JP2002134390A - 送り装置 - Google Patents

送り装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 送りむらが極めて小さな移動ステージの送り
装置を提供する。 【解決手段】 本発明の送り装置は、移動ステージと、
前記移動ステージを含む可動部と固定部との間の荷重を
支持する軸受と、前記可動部を移動させる駆動部と、前
記移動ステージ及び軸受を含む部分と前記駆動部とを連
結する連結部と、前記連結部及び前記駆動部の中の少な
くともいずれか一方と接し又は少なくともいずれか一方
に含まれる流体を供給する配管と、を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は精密送り装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、光ディスク、半導体の高精度化に
伴い、それらの製造装置の高精度化が強く望まれてい
る。本発明は移動ステージの高精度の送り装置に関する
もので、そのような送り装置を含む任意の装置、例えば
許容されるトラックピッチのゆれが数nm以下の光ディ
スクの原盤を製造する原盤記録装置、半導体のステッパ
ー等に応用することが出来る。
【0003】高精度の移動ステージの送り装置は、一般
的に静圧軸受ガイドと、前記ガイドに沿って可動部を駆
動する駆動部(例えばリニアモー夕又は圧電素子等)
と、前記可動部に搭載された位置決めスケール又はレー
ザスケール等とで構成される。そのような送り装置は、
スケールの読み取り情報をフィードバックすることによ
り、ガイドの位置、速度、加速度等の制御を行う。
【0004】図4は、送り装置を具備する光ディスクの
原盤記録装置の概略的な構成を示す。101はレーザ発
振器、102はエアースピンドル、103はスライダー
(送り装置に含まれる。)、104はフォーカスアクチ
ュエータ、105はビームスポットモニタ、106は移
動光学系、107はガラス原盤、108は除振台であ
る。レーザ発振器101が出力する紫外線レーザ光は、
デジタル映像信号又はデジタル音声信号等により変調さ
れ、移動光学系を通り、フォーカスアクチュエータ10
4を通って、エアースピンドル102によって回転して
いる原盤107に、照射される。エアースピンドル10
2で原盤を回転させると共に、原盤107の半径方向に
スライダ103をゆっくりと移動させることにより、ス
ライダ103上に取り付けられているフォーカスアクチ
ュエータ104を含む移動光学系106を移動させなが
ら、レーザ光を原盤107に照射させて信号を記録す
る。
【0005】本発明は、例えば、図4に示す光ディスク
の原盤を製造する原盤記録装置に適用可能である。図5
は、従来の移動ステージの送り装置の概略的な構成図を
示す(固定部の一部は、実施例の全体の構成図を示す図
1を参照)。図5において、1は移動ステージ、2はガ
イド(固定部に含まれる。)、3はコイルアセンブリ
(リニアモータの可動部)、7はセンターヨーク(固定
部に含まれる。)、14は電気接続線、15はスライダ
部の静圧軸受用エアー配管、18は静圧流体軸受(矢印
の方向に流体の静圧が加えられている。従来例及び実施
例においては、使用する流体はエアー(空気)であ
る。)、19はコイルアセンブリ3のボビン、104は
フォーカスアクチュエータを含む光学系を示す。移動ス
テージ1、コイルアセンブリ3、ボビン19等は可動部
に含まれる。
【0006】コイルアセンブリ3及びボビン19(いず
れも可動部に含まれる。)並びにヨーク及び永久磁石
(いずれも固定部に含まれ、図示していない。)等はリ
ニアモータを構成し、コイルアセンブリ3に電流を流す
ことにより、可動部をガイド2に沿って移動させる。永
久磁石はコイルアセンブリ3の両サイドに配置されてお
り、ヨークは両サイドの永久磁石を磁気的に接続する。
従来例の永久磁石及びヨークの配置及び構成は、図1の
実施例の永久磁石6及びヨーク5の配置及び構成に類似
する。エアー配管15は、固定部に含まれるエアーコン
プレッサ(図示していない。)と可動部に含まれる静圧
流体軸受18(可動部側)等とを接続し、エアーコンプ
レッサが出力する空気を静圧流体軸受18等に供給す
る。電気接続線14は、固定部に含まれる駆動回路出力
端子(図示していない。)と可動部に含まれるコイルア
センブリ3等とを接続し、駆動回路出力端子が出力する
電流をコイルアセンブリ3等に伝送する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来例においては、配
管及び電気接続線を図5に示すように可動部の横から引
き出していた。しかし、移動ステージの移動時の振動幅
(実施例においては、移動方向と平行方向の振動幅を特
に小さくする必要がある。)が数nm以下(例えば5n
m以下)の超精密移動ステージを実現しようとすると、
固定部と可動部とを接続する当該配管及び電気接続線の
ねじり抵抗及び引きずり抵抗が問題になることを本発明
の発明者は発見した。本発明は、配管及び電気接続線の
引きずり抵抗が小さく、移動ステージの精密な移動及び
