JP2002164176A - 炭化水素化合物および有機電界発光素子 - Google Patents
炭化水素化合物および有機電界発光素子Info
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Abstract
電界発光素子、およびそれに適した新規炭化水素化合物
を提供すること。 【解決手段】 一対の電極間に、フルオランテノ[3',
4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体
を少なくとも一種含有する層を、少なくとも一層挟持し
てなる有機電界発光素子、および一般式(1−A)で表
される化合物および該化合物を使用する電界発光素子。 (式中、X1〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。)
Description
および該発光素子に好適に使用できる新規な炭化水素化
合物に関する。
ックライトなどのパネル型光源として使用されてきた
が、該発光素子を駆動させるには、交流の高電圧が必要
である。最近になり、発光材料に有機材料を用いた有機
電界発光素子(有機エレクトロルミネッセンス素子:有
機EL素子)が開発された[Appl.Phys.Lett.,51,913(19
87)]。
含む薄膜を、陽極と陰極間に挟持された構造を有し、該
薄膜に電子および正孔(ホール)を注入して、再結合さ
せることにより励起子(エキシトン)を生成させ、この
励起子が失活する際に放出される光を利用して発光する
素子である。有機電界発光素子は、数V〜数十V程度の
直流の低電圧で、発光が可能であり、また蛍光性有機化
合物の種類を選択することにより種々の色(例えば、赤
色、青色、緑色)の発光が可能である。このような特徴
を有する有機電界発光素子は、種々の発光素子、表示素
子等への応用が期待されている。しかしながら、一般
に、発光輝度が低く、実用上十分ではない。
として、例えば、トリス(8−キノリノラート)アルミ
ニウムをホスト化合物、クマリン誘導体、ピラン誘導体
をゲスト化合物(ドーパント)として用いた有機電界発
光素子が提案されている[J.Appl.Phys.,65,3610(198
9)]。また、発光層として、例えば、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)
アルミニウムをホスト化合物、アクリドン誘導体(例え
ば、N−メチル−2−メトキシアクリドン)をゲスト化
合物として用いた有機電界発光素子が提案されている
(特開平8−67873号公報)。
発光輝度を有しているとは言い難い。現在では、一層高
輝度に発光する有機電界発光素子が望まれている。
効率に優れ、高輝度に発光する有機電界発光素子を提供
することである。さらには、該発光素子に好適に使用で
きる新規な炭化水素化合物を提供することである。
発光素子に関して鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち本発明は、 一対の電極間に、フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s
−インダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を少なくとも一
種含有する層を、少なくとも一層挟持してなる有機電界
発光素子を提供する。
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を含有する層が、さ
らに、発光性有機金属錯体を含有することを特徴とする
前記に記載の有機電界発光素子は、本発明の好ましい
態様である。
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を含有する層が、さ
らに、トリアリールアミン誘導体を含有することを特徴
とする前記またはに記載の有機電界発光素子も、本
発明の好ましい態様である。
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を含有する層が、発
光層である前記記載の有機電界発光素子は、本発明の
好ましい態様である。
層を有する前記に記載の有機電界発光素子も、本発明
の好ましい態様である。
層を有する前記またはに記載の有機電界発光素子
も、本発明の好ましい態様である。
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体が、一般式(1−
A)で表される化合物である前記〜のいずれかに記
載の有機電界発光素子も、本発明の好ましい態様であ
る。
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換または
未置換のアリール基を表す。)
で表される化合物を提供する。
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは、置換または
未置換のアリール基を表す。)
に説明する。本発明の有機電界発光素子は、一対の電極
間に、フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ
[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を少なくとも一種含有する層
を少なくとも一層挟持してなるものである。
7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体(以下、
本発明に係る化合物Aと略記する)とは、下記一般式
(1)で表される骨格を有する化合物を表すものであ
る。
換基で置換されていてもよく、本発明に係る化合物A
は、好ましくは、下記一般式(1−A)で表される化合
物である。
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。)
て、X1〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン
原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐
または環状のアルコキシ基、あるいは、置換または未置
換のアリール基を表す。尚、本発明において、アリール
基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環
式芳香族基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル
基などの複素環式芳香族基を表す。
て、好ましくは、X1〜X20は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル
基、炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルコキ
シ基、あるいは炭素数4〜20の置換または未置換のア
リール基を表す。
具体例として、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子を挙げることができる。
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基、 sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−
ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−
ペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、
4−メチル−2−ペンチル基、3,3−ジメチルブチル
基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、1−メチル
ヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、n−オクチル
基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エ
チルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、n−ノニル
基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−
4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、
n−デシル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル
基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、1−ヘキシル
ヘプチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル
基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オ
クタデシル基、n−エイコシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−
tert−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シ
クロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル
基を挙げることができる。
キシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、イソブトキシ基、 sec−ブトキシ基、n−ペ
ンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチ
ルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、3,3−ジメチル
ブチルオキシ基、2−エチルブチルオキシ基、シクロヘ
キシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチル
オキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオ
キシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ
基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、
n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ
基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキ
シ基、n−オクタデシルオキシ基、n−エイコシルオキ
シ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基を挙げ
ることができる。
チルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフ
ェニル基、4−エチルフェニル基、4−n−プロピルフ
ェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチ
ルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−tert−
ブチルフェニル基、4−イソペンチルフェニル基、4−
tert−ペンチルフェニル基、4−n−ヘキシルフェニル
基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−n−ヘプチル
フェニル基、4−n−オクチルフェニル基、4−n−ノ
ニルフェニル基、4−n−デシルフェニル基、4−n−
ウンデシルフェニル基、4−n−ドデシルフェニル基、
4−n−テトラデシルフェニル基、2,3−ジメチルフ
ェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメ
チルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4
−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、
3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,5,6−
テトラメチルフェニル基、5−インダニル基、1,2,
3,4−テトラヒドロ−5−ナフチル基、1,2,3,
4−テトラヒドロ−6−ナフチル基、2−メトキシフェ
ニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニ
ル基、3−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル
基、4−n−プロポキシフェニル基、4−イソプロポキ
シフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、4−イソ
ブトキシフェニル基、4−n−ペンチルオキシフェニル
基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、4−シクロヘ
キシルオキシフェニル基、4−n−ヘプチルオキシフェ
ニル基、4−n−オクチルオキシフェニル基、4−n−
ノニルオキシフェニル基、4−n−デシルオキシフェニ
ル基、4−n−ウンデシルオキシフェニル基、4−n−
ドデシルオキシフェニル基、4−n−テトラデシルオキ
シフェニル基、2,3−ジメトキシフェニル基、2,4
−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル
基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキ
シフェニル基、3,5−ジエトキシフェニル基、2−メ
トキシ−4−メチルフェニル基、2−メトキシ−5−メ
チルフェニル基、2−メチル−4−メトキシフェニル
基、3−メチル−4−メトキシフェニル基、3−メチル
−5−メトキシフェニル基、2−フルオロフェニル基、
3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2
−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロ
ロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−トリフルオ
ロメチルフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、
2,4−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニ
ル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メチル−4−
クロロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフェニル
基、3−クロロ−4−メチルフェニル基、2−クロロ−
4−メトキシフェニル基、3−メトキシ−4−フルオロ
フェニル基、3−メトキシ−4−クロロフェニル基、3
−フルオロ−4−メトキシフェニル基、4−フェニルフ
ェニル基、3−フェニルフェニル基、4−(4’−メチ
ルフェニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニ
ル)フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4
−メチル−1−ナフチル基、4−エトキシ−1−ナフチ
ル基、6−n−ブチル−2−ナフチル基、6−メトキシ
−2−ナフチル基、7−エトキシ−2−ナフチル基、2
−フリル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−ピ
リジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基などの置換
または未置換のアリール基を挙げることができる。
子、塩素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1
〜10のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜12のア
リール基であり、さらに好ましいのは、水素原子、フッ
素原子、塩素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数
1〜6のアルコキシ基、あるいは、炭素数6〜10のア
リール基である。
ルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-c
d]ペリレン誘導体を少なくとも一種使用することが特徴
であり、例えば、フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−
インダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を発光成分として
発光層に用いると、従来にはない、高輝度で耐久性に優
れた赤色に発光する有機電界発光素子を提供することが
可能となる。また、他の発光成分と組み合わせて発光層
を形成すると、高輝度で耐久性に優れた白色に発光する
有機電界発光素子も提供することが可能となる。
下のA−1〜A−35、B−1〜B−10,C−1〜C
−49、D−1〜D−15、E−1〜E−30の化合物
を例示することができるが、これらに限定されるもので
はない。
(1−A)で表される化合物は、例えば、以下の方法に
より製造することができる。すなわち、下記一般式
(2)で表される3−(1’−ナフチル)ナフト[1',
8':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]フルオランテン
誘導体を、酸化剤(例えば、塩化アルミニウム/塩化第
二銅、塩化アルミニウム/塩化ナトリウム、三フッ化コ
バルト、トリフルオロ酢酸タリウム、四酢酸鉛、または
塩化第二鉄)の存在下で反応させて閉環する〔例えば、
J.Amer.Chem.Soc.,102,6504(1980)、Chem.Rev.,87,357
(1987)に記載の方法を参考にすることができる〕ことに
より製造することができる。
意味を表す。)
ば、下記一般式(3)で表されるホウ酸化合物を、下記
一般式(4)で表される3−ハロゲノナフト[1',8':5,
6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]フルオランテン誘導体
とを、例えば、パラジウム化合物〔例えば、テトラキス
(トリフェニルフォスフィン)パラジウム、ビス(トリ
フェニルフォスフィン)パラジウムクロライド〕および
塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、
トリエチルアミン)の存在下で反応させる〔例えば、Ch
em.Rev.,95,2457(1995)に記載の方法を参考にすること
ができる〕ことにより製造することができる。
−A)の場合と同じ意味を表し、Z1はハロゲン原子を
表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
は、例えば、下記一般式(5)で表されるホウ酸化合物
を、一般式(6)で表される1−ハロゲノナフタレン誘
導体とを、例えば、パラジウム化合物〔例えば、テトラ
