JP2002156518A - Method for manufacturing color filter substrate - Google Patents

Method for manufacturing color filter substrate

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JP2002156518A
JP2002156518A JP2000349358A JP2000349358A JP2002156518A JP 2002156518 A JP2002156518 A JP 2002156518A JP 2000349358 A JP2000349358 A JP 2000349358A JP 2000349358 A JP2000349358 A JP 2000349358A JP 2002156518 A JP2002156518 A JP 2002156518A
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Japan
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color filter
liquid crystal
filter substrate
substrate
manufacturing
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Katsuki Nishinaka
勝喜 西中
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a color filter substrate preventing residual air bubbles from being generated in a liquid crystal cell after sealing a liquid crystal therein without canceling an advantage of a method for manufacturing a liquid crystal display device using a dripping method, i.e., without extending evacuation time for sticking the color filter substrate to a counter substrate. SOLUTION: Prior to formation of the liquid crystal cell, the color filter substrate is set up in a thermostat under atmospheric pressure, is heated to a specified temperature, furthermore, is kept at the specified temperature for a specified time, subsequently is returned to normal temperature and is subjected to degassing treatment.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に用
いられるカラーフィルタ基板の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a color filter substrate used for a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、それを搭載する
パーソナルコンピューターやワードプロセッサなどの機
能の多様化により、カラー表示ができるもの、すなわ
ち、カラーフィルタを備えたものが主流になっている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices capable of color display, that is, devices having color filters, have become mainstream due to diversification of functions of personal computers and word processors equipped with the liquid crystal display devices.

【0003】図3には、一般的なカラーフィルタ基板を
示す。また図4は、一般的な液晶表示装置を示してい
る。
FIG. 3 shows a general color filter substrate. FIG. 4 shows a general liquid crystal display device.

【0004】まず図3について説明する。基板5の上に
カラーフィルタ6が形成され、カラーフィルタ6の全面
を覆うように保護膜7が形成されている。そして、この
保護膜7を介して透明電極8が形成され、透明電極8の
全面と保護膜7とを覆うように絶縁膜9が形成されてカ
ラーフィルタ基板4が形成される。
First, FIG. 3 will be described. A color filter 6 is formed on a substrate 5, and a protective film 7 is formed so as to cover the entire surface of the color filter 6. Then, a transparent electrode 8 is formed via the protective film 7, and an insulating film 9 is formed so as to cover the entire surface of the transparent electrode 8 and the protective film 7, thereby forming the color filter substrate 4.

【0005】このカラーフィルタ基板4を用いた液晶表
示装置は、図4に示すように構成される。まず、基板1
4に透明電極8と絶縁膜9とが順次積層されて対向基板
15が形成される。
A liquid crystal display using the color filter substrate 4 is configured as shown in FIG. First, substrate 1
4, a transparent electrode 8 and an insulating film 9 are sequentially laminated to form a counter substrate 15.

【0006】この対向基板15と上記のように構成され
たカラーフィルタ基板4とのそれぞれに配向制御膜10
を形成し、カラーフィルタ基板4と対向基板15とをス
ペーサ11を介して対向させ、シール材12にて貼り合
せて液晶セルが形成される。
The orientation control film 10 is provided on each of the counter substrate 15 and the color filter substrate 4 constructed as described above.
Is formed, the color filter substrate 4 and the opposing substrate 15 are opposed to each other with the spacer 11 interposed therebetween, and are bonded together with the sealant 12 to form a liquid crystal cell.

【0007】そして、この液晶セルの内部に液晶13が
注入されて液晶表示装置16となる。
[0007] Then, liquid crystal 13 is injected into the inside of the liquid crystal cell to form a liquid crystal display device 16.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このようなカラーフィ
ルタ基板4を有する液晶表示装置16においては、液晶
13を封入する時の減圧状態や、その後の配向制御膜1
0の配向安定化時の加熱処理などにより、カラーフィル
タ6および保護膜7からガスが発生しやすくなる。カラ
ーフィルタ6および保護膜7からガスが発生すると、液
晶13を封入した後の液晶セル内に残留気泡が発生し、
液晶表示装置16としては致命的な欠陥となるという問
題があった。
In the liquid crystal display device 16 having such a color filter substrate 4, the pressure reduction state when the liquid crystal 13 is sealed and the subsequent alignment control film 1
Gas is easily generated from the color filter 6 and the protective film 7 by heat treatment or the like at the time of stabilizing the orientation of 0. When gas is generated from the color filter 6 and the protective film 7, residual bubbles are generated in the liquid crystal cell after the liquid crystal 13 is sealed,
The liquid crystal display device 16 has a problem of causing a fatal defect.

