JP3507431B2 - Non-planar mirror adjustment method and apparatus - Google Patents

Non-planar mirror adjustment method and apparatus

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JP3507431B2
JP3507431B2 JP2000361804A JP2000361804A JP3507431B2 JP 3507431 B2 JP3507431 B2 JP 3507431B2 JP 2000361804 A JP2000361804 A JP 2000361804A JP 2000361804 A JP2000361804 A JP 2000361804A JP 3507431 B2 JP3507431 B2 JP 3507431B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光学機器を
構成する非平面鏡の調整方法および装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for adjusting a non-planar mirror that constitutes a laser optical device.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、レーザ光を利用したレーザ光学機
器として、例えば、レーザ加工装置やレーザ測定装置等
が採用されている。この種のレーザ光学機器では、レー
ザ光を所定の照射位置に導くために、レンズ系や反射鏡
等の多種類の光学部品が組み込まれている。さらに、反
射鏡は、平面鏡、放物面鏡および楕円面鏡等の種々の形
態を有している。
2. Description of the Related Art Normally, as a laser optical device utilizing a laser beam, for example, a laser processing device or a laser measuring device is adopted. In this type of laser optical device, various kinds of optical components such as a lens system and a reflecting mirror are incorporated in order to guide the laser light to a predetermined irradiation position. Further, the reflecting mirror has various forms such as a plane mirror, a parabolic mirror and an ellipsoidal mirror.

【0003】従って、レーザ光学機器を組み立てる際に
は、各種光学部品、特に、非平面鏡のレイアウト調整や
焦点測定等のアライメント調整を精度よく行うことが望
まれている。高品質なレーザ加工作業や高精度なレーザ
測定作業を確実に実施するためである。
Therefore, when assembling a laser optical device, it is desired to accurately perform alignment adjustment such as layout adjustment and focus measurement of various optical parts, especially non-planar mirrors. This is to ensure that high-quality laser processing work and high-precision laser measurement work are performed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】一般的に、上記のアラ
イメント調整作業を行う際には、通常、He−Neレー
ザが用いられており、これから照射されるレーザ光が光
学部品のレイアウト調整や焦点測定の基準光として利用
されている。しかしながら、この種のレーザ光には中心
(光芯)が存在しないため、前記レーザ光の絶対位置が
容易に得られないという問題がある。
Generally, when performing the above-mentioned alignment adjustment work, a He-Ne laser is generally used, and the laser light emitted from this is used for the layout adjustment and focus of optical parts. It is used as a reference light for measurement. However, since this type of laser light has no center (optical core), there is a problem that the absolute position of the laser light cannot be easily obtained.

【0005】一方、光学部品を精度よくアライメント調
整するためには、機械軸に一致した唯一の正確な反射光
軸を検出する必要がある。しかしながら、このような反
射光軸を正確に検出することは相当に困難であり、光学
部品を高精度にアライメント調整することができないと
いう問題が指摘されている。
On the other hand, in order to perform the alignment adjustment of the optical parts with high precision, it is necessary to detect the only accurate reflected light axis that coincides with the mechanical axis. However, it has been pointed out that it is extremely difficult to accurately detect such a reflected optical axis, and the alignment of the optical component cannot be adjusted with high accuracy.

【0006】特に、放物面鏡や楕円面鏡等の焦点光学系
の焦点位置測定作業は、実際に前記焦点光学系からの反
射光を壁等に照射し、その集光状態を直接観測すること
により行われている。これにより、焦点光学系の焦点位
置を正確かつ効率的に検出することができないという問
題が指摘されている。
Particularly, in the work of measuring the focus position of a focus optical system such as a parabolic mirror or an ellipsoidal mirror, the reflected light from the focus optical system is actually applied to a wall or the like and the condensed state thereof is directly observed. It is done by. Due to this, it has been pointed out that the focus position of the focus optical system cannot be detected accurately and efficiently.

【0007】本発明はこの種の問題を解決するものであ
り、簡単な工程および構成で、非平面鏡のアライメント
調整を効率的かつ精度よく行うことが可能な非平面鏡の
調整方法および装置を提供することを目的とする。
The present invention solves this kind of problem, and provides a non-planar mirror adjusting method and device capable of performing alignment adjustment of a non-planar mirror efficiently and accurately with a simple process and configuration. The purpose is to

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明に係る非平面鏡の
調整方法および装置では、まず、レーザ発振器が組み込
まれたレーザ光ユニットが、光軸回りに回転されてこの
レーザ発振器から導出される基準レーザ光の光軸が、前
記レーザ光ユニットを組み込む基準ユニットの回転中心
と一致し、この回転中心が光芯(光軸)および機械軸芯
に一致する。さらに、基準レーザ光の光軸位置が調整さ
れることにより、所望の基準光としての基準レーザ光を
高精度かつ確実に得ることが可能になる。
In a method and apparatus for adjusting a non-planar mirror according to the present invention, first, a laser light unit in which a laser oscillator is incorporated is rotated around an optical axis and is a reference derived from the laser oscillator. The optical axis of the laser light coincides with the rotation center of the reference unit incorporating the laser light unit, and this rotation center coincides with the optical core (optical axis) and the mechanical axis. Furthermore, by adjusting the optical axis position of the reference laser light, it becomes possible to obtain the reference laser light as the desired reference light with high accuracy and reliability.

【0009】次いで、光軸が設定された基準レーザ光を
非平面鏡に照射し、この非平面鏡からの反射光を測定す
ることにより、前記非平面鏡の光軸および焦点が検出さ
れる。そして、この測定結果に基づいて、非平面鏡の位
置および/または角度が調整されるため、前記非平面鏡
の調整作業が、簡単な工程および構成で、高精度かつ効
率的に遂行される。
Next, the reference laser beam having the optical axis set is applied to the non-planar mirror, and the reflected light from the non-planar mirror is measured to detect the optical axis and focus of the non-planar mirror. Then, since the position and / or the angle of the non-planar mirror is adjusted based on the measurement result, the work of adjusting the non-planar mirror can be performed with high accuracy and efficiency by a simple process and configuration.

【0010】また、基準レーザ光または反射光が、互い
に所定間隔離間して配置される第1および第2ピンホー
ル板のそれぞれの細孔に照射される。その際、レーザ光
ユニットまたは非平面鏡が所定の角度でかつ所定の位置
に配置されている場合にのみ、基準レーザ光または反射
光が第1および第2ピンホール板のそれぞれの細孔を透
過して測定部位で検出される。このため、レーザ光ユニ
ットまたは非平面鏡(放物面鏡や楕円面鏡等)を高精度
に位置合わせすることが可能になる。
Further, the reference laser light or the reflected light is applied to the respective pores of the first and second pinhole plates which are arranged at a predetermined distance from each other. At that time, only when the laser light unit or the non-planar mirror is arranged at a predetermined angle and at a predetermined position, the reference laser light or the reflected light is transmitted through the respective pores of the first and second pinhole plates. Is detected at the measurement site. Therefore, the laser light unit or the non-planar mirror (such as a parabolic mirror or an ellipsoidal mirror) can be aligned with high accuracy.

【0011】さらにまた、基準レーザ光または反射光
が、光軸検出ユニットに照射されることにより、前記基
準レーザ光または前記反射光の光軸位置が検出される。
この基準レーザ光は、上記のように、高精度に調整され
ており、基準レーザ光または反射光の光軸位置が高精度
かつ効率的に検出され、非平面鏡の調整作業の効率化が
容易に遂行される。
Furthermore, the optical axis position of the reference laser light or the reflected light is detected by irradiating the optical axis detection unit with the reference laser light or the reflected light.
As described above, the reference laser light is adjusted with high accuracy, the optical axis position of the reference laser light or the reflected light is detected with high accuracy and efficiency, and the efficiency of the adjustment work of the non-planar mirror is facilitated. Carried out.

【0012】また、基準レーザ光が照射された非平面鏡
からの反射光は、光軸検出ユニットに入射する一方、前
記光軸検出ユニットが前記基準レーザ光の光軸方向に移
動される。そして、光軸検出ユニットで検出される反射
光の光軸(光点)の移動が最も少ない位置を、非平面鏡
の焦点位置として設定することにより、前記焦点位置
が、簡単な工程および構成で、高精度かつ効率的に検出
される。
The reflected light from the non-planar mirror irradiated with the reference laser light is incident on the optical axis detection unit, while the optical axis detection unit is moved in the optical axis direction of the reference laser light. Then, by setting the position where the movement of the optical axis (light spot) of the reflected light detected by the optical axis detection unit is the smallest as the focus position of the non-planar mirror, the focus position is a simple process and configuration. Highly accurate and efficient detection.