位置決めを実現する送り装置を実現することを目的とす
る。
【0008】又従来例の送り装置は、駆動部(例えばコ
イルアセンブリ3)の発熱が軸受又は移動ステージに伝
達しやすい構造を有していた。例えば、図5においてコ
イルアセンブリ3を含むリニアモータの可動部と、軸受
18を構成する部材とが直接接している故に、リニアモ
ータの可動部で発生した熱により軸受18を構成する部
材が熱膨張し、移動ステージの精密送り及び位置決めを
妨げていた。それ故に、移動ステージの移動時の振動幅
が数nm以下の超精密移動ステージを実現することが困
難であった。本発明は、駆動部の発熱が軸受及び移動ス
テージに伝達しにくい構造を有し、移動ステージの精密
な移動及び位置決めを実現する送り装置を実現すること
を他の目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の発明は、移動ステージと、前記移動ステージを含む可
動部と固定部との間の荷重を支持する軸受と、前記可動
部を移動させる駆動部と、前記移動ステージ及び軸受を
含む部分と、前記駆動部とを連結する連結部と、前記連
結部及び前記駆動部の少なくともいずれか一方と接し又
は少なくともいずれか一方に含まれる、流体を供給する
配管と、を有することを特徴とする送り装置である。
【0010】従来の送り装置においては、駆動部と軸受
又は移動ステージとが直接接しており、駆動部の発熱が
軸受又は移動ステージに伝わりやすかった。本発明の送
り装置においては、駆動部と軸受及び移動ステージとを
分離し、その間に連結部を設けている。更に、本発明の
送り装置においては、連結部、駆動部又はその両方に流
体の配管を設け、連結部又は配管を冷却する。上記の構
造により、駆動部の発熱が移動ステージ及び軸受に伝わ
りにくい。駆動部そのものが発熱して熱膨張したとして
も、移動ステージの送り精度及び位置精度は移動ステー
ジ及び軸受の安定性に依存する故、当該駆動部の熱膨張
は送り装置の性能に悪影響を与えない。本発明は、駆動
部の発熱が軸受及び移動ステージに伝達しにくい構造を
有し、移動ステージの精密な移動及び位置決めを行う送
り装置を実現出来るという作用を有する。
【0011】「連結部」は、前記移動ステージ及び軸受
を含む部分と前記駆動部とを連結する任意の部材を言
う。「前記連結部及び前記駆動部の中の少なくともいず
れか一方と接」する部分を有する配管は、本発明の技術
的範囲に属する。例えば、連結部に穴を開けて作った配
管(配管の側壁が連結部を兼ねている。)は、「少なく
ともいずれか一方に含まれる」配管に含まれる。連結部
に埋め込まれた配管は、「少なくともいずれか一方に含
まれる」配管又は「少なくともいずれか一方と接する」
配管に含まれる。「前記移動ステージ及び軸受を含む部
分と前記駆動部とを連結する連結部」の「軸受」は、移
動ステージが可動部に含まれる故に、軸受の可動部を意
味する。「流体」は、気体及び液体を含む。
【0012】本発明の請求項2に記載の発明は、前記軸
受が流体を用いた軸受であって、且つ、前記配管により
供給される流体が、前記軸受に使用される流体である、
ことを特徴とする請求項1に記載の送り装置である。
【0013】本発明の送り装置は、軸受に流体を供給す
る配管を用いて駆動部又は連結部を冷却する。冷却専用
の配管を追加する必要がない故に、送り装置の小型化、
コストダウンを実現する。本発明は、駆動部の発熱が軸
受及び移動ステージに伝達しにくい構造を有し、移動ス
テージの精密な移動及び位置決めを行う小型でコストの
安い送り装置を実現出来るという作用を有する。好まし
くは、配管の冷却効果を高め、且つ静圧軸受に供給する
流体の流速を遅くするために、当該配管が、前記連結部
又は前記駆動部の中で(又は接しながら)、少なくとも
1箇所の屈折部を有する。
【0014】本発明の請求項3に記載の発明は、移動ス
テージを含む可動部と、前記可動部を移動させる駆動部
と、一端を前記可動部に接続され且つ他端を固定部に接
続され、前記可動部の底面より鉛直方向に引き出された
流体配管又は電気接続線と、を有することを特徴とする
送り装置である。
【0015】可動部と固定部とを接続する流体配管又は
電気接続線を可動部の底面から鉛直方向に引き出すこと
により、当該流体配管又は電気接続線のねじり抵抗及び
引きずり抵抗を小さくすることが出来る。本発明は、流
体配管及び電気接続線のねじり抵抗及び引きずり抵抗が
小さく、移動ステージの精密な移動及び位置決めを行う
送り装置を実現出来るという作用を有する。
【0016】流体配管は一般に電気接続線に比べてはる
かに太い故にねじり抵抗及び引きずり抵抗を発生しやす
い。従って、特に流体配管を可動部の底面より鉛直方向
に引き出すことにより、送り装置の送り精度等を向上さ
せることが出来る。鉛直に引き出されていない他の電気
接続線(例えば非常に細い信号検出用電気接続線)等を
含んでも、本発明の要件を満たす場合には、本発明の技
術的範囲に含まれる。
【0017】本発明の請求項4に記載の発明は、前記流
体配管又は前記電気接続線が、前記可動部の底面より測
定して、前記移動ステージの移動距離の5倍以上の長さ
に渡って前記固定部と接触しない構成を有することを特
