JP2002123922A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い耐久性と、高度な平滑性及び磁性層の厚
みの均一性を実現し、格段に優れた電磁変換特性を有す
る磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 支持体上に少なくとも非磁性粉末を含む
非磁性層及び少なくとも一層の強磁性粉末と結合剤中と
を含む磁性層をこの順に有する磁気記録媒体。少なくと
も前記磁性層に含まれる結合剤は、分子量200〜1000で
あって、窒素を含む複素環を有し、かつ３官能以上の放
射線硬化官能基を有する化合物を用い、放射線照射によ
り硬化したものであり、かつ前記放射線硬化官能基を有
する化合物は強磁性粉末100質量部に対し5〜30質量部用
いられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁性層に強磁性微
粉末を含む高密度記録用の磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、録音用テープ、ビデオテープ、あ
るいはフロッピー（登録商標）ディスク等の磁気記録媒
体として、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性層を
非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体が用いられてい
る。磁気記録媒体は、電磁変換特性、走行耐久性および
走行性能などの諸特性が優れていることが要求されてい
る。このような優れた電磁変換特性を有すると同時に、
磁気記録媒体は良好な走行耐久性を持つことが要求され
ている。そして、良好な走行耐久性を得るために、一般
には研磨剤および潤滑剤が磁性層中に添加されている。

【０００３】磁気記録媒体の使用機器において媒体と磁
気ヘッドが摺動接触するために、磁気記録媒体の結合剤
中の低分子成分が磁性層表面付近に浮上して磁気ヘッド
に付着する磁気ヘッド汚れが生じるという問題があっ
た。磁気ヘッド汚れは電磁変換特性の劣化の原因となっ
ている。とくに、高密度記録用の機器では、磁気ヘッド
回転数が上昇しており、家庭用のデジタルビデオテープ
レコーダにあっても、磁気ヘッドの回転数が９６００回
転／分と、アナログビデオテープレコーダの民生用の１
８００回転／分、業務用の５０００回転／分に比べて格
段に高速回転数であり、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの
摺動する速度が大きくなり、また磁気ヘッドも薄膜ヘッ
ド等のように小型のものが用いられており、磁気記録媒
体から生じる成分による磁気ヘッド汚れの改善が求めら
れている。また、フロッピーディスクに代えて用いられ
る高密度記録用の磁気記録媒体にあっても、同様に強度
が大きく信頼性の高い磁気記録媒体が要求されている。

【０００４】ところで、一般に広く使用されている磁気
記録媒体は、結合剤として塩酢ビ系樹脂、塩ビ−塩化ビ
ニリデン系樹脂、セルロース樹脂、アセタール樹脂、ウ
レタン樹脂、アクリロニトリルブタジエン樹脂等の熱可
塑性樹脂を単独あるいは混合して用いている。しかし、
これらの結合剤を使用した磁性層は、耐摩耗性が劣り磁
気テープの走行経路を汚してしまうという欠点を有して
いた。また結合剤として、フエノール／ホルムアルデヒ
ド樹脂、尿素樹脂などの熱硬化性樹脂を用いることや、
上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性の結合剤、例
えばイソシアネート化合物、エポキシ化合物などを添加
することなども知られている。しかし、熱架橋性の結合
剤を用いると、磁性体を分散させた樹脂溶液の貯蔵安定
性が悪く、磁性塗液物性の均一性、ひいては、磁気テー
プの均質性が保てないという欠点があった。

【０００５】これに対して、特公平7-15736号公報に記
載の磁気記録媒体は、架橋剤として１個以上のトリアジ
ン環及び２個以上のビニル基を分子中に有する化合物を
用い、放射線照射架橋させた結合剤を用いるものであ
り、架橋剤が放射線照射架橋性であることこら、上記熱
架橋性結合剤が有する問題がなく、電磁変換特性に優
れ、耐久性の良好な磁気記録媒体であった。また、特公
平３−６５７３号公報にも、３官能ウレタンアクリル樹
脂と熱可塑性樹脂を電子線照射により架橋した結合剤を
用いる磁気記録媒体が開示されている。

【０００６】しかるに、特公平7-15736号公報及び特公
平３−６５７３号公報に記載の磁気記録媒体は、単層構
造の磁性層を有する磁気テープであり、昨今の大量のデ
ータを保存する媒体としてニーズに十分対応できないと
いう問題がある。このような問題に対して、例えば、薄
膜磁気ヘッドが組み込まれた磁気記録システムに用いら
れる磁気記録媒体として、非磁性支持体上に無機質非磁
性粉末を結合剤に分散してなる下層非磁性層と、該非磁
性層の上に強磁性金属粉末を結合剤に分散してなる薄い
上層磁性層を設けた磁気記録媒体（磁気テープ）が提案
されている（特開平８−２２７５１７号公報）。上層の
磁性層を薄くすることで厚み損失による出力低下が抑制
され、また高い記録密度が達成できるため、単層構造の
磁性層を有する磁気テープに比べてより大きな容量のデ
ータの保存が可能となる。

【０００７】しかるに、磁気記録媒体に対する高密度化
の要求はますます高まっており、従来に比べ極めて高度
な耐久性を有し、かつ電磁変換特性も優れた磁気記録媒
体が要求されている。テープ系で言えばＤＶＣ、ＤＶＣ
−ＰＲＯのような極めて記録密度の高いビデオシステム
用のテープ、あるいはＤＤＳ４、ＬＴＯ、など大容量の
データを高速で転送できるコンピューターバックアップ
テープ、ディスク系で言えば、Ｚｉｐ、Ｚｉｐ２５０の
ようなとりわけ記録再生ヘッドの回転数が７００rpm以
上の高速回転の記録システムで高い耐久性と高度な電磁
変換特性を達成することが要求されている。