【0013】その際、光軸検出ユニットの光軸(光点)
測定面を基準レーザ光の光軸に交差する軸回りに回転さ
せる。ここで、光軸測定面と回転軸とが一致しないと、
検出される光軸が光軸検出ユニットの回転によって移動
する。このため、基準レーザ光の光軸位置が変動しない
ように、光軸測定面を光軸方向に位置調整させることに
より、前記基準レーザ光の光軸測定面位置が検出される
ことになる。
At this time, the optical axis (light spot) of the optical axis detection unit
The measurement surface is rotated around an axis that intersects the optical axis of the reference laser light. Here, if the optical axis measurement surface and the rotation axis do not match,
The detected optical axis moves by the rotation of the optical axis detection unit. Therefore, by adjusting the position of the optical axis measurement surface in the optical axis direction so that the optical axis position of the reference laser light does not change, the optical axis measurement surface position of the reference laser light is detected.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施形態に係る
非平面鏡の調整装置を構成する基準光ユニット10の斜
視図であり、図2は、前記基準光ユニット10の側面図
であり、図3は、前記基準光ユニット10の平面図であ
る。
1 is a perspective view of a reference light unit 10 which constitutes an adjusting apparatus for a non-planar mirror according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the reference light unit 10. 3 is a plan view of the reference light unit 10. As shown in FIG.

【0015】基準光ユニット10は、種々の光学部品の
測定等に使用される基準レーザ光Lを照射する機能を有
しており、He−Neレーザ等のレーザ発振器12が組
み込まれるレーザ光ユニット14と、前記レーザ光ユニ
ット14を支持筒16に対して光軸回りに回転させる回
転機構18と、前記レーザ光ユニット14から導出され
る前記基準レーザ光Lの光軸を前記基準光ユニット10
の回転中心に一致させるための光中心調整機構20とを
備える。
The reference light unit 10 has a function of irradiating the reference laser light L used for measurement of various optical parts and the like, and a laser light unit 14 in which a laser oscillator 12 such as a He-Ne laser is incorporated. A rotation mechanism 18 for rotating the laser light unit 14 around the optical axis with respect to the support cylinder 16; and an optical axis of the reference laser light L derived from the laser light unit 14 with respect to the reference light unit 10.
And a light center adjusting mechanism 20 for matching the rotation center of

【0016】基準光ユニット10は、測定ベース22上
に固定されるユニットベース24を備え、このユニット
ベース24に左右スライド機構26および上下スライド
機構28を介して支持筒16が装着される。左右スライ
ド機構26は、ユニットベース24上に光軸方向(矢印
A方向)に直交する矢印B方向に延在して設けられるガ
イドレール30を有するとともに、このガイドレール3
0に矢印B方向に進退自在なスライドベース32が配置
される。ユニットベース24上に水平方向に向かって第
1マイクロメータ34が固定され、この第1マイクロメ
ータ34のロッド36がスライドベース32に固定され
る。
The reference light unit 10 includes a unit base 24 fixed on a measurement base 22, and a support barrel 16 is mounted on the unit base 24 via a left / right slide mechanism 26 and a vertical slide mechanism 28. The left and right slide mechanism 26 has a guide rail 30 provided on the unit base 24 so as to extend in the arrow B direction orthogonal to the optical axis direction (arrow A direction).
A slide base 32 that can move back and forth in the direction of arrow B is arranged at 0. The first micrometer 34 is fixed on the unit base 24 in the horizontal direction, and the rod 36 of the first micrometer 34 is fixed to the slide base 32.

【0017】スライドベース32上にコラム38が設け
られ、このコラム38の内面側には、上下スライド機構
28を構成する一対のガイドレール40が鉛直方向に向
かって固定される。支持筒16の両側部には、ガイドレ
ール40に係合して昇降自在な一対のガイド部42が設
けられるとともに、コラム38の一端側上部には鉛直下
方向に向かって第2マイクロメータ44が装着される。
第2マイクロメータ44から下方に突出するロッド46
が支持筒16に固定される。
A column 38 is provided on the slide base 32, and a pair of guide rails 40 constituting the vertical slide mechanism 28 are fixed to the inner surface of the column 38 in the vertical direction. A pair of guide portions 42 that engage with the guide rails 40 and can move up and down are provided on both sides of the support cylinder 16, and a second micrometer 44 is provided vertically downward in the upper part of one end side of the column 38. It is installed.
Rod 46 protruding downward from the second micrometer 44
Are fixed to the support cylinder 16.

【0018】支持筒16内には、回転機構18を構成す
る一対のベアリング48を介して回転筒体50が回転自
在に支持されており、この回転筒体50内にレーザ発振
器12が収容される。レーザ発振器12の両端に保持部
材52が装着され、この保持部材52の小径部54が回
転筒体50内に挿入される。
A rotary cylinder 50 is rotatably supported in the support cylinder 16 via a pair of bearings 48 constituting the rotary mechanism 18, and the laser oscillator 12 is accommodated in the rotary cylinder 50. . The holding member 52 is attached to both ends of the laser oscillator 12, and the small diameter portion 54 of the holding member 52 is inserted into the rotary cylinder 50.

【0019】光中心調整機構20は、回転筒体50の両
端縁部に等角度間隔ずつ離間してねじ込まれるそれぞれ
3つの調整ねじ56を備え、前記調整ねじ56の先端が
保持部材52の小径部54に当接することにより、レー
ザ発振器12の光軸が傾動調整される。
The optical center adjusting mechanism 20 is provided with three adjusting screws 56, which are respectively screwed into the both ends of the rotary cylinder 50 at equal angular intervals, and the tip end of the adjusting screw 56 is a small diameter portion of the holding member 52. By touching 54, the optical axis of the laser oscillator 12 is tilted and adjusted.

【0020】図2および図3に示すように、基準光ユニ
ット10には、この基準光ユニット10を光軸方向(矢
印A方向)に交差する方向(矢印B方向)に傾動固定可
能な傾動機構58を備える。この傾動機構58は、測定
ベース22に設けられるノックピン60a、60bを備
え、前記ノックピン60aがユニットベース24の矢印
A方向先端側に形成された孔部62に嵌合する一方、前
記ノックピン60bは、前記ユニットベース24の矢印
A方向後端側に設けられた3つの孔部64a、64bお
よび64cに選択的に嵌合する。
As shown in FIGS. 2 and 3, the reference light unit 10 has a tilting mechanism capable of tilting and fixing the reference light unit 10 in a direction (arrow B direction) intersecting the optical axis direction (arrow A direction). 58 is provided. The tilting mechanism 58 includes knock pins 60a and 60b provided on the measurement base 22. The knock pin 60a fits into a hole 62 formed on the tip side of the unit base 24 in the direction of arrow A, while the knock pin 60b is The unit base 24 is selectively fitted into three holes 64a, 64b and 64c provided on the rear end side in the direction of arrow A.

【0021】図2に示すように、レーザ光ユニット14
の先端側には、基準レーザ光Lのビーム径を拡大させる
ためのビーム径拡大手段66が着脱自在に設けられる。
このビーム径拡大手段66は、例えば、直径0.8mm
程度の基準レーザ光Lを直径25mmの平行光(コリメ
ート光)に変換するものであり、多種類のピンホールア
センブリとフォーカシングレンズとを組み合わせたフィ
ルタユニット68と、ビームエキスパンダ用レンズセッ
トを含むレンズユニット69とを備えている。
As shown in FIG. 2, the laser light unit 14
A beam diameter enlarging means 66 for enlarging the beam diameter of the reference laser light L is detachably provided on the tip side of the.
The beam diameter expanding means 66 has, for example, a diameter of 0.8 mm.
A lens that includes a filter unit 68 that combines various types of pinhole assemblies and a focusing lens, and a lens set for a beam expander, which converts a standard reference laser beam L into a parallel beam (collimated beam) having a diameter of 25 mm. And a unit 69.

【0022】図4は、本実施形態に係る調整装置を構成
する光軸ユニット70の斜視図であり、図5は、前記光
軸ユニット70の側面図である。
FIG. 4 is a perspective view of an optical axis unit 70 which constitutes the adjusting device according to this embodiment, and FIG. 5 is a side view of the optical axis unit 70.

【0023】光軸ユニット70は、測定ベース22に固
定されるユニットベース72を備え、このユニットベー
ス72上に第1および第2ピンホール板74、76が所
定間隔離間して装着される。第1ピンホール板74は、
ユニットベース72上に固定された第1支持板78に支
持されており、この第1ピンホール板74の中央部に
は、所定の直径を有する第1細孔80が形成されてい
る。
The optical axis unit 70 includes a unit base 72 fixed to the measuring base 22, and the first and second pinhole plates 74 and 76 are mounted on the unit base 72 with a predetermined space therebetween. The first pinhole plate 74 is
The first pinhole plate 74 is supported by a first support plate 78 fixed on the unit base 72, and a first fine hole 80 having a predetermined diameter is formed in the central portion of the first pinhole plate 74.

