JP2002123977A - Write once read many optical recording medium - Google Patents

Write once read many optical recording medium

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JP2002123977A
JP2002123977A JP2000318980A JP2000318980A JP2002123977A JP 2002123977 A JP2002123977 A JP 2002123977A JP 2000318980 A JP2000318980 A JP 2000318980A JP 2000318980 A JP2000318980 A JP 2000318980A JP 2002123977 A JP2002123977 A JP 2002123977A
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JP
Japan
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layer
write
recording medium
once optical
phase change
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Application number
JP2000318980A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuya Hayashibe
和弥 林部
Katsuya Owada
克也 大和田
Kazuyuki Furuya
一之 古谷
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Asahi Kasei Corp
Sony Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a write once read many optical recording medium capable of controlling recording sensitivity as well as of improving corrosion resistance. SOLUTION: In the write once read many optical recording medium obtained by stacking a first protective layer 3, a phase change recording layer 4 of 10-40 nm thickness so formed that it can record an information signal by a phase change, a crystallization promoting layer 5 and a reflecting layer 7 on a disk substrate 2, a second protective layer 6 of 1-100 nm thickness comprising SiN or ZnS-SiO2 is disposed between the crystallization promoting layer 5 and the reflecting layer 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、追記型光学記録
媒体に関し、特に、相変化記録により情報の記録を追記
的に行うようにした追記型光学記録媒体に適用して好適
なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a write-once optical recording medium, and more particularly, to a write-once optical recording medium which is adapted to record information additionally by phase change recording.

【0002】[0002]

【従来の技術】光学記録層にレーザ光を照射することに
よりデータを記録および再生する光学情報記録媒体とし
ては、一回だけ記録可能な追記型光ディスクと、記録さ
れた情報信号の消去と再記録ができる書き換え可能型光
ディスクが知られている。
2. Description of the Related Art As an optical information recording medium for recording and reproducing data by irradiating an optical recording layer with a laser beam, a write-once optical disc which can be recorded only once, and erasing and re-recording of a recorded information signal. 2. Description of the Related Art A rewritable optical disk capable of performing the following is known.

【0003】追記型光ディスクの記録原理としては、例
えば、記録層に穴を開ける方法、記録層を熱変形させる
方法、金属を合金化もしくは凝集させる方法、記録層を
相変化させる方法、有機色素を感熱させる方法などが従
来提案されてきた。
The recording principle of a write-once optical disc includes, for example, a method of making a hole in the recording layer, a method of thermally deforming the recording layer, a method of alloying or aggregating a metal, a method of changing the phase of the recording layer, and a method of using an organic dye. Conventionally, a method of causing heat has been proposed.

【0004】これらの方法のうち、追記型光ディスクと
して最近良く利用されているCD−R(Compact Disc R
ecordable:追記型CD)は、ディスクの反射率が65
%以上であることが要求されることから、主に有機色素
を感熱させる方法を記録原理としている。その理由は、
この有機色素を感熱させる方法以外の記録原理では、記
録層の光学定数が適切な値であること、高い反射率を有
しながら記録可能であることの2点を同時に満たすこと
ができないからである。
[0004] Among these methods, CD-R (Compact Disc R), which is often used recently as a write-once optical disc, is used.
ecordable: write-once CD) has a disc reflectivity of 65
%, The recording principle is mainly based on a method of heat-sensing an organic dye. The reason is,
This is because the recording principle other than the method of heat-sensing the organic dye cannot simultaneously satisfy the two points that the optical constant of the recording layer is an appropriate value and that recording is possible while having a high reflectance. .

【0005】また、記録密度がCD−Rより高いDVD
−R(Digital Versatile Disc Recordable:追記型D
VD)も、製品化されている。このDVD−Rにおいて
は、ディスクの反射率をCD−Rほど高くする必要はな
い。ところが、依然として有機色素を感熱させる方法を
主な記録原理としている。この理由は以下の通りであ
る。DVD−Rは、記録方式がマークエッジ記録(ピッ
トエッジ記録)であるとともに、高密度に記録される。
そのため、記録マーク(記録ピット)は、エッジが設定
位置に正しい形状で鮮明に形成される必要がある。そし
て、有機色素を感熱させる方法以外の記録原理で、この
ようなマークエッジの制御を行うことは困難であった。
A DVD having a higher recording density than a CD-R
-R (Digital Versatile Disc Recordable: write-once D
VD) has also been commercialized. In this DVD-R, the reflectance of the disk does not need to be as high as that of a CD-R. However, the method of making organic dyes heat-sensitive is still the main recording principle. The reason is as follows. In DVD-R, the recording method is mark edge recording (pit edge recording) and recording is performed at high density.
Therefore, the recording marks (recording pits) need to be sharply formed with the correct shape at the set position. It has been difficult to control such mark edges by a recording principle other than the method of heating an organic dye.

【0006】しかしながら、有機色素を感熱させる方法
による記録原理においては、記録するレーザ光の波長依
存性が高く、波長が数十nm変動しただけで記録および
再生ができなくなるといった問題がある。また、有機色
素を採用した追記型光ディスクに対して高密度記録が可
能なレーザ光の波長は、従来の光ディスクに対する記録
用の波長とは異なってしまう。そのため、ディスクドラ
イブを従来の製品と共用できず、互換性が低いという問
題もある。
However, the recording principle based on the method of causing an organic dye to heat-sensitive has a problem that the wavelength of a laser beam to be recorded has a high wavelength, and recording and reproduction cannot be performed even if the wavelength fluctuates by several tens of nm. In addition, the wavelength of laser light capable of high-density recording on a write-once optical disk employing an organic dye is different from the wavelength for recording on a conventional optical disk. Therefore, there is also a problem that the disk drive cannot be shared with the conventional product, and the compatibility is low.

【0007】一方、記録層を相変化させる記録原理を利
用した追記型光ディスクも、数多く製品化されている。
この場合、記録層材料として、照射するレーザ光の強度
の相違により、結晶と非晶質との間で相変化が生じる材
料を用いる。この記録原理においては、有機色素を感熱
させる記録原理よりも、記録するレーザ光の波長依存性
が低いという利点を有する。
On the other hand, many write-once optical disks using the recording principle of changing the recording layer in phase have been commercialized.
In this case, a material that undergoes a phase change between crystalline and amorphous due to the difference in the intensity of the laser light to be irradiated is used as the recording layer material. This recording principle has an advantage that the wavelength dependence of laser light to be recorded is lower than that of a recording principle in which an organic dye is heat-sensitive.

【0008】このタイプの光ディスクの構造としては、
記録層の上に金属の反射層を設けたものが提案されてき
た(特開昭62−154341号公報、特開昭63−1
76185号公報)。これらの文献によれば、記録層上
にアンチモン(Sb)、テルル(Te)またはビスマス
(Bi)を主成分とする反射層を設けることにより、感
度を高くするとともに、光学的なコントラストが高くな
るようにしている。
The structure of this type of optical disk is as follows.
A structure in which a metal reflective layer is provided on a recording layer has been proposed (JP-A-62-154341, JP-A-63-1).
No. 76185). According to these documents, by providing a reflective layer containing antimony (Sb), tellurium (Te) or bismuth (Bi) as a main component on a recording layer, sensitivity is increased and optical contrast is increased. Like that.

【0009】しかしながら、これらの提案で挙げられた
反射層材料は、記録方式がマークポジション記録(ピッ
トポジション記録)の場合に好適なものである。マーク
ポジション記録はマークエッジ記録と異なり、記録マー
クのエッジを精密に制御する必要がない。そして、記録
層上にSb、TeまたはBiを主成分とする反射層を設
けたとしても、記録マークのエッジ制御性は良好になら
ないので、これらの提案は、記録方式がマークエッジ記
録の場合には不適である。
However, the reflective layer materials mentioned in these proposals are suitable when the recording method is mark position recording (pit position recording). Unlike mark edge recording, mark position recording does not require precise control of edges of recording marks. Even if a reflective layer containing Sb, Te or Bi as a main component is provided on the recording layer, the edge controllability of the recording mark is not improved. Therefore, these proposals are made when the recording method is mark edge recording. Is not suitable.

【0010】また、特開昭60−164937号公報に
は、記録感度の向上を図るために、光ディスクの記録層
を、二つの相変化層の間に光吸収層を有する3層構造と
する方法が記載されている。相変化層は、セレン(S
e)単体、Se化合物、またはSe合金で構成される。
また、吸収層は、Bi単体、Te単体、またはこれらの
合金で構成される。しかしながら、この方法であっても
記録方式がマークエッジ記録の場合に適したものではな
い。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-164937 discloses a method in which a recording layer of an optical disc has a three-layer structure having a light absorbing layer between two phase change layers in order to improve recording sensitivity. Is described. The phase change layer is made of selenium (S
e) It is composed of a simple substance, a Se compound, or a Se alloy.
Further, the absorption layer is made of Bi alone, Te alone, or an alloy thereof. However, even this method is not suitable for the case where the recording method is mark edge recording.

