JP2002128827A - Sulfur-containing (meth)acrylic acid thioester compound and its use - Google Patents

Sulfur-containing (meth)acrylic acid thioester compound and its use

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JP2002128827A JP2000331186A JP2000331186A JP2002128827A JP 2002128827 A JP2002128827 A JP 2002128827A JP 2000331186 A JP2000331186 A JP 2000331186A JP 2000331186 A JP2000331186 A JP 2000331186A JP 2002128827 A JP2002128827 A JP 2002128827A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly refractive optical resin excellent in optical characteristics, mechanical characteristics, and thermal characteristics and also having good productivity. SOLUTION: This sulfur-containing (meth)acrylic acid thioester compound is represented by general formula (1) [wherein, R1 to R8 represent each independently H, an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom; R9 and R12 represent each independently H or an alkyl group; R10 and R13 represent each a substituent containing S; R11 and R14 represent each independently H or a methyl group; Y1 is a single bond and represents -C (R15)(R16) group (R15 and R16 represent each independently H, an alkyl group or an aryl group.), O, S or -SO2- group; Z1 and Z2 represent each independently O or S]. A polymerizable composition contains this acrylic acid thioester compound. A cured substance is obtained by polymerization of the polymerizable composition. An optical part comprises the cured substance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、含硫(メタ)アク
リル酸チオエステル化合物に関する。さらには、該含硫
(メタ)アクリル酸化合物を含有する重合性組成物、な
らびに、該重合性組成物を重合して得られる光学部品に
関する。本発明の含硫(メタ)アクリル酸チオエステル
化合物は、分子内に硫黄原子を含有していることを構造
上の特徴しており、光硬化可能な重合性組成物用のモノ
マーとして有用である。該重合性組成物を硬化して得ら
れる光学部品は、光学特性、熱的特性、機械的特性に優
れ、且つ、生産性が良好で、高屈折率であり、矯正用眼
鏡レンズを代表とする各種プラスチックレンズ、光情報
記録媒体基板、液晶セル用プラスチック基盤、光ファイ
バーコーティング材料等として有用である。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound. Further, the present invention relates to a polymerizable composition containing the sulfur-containing (meth) acrylic acid compound, and an optical component obtained by polymerizing the polymerizable composition. The sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound of the present invention is structurally characterized in that it contains a sulfur atom in the molecule, and is useful as a monomer for a photocurable polymerizable composition. An optical component obtained by curing the polymerizable composition has excellent optical properties, thermal properties, and mechanical properties, and has good productivity, a high refractive index, and is represented by a corrective spectacle lens. It is useful as various plastic lenses, optical information recording medium substrates, plastic substrates for liquid crystal cells, optical fiber coating materials, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】無機ガラスは、透明性に優れ、光学異方
性が小さいなどの諸物性に優れていることから、透明性
光学材料として広い分野で使用されている。しかしなが
ら、重くて破損しやすいこと、生産性が悪い等の問題が
あり、近年、無機ガラスに代わる光学用樹脂の開発が盛
んに行われている。
2. Description of the Related Art Inorganic glass is used in a wide range of fields as a transparent optical material because of its excellent properties such as excellent transparency and small optical anisotropy. However, there are problems such as being heavy and easily damaged and poor productivity. In recent years, development of optical resins in place of inorganic glass has been actively carried out.

【0003】光学材料として基本的に重要な特性は透明
性である。現在までに、透明性の良い工業的な樹脂とし
て、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ビスフェ
ノールAポリカーボネート(BPA−PC)、ポリスチ
レン(PS)、メチルメタクリレート−スチレン共重合
ポリマー(MS)、スチレン−アクリロニトリル共重合
ポリマー(SAN)、ポリ(4−メチルペンテン−1)
(TPX)、ポリシクロオレフィン(COP)、ポリジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート(EGA
C)、ポリチオウレタン(PTU)等が知られている。
A fundamentally important property as an optical material is transparency. Up to the present, polymethyl methacrylate (PMMA), bisphenol A polycarbonate (BPA-PC), polystyrene (PS), methyl methacrylate-styrene copolymer (MS), styrene-acrylonitrile Polymerized polymer (SAN), poly (4-methylpentene-1)
(TPX), polycycloolefin (COP), polydiethylene glycol bisallyl carbonate (EGA)
C), polythiourethane (PTU) and the like are known.

【0004】PMMAは透明性、耐候性に優れ、かつ成
形性も良好である。しかしながら、屈折率(nd)が
1.49と小さく、吸水性が大きいという欠点がある。
BPA−PCは、透明性、耐熱性、耐衝撃性および高屈
折性に優れるものの、色収差が大きく利用分野が限定さ
れる。PSおよびMSは、成形性、透明性、低吸水性お
よび高屈折性に優れるものの、耐衝撃性、耐候性および
耐熱性に劣り光学樹脂としてはほとんど実用化されてい
ない。SANは比較的、屈折率が高く、機械的物性もバ
ランスがよいとされているが、耐熱性にやや難があり
(熱変形温度:80〜90℃)、光学樹脂としてはほと
んど使われていない。
[0004] PMMA has excellent transparency and weather resistance, and also has good moldability. However, there is a disadvantage that the refractive index (nd) is as small as 1.49 and the water absorption is large.
BPA-PC is excellent in transparency, heat resistance, impact resistance and high refraction, but has large chromatic aberration and its application field is limited. PS and MS are excellent in moldability, transparency, low water absorption and high refractive index, but are inferior in impact resistance, weather resistance and heat resistance and are hardly practically used as optical resins. SAN is considered to have a relatively high refractive index and a good balance of mechanical properties, but has some difficulty in heat resistance (heat deformation temperature: 80 to 90 ° C.) and is hardly used as an optical resin. .

【0005】TPXおよびCOPは透明性、低吸水性、
耐熱性に優れるものの、低屈折率(nd=1.47〜
1.53)で、耐衝撃性やガスバリヤー性や染色性が悪
いという問題がある。EGACはジエチレングリコール
ビスアリルカーボネートをモノマーとする熱硬化性樹脂
であり、汎用眼鏡レンズ用途には最も多く使用されてい
る。透明性、耐熱性には優れ、色収差は極めて小さいも
のの、低屈折率(nd=1.50)で、耐衝撃性に劣る
という欠点がある。PTUは、ジイソシアネート化合物
とポリチオール化合物との反応で得られる熱硬化性樹脂
であり、超高屈折率眼鏡レンズ用途には最も多く使用さ
れている。透明性、耐衝撃性、高屈折性に特に優れ、且
つ色収差も小さく、極めて優秀な材料であるが、唯一、
熱重合成形時間が長い(1日〜3日)という欠点があ
り、生産性の点で問題を残している。
[0005] TPX and COP are transparent, have low water absorption,
Although having excellent heat resistance, a low refractive index (nd = 1.47-
1.53), there is a problem that impact resistance, gas barrier properties and dyeability are poor. EGAC is a thermosetting resin containing diethylene glycol bisallyl carbonate as a monomer, and is most often used for general-purpose spectacle lenses. Although it is excellent in transparency and heat resistance and has extremely small chromatic aberration, it has a defect that it has a low refractive index (nd = 1.50) and is inferior in impact resistance. PTU is a thermosetting resin obtained by a reaction between a diisocyanate compound and a polythiol compound, and is most frequently used for an ultra-high refractive index spectacle lens. Although it is particularly excellent in transparency, impact resistance, high refraction, and small in chromatic aberration, it is an extremely excellent material,
There is a drawback that the heat polymerization molding time is long (1 day to 3 days), and there remains a problem in productivity.

【0006】上記の生産性を高めるために短時間で重合
・硬化を行う目的で、臭素原子あるいは硫黄原子を含有
する(メタ)アクリル酸エステル類を用いて、光重合に
よって光学用レンズを得る方法(例えば、特開平4−1
61410号公報、特開平3−217412号公報な
ど)、あるいは、硫黄原子を含有する(メタ)アクリル
酸チオエステル類を用いて、光重合によって光学用レン
ズを得る方法(例えば、USP4931521、USP
4810812など)などが提案されている。しかしな
がら、該方法によると、短時間での重合は可能となるも
のの、得られる樹脂は光学部品として決して満足される
ものとは言えなかった。例えば、眼鏡レンズとして用い
た場合、高屈折率のものは、脆くて割れやすかったり、
比重の大きい等の問題があり、それらの問題を克服した
材料の開発が強く望まれていた。
A method of obtaining an optical lens by photopolymerization using a (meth) acrylate containing a bromine atom or a sulfur atom for the purpose of polymerizing and curing in a short time to enhance the productivity. (For example, see Japanese Patent Laid-Open No. 4-1
No. 61410, JP-A-3-217412, etc.) or a method of obtaining an optical lens by photopolymerization using a sulfur atom-containing (meth) acrylic acid thioester (for example, US Pat. No. 4,931,521, USP
4810812). However, according to this method, although polymerization can be performed in a short time, the obtained resin is not always satisfactory as an optical component. For example, when used as a spectacle lens, those with a high refractive index are fragile and fragile,
There are problems such as high specific gravity, and the development of a material that overcomes these problems has been strongly desired.

【0007】以上のように、従来の光学樹脂は優れた特
徴を有しているものの、それぞれに克服すべき欠点を有
しているのが現状である。このような状況下にあって、
光学特性、機械的特性、熱的特性に優れ、かつ生産性が
よい高屈折性の光学樹脂の開発が切望されているのが現
状である。
As described above, the conventional optical resins have excellent characteristics, but at present, each has its own disadvantages to be overcome. Under these circumstances,
At present, there is a strong demand for the development of a high-refractive optical resin having excellent optical properties, mechanical properties, and thermal properties and high productivity.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の光学樹脂の欠点を解決し、光学特性、機械的特性、熱
的特性に優れ、かつ生産性がよい高屈折性の光学樹脂を
提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the drawbacks of conventional optical resins and to provide a high-refractive optical resin which is excellent in optical properties, mechanical properties and thermal properties and has good productivity. To provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表される
含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物に関するも
ので、また、該含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化
合物を含有する重合性組成物、該重合性組成物を重合し
て得られる硬化物、さらには、その硬化物からなる光学
部品に関する。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies in order to solve the above problems, and as a result, have reached the present invention. That is, the present invention relates to a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the following general formula (1), and a polymerizable composition containing the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound, The present invention relates to a cured product obtained by polymerizing a polymerizable composition, and further relates to an optical component comprising the cured product.

【0010】[0010]

【化11】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、R11、R14はそれぞれ独立に、水素原子またはメチ
ル基を表し、Y1は、単結合、−C(R15)(R16)−
基(R15、R16はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、アリール基を表し、アルキル基、アリール基の場合
は結合して環を形成してもよい。)、酸素原子、硫黄原
子、−SO2−基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に
酸素原子または硫黄原子を表す〕
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, R 11 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, Y 1 represents a single bond, —C (R 15 ) (R 16 )-
Groups (R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and in the case of an alkyl group or an aryl group, may combine to form a ring), an oxygen atom, a sulfur atom,- Represents an SO 2 — group, and Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom]

【0011】さらに、本発明は、上記含硫(メタ)アク
リル酸チオエステル化合物の原料化合物となる下記一般
式(2)で表される含硫ジメルカプト化合物に関する。
Further, the present invention relates to a sulfur-containing dimercapto compound represented by the following general formula (2), which is a raw material compound for the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound.

【0012】[0012]

【化12】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、Y1は、単結合、−C(R15)(R16)−基
(R15、R16ははそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、アリール基を表し、アルキル基、アリール基の場合
は結合して環を形成してもよい。)、酸素原子、硫黄原
子、−SO2−基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に
酸素原子または硫黄原子を表す〕
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, Y 1 is a single bond, a —C (R 15 ) (R 16 ) — group (R 15 and R 16 are each independently a hydrogen atom, Represents an alkyl group or an aryl group, and in the case of an alkyl group or an aryl group, may combine to form a ring.), An oxygen atom, a sulfur atom, a —SO 2 — group, and Z 1 and Z 2 represent Each independently represents an oxygen atom or a sulfur atom]

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物
は、前記一般式(1)で表され、分子内に硫黄原子を含
有する置換基を有し、且つ、二級または三級チオールの
(メタ)アクリル酸チオエステルであることを構造上の
特徴とする新規な化合物である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound of the present invention is represented by the general formula (1), has a substituent containing a sulfur atom in the molecule, and has a secondary or tertiary thiol (meth) It is a novel compound characterized in that it is an acrylic acid thioester.