キス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム、ビス
(トリフェニルフォスフィン)パラジウムクロライド〕
および塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、トリエチルアミン)の存在下で反応させる〔例え
ば、Chem.Rev.,95,2457(1995)に記載の方法を参考にす
ることができる〕ことにより製造することができる。
−A)の場合と同じ意味を表し、Z2はハロゲン原子を
表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
で表される化合物は、例えば、一般式(6)および一般
式(4)で表される化合物より、例えば、n−ブチルリ
チウム、金属マグネシウムを作用させて調整できるリチ
オ化合物またはグリニヤール試薬と、例えば、トリメト
キシホウ素、トリイソプロポキシホウ素などにより調整
することができる〔例えば、Chem.Rev.,95,2457(1995)
に記載の方法を参考にすることができる〕。
は、例えば、以下の方法により製造することができる。
すなわち、下記一般式(7)で表される化合物を下記一
般式(8)で表わされる5−ハロゲノアセナフチレン誘
導体と反応させることにより製造することができる。
−A)の場合と同じ意味を表し、Z1はハロゲン原子を
表す。)
子を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子を表す。
例えば、下記一般式(9)で表わされる化合物を下記一
般式(10)で表わされる化合物と反応させることによ
り製造することができる。
(1−A)の場合と同じ意味を表す。)
例えば、下記一般式(11)で表わされるシクロペンタ
ジエノン誘導体を、下記一般式(12)で表わされるピ
ラシロキノン誘導体と反応後、脱一酸化炭素した後、脱
水素することにより製造することができる。
(1−A)の場合と同じ意味を表す。)
した溶媒(例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒)との溶媒和を形成した形で製造されることがある
が、本発明においては、本発明に係る化合物Aはこのよ
うな溶媒和物を包含するものである。勿論、溶媒を含有
しない無溶媒和物をも包含するものである。
係る化合物Aの無溶媒和物は勿論、このような溶媒和物
をも使用することができる。
素子に使用する場合、再結晶法、カラムクロマトグラフ
ィー法、昇華精製法などの精製方法、あるいはこれらの
方法を併用して、純度を高めた化合物を使用することは
好ましいことである。
に、少なくとも一種の発光成分を含有する発光層を、少
なくとも一層挟持してなるものである。発光層に使用す
る化合物の正孔注入および正孔輸送、電子注入および電
子輸送の各機能レベルを考慮し、所望に応じて、正孔注
入輸送成分を含有する正孔注入輸送層および/または電
子注入輸送成分を含有する電子注入輸送層を設けること
もできる。
入機能、正孔輸送機能および/または電子注入機能、電
子輸送機能が良好な場合には、発光層が正孔注入輸送層
および/または電子注入輸送層を兼ねた型の素子の構成
とすることができる。勿論、場合によっては、正孔注入
輸送層および電子注入輸送層の両方の層を設けない型の
素子(一層型素子)の構成とすることもできる。
よび発光層のそれぞれの層は、一層構造であっても、ま
た、多層構造であってもよく、正孔注入輸送層および電
子注入輸送層は、それぞれの層において、注入機能を有
する層と輸送機能を有する層を別々に設けて構成するこ
ともできる。
明に係る化合物Aは、正孔注入輸送成分、発光成分また
は電子注入輸送成分に用いることが好ましく、正孔注入
輸送成分または発光成分に用いることがより好ましく、
発光成分に用いることが特に好ましい。本発明の有機電
界発光素子においては、本発明に係る化合物Aは、単独
で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
限定されるものではない。本発明の有機電界発光素子の
構成例を図1〜図8に示した。具体的態様の例として
は、(A)陽極/正孔注入輸送層/発光層/電子注入輸
送層/陰極型素子(図1)、(B)陽極/正孔注入輸送
層/発光層/陰極型素子(図2)、(C)陽極/発光層
/電子注入輸送層/陰極型素子(図3)、(D)陽極/
発光層/陰極型素子(図4)などを挙げることができ
る。さらには、発光層を電子注入輸送層で挟み込んだ型
の素子である(E)陽極/正孔注入輸送層/電子注入輸
送層/発光層/電子注入輸送層/陰極型素子(図5)と
することもできる。(D)型の素子構成としては、発光
成分を一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子を
包含するものであるが、さらには、例えば、(F)正孔
注入輸送成分、発光成分および電子注入輸送成分を混合
させた一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子
(図6)、(G)正孔注入輸送成分および発光成分を混
合させた一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子
(図7)、(H)発光成分および電子注入輸送成分を混
合させた一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子
(図8)がある。
れらの素子構成に限るものではなく、それぞれの型の素
子において、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層
を複数層設けたりすることができる。また、それぞれの
型の素子において、正孔注入輸送層と発光層との間に、
正孔注入輸送成分と発光成分の混合層および/または発
光層と電子注入輸送層との間に、発光成分と電子注入輸
送成分の混合層を設けることもできる。
(A)型素子、(B)型素子、(C)型素子、(E)型
素子、(F)型素子、(G)型素子または(H)型素子
であり、さらに好ましくは、(A)型素子、(B)型素
子、(C)型素子、(F)型素子、または(H)型素子
である。
に示す(A)陽極/正孔注入輸送層/発光層/電子注入
輸送層/陰極型素子について説明する。図1において、
1は基板、2は陽極、3は正孔注入輸送層、4は発光
層、5は電子注入輸送層、6は陰極、7は電源を示す。
れていることが好ましく、基板としては、特に限定する
ものではないが、透明ないし半透明であることが好まし
く、例えば、ガラス板、透明プラスチックシート(例え
ば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのシート)、半透明プラスチックシート、
石英、透明セラミックスあるいはこれらを組み合わせた
複合シートからなるものを挙げることができる。さら
に、基板に、例えば、カラーフィルター膜、色変換膜、
誘電体反射膜を組み合わせて、発光色をコントロールす
ることもできる。
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。陽極に使用する電極物質として
は、例えば、金、白金、銀、銅、コバルト、ニッケル、
パラジウム、バナジウム、タングステン、酸化錫、酸化
亜鉛、ITO(インジウム・ティン・オキサイド)、ポ
リチオフェン、ポリピロールなどを挙げることができ
る。これらの電極物質は、単独で使用してもよく、ある
いは複数併用してもよい。
ば、蒸着法、スパッタリング法などの方法により、基板
の上に形成することができる。また、陽極は一層構造で
あってもよく、あるいは多層構造であってもよい。
百Ω/□以下、より好ましくは、5〜50Ω/□程度に
設定する。
もよるが、一般に、5〜1000nm程度、より好まし
くは、10〜500nm程度に設定するのが望ましい。
ール)の注入を容易にする機能、および注入された正孔
を輸送する機能を有する化合物を含有する層である。
および/または他の正孔注入輸送機能を有する化合物
(例えば、フタロシアニン誘導体、トリアリールメタン
誘導体、トリアリールアミン誘導体、オキサゾール誘導
体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ピラゾリン
誘導体、ポリシラン誘導体、ポリフェニレンビニレンお
よびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール誘導体など)を少なくとも
一種用いて形成することができる。尚、正孔注入輸送機
能を有する化合物は、単独で使用してもよく、あるいは
複数併用してもよい。
能を有する化合物としては、トリアリールアミン誘導体
(例えば、4,4’−ビス〔N−フェニル−N−(4”
−メチルフェニル)アミノ〕ビフェニル、4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、4,4’−ビス〔N−フェニル−N−
(3”−メトキシフェニル)アミノ〕ビフェニル、4,
4’−ビス〔N−フェニル−N−(1”−ナフチル)ア
ミノ〕ビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ビ
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、1,1−ビス〔4’−[N,N−ジ
(4”−メチルフェニル)アミノ]フェニル〕シクロヘ
キサン、9,10−ビス〔N−(4’−メチルフェニ
ル)−N−(4”−n−ブチルフェニル)アミノ〕フェ
ナントレン、3,8−ビス(N,N−ジフェニルアミ
ノ)−6−フェニルフェナントリジン、4−メチル−
N,N−ビス〔4”,4'''−ビス[N’,N''−ジ
(4−メチルフェニル)アミノ]ビフェニル−4−イ