【0024】第1ピンホール板74には、第1細孔80
を光軸(矢印A方向)に交差する左右方向(矢印B方
向)および上下方向(矢印C方向)に位置調整するため
の第1細孔位置調整機構82が設けられる。第1細孔位
置調整機構82は、水平方向に配置されて第1ピンホー
ル板74を左右方向に進退させるための第1調整ねじ8
4と、鉛直方向に配置されて前記第1ピンホール板74
を上下方向に位置調整するための第2調整ねじ86とを
備える。
The first pinhole plate 74 has a first fine hole 80.
A first pore position adjusting mechanism 82 for adjusting the position in the left-right direction (arrow B direction) and the up-down direction (arrow C direction) intersecting the optical axis (arrow A direction) is provided. The first fine hole position adjusting mechanism 82 is arranged in the horizontal direction, and the first adjusting screw 8 for moving the first pinhole plate 74 forward and backward is provided.
4 and the first pinhole plate 74 arranged vertically.
And a second adjusting screw 86 for vertically adjusting the position.

【0025】第2ピンホール板76は、第1ピンホール
板74と同様に第2支持板88上に支持されるととも
に、この第2ピンホール板76の中央部には、所定の直
径を有する第2細孔90が形成されている。第2ピンホ
ール板76には、第2細孔位置調整機構92が設けられ
ている。この第2細孔位置調整機構92は前記第1細孔
位置調整機構82と同様に構成されており、同一の構成
要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省
略する。
The second pinhole plate 76 is supported on the second support plate 88 similarly to the first pinhole plate 74, and has a predetermined diameter in the center of the second pinhole plate 76. The second pores 90 are formed. The second pinhole plate 76 is provided with a second pore position adjusting mechanism 92. The second fine hole position adjusting mechanism 92 has the same structure as the first fine hole position adjusting mechanism 82, and the same components are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.

【0026】第1および第2ピンホール板74、76
は、基準レーザ光Lのように直径が0.8mm程度の、
所謂、ポイント光を調整するために用いられるものであ
り、例えば、直径が25mm程度のコリメート光である
コリメート基準レーザ光L0を調整するためには、図6
に示す第1および第2ピンホール板94a、94bが、
前記第1および第2ピンホール板74、76と交換して
使用される。この第1および第2ピンホール板94a、
94bは、中心に細孔96a、96bを設けるととも
に、この細孔96a、96bを中心にして所定の直径を
有する円周上にそれぞれ4つの細孔98a、98bを設
けている。
First and second pinhole plates 74, 76
Has a diameter of about 0.8 mm like the reference laser beam L,
This is used for adjusting so-called point light. For example, in order to adjust the collimated reference laser light L0 which is a collimated light having a diameter of about 25 mm, FIG.
The first and second pinhole plates 94a, 94b shown in
It is used by replacing the first and second pinhole plates 74 and 76. The first and second pinhole plates 94a,
94b is provided with pores 96a and 96b at the center, and four pores 98a and 98b are provided on the circumference having a predetermined diameter around the pores 96a and 96b, respectively.

【0027】図7は、本実施形態に係る調整装置を構成
する光軸検出ユニット100の斜視説明図であり、図8
は、前記光軸検出ユニット100の側面説明図である。
FIG. 7 is a perspective explanatory view of the optical axis detecting unit 100 which constitutes the adjusting device according to the present embodiment, and FIG.
FIG. 4 is a side view of the optical axis detection unit 100.

【0028】光軸検出ユニット100は、測定ベース2
2上に固定されるユニットベース102を備え、このユ
ニットベース102上には、第1スライドベース104
が進退機構105を介して光軸方向(矢印A方向)に進
退自在に配置される。第1スライドベース104の側方
には、進退機構105を構成しユニットベース102に
支持された第1スライドつまみ106の端部が固定され
ており、この第1スライドつまみ106を回転させるこ
とによって前記第1スライドベース104が矢印A方向
に進退可能である。
The optical axis detection unit 100 comprises a measurement base 2
2 includes a unit base 102 fixed onto the unit base 102, and a first slide base 104 is provided on the unit base 102.
Are arranged so as to be movable back and forth in the optical axis direction (arrow A direction) via the moving back and forth mechanism 105. An end of a first slide knob 106, which constitutes an advancing / retreating mechanism 105 and is supported by the unit base 102, is fixed to the side of the first slide base 104, and the first slide knob 106 is rotated to rotate the first slide knob 106. The first slide base 104 can move back and forth in the direction of arrow A.

【0029】第1スライドベース104上には、回転機
構108を構成する回転ベース110が設けられ、この
回転ベース110は、回転つまみ112を操作すること
によって基準レーザ光Lの光軸に交差するZ軸(鉛直
軸)回りに回転自在である。回転ベース110上には、
第2スライドベース114が矢印A方向に進退自在に配
置される。第2スライドベース114には、第2スライ
ドつまみ(測定位置調整機構)116の端部が連結さ
れ、この第2スライドつまみ116が回転されることに
よって矢印A方向に微小距離だけ進退自在である。
On the first slide base 104, a rotary base 110 which constitutes a rotary mechanism 108 is provided, and this rotary base 110 is operated by operating a rotary knob 112 so as to intersect with the optical axis of the reference laser beam L. It is rotatable around the axis (vertical axis). On the rotating base 110,
The second slide base 114 is arranged so that it can move back and forth in the direction of arrow A. An end portion of a second slide knob (measuring position adjusting mechanism) 116 is connected to the second slide base 114, and the second slide knob 116 is rotated so that the second slide knob 116 can advance and retreat in the direction of arrow A by a minute distance.

【0030】第2スライドベース114上に光軸位置検
出センサ118が装着され、この光軸位置検出センサ1
18には、モニタ122が接続されている(図9参
照)。モニタ122には、後述するように、光軸位置検
出センサ118の光軸(光点)測定面120に導入され
る基準レーザ光Lの位置が可視像として表示される。
An optical axis position detecting sensor 118 is mounted on the second slide base 114, and this optical axis position detecting sensor 1
A monitor 122 is connected to 18 (see FIG. 9). As will be described later, the monitor 122 displays the position of the reference laser light L introduced on the optical axis (light spot) measuring surface 120 of the optical axis position detection sensor 118 as a visible image.

【0031】次に、このように構成される調整装置の動
作について、本発明の実施形態に係る調整方法との関連
で以下に説明する。
Next, the operation of the adjusting device configured as described above will be described below in connection with the adjusting method according to the embodiment of the present invention.

【0032】まず、基準光ユニット10から導出される
基準レーザ光Lの光芯調整が行われる。図10に示すよ
うに、基準光ユニット10の光軸上には、この基準光ユ
ニット10に近接する第1測定位置に対応して光軸検出
ユニット100が配置される。そこで、基準光ユニット
10から基準レーザ光Lが導出されると、この基準レー
ザ光Lが光軸検出ユニット100を構成する光点測定面
120に照射される。このため、図9に示すように、光
軸位置検出センサ118に電気的に接続されているモニ
タ122には、基準レーザ光Lの第1の光軸位置P1が
表示される。
First, the optical center of the reference laser light L derived from the reference light unit 10 is adjusted. As shown in FIG. 10, an optical axis detection unit 100 is arranged on the optical axis of the reference light unit 10 corresponding to the first measurement position close to the reference light unit 10. Therefore, when the reference laser light L is derived from the reference light unit 10, the reference laser light L is applied to the light spot measurement surface 120 forming the optical axis detection unit 100. Therefore, as shown in FIG. 9, the monitor 122 electrically connected to the optical axis position detection sensor 118 displays the first optical axis position P1 of the reference laser light L.

【0033】この状態で、レーザ光ユニット14が回転
機構18を構成するベアリング48を介して支持筒16
に対し回転される。レーザ光ユニット14が光軸回りに
回転する際にモニタ122に表示される第1の光軸位置
P1が移動すると、左右スライド機構26、上下スライ
ド機構28および光中心調整機構20が選択的に操作さ
れる。
In this state, the laser beam unit 14 is mounted on the support cylinder 16 via the bearing 48 constituting the rotating mechanism 18.
Is rotated against. When the first optical axis position P1 displayed on the monitor 122 moves when the laser light unit 14 rotates around the optical axis, the left / right slide mechanism 26, the vertical slide mechanism 28, and the optical center adjustment mechanism 20 are selectively operated. To be done.