【0014】一般式(1)において、R1、R2、R3
4、R5、R6、R7、R8は、それぞれ独立に、水素原
子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲ
ン原子を表し、好ましくは、水素原子、置換基を有して
いてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基、置換基
を有していてもよい直鎖、分岐または環状のアルコキシ
基、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、より好ましく
は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜2
0の直鎖、分岐または環状のアルキル基、置換基を有し
ていてもよい炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状の
アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表す。
In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 ,
R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom, and preferably have a hydrogen atom or a substituent. Represents a straight-chain, branched or cyclic alkyl group, a straight-chain, branched or cyclic alkoxy group, a nitro group or a halogen atom which may have a substituent, and more preferably a hydrogen atom or a substituent. 1 to 2 carbon atoms which may be
0 represents a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a nitro group or a halogen atom.

【0015】置換基R1、R2、R3、R4、R5、R6、R
7、R8の具体例としては、例えば、水素原子、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−
ドデシル基、n−テトラデシル基、n−オクタデシル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−ter
t−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシ
ルエチル基、テトラヒドロフルフリル基、2−メトキシ
エチル基、2−エトキシエチル基、2−n−ブトキシエ
チル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピ
ル基、3−n−プロポキシプロピル基、3−n−ブトキ
シプロピル基、3−n−ヘキシルオキシプロピル基、2
−メトキシエトキシエチル基、2−エトキシエトキシエ
チル基、2−フェノキシメチル基、2−フェノキシエト
キシエチル基、クロロメチル基、2−クロロエチル基、
3−クロロプロピル基、2,2,2−トリクロロエチル
基、
The substituents R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R
Specific examples of 7 and R 8 include, for example, hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-
Butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert
-Butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-
Dodecyl group, n-tetradecyl group, n-octadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 4-ter
t-butylcyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclohexylmethyl, cyclohexylethyl, tetrahydrofurfuryl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-n-butoxyethyl, 3-methoxy Propyl, 3-ethoxypropyl, 3-n-propoxypropyl, 3-n-butoxypropyl, 3-n-hexyloxypropyl, 2
-Methoxyethoxyethyl group, 2-ethoxyethoxyethyl group, 2-phenoxymethyl group, 2-phenoxyethoxyethyl group, chloromethyl group, 2-chloroethyl group,
3-chloropropyl group, 2,2,2-trichloroethyl group,

【0016】メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ
基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−
ヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシオキシル基、n−
オクチルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ドデシル
オキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−オクタデシ
ルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシル
オキシ基、4−tert−ブチルシクロヘキシルオキシ
基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ
基、シクロヘキシルメトキシ基、シクロヘキシルエトキ
シ基、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ
基、2−n−ブトキシエトキシ基、3−メトキシプロポ
キシ基、3−エトキシプロポキシ基、3−n−プロポキ
シプロポキシ基、3−n−ブトキシプロポキシ基、3−
n−ヘキシルオキシプロポキシ基、2−メトキシエトキ
シエトキシ基、2−フェノキシメトキシ基、2−フェノ
キシエトキシエトキシ基、クロロメトキシ基、2−クロ
ロエトキシ基、3−クロロプロポキシ基、2,2,2−
トリクロロエトキシ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。
Methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, n-pentyloxy, n-
Hexyloxy group, 2-ethylhexyloxyl group, n-
Octyloxy group, n-decyloxy group, n-dodecyloxy group, n-tetradecyloxy group, n-octadecyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, 4-tert-butylcyclohexyloxy group, cycloheptyloxy group, Cyclooctyloxy group, cyclohexylmethoxy group, cyclohexylethoxy group, 2-methoxyethoxy group, 2-ethoxyethoxy group, 2-n-butoxyethoxy group, 3-methoxypropoxy group, 3-ethoxypropoxy group, 3-n-propoxy Propoxy group, 3-n-butoxypropoxy group, 3-
n-hexyloxypropoxy group, 2-methoxyethoxyethoxy group, 2-phenoxymethoxy group, 2-phenoxyethoxyethoxy group, chloromethoxy group, 2-chloroethoxy group, 3-chloropropoxy group, 2,2,2-
Examples thereof include a trichloroethoxy group, a nitro group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

【0017】該置換基R1、R2、R3、R4、R5、R6
7、R8として、より好ましくは、水素原子、炭素数1
〜10の無置換の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数
1〜10の無置換の直鎖または分岐のアルコキシ基、ニ
トロ基、塩素原子、臭素原子であり、さらに好ましく
は、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、ter
t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキ
シ基、tert−ブトキシ基、ニトロ基、塩素原子、臭
素原子である。該置換基R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、R8として、水素原子、メチル基は特に好ま
しい。
The substituents R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 ,
R 7 and R 8 are more preferably a hydrogen atom and carbon number 1
Unsubstituted linear or branched alkyl group having 10 to 10 carbon atoms, unsubstituted linear or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, nitro group, chlorine atom, bromine atom, more preferably hydrogen atom, methyl Group, ethyl group, n-propyl group,
Isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, ter
t-butyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, nitro group, chlorine atom and bromine atom. The substituents R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
A hydrogen atom and a methyl group are particularly preferred as R 6 , R 7 and R 8 .

【0018】一般式(1)において、置換基R9、R12
はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、
より好ましくは、水素原子またはメチル基であり、さら
に好ましくは、水素原子である。また、一般式(1)に
おいて、置換基R10、R13はそれぞれ独立に、硫黄原子
を含有する置換基を表し、該置換基の構造中に少なくと
も1個の硫黄原子を含有することを特徴とする。該置換
基R10、R13として、具体的には、下記式(a)または
式(b)で表される置換基が挙げられる。 R17−O− (a) R18−S− (b) (式中、R17は少なくとも1個以上の硫黄原子を含有す
る1価の有機基を表し、R18は硫黄原子を含有してもよ
い1価の有機基を表す)
In the general formula (1), the substituents R 9 and R 12
Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group,
More preferably, they are a hydrogen atom or a methyl group, and still more preferably a hydrogen atom. Further, in the general formula (1), the substituents R 10 and R 13 each independently represent a substituent containing a sulfur atom, and the structure of the substituent contains at least one sulfur atom. And Specific examples of the substituents R 10 and R 13 include the substituents represented by the following formula (a) or (b). R 17 -O- (a) R 18 -S- (b) (wherein, R 17 represents a monovalent organic group containing at least one sulfur atom, and R 18 contains a sulfur atom. Represents a good monovalent organic group)

【0019】上記式中、置換基R17は、好ましくは、少
なくとも1個以上の硫黄原子を含有する置換基を有して
いてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基また
はアシル基を表す。なお、該置換基R17は複素環含有の
基をも包含する。また、上記式中、該置換基R18は、好
ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、アラ
ルキル基、アリール基またはアシル基を表す。さらに、
高屈折率を得るために、これらの置換基が硫黄原子を含
有することはより好ましい。
In the above formula, the substituent R 17 preferably represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an acyl group which may have a substituent containing at least one sulfur atom. The substituent R 17 also includes a heterocyclic-containing group. In the above formula, the substituent R 18 preferably represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an acyl group which may have a substituent. further,
In order to obtain a high refractive index, it is more preferable that these substituents contain a sulfur atom.

【0020】上記置換基R10、R13として、好ましく
は、硫黄原子を含有している鎖状または環状のアルコキ
シ基、硫黄原子を含有しているアラルキルオキシ基、硫
黄原子を含有しているアリールオキシ基、硫黄原子を含
有しているアシルオキシ基、硫黄原子を含有していても
よい鎖状または環状のアルキルチオ基、硫黄原子を含有
していてもよいアラルキルチオ基、硫黄原子を含有して
いてもよいアリールチオ基、硫黄原子を含有していても
よいアシルチオ基である。
The above-mentioned substituents R 10 and R 13 are preferably a chain or cyclic alkoxy group containing a sulfur atom, an aralkyloxy group containing a sulfur atom, or an aryl containing a sulfur atom. An oxy group, an acyloxy group containing a sulfur atom, a chain or cyclic alkylthio group optionally containing a sulfur atom, an aralkylthio group optionally containing a sulfur atom, containing a sulfur atom. Arylthio group and acylthio group optionally containing a sulfur atom.

【0021】該置換基R10、R13としては、例えば、メ
チルチオエトキシ基、エチルチオエトキシ基、プロピル
チオエトキシ基、ブチルチオエトキシ基、メチルチオエ
チルチオエトキシ基、メチルチオエチルチオエチルチオ
エトキシ基、2,2−ジメチルチオエトキシ基、2,2
−ジエチルチオエトキシ基、2,2−ジプロピルチオエ
トキシ基、2,2−ジブチルチオエトキシ基、3,3−
ジメチルチオプロポキシ基、3,3−ジエチルチオプロ
ポキシ基、3,3−ジプロピルチオエトキシ基、3,3
−ジブチルチオエトキシ基、(1,3−ジチオラン−2
−イル)メトキシ基、2−(1,3−ジチオラン−2−
イル)エトキシ基、3−(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)プロポキシ基、(1,3−ジチオラン−4−イル)
メトキシ基、2−(1,3−ジチオラン−4−イル)エ
トキシ基、3−(1,3−ジチオラン−4−イル)プロ
ポキシ基、(1,4−ジチアン−2−イル)メトキシ
基、2−(1,4−ジチアン−2−イル)エトキシ基、
3−(1,4−ジチアン−2−イル)プロポキシ基、
(1,3,5−トリチアン−2−イル)メトキシ基、2
−(1,3,5−トリチアン−2−イル)エトキシ基、
3−(1,3,5−トリチアン−2−イル)プロポキシ
基、
The substituents R 10 and R 13 include, for example, methylthioethoxy, ethylthioethoxy, propylthioethoxy, butylthioethoxy, methylthioethylthioethoxy, methylthioethylthioethylthioethoxy, 2 , 2-dimethylthioethoxy group, 2,2
-Diethylthioethoxy group, 2,2-dipropylthioethoxy group, 2,2-dibutylthioethoxy group, 3,3-
Dimethylthiopropoxy group, 3,3-diethylthiopropoxy group, 3,3-dipropylthioethoxy group, 3,3
-Dibutylthioethoxy group, (1,3-dithiolane-2
-Yl) methoxy group, 2- (1,3-dithiolan-2-
Yl) ethoxy group, 3- (1,3-dithiolan-2-yl) propoxy group, (1,3-dithiolan-4-yl)
Methoxy group, 2- (1,3-dithiolan-4-yl) ethoxy group, 3- (1,3-dithiolan-4-yl) propoxy group, (1,4-dithian-2-yl) methoxy group, A-(1,4-dithian-2-yl) ethoxy group,
3- (1,4-dithian-2-yl) propoxy group,
(1,3,5-trithian-2-yl) methoxy group, 2
A-(1,3,5-trithian-2-yl) ethoxy group,
3- (1,3,5-trithian-2-yl) propoxy group,

【0022】4−メチルチオベンジルオキシ基、3−メ
チルチオベンジルオキシ基、2−メチルチオベンジルオ
キシ基、2,4−ジメチルチオベンジルオキシ基、3,
4−ジメチルチオベンジルオキシ基、2,4,6−トリ
メチルチオベンジルオキシ基、4−メチルチオフェニル
エトキシ基、3−メチルチオフェニルエトキシ基、2−
メチルチオフェニルエトキシ基、2,4−ジメチルチオ
フェニルエトキシ基、3,4−ジメチルチオフェニルエ
トキシ基、2,4,6−トリメチルチオフェニルエトキ
シ基、4−メチルチオフェニルオキシ基、3−メチルチ
オフェニルオキシ基、2−メチルチオフェニルオキシ
基、2,4−ジメチルチオフェニルオキシ基、2,5−
ジメチルチオフェニルオキシ基、2,6−ジメチルチオ
フェニルオキシ基、3,4−ジメチルチオフェニルオキ
シ基、3,5−ジメチルチオフェニルオキシ基、2,
4,6−トリメチルチオフェニルオキシ基、2,3,
4,5,6−ペンタメチオルチオフェニルオキシ基、
A 4-methylthiobenzyloxy group, a 3-methylthiobenzyloxy group, a 2-methylthiobenzyloxy group, a 2,4-dimethylthiobenzyloxy group,
4-dimethylthiobenzyloxy group, 2,4,6-trimethylthiobenzyloxy group, 4-methylthiophenylethoxy group, 3-methylthiophenylethoxy group, 2-
Methylthiophenylethoxy group, 2,4-dimethylthiophenylethoxy group, 3,4-dimethylthiophenylethoxy group, 2,4,6-trimethylthiophenylethoxy group, 4-methylthiophenyloxy group, 3-methylthiophenyloxy group , 2-methylthiophenyloxy group, 2,4-dimethylthiophenyloxy group, 2,5-
Dimethylthiophenyloxy group, 2,6-dimethylthiophenyloxy group, 3,4-dimethylthiophenyloxy group, 3,5-dimethylthiophenyloxy group, 2,
4,6-trimethylthiophenyloxy group, 2,3
4,5,6-pentamethylthiophenyloxy group,

