JP2002166674A - Original plate for lithographic printing plate - Google Patents

Original plate for lithographic printing plate

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JP2002166674A
JP2002166674A JP2000367209A JP2000367209A JP2002166674A JP 2002166674 A JP2002166674 A JP 2002166674A JP 2000367209 A JP2000367209 A JP 2000367209A JP 2000367209 A JP2000367209 A JP 2000367209A JP 2002166674 A JP2002166674 A JP 2002166674A
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JP
Japan
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acid
resin
weight
fine particles
lithographic printing
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Application number
JP2000367209A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Maemoto
一夫 前本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a lithographic printing plate having good on-press developability and an excellent plate wear resistance. SOLUTION: The original plate for the lithographic printing plate comprises an image forming layer containing fine particles including at least one type selected from the group consisting of a phenol resin, an acrylic resin, a urethane resin and an epoxy resin. It is preferable that the fine particles contain a photothermal conversion agent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用原版
に関し、特にアルミニウム支持体に対する密着性と皮膜
性に優れ、それにより耐刷性が優れる平版印刷版用原版
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate precursor having excellent adhesion to an aluminum support and excellent film forming properties, and thereby having excellent printing durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用刷版については、多数の研究が
なされている。その中で、一層の工程合理化と廃液処理
問題の解決を目指すものとして、露光後、現像処理する
ことなしに印刷機に装着して印刷できる現像不要平版印
刷用原版が研究され、種々の方法が提案されている。
2. Description of the Related Art Numerous studies have been made on printing plates for computer-to-plate systems, which have been remarkably advanced in recent years. Among them, with the aim of further streamlining the process and solving the problem of waste liquid treatment, development-free lithographic printing plate precursors that can be mounted on a printing press and printed without developing after exposure have been studied, and various methods have been studied. Proposed.

【0003】処理工程をなくす方法の一つに、露光済み
の印刷版用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリン
ダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによ
って、印刷用原版の非画像部を除去する機上現像と呼ば
れる方法がある。すなわち、印刷版用原版を露光後、そ
のまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完
了する方式である。このような機上現像に適した平版印
刷版用原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を有
し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに
適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。
[0003] One of the methods for eliminating the processing step is to mount an exposed printing plate precursor on a cylinder of a printing press, and supply a dampening solution and ink while rotating the cylinder. There is a method called on-press development for removing an image portion. In other words, the printing plate precursor is mounted on a printing machine as it is after exposure, and the processing is completed in a normal printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for such on-press development has a photosensitive layer that is soluble in fountain solution and ink solvent, and is suitable for development on a printing machine placed in a bright room. It is required to have a light room handling property.

【0004】例えば、特開平9−131850号公報に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設け
た平版印刷版用原版が開示されている。この公報には、
該平版印刷版用原版において、赤外線レーザー露光して
熱可塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画
像形成した後、印刷機シリンダー上に版を取付け、湿し
水および/またはインキにより機上現像できることが記
載されている。しかしながら、このように単に熱による
合体で画像を作る方法では、良好な機上現像性を示すも
のの、画像強度が弱いために耐刷性が不十分という問題
がある。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-131850 discloses a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. It has been disclosed. In this publication,
In the lithographic printing plate precursor, an image is formed by exposing the thermoplastic hydrophobic polymer fine particles by heat by exposing the plate to infrared rays, and then mounting the plate on a printing press cylinder, and using a fountain solution and / or ink. It is described that the above can be developed. However, in such a method of forming an image simply by heat coalescence, although good on-press developability is exhibited, there is a problem that printing durability is insufficient due to low image strength.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記のような先行技術の欠点を克服した平版印刷版
用原版を提供することである。すなわち機上現像性が良
好であり、高耐刷性が優れる平版印刷版用原版を提供す
ることである。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor that overcomes the disadvantages of the prior art as described above. That is, it is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor having good on-press developability and excellent high printing durability.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果、以下の構成を採用
することにより、前記従来技術の欠点を克服することを
見出した。即ち、本発明は以下の通りである。 (1) 親水性支持体上に、フェノール樹脂と、アクリ
ル樹脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群か
ら選ばれる少なくとも1種とを含有する微粒子を含有す
る画像形成層を有することを特徴とする平版印刷版用原
版。 (2) 前記微粒子中に光熱変換剤を含有することを特
徴とする前記(1)記載の平版印刷版用原版。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above-mentioned object, and as a result, have found that the following constitution can be used to overcome the disadvantages of the prior art. That is, the present invention is as follows. (1) A lithographic plate having an image forming layer containing fine particles containing a phenol resin and at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin and an epoxy resin on a hydrophilic support. Original plate for printing plate. (2) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the fine particles contain a photothermal conversion agent.

【0007】本発明の平版印刷版用原版の画像形成層中
の微粒子に含有させる、フェノール樹脂は基板との密着
性が良好であるが、膜質が悪く耐刷性が不十分である。
一方、アクリル樹脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂
等は皮膜性が良く、膜強度は強いが基板との密着性が悪
いために耐刷性が不十分である。上記の密着性と皮膜性
とを両立でき、優れた耐刷性を発現できる微粒子ポリマ
ーを含有する画像形成層について鋭意検討した結果、微
粒子ポリマーを上記の構成にすることにより、見出すこ
とができた。本発明の平版印刷版用原版は、デジタル信
号に基づいた走査露光により、熱が加わると、その画像
形成層に含まれる、フェノール樹脂と、アクリル樹脂、
ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群から選ばれ
る少なくとも1種とを含有する微粒子がヒートモードで
反応を起こすことにより、良好な機上現像性を示しなが
ら、加熱された画像部の皮膜強度および基板との密着性
が向上し、耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができ
る。
The phenol resin contained in the fine particles in the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention has good adhesion to the substrate, but has poor film quality and poor printing durability.
On the other hand, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, and the like have good film properties and strong film strength, but poor printing durability due to poor adhesion to a substrate. As a result of earnestly examining an image forming layer containing a fine particle polymer capable of achieving both the above-mentioned adhesiveness and film properties and exhibiting excellent printing durability, it was found that the fine particle polymer had the above-described constitution, . The lithographic printing plate precursor according to the invention is subjected to scanning exposure based on digital signals and, when heated, contained in its image forming layer, a phenolic resin and an acrylic resin,
Fine particles containing at least one selected from the group consisting of urethane resins and epoxy resins cause a reaction in a heat mode, so that while exhibiting good on-press developability, the film strength of the heated image area and the substrate And a lithographic printing plate having excellent printing durability can be obtained.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に本発明の平版印刷版用原版
について詳細に説明する。先ず、本発明の平版印刷版用
原版の特徴部分である画像形成層について説明する。 〔画像形成層〕本発明の平版印刷版用原版の画像形成層
(感熱層ともいう)は、フェノール樹脂と、アクリル樹
脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群から選
ばれる少なくとも1種とを含有する微粒子を含有する
が、更に親水性高分子バインダー、およびその他の添加
剤を含有することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described in detail below. First, the image forming layer, which is a characteristic part of the lithographic printing plate precursor according to the invention, will be described. [Image Forming Layer] The image forming layer (also referred to as a heat-sensitive layer) of the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a phenol resin and at least one selected from the group consisting of acrylic resins, urethane resins and epoxy resins. Although it contains fine particles, it can further contain a hydrophilic polymer binder and other additives.

【0009】(フェノール樹脂)好適なフェノール樹脂
としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノ
ールなどフェノール類をホルムアルデヒドなどのアルデ
ヒド類、あるいはメチロール体で縮合したノボラック樹
脂あるいはレゾール樹脂、あるいはヒドロキシスチレン
を重合した樹脂を挙げることができる。本発明のフェノ
ール樹脂の分子量は、好ましくは重量平均で2000以
上である。フェノール樹脂の微粒子中への添加量は、2
0%〜90%が好ましく、30%〜85%がさらに好ま
しい。20%未満、または90%を超えると耐刷性が悪
化し、共に不適である。
(Phenol resin) Suitable phenol resins include, for example, phenols such as phenol, cresol and xylenol, aldehydes such as formaldehyde, novolak resins or resole resins obtained by condensing with methylol, or resins obtained by polymerizing hydroxystyrene. Can be mentioned. The molecular weight of the phenolic resin of the present invention is preferably 2000 or more on a weight average. The amount of phenol resin added to the fine particles is 2
0% to 90% is preferable, and 30% to 85% is more preferable. If it is less than 20% or more than 90%, the printing durability deteriorates and both are unsuitable.

【0010】(アクリル樹脂)本発明で使用できるアク
リル樹脂は下記のモノマーから得られるホモポリマーあ
るいはコポリマーを挙げることができる。具体的には
(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アク
リルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシル
アクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、
N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルア
クリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N
−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の(メタ)ア
クリルアミド類、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メ
タ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸アミル、
(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オク
チル、アクリル酸−2−クロロエチル、(メタ)アクリ
ル酸−2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸グリ
シジル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の(置
換)アルキル(メタ)アクリル酸エステル類(メタ)ア
クリル酸類である。本発明のアクリル樹脂の分子量は、
好ましくは重量平均で2000以上である。アクリル樹
脂の微粒子中への添加量は、10%〜80%が好まし
く、15%〜70%がさらに好ましい。10%未満、ま
たは80%を超えると耐刷性が悪化し、共に不適であ
る。
(Acrylic Resin) The acrylic resin usable in the present invention may be a homopolymer or a copolymer obtained from the following monomers. Specifically, (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide,
N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N
(Meth) acrylamides such as -ethyl-N-phenylacrylamide, methyl (meth) acrylate, (meth)
Ethyl acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate,
(Substituted) such as hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate Alkyl (meth) acrylates (meth) acrylic acids. The molecular weight of the acrylic resin of the present invention is
Preferably, the weight average is 2,000 or more. The amount of the acrylic resin added to the fine particles is preferably from 10% to 80%, more preferably from 15% to 70%. If it is less than 10% or more than 80%, the printing durability deteriorates and both are unsuitable.

【0011】(エポキシ樹脂)本発明に用いられるエポ
キシ樹脂とは、エポキシ基を2つ以上含有するものが好
ましい。エポキシ基が2つ以上あると有効に架橋するこ
とができ、本発明の効果が容易に得られる。
(Epoxy resin) The epoxy resin used in the present invention preferably contains two or more epoxy groups. When there are two or more epoxy groups, crosslinking can be effectively performed, and the effects of the present invention can be easily obtained.

【0012】本発明に用いるエポキシ樹脂としては、多
価アルコールや多価フェノールなどとエピクロロヒドリ
ンとの反応によって得られるグリシジルエーテル化合物
もしくはそのプレポリマー、更に、アクリル酸又はメタ
クリ酸グリシジルの重合体又は共重合体等を挙げること
ができる。
The epoxy resin used in the present invention includes a glycidyl ether compound or a prepolymer thereof obtained by reacting a polyhydric alcohol or polyphenol with epichlorohydrin, and a polymer of acrylic acid or glycidyl methacrylate. Or a copolymer etc. can be mentioned.

【0013】好適な化合物の具体例としては、プロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテル、水添ビスフェノールAのジグリシジル
エーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、レソル
シノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAのジ
グリシジルエーテルもしくはエピクロロヒドリン重付加
物、ビスフェノールFのジグリシジルエーテルもしくは
エピクロロヒドリン重付加物、ハロゲン化ビスフェノー
ルAのジグリシジルエーテルもしくはエピクロロヒドリ
ン重付加物、ビフェニル型ビスフェノールのジグリシジ
ルエーテルもしくはエピクロロヒドリン重付加物、ノボ
ラック樹脂のグリシジルエーテル化物等、更に、メタク
リ酸メチル/メタクリ酸グリシジル共重合体、メタクリ
酸エチル/メタクリ酸グリシジル共重合体等が挙げられ
る。
Specific examples of suitable compounds include propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether and hydrogenated bisphenol A. Diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol A, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol F, and halogenated bisphenol A Diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct, diglycidyl ether of biphenyl-type bisphenol or Epichlorohydrin adduct, glycidyl ethers of novolac resins, further, methyl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer, methacrylic acid ethyl / glycidyl methacrylate copolymer, and the like.

【0014】上記化合物の市販品としては、例えば、油
化シェルエポキシ(株)製のエピコート1001(分子量約90
0、エポキシ当量450〜500)、エピコート1002(分子量
約1600、エポキシ当量600〜700)、エピコート1004(分
子量約1060、エポキシ当量875〜975)、エピコート1007
(分子量約2900、エポキシ当量2000)、エピコート1009
(分子量約3750、エポキシ当量3000)、エピコート1010
(分子量約5500、エポキシ当量4000)、エピコート1100
L(エポキシ当量4000)、エピコートYX31575(エポキシ
当量1200)、住友化学(株)製のスミエポキシESCN-195XH
N、ESCN-195Xl、ESCN-195XF等を挙げることができる。
本発明のエポキシ樹脂の分子量は、好ましくは重量平均
で2000以上である。エポキシ樹脂の微粒子中への添
加量は、10%〜80%が好ましく、15%〜70%が
さらに好ましい。10%未満、または80%を超えると
耐刷性が悪化し、共に不適である。
Commercially available products of the above compounds include, for example, Epicoat 1001 (Molecular weight of about 90
0, epoxy equivalent 450-500), epicoat 1002 (molecular weight about 1600, epoxy equivalent 600-700), epicoat 1004 (molecular weight about 1060, epoxy equivalent 875-975), epicoat 1007
(Molecular weight about 2900, epoxy equivalent 2000), Epicoat 1009
(Molecular weight about 3750, epoxy equivalent 3000), Epicoat 1010
(Molecular weight about 5500, epoxy equivalent 4000), Epicoat 1100
L (Epoxy equivalent 4000), Epicoat YX31575 (Epoxy equivalent 1200), Sumitomo Chemical Co., Ltd. Sumiepoxy ESCN-195XH
N, ESCN-195Xl, ESCN-195XF and the like can be mentioned.
The molecular weight of the epoxy resin of the present invention is preferably 2,000 or more by weight average. The amount of the epoxy resin added to the fine particles is preferably 10% to 80%, more preferably 15% to 70%. If it is less than 10% or more than 80%, the printing durability deteriorates and both are unsuitable.

【0015】(ウレタン樹脂)本発明に好適に使用され
るウレタン樹脂としては、主に下記ジイソシアネート化
合物(I)とジオール化合物の反応生成物を基本骨格とす
るポリウレタン樹脂が含まれる。 OCN−R1−NCO (I)
(Urethane resin) The urethane resin preferably used in the present invention mainly includes a polyurethane resin having a basic skeleton of a reaction product of the following diisocyanate compound (I) and a diol compound. OCN-R 1 -NCO (I)

【0016】式中、R1は置換基を有していてもよい二
価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。必要に応じ、R
1中に、イソシアネート基と反応しない他の官能基例え
ばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有してい
てもよい。
In the formula, R 1 represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon which may have a substituent. If necessary, R
One may have another functional group that does not react with the isocyanate group, for example, an ester, urethane, amide, or ureido group.

【0017】一般式(I)で示されるジイソシアネート化
合物として、具体的には以下に示すものが含まれる。即
ち、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリ
レンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイ
ソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−
キシリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシア
ネート、3,3′−ジメチルビフェニル−4,4′−ジ
イソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合
物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキ
サメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネー
ト、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソ
シアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,
4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジ
イソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シ
クロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアネート化合物;
1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシ
アネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシ
アネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が
挙げられる。
Specific examples of the diisocyanate compound represented by the general formula (I) include the following. That is, 2,4-tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-
Aromatic diisocyanate compounds such as xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate Aliphatic diisocyanate compounds such as lysine diisocyanate and dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate;
Alicyclic diisocyanate compounds such as 4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane and the like;
Examples thereof include diisocyanate compounds which are reaction products of a diol and a diisocyanate, such as an adduct of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate.