ル〕アニリン、N,N''−ビス〔4−(ジフェニルアミ
ノ)フェニル〕−N,N’−ジフェニル−1,3−ジア
ミノベンゼン、N,N’−ビス〔4−(ジフェニルアミ
ノ)フェニル〕−N,N’−ジフェニル−1,4−ジア
ミノベンゼン、5,5”−ビス〔4−(ビス[4−メチ
ルフェニル]アミノ)フェニル〕−2,2’:5’,
2”−ターチオフェン、1,3,5−トリス(ジフェニ
ルアミノ)ベンゼン、4,4’,4”−トリス(N−カ
ルバゾリイル)トリフェニルアミン、4,4’,4”−
トリス〔N−(3'''−メチルフェニル)−N−フェニ
ルアミノ〕トリフェニルアミン、4,4’,4”−トリ
ス〔N,N−ビス(4'''−tert−ブチルビフェニル−
4""−イル)アミノ〕トリフェニルアミン、1,3,5
−トリス〔N−(4’−ジフェニルアミノフェニル)−
N−フェニルアミノ〕ベンゼンなど)、ポリチオフェン
およびその誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール誘導
体が好ましい。
機能を有する化合物を併用する場合、正孔注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により励起子を
生成させる機能を有する化合物を含有する層である。
または他の発光機能を有する化合物を少なくとも一種用
いて形成することができる。他の発光機能を有する化合
物の例としては、アクリドン誘導体、キナクリドン誘導
体、ジケトピロロピロール誘導体、多環芳香族化合物
〔例えば、ルブレン、アントラセン、テトラセン、ピレ
ン、ペリレン、クリセン、デカシクレン、コロネン、テ
トラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシク
ロヘキサジエン、9,10−ジフェニルアントラセン、
9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセン、
1,4−ビス(9’−エチニルアントラセニル)ベンゼ
ン、4,4’−ビス(9”−エチニルアントラセニル)
ビフェニル〕、トリアリールアミン誘導体〔例えば、正
孔注入輸送機能を有する化合物として前述した化合物を
挙げることができる〕、有機金属錯体〔例えば、トリス
(8−キノリラート)アルミニウム、ビス(10−ベン
ゾ[h]キノリノラート)ベリリウム、2−(2’−ヒド
ロキシフェニル)ベンゾオキサゾールの亜鉛塩、2−
(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾールの亜鉛
塩、4−ヒドロキシアクリジンの亜鉛塩、3−ヒドロキ
シフラボンの亜鉛塩、5−ヒドロキシフラボンのベリリ
ウム塩、5−ヒドロキシフラボンのアルミニウム塩〕、
スチルベン誘導体〔例えば、1,1,4,4−テトラフ
ェニル−1,3−ブタジエン、4,4’−ビス(2,2
−ジフェニルビニル)ビフェニル、4,4’−ビス
〔(1,1,2−トリフェニル)エテニル〕ビフェニ
ル、クマリン誘導体〔例えば、クマリン1、クマリン
6、クマリン7、クマリン30、クマリン106、クマ
リン138、クマリン151、クマリン152、クマリ
ン153、クマリン307、クマリン311、クマリン
314、クマリン334、クマリン338、クマリン3
43、クマリン500〕、ピラン誘導体〔例えば、DC
M1、DCM2〕、オキサゾン誘導体〔例えば、ナイル
レッド〕、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾオキサゾー
ル誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ピラジン誘導
体、ケイ皮酸エステル誘導体、ポリ−N−ビニルカルバ
ゾールおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘
導体、ポリフェニレンおよびその誘導体、ポリフルオレ
ンおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびそ
の誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよびその誘導
体、ポリターフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポ
リナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポリチエニレ
ンビニレンおよびその誘導体などを挙げることができ
る。
光層に本発明に係る化合物Aを含有していることが好ま
しい。
する化合物を併用する場合、発光層中に占める本発明に
係る化合物Aの割合は、好ましくは、0.001〜9
9.999重量%程度、より好ましくは、0.01〜9
9.99重量%程度、さらに好ましくは、0.1〜9
9.9重量%程度に調製する。
る化合物としては、発光性有機金属錯体が好ましい。例
えば、J.Appl.Phys.,65,3610(1989)、特開平5−214
332号公報に記載のように、発光層をホスト化合物と
ゲスト化合物(ドーパント)とより構成することもでき
る。
して用いて発光層を形成することができ、さらには、ゲ
スト化合物として用いて発光層を形成することもでき
る。本発明に係る化合物Aを、ゲスト化合物として用い
て発光層を形成する場合、ホスト化合物としては、例え
ば、前記の他の発光機能を有する化合物を挙げることが
でき、例えば、発光性有機金属錯体または前記のトリア
リールアミン誘導体はより好ましい。
アリールアミン誘導体に対して、本発明に係る化合物A
を、好ましくは、0.001〜40重量%程度、より好
ましくは、0.01〜30重量%程度、特に好ましく
は、0.1〜20重量%程度使用する。
機金属錯体としては、特に限定するものではないが、発
光性有機アルミニウム錯体が好ましく、置換または未置
換の8−キノリノラート配位子を有する発光性有機アル
ミニウム錯体がより好ましい。
一般式(a)〜一般式(c)で表される発光性有機アル
ミニウム錯体を挙げることができる。 (Q)3−Al (a) (式中、Qは置換または未置換の8−キノリノラート配
位子を表す) (Q)2−Al−O−L (b) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表し、O
−Lはフェノラート配位子であり、Lはフェニル部分を
含む炭素数6〜24の炭化水素基を表す) (Q)2−Al−O−Al−(Q)2 (c) (式中、Qは置換8−キノリノラート配位子を表す)
えば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム、ト
リス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、トリス(5−メチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウム、トリス(3,4−ジメチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、トリス(4,5−ジメチル−8−キ
ノリノラート)アルミニウム、トリス(4,6−ジメチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メ
チル−8−キノリノラート)(フェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3−メチルフェノラート)ア
ルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(4−メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2−フェニルフェノラ
ート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノ
ラート)(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−フェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,3−ジメチルフェノラート)
アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)(2,6−ジメチルフェノラート)アルミニウム、
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(3,4−ジ
メチルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル
−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ート)(3,5−ジ−tert−ブチルフェノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)
(2,6−ジフェニルフェノラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−
トリフェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラート)(2,4,6−トリメチ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)(2,4,5,6−テトラメチルフ
ェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビ
ス(2−メチル−8−キノリノラート)(2−ナフトラ
ート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キ
ノリノラート)(2−フェニルフェノラート)アルミニ
ウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)
(3−フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス
(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)(4−フェ
ニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメ
チル−8−キノリノラート)(3,5−ジメチルフェニ
ルフェノラート)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチ
ル−8−キノリノラート)(3,5−ジ−tert−ブチル
フェニルフェノラート)アルミニウム、ビス(2−メチ
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウ
ム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)ア
ルミニウム−μ−オキソ−ビス(2,4−ジメチル−8
−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−
4−エチル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−
オキソ−ビス(2−メチル−4−エチル−8−キノリノ
ラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−4−メトキ
シ−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2−メチル−4−メトキシ−8−キノリノラー
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル
−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビ
ス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリ
ノラート)アルミニウムなどを挙げることができる。勿
論、発光性有機金属錯体は、単独で使用してもよく、あ
るいは複数併用してもよい。
入を容易にする機能、そして注入された電子を輸送する
機能を有する化合物を含有する層である。
および/または他の電子注入輸送機能を有する化合物
(例えば、有機金属錯体〔例えば、トリス(8−キノリ
ノラート)アルミニウム、ビス(10−ベンゾ[h]キノ
リノラート)ベリリウム、5−ヒドロキシフラボンのベ
リリウム塩、5−ヒドロキシフラボンのアルミニウム
塩〕、オキサジアゾール誘導体〔例えば、1,3−ビス
[5’−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−
オキサジアゾール−2’−イル]ベンゼン〕、トリアゾ
ール誘導体〔例えば、3−(4’−tert−ブチルフェニ
ル)−4−フェニル−5−(4”−ビフェニル)−1,
2,4−トリアゾール〕、トリアジン誘導体、ペリレン
誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェ
ニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チ
オピランジオキサイド誘導体など)を少なくとも一種用
いて形成することができる。
機能を有する化合物を併用する場合、電子注入輸送層中
に占める本発明に係る化合物Aの割合は、好ましくは、
0.1〜40重量%程度に調製する。
有機金属錯体〔例えば、前記一般式(a)〜一般式
(c)で表される化合物〕を併用して、電子注入輸送層
を形成することは好ましい。
金属、合金または電気伝導性化合物を電極物質として使
用することが好ましい。
ば、リチウム、リチウム−インジウム合金、ナトリウ
ム、ナトリウム−カリウム合金、カルシウム、マグネシ
ウム、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウ
ム合金、インジウム、ルテニウム、チタニウム、マンガ
ン、イットリウム、アルミニウム、アルミニウム−リチ
ウム合金、アルミニウム−カルシウム合金、アルミニウ
ム−マグネシウム合金、グラファイト薄膜などを挙げる
ことができる。これらの電極物質は、単独で使用しても
よく、あるいは、複数併用してもよい。
ば、蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオ
ンプレーティング法、クラスターイオンビーム法などの
方法により、電子注入輸送層の上に形成することができ
る。また、陰極は一層構造であってもよく、あるいは多
層構造であってもよい。
に設定することが好ましい。陰極の厚みは、使用する電
極物質の材料にもよるが、一般に、5〜1000nm程
度、より好ましくは、10〜500nm程度に設定す
る。
すために、陽極または陰極の少なくとも一方の電極が、
透明ないし半透明であることが好ましく、一般に、発光
光の透過率が70%以上となるように陽極の材料、厚み
を設定することがより好ましい。
は、その少なくとも一層中に、一重項酸素クエンチャー
が含有されていてもよい。
定するものではなく、例えば、ルブレン、ニッケル錯
体、ジフェニルイソベンゾフランなどが挙げられ、特に
好ましくは、ルブレンである。
層としては、特に限定するものではないが、好ましく
は、発光層または正孔注入輸送層であり、より好ましく
は、正孔注入輸送層である。尚、例えば、正孔注入輸送
層に一重項クエンチャーを含有させる場合、正孔注入輸
送層中に均一に含有させてもよく、正孔注入輸送層と隣
接する層(例えば、発光層、発光機能を有する電子注入
輸送層)の近傍に含有させてもよい。
は、含有される層(例えば、正孔注入輸送層)を構成す
る全体量の0.01〜50重量%、好ましくは、0.0
5〜30重量%、より好ましくは、0.1〜20重量%
である。
の形成方法に関しては、特に限定するものではなく、例
えば、真空蒸着法、イオン化蒸着法、溶液塗布法(例え
ば、スピンコート法、キャスト法、ディップコート法、
バーコート法、ロールコート法、ラングミュア・ブロゼ
ット法、インクジェット法など)により薄膜を形成する
ことにより作成することができる。
真空蒸着の条件は、特に限定するものではないが、10
-5Torr程度の真空下で、50〜600℃程度のボー
ト温度(蒸着源温度)、−50〜300℃程度の基板温
度で、0.005〜50nm/sec程度の蒸着速度で
実施することが好ましい。
注入輸送層などの各層は、真空下で、連続して形成する
ことにより、諸特性に一層優れた有機電界発光素子を製
造することができる。
層、電子注入輸送層などの各層を、複数の化合物を用い
て形成する場合、化合物を入れた各ボートを個別に温度
制御して、共蒸着することが好ましい。
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、溶媒に溶解、または分散させて塗布液とする。
の各層に使用しうるバインダー樹脂としては、例えば、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアリレート、ポリ
スチレン、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリメチル
アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテ
ル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリ
フェニレンオキサイド、ポリエーテルスルフォン、ポリ
アニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその
誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポ
リフルオレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレ
ンおよびその誘導体などの高分子化合物が挙げられる。
バインダー樹脂は、単独で使用してもよく、あるいは、
複数併用してもよい。
各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂
を、適当な有機溶媒(例えば、ヘキサン、オクタン、デ
カン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、1−メチ
ルナフタレンなどの炭化水素系溶媒、例えば、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン系溶媒、例えば、ジクロロ
メタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロ
エタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどの
ハロゲン化炭化水素系溶媒、例えば、酢酸エチル、酢酸
ブチル、酢酸アミルなどのエステル系溶媒、例えば、メ
タノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、
ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールなどのアル
コール系溶媒、例えば、ジブチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、アニソールなどのエーテル系溶
媒、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリドン、
1−メチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルフォ
キサイドなどの極性溶媒)および/または水に溶解、ま
たは分散させて塗布液とし、各種の塗布法により、薄膜
を形成することができる。
ものではないが、例えば、ボールミル、サンドミル、ペ
イントシェーカー、アトライター、ホモジナイザーなど
を用いて微粒子状に分散することができる。
のではなく、実施する塗布法により、所望の厚みを作成
するに適した濃度範囲に設定することができ、一般に
は、0.1〜50重量%程度、好ましくは、1〜30重
量%程度の溶液濃度である。尚、バインダー樹脂を使用
する場合、その使用量に関しては、特に制限するもので
はないが、一般には、各層を形成する成分に対して(一
層型の素子を形成する場合には、各成分の総量に対し
て)、5〜99.9重量%程度、好ましくは、10〜9
9.9重量%程度、より好ましくは、15〜90重量%
程度に設定する。
の膜厚に関しては、特に限定するものではないが、一般
に、5nm〜5μm程度に設定することが好ましい。
接触を防止する目的で、保護層(封止層)を設けたり、
また、素子を、例えば、パラフィン、流動パラフィン、
シリコンオイル、フルオロカーボン油、ゼオライト含有
フルオロカーボン油などの不活性物質中に封入して保護
することができる。
素化樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、エポキシシ
リコーン樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリフェニレン
オキサイドなどの有機高分子材料、ダイヤモンド薄膜、
アモルファスシリカ、電気絶縁性ガラス、金属酸化物、
金属窒化物、金属炭素化物、金属硫化物などの無機材
料、さらには光硬化性樹脂などを挙げることができ、保
護層に使用する材料は、単独で使用してもよく、あるい
は複数併用してもよい。保護層は、一層構造であっても
よく、また多層構造であってもよい。
酸化膜(例えば、酸化アルミニウム膜)、金属フッ化膜
を設けることもできる。また、例えば、陽極の表面に、
例えば、有機リン化合物、ポリシラン、芳香族アミン誘
導体、フタロシアニン誘導体から成る界面層(中間層)
を設けることもできる。
を、例えば、酸、アンモニア/過酸化水素、あるいはプ
ラズマで処理して使用することもできる。
流駆動型の素子として使用されるが、パルス駆動型また
は交流駆動型の素子としても使用することができる。
尚、印可電圧は、一般に、2〜30V程度である。
ネル型光源、各種の発光素子、各種の表示素子、各種の
標識、各種のセンサーなどに使用することができる。
更に詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定
されるものではない。
の製造 3−(1’−ナフチル)ナフト[1',8':5,6,7]−s−イ
ンダセノ[1,2,3-cd]フルオランテン5.27gと三フッ
化コバルト11.59gをトリフルオロ酢酸100ml
中、室温にて、5時間撹拌した。水500mlを加えた
後、析出している結晶を濾取し、水で洗浄した。
フィー(溶出液:トルエン)で処理した。トルエンを減
圧下留去した後、残渣をトルエンとアセトンの混合溶媒
より再結晶し、前記で例示した化合物(以下例示化合
物)A−1の化合物を紫色の結晶として2.94g得
た。 質量分析:m/z=524 融点250℃以上 尚、この化合物は、500℃、10-5Torrの条件下
で昇華した。 吸収極大(トルエン中)562nm
−(1’−ナフチル)ナフト[1',8':5,6,7]−s−イン
ダセノ[1,2,3-cd]フルオランテンを使用する代わりに、
種々の3−(1’−ナフチル)[k]ナフト[1',8':5,6,7]
−s−インダセノ[1,2,3-cd]フルオランテン誘導体を使
用した以外は、製造例1に記載した方法に従い、種々の
フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-
cd]ペリレン誘導体を製造した。
ル)ナフト[1',8':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]
フルオランテン誘導体、および製造したフルオランテノ
[3',4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘
導体を例示化合物の番号で示した。また、トルエン中の
吸収極大(nm)も併せて示した。尚、製造された化合
物は、紫色の結晶であり、それらの化合物の融点は、2
50℃以上であった。
電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒
素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムとフルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−インダ
セノ[1,2,3-cd]ペリレン(例示化合物番号A−1の化合
物)を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/se
cで50nmの厚さに共蒸着(重量比100:0.5)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2450cd/m2の赤色の発
光が確認された。
光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物を使用
する代わりに、例示化合物番号A−8の化合物(実施例
2)、例示化合物番号A−10の化合物(実施例3)、
例示化合物番号A−12の化合物(実施例4)、例示化
合物番号A−18の化合物(実施例5)、例示化合物番
号A−19の化合物(実施例6)、例示化合物番号A−
25の化合物(実施例7)、例示化合物番号A−29の
化合物(実施例8)、例示化合物番号A−34の化合物
(実施例9)、例示化合物番号B−1の化合物(実施例
10)、例示化合物番号B−3の化合物(実施例1
1)、 例示化合物番号B−8の化合物(実施例1
2)、例示化合物番号C−1の化合物(実施例13)、
例示化合物番号C−4の化合物(実施例14)、例示化
合物番号C−6の化合物(実施例15)、例示化合物番
号C−7の化合物(実施例16)、例示化合物番号C−
10の化合物(実施例17)、例示化合物番号C−12
の化合物(実施例18)、例示化合物番号C−16の化
合物(実施例19)、例示化合物番号C−18の化合物
(実施例20)、例示化合物番号C−24の化合物(実
施例21)、例示化合物番号C−30の化合物(実施例
22)、例示化合物番号C−38の化合物(実施例2
3)、例示化合物番号C−40の化合物(実施例2
4)、例示化合物番号C−42の化合物(実施例2
5)、例示化合物番号C−47の化合物(実施例2
6)、例示化合物番号C−49の化合物(実施例2
7)、例示化合物番号D−1の化合物(実施例28)、
例示化合物番号D−2の化合物(実施例29)、例示化
合物番号D−5の化合物(実施例30)、例示化合物番
号D−8の化合物(実施例31)、例示化合物番号D−
15の化合物(実施例32)、例示化合物番号E−1の
化合物(実施例33)、例示化合物番号E−3の化合物
(実施例34)、例示化合物番号E−4の化合物(実施
例35)、例示化合物番号E−5の化合物(実施例3
6)、例示化合物番号E−7の化合物(実施例37)、
例示化合物番号E−9の化合物(実施例38)、例示化
合物番号E−10の化合物(実施例39)、例示化合物
番号E−13の化合物(実施例40)、例示化合物番号
E−17の化合物(実施例41)、例示化合物番号E−
18の化合物(実施例42)、例示化合物番号E−23
の化合物(実施例43)、例示化合物番号E−24の化
合物(実施例44)、例示化合物番号E−28の化合物
(実施例45)を使用した以外は、実施例1に記載の方
法により有機電界発光素子を作製した。それぞれの素子
に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したとこ
ろ、橙赤〜赤色の発光が確認された。さらにその特性を
調べ、結果を第2表に示した。
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用せ
ずに、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(4−
フェニルフェノラート)アルミニウムだけを用いて、5
0nmの厚さに蒸着し、発光層とした以外は、実施例1
に記載の方法により有機電界発光素子を作製した。この
素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したと
ころ、青色の発光が確認された。さらにその特性を調
べ、結果を第2表に示した。
形成に際して、例示化合物番号A−1の化合物を使用す
る代わりに、N−メチル−2−メトキシアクリドンを使
用した以外は、実施例1に記載の方法により有機電界発
光素子を作製した。この素子に、乾燥雰囲気下、12V
の直流電圧を印加したところ、青色の発光が確認され