【０００８】これらの磁気記録媒体はその高度な電磁変
換特性を達成するため極めて平滑な表面粗さで、例え
ば、0.05μｍ〜0.2μｍと極めて薄い磁性層を有するこ
とが要求される。磁性層の厚みはただ薄いだけでなく、
厚みの均一性が不充分であるとノイズの原因になるた
め、高度な均一性も要求される。このような磁性層をも
つ塗布型磁気記録媒体として、例えば特開平１０-２２
２８３８号公報に記載の非磁性層の上に薄層磁性層を設
けた媒体であって、非磁性層及び薄層磁性層にイソシア
ネート硬化剤を使用した磁気記録媒体が提案されてい
る。しかるに、特開平１０-２２２８３８号公報に記載
の磁気記録媒体は、上記のような高度の耐久性と電磁変
換特性とが要求される記録システムにおいては、その特
性は不十分であった。すなわち、より高い耐久性と、高
度な平滑性及び磁性層の厚みの均一性を実現し、格段に
優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体が求められて
いる。

【０００９】

【発明が解決すべき課題】そこで、本発明の目的は、特
開平１０-２２２８３８号公報に記載の磁気記録媒体に
比べて、より高い耐久性と、高度な平滑性及び磁性層の
厚みの均一性を実現し、格段に優れた電磁変換特性を有
する磁気記録媒体を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に少
なくとも非磁性粉末を含む非磁性層及び少なくとも一層
の強磁性粉末と結合剤中とを含む磁性層をこの順に有す
る磁気記録媒体において、少なくとも前記磁性層に含ま
れる結合剤は、分子量200〜1000であって、窒素を含む
複素環を有し、かつ３官能以上の放射線硬化官能基を有
する化合物を用い、放射線照射により硬化したものであ
り、かつ前記放射線硬化官能基を有する化合物は強磁性
粉末100質量部に対し5〜30質量部用いられたことを特徴
とする磁気記録媒体に関する。

【００１１】本発明の磁気記録媒体においては、磁性層
の厚みは0.2μｍ〜0.05μｍの範囲であることが好まし
い。

【００１２】本発明の磁気記録媒体において、少なくと
も磁性層に含まれる結合剤は、分子量200〜1000であ
り、窒素を含む複素環を有し、かつ３官能以上の放射線
硬化官能基を有する化合物を用い、これを放射線照射に
より硬化したものである。この放射線硬化官能基を有す
る化合物は分子量が低く、溶剤溶解性が高く溶液粘度は
低いため、磁性塗布液の粘度を低下させることができ
る。塗布液の粘度を低下させることは塗布した後、乾燥
するまでの間にレベリングがしやすいためより平滑な塗
膜が得られる。しかしながら粘度が低いと塗布液中の磁
性体の分散安定性は低下し、磁性体の再凝集による凹凸
が発生しやすくなる。したがって、厚みが５μｍの単層
磁性層を塗布した場合高度な平滑性を得ることは困難で
ある(例えば、特公平4-58650号公報)。特に長軸長が0.1
μｍ〜0.03μｍという近年の超微粒子磁性体を用いた場
合分散安定性を確保することは特に難しく平滑な磁性層
は得られない。しかし、本発明のように、非磁性下層の
上に、例えば、厚み0.2μｍ〜0.05μｍという薄層の磁
性層を塗布した場合、塗布の時に高いせん断力がかかる
ためか磁性体の再凝集による凹凸が発生せず平滑な磁性
層が得られることがわかった。さらに非磁性下層と同時
重層塗布した場合、塗布適性が高く磁性層の厚み変動が
小さくなることもわかった。更に本発明の化合物はカレ
ンダー処理した後、放射線、好ましくは電子線を照射し
硬化した後は低分子量で３官能以上の官能基をもつため
架橋密度が高く弾性率が高く、更に窒素含有複素環構造
を持つため更に耐熱性も高い磁性層が得られる。このた
め極めて耐久性に優れた磁気記録媒体が得られる。

【００１３】

【発明の実施の態様】［分子量200〜1000であり、窒素
を含む複素環を有し、かつ３官能以上の放射線硬化官能
基を有する化合物］この化合物は、分子量が200〜1000
であり、好ましくは、400〜800である。窒素を含む複素
環を有し、かつ３官能以上の放射線硬化官能基を有する
化合物は、必然的に分子量が200以上になる。また分子
量が1000を超えると磁性層の厚み変動が大きくなり表面
粗さも粗くなる。窒素を含む複素環としてはトリアジン
化合物、ホスファゼン化合物を用いることができる。ト
リアジン化合物のなかでもイソシアヌレート化合物、メ
ラミン化合物が好ましい。また、放射線硬化官能基の数
は3官能以上であるが、好ましくは、3〜6官能である。
放射線硬化官能基の数が２官能以下では、架橋密度が低
く耐久性が低下するという問題がある。

