JP2002118130A - Resin sealing method for matrix package - Google Patents

Resin sealing method for matrix package

Info

Publication number
JP2002118130A
JP2002118130A JP2000307634A JP2000307634A JP2002118130A JP 2002118130 A JP2002118130 A JP 2002118130A JP 2000307634 A JP2000307634 A JP 2000307634A JP 2000307634 A JP2000307634 A JP 2000307634A JP 2002118130 A JP2002118130 A JP 2002118130A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
substrate
mold
semiconductor chip
sealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000307634A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Miyajima
文夫 宮島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Apic Yamada Corp
Original Assignee
Apic Yamada Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Apic Yamada Corp filed Critical Apic Yamada Corp
Priority to JP2000307634A priority Critical patent/JP2002118130A/en
Publication of JP2002118130A publication Critical patent/JP2002118130A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for resin sealing of a matrix package by which the productivity is improved and the separation of undesired resin from a molded product becomes easier when the package on which semiconductor chips are flip chip mounted in a matrix arrangement is molded with underfill. SOLUTION: Products to be molded which are formed on a substrate 2 and whose position of gate runner 11 of molded products is covered with adhesive tape 9 are carried into a mold 1 and are clamped. Sealing resin is fed by pressure into the gap between the semiconductor chips 5 and the substrate 2 through mold gate runner 10 formed on the adhesive tape 9 for performing molding with underfill.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する利用分野】本発明は、半導体チップが基
板上フリップチップ接続によりマトリクス状に配置され
た被成形品をモールド金型によりクランプし、半導体チ
ップと基板との隙間部分を含むキャビティに封止樹脂を
圧送して樹脂封止するマトリクスパッケージの樹脂封止
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for clamping a molded product having semiconductor chips arranged in a matrix by flip-chip connection on a substrate by a mold, and sealing the molded product in a cavity including a gap between the semiconductor chip and the substrate. The present invention relates to a method of sealing a matrix package in which a sealing resin is pressure-fed to seal the resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップを基板にフリップチップ接
続した後、該半導体チップと基板との接合部を保護する
と共に両者間の熱応力による影響を緩和するため、所謂
アンダーフィルモールドが行われている。このアンダー
フィルモールドは、半導体チップの一辺又は二辺に相当
する周囲にポッティングにより液状樹脂を垂らして基板
を傾けることにより、毛細管現象により半導体チップと
基板との隙間に樹脂を注入し、加熱硬化させて樹脂封止
するものである。
2. Description of the Related Art After a semiconductor chip is flip-chip connected to a substrate, a so-called underfill mold is used to protect the junction between the semiconductor chip and the substrate and to reduce the influence of thermal stress between the two. . In this underfill mold, a liquid resin is dropped by potting around a side corresponding to one side or two sides of a semiconductor chip to incline the substrate, thereby injecting the resin into a gap between the semiconductor chip and the substrate by a capillary phenomenon and heating and curing. And resin sealing.

【0003】また、半導体チップと基板との隙間が狭小
化して液状樹脂に気泡が生じ易く、樹脂にフィラーなど
を含有するため流れ性が悪く成形品質が不安定になり易
いこと、成形に時間がかかり生産効率が低く、更にはポ
ッティング樹脂が高価であるなどの理由から、本件出願
人は、ポッティング法に替えてトランスファー成形法に
よりアンダーフィルモールドを行う樹脂封止方法及び樹
脂封止装置を提案した(特開平11−274197号公
報参照)。
In addition, the gap between the semiconductor chip and the substrate is narrowed, so that bubbles are easily generated in the liquid resin, and since the resin contains a filler or the like, the flowability is poor and the molding quality tends to be unstable. The present applicant has proposed a resin sealing method and a resin sealing device in which underfill molding is performed by transfer molding instead of the potting method because the production efficiency is low and the potting resin is expensive. (See JP-A-11-274197).