徴とする請求項3に記載の送り装置。
【0018】可動部の底面より鉛直方向に引き出された
流体配管又は電気接続線が、移動ステージの移動距離の
5倍以上の長さに渡って前記固定部と接触しない構成を
設けることにより、移動ステージの移動距離の両端の位
置で、流体配管又は電気接続線の長さが2%以下しか変
化しない(変化した長さだけ流体配管又は電気接続線が
引きずり出される。)。それ故、流体配管及び電気接続
線のねじり抵抗及び引きずり抵抗又はそれらの抵抗の変
化を十分に小さくすることが出来る。本発明は、流体配
管及び電気接続線のねじり抵抗及び引きずり抵抗又はそ
れらの変化が小さく、移動ステージの精密な移動及び位
置決めを行う送り装置を実現出来るという作用を有す
る。
【0019】本発明の請求項5に記載の発明は、前記流
体配管又は前記電気接続線が、前記可動部の底面より前
記固定部と接触するまでの少なくとも一部において、螺
旋形状を有することを特徴とする請求項3に記載の送り
装置である。
【0020】配管及び電気接続線に螺旋形状部分を設け
ることにより、移動ステージの移動距離の両端の位置
(移動開始点及び移動終着点)での流体配管又は電気接
続線の長さの変化を当該螺旋部分が伸び縮みして吸収す
る。それ故、流体配管及び電気接続線のねじり抵抗及び
引きずり抵抗又はそれらの変化を十分に小さくすること
が出来る。本発明は、流体配管及び電気接続線のねじり
抵抗及び引きずり抵抗又はそれらの変化が小さく、移動
ステージの精密な移動及び位置決めを行う送り装置を実
現出来るという作用を有する。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施をするための
最良の形態を具体的に示した実施例について図面と共に
記載する。図1は、本発明の実施例の送り装置の構成図
を示す。図1(a)は背面図、図1(b)は平面図、図
1(c)は正面図(一部は断面図)である。実施例の送
り装置は、例えば図4に示す光ディスクの原盤記録装置
のスライダー103として使用する。1は移動ステー
ジ、2はガイド、3はコイルアセンブリ(リニアモータ
の可動部)、4は連結部、5はヨーク、6は永久磁石、
7はセンターヨーク、8は位置検出スケール、9は位置
検出へッド、10は移動プレート(移動電極)、11は
固定プレート(固定電極)、12は容器、13は電気粘
性流体、14は電気接続線、15は静圧軸受用エアー配
管、16はフオーカスアクチュエータ部の静圧流体軸受
用エアー配管、18は静圧流体軸受、19はコイルアセ
ンブリのボビンである。
【0022】移動ステージ1、コイルアセンブリ3、連
結部4、位置検出スケール8及び移動プレート(移動電
極)10等は可動部に含まれる。ガイド2、ヨーク5、
永久磁石6、センターヨーク7、位置検出へッド9、固
定プレート(固定電極)11及び容器12等は固定部に
含まれる。ボビン19に巻かれたコイルアセンブリ3は
リニアモータ(駆動部)の可動部を構成し、ヨーク5、
永久磁石6及びセンターヨーク7等はリニアモータ(駆
動部)の固定部を構成する。固定部に設けられたリニア
モータの駆動回路の2個の出力端子と、コイルアセンブ
リ3の2個の端子とは、2本の電気接続線で接続されて
いる(電気接続線14に含まれる。)。
【0023】永久磁石6等が生成する磁界中に置かれた
コイルアセンブリ3に電流を流すことにより、コイルア
センブリ3に駆動力が発生し、送り装置の可動部をガイ
ド2に沿って移動させる。光ディスクの原盤記録装置に
使用する実施例の送り装置においては、移動ステージの
移動速度は5μm/sec〜10μm/secである。
位置検出ヘッド9は、位置検出スケール8の移動量を検
出する。検出した移動量に基づいて、リニアモータが制
御される。固定プレート(固定電極)11が設けられた
容器12には、電気粘性流体13が入れられている。移
動プレート(移動電極)10は、わずかな隙間(例えば
1mm)を隔てて固定プレート(固定電極)11と面し
ながら、電気粘性流体13中を移動する。
【0024】高圧(電圧は、移動ステージの移動速度に
応じて0.5kV〜2.0kVまで変化する。)の電源
回路の1端子と移動プレート(移動電極)10とを1本
の電気接続線が接続し(電気接続線14に含まれ
る。)、前記高圧の電源回路の他の1端子と固定プレー
ト(固定電極)11とを他の1本の電気接続線が接続す
る。移動プレート(移動電極)10と固定プレート(固
定電極)11との間に高圧の電圧を印加することによ
り、両プレートの間に印加電圧に応じた高い電界が発生
する。電気粘性流体13は、無電界においてはほとんど
粘性を有さないが、高電界中では電界強度に応じた非常
に高い粘性を発生する。移動ステージの移動中に電気粘
性流体13に高い電界を印加することにより、移動ステ
ージの振動幅を小さくすることが出来る。
【0025】電気粘性流体13は、例えば絶縁性の流体
に電気分極性を有する粒子を分散させたコロイド溶液で
ある。図3に、(a)無電界の時から(b)高い電界を
印加した時への電気粘性流体13の粒子17の変化の様
子を示す。 (a)無電界の時には、電気粘性流体13に含まれる粒
子17は均一に分散しており、電気粘性流体13はほと
