JP2002162548A - Method for detecting optical axis of optical component and equipment thereof - Google Patents

Method for detecting optical axis of optical component and equipment thereof

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JP2002162548A
JP2002162548A JP2000361813A JP2000361813A JP2002162548A JP 2002162548 A JP2002162548 A JP 2002162548A JP 2000361813 A JP2000361813 A JP 2000361813A JP 2000361813 A JP2000361813 A JP 2000361813A JP 2002162548 A JP2002162548 A JP 2002162548A
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optical
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light
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately detect the optical axis of reflection using a simple constitution, and to efficiently adjust the alignment of an optical component. SOLUTION: The equipment for detecting the optical axis of an optical component has a standard light unit 10, which emits a standard laser beam L, having a set optical axis and an optical axis unit 70 for detecting the optical axis of a reflecting mirror 142 via the standard laser light L. The optical axis unit 70 has first and second pinhole plates 74, 76, disposed separated by a prescribed interval and first, and second pinholes 80, 90 have been formed in the first and second pinhole plates 74, 76.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光学機器を
構成する光学部品の光軸検出方法および装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for detecting an optical axis of an optical component constituting a laser optical device.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、レーザ光を利用したレーザ光学機
器として、例えば、レーザ加工装置やレーザ測定装置等
が採用されている。この種のレーザ光学機器では、レー
ザ光を所定の照射位置に導くために、レンズ系や反射鏡
等の多種類の光学部品が組み込まれている。さらに、反
射鏡は、平面鏡、放物面鏡および楕円面鏡等の種々の形
態を有している。
2. Description of the Related Art Usually, for example, a laser processing device, a laser measuring device, and the like are employed as laser optical devices using laser light. In this type of laser optical device, various types of optical components such as a lens system and a reflecting mirror are incorporated in order to guide a laser beam to a predetermined irradiation position. Further, the reflecting mirror has various forms such as a plane mirror, a parabolic mirror, and an elliptical mirror.

【0003】従って、レーザ光学機器を組み立てる際に
は、各種光学部品のレイアウト調整や焦点測定等のアラ
イメント調整を精度よく行うことが望まれている。高品
質なレーザ加工作業や高精度なレーザ測定作業を確実に
実施するためである。
[0003] Therefore, when assembling a laser optical device, it is desired to accurately perform layout adjustment of various optical components and alignment adjustment such as focus measurement. This is to ensure high-quality laser processing and high-precision laser measurement.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】一般的に、上記のアラ
イメント調整作業では、光学部品に基準光を照射して前
記光学部品からの反射光を検出し、検出された反射光軸
に基づいて該光学部品の位置および角度調整が行われて
いる。
Generally, in the above-mentioned alignment adjustment operation, the optical component is irradiated with reference light to detect reflected light from the optical component, and the optical component is detected based on the detected reflected optical axis. The position and the angle of the optical component are adjusted.

【0005】ところが、光学部品を精度よくアライメン
ト調整するためには、機械軸に一致した唯一の正確な反
射光軸を検出する必要がある。しかしながら、このよう
な反射光軸を正確に検出することは相当に困難であり、
光学部品を高精度にアライメント調整することができな
いという問題が指摘されている。
However, in order to accurately adjust the alignment of the optical components, it is necessary to detect the only accurate reflected optical axis that coincides with the mechanical axis. However, it is considerably difficult to accurately detect such a reflected optical axis,
It has been pointed out that the alignment of optical components cannot be adjusted with high precision.

【0006】本発明はこの種の問題を解決するものであ
り、簡単な構成で、反射光軸を高精度に検出することが
でき、光学部品のアライメント調整を効率的かつ精度よ
く行うことが可能な光学部品の光軸検出方法および装置
を提供することを目的とする。
The present invention solves this kind of problem. With a simple structure, the reflected optical axis can be detected with high accuracy, and the alignment adjustment of optical components can be performed efficiently and accurately. It is an object to provide a method and an apparatus for detecting an optical axis of an optical component.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係る光学部品の
光軸検出方法および装置では、基準レーザ光を光学部品
に照射し、この光学部品からの反射光を光軸ユニットに
入射させる。この光軸ユニットは、互いに所定間隔離間
して配置される第1および第2ピンホール板を設けると
ともに、前記第1および第2ピンホール板にそれぞれ細
孔が形成されている。これにより、光学部品が所定の角
度でかつ所定の位置に配置されている場合にのみ、この
光学部品からの反射光が第1および第2ピンホール板の
それぞれの細孔を透過して測定部位で検出されるため、
前記光学部品を高精度に位置合わせすることが可能にな
る。
According to the method and apparatus for detecting the optical axis of an optical component according to the present invention, a reference laser beam is applied to the optical component, and light reflected from the optical component is incident on the optical axis unit. This optical axis unit has first and second pinhole plates that are arranged at a predetermined distance from each other, and has pores formed in the first and second pinhole plates. Thus, only when the optical component is arranged at a predetermined angle and at a predetermined position, the reflected light from this optical component passes through the respective pores of the first and second pinhole plates, and Is detected by
The optical component can be positioned with high accuracy.

【0008】すなわち、光学部品からの反射光を単一の
測定点で測定する際に惹起され易い反射光軸のずれを確
実に検出し、簡単な構成で、前記光学部品の位置合わせ
精度が一挙に向上する。この光学部品は、平面鏡の他、
放物面鏡や楕円面鏡等の非平面反射鏡にも有効に適用さ
れる。さらに、測定位置に対応して光軸検出ユニットを
配置すれば、光軸ユニットを透過してこの光軸検出ユニ
ットに照射される反射光の光軸位置を正確に検出するこ
とができる。
In other words, when the reflected light from the optical component is measured at a single measuring point, the deviation of the reflected optical axis, which is likely to be caused, is reliably detected, and the positioning accuracy of the optical component can be improved with a simple configuration. To improve. This optical component is a flat mirror,
It is also effectively applied to non-planar reflecting mirrors such as parabolic mirrors and elliptical mirrors. Furthermore, if the optical axis detection unit is arranged corresponding to the measurement position, the optical axis position of the reflected light that passes through the optical axis unit and irradiates the optical axis detection unit can be accurately detected.

【0009】また、本発明では、まず、基準レーザ光を
光軸検出ユニットに照射してこの基準レーザ光の第1の
光軸位置(光点位置)が検出された後、前記光軸検出ユ
ニットを光路上から離脱させて前記基準レーザ光を光学
部品に照射する。その際、光学部品からの反射光がこの
反射光の光路上に配置された光軸検出ユニットに導入さ
れることにより、該基準レーザ光の第2の光軸位置が検
出される。そして、第1の光軸位置と第2の光軸位置と
が一致するように、光学部品の位置調整が行われる。従
って、基準レーザ光が光学部品で反射した反射光の光軸
位置を高精度に実測することができ、前記光学部品から
の反射光の絶対位置を容易に検出することが可能にな
る。
In the present invention, first, the optical axis detection unit is irradiated with a reference laser beam to detect a first optical axis position (light spot position) of the reference laser beam. From the optical path and irradiates the optical component with the reference laser light. At this time, the second light axis position of the reference laser light is detected by introducing the reflected light from the optical component into the optical axis detection unit arranged on the optical path of the reflected light. Then, the position adjustment of the optical component is performed so that the first optical axis position and the second optical axis position match. Therefore, the optical axis position of the reflected light of the reference laser light reflected by the optical component can be measured with high accuracy, and the absolute position of the reflected light from the optical component can be easily detected.