【0018】ジオール化合物としては具体的には以下に
示すものが含まれるがそれらに限られない。3,5−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチ
ル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロ
ピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、プロピレング
リコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリ
コール、1,3−ブチレングリコール、1,6−ヘキサ
ンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,
4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−
ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロ
ヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノー
ル、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビ
スフェノールAのエチレンオキサイド付加体、ビスフェ
ノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノー
ルFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールFの
プロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAの
エチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプ
ロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシ
エチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロ
キシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエチル)−
2,4−トリレンジカルバメート、2,4−トリレン−
ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス(2−
ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメート、
ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート等が挙げ
られる。
The diol compounds specifically include, but are not limited to, the following. 3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, bis ( Hydroxymethyl) acetic acid,
Bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol , Neopentyl glycol, 1,3-butylene glycol, 1,6-hexanediol, 2-butene-1,4-diol, 2,2,
4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-
Bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide addition of bisphenol F Propylene oxide adduct of bisphenol F, ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p-xylylene glycol, dihydroxyethyl sulfone, bis (2-hydroxy Ethyl)-
2,4-tolylene dicarbamate, 2,4-tolylene-
Bis (2-hydroxyethylcarbamide), bis (2-
(Hydroxyethyl) -m-xylylenedicarbamate,
Bis (2-hydroxyethyl) isophthalate and the like can be mentioned.

【0019】本発明のウレタン樹脂の分子量は、好まし
くは重量平均で2000以上である。ウレタン樹脂の微
粒子中への添加量は、10%〜80%が好ましく、15
%〜70%がさらに好ましい。10%未満、または80
%を超えると耐刷性が悪化し、共に不適である。
The molecular weight of the urethane resin of the present invention is preferably 2,000 or more on a weight average. The amount of the urethane resin added to the fine particles is preferably 10% to 80%.
% To 70% is more preferable. Less than 10% or 80
%, The printing durability deteriorates and both are unsuitable.

【0020】本発明では、上記フェノール樹脂と、アク
リル樹脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群
から選ばれる少なくとも1種は、微粒子として画像形成
層に含有される。上記微粒子は、例えば、フェノール樹
脂と、アクリル樹脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂
からなる群から選ばれる少なくとも1種とを混合して非
水溶性の有機溶剤に溶解し、これを分散剤が入った水溶
液と混合乳化し、さらに熱をかけて有機溶剤を飛ばしな
がら微粒子状に固化させる溶媒蒸発法で得られるが、こ
れに限定されない。又、本発明においては、赤外線吸収
色素、前記微粒子ポリマーと反応する官能基を有する化
合物等の少なくとも一つの成分を微粒子内に共存させた
微粒子も好適である。特に後述の光熱変換材料を微粒子
中に含有していることにより、レーザー光照射等により
画像書き込みを行うことができる。このような微粒子
は、上記溶媒蒸発法で前記フェノール樹脂と、アクリル
樹脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群から
選ばれる少なくとも1種とを非水溶性の有機溶剤に溶解
する場合、光熱変換材料(赤外線吸収色素)等を一緒に
溶解して溶媒蒸発法を行うことにより得られる。
In the present invention, the phenolic resin and at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin and an epoxy resin are contained as fine particles in the image forming layer. The fine particles are, for example, a mixture of a phenolic resin and at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin and an epoxy resin, dissolved in a water-insoluble organic solvent, and dissolved in an aqueous solution containing a dispersant. And the mixture is emulsified with water, and is further obtained by a solvent evaporation method in which the organic solvent is solidified into fine particles while heating to remove the organic solvent, but is not limited thereto. Further, in the present invention, fine particles in which at least one component such as an infrared absorbing dye and a compound having a functional group which reacts with the fine particle polymer coexist in the fine particles are also suitable. In particular, when the photothermal conversion material described below is contained in the fine particles, image writing can be performed by laser light irradiation or the like. Such fine particles can be obtained by dissolving the phenol resin and at least one selected from the group consisting of acrylic resin, urethane resin and epoxy resin in a water-insoluble organic solvent by the solvent evaporation method. (Infrared absorbing dye) and the like are dissolved together to obtain a solvent evaporation method.

【0021】上記のポリマー微粒子の中で、微粒子ポリ
マー同志が熱により合体するものが好ましく、その表面
は親水性で、水に分散するものが、特に好ましい。微粒
子ポリマーのみを塗布し、凝固温度よりも低い温度で乾
燥して作製した時の皮膜の接触角(空中水滴)が、凝固
温度よりも高い温度で乾燥して作製した時の皮膜の接触
角(空中水滴)よりも低くなることが好ましい。このよ
うに微粒子ポリマー表面を親水性にするには、ポリビニ
ルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポ
リマーあるいはオリゴマー、または親水性低分子化合物
を微粒子ポリマー表面に吸着させてやれば良いが、その
方法はこれらに限定されるものではない。
Among the above-mentioned polymer fine particles, those in which the polymer particles are united by heat are preferable, and those whose surface is hydrophilic and which is dispersed in water are particularly preferable. The contact angle (water droplets in the air) of a film produced by applying only the fine particle polymer and drying at a temperature lower than the coagulation temperature is lower than the contact angle of the film produced by drying at a temperature higher than the coagulation temperature ( (Water droplets in the air). In order to make the surface of the fine particle polymer hydrophilic as described above, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol, or a hydrophilic low-molecular compound may be adsorbed on the surface of the fine particle polymer. However, the present invention is not limited to this.

【0022】これらのポリマー微粒子の凝固温度は、7
0℃以上が好ましいが、経時安定性を考えると100℃
以上がさらに好ましい。上記のポリマー微粒子の平均粒
径は、0.01〜20μmが好ましいが、その中でも
0.05〜2.0μmがさらに好ましく、特に0.1〜
1.0μmが最適である。平均粒径が大き過ぎると解像
度が悪く、また小さ過ぎると経時安定性が悪くなり、上
記の平均粒径の範囲で画像形成性と機上現像性を両立さ
せることができる。
The solidification temperature of these polymer fine particles is 7
0 ° C. or higher is preferable, but considering the stability over time, 100 ° C.
The above is more preferred. The average particle size of the polymer fine particles is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 20 μm.
1.0 μm is optimal. If the average particle size is too large, the resolution is poor, and if it is too small, the stability over time is deteriorated, so that both the image forming property and the on-press developability can be achieved within the above range of the average particle size.

【0023】上記の微粒子の画像形成層中への添加量
は、画像形成層固形分の40重量%以上であるが、60
%〜95重量%が好ましく、65%〜90重量%の範囲
がさらに好ましい。40重量%より少ないと、画像強度
が悪くなり、95重量%より多いと機上現像性が悪くな
ってしまう。
The amount of the fine particles added to the image forming layer is at least 40% by weight of the solid content of the image forming layer.
% To 95% by weight, more preferably 65% to 90% by weight. If the amount is less than 40% by weight, the image strength deteriorates, and if it is more than 95% by weight, the on-press developability deteriorates.

【0024】〔親水性樹脂〕本発明の平版印刷版用原版
の画像形成層中には親水性樹脂を添加しても良い。親水
性樹脂を添加することで機上現像性が良好となるばかり
か、画像形成層(感熱層)自体の皮膜強度も上がる。親
水性樹脂としては3次元架橋していないものが機上現像
性が良好で好ましい。親水性樹脂としては、例えばヒド
ロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキ
シプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、
カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好まし
い。具体的な親水性樹脂として、アラビアゴム、カゼイ
ン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロー
ス及びそれらのNa塩、セルロースアセテート、アルギ
ン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー
類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル
酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの
塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及
びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポ
リマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレ
ートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピ
ルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロ
キシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマ
ー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及び
コポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプ
ロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならび
に加水分解度が少なくとも60重量%、好ましくは少な
くとも80重量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポ
リマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマ
ー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及び
コポリマー、2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸及びその塩のホモポリマー及びコポリマー等
を挙げることができる。
[Hydrophilic resin] A hydrophilic resin may be added to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention. The addition of the hydrophilic resin not only improves the on-press developability, but also increases the film strength of the image forming layer (thermosensitive layer) itself. As the hydrophilic resin, those which are not three-dimensionally crosslinked are preferred because of their good on-press developability. As the hydrophilic resin, for example, hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl,
Those having a hydrophilic group such as carboxymethyl are preferred. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their Na salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids And salts thereof, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxy Butyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene Glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols and homopolymers and copolymers of hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight; Examples thereof include methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, and 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and salts thereof homopolymers and copolymers.

【0025】親水性樹脂の画像形成層中への添加量は、
2%〜40%が好ましく、3%〜30%がさらに好まし
い。2%より少ないと、皮膜強度が弱く、40%より多
いと機上現像性は良くなるものの耐刷性が悪くなってし
まう。
The amount of the hydrophilic resin added to the image forming layer is as follows:
It is preferably from 2% to 40%, more preferably from 3% to 30%. If it is less than 2%, the film strength is low, and if it is more than 40%, the on-press developability is improved but the printing durability is deteriorated.

【0026】〔光熱変換材料〕また本発明の平版印刷版
用原版は、前記微粒子中、もしくはそれを含有する画像
形成層内またはそれに隣接する層内、更に後述のオーバ
ーコート層内に光熱変換材料を含有していることによ
り、レーザー光照射等により画像書き込みを行うことが
できる。その光熱変換材料としては、カーボンブラック
・金属微粒子および色素など光源の波長を吸収するもの
であれば特に限定されないが特に赤外線を吸収し熱に変
換する化合物が好ましい。
[Light-to-Heat Conversion Material] The lithographic printing plate precursor according to the present invention may contain a light-to-heat conversion material in the fine particles, in an image forming layer containing the fine particles or in a layer adjacent thereto, and further in an overcoat layer described later. , An image can be written by laser light irradiation or the like. The light-to-heat conversion material is not particularly limited as long as it absorbs the wavelength of the light source, such as carbon black / metal fine particles and dye, but a compound that absorbs infrared rays and converts it into heat is particularly preferable.

【0027】光熱変換材料は700nm以上の光を吸収
する物質が特に好ましく、種々の顔料や染料を用いる事
ができる。顔料としては、市販の顔料およびカラーイン
デックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔
料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」C
MC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用
できる。
The photothermal conversion material is particularly preferably a substance that absorbs light of 700 nm or more, and various pigments and dyes can be used. Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" C
MC Publishing, 1984) can be used.

【0028】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
Examples of the type of the pigment include a black pigment, a brown pigment, a red pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a fluorescent pigment, a metal powder pigment, and a polymer-bound pigment. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like.

【0029】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカ
ゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ
化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結合さ
せる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金
属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」
(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
これらの顔料中、赤外光又は近赤外光を吸収するもの
が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適
する点で特に好ましい。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a hydrophilic resin or a lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (eg, silica sol, alumina sol, a silane coupling agent, an epoxy compound, an isocyanate compound, etc.). A method of binding to the surface of the pigment is conceivable. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology”
(CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).
Among these pigments, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0030】そのような赤外光又は近赤外光を吸収する
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散し易く、かつ親水性を損わないものと
して、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされたカ
ーボンブラックが有用である。
As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black, carbon black coated with a hydrophilic resin, and carbon black modified with silica sol are preferably used. Among these, carbon black whose surface is coated with a hydrophilic resin or silica sol is useful as a material that is easily dispersed in a water-soluble resin and does not impair hydrophilicity.

【0031】顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲
にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. As the disperser, an ultrasonic disperser,
Sand mills, attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, dispersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three-roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0032】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしく
は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among these dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0033】赤外光又は近赤外光を吸収する染料として
は、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−
84356号、特開昭60−78787号、米国特許
4,973,572号明細書、特開平10−26851
2号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−1
73696号、特開昭58−181690号、特開昭5
8−194595号等に記載されているメチン染料、特
開昭58−112793号、特開昭58−224793
号、特開昭59−48187号、特開昭59−7399
6号、特開昭60−52940号、特開昭60−637
44号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭5
8−112792号等に記載されているスクワリリウム
染料、英国特許434,875号記載のシアニン染料や
米国特許第4,756,993号明細書記載の染料、米
国特許第4,973,572号明細書に記載のシアニン
染料および特開平10−268512号記載の染料を挙
げることができる。
Dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
No. 84356, JP-A-60-78787, U.S. Pat. No. 4,973,572, JP-A-10-26851
No. 2, etc .;
73696, JP-A-58-181690, JP-A-5-181
Methine dyes described in JP-A-8-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793.
JP-A-59-48187, JP-A-59-7399
No. 6, JP-A-60-52940, JP-A-60-637
No. 44, etc .;
Squarylium dyes described in JP-A-8-112792, cyanine dyes described in British Patent No. 434,875, dyes described in U.S. Pat. No. 4,756,993, and U.S. Pat. No. 4,973,572. And the dyes described in JP-A-10-268512.

【0034】[0034]

【化1】 Embedded image

【0035】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6
は、置換又は未置換のアルキル基;Z 1及びZ2は置換も
しくは未置換のフェニル基又はナフタレン基;Lは置換
又は未置換のメチン基で、該置換基は、炭素数8以下の
アルキル基、ハロゲン原子又はアミノ基であるか、該メ
チン基がその2つのメチン炭素上の置換基が相互に結合
して形成された置換基を有していても良いシクロヘキセ
ン環またはシクロペンテン環を含むものであってもよ
く、該置換基は炭素数6以下のアルキル基またはハロゲ
ン原子;Xはアニオン基;nは1又は2;そしてR1
2、R3、R4、R5、R6、Z1及びZ2の少なくとも一
つは酸性基又は酸性基のアルカリ金属塩基又はアミン塩
基を有する置換基を示す。)
(Where R1, RTwo, RThree, RFour, RFiveAnd R6
Is a substituted or unsubstituted alkyl group; Z 1And ZTwoAlso replace
Or unsubstituted phenyl or naphthalene group; L is substituted
Or an unsubstituted methine group, wherein the substituent has 8 or less carbon atoms
An alkyl group, a halogen atom or an amino group,
The tin group is bonded to the substituents on the two methine carbons
Optionally formed cyclohexene formed by
Or a ring containing a cyclopentene ring
And the substituent is an alkyl group having 6 or less carbon atoms or halogen.
X is an anionic group; n is 1 or 2;1,
RTwo, RThree, RFour, RFive, R6, Z1And ZTwoAt least one of
One is an acidic group or an alkali metal base or an amine salt of an acidic group
A substituent having a group is shown. )

【0036】[0036]

【化2】 Embedded image

【0037】(式中、R11は置換もしくは未置換のアル
キル基、置換もしくは未置換のアリール基又は置換もし
くは未置換のヘテロ環基;R12及びR15は水素原子又は
水素原子の代りに置換できる基:R13及びR14は水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換のアルコキシ基
又は置換もしくは未置換のアルキル基、但しR13及びR
14は同時に水素原子ではない:R16及びR17は置換もし
くは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリー
ル基、アシル基又はスルホニル基、又はR16とR 17で非
金属5員環もしくは6員環の形成を示す。)
(Where R11Is a substituted or unsubstituted al
Killed, substituted or unsubstituted aryl or substituted
Or an unsubstituted heterocyclic group; R12And RFifteenIs a hydrogen atom or
A group which can be substituted in place of a hydrogen atom: R13And R14Is hydrogen field
Atom, halogen atom, substituted or unsubstituted alkoxy group
Or a substituted or unsubstituted alkyl group, provided that R13And R
14Are not simultaneously hydrogen atoms: R16And R17Is a replacement
Or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl
Group, acyl group or sulfonyl group, or R16And R 17In non
The formation of a 5- or 6-membered metal ring is shown. )

【0038】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolig
ht III−178、Epolight III−130、
Epolight III−125等は特に好ましく用い
られる。これらの染料中、特に好ましいものは上記の式
(I)の水溶性のシアニン染料である。下記に具体的な
化合物を列記する。
Further, as a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169);
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4;
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and pyrilium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, Epolig manufactured by Eporin Co.
ht III-178, Epollight III-130,
Epollight III-125 and the like are particularly preferably used. Particularly preferred among these dyes are the water-soluble cyanine dyes of the above formula (I). Specific compounds are listed below.