【0011】また、特開昭60−28045号公報に
は、記録層の構成を2層構造とした情報記録媒体が記載
されている。記録層を構成する第1の層は、カルコゲナ
イドガラス(例えば、Te、Bi、Sb、インジウム
(In))またはそれらの化合物(例えばBi−Te)
からなる。この媒体の記録原理は、上述した金属を合金
化もしくは凝集させる方法である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-28045 discloses an information recording medium having a recording layer having a two-layer structure. The first layer constituting the recording layer is made of a chalcogenide glass (for example, Te, Bi, Sb, indium (In)) or a compound thereof (for example, Bi-Te).
Consists of The recording principle of this medium is a method of alloying or aggregating the above-mentioned metals.

【0012】また、特開平9−66668号公報には、
記録層の構成が3層構造である光ディスクが開示されて
いる。記録層は、基板側からSb−Se系薄膜、Bi−
Te系薄膜、Sb−Se系薄膜で構成されている。この
媒体の記録原理は、上述した金属を合金化もしくは凝集
させる方法である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-66668 discloses that
An optical disc having a recording layer having a three-layer structure is disclosed. The recording layer is composed of a Sb-Se based thin film, Bi-
It is composed of a Te-based thin film and an Sb-Se-based thin film. The recording principle of this medium is a method of alloying or aggregating the above-mentioned metals.

【0013】また、特開平5−342629号公報に
は、Te−Ge−Sb系合金からなる記録層に接して、
Te単体、Se合金、または記録層よりTe含有率の高
いTe−Ge−Sbからなる補助層を有する情報記録媒
体が記載されている。この媒体においては、記録層を結
晶から非晶質へ相変化されることにより記録が行われ
る。そのため、この媒体に対しては、初回から安定的な
記録が行われるように、出荷前に、記録層を一様な結晶
状態にする初期化工程が行われる。補助層はこの初期化
工程を簡素化するために設けられている。また、この媒
体は書換可能型である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-342629 discloses that a recording layer made of a Te—Ge—Sb alloy is
An information recording medium having an auxiliary layer composed of Te alone, a Se alloy, or Te—Ge—Sb having a higher Te content than the recording layer is described. In this medium, recording is performed by changing the phase of the recording layer from crystalline to amorphous. Therefore, on this medium, an initialization step of setting the recording layer to a uniform crystalline state is performed before shipment so that stable recording is performed from the first time. The auxiliary layer is provided to simplify this initialization step. This medium is of a rewritable type.

【0014】また、最近公開されたWO99/3090
8公報には、相変化記録層と界面層(結晶化補助層)と
を有する追記型光学情報記録媒体が開示されている。こ
の追記型光学情報記録媒体においては、相変化記録層が
界面層の単位格子を反映して結晶化することにより記録
マークが形成される。このため、エッジの制御性が高く
マークエッジ記録方式に適したマーク形成が可能となっ
た。
In addition, recently published WO 99/3090
No. 8 discloses a write-once optical information recording medium having a phase change recording layer and an interface layer (crystallization assisting layer). In this write-once optical information recording medium, a recording mark is formed by crystallization of the phase change recording layer reflecting the unit cell of the interface layer. For this reason, it is possible to form marks suitable for the mark edge recording method with high edge controllability.

【0015】このとき、相変化記録層の材料としては、
記録信号の向上のため、結晶化速度が速く、結晶化前後
の光学的コントラストが大きい材料が選ばれる。また、
界面層の材料としては、相変化記録層の結晶化を補助す
るために、結晶化後の相変化記録層と格子定数が近い材
料が選ばれている。
At this time, as a material of the phase change recording layer,
To improve the recording signal, a material having a high crystallization speed and a high optical contrast before and after crystallization is selected. Also,
As a material for the interface layer, a material having a lattice constant close to that of the phase-change recording layer after crystallization is selected to assist crystallization of the phase-change recording layer.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】このような条件を満た
す材料を用いた追記型光学記録媒体としては、上述のW
O99/30908公報において、相変化記録層の材料
としてGdSbTe系合金、界面層の材料としてSnT
e系合金を用いるようにした媒体が例示されている。し
かしながら、本発明者の鋭意検討から得た知見によれ
ば、このような光学記録媒体においては、記録時に要す
る光の強度が高く、感度が悪くなってしまう。
As a write-once optical recording medium using a material satisfying such conditions, the above-mentioned W
In O99 / 30908, a GdSbTe alloy is used as a material for a phase change recording layer, and SnT is used as a material for an interface layer.
A medium using an e-based alloy is illustrated. However, according to the knowledge obtained by the inventor's earnest studies, in such an optical recording medium, the intensity of light required at the time of recording is high, and the sensitivity is deteriorated.

【0017】さらに、本発明者の鋭意検討から得た知見
によれば、上述した光学記録媒体においては、腐食が生
じやすく、この光学記録媒体における信頼性を十分に確
保することが困難であった。
Further, according to the knowledge obtained by the inventor's earnest study, the above-mentioned optical recording medium is susceptible to corrosion, and it has been difficult to sufficiently secure the reliability of the optical recording medium. .

【0018】したがって、この発明の目的は、耐腐食性
を向上させることができるとともに、記録感度を制御す
ることができる追記型光学記録媒体を提供することにあ
る。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a write-once optical recording medium capable of improving the corrosion resistance and controlling the recording sensitivity.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明者は、従来技術が
有する上述の課題を解決すべく、鋭意検討を行った。以
下にその概要を説明する。
Means for Solving the Problems The present inventor has made intensive studies in order to solve the above-mentioned problems of the prior art. The outline is described below.

【0020】すなわち、上述したように、従来の追記型
光学記録媒体においては、結晶化補助層と反射層とが接
触した構造や、相変化記録層と反射層とが接触した構造
になっていた。本発明者はこの点に着目し、追記型光学
記録媒体において腐食が生じやすいのは、結晶化補助層
および反射層における互いのイオン化傾向が異なってお
り、イオン化傾向の異なる2つの金属を接触させている
ことにより、記録媒体の基板に水分が微量に存在した場
合であっても、そのイオン化傾向の違いによって、腐食
が生じてしまうことを想起した。
That is, as described above, the conventional write-once optical recording medium has a structure in which the crystallization auxiliary layer and the reflection layer are in contact with each other, and a structure in which the phase change recording layer and the reflection layer are in contact with each other. . The present inventor pays attention to this point, and the reason that corrosion is likely to occur in the write-once optical recording medium is that the crystallization assisting layer and the reflective layer have different ionization tendencies, and two metals having different ionization tendencies are brought into contact with each other. Thus, it has been recalled that even when a very small amount of water exists on the substrate of the recording medium, corrosion occurs due to the difference in the ionization tendency.

【0021】また、上述したように、相変化記録層と結
晶化補助層とは、それらの層における格子定数が互いに
近くなるように材料が選ばれる。相変化記録層の材料と
しては、記録信号特性の向上のために結晶化速度の速い
材料、例えばGeTeが選ばれる。また、結晶化補助層
の材料としては、上述したように例えばSnTeが選ば
れる。ところが、このような光学記録媒体においては、
記録時に要するレーザ光の強度が高く、感度が悪くな
る。
As described above, the material for the phase change recording layer and the material for the crystallization auxiliary layer are selected so that the lattice constants of these layers are close to each other. As a material of the phase change recording layer, a material having a high crystallization rate, for example, GeTe is selected in order to improve recording signal characteristics. As the material of the crystallization assist layer, for example, SnTe is selected as described above. However, in such an optical recording medium,
The intensity of the laser beam required for recording is high, and the sensitivity is deteriorated.

【0022】本発明者の知見によれば、光ディスクの記
録感度を向上させるためには、相変化記録層や結晶化補
助層の組成を変化させる方法が考えられる。ところが、
このような方法では、相変化記録層と結晶化補助層との
格子定数がずれてしまったり、結晶化速度が低下してし
まったりという弊害が生じてしまう。そして、この弊害
をさけるためには、他の方法により記録感度を改善する
ことが望ましい。
According to the knowledge of the present inventor, in order to improve the recording sensitivity of the optical disk, a method of changing the composition of the phase change recording layer and the crystallization assisting layer can be considered. However,
In such a method, there is a problem that the lattice constant of the phase change recording layer and the crystallization auxiliary layer are shifted or the crystallization speed is reduced. Then, in order to avoid this adverse effect, it is desirable to improve the recording sensitivity by another method.

【0023】そこで、本発明者がさらなる実験および鋭
意検討を行った結果、光学記録媒体における腐食を防止
するための方法として、少なくとも結晶化補助層および
反射層の間に、保護層を設ける方法を想起するに至っ
た。さらに、これによって、相変化記録層や結晶化補助
層の組成を変化させることなく、記録感度を是正するこ
とができることを知見するに至った。
Therefore, as a result of further experiments and intensive studies conducted by the present inventor, as a method for preventing corrosion in an optical recording medium, a method of providing a protective layer at least between a crystallization assisting layer and a reflective layer is proposed. I came to remember. Further, they have found that the recording sensitivity can be corrected without changing the compositions of the phase change recording layer and the crystallization auxiliary layer.