【0010】その際、光軸検出ユニットの光軸(光軸)
測定面を基準レーザ光の光軸に交差する軸回りに回転さ
せる。ここで、光軸測定面と回転軸とが一致しないと、
検出される光軸が光軸検出ユニットの回転によって移動
する。このため、基準レーザ光の光軸位置が変動しない
ように、光軸測定面を光軸方向に位置調整させることに
より、前記基準レーザ光の光軸測定面位置が検出される
ことになる。
At this time, the optical axis (optical axis) of the optical axis detection unit
The measurement surface is rotated around an axis intersecting the optical axis of the reference laser light. Here, if the optical axis measurement surface and the rotation axis do not match,
The detected optical axis moves due to the rotation of the optical axis detection unit. Therefore, by adjusting the position of the optical axis measurement surface in the optical axis direction so that the optical axis position of the reference laser light does not change, the optical axis measurement surface position of the reference laser light is detected.

【0011】さらにまた、本発明では、基準レーザ光が
光学部品で反射してその反射光が光軸検出ユニットに導
入され、前記基準レーザ光の第1の光軸位置が検出され
る。次いで、光軸検出ユニットが基準レーザ光の光軸方
向に所定距離だけ移動された後、前記基準レーザ光が光
学部品に照射され、その反射光が前記光軸検出ユニット
に導入されて該基準レーザ光の第2の光軸位置が検出さ
れる。そして、第1および第2の光軸位置が一致するよ
うに、光学部品の位置調整が行われることにより、光軸
の芯出し調整が容易に遂行される。
Further, in the present invention, the reference laser light is reflected by the optical component, and the reflected light is introduced into the optical axis detecting unit, and the first optical axis position of the reference laser light is detected. Next, after the optical axis detection unit is moved by a predetermined distance in the optical axis direction of the reference laser beam, the reference laser beam is irradiated on the optical component, and the reflected light is introduced into the optical axis detection unit and the reference laser beam is emitted. A second optical axis position of the light is detected. Then, by adjusting the position of the optical component so that the first and second optical axis positions match, the alignment of the optical axis is easily performed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施形態に係る
光学部品の光軸検出装置を構成する基準光ユニット10
の斜視図であり、図2は、前記基準光ユニット10の側
面図である。
FIG. 1 shows a reference light unit 10 constituting an optical axis detecting device for an optical component according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view of the reference light unit 10.

【0013】基準光ユニット10は、種々の光学部品の
測定等に使用される基準レーザ光Lを照射する機能を有
しており、He−Neレーザ等のレーザ発振器12が組
み込まれるレーザ光ユニット14と、前記レーザ光ユニ
ット14を支持筒16に対して光軸回りに回転させる回
転機構18と、前記レーザ光ユニット14から導出され
る前記基準レーザ光Lの光軸を前記基準光ユニット10
の回転中心に一致させるための光中心調整機構20とを
備える。
The reference light unit 10 has a function of irradiating a reference laser beam L used for measurement of various optical components and the like, and has a laser light unit 14 in which a laser oscillator 12 such as a He-Ne laser is incorporated. A rotation mechanism 18 for rotating the laser light unit 14 around an optical axis with respect to a support cylinder 16, and an optical axis of the reference laser light L derived from the laser light unit 14 to the reference light unit 10.
And a light center adjusting mechanism 20 for making the rotation center coincide with the rotation center.

【0014】基準光ユニット10は、測定ベース22上
に固定されるユニットベース24を備え、このユニット
ベース24に左右スライド機構26および上下スライド
機構28を介して支持筒16が装着される。左右スライ
ド機構26は、ユニットベース24上に光軸方向(矢印
A方向)に直交する矢印B方向に延在して設けられるガ
イドレール30を有するとともに、このガイドレール3
0に矢印B方向に進退自在なスライドベース32が配置
される。ユニットベース24上に水平方向に向かって第
1マイクロメータ34が固定され、この第1マイクロメ
ータ34のロッド36がスライドベース32に固定され
る。
The reference light unit 10 includes a unit base 24 fixed on a measurement base 22. The support cylinder 16 is mounted on the unit base 24 via a left and right slide mechanism 26 and a vertical slide mechanism 28. The left and right slide mechanism 26 has a guide rail 30 provided on the unit base 24 in the direction of arrow B perpendicular to the optical axis direction (direction of arrow A).
A slide base 32 that can move forward and backward in the direction of arrow B is disposed at 0. A first micrometer 34 is fixed on the unit base 24 in the horizontal direction, and a rod 36 of the first micrometer 34 is fixed to the slide base 32.

【0015】スライドベース32上にコラム38が設け
られ、このコラム38の内面側には、上下スライド機構
28を構成する一対のガイドレール40が鉛直方向に向
かって固定される。支持筒16の両側部には、ガイドレ
ール40に係合して昇降自在な一対のガイド部42が設
けられるとともに、コラム38の一端側上部には鉛直下
方向に向かって第2マイクロメータ44が装着される。
第2マイクロメータ44から下方に突出するロッド46
が支持筒16に固定される。
A column 38 is provided on the slide base 32, and a pair of guide rails 40 constituting the vertical slide mechanism 28 are fixed to the inner side of the column 38 in the vertical direction. A pair of guide portions 42 are provided on both sides of the support cylinder 16 so as to be movable up and down by engaging with the guide rails 40, and a second micrometer 44 is provided vertically above the one end of the column 38 in a vertically downward direction. Be attached.
A rod 46 projecting downward from the second micrometer 44
Are fixed to the support cylinder 16.

【0016】支持筒16内には、回転機構18を構成す
る一対のベアリング48を介して回転筒体50が回転自
在に支持されており、この回転筒体50内にレーザ発振
器12が収容される。レーザ発振器12の両端に保持部
材52が装着され、この保持部材52の小径部54が回
転筒体50内に挿入される。
A rotary cylinder 50 is rotatably supported in the support cylinder 16 via a pair of bearings 48 constituting the rotation mechanism 18, and the laser oscillator 12 is accommodated in the rotary cylinder 50. . The holding members 52 are attached to both ends of the laser oscillator 12, and the small-diameter portions 54 of the holding members 52 are inserted into the rotary cylinder 50.

【0017】光中心調整機構20は、回転筒体50の両
端縁部に等角度間隔ずつ離間してねじ込まれるそれぞれ
3つの調整ねじ56を備え、前記調整ねじ56の先端が
保持部材52の小径部54に当接することにより、レー
ザ発振器12の光軸が傾動調整される。
The optical center adjusting mechanism 20 has three adjusting screws 56 which are screwed into the opposite end portions of the rotary cylinder 50 at equal angular intervals, respectively, and the tip of the adjusting screw 56 is a small diameter portion of the holding member 52. The contact with 54 causes the optical axis of the laser oscillator 12 to be tilted and adjusted.