【0039】[0039]

【化3】 Embedded image

【0040】[0040]

【化4】 Embedded image

【0041】[0041]

【化5】 Embedded image

【0042】[0042]

【化6】 Embedded image

【0043】[0043]

【化7】 Embedded image

【0044】[0044]

【化8】 Embedded image

【0045】[0045]

【化9】 Embedded image

【0046】[0046]

【化10】 Embedded image

【0047】[0047]

【化11】 Embedded image

【0048】次に、光熱変換性の金属微粒子について述
べる。金属粒子の多くは、光熱変換性であってかつ自己
発熱性でもある。好ましい金属微粒子として、Si、A
l、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、
Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、R
h、In、Sn、W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの
単体又は合金あるいはそれらの酸化物、硫化物の微粒子
が挙げられる。これらの金属微粒子を構成する金属の中
でも好ましい金属は、光照射によって熱融着し易い融点
がおよそ1000℃以下で赤外、可視又は紫外線領域に
吸収をもつ金属、たとえばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb及びSnである。また、とくに好
ましいのは、融点も比較的低く、熱線に対する吸光度も
比較的高い金属の微粒子、たとえばAg、Au、Cu、
Sb、Ge及びPbで、とくに好ましい元素はAg、A
u及びCuが挙げられる。
Next, the light-heat converting metal fine particles will be described. Many of the metal particles are photothermal and self-heating. Preferred metal fine particles include Si, A
1, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu,
Zn, Y, Zr, Mo, Ag, Au, Pt, Pd, R
Simple particles or alloys of h, In, Sn, W, Te, Pb, Ge, Re, and Sb, or fine particles of oxides and sulfides thereof. Among the metals constituting these metal fine particles, preferred metals are those having a melting point of about 1000 ° C. or less and easily absorbing in the infrared, visible or ultraviolet region, such as Re, Sb, Te, and Au, which are easily fused by light irradiation. , A
g, Cu, Ge, Pb and Sn. Particularly preferred are metal fine particles having a relatively low melting point and a relatively high absorbance to heat rays, such as Ag, Au, Cu, and the like.
Among Sb, Ge and Pb, particularly preferred elements are Ag, A
u and Cu.

【0049】また、例えばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb、Snなどの低融点金属の微粒子
とTi、Cr、Fe、Co、Ni、W、Geなどの自己
発熱性金属の微粒子を混合使用するなど、2種以上の光
熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ag、P
t、Pdなど微小片としたときに光吸収がとくに大きい
金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いる
ことは好ましい。以上に述べた金属単体及び合金の微粒
子は、表面を親水性化処理することによって、本発明の
効果がより発揮される。表面親水性化の手段は、親水性
でかつ粒子への吸着性を有する化合物、例えば界面活性
剤で表面処理したり、粒子の構成物質と反応する親水性
基を持つ物質で表面処理したり、保護コロイド性の親水
性高分子皮膜を設けるなどの方法を用いることができ
る。特に好ましいのは、表面シリケート処理であり、例
えば鉄微粒子の場合は、70℃のケイ酸ナトリウム(3
%)水溶液に30秒浸漬する方法によって表面を十分に
親水性化することができる。他の金属微粒子も同様の方
法で表面シリケート処理を行うことができる。
Also, for example, Re, Sb, Te, Au, A
g, Cu, Ge, Pb, Sn or other low melting point metal particles and self-heating metal particles such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, W, Ge etc. it may be composed of a material. Ag, P
It is preferable to use a combination of a metal-type micro-piece and a metal-type micro-piece, which have a particularly large light absorption when used as a micro-piece such as t or Pd. The effects of the present invention are more exerted by subjecting the surfaces of the above-described metal simple substance and alloy fine particles to hydrophilic treatment. Means of surface hydrophilicity is a compound that is hydrophilic and has an adsorptivity to particles, for example, surface treatment with a surfactant, or surface treatment with a substance having a hydrophilic group that reacts with the constituent substances of the particles, A method such as providing a protective colloid hydrophilic polymer film can be used. Particularly preferred is a surface silicate treatment. For example, in the case of iron fine particles, sodium silicate (3
%) The surface can be made sufficiently hydrophilic by immersing it in an aqueous solution for 30 seconds. Other metal fine particles can be subjected to a surface silicate treatment in the same manner.

【0050】これらの粒子の粒径は、10μm以下、好
ましくは、0.003〜5μm、さらに好ましくは、
0.01〜3μmである。微小であるほど、熱融着温度
は低下する、つまりヒートモードの光感度が高くなって
好都合であるが、粒子の分散が難しく、10μm以上で
は、印刷物の解像度が悪くなる。本発明において、これ
らの光熱変換材料を用いる場合、その添加量は、画像形
成層(感熱層)または後述のオーバーコート層の全固形
分中、1重量%以上であり、好ましくは2重量%以上、
特に好ましくは5重量%以上で用いられる。光熱変換材
料の含有量が1重量%未満であると感度が低くなってし
まう。
The size of these particles is 10 μm or less, preferably 0.003 to 5 μm, more preferably
0.01 to 3 μm. The finer the particle size, the lower the heat fusing temperature, that is, the higher the light sensitivity in the heat mode, which is advantageous. In the present invention, when these light-to-heat conversion materials are used, the amount added is 1% by weight or more, preferably 2% by weight or more, of the total solid content of the image forming layer (thermosensitive layer) or the overcoat layer described below. ,
Particularly preferably, it is used at 5% by weight or more. If the content of the photothermal conversion material is less than 1% by weight, the sensitivity will be low.

【0051】また、可視光域に大きな吸収を持つ染料を
画像の着色剤として使用することができる。具体的に
は、オイルイエロー#101、オイルイエロー#10
3、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)等、及び特開昭62−29324
7号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。
A dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 10
3. Oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-50
5 (from Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015) and the like, and JP-A-62-29324
No. 7 can be mentioned. Further, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can also be suitably used.

【0052】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、画像形成層塗布液全固形分に対
し、0.01〜10重量%の割合である。
It is preferable to add these coloring agents since the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The amount of addition is 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the coating solution for the image forming layer.

【0053】また、本発明における画像形成層塗布液中
には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特
開昭62−251740号や特開平3−208514号
に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭5
9−121044号、特開平4−13149号に記載さ
れているような両性界面活性剤を添加することができ
る。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられ
る。
In the coating solution of the image forming layer in the present invention, in order to widen the stability of processing under development conditions, a non-coating solution such as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 is used. Ionic surfactant, JP-A-5
An amphoteric surfactant as described in JP-A-9-121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like.

【0054】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像
形成層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重量%
が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the coating solution for the image forming layer is 0.05 to 15% by weight.
Is more preferable, and more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0055】本発明の平版印刷版用原版を製造するに
は、通常、画像形成層塗布液に必要な上記各成分を溶媒
に溶かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで
使用する溶媒としては、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−
2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1
−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、水等を挙げるこ
とができるがこれに限定されるものではない。これらの
溶媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。
In order to produce the lithographic printing plate precursor according to the invention, the above-mentioned components necessary for the coating solution for the image forming layer are usually dissolved in a solvent and applied onto a suitable support. As the solvent used here, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-
2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1
-Methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 5
0% by weight.

【0056】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画
像形成層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、
平版印刷版用原版についていえば一般的に0.5〜5.
0g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種々の
方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗
布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等
を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、
見かけの感度は大になるが、画像記録の機能を果たす画
像形成層の皮膜特性は低下する。
The coating amount (solid content) of the image forming layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the application.
Speaking of lithographic printing plate precursors, generally 0.5 to 5.
0 g / m 2 is preferred. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the application amount decreases,
Although the apparent sensitivity is increased, the film characteristics of the image forming layer that performs the function of image recording are reduced.

【0057】本発明に係る画像形成層塗布液には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−
170950号に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画
像形成層の材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the coating solution for the image forming layer according to the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a surfactant described in
A fluorinated surfactant as described in No. 170950 can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the material of the entire image forming layer.

【0058】〔オーバーコート層〕本発明の平版印刷版
用原版は、親油性物質による画像形成層表面の汚染防止
のため、画像形成層上に、水溶性オーバーコート層を設
けることができる。本発明に使用される水溶性オーバー
コート層は印刷時容易に除去できるものであり、水溶性
の有機高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここ
で用いる水溶性の有機高分子化合物としては、塗布乾燥
によってできた被膜がフィルム形成能を有するもので、
具体的には、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
(但し加水分解率65%以上のもの)、ポリアクリル酸
およびそのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、ポリアク
リル酸共重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン
塩、ポリメタクリル酸およびそのアルカリ金属塩または
アミン塩、ポリメタクリル酸共重合体およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、ポリアクリルアミドおよびそ
の共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリ
ビニルピロリドン及びその共重合体、ポリビニルメチル
エーテル、ポリビニルメチルエーテル/無水マレイン酸
共重合体、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1
−プロパンスルホン酸及びそのアルカリ金属塩またはア
ミン塩、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1−
プロパンスルホン酸共重合体およびそのアルカリ金属塩
あるいはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体(例え
ば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエチルセ
ルローズ、メチルセルローズ等)およびその変性体、ホ
ワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エーテル化デ
キストリン等を挙げることができる。また、目的に応じ
て、これらの樹脂を二種以上混合して用いることもでき
る。これら水溶性樹脂の中でアラビアガムが機上現像性
の観点からもっとも好ましい。
[Overcoat Layer] In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a water-soluble overcoat layer can be provided on the image forming layer in order to prevent contamination of the surface of the image forming layer by a lipophilic substance. The water-soluble overcoat layer used in the present invention can be easily removed at the time of printing and contains a resin selected from water-soluble organic polymer compounds. As the water-soluble organic polymer compound used here, a film formed by coating and drying has a film forming ability,
Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate (having a hydrolysis rate of 65% or more), polyacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, Polymethacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylamide and its copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinylpyrrolidone and its copolymer, polyvinylmethyl Ether, polyvinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamido-2-methyl-1
-Propanesulfonic acid and its alkali metal salts or amine salts, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-
Propanesulfonic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, gum arabic, cellulose derivatives (for example, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, white dextrin, pullulan, enzymatic etherification Dextrin and the like can be mentioned. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination. Among these water-soluble resins, gum arabic is most preferred from the viewpoint of on-press developability.

【0059】(フッ素原子含有化合物あるいは珪素原子
含有化合物)本発明の平版印刷版用原版の水溶性オーバ
ーコート層中には、前記の積み重ね保存時のプレート間
のくっつきを防止のため、離型性を有するフッ素原子含
有化合物あるいは珪素原子含有化合物を含有させること
が好ましい。フッ素化合物としては水溶性あるいは水分
散性のフッ素系界面活性剤が用いられる。具体的にはF
置換ドデカン酸、F置換オクタン酸、F置換ヘキサン
酸、F置換酪酸、これらカルボン酸のアンモニウム塩、
パーフルオロアルキル基とエチレンオキシ基を同一分子
中に有する化合物などが挙げられる。珪素原子含有化合
物としては、水溶性あるいは水分散性のシリコーンオイ
ルが用いられる。具体的にはポリエーテル変性シリコー
ンオイルを挙げることができる。これらの化合物のオー
バーコート層全固形物中に占める割合は0.05〜5.
0重量%が好ましく、より好ましくは0.1%〜3重量
%である。0.05%より少ないと平版印刷版用原版を
積み重ねた際にくっつきやすく、またプレートをアルミ
片で擦った際に傷がつき傷汚れが発生しやすい。5重量
%より多いとオーバーコート層の現像性が悪くなり損紙
が増えてしまう。
(Fluorine atom-containing compound or silicon atom-containing compound) The water-soluble overcoat layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention contains a releasing agent to prevent sticking between the plates during stacking and storage. It is preferred to contain a fluorine atom-containing compound or a silicon atom-containing compound having the following formula. As the fluorine compound, a water-soluble or water-dispersible fluorine-based surfactant is used. Specifically, F
Substituted dodecanoic acid, F-substituted octanoic acid, F-substituted hexanoic acid, F-substituted butyric acid, ammonium salts of these carboxylic acids,
Examples include compounds having a perfluoroalkyl group and an ethyleneoxy group in the same molecule. As the silicon atom-containing compound, a water-soluble or water-dispersible silicone oil is used. Specific examples include polyether-modified silicone oil. The proportion of these compounds in the total solid content of the overcoat layer is 0.05 to 5.
It is preferably 0% by weight, more preferably 0.1% to 3% by weight. If the content is less than 0.05%, the lithographic printing plate precursors are easily adhered to each other when stacked, and the plate is scratched when rubbed with an aluminum piece, and scratches and stains are likely to occur. If the content is more than 5% by weight, the developability of the overcoat layer will deteriorate and the waste paper will increase.

【0060】また、オーバーコート層には、後述の水溶
性光熱変換剤を含有することが好ましい。さらに、オー
バーコート層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶
液塗布の場合には、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルなどの
非イオン系界面活性剤を添加することができる。オーバ
ーコート層の乾燥塗布量は、0.1〜2.0g/m2
好ましい。それより少ないと、指紋付着汚れを起こし、
それより多いと、機上現像性が悪くなる。
The overcoat layer preferably contains a water-soluble photothermal conversion agent described below. Furthermore, in the case of aqueous solution application, a nonionic surfactant such as polyoxyethylene nonylphenyl ether and polyoxyethylene dodecyl ether can be added to the overcoat layer in order to ensure uniformity of application. . Dry coating amount of the overcoat layer, 0.1 to 2.0 g / m 2 is preferred. When the amount is less than that, it causes the fingerprint smudges,
If it is more than that, the on-press developability deteriorates.

【0061】〔支持体〕本発明の平版印刷版用原版にお
いて前記感熱層を塗布可能な親水性支持体としては、寸
度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィル
ム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエス
テルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。
[Support] In the lithographic printing plate precursor of the present invention, the hydrophilic support to which the heat-sensitive layer can be applied is a dimensionally stable plate-like material such as paper or plastic (for example, Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate) on which polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc. are laminated;
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited. Preferred supports include a polyester film or an aluminum plate.

【0062】本発明の平版印刷版用原版に使用する支持
体としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れ
たアルミニウム板を使用することが好ましい。この目的
に供されるアルミニウム材質としては、JIS 105
0材、JIS 1100材、JIS 1070材、Al
−Mg系合金、Al−Mn系合金、Al−Mn−Mg系
合金、Al−Zr系合金、Al−Mg−Si系合金など
が挙げられる。
As the support used in the lithographic printing plate precursor of the present invention, it is preferable to use an aluminum plate which is lightweight and has excellent surface treatment properties, workability and corrosion resistance. Aluminum materials used for this purpose include JIS 105
0 material, JIS 1100 material, JIS 1070 material, Al
-Mg-based alloy, Al-Mn-based alloy, Al-Mn-Mg-based alloy, Al-Zr-based alloy, Al-Mg-Si-based alloy and the like.

【0063】支持体に使用し得るアルミニウム材質に関
する公知技術を以下に列挙する。 (1)JIS 1050材に関しては、下記の技術が開
示されている。特開昭59−153861号、特開昭6
1−51395、特開昭62−146694、特開昭6
0−215725、特開昭60−215726、特開昭
60−215727、特開昭60−215728、特開
昭61−272357、特開昭58−11759、特開
昭58−42493、特開昭58−221254、特開
昭62−148295、特開平4−254545、特開
平4−165041、特公平3−68939、特開平3
−234594、特公平1−47545、特開昭62−
140894号公報など。また、特公平1−3591
0、特公昭55−28874号等も知られている。
Known techniques relating to aluminum materials that can be used for the support are listed below. (1) The following technology is disclosed for JIS 1050 material. JP-A-59-153861;
1-51395, JP-A-62-146694, JP-A-6-146694
0-215725, JP-A-60-215726, JP-A-60-215727, JP-A-60-215728, JP-A-61-272357, JP-A-58-11759, JP-A-58-42493, JP-A-58 -212254, JP-A-62-148295, JP-A-4-254545, JP-A-4-165541, JP-B-3-68939, JP-A-3-6899
234,594, Japanese Patent Publication No. 47475, JP-A-62-
140894 and the like. In addition, Tokuhei 1-3591
0, Japanese Patent Publication No. 55-28874 and the like are also known.

