JP2002131675A - Exposure recording apparatus - Google Patents

Exposure recording apparatus

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JP2002131675A
JP2002131675A JP2000326944A JP2000326944A JP2002131675A JP 2002131675 A JP2002131675 A JP 2002131675A JP 2000326944 A JP2000326944 A JP 2000326944A JP 2000326944 A JP2000326944 A JP 2000326944A JP 2002131675 A JP2002131675 A JP 2002131675A
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JP
Japan
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scanning direction
sub
opening
light
width
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Application number
JP2000326944A
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Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Miyagawa
一郎 宮川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain high-quality images free of unevenness by easily regulating the widths to a sub scanning direction of the respective light beams outputted from respective light sources arrayed in the sub-scanning direction with high accuracy. SOLUTION: The near field patterns of the laser beams L outputted from semiconductor lasers 18 are imaged to apertures 24 through collimator lenses 20 and cylindrical lenses 22 and the widths thereof to the sub-scanning direction (arrow Y direction) are regulated by the turning angles of the apertures 24. The laser beams L regulated in the widths are guided through the cylindrical lenses 26 and imaging lenses 28 to a recording film F and the beam spots consisting of the desired recording widths are formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームにより記
録媒体を主走査および副走査することで画像を露光記録
する露光記録装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure recording apparatus for exposing and recording an image by scanning a recording medium in a main scanning direction and a sub-scanning direction with a light beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、外周面に感光材料が装着された
ドラムを主走査方向に回転させる一方、画像に応じて変
調されたレーザビームを前記主走査方向と直交する副走
査方向に走査させることで、2次元画像を前記感光材料
に記録するようにした露光記録装置が用いられている。
2. Description of the Related Art For example, while a drum having a photosensitive material mounted on an outer peripheral surface is rotated in a main scanning direction, a laser beam modulated according to an image is scanned in a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction. There is used an exposure recording apparatus which records a two-dimensional image on the photosensitive material.

【0003】このような露光記録装置において、大サイ
ズの画像を高速記録することを目的として、副走査方向
に複数の光源を配置し、これらの光源を同時に駆動して
記録するように構成した装置がある(特開平7−231
95号公報参照)。この場合、隣接する光源から出力さ
れるレーザビームのビーム径にばらつきがあると、各光
源による記録範囲の接続部分にすじ状のむらが生じた
り、各光源の記録範囲毎に濃度むらが生じるといった不
具合が生じてしまう。
[0003] In such an exposure recording apparatus, a plurality of light sources are arranged in the sub-scanning direction for the purpose of high-speed recording of a large-sized image, and these light sources are simultaneously driven to perform recording. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-231)
No. 95). In this case, if the beam diameter of the laser beam output from the adjacent light source varies, a defect such as a streak-like unevenness occurs in a connection portion of a recording range by each light source, or a density unevenness occurs in a recording range of each light source. Will occur.

【0004】このような不具合を解消する方法として、
通常のレーザビームの光軸と直交する面内での光量分布
がガウス状となることに鑑み、各レーザビームの光量を
調整して感光材料上でのビーム径を制御することが考え
られる。すなわち、図1に示す発色閾値を有する感光材
料に対して画像を露光記録する場合、特性Aの光量分布
からなるレーザビームでは、ビーム径aのスポットを形
成することができる。そこで、光量を調整して特性Bの
光量分布からなるレーザビームとすることにより、ビー
ム径bのスポットを形成することができる。
[0004] As a method of solving such a problem,
In view of the fact that the light quantity distribution in a plane orthogonal to the optical axis of a normal laser beam becomes Gaussian, it is conceivable to control the beam diameter on the photosensitive material by adjusting the light quantity of each laser beam. That is, when an image is exposed and recorded on a photosensitive material having the color development threshold shown in FIG. 1, a spot having a beam diameter a can be formed with a laser beam having a light amount distribution of the characteristic A. Therefore, by adjusting the light amount to obtain a laser beam having the light amount distribution of the characteristic B, a spot having a beam diameter b can be formed.

【0005】しかしながら、ガウス状の光量分布からな
るレーザビームの光量調整を前記のようにして行う場
合、光量の環境温度による変化や、露光後における現像
処理液の濃度等によって発色範囲が微妙に変動する可能
性があるため、それらを常時高精度に制御することは、
極めて困難である。
However, when the light amount of a laser beam having a Gaussian light amount distribution is adjusted as described above, the color forming range slightly changes due to a change in the light amount due to the environmental temperature, the concentration of a developing solution after exposure, and the like. Control them with high precision at all times,
Extremely difficult.