【0009】そのため特開平4−42129号公報に
は、液晶セルに液晶を注入する前に、液晶セルを減圧加
熱下に長時間保持してカラーフィルタの脱ガス処理を行
い、液晶を封入した後の残留気泡を防止する方法が開示
されている。
For this reason, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-42129 discloses that before injecting liquid crystal into a liquid crystal cell, the liquid crystal cell is degassed by holding the liquid crystal cell under reduced pressure and heating for a long time, and after the liquid crystal is sealed. A method for preventing residual air bubbles is disclosed.

【0010】しかしながらこの方法は、特開昭62−8
9025号公報や特開昭63−179323号公報に開
示されている滴下法には不向きである。すなわち滴下法
は、カラーフィルタ基板と対向基板の少なくともどちら
か一方に所定量の液晶を滴下し、減圧下で両基板を貼り
合わせ、セル化と液晶の封入とを同時に行うものであ
る。
However, this method is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 62-8 / 1987.
It is not suitable for the dropping method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9025 or JP-A-63-179323. That is, in the dropping method, a predetermined amount of liquid crystal is dropped on at least one of the color filter substrate and the counter substrate, and both substrates are bonded together under reduced pressure, and cell formation and liquid crystal encapsulation are simultaneously performed.

【0011】従って、このような滴下法に上述のような
液晶13を注入する前の液晶セルを減圧加熱下に長時間
保持する方法を用いると、短時間に両基板を液晶セル化
できるという滴下法の利点を損なうという問題点があっ
た。
Therefore, if the above-described method of holding the liquid crystal cell before injecting the liquid crystal 13 under reduced pressure and heating for a long time is used in such a dropping method, the two substrates can be formed into a liquid crystal cell in a short time. There was a problem that the advantage of the law was lost.

【0012】本発明は前記問題点に鑑み、滴下法による
液晶表示装置の製造方法の利点を損なわず、すなわち、
カラーフィルタ基板と対向基板との貼り合わせ時の真空
保持時間を延長することなく、液晶を封入した後の液晶
セル内の残留気泡の発生を防止することができるカラー
フィルタ基板の製造方法を提供するものである。
In view of the above problems, the present invention does not impair the advantages of the method of manufacturing a liquid crystal display device by a dropping method,
Provided is a method of manufacturing a color filter substrate capable of preventing generation of residual bubbles in a liquid crystal cell after sealing a liquid crystal without extending a vacuum holding time at the time of bonding a color filter substrate and a counter substrate. Things.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
基板の製造方法は、液晶セルの形成前に、カラーフィル
タ基板を、恒温槽内で大気圧下で加熱処理して脱ガス処
理することを特徴とする。
According to a method of manufacturing a color filter substrate of the present invention, before forming a liquid crystal cell, the color filter substrate is subjected to degassing by heating at atmospheric pressure in a constant temperature bath. Features.

【0014】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法に
よると、液晶セルの作成前に脱ガス処理するため、カラ
ーフィルタ基板と対向基板との貼り合わせ時の真空保持
時間を延長することなく、従来と同条件で、液晶を封入
した後の液晶セル内における残留気泡の発生を防止する
ことができる。また、カラーフィルタ基板の脱ガス処理
時間をより短縮することができる。
According to the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention, the degassing process is performed before the liquid crystal cell is formed. Under the same conditions, generation of residual bubbles in the liquid crystal cell after the liquid crystal is sealed can be prevented. Further, the time required for degassing the color filter substrate can be further reduced.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】請求項1記載のカラーフィルタ基
板の製造方法は、カラーフィルタ基板を恒温槽内に大気
圧下で設置して所定温度にまで加熱し、さらに前記所定
温度で所定時間保持した後、常温に開放して脱ガス処理
することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a color filter substrate, wherein the color filter substrate is installed in a constant temperature bath under atmospheric pressure, heated to a predetermined temperature, and further maintained at the predetermined temperature for a predetermined time. After that, degassing is performed by opening to normal temperature.