【0023】メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチ
オ基、ブチルチオ基、メトキシエチルチオ基、ブトキシ
エチルチオ基、メトキシプロピルチオ基、シクロヘキシ
ルチオ基、2−メチルチオエチルチオ基、2−エチルチ
オエチルチオ基、2−プロピルチオエチルチオ基、2−
ブチルチオエチルチオ基、メチルチオエチルチオエチル
チオ基、メチルチオエチルチオエチルチオエチルチオ
基、2,2−ジメチルチオエチルチオ基、2,2−ジエ
チルチオエチルチオ基、2,2−ジプロピルチオエチル
チオ基、2,2−ジブチルチオエチルチオ基、3,3−
ジメチルチオプロピルチオ基、3,3−ジエチルチオプ
ロピルチオ基、3,3−ジプロピルチオエチルチオ基、
3,3−ジブチルチオエチルチオ基、(1,3−ジチオ
ラン−2−イル)メチルチオ基、2−(1,3−ジチオ
ラン−2−イル)エチルチオ基、3−(1,3−ジチオ
ラン−2−イル)プロピルチオ基、(1,3−ジチオラ
ン−4−イル)メチルチオ基、2−(1,3−ジチオラ
ン−4−イル)エチルチオ基、3−(1,3−ジチオラ
ン−4−イル)プロピルチオ基、(1,3−ジチアン−
2−イル)メチルチオ基、2−(1,3−ジチアン−2
−イル)エチルチオ基、3−(1,3−ジチアン−2−
イル)プロピルチオ基、(1,4−ジチアン−2−イ
ル)メチルチオ基、2−(1,4−ジチアン−2−イ
ル)エチルチオ基、3−(1,4−ジチアン−2−イ
ル)プロピルチオ基、(1,3,5−トリチアン−2−
イル)メチルチオ基、2−(1,3,5−トリチアン−
2−イル)エチルチオ基、3−(1,3,5−トリチア
ン−2−イル)プロピルチオ基、
Methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, methoxyethylthio, butoxyethylthio, methoxypropylthio, cyclohexylthio, 2-methylthioethylthio, 2-ethylthioethylthio, 2 -Propylthioethylthio group, 2-
Butylthioethylthio, methylthioethylthioethylthio, methylthioethylthioethylthioethylthio, 2,2-dimethylthioethylthio, 2,2-diethylthioethylthio, 2,2-dipropylthioethyl Thio group, 2,2-dibutylthioethylthio group, 3,3-
Dimethylthiopropylthio group, 3,3-diethylthiopropylthio group, 3,3-dipropylthioethylthio group,
3,3-dibutylthioethylthio group, (1,3-dithiolan-2-yl) methylthio group, 2- (1,3-dithiolan-2-yl) ethylthio group, 3- (1,3-dithiolan-2 -Yl) propylthio group, (1,3-dithiolan-4-yl) methylthio group, 2- (1,3-dithiolan-4-yl) ethylthio group, 3- (1,3-dithiolan-4-yl) propylthio Group, (1,3-dithiane-
2-yl) methylthio group, 2- (1,3-dithiane-2)
-Yl) ethylthio group, 3- (1,3-dithiane-2-
Yl) propylthio group, (1,4-dithian-2-yl) methylthio group, 2- (1,4-dithian-2-yl) ethylthio group, 3- (1,4-dithian-2-yl) propylthio group , (1,3,5-trithiane-2-
Yl) methylthio group, 2- (1,3,5-trithiane-
2-yl) ethylthio group, 3- (1,3,5-trithian-2-yl) propylthio group,

【0024】ベンジルチオ基、4−メチルベンジルチオ
基、4−メトキシベンジルチオ基、4−メチルチオベン
ジルチオ基、3−メチルチオベンジルチオ基、2−メチ
ルチオベンジルチオ基、2,4−ジメチルチオベンジル
チオ基、3,4−ジメチルチオベンジルチオ基、2,
4,6−トリメチルチオベンジルチオ基、4−メチルチ
オフェニルエチルチオ基、3−メチルチオフェニルエチ
ルチオ基、2−メチルチオフェニルエチルチオ基、2,
4−ジメチルチオフェニルエチルチオ基、3,4−ジメ
チルチオフェニルエチルチオ基、2,4,6−トリメチ
ルチオフェニルエチルチオ基、フェニルチオ基、4−メ
チルフェニルチオ基、4−メトキシフェニルチオ基、4
−メチルチオフェニルチオ基、3−メチルチオフェニル
チオ基、2−メチルチオフェニルチオ基、2,4−ジメ
チルチオフェニルチオ基、2,5−ジメチルチオフェニ
ルチオ基、2,6−ジメチルチオフェニルチオ基、3,
4−ジメチルチオフェニルチオ基、3,5−ジメチルチ
オフェニルチオ基、2,4,6−トリメチルチオフェニ
ルチオ基、2,3,4,5,6−ペンタメチルチオフェ
ニルチオ基、チアゾリン−2−イルチオ基、
Benzylthio, 4-methylbenzylthio, 4-methoxybenzylthio, 4-methylthiobenzylthio, 3-methylthiobenzylthio, 2-methylthiobenzylthio, 2,4-dimethylthiobenzylthio A 3,4-dimethylthiobenzylthio group, 2,
4,6-trimethylthiobenzylthio, 4-methylthiophenylethylthio, 3-methylthiophenylethylthio, 2-methylthiophenylethylthio, 2,
4-dimethylthiophenylethylthio group, 3,4-dimethylthiophenylethylthio group, 2,4,6-trimethylthiophenylethylthio group, phenylthio group, 4-methylphenylthio group, 4-methoxyphenylthio group, 4
-Methylthiophenylthio group, 3-methylthiophenylthio group, 2-methylthiophenylthio group, 2,4-dimethylthiophenylthio group, 2,5-dimethylthiophenylthio group, 2,6-dimethylthiophenylthio group, 3,
4-dimethylthiophenylthio group, 3,5-dimethylthiophenylthio group, 2,4,6-trimethylthiophenylthio group, 2,3,4,5,6-pentamethylthiophenylthio group, thiazoline-2- Ilthio group,

【0025】メチルチオメチルカルボニルオキシ基、メ
チルチオエチルカルボニルオキシ基、(1,3−ジチオ
ラン−2−イル)カルボニルオキシ基、(1,3−ジチ
オラン−4−イル)カルボニルオキシ基、(1,3−ジ
チアン−2−イル)カルボニルオキシ基、(1,4−ジ
チアン−2−イル)カルボニルオキシ基、(1,3,5
−トリチアン−2−イル)カルボニルオキシ基、4−メ
チルチオベンゾイルオキシ基、チオフェン−2−カルボ
ニルオキシ基、チアゾール−2−カルボニルオキシ基、
メチルチオメチルカルボニルチオ基、メチルチオエチル
カルボニルチオ基、(1,3−ジチオラン−2−イル)
カルボニルチオ基、(1,3−ジチオラン−4−イル)
カルボニルチオ基、(1,3−ジチアン−2−イル)カ
ルボニルチオ基、(1,4−ジチアン−2−イル)カル
ボニルチオ基、(1,3,5−トリチアン−2−イル)
カルボニルチオ基、ベンゾイルチオ基、4−メチルチオ
ベンゾイルチオ基、チオフェン−2−カルボニルチオ
基、チアゾール−2−カルボニルチオ基などが挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。
A methylthiomethylcarbonyloxy group, a methylthioethylcarbonyloxy group, a (1,3-dithiolan-2-yl) carbonyloxy group, a (1,3-dithiolan-4-yl) carbonyloxy group, a (1,3- (Dithian-2-yl) carbonyloxy group, (1,4-dithian-2-yl) carbonyloxy group, (1,3,5
-Trithian-2-yl) carbonyloxy group, 4-methylthiobenzoyloxy group, thiophen-2-carbonyloxy group, thiazole-2-carbonyloxy group,
Methylthiomethylcarbonylthio group, methylthioethylcarbonylthio group, (1,3-dithiolan-2-yl)
Carbonylthio group, (1,3-dithiolan-4-yl)
Carbonylthio group, (1,3-dithian-2-yl) carbonylthio group, (1,4-dithian-2-yl) carbonylthio group, (1,3,5-trithian-2-yl)
Examples include a carbonylthio group, a benzoylthio group, a 4-methylthiobenzoylthio group, a thiophen-2-carbonylthio group, and a thiazole-2-carbonylthio group, but are not limited thereto.

【0026】一般式(1)において、R11、R14はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、好まし
くは、水素原子またはメチル基である。
In the general formula (1), R 11 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.

【0027】一般式(1)において、Y1は、単結合、
−C(R15)(R16)−基(R15、R1 6はそれぞれ独立
に水素原子、アルキル基、アリール基を表し、アルキル
基、アリール基の場合は結合して環を形成してもよ
い。)、酸素原子、硫黄原子、−SO2−基を表し、好
ましくは、単結合、−CH2−基、−C(CH32
基、硫黄原子、9−フルオレニリデン基である。
In the general formula (1), Y 1 is a single bond,
-C (R 15) (R 16 ) - group (R 15, R 1 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkyl group, in the case of aryl groups to form a ring or), oxygen atom, sulfur atom, -SO 2 -. represents a group, preferably a single bond, -CH 2 - group, -C (CH 3) 2 -
Group, a sulfur atom and a 9-fluorenylidene group.

【0028】また、一般式(1)において、Z1、Z2
それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表し、好ま
しくは、Z1、Z2共に酸素原子、または共に硫黄原子で
ある。
In the general formula (1), Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom, and preferably both Z 1 and Z 2 are an oxygen atom or both are a sulfur atom.

【0029】本発明の一般式(1)で表される含硫(メ
タ)アクリル酸チオエステル化合物としては、下記式
(1−A)、(1−B)、(1−C)または式(1−
D)で表される構造であり、好ましくは、式(1−
A)、(1−B)または式(1−C)で表される構造で
あり、特に、式(1−B)で表される含硫(メタ)アク
リル酸チオエステル化合物は特に好ましい。
As the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention, the following formulas (1-A), (1-B), (1-C) or (1-C) −
D), and is preferably a structure represented by the formula (1-
A), (1-B) or a structure represented by the formula (1-C), and particularly preferred is a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the formula (1-B).

【0030】[0030]

【化13】 (上式中、R1〜R16、Z1、Z2は前記に同じ)Embedded image (In the above formula, R 1 to R 16 , Z 1 and Z 2 are the same as described above.)

【0031】本発明の一般式(1)で表される含硫(メ
タ)アクリル酸チオエステル化合物の具体例として、下
記第1表中に示された化合物が例示されるが、本発明は
これらに限定されるものではない。
Specific examples of the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention include the compounds shown in Table 1 below. It is not limited.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】[0033]

【表2】 [Table 2]

【0034】[0034]

【表3】 [Table 3]

【0035】[0035]

【表4】 [Table 4]

【0036】[0036]

【表5】 [Table 5]

【0037】[0037]

【表6】 [Table 6]

【0038】[0038]

【表7】 [Table 7]

【0039】[0039]

【表8】 [Table 8]

【0040】[0040]

【表9】 [Table 9]

【0041】[0041]

【表10】 [Table 10]

【0042】[0042]

【表11】 [Table 11]

【0043】[0043]

【表12】 [Table 12]

【0044】[0044]

【表13】 [Table 13]

【0045】[0045]

【表14】 [Table 14]

【0046】[0046]

【表15】 [Table 15]

【0047】[0047]

【表16】 [Table 16]

【0048】[0048]

【表17】 [Table 17]

【0049】[0049]

【表18】 [Table 18]

【0050】[0050]

【表19】 [Table 19]

【0051】[0051]

【表20】 [Table 20]

【0052】[0052]

【表21】 [Table 21]

【0053】[0053]

【表22】 [Table 22]

【0054】[0054]

【表23】 [Table 23]

【0055】[0055]

【表24】 [Table 24]

【0056】[0056]

【表25】 [Table 25]

【0057】[0057]

【表26】 [Table 26]

【0058】[0058]

【表27】 [Table 27]

【0059】[0059]

【表28】 [Table 28]

【0060】[0060]

【表29】 [Table 29]

【0061】[0061]

【表30】 [Table 30]

【0062】[0062]

【表31】 [Table 31]

【0063】[0063]

【表32】 [Table 32]

【0064】[0064]

【表33】 [Table 33]

【0065】本発明の一般式(1)で表される含硫(メ
タ)アクリル酸チオエステル化合物は新規化合物であ
り、公知の反応方法に従って製造される。本発明の一般
式(1)で表される含硫(メタ)アクリル酸チオエステ
ル化合物は、代表的には、下記スキーム(c)で表され
る経路により、好適に製造される。
The sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention is a novel compound and is produced according to a known reaction method. The sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention is typically suitably produced by the route represented by the following scheme (c).