【0024】すなわち、上記目的を達成するために、こ
の発明は、ディスク基板上に第1の保護層が設けられ、
第1の保護層上に、相変化により情報信号を記録可能に
構成された相変化記録層と結晶化補助層とが少なくとも
積層された積層膜が設けられ、積層膜上に、反射層が設
けられ、情報信号の記録が追記的に行われる追記型光学
記録媒体において、少なくとも、積層膜と反射層との間
に、第2の保護層が設けられていることを特徴とするも
のである。
That is, in order to achieve the above object, according to the present invention, a first protective layer is provided on a disk substrate,
On the first protective layer, there is provided a laminated film in which at least a phase change recording layer configured to record an information signal by a phase change and a crystallization auxiliary layer are laminated, and on the laminated film, a reflective layer is provided. In a write-once optical recording medium on which information signals are recorded in a write-once manner, a second protective layer is provided at least between the laminated film and the reflective layer.

【0025】この発明において、典型的には、第1の保
護層上に、相変化記録層と結晶化補助層とが順次積層さ
れ、結晶化補助層に接しつつ反射層が設けられている。
In the present invention, typically, a phase change recording layer and a crystallization auxiliary layer are sequentially laminated on the first protective layer, and a reflection layer is provided in contact with the crystallization auxiliary layer.

【0026】この発明において、典型的には、第1の保
護層上に、結晶化補助層と相変化記録層とが順次積層さ
れ、相変化記録層に接しつつ反射層が設けられている。
In the present invention, typically, a crystallization auxiliary layer and a phase change recording layer are sequentially laminated on the first protective layer, and a reflection layer is provided in contact with the phase change recording layer.

【0027】この発明において、典型的には、良好なシ
グナルを得るとともに、光学的なコントラストを良好な
状態に維持し、熱的な拡散を抑制するために、相変化記
録層の膜厚は10nm以上40nm以下に選ばれる。
In the present invention, the thickness of the phase-change recording layer is typically 10 nm in order to obtain good signals, maintain good optical contrast, and suppress thermal diffusion. It is selected to be not less than 40 nm or less.

【0028】この発明において、第1の保護層は、典型
的には、屈折率が2.1程度の硫化亜鉛・酸化シリコン
混合体(ZnS−SiO2)、または屈折率が2.0程
度の窒化シリコン(SiN、Si34)からなるが、そ
の他の材料を用いることも可能である。また、この発明
において、典型的には、第1の保護層の膜厚は、200
nm以下である。
In the present invention, the first protective layer is typically made of a zinc sulfide / silicon oxide mixture (ZnS-SiO 2 ) having a refractive index of about 2.1 or a refractive index of about 2.0. It is made of silicon nitride (SiN, Si 3 N 4 ), but other materials can be used. In the present invention, typically, the thickness of the first protective layer is 200
nm or less.

【0029】この発明において、典型的には、第2の保
護層は、誘電体からなり、好適には、屈折率が2.1程
度のZnS−SiO2、または屈折率が2.0程度の窒
化シリコン(SiN、Si34)からなる。また、この
発明において、典型的には、第2の保護層の膜厚は、1
nm以上100nm以下である。
In the present invention, typically, the second protective layer is made of a dielectric material, preferably ZnS-SiO 2 having a refractive index of about 2.1, or a refractive index of about 2.0. It is made of silicon nitride (SiN, Si 3 N 4 ). In the present invention, typically, the thickness of the second protective layer is 1
nm or more and 100 nm or less.

【0030】この発明において、典型的には、反射層の
膜厚は、20nm以上100nm以下である。
In the present invention, typically, the thickness of the reflection layer is from 20 nm to 100 nm.

【0031】この発明において、記録マークの再生光に
対する安定性を向上させるとともに、マークエッジ記録
で高密度記録を行う場合に良好なジッター特性を確保す
るために、典型的には、相変化記録層は、Te−Ge−
Sb系合金(Te、Ge及びSbにこれら以外の元素が
含まれていてもよい)からなり、その組成は、図5に示
す、TeとGeとSbとの3成分の組成を座標(Te,
Ge,Sb)で示す三角グラフで、A(0.475,
0.05,0.475)、B(0.665,0.05,
0.285)、C(0.60,0.40,0)、D
(0.40,0.60,0)の4点に囲まれた範囲(点
Aの組成はTe47.5Ge5Sb47.5、点Bの組成はTe
66.5Ge5Sb28.5、点Cの組成はTe60Ge40、点D
の組成はTe40Ge60)にあり、好適には、相変化記録
層の直上または直下に、PbSe、PbTe、SnS
e、SnTe、Bi2Te3およびSb2Te3からなる群
より選択される少なくとも1種の化合物を主成分として
含む結晶化補助層が設けられている。また、相変化記録
層の組成が、図5の三角グラフで、点Aと点Bとを結ぶ
直線より外側である(すなわちGeの含有率が5原子%
未満である)と、結晶化温度が低くなって、記録マーク
の形成されていない部分(未記録部分)が再生光で結晶
化され易くなる。その結果、記録マークと未記録部分と
の境界が鮮明でなくなって、記録マークが劣化する恐れ
がある。また、相変化記録層の組成が、図5の三角グラ
フで、点Bと点Cとを結ぶ直線より外側、および点Dと
点Aとを結ぶ直線より外側であると、ジッター特性が悪
化する。また、相変化記録層の組成が、図5の三角グラ
フで、点ABCDに囲まれた範囲内ではあるが、点Aと
点Bとを結ぶ直線に近い組成(すなわちGeの含有率が
5原子%以上ではあるが、比較的少ない組成)である
と、非晶質状態と結晶状態とでの光学定数の差が小さく
なる。その結果、再生信号の振幅が減少するため、信号
品質の点から好ましくない。
In the present invention, a phase change recording layer is typically used to improve the stability of a recording mark against reproduction light and to secure good jitter characteristics when performing high-density recording by mark edge recording. Is Te-Ge-
An Sb-based alloy (Te, Ge, and Sb may contain elements other than these elements), and the composition thereof is represented by the coordinates of the three components of Te, Ge, and Sb shown in FIG.
In the triangular graph shown by Ge, Sb), A (0.475,
0.05, 0.475), B (0.665, 0.05,
0.285), C (0.60, 0.40, 0), D
A range surrounded by four points (0.40, 0.60, 0) (point A has a composition of Te 47.5 Ge 5 Sb 47.5 , and point B has a composition of Te 47.5
66.5 Ge 5 Sb 28.5 , composition of point C is Te 60 Ge 40 , point D
Has a composition of Te 40 Ge 60 ). Preferably, PbSe, PbTe, SnS is provided directly above or directly below the phase change recording layer.
A crystallization assist layer is provided, which contains at least one compound selected from the group consisting of e, SnTe, Bi 2 Te 3 and Sb 2 Te 3 as a main component. Further, the composition of the phase change recording layer is outside the straight line connecting points A and B in the triangular graph of FIG. 5 (that is, the Ge content is 5 atomic%).
), The crystallization temperature is lowered, and the portion where the recording mark is not formed (unrecorded portion) is easily crystallized by the reproduction light. As a result, the boundary between the recording mark and the unrecorded portion may not be clear, and the recording mark may be deteriorated. Further, if the composition of the phase change recording layer is outside the straight line connecting point B and point C and outside the straight line connecting point D and point A in the triangular graph of FIG. 5, the jitter characteristics deteriorate. . Although the composition of the phase change recording layer is within the range surrounded by the points ABCD in the triangular graph of FIG. 5, the composition is close to a straight line connecting the points A and B (that is, the content of Ge is 5 atom). % Or more, but a relatively small composition), the difference in optical constant between the amorphous state and the crystalline state becomes small. As a result, the amplitude of the reproduced signal decreases, which is not preferable in terms of signal quality.

【0032】この発明において、相変化記録層の組成の
より好ましい範囲は、図5と同様の三角グラフである図
6で、座標(Te,Ge,Sb)がそれぞれ、E(0.
47,0.30,0.23)、F(0.58,0.3
0,0.12)、G(0.56,0.44,0)、H
(0.44,0.56,0)の範囲である。点Eの組成
は、Te47Ge30Sb23であり、点Fの組成はTe58
30Sb12であり、点Gの組成はTe56Ge44であり、
点Hの組成はTe44Ge56である。
In the present invention, a more preferable range of the composition of the phase change recording layer is a triangular graph similar to FIG. 5, in which the coordinates (Te, Ge, Sb) are E (0.
47, 0.30, 0.23), F (0.58, 0.3
0, 0.12), G (0.56, 0.44, 0), H
(0.44, 0.56, 0). The composition at point E is Te 47 Ge 30 Sb 23 and the composition at point F is Te 58 G
e 30 Sb 12 , the composition of point G is Te 56 Ge 44 ,
The composition of the point H is Te 44 Ge 56.