【0064】(2)JIS 1070材に関しては、下
記の技術が開示されている。特開平7−81264、特
開平7−305133、特開平8−49034、特開平
8−73974、特開平8−108659、特開平8−
92679号など。
(2) With respect to JIS 1070 material, the following technology is disclosed. JP-A-7-81264, JP-A-7-305133, JP-A-8-49034, JP-A-8-73974, JP-A-8-108657, JP-A-8-108
92679 etc.

【0065】(3)Al−Mg系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。特公昭62−5080、特公
昭63−60823、特公平3−61753、特開昭6
0−203496、特開昭60−203497、特公平
3−11635、特開昭61−274993、特開昭6
2−23794、特開昭63−47347、特開昭63
−47348、特開昭63−47349、特開昭64−
61293、特開昭63−135294、特開昭63−
87288、特公平4−73392、特公平7−100
844、特開昭62−149856、特公平4−733
94、特開昭62−181191、特公平5−7653
0、特開昭63−30294、特公平6−37116号
など。また、特開平2−215599、特開昭61−2
01747号等も知られている。
(3) With respect to Al-Mg based alloys, the following techniques are disclosed. JP-B-62-5080, JP-B-63-60823, JP fairness 3-61753, JP-A-6
0-203496, JP-A-60-203497, JP-B-3-11635, JP-A-61-274993, JP-A-62-14973.
2-237794, JP-A-63-47347, JP-A-63-63
-47348, JP-A-63-47349, JP-A-64-
61293, JP-A-63-135294, JP-A-63-135
87288, JP 4-73392, JP 7-100
844, JP-A-62-149856, JP-B-4-733
94, JP-A-62-181191, Japanese Patent Publication No. 5-7653
0, JP-A-63-30294 and JP-B-6-37116. Further, JP-A-2-215599, JP-A-61-2
No. 01747 is also known.

【0066】(4)Al−Mn系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。特開昭60−230951、
特開平1−306288、特開平2−293189号な
ど。また、特公昭54−42284、特公平4−192
90、特公平4−19291、特公平4−19292、
特開昭61−35995、特開昭64−51992、U
S5009722、US5028276、特開平4−2
26394等も知られている。 (5)Al−Mn−Mg系合金に関しては、下記の技術
が開示されている。特開昭62−86143、特開平3
−222796、特公昭63−60824、特開昭60
−63346、特開昭60−63347、EP2237
37、特開平1−283350、US4818300、
BR1222777等が知られている。
(4) With respect to Al-Mn alloys, the following techniques are disclosed. JP-A-60-230951,
JP-A-1-306288 and JP-A-2-293189. In addition, Japanese Patent Publication No. 54-42284, Japanese Patent Publication No. 4-192
90, Japanese Patent Publication 4-19291, Japanese Patent Publication 4-19292,
JP-A-61-35995, JP-A-64-51992, U
S5009722, US5028276, JP-A-4-4-2
26394 and the like are also known. (5) With respect to Al-Mn-Mg based alloys, the following technology is disclosed. JP-A-62-86143, JP-A-Hei 3
-22,796, JP-B-63-60824, JP-A-Showa 60
-63346, JP-A-60-63347, EP2237
37, JP-A-1-283350, US4818300,
BR1222777 and the like are known.

【0067】(6)Al−Zr系合金に関して、下記の
技術が知られている。特公昭63−15978、特開昭
61−51395、特開昭63−143234、特開昭
63−143235等が知られている。 (7)Al−Mg−Si系合金に関しては、BR142
1710等が知られている。
(6) With respect to Al-Zr alloys, the following techniques are known. JP-B-63-15978, JP-A-61-51395, JP-A-63-143234 and JP-A-63-143235 are known. (7) For the Al-Mg-Si alloy, BR142
1710 and the like are known.

【0068】また、支持体用アルミニウム板の製造方法
としては、下記の内容が使用できる。前述のような含有
成分及び、合金成分割合のアルミニウム合金溶湯を常法
に従い清浄化処理を施し、鋳造する。清浄化処理には、
溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために、フラ
ックス処理、Arガス、Clガス等を使った脱ガス処理
や、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォーム
フィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルターや、
アルミナフレーク、アルミナボール等を濾材とするフィ
ルタや、グラスクロスフィルター等を使ったフィルタリ
ング、あるいは、脱ガスとフィルタリングを組み合わせ
た処理が行われる。これらの清浄化処理は、溶湯中の、
非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥、溶湯にとけ
込んだガスによる欠陥を防ぐために、実施されることが
望ましい。
The following contents can be used as a method for producing an aluminum plate for a support. The aluminum alloy melt having the above-mentioned content components and alloy component ratios is subjected to a cleaning treatment and cast according to a conventional method. For the cleaning process,
In order to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, flux processing, degassing processing using Ar gas, Cl gas, etc., so-called rigid media filters such as ceramic tube filters and ceramic foam filters,
Filtering using a filter material such as alumina flakes or alumina balls, filtering using a glass cloth filter or the like, or processing combining degassing and filtering is performed. These cleaning processes are performed in the molten metal.
It is desirable to carry out the method in order to prevent defects due to foreign substances such as nonmetallic inclusions and oxides and defects due to gas dissolved in the molten metal.

【0069】溶湯のフィルタリングに関しては、特開平
6−57342、特開平3−162530、特開平5−
140659、特開平4−231425、特開平4−2
76031、特開平5−311261、特開平6−13
6466等が知られている。溶湯の脱ガスに関しては、
特開平5−51659、特開平5−51660、実開平
5−49148、特開平7−40017号などが知られ
ている。以上のように、清浄化処理を施された溶湯を使
って、鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造法に
代表される、固定鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代
表される、駆動鋳型を用いる方法がある。DC鋳造法を
用いた場合、冷却速度は、1〜300℃/秒の範囲で凝
固される。1℃/秒未満であると、粗大な金属間化合物
が多数形成される。
Regarding the filtering of molten metal, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 6-57342, Hei 3-162530, Hei 5
140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-2
76031, JP-A-5-311261, JP-A-6-13
6466 and the like are known. Regarding degassing of molten metal,
JP-A-5-51659, JP-A-5-51660, JP-A-5-49148, and JP-A-7-40017 are known. As described above, casting is performed using the molten metal subjected to the cleaning treatment. Regarding the casting method, there are a method using a fixed mold typified by a DC casting method and a method using a driving mold typified by a continuous casting method. When the DC casting method is used, the solidification is performed at a cooling rate of 1 to 300 ° C./sec. If it is lower than 1 ° C./sec, a large number of coarse intermetallic compounds are formed.

【0070】連続鋳造法には、ハンター法、3C法に代
表される、冷却ロールを用いた方法、ハズレー法、アル
スイスキャスターII型に代表される冷却ベルト、冷却ブ
ロックを用いた方法が、工業的に行われている。連続鋳
造法を用いた場合の冷却速度は、100〜1000℃/
秒の範囲で凝固される。一般的に、DC鋳造法に比べ
て、冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対す
る、合金成分の固溶度を高くできる特徴がある。連続鋳
造法に関しては、本願発明者らによって、特開平3−7
9798、特開平5−201166、特開平5−156
414、特開平6−262203、特開平6−1229
49、特開平6−210406、特開平6−26230
8等が開示されている。
The continuous casting method includes a method using a cooling roll, represented by the Hunter method and the 3C method, a Hadley method, a method using a cooling belt represented by the Al Swiss Caster II type, and a method using a cooling block. It is being done. The cooling rate when using the continuous casting method is 100 to 1000 ° C. /
Coagulated in seconds. Generally, since the cooling rate is higher than that of the DC casting method, there is a feature that the solid solubility of the alloy component in the aluminum matrix can be increased. Regarding the continuous casting method, the inventors of the present invention disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
9798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156
414, JP-A-6-262203, JP-A-6-1229
49, JP-A-6-210406, JP-A-6-26230
8 etc. are disclosed.

【0071】DC鋳造を行った場合、板厚300〜80
0mmの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、
面削を行われ、表層の1〜30mm、望ましくは、1〜
10mmを切削される。その後、必要に応じて、均熱化
処理が行われる。均熱化処理を行う場合、金属間化合物
が粗大化してしまわないように、450〜620℃で1
時間以上、48時間以下の熱処理が施される。1時間よ
り短い場合は、均熱化処理の効果が不十分となる。次い
で、熱間圧延、冷間圧延を行って、アルミニウム圧延板
とする。熱間圧延の開始温度としては、350〜500
℃の範囲とする。冷間圧延の前、または後、またはその
途中において中間焼鈍処理を施しても良い。この場合の
中間焼鈍条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280℃〜6
00℃で2〜20時間、望ましくは、350〜500℃
で2〜10時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて4
00〜600℃で360秒以下、望ましくは、450〜
550℃で120秒以下の加熱処理が採用できる。連続
焼鈍炉を使って、10℃/秒以上の昇温速度で加熱する
と、結晶組織を細かくすることもできる。
When DC casting is performed, the thickness is 300 to 80.
A 0 mm ingot can be produced. The ingot, according to the usual method,
Facing is performed and the surface layer is 1 to 30 mm, preferably 1 to 30 mm
10 mm is cut. Thereafter, a soaking process is performed as necessary. In the case of performing the soaking treatment, 1 to 450 ° C. to 620 ° C. is performed so that the intermetallic compound is not coarsened.
The heat treatment is performed for at least 48 hours. When the time is shorter than 1 hour, the effect of the soaking treatment becomes insufficient. Next, hot rolling and cold rolling are performed to obtain a rolled aluminum plate. The starting temperature of hot rolling is 350 to 500
It is in the range of ° C. An intermediate annealing treatment may be performed before, after, or during the cold rolling. The intermediate annealing conditions in this case are set to 280 ° C. to 6 ° C. using a batch annealing furnace.
00 ° C for 2 to 20 hours, desirably 350 to 500 ° C
For 2 to 10 hours, or using a continuous annealing furnace for 4 hours.
360 seconds or less at 00 to 600 ° C., desirably 450 to
Heat treatment at 550 ° C. for 120 seconds or less can be employed. Heating at a rate of 10 ° C./sec or higher using a continuous annealing furnace can also make the crystal structure fine.

【0072】以上の工程によって、所定の厚さ0.1〜
0.5mmに仕上げられたAl板は平面性を改善するた
めに、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置に
よって、平面性を改善しても良い。平面性の改善は、板
をシート状にカットした後に行っても良いが、生産性を
向上させるためには、連続したコイルの状態で、平面性
改善を行うことが望ましい。また、板巾を所定の巾に加
工するため、スリッタラインを通すことが通常行われ
る。スリッタによって切られた板の端面は、スリッタ刃
に切られるときに、せん断面と破断面の片方、あるいは
両方が生じる。
By the above steps, a predetermined thickness of 0.1 to 0.1
The flatness of the Al plate finished to 0.5 mm may be improved by a straightening device such as a roller leveler or a tension leveler in order to improve the flatness. The flatness may be improved after the plate is cut into a sheet. However, in order to improve productivity, it is desirable to improve the flatness in a continuous coil state. Further, in order to process the plate width to a predetermined width, it is usually performed to pass through a slitter line. The end face of the plate cut by the slitter has one or both of a shear surface and a fracture surface when cut by a slitter blade.

【0073】板の厚みの精度は、コイル全長にわたっ
て、±10μm以内、望ましくは±6μm以内が良い。
また、幅方向の板厚差は6μm以内、望ましくは3μm
以内がよい。また、板幅の精度は、±1.0mm以内、
望ましくは±0.5mm以内が望ましい。Al板の表面
粗度は、圧延ロールの表面粗さの影響を受けやすいが、
最終的に中心線表面粗さ(Ra)で、Ra=0.1〜
1.0μm程度に仕上げるのがよい。Raが大きすぎる
と、平版印刷版用としての粗面化処理、感熱層塗布をし
たとき、Alのもともとの粗さすなわち、圧延ロールに
よって転写された粗い圧延条痕が感熱層の上から見える
ため、外観上好ましくない。Ra=0.1μm以下の粗
さは、圧延ロールの表面を過度に低粗度に仕上げる必要
が有るため、工業的に望ましくない。
The accuracy of the thickness of the plate is preferably within ± 10 μm, preferably within ± 6 μm over the entire length of the coil.
The thickness difference in the width direction is within 6 μm, preferably 3 μm.
Within is good. Also, the accuracy of the board width is within ± 1.0mm,
Preferably, it is within ± 0.5 mm. Although the surface roughness of the Al plate is easily affected by the surface roughness of the rolling roll,
Finally, the center line surface roughness (Ra) is Ra = 0.1 to
It is preferable to finish to about 1.0 μm. If Ra is too large, the original roughness of Al, that is, the rough rolling streaks transferred by the rolling rolls can be seen from above the heat-sensitive layer when the surface-roughening treatment for a lithographic printing plate and the heat-sensitive layer are applied. Is not preferable in appearance. Roughness of Ra = 0.1 μm or less is industrially undesirable because the surface of the rolling roll needs to be finished to an excessively low roughness.

【0074】また、Al板同士の摩擦によるキズの発生
を防止するために、Al板の表面に、薄い油膜をもうけ
ても良い。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、
不揮発性のものが適宜用いられる。油量が多すぎると、
製造ライン中でスリップ故障が発生するが、油量が皆無
だとコイル輸送中にキズが発生する不具合が生じるの
で、油量は3mg/m2以上で100mg/m2以下、望
ましい上限は50mg/m2以下、更に望ましくは10
mg/m2以下が良い。冷間圧延に関しては、特開平6
−210308号等が開示されている。
Further, a thin oil film may be formed on the surface of the Al plate in order to prevent scratches due to friction between the Al plates. Oil slicks may be volatile,
A non-volatile one is appropriately used. If there is too much oil,
A slip failure occurs in the production line, but if there is no oil amount, a defect occurs during transportation of the coil. Therefore, the oil amount is 3 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less, and a desirable upper limit is 50 mg / m 2. m 2 or less, more preferably 10
mg / m 2 or less is good. Regarding cold rolling,
No. -210308 is disclosed.

【0075】連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター
法等の冷却ロールを用いると板厚1〜10mmの鋳造板
を直接連続鋳造圧延でき、熱間圧延の工程を省略できる
メリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ロール
を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板が鋳造でき、
一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に
圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が
得られる。これらの連続鋳造圧延板は、DC鋳造の場合
に説明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面
性改善、スリット等の工程を経て0.1〜0.5mmの
板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼
鈍条件、冷間圧延条件については、特開平6−2205
93、特開平6−210308、特開平7−5411
1、特開平8−92709等が開示されている。
When continuous casting is performed, for example, using a cooling roll such as a Hunter method can directly and continuously cast and roll a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm, and has the advantage of omitting the hot rolling step. In addition, when a cooling roll such as the Hasley method is used, a cast plate having a plate thickness of 10 to 50 mm can be cast,
Generally, a hot-rolled roll is arranged immediately after casting and continuously rolled to obtain a continuously cast rolled plate having a thickness of 1 to 10 mm. These continuous cast rolled sheets are finished to a thickness of 0.1 to 0.5 mm through the steps of cold rolling, intermediate annealing, improvement of flatness, slits, etc., as described in the case of DC casting. Can be Regarding the intermediate annealing conditions and the cold rolling conditions when using the continuous casting method, see JP-A-6-2205.
93, JP-A-6-210308, JP-A-7-5411
1, JP-A-8-92709 and the like are disclosed.

