JP2002118215A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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信明 稲垣
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 放熱能力に優れ、しかも、ボンディングワイ
ヤの長さが短くて済む半導体装置を提供する。 【解決手段】 半導体装置20Aは、プリント基板40
と、このプリント基板40上に実装された電界効果トラ
ンジスタ(半導体素子)32と、プリント基板40上に
電界効果トランジスタ32と並置されて実装された放熱
ブロック28a、bと、電界効果トランジスタ32と放
熱ブロック28a、bをそれぞれ接続するボンディング
ワイヤ26a、bとを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】 本発明は半導体装置に関す
る。特に、放熱能力が改善された半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】 従来から半導体装置の放熱能力を改善
する様々な技術が開発され、その一例が特開平2−18
951号公報に記載されている。この公報に記載の半導
体装置を図3を参照して簡単に説明する。図中、136
はソースパターン、122はゲートパターン、138は
ドレインパターンであり、これらのパターンはプリント
基板140上に形成されている。図中134は金属製の
放熱ブロックであり、ソースパターン136上に固定さ
れている。放熱ブロック134上に半導体素子130が
接着層128で接着されている。図中126は半導体素
子130のソース電極を放熱ブロック134を介してソ
ースパターン136に接続するボンディングワイヤ、1
24はゲート電極をゲートパターン122に接続するボ
ンディングワイヤ、132はドレイン電極をドレインパ
ターン138に接続するボンディングワイヤである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】 上記の構造、即ち、
プリント基板140上に放熱ブロック134を載せ、そ
の放熱ブロック134上に半導体素子130を載せる構
造の場合、必然的に、プリント基板140の表面から半
導体素子130の表面までの高さが高くなり、各ボンデ
ィングワイヤ(特にボンディングワイヤ124、13
2)の長さが長くなってしまう。このために、振動・高
温・低温にさらされるような厳しい環境下で使用する
と、断線等の障害が生じやすい。
【0004】本発明は、放熱能力に優れ、しかも、ボン
ディングワイヤの長さが短くて済む半導体装置を提供す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段および作用と効果】 本発
明に係る半導体装置は、プリント基板と、このプリント
基板に実装された半導体素子と、この半導体素子と並置
されてそのプリント基板に実装された放熱ブロックと、
前記半導体素子と前記放熱ブロックを接続するボンディ
ングワイヤとを備えている。この半導体装置は、プリン
ト基板表面から半導体素子表面までの高さが高くなら
ず、ボンディングワイヤの長さが長くならない。このた
めに、振動・高温・低温にさらされるような厳しい環境
下で使用しても、断線等の障害が生じにくい。即ち、信
頼性が向上する。
【0006】プリント基板裏面にヒートシンクが設けら
れている場合には、放熱ブロックがプリント基板に設け
られた凹部に実装されていることが好ましい。この場
合、半導体素子から放熱ブロックに放熱された熱は、効
果的にヒートシンクに放熱され、放熱能力が非常に高
い。
【0007】
【発明の実施の形態】 後記する本発明の実施例の主要
な特徴を記載する。 (形態1) プリント基板が導電部材を備え、1本のボ
ンディングワイヤが半導体素子から放熱ブロックを経て
導電部材にまで伸びていることを特徴とする半導体装
置。 (形態2) プリント基板裏面にヒートシンクが設けら
れ、そのプリント基板を貫通してヒートシンクに達する
凹部が設けられ、その凹部に放熱ブロックが収容され、
その放熱ブロックが絶縁層を介してヒートシンクに固定
されていることを特徴とする半導体装置。
【0008】
【実施例】 (第1実施例)第1実施例に係る半導体装
置について、図1を参照して説明する。図1は第1実施
例に係る半導体装置の断面図である。図1に示すよう
に、この半導体装置20Aの場合、ヒートシンク36の
側部上にハウジング24が載置されている。ヒートシン
ク36は熱伝導性の高い材料、例えば、銅、アルミニウ
ム等の金属材料等によって形成されており、ハウジング
24は樹脂等によって形成されている。このハウジング
24には、電極バスバー(導電部材)22a、bが挟み
込まれ固着されている。ヒートシンク36の中央部上に
は、プリント基板40が載置されている。このプリント
基板40は、有機系材料(フェノール樹脂、エポキシ樹
脂等)や、セラミック、ガラス等によって平板状に形成
されている。このプリント基板40の下部には、熱伝導