【0033】この発明において、相変化記録層の組成の
より好ましい範囲は、図5と同様の三角グラフである図
7で、座標(Te,Ge,Sb)がそれぞれ、J(0.
47,0.40,0.13)、K(0.55,0.4
0,0.05)、L(0.52,0.48,0)、M
(0.44,0.56,0)の4点に囲まれた範囲であ
る。点Jの組成はTe47Ge40Sb13であり、点Kの組
成はTe55Ge40Sb5であり、点Lの組成はTe52
48であり、点Mの組成はTe44Ge56である。
In the present invention, a more preferable range of the composition of the phase change recording layer is a triangular graph similar to FIG. 5, in which the coordinates (Te, Ge, Sb) are J (0.
47, 0.40, 0.13), K (0.55, 0.4
0, 0.05), L (0.52, 0.48, 0), M
This is a range surrounded by four points (0.44, 0.56, 0). The composition at point J is Te 47 Ge 40 Sb 13 , the composition at point K is Te 55 Ge 40 Sb 5 , and the composition at point L is Te 52 G
e 48 and the composition of the point M is Te 44 Ge 56 .

【0034】この発明において、具体的には、相変化記
録層の材料としては、Ge−Te、Te−Sb、Te−
Ge−Sb、Te−Ge−Sb−Pd、Te−Ge−S
b−Cr、Te−Ge−Sb−Bi、Te−Ge−Sn
−O、Te−Ge−Sb−Se、Te−Ge−Sn−A
u、In−Sb−Te、In−Sb−Se、Te−Ge
−Se−Sn、In−Sb−Te−Ag、In−Se、
Te−Biなどを用いることができる。
In the present invention, specifically, as a material of the phase change recording layer, Ge-Te, Te-Sb, Te-
Ge-Sb, Te-Ge-Sb-Pd, Te-Ge-S
b-Cr, Te-Ge-Sb-Bi, Te-Ge-Sn
-O, Te-Ge-Sb-Se, Te-Ge-Sn-A
u, In-Sb-Te, In-Sb-Se, Te-Ge
-Se-Sn, In-Sb-Te-Ag, In-Se,
Te-Bi or the like can be used.

【0035】この発明において、具体的には、結晶化補
助層の材料としては、リン化トリウム(ThP)、硫化
ランタン(LaS)、スカンジウム・アンチモン(Sc
Sb)、トリウム・セレン(ThSe)、カルシウム・
セレン(CaSe)、硫化鉛(PbS)、スカンジウム
・ビスマス(ScBi)、ヒ化トリウム(ThAs)、
BiSe、ヒ化インジウム(InAs)、イットリウム
・テルル(YTe)、ガリウム・アンチモン(GaS
b)、PbSe、スズ・アンチモン(SnSb)、アル
ミニウム・アンチモン(AlSb)、ヨウ化銅(Cu
I)、ストロンチウム・セレン(SrSe)、SnT
e、トリウム・アンチモン(ThSb)、CaTe、硫
化バリウム(BaS)、LaTe、PbTe、BiT
e、SrTe、ヨウ化銀(AgI)、Sb2Te3、Bi
2Se3、Bi2Te3などを用いることができるが、必要
に応じて、その他の材料を用いることも可能である。
In the present invention, specifically, as a material of the crystallization assisting layer, thorium phosphide (ThP), lanthanum sulfide (LaS), scandium / antimony (Sc)
Sb), thorium selenium (ThSe), calcium
Selenium (CaSe), lead sulfide (PbS), scandium bismuth (ScBi), thorium arsenide (ThAs),
BiSe, indium arsenide (InAs), yttrium tellurium (YTe), gallium antimony (GaS
b), PbSe, tin-antimony (SnSb), aluminum-antimony (AlSb), copper iodide (Cu)
I), strontium selenium (SrSe), SnT
e, thorium antimony (ThSb), CaTe, barium sulfide (BaS), LaTe, PbTe, BiT
e, SrTe, silver iodide (AgI), Sb 2 Te 3 , Bi
2 Se 3 , Bi 2 Te 3, etc. can be used, but other materials can be used if necessary.

【0036】この発明において、より好適には、結晶化
補助層は、PbSe、PbTe、SnSe、SnTe、
Bi2Te3、およびSb2Te3からなる群より選択され
る少なくとも1種の化合物を主成分とするものである。
結晶化補助層は、これらの化合物のいずれか一つ以上の
混合により混晶状態となっているものであってもよい。
追記型光学記録媒体の保存寿命の観点からは、これらの
化合物のうちSnTeを結晶化補助層の主成分とするこ
とが好ましい。また、この発明において、結晶化補助層
は、上述の特定の化合物を主成分とするものであり、こ
れら以外の物質を含むこともできる。この場合には、結
晶化補助層を構成する物質全体における、上述した特定
の化合物の含有率を50体積%以上とする。上述した特
定の化合物の含有率が50体積%未満であると、相変化
記録層の結晶化が良好になされずに、再生光のジッター
特性が悪化する恐れがある。結晶化補助層中の上述した
特定の化合物の含有率は、70体積%以上であることが
好ましい。また、この発明において、典型的には、結晶
化補助層の膜厚は、2nm以上50nm以下である。
In the present invention, more preferably, the crystallization assisting layer is made of PbSe, PbTe, SnSe, SnTe,
The main component is at least one compound selected from the group consisting of Bi 2 Te 3 and Sb 2 Te 3 .
The crystallization assisting layer may be in a mixed crystal state by mixing any one or more of these compounds.
From the viewpoint of the storage life of the write-once optical recording medium, it is preferable to use SnTe among these compounds as a main component of the crystallization auxiliary layer. Further, in the present invention, the crystallization assisting layer has the above-mentioned specific compound as a main component, and may contain substances other than these. In this case, the content of the above-described specific compound in the entire material constituting the crystallization assisting layer is set to 50% by volume or more. If the content of the specific compound described above is less than 50% by volume, the crystallization of the phase-change recording layer may not be satisfactorily performed, and the jitter characteristic of the reproduction light may be deteriorated. The content of the above-mentioned specific compound in the crystallization assisting layer is preferably 70% by volume or more. Further, in the present invention, typically, the thickness of the crystallization assisting layer is 2 nm or more and 50 nm or less.

【0037】この発明において、マークエッジ記録によ
る記録マークの長さの制御を精密に行うようにするため
に、典型的には、相変化記録層を透過した光を反射させ
る反射層は、熱伝導率が50W/m・K以上である材料
で構成することが好ましい。そして、熱伝導率が50W
/m・K以上である材料としては、Al、Cr、Ni、
Au、Hf、Pd、Ta、Co、Mo、W、Cu、およ
びTiからなる群より選択される金属、またはこれらの
金属の合金が挙げられる。これらの材料のうち、種々の
観点から反射層材料として好ましいものは、Al−Ti
合金、Al−Cr合金、Al−Ta合金、Al−Pd合
金、Al−Cu合金、Ti−Al合金、Ti−V合金、
Ti−Pd−Cu合金、Ag合金などである。これらの
合金の組成比は、要求される特性に応じて設定される。
In the present invention, in order to precisely control the length of a recording mark by mark edge recording, a reflection layer for reflecting light transmitted through the phase change recording layer is typically provided with a heat conductive layer. It is preferable to use a material having a ratio of 50 W / m · K or more. And the thermal conductivity is 50W
/ M · K or more include Al, Cr, Ni,
Metals selected from the group consisting of Au, Hf, Pd, Ta, Co, Mo, W, Cu, and Ti, or alloys of these metals. Among these materials, a material preferable as a reflective layer material from various viewpoints is Al-Ti.
Alloy, Al-Cr alloy, Al-Ta alloy, Al-Pd alloy, Al-Cu alloy, Ti-Al alloy, Ti-V alloy,
Ti-Pd-Cu alloy, Ag alloy and the like. The composition ratio of these alloys is set according to the required characteristics.

【0038】この発明において、典型的には、ディスク
基板上の反射層の上面(ディスク基板とは反対側の面)
には、反射層の保護と強化のために、紫外線硬化型の樹
脂(ウレタン系、アクリル系、シリコン系、ポリエステ
ル系など)やホットメルト系の接着剤などからなる合成
樹脂層を設けることが好ましい。
In the present invention, typically, the upper surface of the reflection layer on the disk substrate (the surface opposite to the disk substrate)
In order to protect and strengthen the reflective layer, it is preferable to provide a synthetic resin layer made of a UV-curable resin (urethane-based, acrylic-based, silicone-based, polyester-based, etc.) or a hot-melt-based adhesive. .