【0018】図2に示すように、レーザ光ユニット14
の先端側には、基準レーザ光Lのビーム径を拡大させる
ためのビーム径拡大手段66が着脱自在に設けられる。
このビーム径拡大手段66は、例えば、直径0.8mm
程度の基準レーザ光Lを直径25mmの平行光(コリメ
ート光)に変換するものであり、多種類のピンホールア
センブリとフォーカシングレンズとを組み合わせたフィ
ルタユニット68と、ビームエキスパンダ用レンズセッ
トを含むレンズユニット69とを備えている。
As shown in FIG. 2, the laser light unit 14
A beam diameter enlarging means 66 for enlarging the beam diameter of the reference laser beam L is detachably provided on the tip side of the laser beam.
The beam diameter expanding means 66 is, for example, 0.8 mm in diameter.
And converts the reference laser light L into parallel light (collimated light) having a diameter of 25 mm. The filter unit 68 includes a combination of various types of pinhole assemblies and focusing lenses, and a lens including a lens set for a beam expander. And a unit 69.

【0019】図3は、光軸検出装置を構成し基準光ユニ
ット10の光軸を調整するための光軸ユニット70の斜
視図であり、図4は、前記光軸ユニット70の側面図で
ある。
FIG. 3 is a perspective view of an optical axis unit 70 which constitutes the optical axis detecting device and adjusts the optical axis of the reference optical unit 10, and FIG. 4 is a side view of the optical axis unit 70. .

【0020】光軸ユニット70は、測定ベース22に固
定されるユニットベース72を備え、このユニットベー
ス72上に第1および第2ピンホール板74、76が所
定間隔離間して装着される。第1ピンホール板74は、
ユニットベース72上に固定された第1支持板78に支
持されており、この第1ピンホール板74の中央部に
は、所定の直径を有する第1細孔80が形成されてい
る。
The optical axis unit 70 has a unit base 72 fixed to the measurement base 22, and first and second pinhole plates 74 and 76 are mounted on the unit base 72 at a predetermined interval. The first pinhole plate 74 is
The first pinhole plate 74 is supported by a first support plate 78 fixed on the unit base 72, and a first hole 80 having a predetermined diameter is formed in the center of the first pinhole plate 74.

【0021】第1ピンホール板74には、第1細孔80
を光軸(矢印A方向)に交差する左右方向(矢印B方
向)および上下方向(矢印C方向)に位置調整するため
の第1細孔位置調整機構82が設けられる。第1細孔位
置調整機構82は、水平方向に配置されて第1ピンホー
ル板74を左右方向に進退させるための第1調整ねじ8
4と、鉛直方向に配置されて前記第1ピンホール板74
を上下方向に位置調整するための第2調整ねじ86とを
備える。
The first pinhole plate 74 has a first fine hole 80.
A first pore position adjusting mechanism 82 is provided for adjusting the position in the horizontal direction (arrow B direction) and the vertical direction (arrow C direction) crossing the optical axis (arrow A direction). The first fine hole position adjusting mechanism 82 is provided in the horizontal direction to move the first pinhole plate 74 forward and backward in the left-right direction.
4 and the first pinhole plate 74 disposed vertically
And a second adjusting screw 86 for adjusting the position of the second member in the vertical direction.

【0022】第2ピンホール板76は、第1ピンホール
板74と同様に第2支持板88上に支持されるととも
に、この第2ピンホール板76の中央部には、所定の直
径を有する第2細孔90が形成されている。第2ピンホ
ール板76には、第2細孔位置調整機構92が設けられ
ている。この第2細孔位置調整機構92は前記第1細孔
位置調整機構82と同様に構成されており、同一の構成
要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省
略する。
The second pinhole plate 76 is supported on a second support plate 88 like the first pinhole plate 74, and has a predetermined diameter at the center of the second pinhole plate 76. The second pore 90 is formed. The second pinhole plate 76 is provided with a second fine hole position adjusting mechanism 92. The second fine hole position adjusting mechanism 92 is configured in the same manner as the first fine hole position adjusting mechanism 82, and the same components are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.

【0023】第1および第2ピンホール板74、76
は、基準レーザ光Lのように直径が0.8mm程度の、
所謂、ポイント光を調整するために用いられるものであ
り、例えば、直径が25mm程度のコリメート光である
コリメート基準レーザ光L0を調整するためには、図5
に示す第1および第2ピンホール板94a、94bが、
前記第1および第2ピンホール板74、76と交換して
使用される。この第1および第2ピンホール板94a、
94bは、中心に細孔96a、96bを設けるととも
に、この細孔96a、96bを中心にして所定の直径を
有する円周上にそれぞれ4つの細孔98a、98bを設
けている。
First and second pinhole plates 74 and 76
Has a diameter of about 0.8 mm like the reference laser beam L,
It is used to adjust so-called point light. For example, in order to adjust the collimated reference laser light L0 which is a collimated light having a diameter of about 25 mm, FIG.
The first and second pinhole plates 94a and 94b shown in FIG.
It is used in place of the first and second pinhole plates 74 and 76. The first and second pinhole plates 94a,
94b has pores 96a and 96b at the center, and four pores 98a and 98b on the circumference having a predetermined diameter with the pores 96a and 96b as the centers.

【0024】図6は、光軸検出装置を構成し基準光ユニ
ット10から照射される基準レーザ光Lの光軸位置、具
体的には光軸位置を検出するための光軸(光点)検出ユ
ニット100の斜視説明図であり、図7は、前記光軸検
出ユニット100の側面説明図である。
FIG. 6 shows an optical axis detection device, which detects the optical axis position of the reference laser beam L emitted from the reference optical unit 10, specifically, the optical axis (light spot) for detecting the optical axis position. FIG. 7 is a perspective view of the unit 100, and FIG. 7 is a side view of the optical axis detection unit 100.

【0025】光軸検出ユニット100は、測定ベース2
2上に固定されるユニットベース102を備え、このユ
ニットベース102上には、第1スライドベース104
が進退機構105を介して光軸方向(矢印A方向)に進
退自在に配置される。第1スライドベース104の側方
には、進退機構105を構成しユニットベース102に
支持された第1スライドつまみ106の端部が固定され
ており、この第1スライドつまみ106を回転させるこ
とによって前記第1スライドベース104が矢印A方向
に進退可能である。
The optical axis detection unit 100 includes a measurement base 2
2 and a unit base 102 fixed on the unit base 102, and a first slide base 104 on the unit base 102.
Are arranged to be able to advance and retreat in the optical axis direction (the direction of arrow A) via the advance and retreat mechanism 105. An end of a first slide knob 106 that constitutes an advance / retreat mechanism 105 and is supported by the unit base 102 is fixed to the side of the first slide base 104. The first slide knob 106 is rotated to rotate the first slide knob 106. The first slide base 104 can move forward and backward in the direction of arrow A.