【0006】一方、レーザ光源として、図2に示すよう
に、一走査方向に対する光量分布が略矩形状となる特性
Cを有するものがある。このような光量分布を得ること
のできるレーザ光源としては、例えば、屈折率導波型半
導体レーザを挙げることができる。この場合、レーザビ
ームの光量が環境温度等によって特性Dのように変動し
たり、あるいは、露光後における現像処理液の濃度等が
変動したとしても、光量分布が略矩形状であるため、そ
の走査方向に対するビーム径cが変動することはない。
On the other hand, as shown in FIG. 2, there is a laser light source having a characteristic C in which a light amount distribution in one scanning direction is substantially rectangular. As a laser light source capable of obtaining such a light amount distribution, for example, a refractive index guided semiconductor laser can be mentioned. In this case, even if the light amount of the laser beam fluctuates according to the characteristic D due to environmental temperature or the like, or even if the concentration of the developing solution after exposure fluctuates, the light amount distribution is substantially rectangular, The beam diameter c does not change with respect to the direction.

【0007】しかしながら、この種のレーザ光源の場
合、光量変動によるビーム径cのばらつきはないが、光
源の個体差としてのビーム径cのばらつきが存在する。
このような個体差を吸収するために、レーザ光源と感光
材料との間に配設される結像レンズの倍率を個々に調整
する方法が考えられるが、レンズ構成や倍率調整機構が
複雑となり、コストアップとなる欠点がある。
However, in the case of this type of laser light source, there is no variation in the beam diameter c due to a change in the amount of light, but there is variation in the beam diameter c as an individual difference of the light source.
In order to absorb such individual differences, a method of individually adjusting the magnification of the imaging lens provided between the laser light source and the photosensitive material is considered, but the lens configuration and the magnification adjustment mechanism become complicated, There is a disadvantage that the cost increases.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の不具
合を解決するためになされたものであり、副走査方向に
配列された各光源から出力される各光ビームの副走査方
向に対する幅を容易且つ高精度に調整し、むらのない高
品質な画像を得ることのできる露光記録装置を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problem, and has been made to reduce the width of each light beam output from each light source arranged in the sub-scanning direction in the sub-scanning direction. It is an object of the present invention to provide an exposure recording apparatus which can easily and accurately adjust and obtain a high-quality image without unevenness.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る露光記録装
置は、光ビームにより記録媒体を主走査および副走査す
ることで画像を露光記録する露光記録装置において、副
走査方向に配列され、前記副走査方向に対する光量分布
が略矩形状となる光ビームを出力する複数の光源と、前
記各光源から出力された前記光ビームのニアフィールド
パターンを結像する第1結像光学系と、前記第1結像光
学系による前記ニアフィールドパターンの結像位置に配
置され、主走査方向を軸として回動することで前記ニア
フィールドパターンの前記副走査方向に対する幅を調整
する開口部と、前記開口部により調整された前記ニアフ
ィールドパターンの開口像を前記記録媒体上に結像する
第2結像光学系と、を備えることを特徴とする。
An exposure recording apparatus according to the present invention is an exposure recording apparatus for exposing and recording an image by main-scanning and sub-scanning a recording medium with a light beam. A plurality of light sources that output light beams whose light amount distribution in the sub-scanning direction is substantially rectangular; a first imaging optical system that forms an image of a near-field pattern of the light beams output from each of the light sources; (1) an opening which is arranged at an imaging position of the near-field pattern by the imaging optical system and adjusts the width of the near-field pattern in the sub-scanning direction by rotating about a main scanning direction; And a second imaging optical system that forms the aperture image of the near-field pattern adjusted by the above on the recording medium.

【0010】この場合、各光ビームのニアフィールドパ
ターンの結像位置に配置された各開口部を主走査方向を
軸として回動させることにより、副走査方向に対する実
質的な開口幅を調整し、これによって、記録媒体上での
光ビームの副走査方向の幅を調整することができる。
In this case, by rotating each of the apertures arranged at the imaging position of the near-field pattern of each light beam about the main scanning direction as an axis, the substantial aperture width in the sub-scanning direction is adjusted, Thereby, the width of the light beam on the recording medium in the sub-scanning direction can be adjusted.