【0039】この発明において、典型的には、反射層の
材料として、Al、Cr、Ni、Au、ハフニウム(H
f)、パラジウム(Pd)、タンタル(Ta)、コバル
ト(Co)、Mo、W、Tiなどの金属、またはこれら
の金属からなる合金などを用いることができるが、必要
に応じて、その他の材料を用いることも可能である。
In the present invention, typically, Al, Cr, Ni, Au, hafnium (H
f), metals such as palladium (Pd), tantalum (Ta), cobalt (Co), Mo, W, Ti, or alloys of these metals can be used, but other materials may be used if necessary. Can also be used.

【0040】この発明において、第1の保護層、相変化
記録層、結晶化補助層、第2の保護層および反射層は、
典型的には、スパッタリング法により成膜されるが、そ
の他の成膜方法を用いることも可能であり、具体的に
は、電子ビーム蒸着法、真空蒸着法、エピタキシャル成
長法、化学気相成長(CVD)法、物理気相成長(PV
D)法などあらゆる方法を用いることが可能である。
In the present invention, the first protective layer, the phase change recording layer, the crystallization auxiliary layer, the second protective layer and the reflection layer
Typically, a film is formed by a sputtering method, but other film forming methods can also be used. Specifically, an electron beam evaporation method, a vacuum evaporation method, an epitaxial growth method, a chemical vapor deposition (CVD) ) Method, physical vapor deposition (PV)
Any method such as the method D) can be used.

【0041】上述のように構成されたこの発明による追
記型光学記録媒体によれば、少なくとも結晶化補助層と
反射層との間に、第2の保護層を設けるようにしている
ことにより、結晶化補助層と反射層との間において、腐
食の発生する反応を生じにくくすることができる。
According to the write-once optical recording medium according to the present invention having the above-described structure, the second protective layer is provided at least between the crystallization assist layer and the reflective layer. It is possible to reduce the occurrence of a reaction that causes corrosion between the chemical conversion assisting layer and the reflection layer.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態につ
いて図面を参照しながら説明する。図1に、この一実施
形態による追記型光ディスクを示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a write-once optical disc according to this embodiment.

【0043】図1に示すように、この一実施形態による
追記型光ディスク1は、ディスク基板2の一主面2a上
に、第1の保護層3、相変化記録層4、結晶化補助層
5、第2の保護層6、反射層7および紫外線硬化樹脂層
8が順次積膜されて構成されている。
As shown in FIG. 1, a write-once optical disc 1 according to this embodiment has a first protective layer 3, a phase change recording layer 4, and a crystallization assist layer 5 on one main surface 2a of a disc substrate 2. , A second protective layer 6, a reflective layer 7, and an ultraviolet curable resin layer 8 are sequentially laminated.

【0044】ディスク基板2は、ポリカーボネート系樹
脂、ポリオレフィン樹脂、またはアクリル系樹脂などの
プラスチック材料や、ガラスなどからなる。このディス
ク基板2の材料としては、少なくとも情報信号の記録/
再生に用いられるレーザ光が透過可能な材料が選ばれ
る。さらに、コストなどの観点からはプラスチック材料
を用いるのが望ましく、この一実施形態においては、例
えばポリカーボネートからなる。また、このディスク基
板2の厚さは例えば1.2mm程度である。また、この
ディスク基板2の一主面2aには、凸部(ランド)およ
び凹部(グルーブ)がトラック状に形成されている。こ
こで、この凹凸の溝トラックにおけるトラックピッチ
(Tp)は、例えば0.77μmである。この一実施形
態においては、グルーブ深さは例えば70nmであり、
グルーブ幅は例えば0.77μmである。
The disk substrate 2 is made of a plastic material such as a polycarbonate resin, a polyolefin resin or an acrylic resin, or glass. As a material of the disk substrate 2, at least information signal recording /
A material that can transmit laser light used for reproduction is selected. Further, it is desirable to use a plastic material from the viewpoint of cost and the like, and in this embodiment, it is made of, for example, polycarbonate. The thickness of the disk substrate 2 is, for example, about 1.2 mm. Further, on one main surface 2a of the disk substrate 2, a convex portion (land) and a concave portion (groove) are formed in a track shape. Here, the track pitch (Tp) in the groove track having the unevenness is, for example, 0.77 μm. In this embodiment, the groove depth is, for example, 70 nm,
The groove width is, for example, 0.77 μm.

【0045】また、第1の保護層3の材料は、記録/再
生用のレーザ光に対して吸収能(吸収率)が低い材料、
具体的には、消衰係数kが0.3以下の材料より構成す
ることが好ましく、耐熱性の観点をも考慮すると、例え
ばZnS−SiO2(特に、そのモル比率が約4:1の
もの)を挙げることができる。また、第1の保護層3の
膜厚は200nm以下に選ばれ、この一実施形態におい
ては、例えば10nmに選ばれる。
The material of the first protective layer 3 is a material having a low absorption capacity (absorption rate) with respect to a recording / reproducing laser beam.
Specifically, it is preferable to use a material having an extinction coefficient k of 0.3 or less. In consideration of heat resistance, for example, ZnS—SiO 2 (particularly, the one having a molar ratio of about 4: 1) ). Further, the thickness of the first protective layer 3 is selected to be 200 nm or less, and in this embodiment, it is selected to be, for example, 10 nm.

【0046】また、相変化記録層4は、例えばGeTe
合金からなる。ここで、相変化記録層4の膜厚は、具体
的には10〜40nmから選ばれ、この一実施形態にお
いては、例えば20nmに選ばれる。なお、この相変化
記録層4の膜厚に関する詳細は後述する。
The phase change recording layer 4 is made of, for example, GeTe
Made of alloy. Here, the film thickness of the phase change recording layer 4 is specifically selected from 10 to 40 nm, and in this embodiment, is selected to be, for example, 20 nm. The details of the thickness of the phase change recording layer 4 will be described later.

【0047】また、結晶化補助層5の材料は、SnTe
合金、SnSe合金、PbSe合金、Bi2Te3および
Sb2Te3からなる群より選ばれた少なくとも1種類の
化合物を主成分として含む材料であり、具体的には、上
述した特定の化合物の含有率を50体積%以上、より好
適には70体積%以上としたものである。そして、この
一実施形態において、結晶化補助層5は、例えばSnT
eから構成される。また、結晶化補助層5の膜厚は、記
録層4に接して均一に接触していることが望ましく、膜
厚が非常に小さい膜であっても良いが、膜厚が厚くなる
とともに、例えば光学的に吸収能が高い材料や、熱伝導
率が小さい材料や、熱容量の小さい材料は、記録層4に
熱をこもらせてしまうため、再生光による劣化を招き、
悪影響を及ぼしてしまうため、典型的には、2〜50n
mの範囲、好適には、2〜10nmの範囲から選ばれ、
この一実施形態においては、例えば10nmに選ばれ
る。
The material of the crystallization assisting layer 5 is SnTe.
Alloy, SnSe alloy, PbSe alloy, Bi 2 Te 3, and a material containing, as a main component, at least one compound selected from the group consisting of Sb 2 Te 3 , and specifically, containing the specific compound described above. The ratio is set to 50% by volume or more, more preferably 70% by volume or more. In this embodiment, the crystallization assisting layer 5 is made of, for example, SnT.
e. The thickness of the crystallization assisting layer 5 is desirably in uniform contact with the recording layer 4, and may be a very small film. A material having a high optical absorption capacity, a material having a small thermal conductivity, or a material having a small heat capacity causes heat to be stored in the recording layer 4, thereby causing deterioration due to reproduction light,
Typically, 2 to 50 n
m, preferably selected from the range of 2 to 10 nm,
In this embodiment, for example, 10 nm is selected.

【0048】また、第2の保護層6の材料は、記録/再
生用のレーザ光に対して吸収能が低い材料、具体的に
は、消衰係数kが0.3以下の材料より構成することが
好ましく、耐熱性の観点をも考慮すると、例えばZnS
−SiO2(特に、そのモル比率が約4:1のもの)を
挙げることができる。なお、この一実施形態において
は、第1の保護層3と第2の保護層6を互いに同種の材
料(ZnS−SiO2)から構成したが、それぞれ互い
に異なる材料を用いることも可能であることは、言うま
でもない。また、第2の保護層6の膜厚に関しては、後
述する。
The material of the second protective layer 6 is made of a material having a low absorption capability for recording / reproducing laser light, specifically, a material having an extinction coefficient k of 0.3 or less. It is preferable that considering the viewpoint of heat resistance, for example, ZnS
—SiO 2 (especially those having a molar ratio of about 4: 1). Note that in this embodiment, the first protective layer 3 and is constituted from a second allogeneic to each other a protective layer 6 of the material (ZnS-SiO 2), respectively can also be used different materials Needless to say, The thickness of the second protective layer 6 will be described later.