【0026】第1スライドベース104上には、回転機
構108を構成する回転ベース110が設けられ、この
回転ベース110は、回転つまみ112を操作すること
によって基準レーザ光Lの光軸に交差するZ軸(鉛直
軸)回りに回転自在である。回転ベース110上には、
第2スライドベース114が矢印A方向に進退自在に配
置される。第2スライドベース114には、第2スライ
ドつまみ116の端部が連結され、この第2スライドつ
まみ116が回転されることによって矢印A方向に微小
距離だけ進退自在である。
On the first slide base 104, there is provided a rotary base 110 constituting a rotary mechanism 108. The rotary base 110 is operated by operating a rotary knob 112 so as to intersect the optical axis of the reference laser beam L. It is rotatable around an axis (vertical axis). On the rotating base 110,
The second slide base 114 is disposed so as to be able to advance and retreat in the direction of arrow A. An end of a second slide knob 116 is connected to the second slide base 114, and the second slide knob 116 is rotated by a small distance in the direction of arrow A by rotating the second slide knob 116.

【0027】第2スライドベース114上に光軸位置検
出センサ118が装着され、この光軸位置検出センサ1
18には、モニタ122が接続されている(図8参
照)。モニタ122には、後述するように、光軸位置検
出センサ118の光軸(光点)測定面120に導入され
る基準レーザ光Lの位置が可視像として表示される。
An optical axis position detection sensor 118 is mounted on the second slide base 114, and the optical axis position detection sensor 1
A monitor 122 is connected to 18 (see FIG. 8). As described later, the position of the reference laser beam L introduced on the optical axis (light spot) measuring surface 120 of the optical axis position detection sensor 118 is displayed on the monitor 122 as a visible image.

【0028】次に、このように構成される光軸検出装置
の動作について、本発明の第1の実施形態に係る光軸検
出方法との関連で以下に説明する。
Next, the operation of the optical axis detecting device thus configured will be described below in relation to the optical axis detecting method according to the first embodiment of the present invention.

【0029】まず、基準光ユニット10から導出される
基準レーザ光Lの光軸が前記基準光ユニット10の回転
中心に一致するように、前記基準レーザ光Lの光軸調整
作業が遂行される。次いで、光軸が設定された基準レー
ザ光Lを使用して、光軸ユニット70および光軸検出ユ
ニット100の光軸合わせ作業が行われる。
First, the optical axis adjustment of the reference laser light L is performed so that the optical axis of the reference laser light L derived from the reference light unit 10 coincides with the center of rotation of the reference light unit 10. Next, the optical axis alignment of the optical axis unit 70 and the optical axis detection unit 100 is performed using the reference laser beam L with the optical axis set.

【0030】具体的には、図9に示すように、基準光ユ
ニット10の光軸上には、所定の位置に対応して光軸検
出ユニット100が配置される。そこで、基準光ユニッ
ト10から基準レーザ光Lが導出されると、この基準レ
ーザ光Lが光軸検出ユニット100を構成する光点測定
面120に照射される。この状態で、回転機構108を
構成する回転ベース110を揺動させるとともに、第2
スライドつまみ116の作用下に第2スライドベース1
14を光軸方向に進退させる。
Specifically, as shown in FIG. 9, on the optical axis of the reference light unit 10, an optical axis detecting unit 100 is arranged at a predetermined position. Then, when the reference laser light L is derived from the reference light unit 10, the reference laser light L is applied to the light spot measurement surface 120 of the optical axis detection unit 100. In this state, while rotating the rotation base 110 constituting the rotation mechanism 108,
The second slide base 1 under the action of the slide knob 116
14 is moved back and forth in the optical axis direction.

【0031】そして、図8に示すように、モニタ122
上の光軸位置Pが移動しない位置に第2スライドベース
114を停止させる。これにより、光点測定面120と
回転機構108の回転軸とが一致し、前記光点測定面1
20の位置が検出されることになる。
Then, as shown in FIG.
The second slide base 114 is stopped at a position where the upper optical axis position P does not move. Thereby, the light spot measurement surface 120 and the rotation axis of the rotation mechanism 108 coincide with each other, and the light spot measurement surface 1
Twenty positions will be detected.

【0032】一方、光軸ユニット70の光軸合わせ作業
は、図10に示すように、基準光ユニット10と光軸検
出ユニット100との間に第1ピンホール板74が配置
される。そして、基準光ユニット10から基準レーザ光
Lが導出され、この基準レーザ光Lが第1ピンホール板
74に形成された第1細孔80を通って光軸検出ユニッ
ト100の光点測定面120に照射される。この光軸検
出ユニット100では、第1細孔80を通過した基準レ
ーザ光Lの強度をモニタしており、この強度が最大にな
るように、第1細孔位置調整機構82が操作される。
On the other hand, in the optical axis alignment operation of the optical axis unit 70, as shown in FIG. 10, a first pinhole plate 74 is disposed between the reference optical unit 10 and the optical axis detection unit 100. Then, the reference laser light L is derived from the reference light unit 10, and the reference laser light L passes through the first fine holes 80 formed in the first pinhole plate 74, and the light spot measurement surface 120 of the optical axis detection unit 100. Is irradiated. In the optical axis detection unit 100, the intensity of the reference laser beam L passing through the first pore 80 is monitored, and the first pore position adjusting mechanism 82 is operated so that the intensity becomes maximum.

【0033】具体的には、第1および第2調整ねじ8
4、86が操作されることにより、第1ピンホール板7
4が上下および左右方向に位置調整され、第1細孔80
を通過する光の強度が最大となる位置で、前記第1細孔
80が光軸と一致することになる。
Specifically, the first and second adjusting screws 8
The first pinhole plate 7 is operated by operating
4 is adjusted in the vertical and horizontal directions, and
At the position where the intensity of light passing through the first pore 80 becomes maximum, the first pore 80 coincides with the optical axis.

【0034】同様にして、基準光ユニット10と光軸検
出ユニット100との間に第2ピンホール板76が配置
され、この第2ピンホール板76に形成されている第2
細孔90を光軸と一致させる作業が行われる。これによ
り、光軸ユニット70の光軸調整が遂行されることにな
る。
Similarly, a second pinhole plate 76 is arranged between the reference light unit 10 and the optical axis detection unit 100, and the second pinhole plate 76 is formed on the second pinhole plate 76.
An operation for aligning the pores 90 with the optical axis is performed. Thus, the optical axis adjustment of the optical axis unit 70 is performed.

【0035】図11は、本発明の第1の実施形態に係る
光軸検出方法が適応される位置調整ユニット140の斜
視説明図であり、図12は、前記位置調整ユニット14
0の側面図である。
FIG. 11 is a perspective view of a position adjusting unit 140 to which the optical axis detecting method according to the first embodiment of the present invention is applied, and FIG.
0 is a side view.