【００１４】これらの化合物のＯＨ基あるいはアミノ基
にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて３官能以上
のアクリレート、メタクリレート化合物に変成したもの
が用いられる。あるいはＯＨ基、アミノ基にアルキレン
オキサイド、たとえばエチレンオキサイド又はプロピレ
ンオキサイドを付加したものをアクリレート化、メタク
リレート化あるいはビニルエーテル化したものも用いる
ことができる。これらの放射線硬化官能基を有する化合
物は、例えば、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（（株）総合技
術センター発行）や、「低エネルギー電子線照射の応用
技術」（２０００、（株）シーエムシー発行）等に記載
されており公知であり、又は日本化薬（株）、東亜合成
（株）、共栄社化学（株）等の商品として市販されてい
る化合物である。具体的な化合物を下記に示す。

【００１５】

【化１】

【００１６】これらの化合物は単独又は２種以上を混合
して用いることができる。これらの中で好ましいものは
化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）である。これらの化合物
は強磁性粉末100質量部に対し5〜30質量部用いることが
好ましく、より好ましくは8〜20質量部である。上記化
合物の使用量が、5質量部未満では所望の効果（高いＣ
／Ｎ比、小さい表面粗さ、優れた耐久性）が得られにく
く、30質量部を超えると磁性体の充填度が低下し磁気特
性が低下する（Ｃ／Ｎ比が低下する）。これらの化合物
は非磁性下層に添加することもでき、非磁性下層に添加
することが好ましい。非磁性下層への添加量は非磁性粉
体100質量部に対して5〜30とすることが好ましく、さら
に好ましくは10〜20質量部であることが適当である。添
加量が上記範囲であれば、非磁性下層の分散性及び耐久
性が高く、得られる磁気記録媒体の電磁変換特性が良好
であり好ましい。

【００１７】［併用できる放射線硬化化合物］上記放射
線硬化官能基を有する化合物には、「低エネルギー電子
線照射の応用技術（シーエムシー発行）」「ＵＶ・ＥＢ
硬化技術（(株)総合技術センター発行）」などに記載さ
れている公知の（メタ）アクリレート化合物を併用して
もよい。

【００１８】［磁性層及び非磁性層の結合剤］上記放射
線硬化官能基を有する化合物により放射線架橋される結
合剤としてはポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アク
リロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合した
アクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系
樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセ
タール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキ
ラール樹脂などから単独あるいは複数の樹脂を混合して
用いることができる。これらの中で好ましいのはポリウ
レタン樹脂、塩ビ系樹脂、アクリル系樹脂である。

【００１９】結合剤には磁性体、非磁性粉体の分散性を
向上させるためこれらの粉体表面に吸着する官能基（極
性基）を持つことが好ましい。好ましい官能基としては
−ＳＯ₃Ｍ、−ＳＯ₄Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ
（ＯＭ）₂ 、−ＣＯＯＭ、＞ＮＳＯ₃Ｍ、＞ＮＲＳＯ₃
Ｍ、−ＮＲ¹Ｒ² 、−Ｎ⁺Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｘ^- などがある。こ
こでＭは水素又はNa、Ｋ等のアルカリ金属、Ｒはアルキ
レン基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基又はヒドロキシア
ルキル基又は水素、ＸはCl、Br等のハロゲンである。結
合剤中の官能基の量は分散性向上の観点から、10μeq/g
〜200μeq/gが好ましく、更には30μeq/g〜120μeq/gが
好ましい。

【００２０】結合剤には放射線硬化可能な官能基を付与
することが好ましいが、なくても本発明の目的は十分達
成できる。 放射線硬化官能基としては（メタ）アクリ
ロイル基が好ましい。好ましい量は50μeq/g〜1meq/gで
更に好ましくは100μeq/g〜800μeq/gである。結合剤に
はこのほか−ＯＨ基などの活性水素を持つ官能基を持っ
ていてもかまわない。結合剤の分子量は重量平均分子量
で20,000〜200,000が好ましく、更に好ましくは20,000
〜80,000である。この範囲より小さいと塗膜強度が不足
し耐久性が低下する傾向があり、大きいと粘度が高く分
散性が低下する傾向がある。

【００２１】好ましい結合剤であるポリウレタン樹脂は
例えば「ポリウレタン樹脂ハンドブック」（岩田敬治
編、1986年 日刊工業新聞社）に詳しく記載されている
が、通常、長鎖ジオール、短鎖ジオール（鎖延長剤と呼
ばれることもある）とジイソシアネート化合物の付加重
合によって得られる。長鎖ジオールは分子量500〜5000
のポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリ
エーテルエステルジオール、ポリカーボネートジオー
ル、ポリオレフィンジオールなどが用いられる。この長
鎖ポリオールの種類によりポリエステルウレタン、ポリ
エーテルウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、ポ
リカーボネートウレタン、などと呼ばれる。ポリエステ
ルジオールとしてはアジピン酸、セバシン酸、アゼライ
ン酸、などの脂肪族二塩基酸、イソフタル酸、オルソフ
タル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの
芳香族二塩基酸とグリコールとの縮重合によって得られ
る。グリコール成分としてはエチレングリコール、1,2-
プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブ
タンジオール、1,5-ペンタンジオール、3-メチル、1,5-
ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2,2-ジメチ
ル1,3-プロパンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-
ノナンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキ
サンジメタノール、水素化ビスフェノールＡなどがあ
る。またポリエステルジオールにはこのほかε-カプロ
ラクトン、γ-バレロラクトンなどのラクトンを開環重
合したポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラクト
ンジオールなども用いることができる。ポリエステルジ
オールは耐加水分解性の観点で分岐側鎖をもつもの、芳
香族、脂環族の原料から得られるものが好ましい。

【００２２】ポリエーテルジオールとしてはポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラ
メチレングリコール、やビスフェノールＡ、ビスフェノ
ールＳ、ビスフェノールＰ、水素化ビスフェノールＡな
どの芳香族グリコールや脂環族ジオールにエチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサ
イドを付加重合したものなどがある。これらの長鎖ジオ
ールは複数の種類のものを併用、混合して用いることも
できる。

【００２３】短鎖ジオールとしては上記ポリエステルジ
オールのグリコール成分に例示したものと同じ化合物群
の中から選ぶことができる。また３官能以上の多価アル
コール例えばトリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトールなどを少量併用すると分
岐構造のポリウレタン樹脂が得られ溶液粘度を低下させ
たり、ポリウレタンの末端のＯＨ基を増やすことでイソ
シアネート系硬化剤との硬化性を高めることができる。

【００２４】ジイソシアネート化合物としてはＭＤＩ
（ジフェニルメタンジイソシアネート）、2,4-ＴＤＩ
（トリレンジイソシアネート）、2,6-ＴＤＩ、1,5-ＮＤ
Ｉ（ナフタレンジイソシアネート）、ＴＯＤＩ（トリジ
ンジイソシアネート）、p-フェニレンジイソシアネー
ト、ＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）などの芳香
族ジイソシアネート、トランスシクロヘキサン1、4-ジイ
ソシアネート、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネー
ト）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）、Ｈ ₆
ＸＤＩ（水素添加キシリレンジイソシアネート）、Ｈ₁₂
ＭＤＩ（水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート）
などの脂肪族、脂環族ジイソシアネートなどが用いられ
る。

【００２５】ポリウレタン樹脂中の長鎖ジオール／短鎖
ジオール／ジイソシアネートの好ましい組成は（80〜15
重量％）／（5〜40重量％）／（15〜50重量％）であ
る。ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は１meq/g〜５m
eq/gが好ましい。更には1.5〜4.5である。この範囲より
少ないと力学強度が小さくなる傾向があり、多すぎると
溶液粘度が高く分散性が低下する傾向がある。ポリウレ
タン樹脂のガラス転移温度は0℃〜200℃が好ましく、更
には40℃〜160℃である。この範囲より低いと耐久性が
低下する傾向があり、高すぎるとカレンダー成形性が低
下し電磁変換特性が低下する傾向がある。ポリウレタン
樹脂に前述した吸着官能基（極性基）や放射線硬化官能
基を導入する方法としては官能基を長鎖ジオールのモノ
マーの一部に用いる方法、短鎖ジオールの一部に用いる
方法やポリウレタンを重合した後、高分子反応で極性基
を導入する方法などがある。

【００２６】塩ビ系樹脂としては塩ビモノマーに種々の
モノマーと共重合したものが用いられる。共重合モノマ
ーとしては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの脂肪
酸ビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エ
チル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アク
リレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メ
タ）アクリレートなどのアクリレート、メタクリレート
類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、ア
リルプロピルエーテル、アリルブチルエーテルなどのア
ルキルアリルエーテル類 その他スチレン、α-メチル
スチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、エチレ
ン、ブタジエン、アクリルアミド、更に官能基をもつ共
重合モノマーとしてビニルアルコール、2-ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、2-ヒドロキシプロピル（メタ）アク
リレート、3-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、
2-ヒドロキシエチルアリルエーテル、2-ヒドロキシプロ
ピルアリルエーテル、3-ヒドロキシプロピルアリルエー
テル、p-ビニルフェノール、マレイン酸、無水マレイン
酸、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジル（メタ）ア
クリレート、アリルグリシジルエーテル、ホスホエチル
（メタ）アクリレート、スルホエチル（メタ）アクリレ
ート、p-スチレンスルホン酸、及びこれらのＮa塩、Ｋ
塩などが用いられる。

【００２７】塩ビ系樹脂中の塩化ビニルモノマーの組成
は６０〜９５重量％が好ましい。これより少ないと力学
強度が低下し、多すぎると溶剤溶解性が低下し、溶液粘
度が高く分散性が低下する。吸着官能基（極性基）、放
射線硬化官能基の好ましい量は前述したとおりである。
これらの官能基の導入方法は上記の官能基含有モノマー
を共重合しても良いし、塩ビ系樹脂を共重合した後、高
分子反応で官能基を導入しても良い。好ましい重合度は
２００〜６００、更に好ましくは２４０〜４５０であ
る。この範囲より小さいと力学強度が低下する傾向があ
り、高すぎると溶液粘度が高く分散性が低下する傾向が
ある。結合剤の添加量は磁性層の場合は磁性体100質量
部に対して、非磁性層の場合は非磁性粉末100質量部に
対して5質量部〜30質量部が好ましく更に好ましくは10
質量部〜20質量部である。

【００２８】［磁性層、非磁性層の厚み］磁性層厚み
は、0.01〜１μｍが好ましく、更に好ましくは0.05μｍ
〜0.4μｍである。薄すぎると均一な記録層ができにく
く、厚すぎると磁性層表面が粗くなり電磁変換特性が低
下する傾向がある。非磁性層厚みは、0.5μｍ〜３μｍ
が好ましく、更に好ましくは0.８μｍ〜２μｍである。
薄すぎると耐久性が低下し、厚すぎると表面が粗くなり
電磁変換特性が低下する傾向がある。