【0011】なお、開口部を回動させた場合、副走査方
向両側部の各エッジ部分による光ビームの幅調整位置が
光軸方向にずれ、このずれの影響が記録媒体上での開口
像の形状の変形として現れる。そこで、この変形の許容
量であるニアフィールドパターンの副走査方向の幅の増
加率をn%とし、 D0・sinθmax・m2<ΔZ/n (D0:開口部の副走査方向に対する幅、θmax:開口
部の最大回動角度、m:第2結像光学系の結像倍率、Δ
Z:ニアフィールドパターンの副走査方向の幅がn%増
加する光軸方向の距離) となるように露光記録装置を設計することにより、光ビ
ームの副走査方向に対する幅を所定の許容範囲内に調整
することができる。
When the opening is rotated, the width adjustment position of the light beam by each edge portion on both sides in the sub-scanning direction is shifted in the optical axis direction, and the effect of this shift is the effect of the opening image on the recording medium. Appears as a deformation of the shape. Therefore, the rate of increase in the width of the near-field pattern in the sub-scanning direction, which is the allowable amount of the deformation, is defined as n%, and D0 · sin θmax · m 2 <ΔZ / n (D0: the width of the opening in the sub-scanning direction, θmax: Maximum rotation angle of the aperture, m: imaging magnification of the second imaging optical system, Δ
Z: distance in the optical axis direction where the width of the near-field pattern in the sub-scanning direction increases by n%) so that the width of the light beam in the sub-scanning direction falls within a predetermined allowable range. Can be adjusted.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図3および図4は、本発明の露光
記録装置が適用されるレーザ記録装置10を示す。この
レーザ記録装置10は、露光ヘッド12から射出された
複数のレーザビームLをドラム14上に装着された記録
フイルムF(記録媒体)に照射することで、面積変調画
像を記録するようにしたものである。なお、記録フイル
ムFには、主走査方向(矢印X方向)に回転するドラム
14に対して露光ヘッド12を副走査方向(矢印Y方
向)に移動させることで、2次元画像が形成される。ま
た、面積変調画像とは、画像情報に応じてレーザビーム
Lをオンオフ制御することで、記録フイルムF上に複数
の画素を形成し、その画素の占める面積によって所定の
階調が得られるようにした画像である。
FIG. 3 and FIG. 4 show a laser recording apparatus 10 to which the exposure recording apparatus of the present invention is applied. The laser recording apparatus 10 records an area-modulated image by irradiating a recording film F (recording medium) mounted on a drum 14 with a plurality of laser beams L emitted from an exposure head 12. It is. Note that a two-dimensional image is formed on the recording film F by moving the exposure head 12 in the sub-scanning direction (arrow Y direction) with respect to the drum 14 rotating in the main scanning direction (arrow X direction). The area-modulated image means that a plurality of pixels are formed on the recording film F by controlling on / off of the laser beam L according to image information, and a predetermined gradation is obtained according to the area occupied by the pixels. Image.

【0013】露光ヘッド12は、副走査方向(矢印Y方
向)に配列された複数の光源ユニット16A〜16Nに
より構成される。各光源ユニット16A〜16Nは、画
像情報に応じて変調されたレーザビームLを出力する半
導体レーザ18(光源)と、レーザビームLをコリメー
トするコリメータレンズ20と、コリメートされたレー
ザビームLを副走査方向(矢印Y方向)に集光するシリ
ンドリカルレンズ22と、シリンドリカルレンズ22の
焦点位置に配置される開口部24と、レーザビームLを
副走査方向(矢印Y方向)に集光して平行光束とするシ
リンドリカルレンズ26と、レーザビームLを記録フイ
ルムFに対して集光する結像レンズ28とから構成され
る。
The exposure head 12 is composed of a plurality of light source units 16A to 16N arranged in the sub-scanning direction (the direction of arrow Y). Each of the light source units 16A to 16N includes a semiconductor laser 18 (light source) that outputs a laser beam L modulated according to image information, a collimator lens 20 that collimates the laser beam L, and sub-scanning of the collimated laser beam L. Lens 22 for focusing in the direction (arrow Y direction), an opening 24 disposed at the focal position of the cylindrical lens 22, and a parallel light beam for focusing the laser beam L in the sub-scanning direction (arrow Y direction). And a focusing lens 28 for focusing the laser beam L on the recording film F.