【0076】上記方法で製造したAl板は表面に粗面化
処理等の表面処理を行い、感熱層を塗布して平版印刷版
用原版とすることができる。粗面化処理には、機械的粗
面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み
合わせて行われる。また、表面のキズ付き難さを確保す
るための陽極酸化処理を行ったり、親水性を増すための
処理を行うことも好ましい。
The surface of the Al plate manufactured by the above method is subjected to a surface treatment such as a surface roughening treatment, and a heat-sensitive layer is applied thereon to obtain a lithographic printing plate precursor. In the surface roughening treatment, mechanical surface roughening, chemical surface roughening, and electrochemical surface roughening are performed alone or in combination. Further, it is also preferable to perform an anodic oxidation treatment for ensuring the surface is hardly scratched or a treatment for increasing the hydrophilicity.

【0077】以下に支持体の表面処理について説明す
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、
有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が
行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で中
和、スマット除去などの処理を行ってもよい。
The surface treatment of the support will be described below. Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, for example, a surfactant for removing rolling oil on the surface,
A degreasing treatment with an organic solvent or an alkaline aqueous solution may be performed. In the case of alkali, treatment such as neutralization and removal of smut may be performed with an acidic solution.

【0078】次いで支持体と感熱層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロ
ンブラシと研磨材/水スラリーによるブラシグレイン、
研磨材/水スラリーを表面に高圧で吹き付けるホーニン
ググレインなどによる機械的砂目立て方法があり、また
アルカリまたは酸あるいはそれらの混合物からなるエッ
チング剤で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法が
ある。また英国特許第896,563号公報、特開昭5
3−67507号公報、特開昭54−146234号公
報及び特公昭48−28123号公報に記載されている
電気化学的砂目立て方法、または特開昭53−1232
04号公報、特開昭54−63902号公報に記載され
ている機械的砂目立て方法と電気化学的砂目立て方法と
を組み合わせた方法、特開昭56−55261号公報に
記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウ
ム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法とを組み合
わせた方法も知られている。また上記支持体材料に、粒
状体を接着剤またはその効果を有する方法で接着させて
表面を粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯や
ロールを支持体材料に圧着させて凹凸を転写することに
よって粗面を形成させてもよい。
Next, in order to improve the adhesion between the support and the heat-sensitive layer and to impart water retention to the non-image area, a so-called graining treatment is performed to roughen the surface of the support. Specific means of the graining method include sand blast, ball grain, wire grain, brush grain using a nylon brush and an abrasive / water slurry,
There is a mechanical graining method using a honing grain or the like in which an abrasive / water slurry is sprayed on the surface at a high pressure, and a chemical graining method in which the surface is roughened with an etching agent composed of an alkali, an acid, or a mixture thereof. . In addition, British Patent No. 896,563,
JP-A-3-67507, JP-A-54-146234 and JP-B-48-28123 describe the method of electrochemical graining, or JP-A-53-1232.
No. 04, JP-A-54-63902, a method combining the mechanical graining method and the electrochemical graining method, and the mechanical graining method described in JP-A-56-55261. There is also known a method in which a graining method is combined with a chemical graining method using a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid. Also, a method of roughening the surface by adhering the granular material to the support material with an adhesive or a method having the effect thereof, or by pressing a continuous band or roll having fine unevenness on the support material to reduce the unevenness. A rough surface may be formed by transferring.

【0079】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。複数の粗面化処理を組み合わ
せる場合、その間に、続いて行う粗面化処理を均一に行
えるようにするために酸またはアルカリ水溶液による化
学的処理を行うことができる。上記、酸またはアルカリ
水溶液の具体例としては、例えばフッ酸、フッ化ジルコ
ン酸、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸などの酸および水酸化
ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウムなどの
アルカリ水溶液が挙げられる。これらの酸またはアルカ
リ水溶液はそれぞれ一種または二種以上を混合して使用
することができる。化学的処理はこれらの酸またはアル
カリの0.05〜40重量%水溶液を用い、40℃〜1
00℃の液温において5〜300秒処理するのが一般的
である。
A plurality of such surface roughening methods may be performed in combination, and the order, the number of repetitions, and the like can be arbitrarily selected. When a plurality of surface roughening treatments are combined, a chemical treatment with an acid or alkali aqueous solution can be performed during that time so that the subsequent surface roughening treatment can be performed uniformly. Specific examples of the above-mentioned acid or alkali aqueous solution include, for example, acids such as hydrofluoric acid, fluorinated zirconic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, and alkali aqueous solutions such as sodium hydroxide, sodium silicate, and sodium carbonate. . These acid or alkali aqueous solutions can be used alone or in combination of two or more. The chemical treatment uses a 0.05 to 40% by weight aqueous solution of these acids or alkalis,
In general, the treatment is performed at a liquid temperature of 00 ° C. for 5 to 300 seconds.

【0080】前述のような粗面化処理すなわち砂目立て
処理して得られた支持体の表面には、スマットが生成し
ているので、このスマットを除去するために適宜水洗あ
るいはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的
に好ましい。このような処理としては、例えば特公昭4
8−28123号公報に記載されているアルカリエッチ
ング法や特開昭53−12739号公報に記載されてい
る硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられる。本発明
に用いられるアルミニウム支持体の場合には、前述のよ
うな前処理を施した後、通常、耐摩耗性、耐薬品性、保
水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸
化皮膜を形成させる。
Since a smut is formed on the surface of the support obtained by the above-described roughening treatment, ie, graining treatment, a treatment such as washing with water or alkali etching is appropriately performed to remove the smut. Is generally preferred. Examples of such processing include, for example,
Examples of the treatment method include an alkali etching method described in JP-A-8-28123 and a desmutting method described in JP-A-53-12739. In the case of the aluminum support used in the present invention, after the pretreatment as described above, usually, in order to improve abrasion resistance, chemical resistance, and water retention, an oxide film is formed on the support by anodic oxidation. Is formed.

【0081】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、シュウ酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質
により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的に
は電解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸
化皮膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, any electrolyte that forms a porous oxide film can be used.
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Since the treatment conditions of anodization vary depending on the electrolyte used, it cannot be specified unconditionally.
It is appropriate that the current density is 5 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. "Scratch dirt" is likely to occur.

【0082】尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版
の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏
回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化
皮膜が形成されるのが一般的である。また、アルカリ水
溶液(例えば数%の苛性ソーダ水溶液)や、溶融塩中で
の陽極酸化処理や、例えばホウ酸アンモン水溶液を用い
た無孔性陽極酸化皮膜を形成させる陽極酸化処理なども
行うことができる。陽極酸化処理を行う前に、特開平4
−148991号や特開平4−97896号に記載され
ている水和酸化皮膜生成を行ってもよく、また、特開昭
63−56497号や特開昭63−67295号に記載
されている金属ケイ酸塩溶液中での処理、水和酸化皮膜
生成処理や、特開昭56−144195号に記載されて
いる化成皮膜生成処理などを行うこともできる。
The anodic oxidation treatment is performed on the surface of the lithographic printing plate support used for printing, and the back surface of the electric force lines causes the back surface of the lithographic printing plate to have an anodic oxidation rate of 0.01 to 3 g / m 2 . Generally, an oxide film is formed. In addition, an anodic oxidation treatment in an alkaline aqueous solution (for example, a caustic soda aqueous solution of several%) or a molten salt, or an anodic oxidation treatment for forming a nonporous anodic oxide film using, for example, an ammonium borate aqueous solution can be performed. . Before performing anodizing treatment,
A hydrated oxide film described in JP-A-148991 or JP-A-4-97896 may be formed, and a metal silicate described in JP-A-63-56497 or JP-A-63-67295 may be used. An acid salt solution, a hydrated oxide film forming treatment, a chemical conversion film forming treatment described in JP-A-56-144195, and the like can also be performed.

【0083】本発明の平版印刷版用原版に用いられるア
ルミニウム支持体は、陽極酸化処理後に有機酸もしくは
その塩による処理、または該有機酸もしくはその塩を感
熱層塗布の下塗り層として用いることができる。有機酸
またはその塩としては、有機カルボン酸、有機ホスホン
酸、有機スルホン酸またはその塩等が挙げられるが、好
ましくは有機カルボン酸またはその塩である。有機カル
ボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ラ
ウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の脂肪族モノ
カルボン酸類;オレイン酸、リノール酸等の不飽和脂肪
族モノカルボン酸類;シュウ酸、コハク酸、アジピン
酸、マレイン酸等の脂肪族ジカルボン酸類;乳酸、グル
コン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のオキシカルボ
ン酸類;安息香酸、マンデル酸、サリチル酸、フタル酸
等の芳香族カルボン酸類およびIa、IIb、IIIb、IVa、VI
bおよびVIII族の金属塩およびアンモニウム塩が挙げら
れる。上記有機カルボン酸塩のうち好ましいのは蟻酸、
酢酸、酪酸、プロピオン酸、ラウリン酸、オレイン酸、
コハク酸および安息香酸の上記金属塩およびアンモニウ
ム塩である。これらの化合物は単独でも2種以上組み合
わせて用いてもよい。
The aluminum support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be treated with an organic acid or a salt thereof after anodizing treatment, or the organic acid or a salt thereof can be used as an undercoat layer applied to a heat-sensitive layer. . Examples of the organic acid or a salt thereof include an organic carboxylic acid, an organic phosphonic acid, an organic sulfonic acid or a salt thereof, and preferably an organic carboxylic acid or a salt thereof. Examples of the organic carboxylic acids include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, lauric acid, palmitic acid, and stearic acid; unsaturated aliphatic monocarboxylic acids such as oleic acid and linoleic acid; oxalic acid, succinic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, adipic acid, and maleic acid; oxycarboxylic acids such as lactic acid, gluconic acid, malic acid, tartaric acid, and citric acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, mandelic acid, salicylic acid, and phthalic acid; , IIb, IIIb, IVa, VI
Group b and VIII metal salts and ammonium salts. Preferred among the organic carboxylate salts are formic acid,
Acetic acid, butyric acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid,
The above-mentioned metal salts and ammonium salts of succinic acid and benzoic acid. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0084】これらの化合物は水、アルコールに0.0
01〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度
となるよう溶解されるのが好ましく、処理条件としては
25〜95℃、好ましくは50〜95℃の温度範囲、p
Hは1〜13、好ましくは2〜10分、10秒〜20
分、好ましくは10秒〜3分間支持体を浸漬するか、処
理液を支持体に塗布する。
These compounds are used in water and alcohol in 0.0
It is preferably dissolved in a concentration of from 0.01 to 10% by weight, particularly from 0.01 to 1.0% by weight. The processing conditions include a temperature range of 25 to 95 ° C, preferably 50 to 95 ° C.
H is 1 to 13, preferably 2 to 10 minutes, 10 seconds to 20
The support is immersed for 10 minutes, preferably 10 seconds to 3 minutes, or the treatment liquid is applied to the support.

【0085】また、さらに陽極酸化処理後、以下のよう
な化合物溶液による処理や、これらの化合物を、画像形
成層塗布の下塗り層として用いることができる。好適に
用いられる化合物としては、例えば、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホ
ン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機
リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグ
リセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシ
ン、β−アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アス
パラギン酸、グルタミン酸、アルギニン、リジン、トリ
プトファン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒド
ロキシエチルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸;
スルファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等のア
ミノスルホン酸;1−アミノメチルホスホン酸、1−ジ
メチルアミノエチルホスホン酸、2−アミノエチルホス
ホン酸、2−アミノプロピルホスホン酸、4−アミノフ
ェニルホスホン酸、1−アミノエタン−1,1−ジホス
ホン酸、1−アミノ−1−フェニルメタン−1,1−ジ
ホスホン酸、1−ジメチルアミノエタン−1,1−ジホ
スホン酸、1−ジメチルアミノブタン−1,1−ジホス
ホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等
のアミノホスホン酸等の化合物が挙げられる。
[0085] Further, it is possible to further after the anodic oxidation treatment, and treatment with compound solution as follows, these compounds, used as a subbing layer of the image forming layer coating. Suitable compounds include, for example, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid which may have a substituent, Phenylphosphoric acid which may have a group, organic phosphoric acid such as naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, phenylphosphinic acid which may have a substituent,
Organic phosphinic acids such as naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, glycine, β-alanine, valine, serine, threonine, aspartic acid, glutamic acid, arginine, lysine, tryptophan, parahydroxyphenylglycine, dihydroxyethylglycine, anthranil amino acid such as an acid;
Aminosulfonic acids such as sulfamic acid and cyclohexylsulfamic acid; 1-aminomethylphosphonic acid, 1-dimethylaminoethylphosphonic acid, 2-aminoethylphosphonic acid, 2-aminopropylphosphonic acid, 4-aminophenylphosphonic acid, 1-aminoethane -1,1-diphosphonic acid, 1-amino-1-phenylmethane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminoethane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminobutane-1,1-diphosphonic acid, Examples include compounds such as aminophosphonic acid such as ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid.

【0086】また、塩酸、硫酸、硝酸、スルホン酸(メ
タンスルホン酸等)またはシュウ酸と、アルカリ金属、
アンモニア、低級アルカノールアミン(トリエタノール
アミン等)、低級アルキルアミン(トリエチルアミン
等)等との塩も好適に使用することができる。
In addition, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, sulfonic acid (such as methanesulfonic acid) or oxalic acid, and an alkali metal,
Salts with ammonia, lower alkanolamines (such as triethanolamine), lower alkylamines (such as triethylamine) and the like can also be suitably used.

【0087】ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミンおよび
その鉱酸塩、ポリ(メタ)アクリル酸およびその金属
塩、ポリスチレンスルホン酸およびその金属塩、(メ
タ)アクリル酸アルキルエステルと2−アクリルアミド
−2−メチル−1−プロパンスルホン酸およびその金属
塩、塩化トリアルキルアンモニムメチルスチレンのポリ
マーおよびその(メタ)アクリル酸とのコポリマー、ポ
リビニルホスホン酸等の水溶性ポリマーも好適に使用す
ることができる。さらに可溶性デンプン、カルボキシメ
チルセルロース、デキストリン、ヒドロキシエチルセル
ロース、アラビアガム、グアーガム、アルギン酸ソー
ダ、ゼラチン、グルコース、ソルビトールなども好適に
使用することができる。これらの化合物は単独でも2種
以上を組み合わせて用いてもよい。
Polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyethyleneimine and its mineral salts, poly (meth) acrylic acid and its metal salts, polystyrenesulfonic acid and its metal salts, alkyl (meth) acrylate and 2-acrylamide Water-soluble polymers such as 2-methyl-1-propanesulfonic acid and its metal salts, polymers of trialkylammonium methylstyrene and its copolymers with (meth) acrylic acid, and polyvinylphosphonic acid can also be used preferably. it can. Further, soluble starch, carboxymethylcellulose, dextrin, hydroxyethylcellulose, gum arabic, guar gum, sodium alginate, gelatin, glucose, sorbitol and the like can also be suitably used. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0088】処理の場合、これらの化合物は水かつ/ま
たはメチルアルコールに0.001〜10重量%、特に
0.01〜1.0重量%の濃度となるよう溶解されるの
が好ましく、処理条件としては25〜95℃、好ましく
は50〜95℃の温度範囲、pHは1〜13、好ましく
は2〜10、10秒〜20分、好ましくは10秒〜3分
間支持体を浸漬する。
In the case of treatment, these compounds are preferably dissolved in water and / or methyl alcohol at a concentration of 0.001 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight. The temperature is in the range of 25 to 95 ° C., preferably 50 to 95 ° C., and the pH is 1 to 13, preferably 2 to 10, 10 seconds to 20 minutes, and preferably 10 seconds to 3 minutes.