んど粘性を有さない。 (b)電気粘性流体に高い電界を印加すると、粒子17
が分極して、クラスタと呼ばれる粒子の連鎖が形成され
る。これにより、電気粘性流体13は高い粘度を有する
ようになる。
【0026】実施例においては移動電極10と固定電極
11との間に電圧を印加しているが、これに代えて、互
いに向かい合った2個の固定電極11の間に電圧を印加
してもよい。移動電極10の抵抗を削減するために、移
動電極10の先端をとがらせたり、多孔質の電極部材で
移動電極10を形成してもよい。又、ダンピング効果を
高めるために電極の表面をサンド等で荒らした電極を使
用しても良い。また、粘性流体として磁性流体(磁界を
かけると、高い粘性を発生する流体)を用いてもよい。
【0027】可動部と固定部との間には、静圧流体軸受
18(実施例においては流体として空気を使用する。)
が設けられている。固定部に設けられたエアコンプレッ
サ(図示していない。)から静圧流体軸受用エアー配管
15を通じて、静圧流体軸受18にエアー(空気)が供
給される。静圧流体軸受18は、流体の静圧により、軸
受を図1の矢印方向に支持する。静圧流体軸受18及び
ガイド2は、移動ステージを高い精度で移動させる。実
施例の光ディスクの原盤記録装置においては、可動部に
搭載された記録用光ヘッド部のフォーカスサーボを行っ
ている。電気接続線14は、コイルアセンブリ3に接続
する2本の線及び移動プレート10に接続する1本の線
の他、記録用光ヘッド部のフォーカスサーボ用リニアモ
ータ(フォーカスアクチュエータ)104の2個の端子
への接続線も含む。
【0028】実施例の光ディスクの原盤記録装置におい
ては、移動ステージに搭載された記録用光ヘッド部の可
動部と固定部(可動部はフオーカスアクチュエータ10
4によって駆動される。)との間には、他の静圧流体軸
受が設けられている。固定部に設けられたエアコンプレ
ッサ(図示していない。)から静圧流体軸受用エアー配
管16を通じて、フォーカスアクチュエータ部によって
駆動される可動部を支持する他の静圧流体軸受にエアー
(空気)が供給される。
【0029】連結部4は、コイルアセンブリ3と、移動
ステージ1及び軸受(可動部側)18等とを接続する。
又、エアー配管15、16及び電気接続線14は、連結
部4又はコイルアセンブリ3の底面より鉛直方向に引き
出され、それぞれ固定部に配置されたエアーコンプレッ
サ及び電源等に接続されている。実施例の送り装置は図
4に示す除振台108に搭載されており(図1には図示
していない。)、連結部4等の底面より鉛直方向に引き
出されたエアー配管15、16及び電気接続線14は除
振台108が置かれた床に到達するまでの間(実施例に
おいては約1m)フリーな状態にある。
【0030】移動プレート1の移動距離L1に対して、
連結部4等の底面より除振台108が置かれた床までの
距離L2は、L2>5×L1の関係を有する。エアー配
管又は電気接続線が床の1点(固定点)から引き出され
ており且つL2=5×L1であるとすれば、移動プレー
ト1が移動する両端でのエアー配管又は電気接続線の長
さは、√{(5・L1)+L1}−5・L1=0.
1・L1より、2%(=0.1・L1/(5・L1))
しか変化しない。従って、エアー配管又は電気接続線の
ねじり抵抗又は引きずり抵抗等はほとんど発生しない
(又は変化しない。)。実施例においては、移動プレー
ト1の移動距離L1は約10cm、連結部4等の底面よ
り除振台108が置かれた床までの距離L2は約1m
(=10×L1)である故に、エアー配管又は電気接続
線のねじり抵抗又は引きずり抵抗等は更にほとんど発生
しない(又は更に変化しない。)。
【0031】更に、実施例においては、螺旋状の形状を
有するエアー配管を使用している。移動ステージの移動
時には、連結部4の底面から床までのフリーな部分にお
いて配管の螺旋部が伸び縮みして、エアー配管の接続距
離の変化を吸収する。従って、エアー配管又は電気接続
線のねじり抵抗又は引きずり抵抗等はほとんど発生しな
い(又は変化しない。)。実施例においては、電気接続
線はまっすぐな通常の線を使用しているが、これに代え
て螺旋状の形状を有する電気接続線を使用しても良い。
【0032】図2は、連結部4に入力されたエアー配管
及び電気接続線の内部配置の様子を示す。図2は、連結
部4と、コイルアセンブリ3と、コイルアセンブリ3の
ボビン19のみを図示する。連結部4には複数のトンネ
ルが設けられており、2個のトンネルには電気接続線1
4が通され、他の2個のトンネルはエアー配管15、1
6の一部を構成している。コイルアセンブリ3への接続
線(電気接続線14に含まれる。)は、コイルアセンブ
リの底面から床に向かって鉛直方向に引き出されて床に
下り、床の上を延びてリニアモータの駆動回路の出力端
子に接続されている。
【0033】他の電気接続線(例えばフォーカスアクチ
ュエータのコイルアセンブリへの接続線及び移動プレー
ト(移動電極)10への接続線等)及びエアー配管1
5、16は、連結部4の底面から床に向かって鉛直方向
に引き出されて床に下り、床の上を延びてフォーカスア
クチュエータの駆動回路の出力端子、電源回路の出力端