【0034】具体的には、図1に示すように、左右スラ
イド機構26を構成する第1マイクロメータ34が回転
され、ロッド36が矢印B方向に進退することにより、
このロッド36に固定されているスライドベース32が
ガイドレール30に沿って矢印B方向に進退する。一
方、上下スライド機構28を構成する第2マイクロメー
タ44が回転されると、ロッド46を介して支持筒16
が上下方向(矢印C方向)に移動する。さらに、光中心
調整機構20を構成する調整ねじ56が調整されること
により、保持部材52を介してレーザ光ユニット14が
回転筒体50に対して傾動する(図2参照)。
Specifically, as shown in FIG. 1, the first micrometer 34 constituting the left and right slide mechanism 26 is rotated, and the rod 36 moves back and forth in the direction of arrow B,
The slide base 32 fixed to the rod 36 advances and retreats in the direction of arrow B along the guide rail 30. On the other hand, when the second micrometer 44, which constitutes the vertical slide mechanism 28, is rotated, the support cylinder 16 is moved through the rod 46.
Moves up and down (direction of arrow C). Further, by adjusting the adjusting screw 56 constituting the optical center adjusting mechanism 20, the laser light unit 14 is tilted with respect to the rotary cylinder 50 via the holding member 52 (see FIG. 2).

【0035】このように、左右スライド機構26、上下
スライド機構28および光中心調整機構20が調整され
ることにより、レーザ光ユニット14が光軸回りに回転
する際にモニタ122に表示される第1の光軸位置P1
が、X軸およびY軸に対して動かなくなるようにする。
これにより、基準光ユニット10の回転中心が、基準レ
ーザ光Lの光軸と一致することになる。
By adjusting the left and right slide mechanism 26, the up and down slide mechanism 28, and the optical center adjusting mechanism 20 in this manner, the first image displayed on the monitor 122 when the laser light unit 14 rotates around the optical axis is displayed. Optical axis position P1
Will be stuck with respect to the X and Y axes.
As a result, the center of rotation of the reference light unit 10 coincides with the optical axis of the reference laser light L.

【0036】次に、光軸検出ユニット100が、基準レ
ーザ光Lの光軸に沿って第1測定位置から距離H1だけ
後方に離間する第2測定位置に配置される(図10中、
二点鎖線参照)。この状態で、基準光ユニット10から
基準レーザ光Lが照射されると、この基準レーザ光Lが
光軸検出ユニット100に導入される。この光軸検出ユ
ニット100では、光点測定面120に基準レーザ光L
が導入されることにより、モニタ122上に第2の光軸
位置P2が表示される(図9参照)。
Next, the optical axis detecting unit 100 is arranged at the second measuring position which is separated from the first measuring position by the distance H1 rearward along the optical axis of the reference laser beam L (in FIG. 10,
See the chain double-dashed line). In this state, when the reference laser light L is emitted from the reference light unit 10, the reference laser light L is introduced into the optical axis detection unit 100. In this optical axis detection unit 100, the reference laser light L is applied to the light spot measurement surface 120.
Is introduced, the second optical axis position P2 is displayed on the monitor 122 (see FIG. 9).

【0037】そして、レーザ光ユニット14が回転さ
れ、モニタ122に表示される第2の光軸位置P2のず
れが、X軸およびY軸に対して動かなくなるように、光
中心調整機構20による調整が行われる。その際、第1
および第2の光軸位置P1、P2がX軸およびY軸に対
して動かなくなるように表示されていることを確認す
る。
Then, the laser light unit 14 is rotated and adjustment by the optical center adjusting mechanism 20 is performed so that the deviation of the second optical axis position P2 displayed on the monitor 122 does not move with respect to the X axis and the Y axis. Is done. At that time, the first
And confirm that the second optical axis positions P1 and P2 are displayed so as not to move with respect to the X axis and the Y axis.

【0038】次いで、光軸検出ユニット100が、再
度、第1測定位置に配置され、上記と同様に、レーザ光
ユニット14が光軸回りに回転する際に第1の光軸位置
P1が動かなくなるように調整されているかを確認す
る。この結果、ずれ量が大きければ、上記の手順を繰り
返すことにより、基準レーザ光Lの光軸が基準光ユニッ
ト10の回転中心に一致し、光軸調整作業が高精度に遂
行されることになる。
Then, the optical axis detection unit 100 is again placed at the first measurement position, and the first optical axis position P1 does not move when the laser light unit 14 rotates around the optical axis, similarly to the above. Check that it is adjusted as follows. As a result, if the amount of deviation is large, the optical axis of the reference laser beam L coincides with the rotation center of the reference optical unit 10 by repeating the above procedure, and the optical axis adjustment work can be performed with high accuracy. .

【0039】これにより、基準光ユニット10は、光軸
および光芯位置が高精度に設定された基準レーザ光Lを
照射することができ、この基準レーザ光Lを用いて後述
するような種々の非平面鏡の各種測定作業が高精度に遂
行されるという効果が得られる。
As a result, the reference light unit 10 can irradiate the reference laser light L whose optical axis and optical core position are set with high precision, and various kinds of reference laser light L will be described later. It is possible to obtain the effect that various measuring operations of the non-planar mirror can be performed with high accuracy.

【0040】次に、本発明の別の実施形態に係る調整方
法を以下に説明する。
Next, an adjusting method according to another embodiment of the present invention will be described below.

【0041】図11に示すように、基準光ユニット10
の光軸上には、機械や壁等の測定部位130が配置され
ており、上記の本実施形態と同様に、基準光ユニット1
0から基準レーザ光Lが導出されるとともに、レーザ光
ユニット14が支持筒16に対して回転される。そし
て、測定部位130に照射される基準レーザ光Lの光点
の移動が、X軸およびY軸に対して動かなくなるように
光中心調整機構20が調整される。なお、測定部位13
0に代替して、光軸検出ユニット100を用いてもよ
い。
As shown in FIG. 11, the reference light unit 10
A measurement site 130 such as a machine or a wall is arranged on the optical axis of the reference light unit 1 as in the present embodiment.
The reference laser light L is derived from 0, and the laser light unit 14 is rotated with respect to the support cylinder 16. Then, the optical center adjusting mechanism 20 is adjusted so that the movement of the light spot of the reference laser light L with which the measurement site 130 is irradiated does not move with respect to the X axis and the Y axis. The measurement site 13
Instead of 0, the optical axis detection unit 100 may be used.

【0042】そこで、図12に示すように、基準光ユニ
ット10の光軸上に、光軸ユニット70が配置される。
この基準光ユニット10から基準レーザ光Lが導出され
ると、この基準レーザ光Lは、光軸ユニット70の第1
および第2ピンホール板74、76に形成された第1お
よび第2細孔80、90を透過して光軸検出ユニット1
00を構成する光点測定面120に照射される。光軸ユ
ニット70では、第1および第2ピンホール板74、7
6が光軸に沿って所定の間隔で離間しており、基準レー
ザ光Lがその光軸に一致する場合にのみ、第1および第
2細孔80、90を透過して光点測定面120に照射さ
れる。
Therefore, as shown in FIG. 12, the optical axis unit 70 is arranged on the optical axis of the reference light unit 10.
When the reference laser light L is derived from the reference light unit 10, the reference laser light L is supplied to the first optical axis unit 70 of the first optical axis unit 70.
And the optical axis detection unit 1 through the first and second fine holes 80 and 90 formed in the second pinhole plates 74 and 76.
The light spot measuring surface 120 which constitutes 00 is irradiated. In the optical axis unit 70, the first and second pinhole plates 74, 7
6 are spaced at a predetermined distance along the optical axis, and only when the reference laser light L coincides with the optical axis, the light is transmitted through the first and second fine holes 80 and 90 and the light spot measurement surface 120. Is irradiated.

【0043】従って、基準レーザ光Lが光軸上からずれ
ている際には、第1ピンホール板74および/または第
2ピンホール板76により阻止されて、光点測定面12
0にはこの基準レーザ光Lが僅かに照射され、あるいは
全く照射されないことになる。そして、左右スライド機
構26および上下スライド機構28が操作され、光点測
定面120に照射される基準レーザ光Lのビーム強度を
モニタする。このビーム強度が最大となる位置で左右ス
ライド機構26および上下スライド機構28による調整
が終了し、これによって基準レーザ光Lが光軸上に一致
することになる。なお、光軸検出ユニット100に代替
して、測定部位130を用いてもよい。
Therefore, when the reference laser beam L deviates from the optical axis, it is blocked by the first pinhole plate 74 and / or the second pinhole plate 76, and the light spot measuring surface 12
The reference laser beam L is slightly irradiated on 0 or not irradiated at all. Then, the horizontal slide mechanism 26 and the vertical slide mechanism 28 are operated to monitor the beam intensity of the reference laser light L with which the light spot measurement surface 120 is irradiated. The adjustment by the left and right slide mechanism 26 and the up and down slide mechanism 28 is completed at the position where the beam intensity is maximized, so that the reference laser light L coincides with the optical axis. The measurement site 130 may be used instead of the optical axis detection unit 100.