性の高い放熱グリス38が塗布されており、プリント基
板40とヒートシンク36の間の熱抵抗を低減させてい
る。このプリント基板40の内部には、上面から下面を
貫通するようにサーマルビア40aが形成されている。
このサーマルビア40aは、電気的に接続される配線の
一部として使用されるものではなく、放熱のために形成
されている。サーマルビア40aは、プリント基板40
にスルーホールをパンチングで形成した後に、熱伝導性
の高いサーマルビアペーストを充填することによって形
成されている。
【0009】プリント基板40の中央部上には導体パタ
ーン34が印刷されている。この導体パターン34は、
銀、銅等の熱と電気伝導性の良好な金属等によって形成
されている。この導体パターン34は、印刷、めっき、
あるいはエッチング等の通常の方法を用いて形成するこ
とができる。この導体パターン34には、電界効果トラ
ンジスタ32のソース電極32Sがはんだ30ではんだ
付けされている。電界効果トランジスタ32は、下部に
ソース電極32Sを持ち、上方にドレイン電極32Dと
ゲート電極32Gを持っている。この電界効果トランジ
スタ32と並列に載置されて放熱ブロック28a、bが
はんだ30ではんだ付けされている。放熱ブロック28
は、銅、アルミ、モリブデン、シリカ等の熱伝導性の高
い材料で形成されている。これらのはんだ付けは、リフ
ロー炉内でリフローはんだ付けによって行われる。
【0010】電界効果トランジスタ32と放熱ブロック
28はできるだけ近くに並置することが好ましい。図1
には2つの放熱ブロック28a、bが示されているが、
できるだけ数多く設けることが好ましい。前記したサー
マルビア40aは、電界効果トランジスタ32と放熱ブ
ロック28に対応する領域内にそれぞれ複数形成されて
いる。このサーマルビア40aはできるだけ数多く形成
することが好ましい。
【0011】電界効果トランジスタ32のドレイン電極
32Dはドレイン側の電極バスバー22aにボンディン
グワイヤ26aで接続されている。このボンディングワ
イヤ26aの中間点は放熱ブロック28aにはんだ付け
されている。即ち、一本のボンディングワイヤ26a
が、電界効果トランジスタ32のドレイン電極32Dか
ら放熱ブロック28aを経て電極バスバー22aに伸び
ている。このボンディングワイヤ26aは、例えばアル
ミニウム、金等の電気抵抗並びに熱抵抗の低い金属材料
で形成されている。同様に、電界効果トランジスタ32
のゲート電極32Gはゲート側の電極バスバー22bに
ボンディングワイヤ26bで接続されている。このボン
ディングワイヤ26bの中間点は放熱ブロック28bに
はんだ付けされている。即ち、一本のボンディングワイ
ヤ26bが、電界効果トランジスタ32のゲート電極3
2Gから放熱ブロック28bを経て電極バスバー22b
に伸びている。
【0012】第1実施例に係る半導体装置20Aでは、
電界効果トランジスタ32と放熱ブロック28a、bを
並置しているため、一度にはんだ付けでき半導体装置2
0Aの製造工程を簡素化できる。また、プリント基板4
0に特殊な構造が必要とされるわけでもなく、放熱ブロ
ック28a、bも電界効果トランジスタ32等と同時に
実装できるため、製造も容易である。さらに、電界効果
トランジスタ32と放熱ブロック28を並置しているた
め、プリント基板40に対し高さ方向のスペースを大き
くとる必要がない。このため、半導体装置20Aを薄型
化できる。
【0013】さらに、従来技術である図3と比較すると
明らかに、この半導体装置20Aの場合には、ボンディ
ングワイヤ26a、bが高さ方向に伸びる必要がなく、
電界効果トランジスタ32と放熱ブロック28間の距
離、放熱ブロック28と電極バスバー22の距離を短く
することができる。このために、ボンディングワイヤ2
6の自由長(ここでははんだ点とはんだ点の間を無支持
状態で伸びる距離をいう)が短い。ボンディングワイヤ
26の自由長を短くできるために、この半導体装置20
Aを振動の激しい環境下で使用したときにもボンディン
グワイヤ26が大きく振動することを防止でき、断線等
の事故の発生を効果的に抑制することができる。また、
一本のボンディングワイヤ26が、電界効果トランジス
タ32から放熱ブロック28を経て電極バスバー22に
伸びるために、電界効果トランジスタ32と放熱ブロッ
ク28間、放熱ブロック28と電極バスバー22間を別
々のボンディングワイヤで接続する場合に比して、使用
するワイヤ本数とはんだ付け箇所を少なくすることがで
きる。
【0014】次に、第1実施例に係る半導体装置20A
の電界効果トランジスタ32で発生した熱の伝達作用に
ついて説明する。第1に、電界効果トランジスタ32で
発生した熱の一部は、その電界効果トランジスタ32の
下方に設けられたサーマルビア40a、放熱グリス38
を通じてヒートシンク36に伝達される。サーマルビア
40aは熱伝導性の高い部材で形成されており、サーマ
ルビア36とヒートシンク36の間には放熱グリス38
が塗布されているから、ヒートシンク36に良好に放熱
することができる。第2に、電界効果トランジスタ32