【0066】[0066]

【化14】 (上式中、R1〜R14、Y1、Z1、Z2は前記に同じ)Embedded image (Wherein R 1 to R 14 , Y 1 , Z 1 and Z 2 are the same as above)

【0067】すなわち、後で詳しく述べるように、一般
式(3)で表されるビスエピチオプロピル化合物に対し
て、R10−H、R13−Hで表される硫黄原子を含有する
化合物(含硫化合物)を作用させ、本発明の一般式
(2)で表される含硫ジメルカプト化合物を合成中間体
として製造する。この一般式(2)で表される含硫ジメ
ルカプト化合物に対して、例えば、(メタ)アクリル
酸類を反応させる方法、ハロプロピオン酸類(例え
ば、3−クロロプロピオン酸、3−ブロモプロピオン
酸、3−クロロ−2−メチルプロピオン酸、3−ブロモ
−2−メチルプロピオン酸など)またはその酸ハロゲン
化物を反応させてハロプロピオン酸エステル化合物とし
た後、脱ハロゲン化水素して、(メタ)アクリル酸チオ
エステル化する方法、等を代表例とする公知の各種エス
テル化法によって、本発明の一般式(1)で表される含
硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物は好適に製造
される。本発明の一般式(1)で表される含硫(メタ)
アクリル酸チオエステル化合物を使用して、本発明の重
合性組成物、該重合性組成物を重合して得られる硬化物
あるいは光学部品を製造する際には、これらの混合物を
分離・精製することなく、そのまま使用しても差し支え
ない。
That is, as described later in detail, a compound containing a sulfur atom represented by R 10 -H or R 13 -H is added to the bisepithiopropyl compound represented by the general formula (3) ( (Sulfur-containing compound) to produce a sulfur-containing dimercapto compound of the present invention represented by the general formula (2) as a synthetic intermediate. For example, a method of reacting a (meth) acrylic acid with the sulfur-containing dimercapto compound represented by the general formula (2), a halopropionic acid (for example, 3-chloropropionic acid, 3-bromopropionic acid, Chloro-2-methylpropionic acid, 3-bromo-2-methylpropionic acid, etc.) or an acid halide thereof to give a halopropionic acid ester compound, and then dehydrohalogenated to give a (meth) acrylic acid thioester. The sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention is suitably produced by various known esterification methods, such as a typical method. Sulfur-containing (meta) represented by the general formula (1) of the present invention
Using an acrylic acid thioester compound, the polymerizable composition of the present invention, when producing a cured product or an optical component obtained by polymerizing the polymerizable composition, without separation and purification of these mixtures Can be used as is.

【0068】本発明の一般式(2)で表されるジメルカ
プト化合物としては、下記一般式(2−A)、(2−
B)、(2−C)または式(2−D)で表される構造で
あり、好ましくは、式(2−A)、(2−B)または式
(2−C)で表される構造であり、特に、式(2−B)
で表されるジメルカプト化合物は特に好ましい。
The dimercapto compound represented by the general formula (2) of the present invention includes the following general formulas (2-A) and (2-A).
B), a structure represented by formula (2-C) or formula (2-D), preferably a structure represented by formula (2-A), (2-B) or formula (2-C) In particular, the formula (2-B)
The dimercapto compound represented by is particularly preferable.

【0069】[0069]

【化15】 (上式中、R1〜R14、Y1、Z1、Z2は前記に同じ)Embedded image (Wherein R 1 to R 14 , Y 1 , Z 1 and Z 2 are the same as above)

【0070】本発明の一般式(2)で表されるジメルカ
プト化合物の具体例として、下記第2表中に示された化
合物が例示されるが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
Specific examples of the dimercapto compound represented by the general formula (2) of the present invention include the compounds shown in Table 2 below, but the present invention is not limited thereto.

【0071】[0071]

【表34】 [Table 34]

【0072】[0072]

【表35】 [Table 35]

【0073】[0073]

【表36】 [Table 36]

【0074】[0074]

【表37】 [Table 37]

【0075】[0075]

【表38】 [Table 38]

【0076】[0076]

【表39】 [Table 39]

【0077】[0077]

【表40】 [Table 40]

【0078】[0078]

【表41】 [Table 41]

【0079】[0079]

【表42】 [Table 42]

【0080】[0080]

【表43】 [Table 43]

【0081】[0081]

【表44】 [Table 44]

【0082】[0082]

【表45】 [Table 45]

【0083】[0083]

【表46】 [Table 46]

【0084】[0084]

【表47】 [Table 47]

【0085】[0085]

【表48】 [Table 48]

【0086】[0086]

【表49】 [Table 49]

【0087】[0087]

【表50】 [Table 50]

【0088】[0088]

【表51】 [Table 51]

【0089】[0089]

【表52】 [Table 52]

【0090】[0090]

【表53】 [Table 53]

【0091】[0091]

【表54】 [Table 54]

【0092】[0092]

【表55】 [Table 55]

【0093】[0093]

【表56】 [Table 56]

【0094】[0094]

【表57】 [Table 57]

【0095】[0095]

【表58】 [Table 58]

【0096】[0096]

【表59】 [Table 59]

【0097】[0097]

【表60】 [Table 60]

【0098】[0098]

【表61】 [Table 61]

【0099】[0099]

【表62】 [Table 62]

【0100】[0100]

【表63】 [Table 63]

【0101】[0101]

【表64】 [Table 64]

【0102】[0102]

【表65】 [Table 65]

【0103】[0103]

【表66】 [Table 66]

【0104】まず、上記スキーム(c)中、一般式
(2)で表される含硫ジメルカプト化合物の製造方法に
ついて詳述する。
First, the method for producing the sulfur-containing dimercapto compound represented by the general formula (2) in the above scheme (c) will be described in detail.

【0105】本発明の一般式(2)で表される含硫ジメ
ルカプト化合物は、一般式(3)で表されるビスエピチ
オプロピル化合物に対して、一般式(4−a)または
(4−b)で表される含硫化合物を作用させて、エピス
ルフィド基に開環付加させることにより、好適に製造さ
れる。該反応方法それ自体は公知であり、従来から知ら
れている反応条件に従って実施され、例えば、必要に応
じて、適当な触媒(例えば、酸触媒、塩基触媒など)の
存在下で、好適に行われる。
The sulfur-containing dimercapto compound represented by the general formula (2) of the present invention is different from the bisepithiopropyl compound represented by the general formula (3) by the general formula (4-a) or (4-a) The compound is suitably produced by reacting the sulfur-containing compound represented by b) with a ring-opening addition to an episulfide group. The reaction method itself is known and is carried out according to conventionally known reaction conditions. For example, if necessary, the reaction is suitably carried out in the presence of a suitable catalyst (eg, an acid catalyst, a base catalyst, etc.). Will be

【0106】[0106]

【化16】 (上式中、R1、R2,R3、R4、R5、R6、R8、R9
10、R12、R13、Y1、Z1、Z2は前記に同じ)
Embedded image (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 8 , R 9 ,
R 10 , R 12 , R 13 , Y 1 , Z 1 and Z 2 are the same as described above)

【0107】かかる反応において、一般式(3)で表さ
れるビスエピチオプロピル化合物に対して作用させる含
硫化合物の使用量は、特に限定するものではないが、通
常、一般式(3)で表されるビスエピチオプロピル化合
物1モルに対して、0.1〜10モルであり、好ましく
は、0.5〜5モルであり、より好ましくは、1〜3モ
ルである。
In such a reaction, the amount of the sulfur-containing compound used to act on the bisepithiopropyl compound represented by the general formula (3) is not particularly limited. The amount is 0.1 to 10 mol, preferably 0.5 to 5 mol, and more preferably 1 to 3 mol, per 1 mol of the represented bisepithiopropyl compound.

【0108】反応は、無溶媒で行ってもよく、あるいは
溶媒中で行ってもよい。かかる溶媒としては、反応に不
活性な溶媒であれば、特に限定はなく、例えば、n−ヘ
キサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒、
アセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチル
ケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチルまたは酢酸ブチル
等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロ
エタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒などが挙げ
られる。これらの溶媒は2種類以上を併用しても差し支
えない。反応温度は、特に制限されるものではないが、
通常、0℃〜200℃の範囲であり、好ましくは0〜1
00℃である。反応時間は反応温度等の条件により左右
されるが、通常、数分から数十時間である。
The reaction may be carried out without solvent or in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent inert to the reaction, and examples thereof include hydrocarbon solvents such as n-hexane, benzene, and toluene;
Acetone, ketone solvents such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate or butyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran or dioxane, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane or Halogen-based solvents such as perchrene are exemplified. Two or more of these solvents may be used in combination. The reaction temperature is not particularly limited,
Usually, it is in the range of 0 ° C to 200 ° C, preferably 0 to 1
00 ° C. The reaction time depends on conditions such as the reaction temperature, but is usually from several minutes to several tens of hours.

【0109】次に、一般式(2)で表される含硫ジメル
カプト化合物を原料として、本発明の一般式(1)で表
される含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物を製
造する方法について、詳述する。前述の通り、一般式
(2)で表される含硫ジメルカプト化合物を含硫(メ
タ)アクリル酸チオエステル化する方法として、代表的
には、下記一般式(5−a)および一般式(5−b)
で表される(メタ)アクリル酸類またはその酸ハロゲン
化物と反応させる方法、クロロプロピオン酸またはそ
の酸ハロゲン化物と反応させてクロロプロピオン酸エス
テル化合物とした後、脱ハロゲン化水素して(メタ)ア
クリル酸チオエステル化合物とする方法、などが例示さ
れる。
Next, a method for producing the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention using the sulfur-containing dimercapto compound represented by the general formula (2) as a raw material will be described. It will be described in detail. As described above, as a method of converting a sulfur-containing dimercapto compound represented by the general formula (2) into a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester, typically, the following general formulas (5-a) and (5-a) b)
Reacting with (meth) acrylic acid or an acid halide thereof represented by the formula: after reacting with chloropropionic acid or an acid halide thereof to obtain a chloropropionate compound, dehydrohalogenating the (meth) acrylic acid And a method for preparing an acid thioester compound.

【0110】[0110]

【化17】 (式中、R11、R14は前記に同じ。Xは水酸基またはハ
ロゲン原子を表す。)
Embedded image (In the formula, R 11 and R 14 are the same as above. X represents a hydroxyl group or a halogen atom.)

【0111】以下、前述の方法の中から最も代表的な例
として、一般式(2)で表されるジメルカプト化合物と
一般式(5−a)および(5−b)で表される(メタ)
アクリル酸類またはその酸ハロゲン化物とを反応させる
方法について、さらに詳しく述べる。すなわち、該方法
としては、公知の方法、例えば、USP481081
2、J.Org.Chem.,45,5364(198
0)、Eur.Polym.J.,19,399(19
83)に記載の方法と同様の方法を用いることができ
る。例えば、撹拌下、一般式(2)で表されるジメルカ
プト化合物に対して、一般式(5−a)および(5−
b)で表される(メタ)アクリル酸類の酸ハロゲン化物
を滴下する、などの操作を行いながら作用させる方法、
あるいは、一般式(2)で表されるジメルカプト化合物
と一般式(5−a)および(5−b)で表される(メ
タ)アクリル酸類との脱水反応を行う方法などが例示さ
れる。
Hereinafter, as the most typical examples of the above-mentioned methods, a dimercapto compound represented by the general formula (2) and a (meth) compound represented by the general formulas (5-a) and (5-b)
The method of reacting acrylic acid or its acid halide will be described in more detail. That is, as the method, a known method, for example, US Pat.
2, J. Org. Chem. , 45, 5364 (198
0), Eur. Polym. J. , 19, 399 (19
A method similar to the method described in 83) can be used. For example, under stirring, the dimercapto compound represented by the general formula (2) is reacted with the general formulas (5-a) and (5-a).
(b) dropping an acid halide of (meth) acrylic acid represented by the above method,
Alternatively, a method of performing a dehydration reaction between the dimercapto compound represented by the general formula (2) and the (meth) acrylic acids represented by the general formulas (5-a) and (5-b) is exemplified.

【0112】上記反応の際、一般式(2)で表されるジ
メルカプト化合物に対して作用させる一般式(5−a)
および(5−b)で表される(メタ)アクリル酸類また
はその酸ハロゲン化物の使用量は、特に制限するもので
はないが、通常、ジメルカプト化合物1モルに対して、
0.1〜10モルであり、好ましくは、0.5〜5モル
であり、より好ましくは、1〜3モルである。
In the above reaction, a compound of the general formula (5-a) acting on the dimercapto compound represented by the general formula (2)
The amount of the (meth) acrylic acid or the acid halide thereof represented by the formula (5) and (5-b) is not particularly limited, but is usually based on 1 mol of the dimercapto compound.
It is 0.1 to 10 mol, preferably 0.5 to 5 mol, and more preferably 1 to 3 mol.