た。さらにその特性を調べ、結果を第2表に示した。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号A−8の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2440cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号A−12の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2380cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号A−19の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2280cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号A−29の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2280cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−6の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2370cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号C−10の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)
し、電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2440cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号C−12の化合物を、異なる
蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2340cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号C−24の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2320cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号C−30の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、54mA/c
m2の電流が流れた。輝度2320cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号D−1の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)し、
発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2240cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号D−8の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、発
光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2320cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号E−4の化合物
を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/secで
50nmの厚さに共蒸着(重量比100:1.0)し、
電子注入輸送層を兼ねた発光層とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2320cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)(4−フェニルフェノラート)アル
ミニウムと例示化合物番号E−7の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:1.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2300cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−ビス
(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムと例
示化合物番号E−10の化合物を、異なる蒸着源から、
蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚さに共蒸着
(重量比100:2.0)し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2440cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ル−8−キノリノラート)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウムと例示化合物番号E−13の化合物を、異なる蒸
着源から、蒸着速度0.2nm/secで50nmの厚
さに共蒸着(重量比100:4.0)し、発光層とし
た。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2360cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号E−18の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:6.0)
し、発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、56mA/c
m2の電流が流れた。輝度2380cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
ラート)アルミニウムと例示化合物番号E−23の化合
物を、異なる蒸着源から、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに共蒸着(重量比100:10)し、
発光層とした。
ミニウムを、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上
に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/sec
で200nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰
極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸
着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、55mA/c
m2の電流が流れた。輝度2300cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
ス〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニルを蒸着速度0.2nm/secで75n
mの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。
の化合物を、蒸着速度0.2nm/secで50nmの
厚さに蒸着し、発光層とした。
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、14Vの直流電圧を印加したところ、41mA/c
m2の電流が流れた。輝度1880cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
号E−4の化合物を蒸着速度0.2nm/secで55
nmの厚さに蒸着し、発光層とした。
(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾール−2’−イル〕ベンゼンを、蒸着速度0.2n
m/secで75nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層
とした。
着速度0.2nm/secで200nmの厚さに共蒸着
(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光素子を
作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま
実施した。
下、14Vの直流電圧を印加したところ、64mA/c
m2の電流が流れた。輝度1460cd/m2の赤色の発
光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄した
後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3
×10-6Torrに減圧した。
4”−トリス〔N−(3'''−メチルフェニル)−N−フ
ェニルアミノ〕トリフェニルアミンを蒸着速度0.1n
m/secで、50nmの厚さに蒸着し、第一正孔注入
輸送層とした。
−N−(1”−ナフチル)アミノ〕ビフェニルと例示化
合物番号A−1の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速
度0.2nm/secで20nmの厚さに共蒸着(重量
比100:5)し、第二正孔注入輸送層を兼ねた発光層
とした。
ラート)アルミニウムを、蒸着速度0.2nm/sec
で50nmの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さ
らにその上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度0.2n
m/secで200nmの厚さに共蒸着(重量比10:
1)して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、
蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、62mA/c
m2の電流が流れた。輝度2660cd/m2の赤色の発
光が確認された。
て、発光層の形成に際して、例示化合物A−1の化合物