【0014】ここで、半導体レーザ18としては、図2
の特性C(またはD)に示すように、副走査方向(矢印
Y方向)に対する光量分布が略矩形状となるレーザビー
ムLを出力するブロードエリアレーザダイオード(BL
D)を用いることができる。
Here, as the semiconductor laser 18, FIG.
As shown in the characteristic C (or D), the broad area laser diode (BL) that outputs the laser beam L whose light amount distribution in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y) is substantially rectangular.
D) can be used.

【0015】コリメータレンズ20およびシリンドリカ
ルレンズ22は、半導体レーザ18から出力されたレー
ザビームLのニアフィールドパターンを開口部24の位
置において結像させる第1結像光学系を構成する。ま
た、シリンドリカルレンズ26および結像レンズ28
は、開口部24によって調整されたニアフィールドパタ
ーンの開口像を記録フイルムF上に結像する第2結像光
学系を構成する。
The collimator lens 20 and the cylindrical lens 22 constitute a first imaging optical system that forms an image of the near-field pattern of the laser beam L output from the semiconductor laser 18 at the position of the opening 24. Further, a cylindrical lens 26 and an imaging lens 28
Constitutes a second imaging optical system that forms the aperture image of the near-field pattern adjusted by the aperture 24 on the recording film F.

【0016】図5は、開口部24の詳細な構成を示す図
である。光源ユニット16A〜16Nの各開口部24
は、副走査方向(矢印Y方向)に長尺となる共通の基盤
30上に配設される。基盤30上には、位置決め台32
を介して支持枠34が固定される。支持枠34の中央部
に形成された孔部36には、主走査方向(矢印X方向)
に長尺に構成され、副走査方向(矢印Y方向)のレーザ
ビームLの幅を規制する矩形状のスリット38を有する
開口部材40が装着される。
FIG. 5 is a diagram showing a detailed configuration of the opening 24. As shown in FIG. Each opening 24 of the light source units 16A to 16N
Are arranged on a common base 30 which is long in the sub-scanning direction (the direction of arrow Y). On the base 30, a positioning table 32
The support frame 34 is fixed via the. A hole 36 formed in the center of the support frame 34 has a main scanning direction (arrow X direction).
An opening member 40 having a rectangular slit 38 for regulating the width of the laser beam L in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y) is attached.

【0017】支持枠34を介して開口部材40を支持す
る位置決め台32は、軸心が主走査方向(矢印X方向)
に平行な軸部材42を介して基盤30に回動可能に支持
される。位置決め台32には、軸部材42を中心として
対称となる部位に、円弧状の長孔44a、44bが形成
される。これらの長孔44a、44bには、ボルト部材
46a、46bが挿通される。ボルト部材46a、46
bは、基盤30に螺合されており、これらを締結するこ
とにより、位置決め台32が基盤30に固定される。
The positioning table 32 supporting the opening member 40 via the support frame 34 has its axis centered in the main scanning direction (the direction of the arrow X).
Is rotatably supported by the base 30 via a shaft member 42 parallel to the shaft. In the positioning table 32, arc-shaped long holes 44a and 44b are formed at symmetrical portions around the shaft member 42. Bolt members 46a, 46b are inserted into these long holes 44a, 44b. Bolt members 46a, 46
b is screwed to the base 30, and by fastening these, the positioning table 32 is fixed to the base 30.

【0018】本実施形態のレーザ記録装置10は、基本
的には、以上のように構成されるものであり、次に、そ
の作用効果について説明する。
The laser recording apparatus 10 according to the present embodiment is basically configured as described above. Next, the operation and effect thereof will be described.

【0019】先ず、レーザ記録装置10の概略的な動作
について説明する。
First, a schematic operation of the laser recording apparatus 10 will be described.

【0020】図3および図4において、画像データに応
じて変調された半導体レーザ18から出力されたレーザ
ビームLは、コリメータレンズ20によってコリメート
された後、シリンドリカルレンズ22によって副走査方
向(矢印Y方向)に集光され、開口部24にレーザビー
ムLのニアフィールドパターンを結像する。
3 and 4, a laser beam L output from a semiconductor laser 18 modulated in accordance with image data is collimated by a collimator lens 20, and then is collimated by a cylindrical lens 22 in the sub-scanning direction (in the direction of arrow Y). ) To form an image of a near-field pattern of the laser beam L on the opening 24.