【0113】反応は、無溶媒で行なってもよく、あるい
は反応に対して不活性溶媒中で行なってもよい。かかる
溶媒としては、例えば、n−ヘキサン、ベンゼン、キシ
レンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メ
チルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケ
トン系溶媒、酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル
系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミドまたは1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン等のアミド系溶媒、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−
ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒、
などが挙げられる。これらの溶媒は2種類以上を併用し
ても差し支えない。
The reaction may be carried out without a solvent or in a solvent inert to the reaction. Examples of such a solvent include hydrocarbon solvents such as n-hexane, benzene, xylene, and toluene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Amide solvents such as -dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide or 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran or dioxane,
Dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-
Halogen-based solvents such as dichloroethane or perchrene,
And the like. Two or more of these solvents may be used in combination.

【0114】反応温度は特に制限はないが、原料の(メ
タ)アクリル酸類または反応生成物の(メタ)アクリル
酸チオエステル化合物が重合しない温度であり、通常、
−78〜150℃の範囲であり、好ましくは、−20〜
100℃であり、より好ましくは、−10〜80℃であ
る。反応時間は反応温度にも依存するが、通常、数分〜
100時間であり、好ましくは、30分〜50時間であ
り、より好ましくは、1〜20時間である。また、公知
の分析手段(例えば、液体クロマトグラフィー、薄層ク
ロマトグラフィー、IRなど)により反応率を確認しな
がら、任意の反応率で反応を停止することも可能であ
る。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is a temperature at which the (meth) acrylic acid as a raw material or the (meth) acrylic acid thioester compound as a reaction product is not polymerized.
−78 to 150 ° C., preferably -20 to
It is 100 degreeC, More preferably, it is -10-80 degreeC. The reaction time depends on the reaction temperature, but is usually several minutes to
It is 100 hours, preferably 30 minutes to 50 hours, more preferably 1 to 20 hours. Further, it is also possible to stop the reaction at an arbitrary reaction rate while confirming the reaction rate by a known analysis means (for example, liquid chromatography, thin-layer chromatography, IR, etc.).

【0115】一般式(2)で表される含硫ジメルカプト
化合物と一般式(5−a)および(5−b)で表される
(メタ)アクリル酸類の酸ハロゲン化物との反応によ
り、本発明の含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合
物を製造する際には、ハロゲン化水素(例えば、塩化水
素など)が副生するので、例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ピコリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニ
リン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデカ−7−エン(DBU)等の有機塩基、ある
いは、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシ
ウム等の無機塩基を脱塩化水素剤として使用してもよ
い。かかる脱ハロゲン化水素剤の使用量としては、特に
制限はないが、一般式(2)で表されるジメルカプト化
合物1モルに対して、0.1〜10モルであり、好まし
くは、0.5〜5モルであり、より好ましくは、1〜3
モルである。
The reaction of the sulfur-containing dimercapto compound represented by the general formula (2) with an acid halide of a (meth) acrylic acid represented by the general formulas (5-a) and (5-b) provides the present invention. When a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound is produced, hydrogen halide (e.g., hydrogen chloride) is by-produced. For example, triethylamine,
Pyridine, picoline, dimethylaniline, diethylaniline, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] Organic bases such as undec-7-ene (DBU), or sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium oxide, etc. An inorganic base may be used as the dehydrochlorination agent. The amount of the dehydrohalogenating agent to be used is not particularly limited, but is 0.1 to 10 mol, preferably 0.5 to 10 mol, per 1 mol of the dimercapto compound represented by the general formula (2). -5 mol, more preferably 1-3
Is a mole.

【0116】一般式(2)で表されるジメルカプト化合
物と一般式(5−a)および(5−b)で表される(メ
タ)アクリル酸類との脱水反応により、本発明の一般式
(1)で表される(メタ)アクリル酸チオエステル化合
物を製造する際には、公知の各種エステル化触媒を用い
ることは好ましいことである。該触媒としては、例え
ば、鉱酸(例えば、塩酸、硫酸)、有機酸(例えば、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸)、ルイス酸(例えば、三フッ化ホウ素、三塩
化アルミニウム)等を挙げることができる。かかる触媒
の使用量は、特に制限するものではないが、通常、反応
原料混合物に対して、好ましくは、0.001〜50質
量%、好ましくは、0.01〜30質量%である。ま
た、反応の進行を促進するため、副生した水を系外に除
去することは好ましいことであり、前記溶媒のうち水と
共沸する溶媒(例えば、ベンゼン、トルエンなど)を用
いたり、モレキュラーシーブス等の脱水剤を用いる方法
が挙げられる。
The dimercapto compound represented by the general formula (2) and the (meth) acrylic acid represented by the general formulas (5-a) and (5-b) are subjected to a dehydration reaction to obtain the compound represented by the general formula (1) When the (meth) acrylic acid thioester compound represented by the formula (1) is produced, it is preferable to use various known esterification catalysts. Examples of the catalyst include mineral acids (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid), organic acids (eg, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid), Lewis acids (eg, boron trifluoride, aluminum trichloride) ) And the like. The use amount of such a catalyst is not particularly limited, but is usually 0.001 to 50% by mass, preferably 0.01 to 30% by mass, based on the reaction raw material mixture. In order to promote the progress of the reaction, it is preferable to remove by-product water out of the system. For example, a solvent azeotropic with water (for example, benzene, toluene, or the like) may be used or a molecular solvent may be used. A method using a dehydrating agent such as sieves may be used.

【0117】前述の方法の中で、一般式(2)で表され
るジメルカプト化合物をハロプロピオン酸類またはその
酸ハロゲン化物と反応させて、ハロプロピオン酸エステ
ル化合物とした後、脱ハロゲン化水素して一般式(1)
で表される(メタ)アクリル酸チオエステル化合物を製
造する方法としては、例えば、特開平10−67736
号公報などに記載の方法等が例示される。
In the above-mentioned method, the dimercapto compound represented by the general formula (2) is reacted with a halopropionic acid or an acid halide thereof to form a halopropionic ester compound, and then dehydrohalogenated. General formula (1)
As a method for producing the (meth) acrylic acid thioester compound represented by, for example, JP-A-10-67736
For example, a method described in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. HEI 10-301 is exemplified.

【0118】一般式(1)で表される(メタ)アクリル
酸チオエステル化合物を製造する際に、反応中あるいは
反応後において生成物の重合を防止するために、重合禁
止剤を使用することは好ましいことである。かかる重合
禁止剤としては、例えば、4−メトキシフェノール、ハ
イドロキノン、フェノチアジン等の公知の各種化合物を
例示することができる。重合禁止剤の使用量は特に制限
はないが、反応系中の原料混合物あるいは反応生成物に
対して、通常、0.01〜5質量%であり、好ましく
は、0.05〜3質量%である。
In the production of the (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1), it is preferable to use a polymerization inhibitor in order to prevent polymerization of the product during or after the reaction. That is. Examples of such a polymerization inhibitor include various known compounds such as 4-methoxyphenol, hydroquinone, and phenothiazine. The use amount of the polymerization inhibitor is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5% by mass, preferably 0.05 to 3% by mass, based on the raw material mixture or the reaction product in the reaction system. is there.

【0119】反応終了後、生成物の一般式(1)で表さ
れる含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物は、公
知の操作、処理方法(例えば、中和、溶媒抽出、水洗、
分液、溶媒留去など)により後処理されて単離される。
さらに必要に応じて、得られた一般式(1)で表される
含硫(メタ)アクリル酸チオエステル誘導体を、公知の
方法(例えば、蒸留、再結晶あるいはクロマトグラフィ
ー等)により分離、精製して、高純度の化合物として単
離することもできる。
After the completion of the reaction, the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the product is subjected to known procedures and treatment methods (eg, neutralization, solvent extraction, water washing,
Separation, evaporation of the solvent, etc.).
Further, if necessary, the obtained sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester derivative represented by the general formula (1) is separated and purified by a known method (for example, distillation, recrystallization or chromatography). Can be isolated as a highly pure compound.

【0120】次に、本発明の一般式(1)で表される含
硫(メタ)アクリル酸チオエステル誘導体を含有する重
合性組成物について詳述する。本発明の重合性組成物
は、必須成分として、本発明の一般式(1)で表される
含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物、ならび
に、光および/または熱重合開始剤を含有する。この場
合、上記(メタ)アクリル酸チオエステル化合物は単独
で用いてもよく、あるいは、異なる複数の(メタ)アク
リル酸チオエステル化合物を併用しても差し支えない。
Next, the polymerizable composition containing the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester derivative represented by the general formula (1) of the present invention will be described in detail. The polymerizable composition of the present invention contains, as essential components, a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention, and a light and / or thermal polymerization initiator. In this case, the (meth) acrylic acid thioester compound may be used alone, or a plurality of different (meth) acrylic acid thioester compounds may be used in combination.

【0121】さらに本発明の重合性組成物は、所望の効
果を損なわない範囲で、必要に応じて、一般式(1)で
表される含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物を
含有する以外に、公知の重合性を有する化合物(光また
は熱重合性モノマーまたはオリゴマー等)を含有してい
ても差し支えない。上記重合性組成物中に含有する一般
式(1)で表される含硫(メタ)アクリル酸チオエステ
ル化合物の量は、特に制限はないが、通常、重合性組成
物全体の質量に対して10質量%以上であり、好ましく
は、20質量%以上であり、より好ましくは、30質量
%以上であり、さらに好ましくは50質量%以上であ
る。
Further, the polymerizable composition of the present invention may contain, if necessary, a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) as long as the desired effect is not impaired. , A known polymerizable compound (such as a photo- or thermo-polymerizable monomer or oligomer). The amount of the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) contained in the polymerizable composition is not particularly limited, but is usually 10 to the mass of the entire polymerizable composition. % By mass, preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more.

【0122】本発明の重合性組成物に使用する重合開始
剤としては、特に限定するものではなく、公知の各種熱
重合開始剤または光重合開始剤を使用することができ
る。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベン
ジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−
2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセト
フェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2
−モルフォリノールプロパン−1−オン、N,N−ジメ
チルアミノアセトフェノン、2−メチルアントラキノ
ン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチル
アントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミ
ルアントラキノン、2−イソプロピルチオキサトン、
2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサント
ン、アセトフェノンジメチルケタール、ベンゾフェノ
ン、4−メチルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベ
ンゾフェノン,4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフ
ェノン、ミヒラーズケトン等を例示することができる。
これらは単独で使用することも、あるいは、2種以上を
併用することもできる。
The polymerization initiator used in the polymerizable composition of the present invention is not particularly limited, and various known thermal polymerization initiators or photopolymerization initiators can be used. As the photopolymerization initiator, for example, benzoin, benzyl, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, acetophenone, 2,2-dimethoxy-
2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2
-Morpholinolpropan-1-one, N, N-dimethylaminoacetophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-isopropylthioxatone ,
2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, acetophenone dimethyl ketal, benzophenone, 4-methylbenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone And the like.
These can be used alone or in combination of two or more.

【0123】該光重合開始剤の使用量は、一般式(1)
で表されるアクリル酸チオエステル化合物100質量部
に対して、0.001〜50質量部であり、好ましく
は、0.01〜30質量部であり、より好ましくは、
0.1〜10質量部であり、さらに好ましくは、0.2
〜5質量部である。さらに、これらの光重合開始剤と公
知の光増感剤の1種または2種以上を同時に使用するこ
とは、好ましいことである。該光増感剤としては、例え
ば、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、
トリエタノールアミン、トリエチルアミン等を挙げるこ
とができる。
The amount of the photopolymerization initiator used is determined by the general formula (1)
It is 0.001 to 50 parts by mass, preferably 0.01 to 30 parts by mass, more preferably 0.01 to 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the acrylic acid thioester compound represented by
0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.2 to 10 parts by mass.
To 5 parts by mass. Further, it is preferable to simultaneously use one or more of these photopolymerization initiators and known photosensitizers. Examples of the photosensitizer include N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester,
N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester,
Triethanolamine, triethylamine and the like can be mentioned.

【0124】光重合開始剤と光増感剤の好ましい組み合
わせとしては、2,4−ジエチルチオキサントンまたは
2−イソプロピルチオキサントンとN,N−ジメチルア
ミノ安息香酸エチルエステルとの組み合わせ、また、上
記光重合開始剤同士の好ましい組み合わせとしては、2
−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モル
フォリノールプロパン−1−オンと2,4−ジエチルチ
オキサントンまたは2−イソプロピルチオキサントンと
の組み合わせが挙げられる。
Preferred combinations of the photopolymerization initiator and the photosensitizer include a combination of 2,4-diethylthioxanthone or 2-isopropylthioxanthone and N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, Preferred combinations of the agents are 2
-Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinolpropan-1-one and a combination of 2,4-diethylthioxanthone or 2-isopropylthioxanthone.