【0016】この構成によると、カラーフィルタ基板単
体を恒温槽内に大気圧下で設置して所定温度にまで加熱
処理して脱ガス処理することにより、加熱温度の上限を
カラーフィルタ基板の耐熱温度まで設定できるため、短
時間に脱ガス処理を行うことができる。よって、上述の
方法にて処理したカラーフィルタ基板を用いて滴下法に
より液晶の封入を行う場合、封入時の真空保持時間を延
長することがなく、すなわち、滴下法の利点を損なうこ
となく、液晶を封入した後の液晶セル内における残留気
泡の発生を防止することができる。さらに、大気圧下で
脱ガス処理を行うため、減圧下で行う場合と比して、真
空引きする時間を必要とせず、より短時間に脱ガス処理
を行うことが可能であり、大掛かりな減圧装置も必要と
ならない。大きな基板を用いてカラーフィルタ基板を製
造する際には、恒温槽自身も大きくなり、真空引きする
時間も非常に長時間必要となるため、大気圧下で脱ガス
処理することは、大幅な製造タクトの短縮に繋がる。
According to this structure, the color filter substrate alone is placed under atmospheric pressure in a constant temperature bath, heated to a predetermined temperature and degassed, so that the upper limit of the heating temperature is set to the heat resistant temperature of the color filter substrate. Can be set, so that the degassing process can be performed in a short time. Therefore, when the liquid crystal is encapsulated by the dropping method using the color filter substrate treated by the above method, the liquid crystal can be filled without extending the vacuum holding time at the time of encapsulation, that is, without impairing the advantage of the dropping method. Can prevent the generation of residual air bubbles in the liquid crystal cell after the sealing. Furthermore, since the degassing process is performed under the atmospheric pressure, the degassing process can be performed in a shorter time without the need for evacuation time as compared with the case where the degassing process is performed under reduced pressure. No equipment is required. When manufacturing a color filter substrate using a large substrate, the temperature chamber itself becomes large, and it takes a very long time to evacuate, so degassing under atmospheric pressure is a significant manufacturing process. It leads to shortening of tact.

【0017】請求項2記載のカラーフィルタ基板の製造
方法は、請求項1において、カラーフィルタ基板の脱ガ
ス処理時において、加熱温度を150℃より高く180
℃未満とし、前記加熱温度の保持時間を6時間より長く
12時間未満とすることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the method for producing a color filter substrate according to the first aspect, the heating temperature is set to be higher than 150 ° C.
C., and the holding time of the heating temperature is longer than 6 hours and shorter than 12 hours.

【0018】この構成によると、カラーフィルタ基板の
良好な脱ガス処理が実現できる。
According to this configuration, good degassing of the color filter substrate can be realized.

【0019】以下、本発明の実施の形態について、図
1、図2を用いて説明する。なお、上記従来例を示す図
3、図4と同様をなすものについては、同一の符号を付
けて説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 3 and 4 showing the above-mentioned conventional example are denoted by the same reference numerals and described.

【0020】(実施の形態)図1は、本発明のカラーフ
ィルタ基板の製造方法を用いた液晶表示装置の製造方法
のフローを示した図である。カラーフィルタ基板の側で
は、第1の工程A1で、上記した図3に示すようなカラ
ーフィルタ基板4を形成する。
(Embodiment) FIG. 1 is a diagram showing a flow of a method for manufacturing a liquid crystal display device using the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention. On the color filter substrate side, the color filter substrate 4 as shown in FIG. 3 described above is formed in a first step A1.