【0021】開口部24に結像されたニアフィールドパ
ターンは、図2に示すように、副走査方向(矢印Y方
向)に対して略矩形状の光量分布を有しており、副走査
方向(矢印Y方向)のビーム径cが開口部材40のスリ
ット38によって調整された後、シリンドリカルレンズ
26に導かれる。シリンドリカルレンズ26によって副
走査方向(矢印Y方向)に集光され平行光束とされたレ
ーザビームLは、結像レンズ28によって集光され、記
録フイルムF上にスリット38の開口像が形成される。
As shown in FIG. 2, the near-field pattern formed on the aperture 24 has a light quantity distribution substantially rectangular in the sub-scanning direction (the direction of arrow Y). After the beam diameter c (in the direction of the arrow Y) is adjusted by the slit 38 of the aperture member 40, the beam is guided to the cylindrical lens 26. The laser beam L converged by the cylindrical lens 26 in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y) and converted into a parallel light beam is condensed by the imaging lens 28, and an aperture image of the slit 38 is formed on the recording film F.

【0022】この場合、記録フイルムFが装着されたド
ラム14は、主走査方向(矢印X方向)に回転してお
り、各光源ユニット16A〜16Nから出力されたレー
ザビームLにより同時にN本の主走査線が形成される。
一方、露光ヘッド12は、副走査方向(矢印Y方向)に
移動し、この移動によって記録フイルムF上に2次元画
像が形成される。なお、記録フイルムFに照射されるレ
ーザビームLは、副走査方向(矢印Y方向)に対して略
矩形状の光量分布を有しているので、光量変動によるむ
らのない画像を得ることができる。
In this case, the drum 14 on which the recording film F is mounted is rotating in the main scanning direction (the direction of the arrow X), and N laser beams L output from the light source units 16A to 16N are used to simultaneously drive N main drums. A scanning line is formed.
On the other hand, the exposure head 12 moves in the sub-scanning direction (arrow Y direction), and a two-dimensional image is formed on the recording film F by this movement. Since the laser beam L applied to the recording film F has a substantially rectangular light quantity distribution in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y), it is possible to obtain an image without fluctuation due to light quantity fluctuation. .

【0023】ところで、個々の半導体レーザ18は、個
体差を有しているため、出力されるレーザビームLの副
走査方向(矢印Y方向)の幅が全て同じになるとは限ら
ない。また、レーザビームLの副走査方向(矢印Y方
向)に対する幅を規制するスリット38自体も全て同じ
に設計することは極めて困難である。
Since the individual semiconductor lasers 18 have individual differences, the widths of the output laser beams L in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y) are not always the same. Further, it is extremely difficult to design the slits 38 themselves that regulate the width of the laser beam L in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y) in the same manner.

【0024】そこで、本実施形態では、各光源ユニット
16A〜16Nを構成する開口部24を個々に調整可能
に構成することにより、前記の不具合を解消している。
Therefore, in the present embodiment, the above-mentioned disadvantage is solved by configuring the openings 24 constituting each of the light source units 16A to 16N so as to be individually adjustable.

【0025】すなわち、開口部24を構成する開口部材
40は、図5に示すように、基盤30に対して軸部材4
2を中心として回動可能に構成されている。開口部材4
0を主走査方向(矢印X方向)の回りに回動させること
により、レーザビームLに対するスリット38の副走査
方向(矢印Y方向)に対する幅が変動する。この幅を各
光源ユニット16A〜16N毎に調整した後、ボルト部
材46a、46bを締結して支持枠34を固定する。こ
の結果、光源ユニット16A〜16Nから出力され、記
録フイルムFに照射されるレーザビームLの副走査方向
(矢印Y方向)に対する幅を、半導体レーザ18の個体
差によらず同一に設定することができる。
That is, as shown in FIG. 5, the opening member 40 forming the opening 24 is
2 is rotatable. Opening member 4
By rotating 0 around the main scanning direction (arrow X direction), the width of the slit 38 with respect to the laser beam L in the sub scanning direction (arrow Y direction) changes. After adjusting the width for each of the light source units 16A to 16N, the bolts 46a and 46b are fastened to fix the support frame 34. As a result, the width of the laser beam L output from the light source units 16A to 16N and irradiated on the recording film F in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y) can be set to be the same regardless of the individual difference of the semiconductor laser 18. it can.