【0089】画像形成層(感熱層)塗布の下塗り層とし
て用いる場合は、同様に水かつ/またはメチルアルコー
ルに0.001〜10重量%、特に0.01〜1.0重
量%の濃度となるように溶解され、必要に応じて、アン
モニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基
性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調
節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる。ま
た、平版印刷版用原版の調子再現性改良のために黄色系
染料を添加することもできる。有機下塗層の乾燥後の被
覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましく
は5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg
/m2未満であると汚れ防止等の本来の目的に十分な効
果が得られない。また、200mg/m2を越えると耐
刷力が低下する。
When used as an undercoat layer applied to the image forming layer (thermosensitive layer), the concentration of the same in water and / or methyl alcohol is 0.001 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight. It can be used in the pH range of 1 to 12, if necessary, by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the lithographic printing plate precursor. The coating amount of the organic undercoat layer after drying is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . The above coating amount is 2mg
If it is less than / m 2 , a sufficient effect for the original purpose such as prevention of stain cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 200 mg / m 2 , the printing durability will decrease.

【0090】なお支持体と画像形成層との密着性を高め
るための中間層を設けてもよい。密着性の向上のために
は、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウ
ムに吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の
厚さは任意であり、露光した時に、上層の感熱層と均一
な結合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通
常、乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよ
く、5〜40mg/m2が特に良好である。中間層中に
おけるジアゾ樹脂の使用割合は、30〜100%、好ま
しくは60〜100%である。
An intermediate layer for improving the adhesion between the support and the image forming layer may be provided. In order to improve the adhesion, the intermediate layer is generally made of a diazo resin or a phosphoric acid compound adsorbed on aluminum, for example. The thickness of the intermediate layer is arbitrary and must be such a thickness that a uniform bond-forming reaction with the upper thermosensitive layer can be performed when exposed. Usually, a dry solid has a good coating ratio of about 1 to 100 mg / m 2 , and 5 to 40 mg / m 2 is particularly good. The usage ratio of the diazo resin in the intermediate layer is 30 to 100%, preferably 60 to 100%.

【0091】以上のような処理及び下塗り層付与の前
に、陽極酸化処理された支持体は、水洗処理されたあ
と、現像液や湿し水への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感熱
層成分の残膜抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮
膜の親水性向上、感熱層との密着性向上等を目的に、以
下のような処理を行うことができる。そのひとつとして
は、陽極酸化皮膜をアルカリ金属のケイ酸塩水溶液と接
触させて処理するシリケート処理が挙げられる。この場
合、アルカリ金属ケイ酸塩の濃度は0.1〜30重量
%、好ましくは0.5〜15重量%であり、25℃での
pHが10〜13.5である水溶液に5〜80℃、好ま
しくは10〜70℃、より好ましくは15〜50℃で
0.5〜120秒間接触させる。接触させる方法は、浸
せきでもスプレーによる吹き付けでも、いかなる方法に
よってもかまわない。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液はp
Hが10より低いと液はゲル化し、13.5より高いと
陽極酸化皮膜が溶解されてしまう。
Before the above treatment and the application of the undercoat layer, the support subjected to the anodic oxidation treatment is washed with water, and then the dissolution of the anodic oxide film in the developing solution or dampening solution is suppressed, and the components of the heat-sensitive layer are removed. The following treatments can be performed for the purpose of suppressing residual film, improving the strength of the anodic oxide film, improving the hydrophilicity of the anodic oxide film, improving the adhesion to the heat-sensitive layer, and the like. One of them is a silicate treatment in which the anodic oxide film is brought into contact with an aqueous solution of an alkali metal silicate for treatment. In this case, the concentration of the alkali metal silicate is 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C is 10 to 13.5. , Preferably 10 to 70 ° C, more preferably 15 to 50 ° C for 0.5 to 120 seconds. The contacting method may be any method such as dipping or spraying. The alkali metal silicate aqueous solution is p
When H is lower than 10, the liquid gels, and when H is higher than 13.5, the anodic oxide film is dissolved.

【0092】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のp
H調整に使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。な
お、上記処理液にはアルカリ土類金属塩もしくは第IVb
族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩として
は、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネ
シウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸
塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水
溶性塩が挙げられる。第IVb族金属塩としては、四塩化
チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ
酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化
酸化ジルコニウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属
もしくは第IVb族金属塩は単独または2種以上組み合わ
せて使用する事ができる。これらの金属塩の好ましい範
囲は、0.01〜10重量%であり、更に好ましくは
0.05〜5.0重量%である。
As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. P of aqueous alkali metal silicate solution
Hydroxides used for H adjustment include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. In addition, alkaline earth metal salts or IVb
A group metal salt may be blended. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate and borate. Is mentioned. Group IVb metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, and the like. The alkaline earth metal or Group IVb metal salt can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.05 to 5.0% by weight.

【0093】他には、各種封孔処理も挙げられ、一般的
に陽極酸化皮膜の封孔処理方法として知られている、水
蒸気封孔、沸騰水(熱水)封孔、金属塩封孔(クロム酸
塩/重クロム酸塩封孔、酢酸ニッケル封孔など)、油脂
含浸封孔、合成樹脂封孔、低温封孔(赤血塩やアルカリ
土類塩などによる)などを用いる事ができるが、印刷版
用支持体としての性能(感熱層との密着性や親水性)、
高速処理、低コスト、低公害性等の面から水蒸気封孔が
比較的好ましい。その方法としては、たとえば特開平4
−176690号公報にも開示されている加圧または常
圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度70%以
上・蒸気温度95℃以上で2秒〜180秒程度陽極酸化
皮膜に接触させる方法などが挙げられる。他の封孔処理
法としては、支持体を80〜100℃程度の熱水または
アルカリ水溶液に浸漬または吹き付け処理する方法や、
これに代えるか或いは引き続き、亜硝酸溶液で浸漬また
は吹き付け処理することができる。亜硝酸塩の例として
は、周期律表のIa、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VI
a、VIIa、VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウム
塩、すなわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金属
塩としては、例えばLiO2、NaNO2、KNO2、M
g(NO22、Ca(NO22、Zn(NO32、Al
(NO23、Zr(NO24、Sn(NO23、Cr
(NO23、Co(NO22、Mn(NO22、Ni
(NO22等が好ましく、特にアルカリ金属亜硝酸塩が
好ましい。亜硝酸塩は2種以併用することもできる。
In addition, various sealing treatments can be mentioned, and steam sealing, boiling water (hot water) sealing, and metal salt sealing (generally known as methods for sealing an anodic oxide film) are also available. Chromate / dichromate seal, nickel acetate seal, etc.), oil impregnated seal, synthetic resin seal, low temperature seal (by red blood salt or alkaline earth salt, etc.) can be used. , Performance as a support for a printing plate (adhesion with a heat-sensitive layer and hydrophilicity),
From the viewpoints of high-speed processing, low cost, and low pollution, steam sealing is relatively preferred. As the method, for example,
No. 176690 discloses a method of continuously or discontinuously applying pressurized or normal pressure steam to an anodized film at a relative humidity of 70% or more and a steam temperature of 95 ° C. or more for about 2 to 180 seconds. And the like. As another sealing treatment method, a method of immersing or spraying the support in hot water or an alkaline aqueous solution at about 80 to 100 ° C.,
Alternatively or subsequently, it can be dipped or sprayed with a nitrous acid solution. Examples of nitrites are Ia, IIa, IIb, IIIb, IVb, IVa, VI of the periodic table.
a, VIIa, and VIII metal nitrites or ammonium salts, ie, ammonium nitrite, such as LiO 2 , NaNO 2 , KNO 2 , MNO;
g (NO 2 ) 2 , Ca (NO 2 ) 2 , Zn (NO 3 ) 2 , Al
(NO 2 ) 3 , Zr (NO 2 ) 4 , Sn (NO 2 ) 3 , Cr
(NO 2 ) 3 , Co (NO 2 ) 2 , Mn (NO 2 ) 2 , Ni
(NO 2 ) 2 and the like are preferable, and alkali metal nitrite is particularly preferable. Two or more nitrites can be used in combination.

【0094】処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金
属の種類により異なるので一義的には決定できないが、
例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般
的には0.001〜10重量%、より好ましくは0.0
1〜2重量%、浴温度は一般的には室温から約100℃
前後、より好ましくは60〜90℃、処理時間は一般的
には15〜300秒、より好ましくは10〜180秒の
それぞれの範囲から選択すればよい。亜硝酸水溶液のp
Hは8.0〜11.0に調製されていることが好まし
く、8.5〜9.5に調製されていることが特に好まし
い。亜硝酸水溶液のpHを上記の範囲に調製するには、
例えばアルカリ緩衝液等を用いて好適に調製することが
できる。該アルカリ緩衝液としては、限定はされないが
例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水
溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶
液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶
液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、
塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナトリウ
ムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適に用いるこ
とができる。また、上記アルカリ緩衝液はナトリウム以
外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いること
ができる。
The processing conditions cannot be uniquely determined because they vary depending on the state of the support and the type of alkali metal.
For example, when sodium nitrite is used, the concentration is generally 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight.
1-2% by weight, bath temperature generally from room temperature to about 100 ° C
Before and after, more preferably at 60 to 90 ° C., and the treatment time may be generally selected from the respective ranges of 15 to 300 seconds, more preferably 10 to 180 seconds. Nitrous acid aqueous solution
H is preferably adjusted to 8.0 to 11.0, and particularly preferably adjusted to 8.5 to 9.5. To adjust the pH of the nitrous acid aqueous solution to the above range,
For example, it can be suitably prepared using an alkaline buffer or the like. Examples of the alkaline buffer include, but are not limited to, a mixed aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate, and a mixed aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide. Mixed aqueous solution,
A mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sodium carbonate, a mixed aqueous solution of sodium tetraborate and sodium hydroxide, and the like can be suitably used. Further, as the alkaline buffer, an alkali metal salt other than sodium, for example, a potassium salt can be used.

【0095】以上のような、シリケート処理または封孔
処理を施したあと、画像形成層との密着性をアップさせ
るために特開平5−278362号公報に開示されてい
る酸性水溶液処理と親水性下塗りを行うことや、特開平
4−282637号公報や特開平7−314937号公
報に開示されている有機層を設けてもよい。
After performing the silicate treatment or the sealing treatment as described above, in order to improve the adhesion to the image forming layer, an acidic aqueous solution treatment and a hydrophilic undercoating disclosed in JP-A-5-278362 are used. Or an organic layer disclosed in JP-A-4-282637 or JP-A-7-314937 may be provided.

【0096】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合
物および特開平6−35174号記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの
被覆層のうち、Si(OCH34、Si(OC
254、Si(OC374、Si(OC494など
のケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それ
から得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れてお
り特に好ましい。
After the above-mentioned treatment or undercoating is applied to the surface of the support, a back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is used. It is preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 and Si (OC
2 H 5) 4, Si ( OC 3 H 7) 4, Si (OC 4 H 9) is easily available and inexpensive alkoxy compounds of silicon such as 4, the coating layer of the obtained therefrom metal oxide in developing solution Excellent and particularly preferred.

【0097】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmであ
る。0.10μmより低いと感熱層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.
65であり、0.15より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
0.65より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難く、著しく検版性が悪いものとなってしまう。
The preferred characteristics of the lithographic printing plate support are center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. When the thickness is less than 0.10 μm, the adhesion to the heat-sensitive layer decreases,
Significant reduction in printing durability occurs. If it is larger than 1.2 μm, the stain property at the time of printing deteriorates. Further, the color density of the support is 0.15 to 0.5 as a reflection density value.
65, and when it is whiter than 0.15, the halation at the time of image exposure is too strong and hinders image formation,
If it is less than 0.65, the image is difficult to see in the plate inspection work after development, and the plate inspection is extremely poor.

【0098】なお、本発明の平版印刷版用原版は、その
支持体として、粗面化処理を行なった後陽極酸化処理を
行なったアルミニウム基板を用いることにより、より良
好な機上現像性を得ることができる。その場合、さらに
シリケート処理を行なったアルミニウム基板を用いるこ
とが、より好ましい。
In the lithographic printing plate precursor of the present invention, better on-press developability can be obtained by using an aluminum substrate which has been subjected to a surface roughening treatment and then anodized as a support. be able to. In that case, it is more preferable to use an aluminum substrate further subjected to a silicate treatment.

【0099】本印刷版はアルミニウム基板上に水に不溶
な親水性層あるいはレーザー露光により発熱しかつ水に
不溶な親水性である層、あるいはアルミニウム基板上に
断熱性を持たせるために有機ポリマーよりなる断熱層を
設けたうえに、水に不溶な親水性層あるいはレーザー露
光により発熱しかつ水に不溶な親水性である層を設けて
もよい。例えば、アルミニウム基板上にシリカ微粒子と
親水性樹脂の親水性層を設けてよい。さらにこの親水性
層内に先に挙げた光熱変換材料を導入し、発熱性親水性
層としてもよい。このようにすることでアルミニウム基
板に熱が逃げ難くなるのみか、レーザー露光により発熱
する親水性基板として用いることができる。更にこの親
水性層とアルミニウム基板の間に有機ポリマーからなる
中間層を設けると、より一層熱がアルミ基板に逃げるこ
とを抑制することができる。支持体としては、機上現像
性の観点から、多孔質でないものが良く、また親水性有
機高分子材料を40%以上含むような水により膨潤する
ような支持体はインクが払われ難く問題となってしま
う。
This printing plate is made of a hydrophilic layer insoluble in water on an aluminum substrate, a hydrophilic layer insoluble in water and heated by laser exposure, or an organic polymer for imparting heat insulation to the aluminum substrate. In addition to the heat insulating layer, a hydrophilic layer insoluble in water or a hydrophilic layer that generates heat by laser exposure and is insoluble in water may be provided. For example, a hydrophilic layer of silica fine particles and a hydrophilic resin may be provided on an aluminum substrate. Further, the above-described photothermal conversion material may be introduced into the hydrophilic layer to form a heat-generating hydrophilic layer. This makes it difficult for heat to escape to the aluminum substrate, or the aluminum substrate can be used as a hydrophilic substrate that generates heat by laser exposure. Further, when an intermediate layer made of an organic polymer is provided between the hydrophilic layer and the aluminum substrate, the escape of heat to the aluminum substrate can be further suppressed. The support is preferably non-porous from the viewpoint of on-press developability, and a support that swells with water containing 40% or more of a hydrophilic organic polymer material is difficult to be dispensed with ink. turn into.

【0100】本発明に使用される親水層は3次元架橋し
ており、水及び/又はインキを使用する平版印刷で、浸
し水に溶けない層であり、下記のコロイドからなること
が望ましい。ベリリウム、マグネシウム、アルミニウ
ム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジル
コニウム、鉄、バナジウム、アンチモン又は遷移金属の
酸化物又は水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロイド
である。場合によってはこれらの元素の複合体からなる
コロイドであっても良い。これらのコロイドは、上記の
元素が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に
未結合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これら
が混在した構造となっている。活性なアルコキシ基や水
酸基が多い初期加水分解縮合段階から、反応が進行する
につれ粒子径は大きくなり不活性になる。コロイドの粒
子は一般的には2nmから500nmで、シリカの場合
5nmから100nmの球形のものが本発明では好適で
ある。アルミニウムのコロイドのように100×10n
mのような羽毛状のものも有効である。更には、10n
mから50nmの球状粒子が50nmから400nmの
長さに連なったパールネック状のコロイドも用いること
ができる。
The hydrophilic layer used in the present invention is three-dimensionally cross-linked, is a layer which is insoluble in soaking water in lithographic printing using water and / or ink, and preferably comprises the following colloids. It is a colloid comprising a sol-gel conversion system of an oxide or hydroxide of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony or a transition metal. In some cases, a colloid comprising a complex of these elements may be used. These colloids have a structure in which the above elements form a network structure via an oxygen atom and have an unbonded hydroxyl group or alkoxy group at the same time, and these are mixed. From the initial hydrolysis-condensation stage, which is rich in active alkoxy groups and hydroxyl groups, the particle size increases and becomes inactive as the reaction proceeds. Colloidal particles generally have a diameter of 2 nm to 500 nm, and in the case of silica, spherical particles having a diameter of 5 nm to 100 nm are suitable in the present invention. 100 × 10n like aluminum colloid
A feather-like material such as m is also effective. Furthermore, 10n
A pearl neck-shaped colloid in which spherical particles of m to 50 nm are connected in a length of 50 to 400 nm can also be used.