【0049】また、反射層7は、例えばAl合金からな
り、この一実施形態においては、例えばAlTi合金か
らなる。また、反射層7において、その膜厚を20nm
未満にすると、相変化記録層4において生じる熱の拡散
が十分にできず、熱冷却が不十分になってしまう。他
方、反射層7の膜厚を100nmより大きくすると、熱
特性や光学的な特性に影響が生じるとともに、反射層7
に生じる応力により、スキューなどの機械的特性に影響
を与えてしまい、所望の特性を得ることができなくなっ
てしまう。したがって、反射層7の膜厚は、具体的には
20〜100nmから選ばれ、この一実施形態において
は、例えば60nmに選ばれる。
The reflection layer 7 is made of, for example, an Al alloy, and in this embodiment, is made of, for example, an AlTi alloy. The thickness of the reflective layer 7 is set to 20 nm.
If it is less than 3, the diffusion of the heat generated in the phase change recording layer 4 cannot be sufficiently performed, and the thermal cooling becomes insufficient. On the other hand, if the thickness of the reflective layer 7 is larger than 100 nm, thermal characteristics and optical characteristics are affected, and
The resulting stress affects mechanical properties such as skew, making it impossible to obtain desired properties. Therefore, the film thickness of the reflection layer 7 is specifically selected from 20 to 100 nm, and in this embodiment, is selected to be, for example, 60 nm.

【0050】また、紫外線硬化樹脂層8は、紫外線照射
により硬化された紫外線硬化樹脂からなる。
The ultraviolet-curable resin layer 8 is made of an ultraviolet-curable resin cured by irradiation with ultraviolet light.

【0051】次に、以上のように構成されたこの一実施
形態による追記型光ディスク1の製造方法について説明
する。
Next, a method of manufacturing the write-once optical disc 1 according to the embodiment having the above-described configuration will be described.

【0052】すなわち、まず、例えば射出成形法によ
り、案内溝(凹凸溝トラック)を設けた清浄なディスク
基板2(厚さ1.2mm、トラックピッチ0.77μ
m、溝幅0.77μm、溝深さ70nm)上に、例えば
スパッタリング法により、例えばZnS−SiO2から
なる第1の保護層3、例えばGeTe合金からなる相変
化記録層4、例えばSnTeからなる結晶化補助層5、
例えばZnS−SiO2からなる第2の保護層6、Al
Ti合金からなる反射層7を順次成膜する。その後、反
射層7表面に、例えばスピンコート法やロールコート法
などにより、紫外線硬化樹脂層8を形成する。以上によ
り、追記型光ディスク1が製造される。相変化記録層4
は、成膜後の組成が例えばGe50Te50となるように組
成が調整されたGeTe合金ターゲットを用いて成膜さ
れる。
That is, first, a clean disk substrate 2 (1.2 mm thick, track pitch 0.77 μm) provided with guide grooves (irregular groove tracks) by, for example, injection molding.
m, groove width 0.77 μm, groove depth 70 nm), for example, by a sputtering method, a first protective layer 3 made of ZnS—SiO 2 , for example, a phase change recording layer 4 made of a GeTe alloy, for example, made of SnTe Crystallization assist layer 5,
For example, the second protective layer 6 made of ZnS—SiO 2 , Al
A reflective layer 7 made of a Ti alloy is sequentially formed. Thereafter, an ultraviolet curable resin layer 8 is formed on the surface of the reflective layer 7 by, for example, a spin coating method or a roll coating method. As described above, the write-once optical disc 1 is manufactured. Phase change recording layer 4
Is formed using a GeTe alloy target whose composition is adjusted so that the composition after film formation is, for example, Ge 50 Te 50 .

【0053】本発明者は、以上のように構成、製造され
たこの一実施形態による追記型光ディスク1において、
第2の保護層6の膜厚を、0nm(第2の保護層6を設
けない場合)、5nm、10nm、および20nmとし
た追記型光ディスク1を、それぞれ複数枚製造し、それ
らの複数枚の追記型光ディスク1における耐腐食性およ
び最適記録パワーの実験を行った。
The present inventor has determined that the write-once optical disc 1 according to this embodiment, constructed and manufactured as described above,
A plurality of write-once optical disks 1 each having a thickness of the second protective layer 6 of 0 nm (when the second protective layer 6 is not provided), 5 nm, 10 nm, and 20 nm are manufactured. Experiments were conducted on the corrosion resistance and the optimum recording power of the write-once optical disc 1.

【0054】まず、耐腐食性の実験においては、第2の
保護層6の膜厚を0nmとした第1の光ディスクと、第
2の保護層6の膜厚を10nmとした第2の光ディスク
とを、温度が80℃で湿度が85%の恒温漕内に放置
し、追記型光ディスクにおける1枚当たりの腐食の発生
個数と、その腐食の大きさの最大値とを測定した。その
結果を、以下の表1に示す。なお、表1において、追記
型光ディスク1枚当たりの個数は、腐食個数の平均値で
あり、その下方の数値は、腐食の大きさの最大値を示
す。
First, in an experiment on corrosion resistance, a first optical disk in which the thickness of the second protective layer 6 was 0 nm and a second optical disk in which the thickness of the second protective layer 6 was 10 nm were used. Was left in a thermostat at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 85%, and the number of occurrences of corrosion per write-once optical disc and the maximum value of the corrosion were measured. The results are shown in Table 1 below. In Table 1, the number per write-once optical disk is the average value of the number of corrosions, and the numerical value below the number indicates the maximum value of corrosion.

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】表1から、第2の保護層6が設けられてい
ない第1の光ディスクに比して、膜厚が10nmの第2
の保護層6が設けられた第2の光ディスクにおいて、恒
温漕内に130時間放置した後の腐食の発生が1/10
程度に低減していることが分かる。さらに、追記型光デ
ィスク1の放置時間を4倍とし、恒温漕内に520時間
放置した後においては、第1の光ディスクが、追記型光
ディスク1枚当たり数10個の腐食が生じ、その腐食の
最大値が1mm以上であるのに対し、第2の光ディスク
は、腐食の発生個数が追記型光ディスク1枚当たり0.
6個であり、その腐食の最大値も150μm以下とな
り、腐食が大幅に低減していることが分かる。すなわ
ち、この一実施形態による追記型光ディスクにおいて
は、ほとんど腐食が発生しないことが分かる。
From Table 1, it can be seen that the second optical disk having the thickness of 10 nm is smaller than the first optical disk on which the second protective layer 6 is not provided.
In the second optical disk provided with the protective layer 6 of the above, the occurrence of corrosion after leaving in a thermostat for 130 hours is 1/10
It can be seen that it has been reduced to a degree. Further, after leaving the write-once optical disc 1 for 4 times and leaving it in the constant temperature bath for 520 hours, the first optical disc is corroded by several tens per one write-once optical disc. While the value is 1 mm or more, the second optical disc has a corrosion occurrence number of 0.1 mm per write-once optical disc.
The maximum value of the corrosion was 150 μm or less, indicating that the corrosion was significantly reduced. That is, it can be seen that almost no corrosion occurs in the write-once optical disc according to this embodiment.

【0057】次に、この一実施形態による追記型光ディ
スク1において、第2の保護層6の膜厚を0nm、5n
m、10nmおよび20nmに種々変えた、それぞれの
追記型光ディスク1を、9.5m/sの線速度で回転さ
せ、波長660nm、NA=0.575の光学系を用い
て、この追記型光ディスク1にマーク長が0.42μm
の単一マークを記録した。そして、このときの最適記録
パワーにおける、第2の保護層6の膜厚依存性の測定を
行った。その結果を、表2に示す。
Next, in the write-once optical disc 1 according to this embodiment, the thickness of the second protective layer 6 is set to 0 nm, 5 n
m, 10 nm, and 20 nm, each of which was rotated at a linear velocity of 9.5 m / s, and the optical disk 1 having a wavelength of 660 nm and NA = 0.575 was used. Mark length is 0.42μm
A single mark was recorded. Then, the dependence of the film thickness of the second protective layer 6 on the optimum recording power at this time was measured. Table 2 shows the results.

【0058】[0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】表2から、第2の保護層6の膜厚を大きく
することにより、最適記録パワーが低減することが分か
り、記録感度の向上が可能となることが分かる。
From Table 2, it can be seen that by increasing the thickness of the second protective layer 6, the optimum recording power is reduced, and that the recording sensitivity can be improved.