【００２９】［磁性体］本発明の磁性層に使用する強磁
性粉末としては、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉
末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外
にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａ
ｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好まし
く、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことがさら
に好ましい。Ｃｏの含有量は０原子％以上４０原子％以
下が好ましく、さらに好ましくは１５原子％以上３５％
以下、より好ましくは２０原子％以上３５原子％以下で
ある。Ｙの含有量は１．５原子％以上１２原子％以下が
好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子％以
下、より好ましくは４原子％以上９原子％以下である。
Ａｌは５原子％以上３0原子％以下が好ましく、さらに
好ましくは5原子％以上１5原子％以下、より好ましくは
7原子％以上12原子％以下である。これらの強磁性粉末
にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防
止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわな
い。具体的には、特公昭４４−１４０９０号公報、特公
昭４５−１８３７２号公報、特公昭４７−２２０６２号
公報、特公昭４７−２２５１３号公報、特公昭４６−２
８４６６号公報、特公昭４６−３８７５５号公報、特公
昭４７−４２８６号公報、特公昭４７−１２４２２号公
報、特公昭４７−１７２８４号公報、特公昭４７−１８
５０９号公報、特公昭４７−１８５７３号公報、特公昭
３９−１０３０７号公報、特公昭４６−３９６３９号公
報、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１
号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３
８９０１４号などに記載されている。

【００３０】強磁性合金微粉末には少量の水酸化物、ま
たは酸化物が含まれてもよい。強磁性合金微粉末の公知
の製造方法により得られたものを用いることができ、下
記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主とし
てシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方
法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅある
いはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化
合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホ
ウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなど
の還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性
気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。この
ようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処
理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、
有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面
に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用
いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化
皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いるこ
とができる。本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積で表せば４５〜８０m²/gであり、好ましく
は５０〜７０m²/gである。４０m²/g以下ではノイズが高
くなり、８０m²/g以上では表面性が得にくく好ましくな
い。本発明の磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは３５
０〜８０Åであり、好ましくは２５０〜１００Å、更に
好ましくは２００〜１４０Åである。強磁性粉末の長軸
径は０．０２μm以上０．２５μm以下であり、好ましく
は０．０５μm以上０．１５μm以下であり、さらに好ま
しくは０．０６μm以上０．１μm以下である。強磁性粉
末の針状比は３以上１５以下が好ましく、さらには５以
上１２以下が好ましい。磁性金属粉末のσs は１００〜
１８０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１００〜１８０emu/g）であり、
好ましくは１１０〜１７０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１１０emu/g
〜１７０emu/g）、更に好ましくは１２５〜１６０Ａ・
ｍ²／ｋｇ（１２５〜１６０emu/g） である。金属粉末
の抗磁力は１１１ｋＡ／ｍ（１４００Oe）以上２７９ｋ
Ａ／ｍ（３５００Oe）以下が好ましく、更に好ましくは
１４３ｋＡ／ｍ（１，８００Oe）以上２３９ｋＡ／ｍ
（３０００Oe）以下である。

【００３１】強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％
とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末
の含水率は最適化するのが好ましい。 強磁性粉末のｐ
Ｈは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが
好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６
〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、
Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかま
わない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であ
り表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００
mg/m²以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮ
ａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場
合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２
００ppm以下であれば特に特性に影響を与えることは少
ない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少
ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好
ましくは５容量％以下である。また形状については先に
示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米
粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性粉末の自
体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下が好まし
い。強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必要がある。
尚、ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好
で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシ
フトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適であ
る。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性金属粉末
においてはゲータイトの粒度分布を良くする、焼結を防
止するなどの方法がある。

【００３２】本発明の磁性層に使用する強磁性粉末とし
ては六方晶フェライト微粉末も使用できる。六方晶フェ
ライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換
体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバ
イト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェラ
イト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバ
イト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグ
ネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロン
チウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外
にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、
Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎ
ｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃ
ｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することが
できる。原料・製法によっては特有の不純物を含有する
ものもある。粒子サイズは六角板径で１０〜２００nm、
好ましくは２０〜１００nmである。磁気抵抗ヘッドで再
生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４０
nm以下が好ましいが、１０nm以下では熱揺らぎのため安
定な磁化が望めない。２００nm以上ではノイズが高く、
いずれも高密度磁気記録には向かない。板状比（板径／
板厚）は１〜１５が望ましい。好ましくは２〜７であ
る。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ま
しいが、十分な配向性が得られない。１５より大きいと
粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この
粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜２０
０m²/gを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算
術計算値と符号する。結晶子サイズは５０〜４５０Å、
好ましくは１００〜３５０Åである。粒子板径・板厚の
分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒
子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比
較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算
して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイ
ズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープ
にするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共
に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われて
いる。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解す
る方法等も知られている。磁性体で測定される抗磁力Ｈ
ｃは３９．８ｋＡ／ｍ（５００Oe）〜３９８ｋＡ／ｍ
（５０００Oe）程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高
密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限され
る。通常６３．７ｋＡ／ｍ（８００Oe）から３１８ｋＡ
／ｍ（４０００Oe）程度であるが、好ましくは１１９ｋ
Ａ／ｍ（１５００Oe）以上、２７９ｋＡ／ｍ（３５００
Oe）以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラーを
越える場合は、１５９ｋＡ／ｍ（２０００Oe）以上にす
ることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、
含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応
条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０Ａ・ｍ²
／ｋｇ〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇ（４０emu/g〜８０emu/g）
である。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小
さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバ
イトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、
含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。
またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。