【0044】また、図2に示すように、レーザ光ユニッ
ト14にビーム径拡大手段66が装着され、コリメート
基準レーザ光L0が導出される際には、このコリメート
基準レーザ光L0の光軸調整を行う必要がある。その
際、光軸ユニット70では、第1および第2ピンホール
板74、76に代替して、第1および第2ピンホール板
94a、94bを装着し、上記の本実施形態と同様の手
順で行う。
Further, as shown in FIG. 2, when the beam diameter expanding means 66 is attached to the laser light unit 14 and the collimated reference laser light L0 is led out, the optical axis of the collimated reference laser light L0 is adjusted. There is a need to do. At this time, in the optical axis unit 70, the first and second pinhole plates 74 and 76 are replaced with the first and second pinhole plates 94a and 94b, and the procedure is the same as that of the present embodiment. To do.

【0045】具体的には、まず、手前側に配置されてい
る第1ピンホール板94aの所定の範囲内にコリメート
基準レーザ光L0が入るように、基準光ユニット10の
左右スライド機構26および上下スライド機構28が操
作される。そして、手前側の第1ピンホール板94aを
透過したコリメート基準レーザ光L0が、後方側に配置
されている第2ピンホール板94bを透過するように、
基準光ユニット10の左右スライド機構26および上下
スライド機構28が操作される。
Specifically, first, the left and right slide mechanism 26 of the reference light unit 10 and the vertical slide mechanism 26 are moved so that the collimated reference laser light L0 enters within a predetermined range of the first pinhole plate 94a arranged on the front side. The slide mechanism 28 is operated. Then, the collimator reference laser light L0 transmitted through the first pinhole plate 94a on the front side is transmitted through the second pinhole plate 94b arranged on the rear side.
The left and right slide mechanism 26 and the up and down slide mechanism 28 of the reference light unit 10 are operated.

【0046】これにより、第1および第2ピンホール板
94a、94bの細孔96a、96b、98aおよび9
8bを透過して光軸検出ユニット100の光点測定面1
20に照射されるコリメート基準レーザ光L0のビーム
強度が最大になるように、基準光ユニット10の調整作
業を行えばよい。
As a result, the pores 96a, 96b, 98a and 9 of the first and second pinhole plates 94a and 94b are formed.
8b is a light spot measurement surface 1 of the optical axis detection unit 100 that passes through 8b.
The adjustment work of the reference light unit 10 may be performed so that the beam intensity of the collimated reference laser light L0 with which 20 is irradiated is maximized.

【0047】次いで、光軸が設定された基準レーザ光L
を使用して、光軸ユニット70および光軸検出ユニット
100の光軸合わせ作業が行われる。
Next, the reference laser light L whose optical axis is set
Using, the optical axis alignment work of the optical axis unit 70 and the optical axis detection unit 100 is performed.

【0048】具体的には、図13に示すように、基準光
ユニット10の光軸上には、所定の位置に対応して光軸
検出ユニット100が配置される。そこで、基準光ユニ
ット10から基準レーザ光Lが導出されると、この基準
レーザ光Lが光軸検出ユニット100を構成する光点測
定面120に照射される。この状態で、回転機構108
を構成する回転ベース110を揺動させるとともに、第
2スライドつまみ116の作用下に第2スライドベース
114を光軸方向に進退させる。
Specifically, as shown in FIG. 13, an optical axis detection unit 100 is arranged on the optical axis of the reference light unit 10 in correspondence with a predetermined position. Therefore, when the reference laser light L is derived from the reference light unit 10, the reference laser light L is applied to the light spot measurement surface 120 forming the optical axis detection unit 100. In this state, the rotation mechanism 108
The rotation base 110 constituting the above is rocked, and the second slide base 114 is moved back and forth in the optical axis direction under the action of the second slide knob 116.

【0049】そして、図9に示すように、モニタ122
上の第1の光軸位置P1が移動しない位置に第2スライ
ドベース114を停止させる。これにより、光点測定面
120と回転機構108の回転軸とが一致し、前記光点
測定面120の位置が検出されることになる。
Then, as shown in FIG.
The second slide base 114 is stopped at a position where the upper first optical axis position P1 does not move. As a result, the light spot measuring surface 120 and the rotation axis of the rotating mechanism 108 coincide with each other, and the position of the light spot measuring surface 120 is detected.

【0050】一方、光軸ユニット70の光軸合わせ作業
は、図14に示すように、基準光ユニット10と光軸検
出ユニット100との間に第1ピンホール板74が配置
される。そして、基準光ユニット10から基準レーザ光
Lが導出され、この基準レーザ光Lが第1ピンホール板
74に形成された第1細孔80を通って光軸検出ユニッ
ト100の光点測定面120に照射される。この光軸検
出ユニット100では、第1細孔80を通過した基準レ
ーザ光Lの強度をモニタしており、この強度が最大にな
るように、第1細孔位置調整機構82が操作される。
On the other hand, in the optical axis alignment work of the optical axis unit 70, as shown in FIG. 14, the first pinhole plate 74 is arranged between the reference light unit 10 and the optical axis detection unit 100. Then, the reference laser light L is derived from the reference light unit 10, the reference laser light L passes through the first fine hole 80 formed in the first pinhole plate 74, and the light spot measurement surface 120 of the optical axis detection unit 100. Is irradiated. In this optical axis detection unit 100, the intensity of the reference laser light L that has passed through the first aperture 80 is monitored, and the first aperture position adjusting mechanism 82 is operated so that this intensity becomes maximum.

【0051】具体的には、第1および第2調整ねじ8
4、86が操作されることにより、第1ピンホール板7
4が上下および左右方向に位置調整され、第1細孔80
を通過する光の強度が最大となる位置で、前記第1細孔
80が光軸と一致することになる。
Specifically, the first and second adjusting screws 8
By operating 4, 86, the first pinhole plate 7
4 is vertically and laterally adjusted in position, and the first pore 80
The first pores 80 coincide with the optical axis at the position where the intensity of the light passing through is maximum.

【0052】同様にして、基準光ユニット10と光軸検
出ユニット100との間に第2ピンホール板76が配置
され、この第2ピンホール板76に形成されている第2
細孔90を光軸と一致させる作業が行われる。これによ
り、光軸ユニット70の光軸調整が遂行されることにな
る。
Similarly, a second pinhole plate 76 is arranged between the reference light unit 10 and the optical axis detection unit 100, and a second pinhole plate 76 is formed on the second pinhole plate 76.
The work of aligning the pores 90 with the optical axis is performed. As a result, the optical axis adjustment of the optical axis unit 70 is performed.

【0053】次に、このように調整された基準光ユニッ
ト10と、光軸ユニット70とを用いて、光学部品を調
整する方法について説明する。
Next, a method of adjusting the optical component by using the reference light unit 10 and the optical axis unit 70 thus adjusted will be described.

【0054】図15は、位置調整ユニット140の斜視
図であり、図16は、前記位置調整ユニット140の側
面図である。この位置調整ユニット140は、非平面鏡
142を一体的にレーザ加工装置やレーザ測定装置等に
実装するとともに、予め前記非平面鏡142の位置およ
び角度を調整する機能を有している。
FIG. 15 is a perspective view of the position adjusting unit 140, and FIG. 16 is a side view of the position adjusting unit 140. The position adjusting unit 140 has a function of integrally mounting the non-planar mirror 142 in a laser processing device, a laser measuring device, or the like, and adjusting the position and angle of the non-planar mirror 142 in advance.

【0055】位置調整ユニット140は、測定ベース2
2上に載置されるユニットベース144を備え、このユ
ニットベース144上に支持ブロック146が設けられ
る。支持ブロック146上には、第1つまみ148を介
して水平方向に角度調整可能な第1傾斜部材150が設
けられる。第1傾斜部材150には、第2つまみ152
を介して鉛直方向に傾動自在な第2傾斜部材154が支
持され、この第2傾斜部材154に非平面鏡142が装
着されている。
The position adjustment unit 140 includes the measurement base 2
2 is provided with a unit base 144, and a support block 146 is provided on the unit base 144. On the support block 146, a first tilting member 150 whose angle can be adjusted in the horizontal direction is provided via a first knob 148. The first tilting member 150 has a second knob 152.
A second tilting member 154, which is tiltable in the vertical direction, is supported via the, and the non-planar mirror 142 is attached to the second tilting member 154.