【0125】熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイ
ルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイ
ド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ−2−
エチルヘキシルパーオキシカーボネート、tert−ブ
チルパーオキシピバレート等の過酸化物ならびにアゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物などを例示するこ
とができる。該熱重合開始剤の使用量は、一般式(1)
で表される(メタ)アクリル酸チオエステル化合物10
0質量部に対して、通常、0.001〜50質量部であ
り、好ましくは、0.01〜30質量部であり、より好
ましくは、0.1〜10質量部であり、さらに好ましく
は、0.2〜5質量部である。
As the thermal polymerization initiator, for example, benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, di-2-
Examples include peroxides such as ethylhexyl peroxycarbonate and tert-butyl peroxypivalate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. The amount of the thermal polymerization initiator used is represented by the general formula (1)
(Meth) acrylic acid thioester compound 10 represented by the following formula:
With respect to 0 parts by mass, it is usually 0.001 to 50 parts by mass, preferably 0.01 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, further preferably, 0.2 to 5 parts by mass.

【0126】本発明の重合性組成物に用いる重合性の化
合物として、一般式(1)で表される(メタ)アクリル
酸チオエステル化合物以外の、公知の重合性を有する化
合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、
ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリ
レート、ラウリル(メタ)アクリレート、フェノキシエ
チル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル
(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレ
ート、N−n−ブチル−O−(メタ)アクリロイルオキ
シエチルカーバメート、アクリロイルモルホリン、トリ
フルオロエチル(メタ)アクリレート、トリブロモベン
ジル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチ
ル(メタ)アクリレート等の一官能(メタ)アクリレー
ト類;(メタ)アクリロキシプロピルトリス(メトキ
シ)シラン等のケイ素素含有(メタ)アクリレート類;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグ
リコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート類;
As the polymerizable compound used in the polymerizable composition of the present invention, a known polymerizable compound other than the (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) is, for example, methyl (Meth) acrylate,
Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy Propyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, Nn-butyl-O- (meth) acryloyloxyethyl carbamate, acryloylmorpholine, trifluoroethyl (meth) acrylate, tribromobenzyl Monofunctional (meth) acrylates such as (meth) acrylate and perfluorooctylethyl (meth) acrylate; silicon such as (meth) acryloxypropyltris (methoxy) silane Containing (meth) acrylates;
Alkylene glycol di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate;

【0127】トリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート
等のポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート
類;ビスフェノールF、ビスフェノールA、水素化ビス
フェノールAなどのビスフェノール誘導体のアルキレン
オキシド付加物のジ(メタ)アクリレート類;トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ジトリメチロールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能(メ
タ)アクリレート;エチレングリコールジグリシジルエ
ーテルのジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルのジ(メタ)アクリレート、フ
ェノールグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート、
レゾルシンジグリシジルエーテルの(メタ)アクリレー
ト、ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジ(メ
タ)アクリレート、4,4’―ビスヒドロキシフェニル
スルフィドジグリシジルエーテルの(メタ)アクリレー
ト等のエポキシ(メタ)アクリレート類;
Polyalkylene glycol di (meth) acrylates such as triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) acrylate; bisphenol F , Bisphenol A, di (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol derivatives such as hydrogenated bisphenol A; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, Polyfunctional (meth) acrylates such as ditrimethylol tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate; Di (meth) acrylate Ji glycol diglycidyl ether, di (meth) acrylate of propylene glycol diglycidyl ether, (meth) acrylate of phenol glycidyl ether,
Epoxy (meth) acrylates such as (meth) acrylate of resorcin diglycidyl ether, di (meth) acrylate of bisphenol A diglycidyl ether, and (meth) acrylate of 4,4'-bishydroxyphenyl sulfide diglycidyl ether;

【0128】フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型
エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、トリス
(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート等のエ
ポキシ化合物とアクリル酸またはメタクリル酸との反応
物であるエポキシアクリレート類;ビニルベンゼン、ジ
ビニルベンゼン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカ
プロラクタム等の一官能のビニル化合物類;エチレング
リコールジアリルカーボネート、トリメリット酸トリア
リルエステル、トリアリルイソシアヌレート等のアリル
基含有化合物など公知の重合性モノマー、あるいは、ポ
リウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)ア
クリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリ
エーテル(メタ)アクリレートなどの公知の各種重合性
オリゴマー等が例示される。これらの使用量は、本発明
の効果をより達成するために、一般式(1)で表される
含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物100質量
部に対して、通常、300質量部以下であり、好ましく
は、200質量部以下であり、より好ましくは、100
質量部以下である。
Reaction product of an epoxy compound such as phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate with acrylic acid or methacrylic acid Epoxy acrylates; monofunctional vinyl compounds such as vinylbenzene, divinylbenzene, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcaprolactam; allyl groups such as ethylene glycol diallyl carbonate, triallylic acid triallyl ester, and triallyl isocyanurate Known polymerizable monomers such as contained compounds, or polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) a Various known polymerizable oligomers such relations are exemplified. The amount of these is usually 300 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) in order to further achieve the effects of the present invention. , Preferably 200 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass.
Not more than parts by mass.

【0129】本発明の重合性組成物の製造方法として、
具体的には、本発明の一般式(1)で表される含硫(メ
タ)アクリル酸チオエステル化合物を用い、所望により
上記の公知の各種重合性化合物を併用して、さらに上記
重合開始剤を添加した後、混合・溶解させることにより
得られる。該重合性組成物は、必要に応じて重合前に不
溶物、異物などを濾過により除去して、さらに減圧下で
十分に脱泡して重合、硬化に使用される。また、重合性
組成物を製造する際には、所望に応じて、内部離型剤、
光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色顔料(例え
ば、シアニングリーン、シアニンブルー等)、染料、流
動調節剤、無機充填剤(例えば、タルク、シリカ、アル
ミナ、硫酸バリウム、酸化マグネシウム等)、などの公
知の各種添加剤を添加することも可能である。
As a method for producing the polymerizable composition of the present invention,
Specifically, the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) of the present invention is used, and if necessary, the above-mentioned known polymerizable compounds are used in combination. It is obtained by mixing and dissolving after the addition. The polymerizable composition is used for polymerization and curing after removing insoluble matters and foreign substances by filtration before polymerization as required, and further sufficiently defoaming under reduced pressure. Further, when producing the polymerizable composition, if desired, an internal release agent,
Light stabilizer, UV absorber, antioxidant, coloring pigment (eg, cyanine green, cyanine blue, etc.), dye, flow regulator, inorganic filler (eg, talc, silica, alumina, barium sulfate, magnesium oxide, etc.) It is also possible to add various known additives such as.

【0130】本発明の硬化物ならびに該硬化物からなる
光学部品は、上記重合性組成物を重合、硬化して得られ
るものである。これらの方法として、従来から公知の各
種方法が採用され好適に実施されるが、代表的には、上
述のように得られた重合性組成物をモールド中に注入
し、熱または光によって開始されるラジカル重合反応を
用いた注型重合などが挙げられる。該モールドは、例え
ば、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポ
リ塩化ビニル等からなるガスケットを介した鏡面研磨し
た二枚の鋳型により構成される。鋳型としては、ガラス
とガラス、ガラスとプラスチック板、ガラスと金属板等
の組み合わせの鋳型が挙げられる。また、ガスケットと
しては、上記の軟質熱可塑性樹脂(ポリエチレン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル等)を用い
る以外に、2枚の鋳型をポリエステル粘着テープ等で固
定してもよい。また、鋳型に対して、離型処理など公知
の処理方法を行ってもよい。
The cured product of the present invention and an optical component comprising the cured product are obtained by polymerizing and curing the above polymerizable composition. As these methods, conventionally known various methods are adopted and suitably performed, but typically, the polymerizable composition obtained as described above is injected into a mold, and is started by heat or light. Cast polymerization using a radical polymerization reaction. The mold is composed of two mirror-polished molds via a gasket made of, for example, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, or the like. Examples of the mold include a combination of glass and glass, glass and a plastic plate, and glass and a metal plate. As the gasket, in addition to using the above-mentioned soft thermoplastic resin (polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, etc.), two molds may be fixed with a polyester adhesive tape or the like. Further, a known treatment method such as a mold release treatment may be performed on the mold.

【0131】ラジカル重合反応としては、前述したよう
に、熱による重合反応(熱重合)、紫外線などの光によ
る重合反応(光重合)、ガンマ線による重合反応等を利
用する方法、あるいは、これらの複数を組み合わせた方
法などが例示される。これらの方法の中で、熱重合は数
時間から数十時間を要するのに対して、紫外線などによ
る光重合は数秒〜数分で硬化が可能であり、本発明の光
学部品の製造時における生産性を高める点を考慮する
と、好ましい方法である。熱重合を行う場合、重合温度
は重合開始剤の種類など重合条件によって影響されるの
で、限定されるものではないが、通常、25〜200
℃、好ましくは、50〜170℃である。
As the radical polymerization reaction, as described above, a polymerization reaction using heat (thermal polymerization), a polymerization reaction using light such as ultraviolet rays (photopolymerization), a polymerization reaction using gamma rays, or the like, Are exemplified. Among these methods, thermal polymerization requires several hours to several tens of hours, whereas photopolymerization using ultraviolet light or the like can be cured in a matter of seconds to several minutes. This is a preferable method in consideration of enhancing the properties. When performing thermal polymerization, the polymerization temperature is affected by polymerization conditions such as the type of polymerization initiator, and is not limited.
° C, preferably 50 to 170 ° C.

【0132】光学レンズの成形方法としては、上述した
ように、例えば、光または/および熱による注型重合を
行いレンズを得る方法が挙げられる(例えば、特開昭6
0−135901号公報、特開平10−67736号公
報、特開平10−130250号公報など)。すなわ
ち、前述の方法により製造された本発明の一般式(1)
で表される含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物
を含有する重合性組成物を、必要に応じて、適当な方法
で脱泡を行った後、モールド中に注入し、通常、光照射
して重合させる方法により、好適に実施される。また熱
による重合では、低温から高温へ徐々に加熱して重合さ
せる方法により、好適に実施される。得られた光学レン
ズは、必要に応じて、反射防止、高硬度付与、耐摩耗性
向上、防曇性付与あるいはファッション性付与の目的
で、表面研磨、帯電防止処理、ハードコート処理、無反
射コート処理、染色処理、調光処理(例えば、フォトク
ロミックレンズ化処理など)など公知の各種物理的また
は化学的処理を施されてもよい。
As a method of molding an optical lens, as described above, for example, a method of obtaining a lens by performing cast polymerization using light or / and heat (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
0-135901, JP-A-10-67736, JP-A-10-130250, etc.). That is, the general formula (1) of the present invention produced by the method described above
After defoaming the polymerizable composition containing the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the following formula, if necessary, inject into a mold, and usually irradiate with light. It is preferably carried out by a method of polymerizing. Further, the polymerization by heat is suitably performed by a method of performing polymerization by gradually heating from a low temperature to a high temperature. The obtained optical lens may be subjected to surface polishing, antistatic treatment, hard coat treatment, anti-reflection coat, if necessary, for the purpose of anti-reflection, imparting high hardness, improving abrasion resistance, imparting anti-fog properties or imparting fashionability. Various known physical or chemical treatments such as a treatment, a staining treatment, and a light control treatment (for example, a photochromic lens formation treatment) may be performed.

【0133】光ディスクや光磁気ディスクの基板の成形
方法としては、例えば、前記の方法で得られる一般式
(1)で表される含硫(メタ)アクリル酸チオエステル
化合物を含む重合性組成物を、ディスク基板用型キャビ
ティ内に注入し、これをラジカル重合方法等で重合さ
せ、必要に応じて後熱処理する方法(特開昭58−13
0450号公報、同58−137150号公報、同62
−280008号公報など)、両面ガラス型内で光重合
する方法(特開昭60−202557号公報)、真空注
型または注液完了後、加圧して液状樹脂を熱重合させる
方法(特開昭60−203414号公報)など、従来か
ら公知の方法などが挙げられる。
As a method for molding a substrate of an optical disk or a magneto-optical disk, for example, a polymerizable composition containing a sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the general formula (1) obtained by the above method may be used. A method of injecting the mixture into a disk substrate mold cavity, polymerizing the mixture by a radical polymerization method or the like, and performing post-heat treatment as necessary (Japanese Patent Laid-Open No. 58-13 / 1983)
Nos. 0450 and 58-137150 and 62
JP-A-280008), a method of photopolymerization in a double-sided glass mold (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-202557), and a method of thermally polymerizing a liquid resin by applying pressure after completion of vacuum casting or injection (Japanese Patent Application Laid-Open No. No. 60-203414) and conventionally known methods.