【0036】この位置調整ユニット140は、光学部品
である反射鏡(非平面反射鏡を含む)142を一体的に
レーザ加工装置やレーザ測定装置等に実装されるととも
に、予め前記反射鏡142の位置および角度を調整する
機能を有している。
The position adjusting unit 140 has a reflecting mirror (including a non-planar reflecting mirror) 142 as an optical component integrally mounted on a laser processing device, a laser measuring device, or the like. And a function to adjust the angle.

【0037】位置調整ユニット140は、測定ベース2
2上に載置されるユニットベース144を備え、このユ
ニットベース144上に支持ブロック146が設けられ
る。支持ブロック146上には、第1つまみ148を介
して水平方向に角度調整可能な第1傾斜部材150が設
けられる。第1傾斜部材150には、第2つまみ152
を介して鉛直方向に傾動自在な第2傾斜部材154が支
持され、この第2傾斜部材154に反射鏡142が装着
されている。
The position adjustment unit 140 includes the measurement base 2
2, a unit base 144 is mounted on the unit base 144, and a support block 146 is provided on the unit base 144. On the support block 146, a first tilt member 150 that can be horizontally adjusted in angle via a first knob 148 is provided. The first knob 150 has a second knob 152.
A second tilting member 154 that can be tilted in the vertical direction is supported via the second tilting member 154, and the reflecting mirror 142 is mounted on the second tilting member 154.

【0038】そこで、図13に示すように、基準光ユニ
ット10の光軸S1上に反射鏡142を組み込んだ位置
調整ユニット140が配置されるとともに、この反射鏡
142による反射光Laの光軸S2上に光軸ユニット7
0が配置されている。そして、基準光ユニット10から
基準レーザ光Lが導出されると、この基準レーザ光L
は、光軸S1に沿って反射鏡142に照射される。この
反射鏡142が所定の位置に正確に位置決めされている
と、前記反射鏡142からの反射光Laは、光軸S2上
に配置されている光軸ユニット70の第1および第2ピ
ンホール板74、76に形成された第1および第2細孔
80、90を透過して測定部位130に照射される。
Therefore, as shown in FIG. 13, a position adjusting unit 140 incorporating a reflecting mirror 142 is disposed on the optical axis S1 of the reference light unit 10, and the optical axis S2 of the reflected light La by the reflecting mirror 142 is arranged. Optical axis unit 7 on top
0 is arranged. When the reference laser light L is derived from the reference light unit 10, the reference laser light L
Is applied to the reflecting mirror 142 along the optical axis S1. When the reflecting mirror 142 is accurately positioned at a predetermined position, the reflected light La from the reflecting mirror 142 is transmitted to the first and second pinhole plates of the optical axis unit 70 disposed on the optical axis S2. The light passes through the first and second pores 80 and 90 formed in 74 and 76 and irradiates the measurement site 130.

【0039】その際、光軸ユニット70では、第1およ
び第2ピンホール板74、76が光軸S2に沿って所定
の間隔で離間しており、反射鏡142からの反射光La
がこの光軸S2に一致する場合にのみ、前記反射光La
が第1および第2細孔80、90を透過して測定部位1
30に照射される。従って、反射鏡142が、図13
中、二点鎖線で示すように、所望の位置からずれている
際には、第1ピンホール板74および/または第2ピン
ホール板76に阻止されて反射光Laが測定部位130
に照射されることはない。
At this time, in the optical axis unit 70, the first and second pinhole plates 74 and 76 are separated at a predetermined interval along the optical axis S2, and the reflected light La
Is only coincident with the optical axis S2, the reflected light La
Penetrates through the first and second pores 80 and 90 and
30 is irradiated. Therefore, the reflecting mirror 142 is
As shown by the two-dot chain line, when it is deviated from the desired position, the first pinhole plate 74 and / or the second pinhole plate 76 blocks the reflected light La and
Is not irradiated.

【0040】次に、位置調整ユニット140を構成する
第1および第2つまみ148、152が選択的に操作さ
れ、第1および第2傾斜部材150、154を介して反
射鏡142の位置調整が行われる。そして、反射鏡14
2で反射された反射光Laが、第1および第2ピンホー
ル板74、76を透過して測定部位130に照射される
位置で、前記反射鏡142の位置合わせが高精度かつ確
実になされることになる。
Next, the first and second knobs 148 and 152 constituting the position adjusting unit 140 are selectively operated, and the position of the reflecting mirror 142 is adjusted via the first and second inclined members 150 and 154. Will be And the reflecting mirror 14
At a position where the reflected light La reflected by 2 is transmitted through the first and second pinhole plates 74 and 76 to the measurement site 130, the positioning of the reflecting mirror 142 is performed with high accuracy and reliability. Will be.

【0041】特に、第1の実施形態では、基準光ユニッ
ト10から導出される基準レーザ光Lの光芯が機械的軸
芯に一致するように高精度に調整されるとともに、光軸
S2上で所定の間隔だけ離間して配置される第1および
第2ピンホール板74、76を備えている。これによ
り、反射鏡142の光軸合わせが、簡単な構成で高精度
かつ効率的に遂行されるという効果が得られる。
In particular, in the first embodiment, the optical axis of the reference laser beam L derived from the reference optical unit 10 is adjusted with high precision so as to coincide with the mechanical axis, and is adjusted on the optical axis S2. First and second pinhole plates 74 and 76 are provided at predetermined intervals. Thus, an effect is obtained that the optical axis alignment of the reflecting mirror 142 can be performed with high accuracy and efficiency with a simple configuration.

【0042】なお、第1の実施形態では、反射光Laの
光軸上に測定部位130を配置してこの測定部位130
に照射される前記反射光Laを目視により検出している
が、この目視による検査作業を一層容易かつ正確に行う
ために、反射鏡とレチクルとを組み込んだ測定構造を採
用することができる。
In the first embodiment, the measuring part 130 is arranged on the optical axis of the reflected light La,
Although the reflected light La irradiated to the light source is visually detected, a measuring structure incorporating a reflecting mirror and a reticle can be adopted in order to more easily and accurately perform the visual inspection work.

【0043】次いで、基準光ユニット10と光軸検出ユ
ニット100とを用いて、反射鏡142の光芯位置を調
整する本発明の第2の実施形態に係る光軸検出方法につ
いて、以下に説明する。
Next, an optical axis detecting method according to a second embodiment of the present invention for adjusting the optical axis position of the reflecting mirror 142 using the reference optical unit 10 and the optical axis detecting unit 100 will be described below. .

【0044】図14に示すように、光軸S1上には、基
準光ユニット10と反射鏡142との間に位置して光軸
検出ユニット100が一旦配置される(二点鎖線参
照)。そこで、基準光ユニット10から基準レーザ光L
が導出されると、この基準レーザ光Lが光軸検出ユニッ
ト100を構成する光点測定面120に照射される。こ
のため、図15に示すように、光軸位置検出センサ11
8に電気的に接続されているモニタ122には、基準レ
ーザ光Lの第1の光軸位置P1が表示される。
As shown in FIG. 14, an optical axis detecting unit 100 is temporarily disposed on the optical axis S1 between the reference optical unit 10 and the reflecting mirror 142 (see a two-dot chain line). Therefore, the reference laser beam L
Is derived, the reference laser beam L is applied to the light spot measurement surface 120 constituting the optical axis detection unit 100. For this reason, as shown in FIG.
The first optical axis position P1 of the reference laser beam L is displayed on the monitor 122 electrically connected to the monitor 8.