【0056】そこで、図17に示すように、基準光ユニ
ット10の光軸S1上に非平面鏡142を組み込んだ位
置調整ユニット140が配置されるとともに、この非平
面鏡142による反射光Laの光軸S2上に光軸ユニッ
ト70が配置されている。そして、基準光ユニット10
から基準レーザ光Lが導出されると、この基準レーザ光
Lは、光軸S1に沿って非平面鏡142に照射される。
この非平面鏡142が所定の位置に正確に位置決めされ
ていると、前記非平面鏡142からの反射光Laは、光
軸S2上に配置されている光軸ユニット70の第1およ
び第2ピンホール板74、76に形成された第1および
第2細孔80、90を透過して測定部位130に照射さ
れる。
Therefore, as shown in FIG. 17, the position adjusting unit 140 incorporating the non-planar mirror 142 is arranged on the optical axis S1 of the reference light unit 10, and the optical axis S2 of the reflected light La by the non-planar mirror 142 is arranged. The optical axis unit 70 is arranged above. Then, the reference light unit 10
When the reference laser light L is derived from the reference laser light L, the non-planar mirror 142 is irradiated with the reference laser light L along the optical axis S1.
When the non-planar mirror 142 is accurately positioned at a predetermined position, the reflected light La from the non-planar mirror 142 is reflected by the first and second pinhole plates of the optical axis unit 70 arranged on the optical axis S2. The light is transmitted through the first and second fine holes 80 and 90 formed in 74 and 76, and is irradiated to the measurement site 130.

【0057】その際、光軸ユニット70では、第1およ
び第2ピンホール板74、76が光軸S2に沿って所定
の間隔で離間しており、非平面鏡142からの反射光L
aがこの光軸S2に一致する場合にのみ、前記反射光L
aが第1および第2細孔80、90を透過して測定部位
130に照射される。従って、非平面鏡142が、図1
7中、二点鎖線で示すように、所望の位置からずれてい
る際には、第1ピンホール板74および/または第2ピ
ンホール板76に阻止されて反射光Laが測定部位13
0に照射されることはない。
At this time, in the optical axis unit 70, the first and second pinhole plates 74 and 76 are separated from each other by a predetermined distance along the optical axis S2, and the reflected light L from the non-planar mirror 142 is formed.
Only when a coincides with this optical axis S2, the reflected light L
The “a” passes through the first and second pores 80 and 90 and is applied to the measurement site 130. Thus, the non-planar mirror 142 is shown in FIG.
In FIG. 7, as indicated by the chain double-dashed line, when it is displaced from the desired position, the reflected light La is blocked by the first pinhole plate 74 and / or the second pinhole plate 76 and the reflected light La is measured.
It is never exposed to zero.

【0058】次に、位置調整ユニット140を構成する
第1および第2つまみ148、152が選択的に操作さ
れ、第1および第2傾斜部材150、154を介して非
平面鏡142の位置調整が行われる。そして、非平面鏡
142で反射された反射光Laが、第1および第2ピン
ホール板74、76を透過して測定部位130に照射さ
れる位置で、前記非平面鏡142の位置合わせが高精度
かつ確実になされることになる。
Next, the first and second knobs 148 and 152 constituting the position adjusting unit 140 are selectively operated, and the position of the non-planar mirror 142 is adjusted via the first and second tilting members 150 and 154. Be seen. Then, at the position where the reflected light La reflected by the non-planar mirror 142 passes through the first and second pinhole plates 74, 76 and is irradiated to the measurement site 130, the non-planar mirror 142 is accurately aligned. It will be surely done.

【0059】特に、本実施形態では、基準光ユニット1
0から導出される基準レーザ光Lの光芯が機械的軸芯に
一致するように高精度に調整されるとともに、光軸S2
上で所定の間隔だけ離間して配置される第1および第2
ピンホール板74、76を備えている。これにより、非
平面鏡142の光軸合わせが、簡単な構成で高精度かつ
効率的に遂行されるという効果が得られる。
In particular, in this embodiment, the reference light unit 1
The optical axis of the reference laser light L derived from 0 is adjusted with high accuracy so as to coincide with the mechanical axis, and the optical axis S2
First and second spaced apart by a predetermined distance above
It is provided with pinhole plates 74 and 76. As a result, it is possible to obtain the effect that the optical axis alignment of the non-planar mirror 142 is performed with high accuracy and efficiency with a simple configuration.

【0060】なお、本実施形態では、反射光Laの光軸
上に測定部位130を配置してこの測定部位130に照
射される前記反射光Laを目視により検出しているが、
この目視による検査作業を一層容易かつ正確に行うため
に、反射鏡とレチクルとを組み込んだ測定構造を採用す
ることができる。
In this embodiment, the measuring portion 130 is arranged on the optical axis of the reflected light La and the reflected light La radiated to the measuring portion 130 is visually detected.
In order to perform this visual inspection work more easily and accurately, it is possible to employ a measurement structure incorporating a reflecting mirror and a reticle.

【0061】次いで、基準光ユニット10と光軸検出ユ
ニット100とを用いて、非平面鏡142の光芯位置を
調整する調整方法について、以下に説明する。
Next, an adjusting method for adjusting the optical core position of the non-planar mirror 142 using the reference light unit 10 and the optical axis detecting unit 100 will be described below.

【0062】図18に示すように、光軸S1上には、基
準光ユニット10と非平面鏡142との間に位置して光
軸検出ユニット100が一旦配置される(二点鎖線参
照)。そこで、基準光ユニット10から基準レーザ光L
が導出されると、この基準レーザ光Lが光軸検出ユニッ
ト100を構成する光点測定面120に照射される。こ
のため、図9に示すように、光軸位置検出センサ118
に電気的に接続されているモニタ122には、基準レー
ザ光Lの第1の光軸位置P1が表示される。
As shown in FIG. 18, the optical axis detection unit 100 is once arranged on the optical axis S1 between the reference light unit 10 and the non-planar mirror 142 (see the chain double-dashed line). Therefore, the reference laser light L from the reference light unit 10
Is derived, the reference laser light L is applied to the light spot measurement surface 120 forming the optical axis detection unit 100. For this reason, as shown in FIG.
The first optical axis position P1 of the reference laser light L is displayed on the monitor 122 electrically connected to.

【0063】次に、光軸検出ユニット100が光軸S1
上から離脱されるとともに、この光軸検出ユニット10
0、あるいは、別の光軸検出ユニット100が非平面鏡
142による反射光Laの光軸S2上に配置される。こ
の状態で、基準光ユニット10から基準レーザ光Lが照
射されると、この基準レーザ光Lが非平面鏡142で反
射し、その反射光Laが光軸S2上に配置されている光
軸検出ユニット100に導入される。この光軸検出ユニ
ット100では、光点測定面120に反射光Laが導入
されることにより、モニタ122上に第2の光軸位置P
2が表示される(図9参照)。
Next, the optical axis detection unit 100 sets the optical axis S1.
This optical axis detection unit 10 is removed from above
0 or another optical axis detection unit 100 is arranged on the optical axis S2 of the reflected light La by the non-planar mirror 142. When the reference laser light L is emitted from the reference light unit 10 in this state, the reference laser light L is reflected by the non-planar mirror 142, and the reflected light La is arranged on the optical axis S2. Introduced in 100. In this optical axis detection unit 100, the second optical axis position P is displayed on the monitor 122 by introducing the reflected light La into the light spot measurement surface 120.
2 is displayed (see FIG. 9).

【0064】そして、光軸S1上で予め検出された第1
の光軸位置P1と、非平面鏡142からの反射光Laの
第2の光軸位置P2とが一致するように、前記非平面鏡
142の位置調整が行われる。これにより、本実施形態
では、基準光ユニット10と光軸検出ユニット100と
を用いるだけでよく、簡単な構成および工程で、非平面
鏡142の第2の光軸位置P2を光軸S2に対して高精
度かつ容易に一致させることが可能になるという利点が
ある。
Then, the first detected in advance on the optical axis S1
The position adjustment of the non-planar mirror 142 is performed such that the optical axis position P1 of the non-planar mirror 142 and the second optical axis position P2 of the reflected light La from the non-planar mirror 142 coincide with each other. Thus, in the present embodiment, it is only necessary to use the reference light unit 10 and the optical axis detection unit 100, and the second optical axis position P2 of the non-planar mirror 142 is set with respect to the optical axis S2 with a simple configuration and process. There is an advantage that matching can be performed easily with high accuracy.

【0065】次いで、基準光ユニット10と光軸検出ユ
ニット100とを使用して、非平面鏡142が放物面鏡
である場合と楕円面鏡である場合とにおいて、以下に示
すそれぞれの手順に従って焦点位置の測定が行われる。
Then, using the reference light unit 10 and the optical axis detection unit 100, focusing is performed in accordance with the respective procedures described below, when the non-planar mirror 142 is a parabolic mirror and when it is an ellipsoidal mirror. Position measurements are taken.