子、エアーコンプレッサ等に接続される。又、連結部4
に入力された他の電気接続線及びエアー配管15、16
は、連結部4の中を経由して連結部4から取り出され、
それぞれの可動部に含まれるフォーカスアクチュエータ
のコイルアセンブリの端子、移動プレートの端子、フォ
ーカスアクチュエータの静圧流体軸受の入力部及び静圧
流体軸受18の入力部等に接続される。エアー配管1
5、16は連結部4内の複数の箇所で屈折しており、エ
アー配管15、16が連結部4内を通過する距離が出来
るだけ長くなるように構成されている。
【0034】エアー配管15、16が連結部4内の複数
の箇所で屈折することにより、流体の移動速度が抑えら
れ且つ流体の静圧が均一化される。又、連結部4内に多
くの屈折箇所を設け、エアー配管の連結部内の通過距離
が長くなるように構成することにより、駆動時にコイル
アセンブリ3で発生して連結部4に伝えられた熱がエア
ー配管15、16を流れるエアーにより奪われ、連結部
4が冷却される。コイルアセンブリ3で発生した熱は移
動ステージ1及び軸受18にほとんど伝達されず、移動
ステージ1及び軸受18はほとんど温度上昇しない。従
って、移動ステージ1又は軸受18が温度上昇により膨
張し、送り精度又は位置精度が劣化するという問題は発
生しない。実施例の送り装置を使用する光ディスクの原
盤記録装置は、高い精度で光ディスクの原盤に信号を記
録する。
【0035】他の実施例においては、エアー配管15、
16は連結部4と独立の部材であり、連結部4と広い面
積で接する。この構成によっても、駆動部で発生する熱
が移動ステージ又は軸受18に伝わることを防止でき
る。更に他の実施例においては、エアー配管15、16
は駆動部を直接冷却する。(例えばコイルアセンブリ3
とエアー配管15、16とが接している。)。もっと
も、一般的には、上記の実施例の構成のほうが、当該2
つの他の実施例の構成よりも連結部4での冷却効果は大
きい。ガイド2は、静圧軸受、精密リニアガイドでもよ
い。
【0036】
【発明の効果】本発明によれば、駆動部の発熱が軸受及
び移動ステージに伝達しにくい構造を有し、移動ステー
ジの精密な移動及び位置決めを行う送り装置を実現出来
るという有利な効果が得られる。本発明によれば、駆動
部の発熱が軸受及び移動ステージに伝達しにくい構造を
有し、移動ステージの精密な移動及び位置決めを行う小
型でコストの安い送り装置を実現出来るという有利な効
果が得られる。
【0037】本発明によれば、流体配管及び電気接続線
のねじり抵抗及び引きずり抵抗又はそれらの変化が小さ
く、移動ステージの精密な移動及び位置決めを行う送り
装置を実現出来るという有利な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の送り装置の構成を示す図
【図2】本発明の実施例の送り装置の連結部の構成を示
す図
【図3】粒子系の電気粘性流体の発現機構の原理を示す
【図4】光ディスクの原盤記録装置の概略的な構成図
【図5】従来例の送り装置の概略的な構成を示す図
【符号の説明】
1 移動ステージ 2 ガイド 3 コイルアセンブリ(リニアモータの可動部) 4 連結部 5 ヨーク 6 永久磁石 7 センターヨーク 8 位置検出スケール 9 位置検出へッド 10 移動プレート(移動電極) 11 固定プレート(固定電極) 12 容器 13 電気粘性流体 14 電気接続線 15 スライダ部の静圧軸受用エアー配管 16 フオーカスアクチュエータ部の静圧軸受用エアー
配管 17 粒子 18 静圧流体軸受 19 ボビン 101 レーザ発振器 102 エアースピンドル 103 スライダー 104 フォーカスアクチュエータ 105 ビームスポットモニタ 106 移動光学系 107 ガラス原盤 108 除振台
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 英明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 3J102 AA02 BA05 BA11 CA11 EA02 EA08 EB03 GA01 GA20 5F046 CC03 CC18 CC19 5H641 BB06 BB16 BB18 GG03 GG15 GG20 GG26 HH02 HH06 JA06 JA09 JA19 JB04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 移動ステージと、 前記移動ステージを含む可動部と固定部との間の荷重を
    支持する軸受と、 前記可動部を移動させる駆動部と、 前記移動ステージ及び軸受を含む部分と、前記駆動部と
    を連結する連結部と、 前記連結部及び前記駆動部の少なくともいずれか一方と
    接し又は少なくともいずれか一方に含まれる、流体を供
    給する配管と、 を有することを特徴とする送り装置。
  2. 【請求項2】 前記軸受が流体を用いた軸受であって、
    且つ、 前記配管により供給される流体が、前記軸受に使用され
    る流体である、 ことを特徴とする請求項1に記載の送り装置。