を使用する代わりに、例示化合物番号A−10の化合物
(実施例66)、例示化合物番号A−18の化合物(実
施例67)、例示化合物番号A−25の化合物(実施例
68)、例示化合物番号B−1の化合物(実施例6
9)、例示化合物番号B−8の化合物(実施例70)、
例示化合物番号C−1の化合物(実施例71)、例示化
合物番号C−4の化合物(実施例72)、例示化合物番
号C−10の化合物(実施例73)、例示化合物番号C
−16の化合物(実施例74)、例示化合物番号C−4
2の化合物(実施例75)、 例示化合物番号D−1の
化合物(実施例76)、例示化合物番号D−5の化合物
(実施例77)、例示化合物番号D−8の化合物(実施
例78)、例示化合物番号D−15の化合物(実施例7
9)、例示化合物番号E−1の化合物(実施例80)、
例示化合物番号E−3の化合物(実施例81)、例示化
合物番号E−4の化合物(実施例82)、例示化合物番
号E−9の化合物(実施例83)、例示化合物番号E−
10の化合物(実施例84)、例示化合物番号E−13
の化合物(実施例85)、例示化合物番号E−18の化
合物(実施例86)を使用した以外は、実施例65に記
載の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞれ
の素子に、乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加した
ところ、橙赤〜赤色の発光が確認された。さらにその特
性を調べ、結果を第3表に示した。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン
(青色の発光成分)、クマリン6〔”3−(2’−ベン
ゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン”(緑色
の発光成分)〕、および例示化合物番号A−12の化合
物を、それぞれ重量比100:5:3:2の割合で含有
する3重量%のジクロロエタン溶液を用いて、ディップ
コート法により、400nmの発光層を形成した。
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3×1
0-6Torrに減圧した。
−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4”−ビフ
ェニル)1,2,4−トリアゾールを蒸着速度0.2n
m/secで20nmの厚さに蒸着した後、さらにその
上に、トリス(8−キノリノラート)アルミニウムを、
蒸着速度0.2nm/secで30nmの厚さに蒸着
し、電子注入輸送層とした。さらにその上に、マグネシ
ウムと銀を、蒸着速度0.2nm/secで200nm
の厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、有機
電界発光素子を作製した。
下、12Vの直流電圧を印加したところ、62mA/c
m2の電流が流れた。輝度1180cd/m2の白色の発
光が確認された。
て、例示化合物番号A−12の化合物を用いる代わり
に、例示化合物番号A−19の化合物(実施例88)、
例示化合物番号A−29の化合物(実施例89)、例示
化合物番号C−12の化合物(実施例90)、例示化合
物番号C−24の化合物(実施例91)、例示化合物番
号C−47の化合物(実施例92)、例示化合物番号D
−5の化合物(実施例93)、例示化合物番号D−8の
化合物(実施例94)、例示化合物番号E−5の化合物
(実施例95)、例示化合物番号E−9の化合物(実施
例96)を使用した以外は、実施例87に記載の方法に
より有機電界発光素子を作製した。それぞれの素子に、
乾燥雰囲気下、12Vの直流電圧を印加したところ、白
色の発光が観察された。さらにその特性を調べ、結果を
第4表に示した。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ニルカルバゾール(重量平均分子量150000)、
1,3−ビス〔5’−(p−tert−ブチルフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール−2’−イル〕ベンゼン
および例示化合物番号C−12の化合物を、それぞれ重
量比100:30:3の割合で含有する3重量%のジク
ロロエタン溶液を用いて、ディップコート法により、3
00nmの発光層を形成した。次に、この発光層を有す
るガラス基板を、蒸着装置の基板ホルダーに固定した
後、蒸着槽を3×10-6Torrに減圧した。
を、蒸着速度0.2nm/secで200nmの厚さに
共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、有機電界発光
素子を作製した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、72mA/c
m2の電流が流れた。輝度1460cd/m2の赤色の発
光が確認された。
の形成に際して、例示化合物番号C−12の化合物の代
わりに、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブ
タジエンを使用した以外は、実施例97に記載の方法に
より有機電界発光素子を作製した。作製した有機電界発
光素子に、乾燥雰囲気下、15Vの直流電圧を印加した
ところ、86mA/cm2の電流が流れた。輝度750
cd/m2の青色の発光が確認された。
明電極(陽極)を有するガラス基板を、中性洗剤、アセ
トン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を
窒素ガスを用いて乾燥し、さらにUV/オゾン洗浄し
た。
ート(重量平均分子量50000)、4,4’−ビス
〔N−フェニル−N−(3”−メチルフェニル)アミ
ノ〕ビフェニル、ビス(2−メチル−8−キノリノラー
ト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス(2−メチル−8
−キノリノラート)アルミニウムおよび例示化合物番号
D−8の化合物を、それぞれ重量比100:40:6
0:1の割合で含有する3重量%のジクロロエタン溶液
を用いて、ディップコート法により、300nmの発光
層を形成した。
蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を3×1
0-6Torrに減圧した。さらに、発光層の上に、マグ
ネシウムと銀を、蒸着速度0.2nm/secで200
nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)して陰極とし、
有機電界発光素子を作製した。
下、15Vの直流電圧を印加したところ、62mA/c
m2の電流が流れた。輝度940cd/m2の赤色の発光
が確認された。
界発光素子を提供することが可能になった。さらに、該
発光素子に適した炭化水素化合物を提供することが可能
になった。
合した層) 4'' :発光層(発光成分および電子注入輸送成分を混
合した層) 4''' :発光層(発光成分、正孔注入輸送成分および電
子注入輸送成分を混合した層) 5 :電子注入輸送層 6 :陰極 7 :電源
Claims (8)
- 【請求項1】 一対の電極間に、フルオランテノ[3',
4':5,6,7]−s−インダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体
を少なくとも一種含有する層を、少なくとも一層挟持し
てなる有機電界発光素子。 - 【請求項2】 フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−イ
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を含有する層が、さ
らに、発光性有機金属錯体を含有することを特徴とする
請求項1に記載の有機電界発光素子。 - 【請求項3】 フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−イ
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を含有する層が、さ
らに、トリアリールアミン誘導体を含有することを特徴
とする請求項1または2に記載の有機電界発光素子。 - 【請求項4】 フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−イ
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体を含有する層が、発
光層である請求項1記載の有機電界発光素子。 - 【請求項5】 一対の電極間に、さらに、正孔注入輸送
層を有する請求項4に記載の有機電界発光素子。 - 【請求項6】 一対の電極間に、さらに、電子注入輸送
層を有する請求項4または5に記載の有機電界発光素
子。 - 【請求項7】 フルオランテノ[3',4':5,6,7]−s−イ
ンダセノ[1,2,3-cd]ペリレン誘導体が、一般式(1−
A)で表される化合物である請求項1〜6のいずれかに
記載の有機電界発光素子。 【化1】 (式中、X1〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。) - 【請求項8】 一般式(1−A)で表される化合物。 【化2】 (式中、X1〜X20はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、
分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未
置換のアリール基を表す。)
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