【0060】次に、ZnS−SiO2からなる第1の保
護層3の膜厚を10nm、SnTeからなる結晶化補助
層5の膜厚を10nm、ZnS−SiO2からなる第2
の保護層6の膜厚を10nm、AlTiからなる反射層
7の膜厚を60nmとし、GeTeからなる相変化記録
層4の膜厚を10〜40nmの範囲内でさまざまに変え
た種々の追記型光ディスク1を製造した。そして、それ
ぞれの追記型光ディスク1を、9.5m/sの線速度で
回転させ、波長660nm、NA=0.575の光学系
を用いて、これらの追記型光ディスク1にマーク長が
0.42μmの単一マークを記録し、そのときのキャリ
アを測定した。その結果を、図2に示す。なお、図2に
おいては、ランドを「▲」で示し、グルーブを「●」で
示す。
Next, the thickness of the first protective layer 3 made of ZnS-SiO 2 is 10 nm, the thickness of the auxiliary crystallization layer 5 made of SnTe is 10 nm, and the thickness of the second protective layer 3 made of ZnS-SiO 2 is 10 nm.
The write-once type in which the thickness of the protective layer 6 is 10 nm, the thickness of the reflective layer 7 made of AlTi is 60 nm, and the thickness of the phase change recording layer 4 made of GeTe is variously changed within a range of 10 to 40 nm. The optical disc 1 was manufactured. Then, each write-once optical disc 1 is rotated at a linear velocity of 9.5 m / s, and a mark length of 0.42 μm is applied to these write-once optical discs 1 using an optical system having a wavelength of 660 nm and NA = 0.575. Was recorded, and the carrier at that time was measured. The result is shown in FIG. In FIG. 2, lands are indicated by “▲”, and grooves are indicated by “●”.

【0061】図2から、ランドとグルーブとの最適値は
若干異なっているが、GeTe系合金からなる相変化記
録層4の膜厚としては、10nm以上40nm以下の範
囲内が望ましいことが分かる。すなわち、相変化記録層
4の膜厚における10〜40nmの範囲は、良好なシグ
ナルを得ることができる範囲であると考えられる。そし
て、この範囲外の膜厚では、光学的なコントラストが小
さくなることや熱的な拡散が大きくなるため、好ましく
ないと考えられる。
FIG. 2 shows that although the optimum values of the land and the groove are slightly different, the thickness of the phase change recording layer 4 made of a GeTe alloy is preferably in the range of 10 nm to 40 nm. That is, the range of 10 to 40 nm in the film thickness of the phase change recording layer 4 is considered to be a range in which a good signal can be obtained. A film thickness outside this range is considered to be unfavorable because optical contrast decreases and thermal diffusion increases.

【0062】さらに、本発明者は、光学的なコントラス
トの変化を調べるために、上述におけると同様にして、
相変化記録層4の膜厚をさまざまに変化させた場合の反
射率を、有効フレネル係数法を用いて算出した。この結
果を図3に示す。なお、図3において、縦軸は、キャリ
アの値と比較可能にするために相対的なデシベル(d
B)表示とした。
Further, the present inventor, in order to examine a change in optical contrast, similarly to the above,
The reflectance when the film thickness of the phase change recording layer 4 was variously changed was calculated using the effective Fresnel coefficient method. The result is shown in FIG. In FIG. 3, the vertical axis represents relative decibels (d) in order to enable comparison with carrier values.
B) Displayed.

【0063】図3から、相変化記録層4の膜厚が20n
m程度のときに、振幅が最大になることが分かり、図2
に示す実験測定値に類似していることが分かる。
FIG. 3 shows that the phase change recording layer 4 has a thickness of 20 n.
It can be seen that the amplitude is maximized at about m, and FIG.
It can be seen that they are similar to the experimental measurement values shown in FIG.

【0064】また、本発明者は、光学的なコントラスト
の変化を調べるために、ZnS−SiO2からなる第1
の保護層3の膜厚を10nm、GeTeからなる相変化
記録層4の膜厚を最適値の20nm、SnTeからなる
結晶化補助層5の膜厚を10nm、AlTiからなる反
射層7の膜厚を60nmとした追記型光ディスクにおい
て、ZnS−SiO2からなる第2の保護層6の膜厚を
0〜200nmの範囲内でさまざまに変化させた場合の
反射率を、有効フレネル係数法を用いて算出した。この
結果を図4に示す。
Further, the present inventor investigated the first change of ZnS-SiO 2 in order to examine the change in optical contrast.
The thickness of the protective layer 3 is 10 nm, the thickness of the phase change recording layer 4 made of GeTe is 20 nm, which is the optimum value, the thickness of the crystallization assisting layer 5 made of SnTe is 10 nm, and the thickness of the reflective layer 7 made of AlTi. In the write-once optical disc having a thickness of 60 nm, the reflectance when the thickness of the second protective layer 6 made of ZnS—SiO 2 is variously changed within the range of 0 to 200 nm is determined by using the effective Fresnel coefficient method. Calculated. The result is shown in FIG.

【0065】図4から、第2の保護層6の膜厚を120
nm程度とした場合に、振幅が極小値になることが分か
り、100nmより大きくすると記録感度が上がりすぎ
て信号特性の悪化が顕著になってしまうことが分かる。
また、第2の保護層6の膜厚を、1nmよりも小さくす
ると、膜自体が島状構造になってしまい均一な膜を形成
することが困難になってしまう。そのため、光学的なコ
ントラストを考慮に入れると、第2の保護層6の膜厚は
1〜100nmが好ましいことが分かる。
FIG. 4 shows that the second protective layer 6 has a thickness of 120
It can be seen that the amplitude becomes a minimum value when it is set to about nm, and that when it is larger than 100 nm, the recording sensitivity becomes too high and the signal characteristics are significantly deteriorated.
If the thickness of the second protective layer 6 is smaller than 1 nm, the film itself has an island-like structure, making it difficult to form a uniform film. Therefore, it is understood that the thickness of the second protective layer 6 is preferably 1 to 100 nm in consideration of the optical contrast.

【0066】以上説明したように、この一実施形態によ
れば、ディスク基板2上に、第1の保護層3、相変化記
録層4、結晶化補助層5、および反射層7が積層された
追記型光ディスクにおいて、結晶化補助層5と反射層7
との間に、第2の保護層6を設けるようにしていること
により、相変化記録方式を用いた追記型光ディスクにお
いて、耐腐食性を向上させることができるとともに、第
2の保護層6の膜厚を変化させることにより、記録感度
の制御を行うことが可能になる。したがって、高い信頼
性を有する追記型光ディスクを得ることができる。
As described above, according to this embodiment, the first protective layer 3, the phase change recording layer 4, the crystallization auxiliary layer 5, and the reflective layer 7 are laminated on the disk substrate 2. In a write-once optical disc, a crystallization assist layer 5 and a reflection layer 7
By providing the second protective layer 6 between the second protective layer 6 and the write-once optical disc using the phase change recording method, the corrosion resistance can be improved and the second protective layer 6 By changing the film thickness, it becomes possible to control the recording sensitivity. Therefore, a write-once optical disc having high reliability can be obtained.

【0067】また、この一実施形態による追記型光ディ
スク1の他の例としては、図8に示すように、ディスク
基板2の一主面2a上に、第1の保護層3、結晶化補助
層5、相変化記録層4、第2の保護層6、反射層7およ
び紫外線硬化樹脂層8を順次積膜して構成することも可
能である。そして、このように構成された追記型光ディ
スク1においても、上述の一実施形態におけると同様の
効果を得ることができることが確認された。
As another example of the write-once optical disc 1 according to this embodiment, as shown in FIG. 8, a first protective layer 3 and a crystallization assist layer are formed on one main surface 2a of a disc substrate 2. 5, the phase change recording layer 4, the second protective layer 6, the reflective layer 7, and the ultraviolet curable resin layer 8 may be sequentially laminated. Then, it was confirmed that the same effect as in the above-described embodiment can be obtained also in the write-once optical disc 1 configured as described above.

【0068】以上、この発明の一実施形態について具体
的に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定さ
れるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種
の変形が可能である。
As described above, one embodiment of the present invention has been specifically described. However, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications based on the technical idea of the present invention are possible. .

【0069】例えば、上述の実施形態において挙げた数
値、材料はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと
異なる数値、材料を用いてもよい。
For example, the numerical values and materials given in the above embodiments are merely examples, and different numerical values and materials may be used as needed.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ディスク基板上に、第1の保護層が設けられ、第1
の保護層上に相変化記録層と結晶化補助層とを少なくと
も積層した積層膜が設けられ、積層膜上に反射層が設け
られた追記型光学記録媒体において、積層膜と反射層と
の間に第2の保護層を設けるようにしていることによ
り、耐腐食性が向上させることができるとともに、記録
感度を制御することができ、高い信頼性を有する追記型
光学記録媒体を得ることができる。
As described above, according to the present invention, the first protective layer is provided on the disk substrate, and the first protective layer is provided.
In a write-once optical recording medium in which a laminated film in which at least a phase change recording layer and a crystallization assisting layer are laminated on a protective layer is provided, and a reflective layer is provided on the laminated film, between the laminated film and the reflective layer By providing the second protective layer, the corrosion resistance can be improved, the recording sensitivity can be controlled, and a write-once optical recording medium having high reliability can be obtained. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態による追記型光ディスク
を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a write-once optical disc according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施形態による追記型光ディスク
における記録特性の、相変化記録層の膜厚依存性を示す
グラフである。
FIG. 2 is a graph showing the dependence of recording characteristics of a write-once optical disc according to an embodiment of the present invention on the thickness of a phase-change recording layer.