【0101】コロイドはそのもの単独で用いてもよく、
更には親水性の樹脂と混合して用いることも可能であ
る。また、架橋を促進させるために、コロイドの架橋剤
を添加しても良い。通常、コロイドは安定剤によって安
定化されている場合が多い。カチオンに荷電しているコ
ロイドではアニオン基を有する化合物、逆にアニオンに
荷電しているコロイドではカチオン基を有する化合物が
安定剤として添加されている。たとえば、ケイ素のコロ
イドではアニオンに荷電しているので、安定剤としてア
ミン系の化合物が添加され、アルミニウムのコロイドで
はカチオンに荷電しているので、塩酸や酢酸等の強酸が
添加されている。この様なコロイドを基板上に塗布する
と、常温で透明な皮膜を形成するものが多いが、コロイ
ドの溶媒が蒸発しただけではゲル化は不完全で、安定剤
を除去できる温度に加熱することによって、強固な3次
架橋を行い、本発明に好ましい親水層となる。
The colloid may be used alone,
Furthermore, it is also possible to mix and use with a hydrophilic resin. Further, a colloidal crosslinking agent may be added to promote crosslinking. Usually, colloids are often stabilized by stabilizers. In a colloid charged with a cation, a compound having an anionic group is added as a stabilizer, and in a colloid charged with an anion, a compound having a cationic group is added as a stabilizer. For example, a silicon colloid is charged with an anion, so an amine compound is added as a stabilizer, and an aluminum colloid is charged with a cation, so a strong acid such as hydrochloric acid or acetic acid is added. When such a colloid is applied on a substrate, it often forms a transparent film at room temperature, but gelation is incomplete by evaporating the solvent of the colloid, and by heating to a temperature at which the stabilizer can be removed by heating By performing strong tertiary cross-linking, it becomes a hydrophilic layer preferable in the present invention.

【0102】上記のような安定化剤を用いずに、出発物
質(例えば、ジ、トリ及び/又はテトラアルコキシシラ
ン)から直接加水分解縮合反応を行わせ、適当なゾル状
態を作りだしそのまま基板上に塗布し、乾燥させ反応を
完了させても良い。この場合、安定化剤を含む場合より
も低温で三次元架橋させることができる。
[0102] Without using the above-mentioned stabilizing agent, a hydrolysis and condensation reaction is directly carried out from a starting material (for example, di, tri and / or tetraalkoxy silane) to form an appropriate sol state and directly onto a substrate. The reaction may be completed by coating and drying. In this case, three-dimensional crosslinking can be performed at a lower temperature than when a stabilizer is included.

【0103】この他、適当な加水分解縮合反応物を有機
溶媒に分散安定化させたコロイドも本発明には好適であ
る。溶媒が蒸発するだけで、三次元架橋した皮膜が得ら
れる。これらの溶媒にはメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルーエテルやメ
チルエチルケトンのような低沸点の溶媒を選択すると、
常温での乾燥が可能となる。とくに本発明では、メタノ
ールやエタノール溶媒のコロイドが低温での硬化が容易
であり有用である。
In addition, a colloid obtained by dispersing and stabilizing an appropriate hydrolysis-condensation reaction product in an organic solvent is also suitable for the present invention. Only by evaporation of the solvent, a three-dimensionally crosslinked film is obtained. If these solvents are low boiling solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and methyl ethyl ketone,
Drying at normal temperature becomes possible. In particular, in the present invention, the colloid of a methanol or ethanol solvent is useful because it can be easily cured at a low temperature.

【0104】上記のコロイドと共に用いる親水性樹脂と
しては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキ
シエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチ
ル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を
有するものが好ましい。具体的な親水性樹脂として、ア
ラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボ
キシメチルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースア
セテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイ
ン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー
類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル
酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレート
のホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアク
リレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、
ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコ
ポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリ
マー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール
類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアル
コール類、ならびに加水分解度が少なくとも60重量
%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分解ポリビ
ニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホ
モポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポ
リマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドの
ホモポリマー及びコポリマー、2−アクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸あるいはその塩のホモポリ
マー及びコポリマー等を挙げることができる。
As the hydrophilic resin used together with the above colloid, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl and carboxymethyl are preferred. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their Na salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids And salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers,
Hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and a degree of hydrolysis of at least 60% by weight; Preferably at least 80% by weight of hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, 2-acrylamide- 2
And homopolymers and copolymers of methylpropanesulfonic acid or a salt thereof.

【0105】特に好ましい親水性樹脂は水溶性でない水
酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチルメ
タクリレートのホモポリマー及びコポリマーとヒドロキ
シエチルアクリレートのコポリマーである。これらの親
水性樹脂はコロイドと共に用いられるが、その添加割合
は親水性樹脂が水溶性の場合、親水層の全固形分の40
重量%以下が好ましく、水溶性でない親水性樹脂の場合
は全固形分の20重量%以下が好ましい。
Particularly preferred hydrophilic resins are non-water-soluble polymers containing hydroxyl groups, specifically, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate and copolymers of hydroxyethyl acrylate. These hydrophilic resins are used together with a colloid, but the addition ratio is 40% of the total solid content of the hydrophilic layer when the hydrophilic resin is water-soluble.
% By weight or less, and in the case of a hydrophilic resin which is not water-soluble, preferably 20% by weight or less of the total solid content.

【0106】これらの親水性樹脂はそのまま用いること
もできるが、印刷時の耐刷力を増加させる目的で、コロ
イド以外の親水性樹脂の架橋剤を添加してもよい。この
様な親水性樹脂の架橋剤としては、ホルムアルデヒド、
グリオキザール、ポリイソシアネート及びテトラアルコ
キシシランの初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素
やヘキサメチロールメラミンを挙げることができる。本
発明の親水層には上記の酸化物又は水酸化物のコロイド
と親水性樹脂以外に、コロイドの架橋を促進する架橋剤
を添加してもよい。その様な架橋剤としてはテトラアル
コキシシランの初期加水分解縮合物、トリアルコキシシ
リルプロピル−N,N,N−トリアルキルアンモニウム
ハライドあるいはアミノプロピルトリアルコキシシラン
が好ましい。その添加割合は親水層の全固形分の5重量
%以下であることが好ましい。
These hydrophilic resins can be used as they are, but a crosslinking agent of a hydrophilic resin other than colloid may be added for the purpose of increasing the printing durability during printing. Formaldehyde, crosslinker of such a hydrophilic resin,
Examples include initial hydrolysis and condensation products of glioxal, polyisocyanate and tetraalkoxysilane, dimethylol urea and hexamethylol melamine. In addition to the above-mentioned colloid of the oxide or hydroxide and the hydrophilic resin, a crosslinking agent which promotes the crosslinking of the colloid may be added to the hydrophilic layer of the present invention. As such a crosslinking agent, an initial hydrolysis condensate of tetraalkoxysilane, trialkoxysilylpropyl-N, N, N-trialkylammonium halide or aminopropyltrialkoxysilane is preferable. It is preferable that the addition ratio is 5% by weight or less of the total solid content of the hydrophilic layer.

【0107】更に本発明の親水層には、感熱感度を高め
るために親水性の光熱変換材料を添加してもよい。特に
好ましい光熱変換材料は水溶性の赤外線吸収染料で、前
記の式(I)のスルホン酸基やスルフォン酸のアルカリ
金属塩基あるいはアミン塩基を有するシアニン染料であ
る。これらの染料の添加割合は親水層の全量に対し、1
重量%〜20重量%で、更に好ましくは5重量%〜15
重量%である。
Further, a hydrophilic light-to-heat conversion material may be added to the hydrophilic layer of the present invention in order to enhance heat sensitivity. A particularly preferred photothermal conversion material is a water-soluble infrared-absorbing dye, and is a cyanine dye having a sulfonic acid group or an alkali metal base of sulfonic acid or an amine base of the formula (I). The addition ratio of these dyes is 1 to the total amount of the hydrophilic layer.
% To 20% by weight, more preferably 5% to 15% by weight.
% By weight.

【0108】本発明の三次元架橋した親水層の塗布厚み
は0.1μmから10μmであることが好ましい。より
好ましくは、0.5μmから5μmである。薄すぎる
と、親水層の耐久性が劣り、印刷時の耐刷力が劣る。ま
た厚すぎると、解像度が低下する。以後、有機ポリマー
よりなる中間層について述べる。中間層に用いることの
できる有機ポリマーはポリウレタン樹脂、ポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、クレゾール樹脂、レゾール樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ビニル樹脂など通常使用さ
れる有機ポリマーであれば問題なく使用することができ
る。これらは0.1g/m2〜5.0g/m2の塗布量で
あることが好ましい。0.1g/m2以下だと断熱効果
が小さく、5.0g/m2より大きいと非画像部の耐刷
性が劣化する。
The coating thickness of the three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer of the present invention is preferably 0.1 μm to 10 μm. More preferably, it is 0.5 μm to 5 μm. If it is too thin, the durability of the hydrophilic layer will be poor, and the printing durability during printing will be poor. On the other hand, if the thickness is too large, the resolution is reduced. Hereinafter, the intermediate layer made of an organic polymer will be described. Organic polymers that can be used for the intermediate layer include polyurethane resins, polyester resins, acrylic resins, cresol resins, resole resins,
Any commonly used organic polymer such as polyvinyl acetal resin and vinyl resin can be used without any problem. It is preferred that these are the coating weight of 0.1g / m 2 ~5.0g / m 2 . When it is 0.1 g / m 2 or less, the heat insulating effect is small, and when it is more than 5.0 g / m 2 , the printing durability of the non-image portion is deteriorated.

【0109】〔製版及び印刷〕本発明の平版印刷版用原
版は高出力のレーザー露光により、画像形成することが
できるが、サーマルヘッドのような書込み機を用いても
よい。特に本発明では赤外または近赤外領域で発光する
レーザーを用いることが好ましい。特に近赤外領域で発
光するレーザーダイオードが特に好ましい。また、紫外
線ランプによる記録も可能であるが、本発明において
は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射す
る固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されるこ
とが好ましい。レーザの出力は100mW以上が好まし
く、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバ
イスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露
光時間は20μ秒以内であることが好ましい。記録材料
に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2
あることが好ましい。
[Plate making and printing] The lithographic printing plate precursor of the present invention can form an image by high-power laser exposure, but a writer such as a thermal head may be used. In particular, in the present invention, it is preferable to use a laser that emits light in the infrared or near infrared region. In particular, a laser diode that emits light in the near infrared region is particularly preferable. Although recording by an ultraviolet lamp is also possible, in the present invention, it is preferable that the image is exposed by a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. The output of the laser is preferably 100 mW or more, and it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. Further, the exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the recording material is preferably from 10 to 300 mJ / cm 2 .

【0110】このようにして露光されたプレートは処理
することなく、印刷機のシリンダーに取り付けられる。
このようにして取り付けられたプレートは以下のような
手順で印刷することができる。 (1)印刷版に湿し水を供給し、機上で現像した後に更
にインクを供給して印刷を開始する方法、(2)印刷版
に湿し水およびインクを供給し、機上で現像した後に印
刷を開始する方法、(3)インクを版に供給し、湿し水
を供給すると同時に紙を供給し印刷を開始する方法など
がある。またこれらのプレートは特許第2938398
号に記載されているように、印刷機シリンダー上に取り
付けた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光
し、その後に湿し水及び/またはインクをつけて機上現
像することも可能であり、好ましくは水又は水溶液によ
って現像可能な、あるいは現像することなしにそのまま
印刷機に装着し印刷することが可能なものである。
The plate thus exposed is mounted without processing on a cylinder of a printing press.
The plate thus mounted can be printed in the following procedure. (1) A method in which dampening water is supplied to the printing plate and development is performed on the machine, and then ink is further supplied to start printing. (2) A dampening solution and ink are supplied to the printing plate and developed on the machine. And (3) supplying ink to the plate, supplying dampening water and simultaneously supplying paper to start printing, and the like. These plates are disclosed in Japanese Patent No. 2938398.
As described in the above, after mounting on the printing press cylinder, it is also possible to expose by a laser mounted on the printing press and then apply on-press development with dampening water and / or ink. Preferably, it can be developed with water or an aqueous solution, or can be directly attached to a printing machine for printing without development.

【0111】[0111]

【実施例】以下に、本発明を実施例によって更に具体的
に説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限
定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should be understood that the scope of the present invention is not limited by these Examples.

【0112】〈微粒子(1)の合成例〉酢酸エチル12.
0gおよびメチルエチルケトン6.0gに、重量平均分
子量4000のクレゾールノボラック樹脂(メタ/パラ比60
/40)4.0gおよび重量平均分子量15000のポリメタ
クリル酸メチル2.0g、光熱変換剤(本明細書記載の
I−34)1.5g、アニオン界面活性剤パイオニンA-
41C(竹本油脂(株)製)0.1gを溶解し、油相を調製
した。これに4%のポリビニルアルコール、PVA205(ク
ラレ(株)製)水溶液36.0gの水相を加え、ホモジナ
イザーで15000rpm、15分間乳化させた。水2
4.0gを加えた後に、この液を40℃で3時間、有機
溶剤を飛ばしながら加熱した。固形分濃度を測定したと
ころ13.0重量%であった。また平均粒径は0.25
μmであった。
<Synthesis Example of Fine Particle (1)> Ethyl acetate
Cresol novolak resin having a weight average molecular weight of 4000 (meta / para ratio of 60
/ 40) 4.0 g of polymethyl methacrylate having a weight-average molecular weight of 15,000, 2.0 g of a photothermal conversion agent (I-34 described in this specification), 1.5 g of anionic surfactant pionin A-
0.1 g of 41C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) was dissolved to prepare an oil phase. An aqueous phase of 36.0 g of a 4% aqueous solution of polyvinyl alcohol and PVA205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was added thereto, and the mixture was emulsified with a homogenizer at 15000 rpm for 15 minutes. Water 2
After adding 4.0 g, the solution was heated at 40 ° C. for 3 hours while removing the organic solvent. The measured solid content was 13.0% by weight. The average particle size is 0.25
μm.

【0113】〈微粒子(2)の合成例〉酢酸エチル12.
0gおよびメチルエチルケトン6.0gに重量平均分子
量4000のクレゾールノボラック樹脂(メタ/パラ比60/
40)4.0gおよびエポキシ樹脂エピコート1007(油化
シェルエポキシ(株)製)2.0g、光熱変換剤(本明細
書記載のI−34)1.5g、パイオニンA-41C(竹本
油脂(株)製)0.1gを溶解し、油相を調製した。以
下、微粒子(1)の合成例と同様にして、固形分濃度1
4.0重量%、平均粒径は0.30μmの微粒子(2)の
分散液を調製した。
<Synthesis Example of Fine Particle (2)> Ethyl acetate
Cresol novolak resin having a weight average molecular weight of 4000 (meta / para ratio of 60 / g) was added to 0 g and 6.0 g of methyl ethyl ketone.
40) 4.0 g, 2.0 g of epoxy resin epicoat 1007 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), 1.5 g of photothermal conversion agent (I-34 described in this specification), Pionin A-41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.) ) Was dissolved to prepare an oil phase. Hereinafter, in the same manner as in the synthesis example of the fine particles (1), a solid content concentration of 1
A dispersion of fine particles (2) having a weight percentage of 4.0% and an average particle diameter of 0.30 μm was prepared.