【００３３】磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分
散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われて
いる。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用され
る。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物ま
たは水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタン
カップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して
０．１〜１０％である。磁性体のＰＨも分散に重要であ
る。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値
があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１０程
度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響す
る。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０
１〜２．０％が選ばれる。六方晶フェライトの製法とし
ては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化
物とカ゛ラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライ
ト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質
体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリ
ウムフェライト結晶粉体を得るカ゛ラス結晶化法 バリウ
ムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生
成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・
乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱
反応法 バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカ
リで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以
下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得
る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。

【００３４】［下層非磁性層に関する記載］本発明の下
層非磁性層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であ
り、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金
属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物
から選択することができる。無機化合物としては例えば
α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−
アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸
化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒
化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、
酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化
ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデン
などが単独または組合せで使用される。特に好ましいの
は、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等か
ら、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムで
あり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄であ
る。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μ
mが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁
性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とり
わけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μ
m〜０．２μmである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化
物である場合は、平均粒子径０．０８μm以下が好まし
く、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μm
以下が好ましい。タップ密度は０．０５〜２g/ml、好ま
しくは０．２〜１．５g/mlである。非磁性粉末の含水率
は０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％、更
に好ましくは０．３〜１．５重量％である。非磁性粉末
のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が
特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１００m²/
g、好ましくは５〜８０m²/g、更に好ましくは１０〜７
０m²/gである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４
μm〜１μmが好ましく、０．０４μm〜０．１μmが更に
好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油
量は５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100
g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比重は１
〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、
多面体状、板状のいずれでも良い。

【００３５】強熱減量は２０重量％以下であることが好
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記非磁性粉末のモース硬度は４以
上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラ
フネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好
ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。非
磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μmo
l／m²、好ましくは２〜１５μmol/m²、さらに好ましく
は３〜８μmol/m²である。非磁性粉末の２５℃での水へ
の湿潤熱は２０〜６０μＪ／ｃｍ²（２００erg/cm²〜６
００erg/cm²）がの範囲にあることが好ましい。また、
この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。
ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。非磁性粉末の
水溶性Ｎａは０〜１５０ppm、水溶性Ｃａは０〜５０ppm
である。

【００３６】これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｚｎ
Ｏ、Ｙ₂Ｏ₃で表面処理することが好ましい。特に分散性
に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂
であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｚｒ
Ｏ₂である。これらは組み合わせて使用しても良いし、
単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈さ
せた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理
した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその
逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的
に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である
方が一般には好ましい。

【００３７】本発明の下層塗布層に用いられる非磁性粉
末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友
化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘ
マタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ
−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢ
Ｎ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、Ｔ
ＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴ
Ｏ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタ
イトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン
工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テ
イカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０
Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００
Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、Ｂ
Ｆ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業
製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製
ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５
００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好
ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。

【００３８】下層塗布層にカーボンブラックを混合させ
て公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光
透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイ
クロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカ
ーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をも
たらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴ
ム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、
アセチレンブラック、等を用いることができる。下層の
カーボンブラックは所望する効果によって、以下のよう
な特性を最適化すべきであり、併用することでより効果
が得られることがある。

【００３９】下層のカーボンブラックの比表面積は１０
０〜５００m²／ｇ、好ましくは１５０〜４００m²／ｇ、
ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは３０
〜２００ml/100gである。カーボンブラックの粒子径は
５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好
ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐ
Ｈは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカー
ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製 Ｂ
ＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ、＃３１
５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、
＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ
−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コ
ンロンビアカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、
ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、５７５
０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８０
０、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッ
チェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを
使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対し
て５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％
を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラッ
クは単独、または組合せで使用することができる。本発
明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブ
ラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にする
ことができる。

【００４０】また下層塗布層には有機質粉末を目的に応
じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレ
ン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系
樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリ
オレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリ
アミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化
エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開
昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７
号公報に記されているようなものが使用できる。下層塗
布層の潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他
は磁性層に関する公知技術が適用できる。

【００４１】［放射線照射架橋］本発明において結合剤
を前記化合で架橋するために照射される放射線は電子線
や紫外線であることができる。紫外線を使用する場合に
は前記の化合物に光重合開始剤を添加する。電子線硬化
の場合、重合開始剤は不要であり、透過深さも深いので
好ましい。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が採
用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られ
るカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加
速電圧が30〜1000kV、好ましくは50〜300kVであり、吸
収線量として0.5〜20Ｍｒａｄ、好ましくは2〜10Ｍｒa
ｄである。加速電圧が30kV以下の場合はエネルギーの透
過量が不足し、300kVを超えると重合に使われるエネル
ギーの効率が低下し経済的でない。電子線を照射する雰
囲気は窒素パージにより酸素濃度を200ppm以下にするこ
とが好ましい。酸素濃度が高いと表面近傍の架橋、硬化
反応が阻害される。紫外線光源としては、水銀灯が用い
られる。水銀灯は２０〜２４０Ｗ／cmのランプを用い、
速度０．３ｍ／分〜２０ｍ／分で使用される。基体と水
銀灯との距離は一般に１〜３０cmであることが好まし
い。

【００４２】紫外線硬化に用いる光重合開始剤として光
ラジカル重合開始剤が用いられる。詳細は例えば「新高
分子実験学第２巻 第６章 光・放射線重合」（共立出版
1995発行、高分子学会編）記載されているものを使用で
きる。具体例としては、アセトフエノン、ベンゾフエノ
ン、アントラキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾ
インイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケ
トン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン、
２−２ジエトキシアセトフエノン、などがある。芳香族
ケトンの混合比率は、放射線硬化官能基を有する化合物
100質量部に対し0.5〜20質量部、好ましくは２〜15質量
部、さらに好ましくは３〜10質量部である。