【図3】この発明の一実施形態による追記型光ディスク
における反射率の相変化記録層膜厚依存性を示すグラフ
である。
FIG. 3 is a graph showing the dependency of the reflectance of the write-once optical disc according to one embodiment of the present invention on the thickness of the phase-change recording layer.

【図4】この発明の一実施形態による追記型光ディスク
における反射率の、第2の保護層膜厚依存性を示すグラ
フである。
FIG. 4 is a graph showing the dependency of the reflectance of the write-once optical disc according to one embodiment of the present invention on the thickness of a second protective layer.

【図5】この発明による追記型光学記録媒体における相
変化記録層の好適な組成を示す三角グラフである。
FIG. 5 is a triangular graph showing a preferred composition of a phase change recording layer in a write-once optical recording medium according to the present invention.

【図6】この発明による追記型光学記録媒体における相
変化記録層の好適な組成を示す三角グラフである。
FIG. 6 is a triangular graph showing a preferred composition of a phase change recording layer in a write-once optical recording medium according to the present invention.

【図7】この発明による追記型光学記録媒体における相
変化記録層の好適な組成を示す三角グラフである。
FIG. 7 is a triangular graph showing a preferred composition of a phase change recording layer in a write-once optical recording medium according to the present invention.

【図8】この発明による追記型光学記録媒体の他の例を
示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing another example of the write-once optical recording medium according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・追記型光ディスク、2・・・ディスク基板、2
a・・・一主面、3・・・第1の保護層、4・・・相変
化記録層、5・・・結晶化補助層、6・・・第2の保護
層、7・・・反射層、8・・・紫外線硬化樹脂層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Write-once optical disk, 2 ... Disk substrate, 2
a: one main surface, 3: first protective layer, 4: phase change recording layer, 5: crystallization assist layer, 6: second protective layer, 7 ... Reflective layer, 8 ... UV curable resin layer

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年11月10日(2000.11.
10)
[Submission date] November 10, 2000 (200.11.
10)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0025[Correction target item name] 0025

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0025】この発明において、典型的には、第1の保
護層上に、相変化記録層と結晶化補助層とが順次積層さ
れ、結晶化補助層に接しつつ第2の保護層が設けられて
いる。
In the present invention, typically, a phase change recording layer and a crystallization auxiliary layer are sequentially laminated on the first protection layer, and a second protection layer is provided in contact with the crystallization auxiliary layer. ing.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0026[Correction target item name] 0026

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0026】この発明において、典型的には、第1の保
護層上に、結晶化補助層と相変化記録層とが順次積層さ
れ、相変化記録層に接しつつ第2の保護層が設けられて
いる。
In the present invention, typically, a crystallization auxiliary layer and a phase change recording layer are sequentially laminated on the first protection layer, and a second protection layer is provided in contact with the phase change recording layer. ing.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0034[Correction target item name] 0034

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0034】この発明において、具体的には、相変化記
録層の材料としては、Ge−Te、Te−Sb、Te−
Ge−Sb、Te−Ge−Sb−Pd、Te−Ge−S
b−Cr、Te−Ge−Sb−Bi、Te−Ge−Sn
−O、Te−Ge−Sb−Se、Te−Ge−Sn−A
u、In−Sb−Te、In−Sb−Se、Te−Ge
Sb−Sn、In−Sb−Te−Ag、In−Se、
Te−Biなどを用いることができる。
In the present invention, specifically, as a material of the phase change recording layer, Ge-Te, Te-Sb, Te-
Ge-Sb, Te-Ge-Sb-Pd, Te-Ge-S
b-Cr, Te-Ge-Sb-Bi, Te-Ge-Sn
-O, Te-Ge-Sb-Se, Te-Ge-Sn-A
u, In-Sb-Te, In-Sb-Se, Te-Ge
- Sb -Sn, In-Sb- Te-Ag, In-Se,
Te-Bi or the like can be used.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 535 G11B 7/24 535G B41M 5/26 B41M 5/26 X (72)発明者 大和田 克也 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 古谷 一之 静岡県富士市鮫島2番地の1 旭化成工業 株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA23 EA33 EA40 FA01 FA12 FA14 FA23 FB05 FB09 FB12 5D029 HA04 JA01 JB03 JB05 JB17 JB35 LA13 LB01 LB02 LB07Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court II (Reference) G11B 7/24 535 G11B 7/24 535G B41M 5/26 B41M 5/26 X (72) Inventor Katsuya Owada Shinagawa-ku, Tokyo 6-7-35 Kitashinagawa Sony Corporation (72) Inventor Kazuyuki Furuya 2-1, Samejima, Fuji-shi, Shizuoka Prefecture FB05 FB09 FB12 5D029 HA04 JA01 JB03 JB05 JB17 JB35 LA13 LB01 LB02 LB07

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ディスク基板上に第1の保護層が設けら
れ、 上記第1の保護層上に、相変化により情報信号を記録可
能に構成された相変化記録層と結晶化補助層とが少なく
とも積層された積層膜が設けられ、 上記積層膜上に、反射層が設けられ、 上記情報信号の記録が追記的に行われる追記型光学記録
媒体において、 少なくとも、上記積層膜と上記反射層との間に、第2の
保護層が設けられていることを特徴とする追記型光学記
録媒体。
A first protection layer is provided on a disk substrate, and a phase change recording layer configured to record an information signal by a phase change and a crystallization auxiliary layer are provided on the first protection layer. At least a laminated film is provided, a reflective layer is provided on the laminated film, and in the write-once optical recording medium in which the recording of the information signal is performed additionally, at least the laminated film and the reflective layer A write-once optical recording medium, wherein a second protective layer is provided therebetween.
【請求項2】 上記第1の保護層上に、上記相変化記録
層と上記結晶化補助層とが順次積層され、上記結晶化補
助層に接しつつ上記反射層が設けられていることを特徴
とする請求項1記載の追記型光学記録媒体。
2. The method according to claim 1, wherein the phase change recording layer and the crystallization auxiliary layer are sequentially laminated on the first protective layer, and the reflection layer is provided in contact with the crystallization auxiliary layer. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein
【請求項3】 上記第1の保護層上に、上記結晶化補助
層と上記相変化記録層とが順次積層され、上記相変化記
録層に接しつつ上記反射層が設けられていることを特徴
とする請求項1記載の追記型光学記録媒体。
3. The method according to claim 1, wherein the crystallization assisting layer and the phase change recording layer are sequentially laminated on the first protective layer, and the reflection layer is provided in contact with the phase change recording layer. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein
【請求項4】 上記第2の保護層が、誘電体からなるこ
とを特徴とする請求項1記載の追記型光学記録媒体。
4. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein the second protective layer is made of a dielectric.
【請求項5】 上記第2の保護層の膜厚が1nm以上1
00nm以下であることを特徴とする請求項1記載の追
記型光学記録媒体。
5. The film thickness of the second protective layer is 1 nm or more and 1
2. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness is not more than 00 nm.
【請求項6】 上記相変化記録層がGeTe系合金また
はGeSbTe系合金からなることを特徴とする請求項
1記載の追記型光学記録媒体。
6. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein the phase change recording layer is made of a GeTe alloy or a GeSbTe alloy.
【請求項7】 上記相変化記録層の膜厚が10nm以上
40nm以下であることを特徴とする請求項1記載の追
記型光学記録媒体。
7. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the phase change recording layer is 10 nm or more and 40 nm or less.
【請求項8】 上記第1の保護層の膜厚が200nm以
下であることを特徴とする請求項1記載の追記型光学記
録媒体。
8. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the first protective layer is 200 nm or less.
【請求項9】 上記結晶化補助層が、SnTe合金、S
nSe合金、PbSe合金、PbTe合金、Bi2Te3
およびSb2Te3からなる群より選ばれた少なくとも1
種類の化合物を主成分として含む材料からなることを特
徴とする請求項1記載の追記型光学記録媒体。
9. The method according to claim 1, wherein the crystallization assisting layer is made of an SnTe alloy, S
nSe alloy, PbSe alloy, PbTe alloy, Bi 2 Te 3
And at least one selected from the group consisting of Sb 2 Te 3
2. The write-once optical recording medium according to claim 1, comprising a material containing various kinds of compounds as main components.
【請求項10】 上記結晶化補助層の膜厚が2nm以上
50nm以下であることを特徴とする請求項1記載の追
記型光学記録媒体。
10. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the crystallization assisting layer is 2 nm or more and 50 nm or less.
【請求項11】 上記反射層の膜厚が20nm以上10
0nm以下であることを特徴とする請求項1記載の追記
型光学記録媒体。
11. The reflective layer has a thickness of 20 nm to 10 nm.
2. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness is 0 nm or less.
【請求項12】 上記ディスク基板上の上記反射層表面
に、合成樹脂からなる層が設けられていることを特徴と
する請求項1記載の追記型光学記録媒体。
12. The write-once optical recording medium according to claim 1, wherein a layer made of a synthetic resin is provided on the surface of the reflection layer on the disk substrate.
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