【0045】次に、光軸検出ユニット100が光軸S1
上から離脱されるとともに、この光軸検出ユニット10
0、あるいは、別の光軸検出ユニット100が反射鏡1
42による反射光Laの光軸S2上に配置される。この
状態で、基準光ユニット10から基準レーザ光Lが照射
されると、この基準レーザ光Lが反射鏡142で反射
し、その反射光Laが光軸S2上に配置されている光軸
検出ユニット100に導入される。この光軸検出ユニッ
ト100では、光点測定面120に反射光Laが導入さ
れることにより、モニタ122上に第2の光軸位置P2
が表示される(図15参照)。
Next, the optical axis detection unit 100 is connected to the optical axis S1.
The optical axis detection unit 10
0 or another optical axis detection unit 100
42 is disposed on the optical axis S2 of the reflected light La. In this state, when the reference laser light L is emitted from the reference light unit 10, the reference laser light L is reflected by the reflecting mirror 142, and the reflected light La is reflected on the optical axis S2 by the optical axis detection unit. 100 is introduced. In this optical axis detection unit 100, the reflected light La is introduced into the light spot measurement surface 120, so that the second optical axis position P 2
Is displayed (see FIG. 15).

【0046】そして、光軸S1上で予め検出された第1
の光軸位置P1と、反射鏡142からの反射光Laの第
2の光軸位置P2とが一致するように、前記反射鏡14
2の位置調整が行われる。これにより、第2の実施形態
では、基準光ユニット10と光軸検出ユニット100と
を用いるだけでよく、簡単な構成および工程で、反射鏡
142の光軸位置P1、P2を光軸S1、S2に対して
高精度かつ容易に一致させることが可能になるという利
点がある。
Then, the first detected on the optical axis S1
And the second optical axis position P2 of the reflected light La from the reflecting mirror 142.
2 is performed. Thus, in the second embodiment, it is only necessary to use the reference light unit 10 and the optical axis detection unit 100, and the optical axis positions P1, P2 of the reflecting mirror 142 can be changed with the optical axes S1, S2 by a simple configuration and process. There is an advantage that it is possible to match with high accuracy and easily.

【0047】次いで、基準光ユニット10、光軸ユニッ
ト70および光軸検出ユニット100を用いて行われる
本発明の第3の実施形態に係る光軸検出方法について、
図16を参照して説明する。この第3の実施形態では、
反射鏡142として放物面鏡や楕円面鏡等の非平面反射
鏡の位置調整作業にも有効に用いられる。
Next, an optical axis detecting method according to a third embodiment of the present invention performed using the reference light unit 10, the optical axis unit 70 and the optical axis detecting unit 100 will be described.
This will be described with reference to FIG. In this third embodiment,
The reflecting mirror 142 is also effectively used for adjusting the position of a non-planar reflecting mirror such as a parabolic mirror or an elliptical mirror.

【0048】反射鏡142からの反射光Laの光軸S2
上に光軸ユニット70が配置されるとともに、この光軸
ユニット70の出口側に光軸検出ユニット100が配置
される。この第3の実施形態では、基準光ユニット10
から導出される基準レーザ光Lが反射鏡142で反射
し、その反射光Laが光軸ユニット70を構成する第1
および第2ピンホール板74、76を透過して光軸検出
ユニット100の光点測定面120に照射されるよう
に、前記反射鏡142の位置および角度調整が行われ
る。
The optical axis S2 of the reflected light La from the reflecting mirror 142
The optical axis unit 70 is disposed on the upper side, and the optical axis detection unit 100 is disposed on the exit side of the optical axis unit 70. In the third embodiment, the reference light unit 10
Is reflected by the reflecting mirror 142, and the reflected light La is the first laser light L constituting the optical axis unit 70.
The position and angle of the reflecting mirror 142 are adjusted so that the light passes through the second pinhole plates 74 and 76 and irradiates the light spot measurement surface 120 of the optical axis detection unit 100.

【0049】図17は、基準光ユニット10と光軸検出
ユニット100とを用いて反射鏡142の調整を行う第
4の実施形態に係る光軸検出方法の説明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram of an optical axis detecting method according to the fourth embodiment in which the reflecting mirror 142 is adjusted using the reference light unit 10 and the optical axis detecting unit 100.

【0050】この第4の実施形態では、まず、光軸検出
ユニット100が光軸S2上で反射鏡142に近接する
第1の位置(図17中、二点鎖線参照)に配置され、基
準光ユニット10が駆動されて基準レーザ光Lが照射さ
れる。この基準レーザ光Lは、反射鏡142で反射さ
れ、その反射光Laが第1の位置に配置されている光軸
検出ユニット100の光点測定面120に照射される。
このため、反射光Laの第1の光軸位置が検出される。
In the fourth embodiment, first, the optical axis detecting unit 100 is arranged at a first position (see a two-dot chain line in FIG. 17) close to the reflecting mirror 142 on the optical axis S2, The unit 10 is driven to emit the reference laser light L. The reference laser light L is reflected by the reflecting mirror 142, and the reflected light La is applied to the light spot measurement surface 120 of the optical axis detection unit 100 disposed at the first position.
Therefore, the first optical axis position of the reflected light La is detected.

【0051】次いで、光軸検出ユニット100が光軸S
2上で反射鏡142から離間する第2の位置に配置され
る(図17中、実線参照)。この状態で、基準光ユニッ
ト10から導出される基準レーザ光Lが反射鏡142で
反射され、その反射光Laが光軸検出ユニット100を
構成する光点測定面120に照射され、前記反射光La
の第2の光軸位置P2が検出される。そして、予め得ら
れている第1の位置での反射光Laの第1の光軸位置P
1と、第2の位置での前記反射光Laの第2の光軸位置
P2とが一致するように、反射鏡142の位置が調整さ
れる。
Next, the optical axis detection unit 100 sets the optical axis S
2 is disposed at a second position apart from the reflecting mirror 142 (see the solid line in FIG. 17). In this state, the reference laser light L derived from the reference light unit 10 is reflected by the reflecting mirror 142, and the reflected light La is applied to the light spot measuring surface 120 constituting the optical axis detection unit 100, and the reflected light La
Is detected as the second optical axis position P2. Then, the first optical axis position P of the reflected light La at the first position obtained in advance.
The position of the reflecting mirror 142 is adjusted so that 1 and the second optical axis position P2 of the reflected light La at the second position match.