【0021】第2の工程A2で、このカラーフィルタ基
板4を単体でクリーンオーブン等の恒温槽内に大気圧下
で設置して所定温度にまで加熱し、所定時間保持して、
カラーフィルタ基板4の脱ガス処理を行う。
In a second step A2, the color filter substrate 4 is placed alone in a thermostat such as a clean oven under atmospheric pressure, heated to a predetermined temperature, and held for a predetermined time.
The color filter substrate 4 is degassed.

【0022】図2は、カラーフィルタ基板4の脱ガス処
理を行う装置を示す。カラーフィルタ基板4を、恒温槽
1の内部に設けられた基板ホルダー3に大気圧下で設置
する。そして、ヒーター2で所定温度にまで加熱し、所
定時間保持した後、常温に開放することでカラーフィル
タ6の脱ガス処理を行う。
FIG. 2 shows an apparatus for degassing the color filter substrate 4. The color filter substrate 4 is placed under atmospheric pressure on a substrate holder 3 provided inside the thermostat 1. Then, the color filter 6 is degassed by heating to a predetermined temperature by the heater 2 and holding the same for a predetermined time and then opening the room temperature.

【0023】この脱ガス処理においては、ポリエステル
系樹脂のカラーフィルタ6とアクリレート系樹脂の保護
膜7を有するカラーフィルタ基板4の場合、加熱温度を
150℃より高く180℃未満の温度と、その保持時間
を6時間より長く12時間未満の保持時間、とすること
でカラーフィルタ6および保護膜7の良好な脱ガス処理
が実現できる。この温度範囲および処理時間をはずれる
と十分な脱ガス処理が行われなくなる。
In the degassing process, in the case of the color filter substrate 4 having the polyester resin color filter 6 and the acrylate resin protective film 7, the heating temperature is higher than 150 ° C. and lower than 180 ° C. By setting the holding time to be longer than 6 hours and shorter than 12 hours, good degassing of the color filter 6 and the protective film 7 can be realized. If the temperature range and the processing time deviate, sufficient degassing cannot be performed.

【0024】第3の工程A3では、脱ガス処理を施した
カラーフィルタ基板4に配向制御膜10を形成してシー
ル材12を塗布し、そのシール材12で囲まれたセルと
なる領域に所定量の液晶13を滴下する。
In the third step A3, an orientation control film 10 is formed on the color filter substrate 4 which has been subjected to the degassing process, a sealing material 12 is applied, and a cell surrounded by the sealing material 12 is placed in a region to be a cell. A fixed amount of liquid crystal 13 is dropped.

【0025】一方、対向基板の側では、第4の工程A4
で、上記従来例を示す図3と同様に、基板14の表面に
透明電極8と絶縁膜9とを形成し、対向基板15を形成
する。
On the other hand, on the side of the opposing substrate, a fourth step A4
Then, similarly to FIG. 3 showing the above-mentioned conventional example, the transparent electrode 8 and the insulating film 9 are formed on the surface of the substrate 14, and the counter substrate 15 is formed.

【0026】そして、第5の工程A5では、対向基板1
5に配向制御膜10を形成する。上記のように形成され
たカラーフィルタ基板4と対向基板15とを用いて、第
6の工程A6では、対向基板15にスペーサ11を散布
し、液晶13の滴下されたカラーフィルタ基板4と減圧
下で重ね合わせ、大気開放し、シール材12を硬化して
液晶表示装置16を形成する。
Then, in a fifth step A5, the opposite substrate 1
5, an alignment control film 10 is formed. In the sixth step A6, spacers 11 are scattered on the opposing substrate 15 using the color filter substrate 4 and the opposing substrate 15 formed as described above, and the color filter substrate 4 on which the liquid crystal 13 is dropped is reduced under reduced pressure. Then, the sealing material 12 is cured to form the liquid crystal display device 16.

