、15Vの直流電圧を印加
したところ、86mA/cmの電流が流れた。輝度7
60cd/mの青色の発光が確認された。
【0299】(実施例104)厚さ200nmのITO
透明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、ア
セトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板
を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
【0300】次に、ITO透明電極上に、ポリカーボネ
ート(重量平均分子量50000)、4,4’−ビス
〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)アルミニウムおよび例示化合物番号
E−9の化合物を、それぞれ重量比100:40:6
0:1の割合で含有する3重量%のジクロロエタン溶液
を用いて、ディップコート法により、300nmの発光
層を形成した。
【0301】次に、この発光層を有するガラス基板を、
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を4×1
−3Paに減圧した。さらに、発光層の上に、マグネ
シウムと銀を、蒸着速度0.2nm/secで200n
mの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、有
機電界発光素子を作製した。
【0302】作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、15Vの直流電圧を印加したところ、59mA/c
の電流が流れた。輝度950cd/mの赤色の発
光が確認された。
【0303】
【発明の効果】本発明により、発光輝度が優れた有機電
界発光素子を提供することが可能になった。さらに、該
発光素子に適した炭化水素化合物を提供することが可能
になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【図2】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【図3】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【図4】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【図5】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【図6】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【図7】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【図8】有機電界発光素子の一例の概略構造図である。
【符号の説明】 1 :基板 2 :陽極 3 :正孔注入輸送層 4 :発光層 4’ :発光層(発光成分および正孔注入輸送成分を混
合した層) 4'' :発光層(発光成分および電子注入輸送成分を混
合した層) 4''' :発光層(発光成分、正孔注入輸送成分および電
子注入輸送成分を混合した層) 5 :電子注入輸送層 6 :陰極 7 :電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09K 11/06 660 C09K 11/06 660 H05B 33/22 H05B 33/22 D B (72)発明者 田辺 良満 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三 井化学株式会社内 (72)発明者 戸谷 由之 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三 井化学株式会社内 (72)発明者 中塚 正勝 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三 井化学株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB02 AB04 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 4H006 AA01 AA03 AB92 EA43 GP03

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の電極間に、ビスベンゾ[4,5]イン
    デノペリレン誘導体を少なくとも一種含有する層を、少
    なくとも一層挟持してなる有機電界発光素子。
  2. 【請求項2】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
    体を含有する層が、さらに、発光性有機金属錯体を含有
    することを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素
    子。
  3. 【請求項3】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
    体を含有する層が、さらに、トリアリールアミン誘導体
    を含有することを特徴とする請求項1に記載の有機電界
    発光素子。
  4. 【請求項4】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
    体を含有する層が、発光層である請求項1または2に記
    載の有機電界発光素子。
  5. 【請求項5】 一対の電極間に、さらに、正孔注入輸送
    層を有する請求項4に記載の有機電界発光素子。
  6. 【請求項6】 一対の電極間に、さらに、電子注入輸送
    層を有する請求項4または5のいずれかに記載の有機電
    界発光素子。
  7. 【請求項7】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
    体が、ビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,3-cd:1',2',3'-l
    m]ペリレン誘導体またはビスベンゾ[4,5]インデノ[1,2,
    3-cd:3',2',1'-lm]ペリレン誘導体である請求項1〜6
    のいずれかに記載の有機電界発光素子。
  8. 【請求項8】 ビスベンゾ[4,5]インデノペリレン誘導
    体が、一般式(1−A)または一般式(2−A)で表さ
    れる化合物である請求項1〜6のいずれかに記載の有機
    電界発光素子。 【化1】 【化2】 (式中、X〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
    ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
    鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
    は未置換のアリール基を表す。)
  9. 【請求項9】 一般式(1−A)で表される化合物。 【化3】 (式中、X〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
    ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
    鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
    は未置換のアリール基を表す。)
  10. 【請求項10】 一般式(2−A)で表される化合物。 【化4】 (式中、X〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
    ロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直
    鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換また
    は未置換のアリール基を表す。)
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