【００４３】放射線硬化装置、条件などについては「Ｕ
Ｖ・ＥＢ硬化技術」（(株)総合技術センター発行）や「低
エネルギー電子線照射の応用技術」（2000、(株)シーエ
ムシー発行）などに記載されている公知のものを用いる
ことができる。

【００４４】本発明の磁気記録媒体の製造においては、
磁性層は非磁性層が湿潤状態にあるうちにこの上に設け
られたものであることが好ましい。すなわち、磁性層
は、非磁性層用塗布液を塗布後、形成された塗布層（非
磁性層）が湿潤状態にあるうちにこの上に磁性層用塗布
液を塗布する、所謂ウエット・オン・ウエット方式によ
る塗布方法を利用して形成されたものであることが好ま
しい。

【００４５】上記ウエット・オン・ウエット方式による
塗布方法としては、例えば以下の方法を挙げることがで
きる。 （１）グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、ある
いはエクストルージョン塗布装置などを用いて、支持体
上にまず非磁性層を形成し、該非磁性層が湿潤状態にあ
るうちに、支持体加圧型エクストルージョン塗布装置に
より、磁性層を形成する方法（特開昭６０−２３８１７
９号公報、特公平１−４６１８６号公報、特開平２−２
６５６７２号公報参照）。 （２）塗布液用スリットを二つ備えた単一の塗布ヘッド
からなる塗布装置を用いて支持体上に磁性層と非磁性層
をほぼ同時に形成する方法（特開昭６３−８８０８０号
公報、特開平２−１７９２１号公報、特開平２−２６５
６７２号公報参照）。 （３）バックアップローラ付きエクストルージョン塗布
装置を用いて、支持体上に磁性層及び非磁性層をほぼ同
時に形成する方法（特開平２−１７４９６５号公報参
照）。本発明において、非磁性層及び磁性層は、同時重
層塗布法を利用して形成することが好ましい。

【００４６】放射線照射は非磁性層及び磁性層を塗布、
乾燥、カレンダー処理した後に行うのが好ましい。放射
線照射前の磁性層は柔らかくカレンダー処理により平滑
化されやすい。カレンダー処理した後巻き取り、放射線
を未照射の状態で長時間保存するとバック面の凹凸が転
写して表面が粗くなることがある。従ってカレンダー処
理後できるだけ早く放射線を照射し磁性層を硬化させる
ことが好ましい。カレンダー処理と放射線照射工程を一
貫で行うことは更に好ましい。

【００４７】

【実施例】実施例中の「部」の表示は「質量部」を示す 実施例１〜８、比較例１〜４ [上層用磁性液の調製]強磁性合金粉末Ａ(組成：Fe 100
原子%に対して,Co 20%,Al 9%,Y 6% Hc １５９ｋＡ／ｍ
（2000Oe）、結晶子サイス゛15nm、BET比表面積５９ｍ²/g、
長軸径0.09μm、針状比７、σs１４０Ａ・ｍ²／ｋｇ
（１４０emu/g）)100部 をオーフ゜ンニータ゛ーで10分間粉砕し、
次いで塩化ビニル系共重合体ＭＲ１１０（日本ゼオン
製）を7.5部及びスルホン酸含有ポリウレタン樹脂東洋
紡製ＵＲ８２００ 5部（固形分）、及びシクロヘキサノン60部
を添加して60分間混練し、次いで αアルミナ HIT55（住友化学製） 10部 カーホ゛ンフ゛ラック ＃５０（旭カーボン製） 3部 メチルエチルケトン/トルエン＝1/1 200部 を加えてサント゛ミルで120分間分散した。これに 表１の化合物 表１の添加量 ステアリン酸 1部 オレイン酸 1部 ２−エチルヘキシルミリステート 2部 オレイン酸オレイル 1部 メチルエチルケトン 50部 を加え、さらに20分間撹拌混合したあと、1μmの平均孔
径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料を調製し
た。

【００４８】［下層用非磁性液の調製］酸化チタン（平
均粒径０．０３５μｍ、結晶型ルチル、ＴｉＯ₂ 含有量
９０％以上、表面処理層；アルミナ、Ｓ_BET ３５〜４２
ｍ^2/ｇ、真比重４．１、ｐＨ６．５〜８．０）８５部
、及びカーボンブラック ケッチェンブラックＥＣ
（日本ＥＣ製）１５部 をオーフ゜ンニータ゛ーで10分間粉砕し、
次いで塩化ビニル系共重合体ＭＲ１１０（日本ゼオン
製）を１７部及びスルホン酸含有ポリウレタン樹脂東洋
紡製ＵＲ８３００ 10部（固形分）、及びシクロヘキサノン60部
を添加して60分間混練し、次いで メチルエチルケトン/シクロヘキサノン＝6/4 200部 を加えてサント゛ミルで120分間分散した。これに 表１の化合物 表１の添加量 ステアリン酸 1部 オレイン酸 1部 ２−エチルヘキシルミリステート 2部 オレイン酸オレイル 1部 メチルエチルケトン 50部 を加え、さらに20分間撹拌混合したあと、1μmの平均孔
径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性塗料を調製し
た。