【0026】ここで、開口部材40を回動させることに
よりレーザビームLの幅調整を行った場合、図6に示す
ように、副走査方向(矢印Y方向)に対するスリット3
8の一方のエッジ48aにより整形されたレーザビーム
Lと、他方のエッジ48bにより整形されたレーザビー
ムLとで、光軸方向(矢印Z方向)に対する整形位置が
異なるため、記録フイルムF上に形成されるビームスポ
ット形状が副走査方向(矢印Y方向)に対して非対称と
なってしまう。
Here, when the width of the laser beam L is adjusted by rotating the opening member 40, as shown in FIG. 6, the slit 3 in the sub-scanning direction (the direction of arrow Y) is used.
8 is formed on the recording film F because the laser beam L shaped by one edge 48a and the laser beam L shaped by the other edge 48b have different shaping positions in the optical axis direction (arrow Z direction). The resulting beam spot shape becomes asymmetric with respect to the sub-scanning direction (the arrow Y direction).

【0027】そこで、このようなビームスポット形状の
変形を許容範囲内とするため、露光ヘッド12の設計パ
ラメータを以下の式に従って設定する。すなわち、スリ
ット38の副走査方向(矢印Y方向)に対する幅をD
0、開口部材40の最大回動角度をθmax、シリンドリ
カルレンズ26および結像レンズ28による結像倍率を
m、光軸方向Zへ距離ΔZだけ変位した位置におけるニ
アフィールドパターンの副走査方向(矢印Y方向)の幅
の増加率をn%として、 D0・sinθmax・m2<ΔZ/n となるように幅D0、最大回動角度θmax、結像倍率m
を設定することにより、n%未満の変形率からなるビー
ムスポットを記録フイルムF上に形成することができ
る。
Therefore, in order to keep the deformation of the beam spot shape within an allowable range, the design parameters of the exposure head 12 are set according to the following equations. That is, the width of the slit 38 in the sub-scanning direction (the direction of the arrow Y) is D
0, the maximum rotation angle of the aperture member 40 is θmax, the imaging magnification of the cylindrical lens 26 and the imaging lens 28 is m, and the sub-scanning direction of the near field pattern at the position displaced by the distance ΔZ in the optical axis direction Z (arrow Y). The width D0, the maximum rotation angle θmax, and the imaging magnification m so that D0 · sin θmax · m 2 <ΔZ / n, where n is the rate of increase of the width of the
Is set, a beam spot having a deformation ratio of less than n% can be formed on the recording film F.

【0028】なお、ブロードエリアレーザダイオードの
場合、一般的には、ニアフィールドパターンの副走査方
向(矢印Y方向)の幅の増加率が10%程度であること
が知られている。従って、この場合、露光ヘッド12の
設計パラメータは、 D0・sinθmax・m2<ΔZ/10 となるように設定することが望ましい。
In the case of a broad area laser diode, it is generally known that the increase rate of the width of the near-field pattern in the sub-scanning direction (arrow Y direction) is about 10%. Therefore, in this case, it is desirable to set the design parameters of the exposure head 12 such that D0 · sin θmax · m 2 <ΔZ / 10.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る露光
記録装置によれば、各光ビームのニアフィールドパター
ンの結像位置に配置された各開口部を主走査方向を軸と
して回動させることにより、副走査方向に対する実質的
な開口幅を調整し、これによって、記録媒体上での光ビ
ームの副走査方向の幅を調整することができる。
As described above, according to the exposure recording apparatus of the present invention, each opening disposed at the image forming position of the near field pattern of each light beam is rotated about the main scanning direction. Thereby, the substantial opening width in the sub-scanning direction can be adjusted, and thereby, the width of the light beam on the recording medium in the sub-scanning direction can be adjusted.

【0030】この場合、各開口部の製造精度にばらつき
がある場合であっても、高精度な幅調整を極めて容易に
行うことができる。この結果、むらのない高品質な画像
を得ることができる。また、幅調整のためのレンズ等の
高価な部材を使用する必要がないため、安価な調整機構
を実現することができる。
In this case, even if the manufacturing accuracy of each opening varies, highly accurate width adjustment can be performed very easily. As a result, a high-quality image without unevenness can be obtained. Further, since it is not necessary to use an expensive member such as a lens for width adjustment, an inexpensive adjustment mechanism can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ガウス状の光量分布からなるレーザビームを用
いた場合の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram when a laser beam having a Gaussian light amount distribution is used.