【0114】〈微粒子(3)の合成例〉酢酸エチル12.
0gおよびメチルエチルケトン6.0gに重量平均分子
量4000のクレゾールノボラック樹脂(メタ/パラ比60/
40)4.0gおよびイソホロンジイソシアナートとブタ
ンジオールを重付加反応させることで得た重量平均分子
量8000のポリウレタン樹脂2.0g及び光熱変換剤(本
明細書記載のI−34)1.5g、パイオニンA-41C
0.1gを溶解し、油相を調製した。以下、微粒子(1)
の合成例と同様にして、固形分濃度13.5重量%、平
均粒径は0.25μmの微粒子(3)の分散液を調製し
た。
<Synthesis Example of Fine Particle (3)> Ethyl acetate
Cresol novolak resin having a weight average molecular weight of 4000 (meta / para ratio of 60 / g) was added to 0 g and 6.0 g of methyl ethyl ketone.
40) 4.0 g, 2.0 g of a polyurethane resin having a weight average molecular weight of 8000 obtained by subjecting isophorone diisocyanate and butanediol to a polyaddition reaction, and 1.5 g of a photothermal conversion agent (I-34 described in the present specification); Pionein A-41C
0.1 g was dissolved to prepare an oil phase. Hereinafter, fine particles (1)
In the same manner as in Synthesis Example, a dispersion liquid of fine particles (3) having a solid content of 13.5% by weight and an average particle diameter of 0.25 μm was prepared.

【0115】〈微粒子(4)の合成例(比較例)〉酢酸エ
チル12.0gおよびメチルエチルケトン6.0gに重
量平均分子量4000のm-/p-比6/4のクレゾールノボラッ
ク樹脂6.0g、光熱変換剤(本明細書記載のI−3
4)1.5g、パイオニンA-41C 0.1gを溶解し、油
相を調製した。これに微粒子(1)の合成例と同じ水相を
加え同様にホモジナイザーでの乳化を行った。水24.
0gを加えた後に、この液を40℃で3時間酢酸エチル
およびメチルエチルケトンを飛ばしながら加熱した。固
形分濃度を測定したところ14.0重量%であった。ま
た平均粒径は0.20μmであった。
<Synthesis Example of Fine Particles (4) (Comparative Example)> 12.0 g of ethyl acetate and 6.0 g of methyl ethyl ketone were mixed with 6.0 g of a cresol novolak resin having a weight-average molecular weight of 4000 and an m- / p-ratio of 6/4, Conversion agent (I-3 described herein)
4) 1.5 g and 0.1 g of Pionin A-41C were dissolved to prepare an oil phase. The same aqueous phase as in the synthesis example of the fine particles (1) was added thereto, and emulsification was carried out using a homogenizer in the same manner. Water 24.
After the addition of 0 g, the solution was heated at 40 ° C. for 3 hours while skipping ethyl acetate and methyl ethyl ketone. The measured solid content was 14.0% by weight. The average particle size was 0.20 μm.

【0116】〈微粒子(5)の合成例(比較例)〉酢酸エ
チル12.0gおよびメチルエチルケトン6.0gに、
重量平均分子量15000のポリメタクリル酸メチル6.0
g、光熱変換剤(本明細書記載のI−34)1.5g、
パイオニンA-41C 0.1gを溶解し、油相を調製した。
以下、微粒子(1)の合成例と同様にして、固形分濃度1
4.5重量%、平均粒径は0.24μmの微粒子(5)の
分散液を調製した。
<Synthesis Example of Fine Particle (5) (Comparative Example)> 12.0 g of ethyl acetate and 6.0 g of methyl ethyl ketone were added to
Polymethyl methacrylate 6.0 having a weight average molecular weight of 15,000
g, 1.5 g of a photothermal conversion agent (I-34 described herein),
0.1 g of Pionein A-41C was dissolved to prepare an oil phase.
Hereinafter, in the same manner as in the synthesis example of the fine particles (1), a solid content concentration of 1
A dispersion of fine particles (5) having a weight percentage of 4.5% and an average particle diameter of 0.24 μm was prepared.

【0117】〈微粒子(6)の合成例(比較例)〉酢酸エ
チル12.0gおよびメチルエチルケトン6.0gにエ
ポキシ樹脂エピコート1007(油化シェルエポキシ(株)
製)6.0g、パイオニンA-41C 0.1gを溶解し、油
相を調製した。以下、微粒子(1)の合成例と同様にし
て、固形分濃度15.0重量%、平均粒径は0.50μ
mの微粒子(6)の分散液を調製した。
<Synthesis Example of Fine Particle (6) (Comparative Example)> 12.0 g of ethyl acetate and 6.0 g of methyl ethyl ketone were added to an epoxy resin Epicoat 1007 (Yuika Shell Epoxy Co., Ltd.).
6.0 g) and 0.1 g of Pionin A-41C were dissolved to prepare an oil phase. Hereinafter, in the same manner as in the synthesis example of the fine particles (1), the solid content concentration is 15.0% by weight, and the average particle size is 0.50 μm.
A dispersion liquid of m fine particles (6) was prepared.

【0118】〈微粒子(7)の合成例(比較例)〉酢酸エ
チル12.0gおよびメチルエチルケトン6.0gにイ
ソホロンジイソシアナートとブタンジオールから合成さ
れた重量平均分子量8000のポリウレタン樹脂6.0g及
び光熱変換剤(本明細書記載のI−34)1.5g、パ
イオニンA-41C 0.1gを溶解し、油相を調製した。以
下、微粒子(1)の合成例と同様にして、固形分濃度1
5.0重量%、平均粒径は0.45μmの微粒子(7)の
分散液を調製した。
<Synthesis Example of Fine Particle (7) (Comparative Example)> 6.0 g of a polyurethane resin having a weight average molecular weight of 8000 synthesized from isophorone diisocyanate and butanediol in 12.0 g of ethyl acetate and 6.0 g of methyl ethyl ketone, and photothermal 1.5 g of the conversion agent (I-34 described in this specification) and 0.1 g of Pionin A-41C were dissolved to prepare an oil phase. Hereinafter, in the same manner as in the synthesis example of the fine particles (1), a solid content concentration of 1
A dispersion of fine particles (7) having 5.0% by weight and an average particle diameter of 0.45 μm was prepared.

【0119】〈微粒子(8)の合成例〉光熱変換剤を除い
た以外は微粒子(1)と同様に調製した。固形分濃度を測
定したところ14.0重量%であった。また平均粒径は
0.20μmであった。
<Synthesis Example of Fine Particle (8)> A fine particle (8) was prepared in the same manner as the fine particle (1) except that the photothermal conversion agent was omitted. The measured solid content was 14.0% by weight. The average particle size was 0.20 μm.

【0120】(支持体の製造例1)銅を0.01%、チ
タンを0.03%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含
有する、JIS A 1050アルミニウム材の厚み0.24mm圧
延板を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の
20重量%水懸濁液と、ブラシの毛径0.30mmの回転
ナイロンブラシ(6-10ナイロン)とを用いてその表面を
砂目立てした後、よく水で洗浄した。
(Production Example 1 of Support) A JIS A1050 aluminum material containing 0.01% of copper, 0.03% of titanium, 0.3% of iron and 0.1% of silicon has a thickness of 0.1%. The surface of a 24 mm rolled plate is sand-grained using a 400-mesh 20% by weight aqueous suspension of pamistone (manufactured by Kyoritsu Ceramics) and a rotating nylon brush (6-10 nylon) having a brush diameter of 0.30 mm. After that, it was washed well with water.

【0121】上記のアルミニウム板を15重量%水酸化
ナトリウム水溶液(アルミニウム5重量%含有)に浸漬
してアルミニウムの溶解量が5g/m2になるようにエ
ッチングした後、流水で水洗した。さらに、1重量%硝
酸で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウ
ムイオンとして0.5%含有)中で、陰極時電圧9.3
ボルト、陽極時電圧10.5ボルトの矩形波交番波形電
圧(電流比r=0.90、特公昭58−5796号公報実施
例に記載されている電流波形)を用いて160クーロン
/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。水
洗後、40℃の10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に
浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になるよう
にエッチングした後、水洗した。次に50℃30%の硫
酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、水洗した。さ
らに、35℃20重量%硫酸水溶液(アルミニウムイオ
ンとして0.8%含有)中で、直流を用いて多孔性陽極
酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電流密度13A/
dm2で電解を行い、電解時間を調節して陽極酸化皮膜
重量4.0g/m2とし、水洗乾燥した。
The aluminum plate was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 5% by weight of aluminum) and etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and then washed with running water. Further, the mixture was neutralized with 1% by weight of nitric acid, and then, in an aqueous solution of 0.7% by weight of nitric acid (containing 0.5% as aluminum ions), a cathode voltage of 9.3.
A voltage of 160 coulombs / dm 2 using a rectangular wave alternating waveform voltage of 10.5 volts (current ratio r = 0.90, current waveform described in Examples of Japanese Patent Publication No. 58-5796). The electrolytic surface roughening treatment was performed using the quantity of electricity. After washing with water, it was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 40 ° C., etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and then washed with water. Next, it was immersed in a 30% aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C., desmutted, and washed with water. Further, a porous anodic oxide film forming treatment was performed in a 20% by weight sulfuric acid aqueous solution (containing 0.8% as aluminum ions) at 35 ° C. using a direct current. That is, the current density is 13 A /
Electrolysis was performed at dm 2 , and the electrolysis time was adjusted to an anodic oxide film weight of 4.0 g / m 2 , followed by washing with water and drying.

【0122】上記のようにして得られたアルミニウム支
持体(支持体A)は、反射濃度は0.28で、中心線表
面粗さ(Ra)は0.45μmであった。なお、反射濃度
はマクベスRD920反射濃度計で測定し、中心線表面粗さ
(Ra)は東京精密機械社製SURFCOM触針計(触針10μ
R)を使用して測定した。この支持体Aを、ポリビニル
ホスホン酸0.5重量%水溶液に、60℃、10秒間浸
漬処理した後、水洗乾燥して、支持体(1)を得た。
The aluminum support (Support A) obtained as described above had a reflection density of 0.28 and a center line surface roughness (Ra) of 0.45 μm. The reflection density was measured with a Macbeth RD920 reflection densitometer, and the center line surface roughness was measured.
(Ra) is a SURFCOM stylus meter (probe 10μ)
R). The support A was immersed in a 0.5% by weight aqueous solution of polyvinylphosphonic acid at 60 ° C. for 10 seconds, washed with water and dried to obtain a support (1).

【0123】(支持体の製造例2)支持体(1)に、アラビ
アガムを10mg/m2塗布した支持体(2)を得た。
(Production Example 2 of Support) Support (2) was obtained by coating gum arabic at 10 mg / m 2 on support (1).

【0124】〔実施例1〜5および比較例1〜3〕上記
の製造例で得た支持体、及び下記組成の画像形成層塗布
液(1)〜(2)を、表1に示した組み合わせで用いて、感
熱性の平版印刷版用原版を作製した。画像形成層の塗布
はバー塗布で行い、乾燥条件は、オーブン使用、90℃
120秒であり、画像形成層乾燥塗布量は0.8g/m
2であった。
[Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3] The supports obtained in the above Production Examples and the image forming layer coating solutions (1) and (2) having the following compositions were combined with the combinations shown in Table 1. To prepare a heat-sensitive lithographic printing plate precursor. The application of the image forming layer is performed by bar application, and drying conditions are oven use, 90 ° C.
120 seconds, and the dry coating amount of the image forming layer is 0.8 g / m2.
Was 2 .

【0125】 〈画像形成層塗布液(1)〉 水 30g 微粒子(固形分換算) 2.0g メガファックF−171 0.1g (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤)<Image Forming Layer Coating Solution (1)> Water 30 g Fine particles (in terms of solid content) 2.0 g Megafac F-171 0.1 g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)

【0126】 〈画像形成層塗布液(2)〉 水 30g 微粒子(固形分換算) 2.0g メガファックF−171 0.1g 光熱変換剤(前記I−34) 0.20g<Image Forming Layer Coating Solution (2)> Water 30 g Fine particles (in terms of solid content) 2.0 g Megafax F-171 0.1 g Light-to-heat converting agent (I-34) 0.20 g

【0127】[0127]

【表1】 [Table 1]

【0128】このようにして得られた機上現像可能な平
版印刷版用原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを
搭載したクレオ社製トレンドセッター3244VFSにて、出
力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギ
ー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で
露光した後、処理することなく、ハイデルベルグ社製印
刷機SOR-Mのシリンダーに取付け、湿し水を供給したの
ち、インキを供給し、さらに紙を供給し印刷を行った。
すべての原板について問題なく機上現像することがで
き、印刷可能であった。各原板で得られた印刷物の枚数
(耐刷性)と汚れ難さのレベルを評価した。これらの評
価結果を表1に示す。
The lithographic printing plate precursor thus obtained, which can be developed on a press, was subjected to output of 9 W, an external drum rotation speed of 210 rpm, and a plate surface by a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. After exposure under the conditions of energy of 100 mJ / cm 2 and resolution of 2400 dpi, without processing, it was mounted on a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, supplied with dampening water, supplied with ink, and further supplied with paper. Printing was performed.
All the original plates could be developed on-press without any problems and were printable. The number of prints (printing durability) obtained on each original plate and the level of stain resistance were evaluated. Table 1 shows the evaluation results.

【0129】表1の結果から明らかなように、本発明の
実施例1〜5の各平版印刷版用原版は耐刷性が優れ、地
汚れも良好であり、満足すべき結果を得たが、比較例1
〜4の各平版印刷版用原版は耐刷性において不満足な結
果であった。
As is clear from the results shown in Table 1, each of the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 5 of the present invention had excellent printing durability and good background smear, and satisfactory results were obtained. , Comparative Example 1
Each of the planographic printing plate precursors Nos. 1 to 4 was unsatisfactory in terms of printing durability.

【0130】[0130]

【発明の効果】本発明の平版印刷版用原版は、デジタル
信号に基づいた走査露光により、熱が加わると、その画
像形成層に含まれる、フェノール樹脂と、アクリル樹
脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群から選
ばれる少なくとも1種とを含有する微粒子がヒートモー
ドで反応を起こすことにより、良好な機上現像性を示し
ながら、加熱された画像部の皮膜強度および基板との密
着性が向上し、耐刷性に優れた平版印刷版を得ること可
能となった。
According to the lithographic printing plate precursor of the present invention, when heat is applied by scanning exposure based on a digital signal, a phenol resin, an acrylic resin, a urethane resin and an epoxy resin contained in the image forming layer are formed. The fine particles containing at least one selected from the group consisting of the groups react in the heat mode, thereby improving the film strength of the heated image area and the adhesion to the substrate while exhibiting good on-press developability. Thus, it became possible to obtain a lithographic printing plate having excellent printing durability.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01 BD21 BD43 BD53 CB14 CB22 CB28 CB30 FA14 2H096 AA06 BA06 EA04 EA23 GA60 2H114 AA04 AA24 BA01 BA10 DA03 DA04 DA07 DA11 DA15 DA34 DA39 DA52 DA53 DA55 DA59 DA60 DA75 EA01 EA03 EA08Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01 BD21 BD43 BD53 CB14 CB22 CB28 CB30 FA14 2H096 AA06 BA06 EA04 EA23 GA60 2H114 AA04 AA24 BA01 BA10 DA03 DA04 DA07 DA11 DA15 DA34 DA55 DA55 DA55 DA53 DA53 DA55

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性支持体上に、フェノール樹脂と、
アクリル樹脂、ウレタン樹脂およびエポキシ樹脂からな
る群から選ばれる少なくとも1種とを含有する微粒子を
含有する画像形成層を有することを特徴とする平版印刷
版用原版。
1. A phenolic resin on a hydrophilic support,
A lithographic printing plate precursor comprising an image forming layer containing fine particles containing at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin and an epoxy resin.
【請求項2】 前記微粒子中に光熱変換剤を含有するこ
とを特徴とする請求項1記載の平版印刷版用原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the fine particles contain a photothermal conversion agent.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006038723A1 (en) * 2004-10-08 2006-04-13 Kodak Polychrome Graphics Japan, Ltd. Matte agent for infrared-sensitive planographic printing plate and use thereof

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