【００４９】得られた非磁性塗料を厚み1.2μmに、さら
にその直後に磁性塗料を乾燥後の厚さが0.10μmになる
ように、厚さ3.8μmのアラミド支持体の表面に同時重層
塗布した。両層が未乾燥の状態で磁場配向処理を行い、
溶剤を乾燥後、７段のカレンダーで速度100m/min、線圧
300kgf/cm、温度90℃の条件で行った。この後、酸素濃
度200ppm以下の雰囲気で加速電圧１５０kVの電子線を吸
収線量が５Mradになるように照射した。この後６.３５m
m幅にテープをスリットし、ＤＶＣのカートリッジに組
み込んだ。

【００５０】比較例５ 実施例１において表１のイソシアネート硬化剤を添加し
塗布、乾燥、カレンダー処理したあと電子線を照射せ
ず、６０℃７日間熱処理をした後テープをスリットしサ
ンプルを作成した。

【００５１】比較例６ 実施例１において非磁性下層を塗布せず直接支持体の上
に磁性層を厚みが2.4μmになるように塗布しそれ以外は
実施例１と同様にテープサンプルを作成した。得られた
テープの特性を表１に示す。

【００５２】〔測定方法〕 電磁変換特性：試料テーフ゜にドラムテスターを用いて記
録波長0.5μ、ヘッド速度１０m/secの条件で記録し、再
生した。基準テープ（比較例５）のＣ／Ｎ比を0dBとし
たときのテーフ゜の相対的なＣ／Ｎ比を評価した。 磁性層表面粗さＲａ：デジタルオプチカルプロフィメ
ーター（ＷＹＫＯ製）を用いたる光干渉法により、カッ
トオフ０．２５ｍｍの条件で中心線平均粗さをＲａとし
た。 磁性層厚み及び厚みの標準偏差（厚み変動） テープを厚み方向に超薄切片をミクロトームで切り出し
透過型電子顕微鏡で断面写真を撮影した。この断面写真
から磁性層厚みを１００点測定しその平均値と標準偏差
を求めた。 耐久性 60分長のテーフ゜を松下電器製DVC-VTR（NV-BJ1）を用いて
２３℃１０％ＲＨ環境でスチルモードで出力を調べ、初
期の出力の半分に低下するまでの時間を調べた。

【００５３】

【表１】

【００５４】表１の結果から、磁性層に前記放射線硬化
官能基を有する化合物を用いて放射線架橋した結合剤を
用いると、実施例１〜８に示すように、高いＣ／Ｎ比が
得られ、表面粗さが小さく、磁性層厚みの均一性に優
れ、スチル耐久性に優れた磁気記録媒体が得られること
がわかる。尚、実施例１〜７は、磁性層及び非磁性層に
上記結合剤を用いているが、実施例８では磁性層のみに
上記結合剤を用いている。しかし、このような実施例８
においても、高いＣ／Ｎ比が得られ、表面粗さが小さ
く、磁性層厚みの均一性に優れ、スチル耐久性に優れた
磁気記録媒体が得られている。一方、比較例１は、特公
平３−６５７３号公報に記載の例であり、ウレタンアク
リルオリゴマーであるＰＵ２Ａ（３官能、ＭＷ１３０
０）を用いた。Ｃ／Ｎ比、表面粗さ、磁性層厚みの均一
性、及びスチル耐久性のいずれも、実施例より劣るもの
であった。比較例２及び３は、放射線硬化官能基を有す
る化合物の使用量が本発明の範囲外の例である。比較例
２は、Ｃ／Ｎ比、表面粗さ、磁性層厚みの均一性、及び
スチル耐久性のいずれも、実施例より劣るものであっ
た。比較例３は、スチル耐久性は実施例と同等であった
が、Ｃ／Ｎ比、表面粗さ、及び磁性層厚みの均一性は実
施例より劣るものであった。比較例４は、特開平１０−
２２２８３８号公報に記載の例であり、架橋剤として熱
架橋性のトリメチロールプロパンのトリレンジイソシア
ネート３モル付加物（Ｃ−Ｌ）を用いた。Ｃ／Ｎ比、表
面粗さ、磁性層厚みの均一性、及びスチル耐久性のいず
れも、実施例より劣るものであった。比較例５は、特公
平７−１５７３６号公報に記載の例であり、非磁性層を
有さず、磁性層単層の磁気記録媒体の例である。スチル
耐久性は実施例と同等であったが、Ｃ／Ｎ比、表面粗
さ、及び磁性層厚みの均一性は実施例より劣るものであ
った。

【００５５】

【発明の効果】本発明によれば、電磁変換特性が向上
し、磁性層の厚み変動を低減しノイズを低減でき、
磁性層、非磁性層の重層塗布適性を改良し塗膜の平滑性
を向上でき、かつ耐久性を向上させた磁気記録媒体が
提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J038 BA081 CC021 CD021 CE061 CE071 CG141 CG161 DB001 DD001 DF061 DG001 DH001 FA012 FA172 GA08 HA076 HA216 HA296 HA316 HA356 HA376 HA446 KA07 KA08 KA20 MA14 NA22 PA17 PB11 PC08 5D006 BA13 FA02

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に少なくとも非磁性粉末を含む非
   磁性層及び少なくとも一層の強磁性粉末と結合剤中とを
   含む磁性層をこの順に有する磁気記録媒体において、 少なくとも前記磁性層に含まれる結合剤は、分子量200
   〜1000であって、窒素を含む複素環を有し、かつ３官能
   以上の放射線硬化官能基を有する化合物を用い、放射線
   照射により硬化したものであり、かつ前記放射線硬化官
   能基を有する化合物は強磁性粉末100質量部に対し5〜30
   質量部用いられたことを特徴とする磁気記録媒体。