【図2】略矩形状の光量分布からなるレーザビームを用
いた場合の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram in the case of using a laser beam having a substantially rectangular light quantity distribution.

【図3】本実施形態のレーザ記録装置の平面構成図であ
る。
FIG. 3 is a plan view showing the configuration of the laser recording apparatus according to the embodiment;

【図4】本実施形態のレーザ記録装置の側面説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory side view of the laser recording apparatus according to the embodiment.

【図5】本実施形態のレーザ記録装置における開口部の
構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of an opening in the laser recording apparatus of the present embodiment.

【図6】本実施形態のレーザ記録装置における開口部材
による幅調整の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of width adjustment by an opening member in the laser recording apparatus of the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…レーザ記録装置 12…露光ヘッド 14…ドラム 16A〜16N…
光源ユニット 18…半導体レーザ 20…コリメータ
レンズ 22、26…シリンドリカルレンズ 24…開口部 28…結像レンズ 38…スリット 40…開口部材 F…記録フイルム L…レーザビーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Laser recording device 12 ... Exposure head 14 ... Drum 16A-16N ...
Light source unit 18 ... Semiconductor laser 20 ... Collimator lens 22, 26 ... Cylindrical lens 24 ... Opening 28 ... Imaging lens 38 ... Slit 40 ... Opening member F ... Recording film L ... Laser beam

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 1/06 H04N 1/04 104Z Fターム(参考) 2C362 AA10 AA29 AA34 AA40 AA43 AA47 2H045 AG09 BA22 BA32 CB24 CB33 DA02 5C072 AA03 BA02 BA04 DA02 DA18 DA21 HA02 HA06 HA08 HB10 JA02 XA03 5F073 AA12 AB27 BA09 EA18 FA06Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) H04N 1/06 H04N 1/04 104Z F-term (Reference) 2C362 AA10 AA29 AA34 AA40 AA43 AA47 2H045 AG09 BA22 BA32 CB24 CB33 DA02 5C072 AA03 BA02 BA04 DA02 DA18 DA21 HA02 HA06 HA08 HB10 JA02 XA03 5F073 AA12 AB27 BA09 EA18 FA06

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光ビームにより記録媒体を主走査および副
走査することで画像を露光記録する露光記録装置におい
て、 副走査方向に配列され、前記副走査方向に対する光量分
布が略矩形状となる光ビームを出力する複数の光源と、 前記各光源から出力された前記光ビームのニアフィール
ドパターンを結像する第1結像光学系と、 前記第1結像光学系による前記ニアフィールドパターン
の結像位置に配置され、主走査方向を軸として回動する
ことで前記ニアフィールドパターンの前記副走査方向に
対する幅を調整する開口部と、 前記開口部により調整された前記ニアフィールドパター
ンの開口像を前記記録媒体上に結像する第2結像光学系
と、 を備えることを特徴とする露光記録装置。
1. An exposure recording apparatus for exposing and recording an image by main-scanning and sub-scanning a recording medium with a light beam, wherein light arranged in a sub-scanning direction and having a substantially rectangular light quantity distribution in the sub-scanning direction. A plurality of light sources for outputting beams; a first imaging optical system for imaging a near-field pattern of the light beam output from each of the light sources; and an imaging of the near-field pattern by the first imaging optical system An opening for adjusting the width of the near-field pattern in the sub-scanning direction by rotating about the main scanning direction, and an opening image of the near-field pattern adjusted by the opening. And a second imaging optical system that forms an image on a recording medium.
【請求項2】請求項1記載の装置において、 前記開口部の前記副走査方向に対する幅をD0、前記光
ビームの光軸と直交する面に対する前記開口部の最大回
動角度をθmax、前記第2結像光学系の結像倍率をm、
前記光軸の方向へ距離ΔZだけ変位した位置における前
記ニアフィールドパターンの前記副走査方向の幅の増加
率をn%として、 D0・sinθmax・m2<ΔZ/n となるように設定することを特徴とする露光記録装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein a width of the opening in the sub-scanning direction is D0, a maximum rotation angle of the opening with respect to a plane orthogonal to an optical axis of the light beam is θmax, and 2 The imaging magnification of the imaging optical system is m,
Setting the rate of increase in the width of the near-field pattern in the sub-scanning direction at a position displaced by the distance ΔZ in the direction of the optical axis to n%, and setting D0 · sin θmax · m 2 <ΔZ / n. Exposure recording device characterized by the following.
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