で発生した熱の一部は、ボンディングワイヤ26を通じ
て放熱ブロック28に伝達される。放熱ブロック28に
伝達された熱は、その放熱ブロック28の下方に設けら
れたサーマルビア40a、放熱グリス38を通じてヒー
トシンク36へ伝達される。第3に、電界効果トランジ
スタ32で発生した熱の一部は、ボンディングワイヤ2
6を通じて電極バスバー22に伝達される。電極バスバ
ー22は、本来的には電気的に接続されているものであ
るが、平面視した場合には長方形状となっており、表面
積が大きいため、放熱効果も有する。このように、第1
実施例に係る半導体装置20Aでは、大きく分けて3つ
の放熱経路を有するため、電界効果トランジスタ32の
実質の熱抵抗を低減することができる。
【0015】第1実施例に係る半導体装置20Aのボン
ディングワイヤ26は、熱と電気の両者を伝える役割を
果たす。1本のボンディングワイヤ26に2つの役割を
兼用させているため、ボンディングワイヤ26の使用量
を低減することができる。特に、耐腐食性等からの観点
からボンディングワイヤ26を金ワイヤ等にする必要が
ある場合には、ボンディングワイヤ26の使用量を低減
できることは大きなメリットとなる。
【0016】(第2実施例)次に、第2実施例に係る半
導体装置について、図2を参照して説明する。図2は第
2実施例に係る半導体装置の断面図である。なお、第1
実施例に係る半導体装置20Aにおける部材と同様の機
能を果たす部材については、同じ参照番号を付し、その
説明を省略する。図2に示すように、半導体装置20B
には、プリント基板40の裏面に放熱グリス38を介し
てヒートシンク36が設けられている。そのプリント基
板40には、そのプリント基板40を貫通してヒートシ
ンク36に達する凹部40bが設けられている。この凹
部40bに放熱ブロック29a、bが収容されている。
この放熱ブロック29a、bは、絶縁層39を介してヒ
ートシンク36に固定されている。この絶縁層39は、
樹脂、セラミック、ガラス、ゴム系材料等で形成されて
いる。主にこれらの点で第1実施例に係る半導体装置2
0Aと異なる。
【0017】次に、第2実施例に係る半導体装置20B
の電界効果トランジスタ32で発生した熱の伝達作用に
ついて説明する。電界効果トランジスタ32で発生した
熱は、ボンディングワイヤ26を通じて放熱ブロック2
9に伝達される。放熱ブロック29に伝達された熱の一
部は、ヒートシンク36に伝達され外部に放散される。
また、放電ブロック29に伝達された熱の一部は、プリ
ント基板40の凹部40bからも外部に放散される。こ
のため、電界効果トランジスタ32で発生した熱は、放
熱ブロック29によって熱の流れる面積が広げられるこ
とで良好に放熱される。なお、放熱ブロック29の下面
に絶縁層39を形成しているので、電界効果トランジス
タ32がヒートシンク36と導通して電気的に短絡する
おそれはない。
【0018】以上、本発明の実施例に係る半導体装置に
ついて説明したが、本発明は上記の実施例になんら限定
されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変
更、改良を施した形態で実施することができる。
【0019】例えば、本実施例では、半導体素子として
電界効果トランジスタを用いた場合を例にして説明した
が、本発明における半導体素子はこれに限られない。例
えば、電界効果トランジスタ以外のトランジスタ(パワ
ートランジスタ等)に適用してもよく、さらには、トラ
ンジスタ以外の半導体素子、例えば、サイリスタ、3端
子レギュレータ等に適用してもよい。また、2端子のダ
イオード等に適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る半導体装置の断面
図。
【図2】本発明の第2実施例に係る半導体装置の断面
図。
【図3】従来の半導体装置の断面図。
【符号の説明】
20A、B:半導体装置 22:電極バスバー(導電部材) 24:ハウジング 26:ボンディングワイヤ 28:放熱ブロック 30:はんだ 32:電界効果トランジスタ(半導体素子)、32S:
ソース電極、32G:ゲート電極、32D:ドレイン電
極 34:導体層 36:ヒートシンク 38:放熱グリス 39:絶縁層 40:プリント基板、40a:サーマルビア、40b:
凹部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プリント基板と、このプリント基板に実
    装された半導体素子と、この半導体素子と並置されてそ
    のプリント基板に実装された放熱ブロックと、前記半導
    体素子と前記放熱ブロックを接続するボンディングワイ
    ヤとを備えた半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の半導体装置において、
    プリント基板裏面にヒートシンクが設けられ、前記放熱
    ブロックがプリント基板に設けられた凹部に実装されて
    いることを特徴とする半導体装置。
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