  3. 【請求項3】 移動ステージを含む可動部と、 前記可動部を移動させる駆動部と、 一端を前記可動部に接続され且つ他端を固定部に接続さ
    れ、前記可動部の底面より鉛直方向に引き出された流体
    配管又は電気接続線と、 を有することを特徴とする送り装置。
  4. 【請求項4】 前記流体配管又は前記電気接続線が、前
    記可動部の底面より測定して、前記移動ステージの移動
    距離の5倍以上の長さに渡って前記固定部と接触しない
    構成を有することを特徴とする請求項3に記載の送り装
    置。
  5. 【請求項5】 前記流体配管又は前記電気接続線が、前
    記可動部の底面より前記固定部と接触するまでの少なく
    とも一部において、螺旋形状を有することを特徴とする
    請求項3に記載の送り装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004114380A1 (ja) * 2003-06-19 2004-12-29 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
JPWO2005122242A1 (ja) * 2004-06-07 2008-04-10 株式会社ニコン ステージ装置、露光装置及び露光方法
US9500960B2 (en) 2003-04-11 2016-11-22 Nikon Corporation Apparatus and method for maintaining immersion fluid in the gap under the projection lens during wafer exchange in an immersion lithography machine
US9632431B2 (en) 2004-02-02 2017-04-25 Nikon Corporation Lithographic apparatus and method having substrate and sensor tables
USRE46933E1 (en) 2005-04-08 2018-07-03 Asml Netherlands B.V. Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method
US11187991B2 (en) 2008-05-28 2021-11-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9946163B2 (en) 2003-04-11 2018-04-17 Nikon Corporation Apparatus and method for maintaining immersion fluid in the gap under the projection lens during wafer exchange in an immersion lithography machine
US9500960B2 (en) 2003-04-11 2016-11-22 Nikon Corporation Apparatus and method for maintaining immersion fluid in the gap under the projection lens during wafer exchange in an immersion lithography machine
US8436979B2 (en) 2003-06-19 2013-05-07 Nikon Corporation Exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101289979B1 (ko) 2003-06-19 2013-07-26 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
CN100459036C (zh) * 2003-06-19 2009-02-04 株式会社尼康 曝光装置及器件制造方法
KR101119812B1 (ko) * 2003-06-19 2012-03-06 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
KR101146962B1 (ko) 2003-06-19 2012-05-22 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
US9810995B2 (en) 2003-06-19 2017-11-07 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
WO2004114380A1 (ja) * 2003-06-19 2004-12-29 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
KR101265454B1 (ko) 2003-06-19 2013-05-16 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