【0134】本発明の上記重合性組成物を光重合して得
られる硬化物、該硬化物からなる光学部品は、重合・硬
化に要する時間が数分から数時間であり、既存のポリジ
エチレングリコールジアリルカーボネート、ポリチオウ
レタンに代表される熱硬化性の光学用樹脂と比較して短
時間で重合成形が可能であって、生産性が高いことが特
徴の一つである。さらに、本発明の硬化物および光学部
品は光学特性、機械的特性、熱的特性に優れ、且つ、高
屈折率であるという特徴を有している。該光学部品とし
ては、例えば、矯正用眼鏡レンズを代表とする各種プラ
スチックレンズ、光情報記録媒体基板、液晶セル用プラ
スチック基板、光ファイバーコーティング材料などが具
体的な形態として挙げられる。
The cured product obtained by photopolymerization of the polymerizable composition of the present invention, and the optical component comprising the cured product, require several minutes to several hours for polymerization and curing, and use the existing polydiethylene glycol diallyl carbonate. One of the features is that it can be polymerized and molded in a shorter time than a thermosetting optical resin represented by polythiourethane and has high productivity. Furthermore, the cured product and the optical component of the present invention have excellent optical, mechanical, and thermal characteristics and a high refractive index. Specific examples of the optical component include various plastic lenses typified by corrective spectacle lenses, optical information recording medium substrates, plastic substrates for liquid crystal cells, and optical fiber coating materials.

【0135】[0135]

【実施例】以下、製造例および実施例により本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。尚、以下の各実施例において作製
した硬化物または光学部品(レンズ)の物性評価は、下
記の方法により行った。 ・外観: 目視により色味、透明性を観察した。 ・屈折率、アッベ数: プルフリッヒ屈折計を用いて2
0℃で測定した。 ・耐衝撃性: 中心厚1.5mmのマイナスレンズの中
心部に、高さ127cmから28.7gの鉄球を落下さ
せて、割れの有無を調べた。 ○:レンズに割れが全くない ×:レンズに割れが生じた
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Production Examples and Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The physical properties of the cured product or optical component (lens) produced in each of the following examples were evaluated by the following methods. -Appearance: Color and transparency were visually observed. -Refractive index, Abbe number: 2 using Pulfrich refractometer
It was measured at 0 ° C. Impact resistance: An iron ball of 28.7 g from a height of 127 cm was dropped on the center of a minus lens having a center thickness of 1.5 mm to check for cracks. :: No crack on lens ×: Crack on lens

【0136】実施例1[本発明の式(2)で表される含
硫ジメルカプト化合物の製造] ベンゼンチオール220.4g(2.00モル)、水酸
化ナトリウム3.0g(0.075モル)、メタノール
300gの原料混合物に対して、下記式(3−1)のジ
メチルビフェニルビス(エピチオプロピル)エーテル3
86.6g(1.00モル)をメタノール400gに溶
解させた溶液を10℃で1時間要して滴下した。滴下終
了後、室温(25℃)で3時間、攪拌した後、HPLC
(高速液体クロマトグラフィー)で原料の残存が無いの
を確認した上で、反応溶液を氷水に排出した。油状の生
成物を、トルエン300gを用いて抽出し、さらに排水
層が中性になるまで水洗を繰り返した後、分液して有機
層を取り出した。トルエンを減圧下、40℃で留去し
て、粘性のある微黄色透明液体の式(2−1)の含硫ジ
メルカプト化合物549.1gを得た。
Example 1 [Production of sulfur-containing dimercapto compound represented by formula (2) of the present invention] 220.4 g (2.00 mol) of benzenethiol, 3.0 g (0.075 mol) of sodium hydroxide, A dimethylbiphenylbis (epithiopropyl) ether 3 of the following formula (3-1) was added to a raw material mixture of 300 g of methanol.
A solution of 86.6 g (1.00 mol) dissolved in 400 g of methanol was added dropwise at 10 ° C. for 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 3 hours,
After confirming that there was no remaining raw material by (high performance liquid chromatography), the reaction solution was discharged into ice water. The oily product was extracted with 300 g of toluene, washed repeatedly with water until the drainage layer became neutral, and then separated to remove the organic layer. The toluene was distilled off at 40 ° C. under reduced pressure to obtain 549.1 g of a viscous slightly yellow transparent liquid sulfur-containing dimercapto compound of the formula (2-1).

【0137】[0137]

【化18】 Embedded image

【0138】該生成物の質量分析の測定結果を下記に示
した。 FD−MS: 606(M+ )
The results of mass spectrometry of the product are shown below. FD-MS: 606 (M +)

【0139】実施例2[本発明の式(2)で表される含
硫ジメルカプト化合物の製造] 実施例1において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、2−メルカプトメチル−1,3−ジチオラン、上記
式(3−1)のジメチルビフェニルビス(エピチオプロ
ピル)エーテルを用いる代わりに下記式(3−2)のビ
スフェノールAビスエピチオプロピルエーテルを使用す
る以外は、実施例1に記載の方法と同様にして、無色透
明液体の下記式(2−2)で表される含硫ジメルカプト
化合物を得た。
Example 2 [Production of sulfur-containing dimercapto compound represented by formula (2) of the present invention] In Example 1, instead of using benzenethiol, 2-mercaptomethyl-1,3-dithiolane, In the same manner as in Example 1, except that bisphenol A bisepithiopropyl ether of the following formula (3-2) is used instead of using dimethylbiphenylbis (epithiopropyl) ether of (3-1). As a result, a colorless transparent liquid sulfur-containing dimercapto compound represented by the following formula (2-2) was obtained.

【0140】[0140]

【化19】 Embedded image

【0141】該生成物の質量分析の測定結果を下記に示
した。 FD−MS: 676(M+ )
The measurement results of the product by mass spectrometry are shown below. FD-MS: 676 (M +)

【0142】実施例3[本発明の式(2)で表される含
硫ジメルカプト化合物の製造] 実施例1において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、1,3−ジチオラン−2−カルボン酸、上記式(3
−1)のジメチルビフェニルビス(エピチオプロピル)
エーテルを用いる代わりに下記式(3−3)のジフェニ
ルスルフィドビスエピチオプロピルエーテルを使用する
以外は、実施例1に記載の方法と同様にして、無色透明
液体の下記式(2−3)で表される含硫ジメルカプト化
合物を得た。
Example 3 [Production of a sulfur-containing dimercapto compound represented by the formula (2) of the present invention] In Example 1, instead of using benzenethiol, 1,3-dithiolan-2-carboxylic acid was used. (3
-1) Dimethylbiphenylbis (epithiopropyl)
A colorless transparent liquid represented by the following formula (2-3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that diphenyl sulfide bisepithiopropyl ether of the following formula (3-3) was used instead of using ether. The sulfur-containing dimercapto compound represented was obtained.

【0143】[0143]

【化20】 Embedded image

【0144】該生成物の質量分析の測定結果を下記に示
した。 FD−MS: 662(M+ )
The measurement results of the product by mass spectrometry are shown below. FD-MS: 662 (M +)

【0145】実施例4〜23 上記実施例1〜3に記載の方法と同様な方法により、ビ
スエピチオプロピル化合物と含硫化合物との反応によっ
て、下記第3表に示した本発明の一般式(2)で示され
る含硫ジメルカプト化合物を製造した。
Examples 4 to 23 By the same method as described in Examples 1 to 3 above, the reaction between the bisepithiopropyl compound and the sulfur-containing compound was carried out to obtain the general formula of the present invention shown in Table 3 below. A sulfur-containing dimercapto compound represented by (2) was produced.

【0146】[0146]

【表67】 [Table 67]

【0147】[0147]

【表68】 [Table 68]

【0148】実施例24 実施例1で製造した式(2−1)で表される含硫ジメル
カプト化合物72.8g(0.12モル)、ピリジン1
9.0g(0.24モル)、クロロホルム200gの混
合溶液に対して、氷水冷下(10℃)でアクリル酸クロ
リド23.5g(0.26モル)を滴下した。滴下終了
後、10℃でさらに3時間攪拌して反応を行い、その
後、副生したピリジン塩酸塩を濾過して除いた。濾液の
クロロホルム溶液をさらに希塩酸水200gで洗浄した
後、排水相が中性になるまで水洗を行った上で、分液し
て、有機相を取り出した。クロロホルムを減圧下、60
℃で留去して、淡黄色透明液体の粗生成物を得た。該粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
て、粘性のある無色透明液体として下記式(1−1)の
含硫アクリル酸チオエステル化合物68.6gを得た。
Example 24 72.8 g (0.12 mol) of the sulfur-containing dimercapto compound represented by the formula (2-1) produced in Example 1 and pyridine 1
To a mixed solution of 9.0 g (0.24 mol) and 200 g of chloroform, 23.5 g (0.26 mol) of acrylic acid chloride was added dropwise under ice-water cooling (10 ° C.). After the completion of the dropwise addition, the reaction was carried out by stirring at 10 ° C. for further 3 hours, and then the by-product pyridine hydrochloride was removed by filtration. After the chloroform solution of the filtrate was further washed with 200 g of dilute hydrochloric acid, water was washed until the drainage phase became neutral, followed by liquid separation, and the organic phase was taken out. Chloroform under reduced pressure
The residue was distilled at ℃ to obtain a crude product as a pale yellow transparent liquid. The crude product was purified by silica gel chromatography to obtain 68.6 g of a sulfur-containing acrylic acid thioester compound represented by the following formula (1-1) as a viscous colorless transparent liquid.

【0149】[0149]

【化21】 Embedded image

【0150】該生成物の質量分析の測定結果を下記に示
した。 FD−MS: 714(M+ )
The results of mass spectrometry of the product are shown below. FD-MS: 714 (M +)

【0151】実施例25 実施例24において、式(2−1)で表されるジメルカ
プト化合物を用いる代わりに、実施例2で製造した式
(2−2)で表されるジメルカプト化合物を使用する以
外は、実施例4に記載の方法と同様にして、無色透明液
体として下記式(1−2)で表される含硫アクリル酸チ
オエステル化合物を得た。
Example 25 The procedure of Example 24 was repeated, except that the dimercapto compound represented by the formula (2-2) produced in Example 2 was used instead of using the dimercapto compound represented by the formula (2-1). In the same manner as in Example 4, a sulfur-containing acrylic acid thioester compound represented by the following formula (1-2) was obtained as a colorless transparent liquid.

【0152】[0152]

【化22】 Embedded image

【0153】該生成物の質量分析の測定結果を下記に示
した。 FD−MS: 784(M+ )
The results of mass spectrometry of the product are shown below. FD-MS: 784 (M +)

【0154】実施例26 実施例24において、式(2−1)で表されるジメルカ
プト化合物を用いる代わりに、実施例3で製造した式
(2−3)で表されるジメルカプト化合物を使用する以
外は、実施例24に記載の方法と同様にして、無色透明
液体として下記式(1−3)で表される含硫アクリル酸
チオエステル化合物を得た。
Example 26 In Example 24, a dimercapto compound represented by the formula (2-3) produced in Example 3 was used instead of using the dimercapto compound represented by the formula (2-1). In the same manner as in the method described in Example 24, a sulfur-containing acrylic acid thioester compound represented by the following formula (1-3) was obtained as a colorless transparent liquid.

【0155】[0155]

【化23】 Embedded image

【0156】該生成物の質量分析の測定結果を下記に示
した。 FD−MS: 770(M+ )
The measurement results of the product by mass spectrometry are shown below. FD-MS: 770 (M +)

【0157】実施例27 実施例24において、アクリル酸クロリドを用いる代わ
りに、メタクリル酸クロリドを使用する以外は、実施例
4に記載の方法と同様にして、無色透明液体として、下
記式(1−4)で表される含硫メタクリル酸チオエステ
ル化合物を得た。
Example 27 A colorless transparent liquid was prepared in the same manner as in Example 24 except that methacrylic acid chloride was used instead of acrylic acid chloride. The sulfur-containing methacrylic acid thioester compound represented by 4) was obtained.

【0158】[0158]

【化24】 Embedded image

【0159】該生成物の質量分析の測定結果を下記に示
した。 FD−MS: 742(M+ )
The measurement results of the product by mass spectrometry are shown below. FD-MS: 742 (M +)

【0160】実施例28〜47 上記実施例24〜27に記載の方法と同様な方法によ
り、下記第4表に示した本発明の一般式(1)で示され
る含硫(メタ)アクリル酸チオエステル化合物を得た。
Examples 28 to 47 The sulfur-containing (meth) acrylic acid thioesters represented by the general formula (1) of the present invention shown in Table 4 below were prepared in the same manner as described in the above Examples 24 to 27. The compound was obtained.