【0066】まず、放物面鏡では、図19に示すよう
に、基準光ユニット10が左右スライド機構26を構成
する第1マイクロメータ34の回転作用下に水平方向
(矢印B方向)に平行移動しながら、基準レーザ光Lが
導出される。一方、非平面鏡142の焦点位置近傍に配
置されている光軸検出ユニット100は、第1スライド
つまみ106の回転作用下に第1スライドベース104
が光軸S2方向に進退移動する。基準光ユニット10か
ら導出された基準レーザ光Lは、非平面鏡142で反射
して光軸検出ユニット100を構成する光点測定面12
0に照射される。その際、光軸の移動が最も少ない位置
が、非平面鏡142の焦点位置(距離)として測定され
る。
First, in the parabolic mirror, as shown in FIG. 19, the reference light unit 10 is translated in the horizontal direction (arrow B direction) under the rotating action of the first micrometer 34 constituting the left and right slide mechanism 26. Meanwhile, the reference laser light L is derived. On the other hand, the optical axis detection unit 100 arranged in the vicinity of the focal position of the non-planar mirror 142 includes the first slide base 104 under the rotating action of the first slide knob 106.
Moves back and forth in the direction of the optical axis S2. The reference laser light L derived from the reference light unit 10 is reflected by the non-planar mirror 142 to form the light spot measurement surface 12 that constitutes the optical axis detection unit 100.
It is irradiated to 0. At this time, the position where the optical axis moves the least is measured as the focal position (distance) of the non-planar mirror 142.

【0067】一方、楕円面鏡では、図20に示すよう
に、基準光ユニット10がノックピン60aと孔部62
を中心にして水平方向に傾動されながら基準レーザ光L
を照射するとともに、光軸検出ユニット100が光軸S
2上に沿って前後方向に移動する。そして、光軸検出ユ
ニット100の光点測定面120で検出される光軸の移
動が最も少ない位置が、楕円面鏡の焦点位置(距離)と
して測定される。
On the other hand, in the ellipsoidal mirror, as shown in FIG. 20, the reference light unit 10 includes the knock pin 60a and the hole 62.
The reference laser light L is tilted horizontally with respect to
And the optical axis detection unit 100 causes the optical axis S
2 Move up and down along the top. Then, the position where the movement of the optical axis detected on the light spot measurement surface 120 of the optical axis detection unit 100 is the smallest is measured as the focus position (distance) of the ellipsoidal mirror.

【0068】また、放物面鏡では、図21に示すよう
に、基準光ユニット10にビーム径拡大手段66を装着
し、コリメート光L1を用いて非平面鏡142の焦点位
置を測定することができる。
Further, in the parabolic mirror, as shown in FIG. 21, the beam diameter expanding means 66 is attached to the reference light unit 10 and the focal position of the non-planar mirror 142 can be measured using the collimated light L1. .

【0069】この基準光ユニット10では、レーザ光ユ
ニット14から導出される基準レーザ光Lがビーム径拡
大手段66を介してコリメート光L1に変換され、この
コリメート光L1が非平面鏡142で反射して光軸検出
ユニット100を構成する光点測定面120に照射され
る。ここで、光軸検出ユニット100は、光軸S2方向
に進退移動し、光点測定面120での光点の面積が最も
少ない位置が、非平面鏡142の焦点位置として測定さ
れる。従って、本実施形態では、基準光ユニット10を
移動させる必要がなく、簡単な工程で放物面鏡の焦点位
置を迅速に測定することが可能になる。
In the reference light unit 10, the reference laser light L derived from the laser light unit 14 is converted into the collimated light L1 via the beam diameter expanding means 66, and the collimated light L1 is reflected by the non-planar mirror 142. The light spot measurement surface 120 that constitutes the optical axis detection unit 100 is irradiated. Here, the optical axis detection unit 100 moves back and forth in the optical axis S2 direction, and the position where the area of the light spot on the light spot measurement surface 120 is the smallest is measured as the focus position of the non-planar mirror 142. Therefore, in the present embodiment, it is not necessary to move the reference light unit 10, and it is possible to quickly measure the focal position of the parabolic mirror with a simple process.

【0070】上記のように、各実施形態では、基準レー
ザ光Lを導出する基準光ユニット10の光軸が正確に設
定されるとともに、この基準光ユニット10を使用して
光軸ユニット70および光軸検出ユニット100が精度
よく調整されている。
As described above, in each embodiment, the optical axis of the reference light unit 10 for deriving the reference laser light L is accurately set, and the reference light unit 10 is used to set the optical axis unit 70 and the optical axis. The axis detection unit 100 is adjusted with high accuracy.

【0071】これにより、基準光ユニット10の他、光
軸ユニット70と光軸検出ユニット100とを選択的
に、あるいは組み合わせて用いることにより、非平面鏡
142の光軸調整作業および焦点調整作業が、高精度か
つ効率的に遂行されるという効果が得られる。しかも、
各種の非平面鏡142のアライメント調整が精度よく遂
行され、高品質なレーザ加工作業やレーザ測定作業等が
遂行されるという利点が得られる。
As a result, by using the optical axis unit 70 and the optical axis detecting unit 100 selectively or in combination with the reference light unit 10, the optical axis adjusting work and the focus adjusting work of the non-planar mirror 142 can be performed. It is possible to obtain the effect that the processing is performed with high accuracy and efficiency. Moreover,
There is an advantage that the alignment adjustment of various non-planar mirrors 142 is accurately performed, and high-quality laser processing work, laser measurement work, and the like are performed.

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明に係る非平面鏡の調整方法および
装置では、光軸が設定された基準レーザ光を非平面鏡に
照射し、前記非平面鏡からの反射光を光軸ユニットおよ
び/または光軸検出ユニットに照射することにより、簡
単な工程および構造で、各種非平面鏡の光軸調整および
焦点調整作業が高精度に遂行可能になる。
In the method and apparatus for adjusting a non-planar mirror according to the present invention, the reference laser light whose optical axis is set is applied to the non-planar mirror, and the reflected light from the non-planar mirror is reflected by the optical axis unit and / or the optical axis. By irradiating the detection unit, the optical axis adjustment and focus adjustment work of various non-planar mirrors can be performed with high accuracy by a simple process and structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態に係る非平面鏡の調整装置を
構成する基準光ユニットの斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a reference light unit that constitutes an adjusting device for a non-planar mirror according to an embodiment of the present invention.

【図2】前記基準光ユニットの側面図である。FIG. 2 is a side view of the reference light unit.

【図3】前記基準光ユニットの平面図である。FIG. 3 is a plan view of the reference light unit.

【図4】前記調整装置を構成する光軸ユニットの斜視説
明図である。
FIG. 4 is a perspective explanatory view of an optical axis unit that constitutes the adjusting device.

【図5】前記光軸ユニットの側面説明図である。FIG. 5 is a side view of the optical axis unit.

【図6】ピンホール板が装着された光軸ユニットの斜視
図である。
FIG. 6 is a perspective view of an optical axis unit in which a pinhole plate is mounted.

【図7】前記調整装置を構成する光軸検出ユニットの斜
視説明図である。
FIG. 7 is a perspective explanatory view of an optical axis detection unit that constitutes the adjustment device.

【図8】前記光軸検出ユニットの側面図である。FIG. 8 is a side view of the optical axis detection unit.

【図9】前記光軸検出ユニットを構成するモニタの表示
画面の説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram of a display screen of a monitor that constitutes the optical axis detection unit.

【図10】前記光軸検出ユニットの光芯調整作業を説明
する平面図である。
FIG. 10 is a plan view illustrating an optical core adjustment work of the optical axis detection unit.

【図11】前記基準光ユニットの調整を行う際の側面説
明図である。
FIG. 11 is a side view illustrating the adjustment of the reference light unit.

【図12】前記光軸ユニットの調整を行う際の側面説明
図である。
FIG. 12 is a side view illustrating the adjustment of the optical axis unit.

【図13】前記光軸検出ユニットの光軸合わせ作業を説
明する平面図である。
FIG. 13 is a plan view illustrating an optical axis alignment operation of the optical axis detection unit.

【図14】前記光軸ユニットの光軸合わせ作業を説明す
る側面図である。
FIG. 14 is a side view illustrating an optical axis aligning operation of the optical axis unit.

【図15】位置調整ユニットの説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram of a position adjustment unit.

【図16】前記位置調整ユニットの側面図である。FIG. 16 is a side view of the position adjustment unit.

【図17】前記光軸ユニットを使用して光軸を検出する
際の説明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram when detecting an optical axis using the optical axis unit.

【図18】前記光軸検出ユニットを使用して光軸を検出
する際の説明図である。
FIG. 18 is an explanatory diagram when an optical axis is detected using the optical axis detection unit.

【図19】放物面鏡の焦点位置を検出する際の説明図で
ある。
FIG. 19 is an explanatory diagram for detecting the focal position of the parabolic mirror.

【図20】楕円面鏡の焦点位置を検出する際の説明図で
ある。
FIG. 20 is an explanatory diagram for detecting the focal position of the ellipsoidal mirror.

【図21】コリメート光を用いて前記放物面鏡の焦点位
置を検出する際の説明図である。
FIG. 21 is an explanatory diagram when detecting the focal position of the parabolic mirror using collimated light.