KR101265450B1 (ko) 2003-06-19 2013-05-16 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
US10007188B2 (en) 2003-06-19 2018-06-26 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
JP2014078752A (ja) * 2003-06-19 2014-05-01 Nikon Corp 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
KR101419663B1 (ko) 2003-06-19 2014-07-15 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
KR101475634B1 (ko) * 2003-06-19 2014-12-22 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
KR101476087B1 (ko) * 2003-06-19 2014-12-23 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
KR101483916B1 (ko) 2003-06-19 2015-01-16 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
US10191388B2 (en) 2003-06-19 2019-01-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, and device manufacturing method
US9551943B2 (en) 2003-06-19 2017-01-24 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
US9684248B2 (en) 2004-02-02 2017-06-20 Nikon Corporation Lithographic apparatus having substrate table and sensor table to measure a patterned beam
US9665016B2 (en) 2004-02-02 2017-05-30 Nikon Corporation Lithographic apparatus and method having substrate table and sensor table to hold immersion liquid
US9632431B2 (en) 2004-02-02 2017-04-25 Nikon Corporation Lithographic apparatus and method having substrate and sensor tables
US10007196B2 (en) 2004-02-02 2018-06-26 Nikon Corporation Lithographic apparatus and method having substrate and sensor tables
US10139737B2 (en) 2004-02-02 2018-11-27 Nikon Corporation Lithographic apparatus and method having substrate and sensor tables
US8325326B2 (en) 2004-06-07 2012-12-04 Nikon Corporation Stage unit, exposure apparatus, and exposure method
JP2011077528A (ja) * 2004-06-07 2011-04-14 Nikon Corp ステージ装置、露光装置及び露光方法
JP4655039B2 (ja) * 2004-06-07 2011-03-23 株式会社ニコン ステージ装置、露光装置及び露光方法
JPWO2005122242A1 (ja) * 2004-06-07 2008-04-10 株式会社ニコン ステージ装置、露光装置及び露光方法
USRE46933E1 (en) 2005-04-08 2018-07-03 Asml Netherlands B.V. Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method
USRE47943E1 (en) 2005-04-08 2020-04-14 Asml Netherlands B.V. Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method
US11187991B2 (en) 2008-05-28 2021-11-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus

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