【0027】この液晶表示装置の製造方法によると、第
2の工程A2でカラーフィルタ基板4をあらかじめ単体
で加熱処理しているため、第2の工程以降の工程ではカ
ラーフィルタからの脱ガスを考慮する必要がなくなる。
したがって、第6の工程A6の液晶封入工程において
は、真空保持時間を延長することなく、すなわち滴下法
を用いた場合の、短時間に両基板を液晶セル化できる、
という利点を損なうことなく、液晶セル内の残留気泡の
発生を防止することができる。
According to the method of manufacturing the liquid crystal display device, since the color filter substrate 4 is subjected to the heat treatment in advance in the second step A2, degassing from the color filter is considered in the steps after the second step. You don't have to.
Therefore, in the liquid crystal sealing step of the sixth step A6, both substrates can be made into liquid crystal cells in a short time without extending the vacuum holding time, that is, when the dropping method is used.
The generation of residual air bubbles in the liquid crystal cell can be prevented without impairing the advantage of the above.

【0028】なお、この(実施の形態)では、カラーフ
ィルタ基板4の加熱処理を絶縁膜9の形成後に行ってい
るが、絶縁膜9の形成前に行ってもよい。あるいは、配
向制御膜10を形成した後に行ってもよい。
Although the heat treatment of the color filter substrate 4 is performed after the formation of the insulating film 9 in this embodiment, it may be performed before the formation of the insulating film 9. Alternatively, it may be performed after the alignment control film 10 is formed.

【0029】またこの(実施の形態)では、シール材1
2の塗布と液晶13の滴下をカラーフィルタ基板4の側
に行ったが、対向基板15の側に行っても同様の効果が
得られる。
In this (embodiment), the sealing material 1
Although the application of 2 and the dropping of the liquid crystal 13 are performed on the color filter substrate 4 side, the same effect can be obtained by performing on the counter substrate 15 side.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上のように本発明のカラーフィルタ基
板の製造方法によると、加熱温度の上限をカラーフィル
タ基板の耐熱温度まで設定できるため、短時間に脱ガス
処理を行うことができる。よって、カラーフィルタ基板
と対向基板との貼り合わせ時の真空保持時間を延長する
ことなく、液晶を封入した後の液晶セル内の残留気泡の
発生を防止することができる また、大気圧下で脱ガス処理を行うため、真空引きする
時間を必要とせず、より短時間に脱ガス処理を行うこと
ができる。
As described above, according to the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention, the upper limit of the heating temperature can be set up to the heat resistant temperature of the color filter substrate, so that the degassing process can be performed in a short time. Therefore, it is possible to prevent the generation of residual air bubbles in the liquid crystal cell after sealing the liquid crystal without extending the vacuum holding time at the time of bonding the color filter substrate and the opposing substrate. Since gas processing is performed, degassing processing can be performed in a shorter time without requiring time for evacuation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(実施の形態)における液晶表示装置の製造工
程を示すフローチャート
FIG. 1 is a flowchart showing a manufacturing process of a liquid crystal display device in Embodiment.

【図2】(実施の形態)におけるカラーフィルタ基板の
脱ガス処理を示す図
FIG. 2 is a view showing a degassing process of a color filter substrate in the embodiment.

【図3】一般的なカラーフィルタ基板を示す図FIG. 3 is a view showing a general color filter substrate;

【図4】一般的な液晶表示装置を示す図FIG. 4 is a diagram showing a general liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 カラーフィルタ基板 5 基板 6 カラーフィルタ 15 対向基板 16 液晶表示装置 Reference Signs List 4 color filter substrate 5 substrate 6 color filter 15 counter substrate 16 liquid crystal display

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】カラーフィルタ基板を恒温槽内に大気圧下
で設置して所定温度にまで加熱し、さらに前記所定温度
で所定時間保持した後、常温に開放して脱ガス処理する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
1. A color filter substrate is placed in a thermostatic chamber under atmospheric pressure, heated to a predetermined temperature, held at the predetermined temperature for a predetermined time, then released to normal temperature and degassed. Manufacturing method of a color filter substrate.
【請求項2】カラーフィルタ基板の脱ガス処理時におい
て、加熱温度を150℃より高く180℃未満とし、前
記加熱温度の保持時間を6時間より長く12時間未満と
することを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基
板の製造方法。
2. The degassing process of the color filter substrate, wherein the heating temperature is higher than 150 ° C. and lower than 180 ° C., and the holding time of the heating temperature is longer than 6 hours and less than 12 hours. 2. The method for manufacturing a color filter substrate according to 1.
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