【0052】上記のように、第1乃至第4の実施形態で
は、光軸が設定された基準レーザ光Lを導出する基準光
ユニット10を用意し、光軸ユニット70と光軸検出ユ
ニット100とを選択的に、あるいは組み合わせて用い
ることにより、反射鏡142を含む種々の光学部品の光
軸調整が、高精度かつ効率的に遂行される。これによ
り、構成が簡素化するとともに、極めて汎用性に優れる
という効果が得られる他、各種光学部品のアライメント
調整が精度よく遂行され、高品質なレーザ加工作業やレ
ーザ測定作業等が遂行されるという利点が得られる。
As described above, in the first to fourth embodiments, the reference optical unit 10 for deriving the reference laser beam L having the optical axis set is prepared, and the optical axis unit 70 and the optical axis detection unit 100 are provided. By selectively or in combination, the optical axis adjustment of various optical components including the reflecting mirror 142 can be performed with high accuracy and efficiency. This simplifies the configuration, achieves the advantage of being extremely versatile, and achieves high-precision alignment adjustment of various optical components, and performs high-quality laser processing and laser measurement. Benefits are obtained.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明に係る光学部品の光軸検出方法お
よび装置では、光軸が設定された基準レーザ光を光学部
品に照射し、前記光学部品からの反射光を光軸ユニット
および/または光軸検出ユニットに照射することによ
り、各種光学部品の光軸調整作業が高精度に遂行可能に
なる。
According to the method and apparatus for detecting the optical axis of an optical component according to the present invention, a reference laser beam having an optical axis set is applied to the optical component, and the light reflected from the optical component is reflected by the optical axis unit and / or By irradiating the optical axis detection unit, the optical axis adjustment work of various optical components can be performed with high accuracy.

【0054】しかも、光学部品の反射光軸を高精度に検
出することができ、簡単な工程および構造で、各種光学
部品の光軸検出および調整作業が高精度かつ効率的に遂
行される。
Moreover, the reflected optical axis of the optical component can be detected with high accuracy, and the optical axis detection and adjustment work of various optical components can be performed with high accuracy and efficiency with a simple process and structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態に係る光軸検出装置を構成す
る基準光ユニットの斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a reference light unit included in an optical axis detection device according to an embodiment of the present invention.

【図2】前記基準光ユニットの側面図である。FIG. 2 is a side view of the reference light unit.

【図3】前記光軸検出装置を構成する光軸ユニットの斜
視説明図である。
FIG. 3 is an explanatory perspective view of an optical axis unit constituting the optical axis detecting device.

【図4】前記光軸ユニットの側面説明図である。FIG. 4 is an explanatory side view of the optical axis unit.

【図5】ピンホール板が装着された光軸ユニットの斜視
図である。
FIG. 5 is a perspective view of an optical axis unit on which a pinhole plate is mounted.

【図6】前記光軸検出装置を構成する光軸検出ユニット
の斜視説明図である。
FIG. 6 is an explanatory perspective view of an optical axis detection unit constituting the optical axis detection device.

【図7】前記光軸検出ユニットの側面説明図である。FIG. 7 is an explanatory side view of the optical axis detection unit.

【図8】前記光軸検出ユニットを構成するモニタの表示
画面の説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of a display screen of a monitor constituting the optical axis detection unit.

【図9】前記光軸検出ユニットの調整作業を説明する平
面図である。
FIG. 9 is a plan view illustrating an adjustment operation of the optical axis detection unit.

【図10】前記光軸ユニットの調整を行う際の側面説明
図である。
FIG. 10 is an explanatory side view when the optical axis unit is adjusted.

【図11】位置調整ユニットの斜視説明図である。FIG. 11 is an explanatory perspective view of a position adjustment unit.

【図12】前記位置調整ユニットの側面図である。FIG. 12 is a side view of the position adjustment unit.

【図13】本発明の第1の実施形態に係る光軸検出方法
の説明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram of an optical axis detection method according to the first embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第2の実施形態に係る光軸検出方法
の説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram of an optical axis detection method according to a second embodiment of the present invention.

【図15】図14に示す検出方法を説明するモニタの表
示画面の正面図である。
15 is a front view of a display screen of a monitor for explaining the detection method shown in FIG.

【図16】本発明の第3の実施形態に係る光軸検出方法
の説明図である。
FIG. 16 is an explanatory diagram of an optical axis detection method according to a third embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第4の実施形態に係る光軸検出方法
の説明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram of an optical axis detection method according to a fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】 10…基準光ユニット 12…レーザ発振
器 14…レーザ光ユニット 16…支持筒 18…回転機構 20…光中心調整
機構 22…測定ベース 24…ユニットベ
ース 26…左右スライド機構 28…上下スライ
ド機構 50…回転筒体 56…調整ねじ 66…ビーム径拡大手段 70…光軸ユニッ
ト 72…ユニットベース 74、76、94a、94b…ピンホール板 80、90、96a、96b、98a、98b…細孔 82、92…細孔位置調整機構 100…光軸検出ユニット 102…ユニット
ベース 105…進退機構 118…光軸位置
検出センサ 120…光点測定面 122…モニタ 130…測定部位 140…位置調整
ユニット 142…反射鏡 L…基準レーザ光 La…反射光
[Description of Signs] 10 ... Reference light unit 12 ... Laser oscillator 14 ... Laser light unit 16 ... Support cylinder 18 ... Rotating mechanism 20 ... Optical center adjustment mechanism 22 ... Measurement base 24 ... Unit base 26 ... Left and right slide mechanism 28 ... Vertical slide Mechanism 50: Rotating cylinder 56: Adjusting screw 66: Beam diameter expanding means 70: Optical axis unit 72: Unit base 74, 76, 94a, 94b: Pinhole plate 80, 90, 96a, 96b, 98a, 98b: Micropore 82, 92: fine hole position adjusting mechanism 100: optical axis detecting unit 102: unit base 105: forward / backward mechanism 118: optical axis position detecting sensor 120: light spot measuring surface 122: monitor 130: measuring part 140: position adjusting unit 142: Reflecting mirror L: Reference laser beam La: Reflected light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA19 AA31 EE00 FF23 FF67 GG05 JJ03 JJ19 JJ26 LL04 LL09 LL21 LL30 PP03 PP05 QQ28 2H043 AD03 AD07 AD11 AD17 AD21 AD23 4E068 CA06 CB09 CD08 CD10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2F065 AA19 AA31 EE00 FF23 FF67 GG05 JJ03 JJ19 JJ26 LL04 LL09 LL21 LL30 PP03 PP05 QQ28 2H043 AD03 AD07 AD11 AD17 AD21 AD23 4E068 CA06 CB09 CD08 CD10