【0161】[0161]

【表69】 [Table 69]

【0162】[0162]

【表70】 [Table 70]

【0163】実施例48 実施例24で得られた式(1−1)の含硫アクリル酸チ
オエステル化合物30gに対して、光重合開始剤として
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−
1−オン(Darocur−1173、チバガイギー社
製)30mgを添加して、よく混合し溶解させた。得ら
れた液体を十分に減圧下、脱泡した後、ガラスモールド
とガスケットよりなるモールド型に注入した。メタルハ
ライドランプ(80W/cm)を使用して紫外線を60
秒間、照射して重合を行った。重合終了後、徐々に冷却
し、成形された硬化物をモールドから取り出した。得ら
れた硬化物は、無色透明で光学歪みは観察されなかっ
た。屈折率(nd)は1.633、アッベ数(νd)は
30.3であった。
Example 48 To 30 g of the sulfur-containing acrylic acid thioester compound of the formula (1-1) obtained in Example 24 was added 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- as a photopolymerization initiator.
30 mg of 1-one (Darocur-1173, Ciba-Geigy) was added, mixed well and dissolved. The resulting liquid was sufficiently defoamed under reduced pressure, and then poured into a mold composed of a glass mold and a gasket. Use a metal halide lamp (80 W / cm) to emit 60 UV rays.
The polymerization was performed by irradiation for 2 seconds. After completion of the polymerization, the mixture was gradually cooled, and the formed cured product was taken out of the mold. The obtained cured product was colorless and transparent, and no optical distortion was observed. The refractive index (nd) was 1.633 and the Abbe number (νd) was 30.3.

【0164】実施例42〜74 実施例41において、式(1−1)のアクリル酸チオエ
ステル化合物を使用する代わりに、実施例25〜47で
製造した含硫アクリル酸チオエステル化合物をそれぞれ
用いた以外は、実施例48に記載の方法と同様にして、
硬化物を得た。得られた重合後の成形された硬化物の物
性を第5表に示した。
Examples 42 to 74 In Example 41, the sulfur-containing acrylic acid thioester compounds produced in Examples 25 to 47 were used instead of using the acrylic acid thioester compound of the formula (1-1). In the same manner as described in Example 48,
A cured product was obtained. Table 5 shows the physical properties of the obtained cured product after polymerization.

【0165】[0165]

【表71】 [Table 71]

【0166】実施例75 実施例25で得られた式(1−2)のアクリル酸チオエ
ステル化合物20g、下記式(d)で示されたレゾルシ
ンジグリシジルエーテルのエポキシアクリレート5gお
よびジビニルベンゼン5gの混合物に、2−ヒドロキシ
−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン60m
g(0.2質量%対重合性モノマー)を添加してよく混
合、溶解させた。得られた液体を十分に脱泡した後、ガ
ラスモールドとテープよりなるモールド型に注入した。
メタルハライドランプにより紫外線を60秒間、照射し
た後、80℃で1時間加熱して重合を行った。重合終了
後、室温まで放冷し、直径30mm、中心厚1.5mm
のマイナスレンズを得た。該レンズは無色透明であり、
屈折率(nd)は1.628、アッベ数(νd)は3
4.7であった。TMA法によるガラス転移温度(T
g)は70℃以上であった。また前記の方法による耐衝
撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
Example 75 To a mixture of 20 g of the acrylic acid thioester compound of the formula (1-2) obtained in Example 25, 5 g of an epoxy acrylate of resorcin diglycidyl ether represented by the following formula (d) and 5 g of divinylbenzene was added. , 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one 60 m
g (0.2% by mass relative to the polymerizable monomer) was added and mixed and dissolved well. After sufficiently defoaming the obtained liquid, it was poured into a mold composed of a glass mold and a tape.
After irradiating with a metal halide lamp for 60 seconds, ultraviolet rays were heated at 80 ° C. for 1 hour to perform polymerization. After completion of the polymerization, the mixture is allowed to cool to room temperature, and has a diameter of 30 mm and a center thickness of 1.5 mm.
I got a minus lens. The lens is colorless and transparent,
Refractive index (nd) is 1.628, Abbe number (νd) is 3
4.7. Glass transition temperature (T
g) was 70 ° C. or higher. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0167】[0167]

【化25】 Embedded image

【0168】実施例76〜81 実施例75に記載の方法と同様にして、第6表に示した
組成の重合性組成物を調製してレンズを作製した。該レ
ンズの物性評価の結果を、第6表に示した。
Examples 76 to 81 In the same manner as in Example 75, a polymerizable composition having the composition shown in Table 6 was prepared to prepare a lens. Table 6 shows the results of evaluating the physical properties of the lens.

【0169】[0169]

【表72】 [Table 72]

【0170】本発明の含硫(メタ)アクリル酸チオエス
テル化合物を含有する重合性組成物を重合して得られる
硬化物および光学部品は、光学特性、熱的特性、機械的
特性(耐衝撃性)に優れ、且つ、短時間で重合・成形硬
化が可能(高生産性)であり、且つ、高屈折率である。
The cured product and the optical component obtained by polymerizing the polymerizable composition containing the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound of the present invention have optical properties, thermal properties, and mechanical properties (impact resistance). , And can be polymerized and molded and cured in a short time (high productivity), and has a high refractive index.

【0171】[0171]

【発明の効果】本発明の含硫(メタ)アクリル酸チオエ
ステル化合物は、光硬化可能な重合性組成物用のモノマ
ーとして有用である。該重合性組成物を硬化して得られ
る光学部品は、光学特性、熱的特性、機械的特性に優
れ、且つ、生産性が良好であり、高屈折率であり、矯正
用眼鏡レンズを代表とする各種プラスチックレンズ、光
情報記録媒体基板、液晶セル用プラスチック基盤、光フ
ァイバーコーティング材料等として有用である。
The sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound of the present invention is useful as a monomer for a photocurable polymerizable composition. An optical component obtained by curing the polymerizable composition has excellent optical properties, thermal properties, and mechanical properties, and has good productivity, a high refractive index, and is represented by a corrective spectacle lens. It is useful as various plastic lenses, optical information recording medium substrates, plastic substrates for liquid crystal cells, optical fiber coating materials, and the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 1/04 G02B 1/04 (72)発明者 大辻 淳夫 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番地32 三井化学株式会社内 Fターム(参考) 4H006 AA01 AB46 TA04 TB14 TB31 TB35 TB74 TB76 TC23 TN10 TN30 TN60 4J100 AL65P AL71P AP02P BA04P BA41P BA51P BB00P BC43P CA01 DA63 JA33 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 1/04 G02B 1/04 (72) Inventor Atsushi Ohtsuji 580-2, Takuji Nagaura, Takuji Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba 32 F-term (reference) in Mitsui Chemicals, Inc. 4H006 AA01 AB46 TA04 TB14 TB31 TB35 TB74 TB76 TC23 TN10 TN30 TN60 4J100 AL65P AL71P AP02P BA04P BA41P BA51P BB00P BC43P CA01 DA63 JA33

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表される含硫(メ
タ)アクリル酸チオエステル化合物。 【化1】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、R11、R14はそれぞれ独立に、水素原子またはメチ
ル基を表し、Y1は、単結合、−C(R15)(R16)−
基(R15、R16はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、アリール基を表し、アルキル基、アリール基の場合
は結合して環を形成してもよい。)、酸素原子、硫黄原
子、−SO2−基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に
酸素原子または硫黄原子を表す〕
1. A sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the following general formula (1). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, R 11 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, Y 1 represents a single bond, —C (R 15 ) (R 16 )-
Groups (R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and in the case of an alkyl group or an aryl group, may combine to form a ring), an oxygen atom, a sulfur atom,- Represents an SO 2 — group, and Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom]
【請求項2】 下記一般式(1−A)で表される含硫
(メタ)アクリル酸チオエステル化合物。 【化2】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、R11、R14はそれぞれ独立に、水素原子またはメチ
ル基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に酸素原子また
は硫黄原子を表す〕
2. A sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the following general formula (1-A). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a sulfur atom-containing substituent; R 11 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom Represents
【請求項3】 下記一般式(1−B)で表される含硫
(メタ)アクリル酸チオエステル化合物。 【化3】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、R11、R14はそれぞれ独立に、水素原子またはメチ
ル基を表し、R15、R16はそれぞれ独立に水素原子、ア
ルキル基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に酸素原子
または硫黄原子を表す〕
3. A sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the following general formula (1-B). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, R 11 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group. And Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom]
【請求項4】 下記一般式(1−C)で表される含硫
(メタ)アクリル酸チオエステル化合物。 【化4】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、R11、R14はそれぞれ独立に、水素原子またはメチ
ル基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に酸素原子また
は硫黄原子を表す〕
4. A sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the following general formula (1-C). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a sulfur atom-containing substituent; R 11 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom Represents
【請求項5】 下記一般式(1−D)で表される含硫
(メタ)アクリル酸チオエステル化合物。 【化5】 〔式中、R9、R12はそれぞれ独立に、水素原子または
アルキル基を表し、R10、R13はそれぞれ独立に、硫黄
原子を含有する置換基を表し、R11、R14はそれぞれ独
立に、水素原子またはメチル基を表し、Z1、Z2は、そ
れぞれ独立に酸素原子または硫黄原子を表す〕
5. A sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound represented by the following general formula (1-D). Embedded image [Wherein, R 9 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10 and R 13 each independently represent a substituent containing a sulfur atom, and R 11 and R 14 each independently represent Represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
【請求項6】 請求項1記載の含硫(メタ)アクリル酸
チオエステル化合物を含有する重合性組成物。
6. A polymerizable composition containing the sulfur-containing (meth) acrylic acid thioester compound according to claim 1.
【請求項7】 請求項6記載の重合性組成物を重合して
得られる硬化物。
7. A cured product obtained by polymerizing the polymerizable composition according to claim 6.
【請求項8】 請求項7記載の硬化物からなる光学部
品。
8. An optical component comprising the cured product according to claim 7.
【請求項9】 下記一般式(2)で表される含硫ジメル
カプト化合物。 【化6】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、Y1は、単結合、−C(R15)(R16)−基
(R15、R16ははそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、アリール基を表し、アルキル基、アリール基の場合
は結合して環を形成してもよい。)、酸素原子、硫黄原
子、−SO2−基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に
酸素原子または硫黄原子を表す〕
9. A sulfur-containing dimercapto compound represented by the following general formula (2). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, Y 1 is a single bond, a —C (R 15 ) (R 16 ) — group (R 15 and R 16 are each independently a hydrogen atom, Represents an alkyl group or an aryl group, and in the case of an alkyl group or an aryl group, may combine to form a ring.), An oxygen atom, a sulfur atom, a —SO 2 — group, and Z 1 and Z 2 represent Each independently represents an oxygen atom or a sulfur atom]
【請求項10】 下記一般式(2−A)で表される含硫
ジメルカプト化合物。 【化7】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、Z1、Z2は、それぞれ独立に酸素原子または硫黄原
子を表す〕
10. A sulfur-containing dimercapto compound represented by the following general formula (2-A). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, and Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.]
【請求項11】 下記一般式(2−B)で表される含硫
ジメルカプト化合物。 【化8】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、R15、R16はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基
を表し、Z1、Z2は、それぞれ独立に酸素原子または硫
黄原子を表す〕
11. A sulfur-containing dimercapto compound represented by the following general formula (2-B). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom. Represents)
【請求項12】 下記一般式(2−C)で表される含硫
ジメルカプト化合物。 【化9】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、R9、R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R10
13はそれぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表
し、Z1、Z2は、それぞれ独立に酸素原子または硫黄原
子を表す〕
12. A sulfur-containing dimercapto compound represented by the following general formula (2-C). Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A nitro group or a halogen atom, a R 9, R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10,
R 13 each independently represents a substituent containing a sulfur atom, and Z 1 and Z 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.]
【請求項13】 下記一般式(2−D)で表される含硫
ジメルカプト化合物。 【化10】 〔式中、R9、R12はそれぞれ独立に、水素原子または
アルキル基を表し、R10、R13はそれぞれ独立に、硫黄
原子を含有する置換基を表し、Z1、Z2は、それぞれ独
立に酸素原子または硫黄原子を表す〕
13. A sulfur-containing dimercapto compound represented by the following general formula (2-D). Embedded image [Wherein, R 9 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 10 and R 13 each independently represent a substituent containing a sulfur atom, and Z 1 and Z 2 each represent Independently represents an oxygen atom or a sulfur atom)
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