【符号の説明】 10…基準光ユニット 12…レーザ発振
器 14…レーザ光ユニット 16…支持筒 18…回転機構 20…光中心調整
機構 22…測定ベース 24…ユニットベ
ース 26…左右スライド機構 28…上下スライ
ド機構 50…回転筒体 56…調整ねじ 66…ビーム径拡大手段 70…光軸ユニッ
ト 72…ユニットベース 74、76、94a、94b…ピンホール板 80、90、96a、96b、98a、98b…細孔 82、92…細孔位置調整機構 100…光軸検出
ユニット 102…ユニットベース 105…進退機構 118…光軸位置検出センサ 120…光軸測定
面 122…モニタ 130…測定部位 140…位置調整ユニット 142…非平面鏡 L…基準レーザ光 La…反射光
[Explanation of Codes] 10 ... Reference Light Unit 12 ... Laser Oscillator 14 ... Laser Light Unit 16 ... Support Tube 18 ... Rotation Mechanism 20 ... Optical Center Adjusting Mechanism 22 ... Measurement Base 24 ... Unit Base 26 ... Horizontal Slide Mechanism 28 ... Vertical Slide Mechanism 50 ... Rotating cylinder 56 ... Adjusting screw 66 ... Beam diameter expanding means 70 ... Optical axis unit 72 ... Unit bases 74, 76, 94a, 94b ... Pinhole plates 80, 90, 96a, 96b, 98a, 98b ... Pores 82, 92 ... Pore position adjusting mechanism 100 ... Optical axis detecting unit 102 ... Unit base 105 ... Advance / retract mechanism 118 ... Optical axis position detecting sensor 120 ... Optical axis measuring surface 122 ... Monitor 130 ... Measuring site 140 ... Position adjusting unit 142 ... Non-planar mirror L ... Reference laser light La ... Reflected light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 7/00 H01S 3/02 H01S 3/086 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02B 7/00 H01S 3/02 H01S 3/086

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】レーザ光学機器を構成する非平面鏡の調整
方法であって、 レーザ発振器が組み込まれたレーザ光ユニットから導出
される基準レーザ光の光軸を、前記レーザ光ユニットを
組み込む基準光ユニットの回転中心に一致させる工程
と、前記基準レーザ光の光軸上に光軸検出ユニットを配置し
て前記光軸検出ユニットに前記基準レーザ光を照射する
ことにより、該基準レーザ光の光軸位置を検出する工程
と、 前記検出された光軸位置に基づいて 前記基準レーザ光の
光軸位置を調整する工程と、 光軸が設定された前記基準レーザ光を前記非平面鏡に照
射し、前記非平面鏡からの反射光を測定することによ
り、該非平面鏡の光軸および焦点を検出する工程と、 前記測定結果に基づいて、前記非平面鏡の位置および/
または角度を調整する工程と、 を有することを特徴とする非平面鏡の調整方法。
1. A method for adjusting a non-planar mirror which constitutes a laser optical apparatus, wherein a reference light unit in which the optical axis of a reference laser light derived from a laser light unit in which a laser oscillator is incorporated is incorporated. And the optical axis detection unit is arranged on the optical axis of the reference laser light.
Irradiates the optical axis detection unit with the reference laser light
Thereby detecting the optical axis position of the reference laser light
When the step of adjusting the optical axis position of the reference laser beam on the basis of the detected optical axis position, the reference laser beam optical axis is set irradiating the non-planar mirror, reflection from the non-planar mirror Detecting the optical axis and focus of the non-planar mirror by measuring light; and the position and / or the position of the non-planar mirror based on the measurement result.
Or a step of adjusting an angle, and a method of adjusting a non-planar mirror, comprising:
【請求項2】請求項1記載の調整方法において、前記光
軸検出ユニットを前記基準レーザ光の光軸上の第1測定
位置に配置し、前記基準レーザ光の光軸位置を調整する
工程と、 前記第1測定位置での調整が終了した後、前記光軸検出
ユニットを前記基準レーザ光の光軸上の第2測定位置に
配置し、前記基準レーザ光の光軸位置を調整する工程
と、 前記第2測定位置での調整が終了した後、前記光軸検出
ユニットを再度前記基準レーザ光の光軸上の前記第1測
定位置に配置し、前記基準レーザ光の光軸位置を調整す
る工程と、 を有することを特徴とする非平面鏡の調整方法。
2. The adjusting method according to claim 1, wherein the light
Axis detection unit for the first measurement on the optical axis of the reference laser light
Position to adjust the optical axis position of the reference laser light
After the process and the adjustment at the first measurement position are completed, the optical axis detection is performed.
Move the unit to the second measurement position on the optical axis of the reference laser beam.
Arranging and adjusting the optical axis position of the reference laser light
And after the adjustment at the second measurement position is completed, the optical axis detection is performed.
The unit is again mounted on the optical axis of the reference laser beam for the first measurement.
Place it at a fixed position and adjust the optical axis position of the reference laser light.
And a step of adjusting the non-planar mirror.
【請求項3】請求項1記載の調整方法において、前記レ
ーザ光ユニットと前記光軸検出ユニットとの間に互いに
所定間隔離間して第1および第2ピンホール板を配置
し、前記基準レーザ光を、前記第1および第2ピンホー
ル板に設けられたそれぞれの細孔を透過して前記光軸検
出ユニットで検出されるか否かを判断する工程と、 前記基準レーザ光が前記光軸検出ユニットで検出されな
い際に、前記レーザ光ユニットの位置および/または角
度を調整する工程と、 を有することを特徴とする非平面鏡の調整方法。
3. The adjusting method according to claim 1, wherein
Between the laser light unit and the optical axis detection unit
Arranging the first and second pinhole plates at a predetermined distance
Then, the reference laser light is supplied to the first and second pinhoes.
The optical axis through each of the pores provided in the
And whether the reference laser light is not detected by the optical axis detection unit.
Position and / or angle of the laser light unit
And a step of adjusting the degree, the method of adjusting a non-planar mirror.
【請求項4】請求項1乃至3のいずれか1項に記載の調
整方法において、前記反射光を、互いに所定間隔離間し
て配置される第1および第2ピンホール板に設けられた
それぞれの細孔を透過して測定部位で検出されるか否か
を判断する工程と 記反射光が前記測定部位で検出されない際に、前記非
平面鏡の位置および/または角度を調整する工程と、 を有することを特徴とする非平面鏡の調整方法。
4. The adjustment method according to any one of claims 1 to 3, respectively the front SL reflected light, provided on the first and second pin hole plate is disposed a predetermined distance apart from each other the step of adjusting the step of determining whether or not detected at the measurement site through the pores, when the prior SL reflected light is not detected by the measurement site, the position and / or angle of the front Symbol nonplanar mirror And a method for adjusting a non-planar mirror, comprising:
【請求項5】請求項1記載の調整方法において、前記反
射光を前記光軸検出ユニットに照射し、該記反射光の光
軸位置を検出する工程を有することを特徴とする非平面
鏡の調整方法。
5. A regulating process according to claim 1, wherein irradiating the pre SL reflected light to the optical axis detecting unit, a non-planar mirror, characterized by comprising the step of detecting the position of the optical axis of the SL reflected light Adjustment method.
【請求項6】レーザ光学機器を構成する非平面鏡の調整
装置であって、 基準レーザ光を導出するとともに、前記基準レーザ光の
光軸が設定可能な基準光ユニットと、 前記基準レーザ光の光軸調整を行うとともに、該基準レ
ーザ光が照射される非平面鏡からの反射光の光軸および
焦点を検出するための光軸ユニットおよび/または光軸
検出ユニットと、 を備え 前記光軸検出ユニットは、前記光軸検出ユニットの光軸
測定面を前記基準レーザ光および前記反射光の光軸に交
差する軸回りに回転させる回転機構と、 前記光軸測定面を前記回転機構の回転軸に対し前記光軸
方向に進退させる測定位置調整 機構と、 前記光軸検出ユニットを前記基準レーザ光および前記反
射光の光軸方向に進退させる進退機構と、 を備え ることを特徴とする非平面鏡の調整装置。
6. A non-planar mirror adjusting device constituting a laser optical device, comprising: a reference light unit for deriving a reference laser light and setting an optical axis of the reference laser light; and a light of the reference laser light. performs axis adjustment, and an optical axis unit and / or the optical axis detecting unit for detecting the optical axis and focal point of the reflected light from the non-planar mirror the reference laser beam is irradiated, the optical axis detecting unit Is the optical axis of the optical axis detection unit
Interchange the measurement surface with the optical axes of the reference laser light and the reflected light.
A rotating mechanism for rotating about the different axes, and the optical axis measuring surface for the optical axis with respect to the rotating axis of the rotating mechanism.
Direction adjusting mechanism for moving the optical axis detection unit to the reference laser beam and the reverse direction.
An adjusting device for a non-planar mirror , comprising: an advancing / retreating mechanism for advancing / retreating in the optical axis direction of the emitted light .
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