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸
検出方法であって、 光軸が設定された基準レーザ光を前記光学部品に照射
し、前記光学部品からの反射光を光軸ユニットに入射す
る工程と、 前記反射光が、前記光軸ユニットに互いに所定間隔離間
して配置される第1および第2ピンホール板に設けられ
たそれぞれの細孔を透過して測定部位で検出されるか否
かを判断する工程と、 前記反射光が前記測定部位で検出されない際に、前記光
学部品の位置および/または角度を調整する工程と、 を有することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
1. A method for detecting an optical axis of an optical component constituting a laser optical device, comprising: irradiating the optical component with a reference laser beam having an optical axis set, and reflecting light reflected from the optical component on an optical axis unit. Incident on the optical axis unit, and the reflected light is detected at the measurement site by passing through the respective pores provided in the first and second pinhole plates arranged at a predetermined distance from each other in the optical axis unit. An optical axis of the optical component, comprising: determining whether or not the reflected light is not detected at the measurement site; and adjusting the position and / or angle of the optical component. Detection method.
【請求項2】請求項1記載の光軸検出方法において、前
記測定位置に対応して配置された光軸検出ユニットに前
記反射光を照射し、該反射光の光軸位置を検出する工程
を有することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
2. The optical axis detecting method according to claim 1, further comprising the step of: irradiating the reflected light to an optical axis detecting unit arranged corresponding to the measurement position, and detecting an optical axis position of the reflected light. A method for detecting an optical axis of an optical component, comprising:
【請求項3】レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸
検出方法であって、 光軸が設定された基準レーザ光を導出する基準光ユニッ
トと、光学部品との間に光軸検出ユニットを配置し、前
記基準レーザ光を前記光軸検出ユニットに照射して前記
基準レーザ光の第1の光軸位置を検出する工程と、 前記光軸検出ユニットを光路上から離脱させた後、前記
基準レーザ光を前記光学部品に照射して前記光学部品か
らの反射光を該反射光の光路上に配置された光軸検出ユ
ニットに導入し、前記基準レーザ光の第2の光軸位置を
検出する工程と、 前記第1の光軸位置と前記第2の光軸位置とが一致する
ように、前記光学部品の位置調整を行う工程と、 を有することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
3. A method for detecting an optical axis of an optical component constituting a laser optical apparatus, comprising: a reference optical unit for deriving a reference laser beam having an optical axis set; and an optical axis detecting unit between the optical component. Arranging, irradiating the optical axis detection unit with the reference laser light to detect a first optical axis position of the reference laser light, and after detaching the optical axis detection unit from an optical path, the reference The optical component is irradiated with a laser beam, and the reflected light from the optical component is introduced into an optical axis detection unit disposed on the optical path of the reflected light, and a second optical axis position of the reference laser beam is detected. And a step of adjusting the position of the optical component so that the first optical axis position and the second optical axis position coincide with each other. .
【請求項4】レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸
検出方法であって、 光軸が設定された基準レーザ光を前記光学部品に照射し
て前記光学部品からの反射光を光軸検出ユニットに導入
し、前記基準レーザ光の第1の光軸位置を検出する工程
と、 前記光軸検出ユニットを前記基準レーザ光の光軸方向に
移動させた後、該基準レーザ光を前記光学部品に照射し
て前記光学部品からの反射光を前記光軸検出ユニットに
導入し、前記基準レーザ光の第2の光軸位置を検出する
工程と、 前記第1の光軸位置と前記第2の光軸位置とが一致する
ように、前記光学部品の位置調整を行う工程と、 を有することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
4. A method for detecting an optical axis of an optical component constituting a laser optical apparatus, comprising: irradiating a reference laser beam having an optical axis set to the optical component to detect reflected light from the optical component; Detecting the first optical axis position of the reference laser light, and moving the optical axis detection unit in the optical axis direction of the reference laser light. Irradiating the first optical axis position with the second optical axis position of the reference laser beam by introducing the reflected light from the optical component into the optical axis detection unit, and detecting the second optical axis position of the reference laser light. Adjusting the position of the optical component so that the optical axis position coincides with the optical axis position.
【請求項5】請求項3または4記載の光軸検出方法にお
いて、前記光軸検出ユニットの光軸測定面を前記基準レ
ーザ光の光軸に交差する軸回りに回転させ、前記光軸測
定面に照射される前記基準レーザ光の光軸位置が変動し
ない位置に該光軸検出ユニットを位置決めする工程を有
することを特徴とする光学部品の光軸検出方法。
5. The optical axis measuring surface according to claim 3, wherein the optical axis measuring surface of the optical axis detecting unit is rotated around an axis intersecting the optical axis of the reference laser beam. A step of positioning the optical axis detection unit at a position where the optical axis position of the reference laser light applied to the optical disk does not fluctuate.
【請求項6】レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸
検出装置であって、 光軸が設定された基準レーザ光を導出する基準光ユニッ
トと、 前記基準レーザ光を介して前記光学部品の光軸を検出す
るための光軸ユニットを備え、 前記光軸ユニットは、それぞれ細孔が形成されるととも
に、互いに所定間隔離間して配置される第1および第2
ピンホール板と、 前記第1および第2ピンホール板を前記光軸に交差する
方向に位置調整する細孔位置調整機構と、 を備えることを特徴とする光学部品の光軸検出装置。
6. An optical axis detecting device for an optical component constituting a laser optical apparatus, comprising: a reference light unit for deriving a reference laser beam having an optical axis set; An optical axis unit for detecting an optical axis, wherein each of the optical axis units has first and second apertures formed therein and spaced apart from each other by a predetermined distance;
An optical axis detecting device for an optical component, comprising: a pinhole plate; and a fine hole position adjusting mechanism for adjusting the positions of the first and second pinhole plates in a direction intersecting the optical axis.
【請求項7】請求項6記載の光軸検出装置において、前
記第1および第2ピンホール板を透過した前記基準レー
ザ光の光軸位置を検出するための光軸検出ユニットを備
えることを特徴とする光学部品の光軸検出装置。
7. An optical axis detecting device according to claim 6, further comprising an optical axis detecting unit for detecting an optical axis position of said reference laser beam transmitted through said first and second pinhole plates. Optical axis detection device for optical parts.
【請求項8】レーザ光学機器を構成する光学部品の光軸
検出装置であって、 光軸が設定された基準レーザ光を導出する基準光ユニッ
トと、 前記基準レーザ光を介して前記光学部品の光軸位置を検
出するための光軸検出ユニットと、 を備えることを特徴とする光学部品の光軸検出装置。
8. An optical axis detection device for an optical component constituting a laser optical device, comprising: a reference light unit for deriving a reference laser beam having an optical axis set; An optical axis detection device for an optical component, comprising: an optical axis detection unit for detecting an optical axis position.
【請求項9】請求項8記載の光軸検出装置において、前
記光軸検出ユニットの光軸測定面を前記基準レーザ光の
光軸に交差する軸回りに回転させる回転機構を備えるこ
とを特徴とする光学部品の光軸検出装置。
9. The optical axis detection device according to claim 8, further comprising a rotation mechanism for rotating an optical axis measurement surface of the optical axis detection unit around an axis intersecting an optical axis of the reference laser beam. Axis detection device for optical components.
【請求項10】請求項8または9記載の光軸検出装置に
おいて、前記光軸検出ユニットを前記基準レーザ光の光
軸方向に進退させる進退機構を備えることを特徴とする
光学部品の光軸検出装置。
10. The optical axis detecting device according to claim 8, further comprising an advance / retreat mechanism for causing the optical axis detection unit to advance / retreat in the optical axis direction of the reference laser beam. apparatus.
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