【0004】この方法は、半導体チップがフリップチッ
プされた基板(被成形品)を下型へセットし、基板上及
び樹脂路を覆うリリースフイルムを上下金型面に各々吸
着させて、ポットに樹脂タブレットを投入する。そし
て、モールド金型を型閉じして被成形品をクランプし
て、樹脂タブレットを加熱溶融させながらプランジャに
より圧送りして樹脂封止するものである。この場合、半
導体チップと基板との隙間部分へのアンダーフィルモー
ルドを確実に行うため、半導体チップの両側面部(アン
ダーフィル部への樹脂充填方向に対して両側部)にサイ
ドブロックを設けて、該サイドブロックを予めキャビテ
ィ凹部内へ突出させてリリースフィルムを基板上に押さ
えてアンダーフィルモールドを行い、樹脂が半導体チッ
プの下流側より流出する際にサイドブロックを退避させ
て半導体チップの残る両側面部を樹脂封止するようにな
っている。
In this method, a substrate (molded product) on which a semiconductor chip is flip-chip mounted is set on a lower mold, and a release film covering the substrate and the resin path is adsorbed to upper and lower mold surfaces, respectively, and the resin is placed in a pot. Insert the tablet. Then, the mold is closed, the molded object is clamped, and the resin tablet is heated and melted, and is pressure-fed by a plunger to seal the resin. In this case, in order to reliably perform underfill molding in the gap between the semiconductor chip and the substrate, side blocks are provided on both side surfaces of the semiconductor chip (both sides in the resin filling direction of the underfill portion). The side block is projected into the cavity recess in advance, the release film is pressed onto the substrate, and underfill molding is performed. When the resin flows out from the downstream side of the semiconductor chip, the side block is retracted and the remaining side surfaces of the semiconductor chip are removed. It is designed to be sealed with resin.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】特開平11−2741
97号公報に開示されている樹脂封止方法及び樹脂封止
装置は、1の樹脂タブレットで1の金型キャビティ若し
くは2の金型キャビティへ樹脂を供給して樹脂封止して
いるため、半導体チップがマトリクス配置されている場
合には生産性が低下する。また、半導体チップを含む全
体を覆う上リリースフィルムと基板上に樹脂が付着する
のを防止するための樹脂路を覆う下リリースフィルムが
存在している。このため、被成形品をモールド金型にセ
ットした後、下リリースフィルムをモールド金型にセッ
トし、樹脂タブレットを上下リリースフィルム間でモー
ルド金型にセットし、更に上リリースフィルムをセット
するという複雑なセットを自動化機構が行わなければな
らない。同様に成形後の成形品の取り出しも複雑な自動
化機構を要する。また、成形品を取り出す場合、成形品
は一番下側にあるため、何時どのようにしてゲートブレ
イクするか、また、上下リリースフィルムを取り去った
後でないと成形品を取り出すことができないため、何時
モールド金型より取り出すか、更には上下リリースフィ
ルム間には不要樹脂があるため、何時どのようにして不
要樹脂を取り出すかが非常に難しい。仮にゲートブレイ
クせずにリリースフィルムと成形品を同時にモールド金
型の外へ取り出した場合には、搬送時に成形品がモール
ド金型内に落下するおそれがある。また、仮にモールド
金型内でゲートブレイクしようとすると、成形品を上下
で挟んだ後にゲートブレイクさせる機構が必要になり、
該ゲートブレイク機構が複雑になる。何れの方法を用い
ても、上下リリースフィルムと不要樹脂及び成形品の取
り出しがうまく行かない。
Problems to be Solved by the Invention
In the resin sealing method and the resin sealing apparatus disclosed in Japanese Patent Publication No. 97, a resin is supplied to one mold cavity or two mold cavities by one resin tablet to perform resin sealing, and thus the semiconductor is sealed. When the chips are arranged in a matrix, the productivity decreases. Further, there is an upper release film covering the whole including the semiconductor chip and a lower release film covering the resin path for preventing the resin from adhering to the substrate. For this reason, after setting the molded article in the mold, the lower release film is set in the mold, the resin tablet is set in the mold between the upper and lower release films, and the upper release film is set. A complete set must be made by the automation mechanism. Similarly, removal of a molded product after molding requires a complicated automatic mechanism. Also, when removing a molded product, since the molded product is at the bottom, how and when to break the gate, and because the molded product can only be removed after removing the upper and lower release films, It is very difficult to remove the unnecessary resin from the mold or when and how to remove the unnecessary resin because there is unnecessary resin between the upper and lower release films. If the release film and the molded product are taken out of the mold at the same time without gate break, the molded product may fall into the mold during transportation. Also, if you try to break the gate in the mold, you need a mechanism to break the gate after sandwiching the molded product up and down,
The gate break mechanism becomes complicated. Either method does not work well to remove the upper and lower release films, unnecessary resin and molded products.

【0006】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決し、半導体チップがマトリクス配置でフリップチップ
実装されたパッケージをアンダーフィルモールドする際
の生産性を向上させしかも成形品より不要樹脂を分離し
易くしたマトリクスパッケージの樹脂封止方法を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, to improve the productivity of underfill molding a package in which semiconductor chips are mounted in a flip-chip manner in a matrix arrangement, and to separate unnecessary resin from a molded product. It is an object of the present invention to provide a matrix package resin sealing method which is easy to perform.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は次の構成を備える。即ち、半導体チップが
基板上にフリップチップ接続によりマトリクス状に配置
された被成形品をモールド金型によりクランプし、半導
体チップと基板との隙間部分を含むキャビティに封止樹
脂を圧送して樹脂封止するマトリクスパッケージの樹脂
封止方法において、基板上に形成される成形品ゲートラ
ンナ位置がマスク材により覆われた被成形品をモールド
金型内に搬入してクランプし、マスク材上に形成された
金型ゲートランナを介して半導体チップと基板との隙間
部分へ封止樹脂を圧送りしてアンダーフィルモールドを
行うことを特徴とする。また、半導体チップを収容する
キャビティ凹部及び該キャビティ凹部に連通する樹脂路
を含む上型面をリリースフィルムにより覆って上型及び
下型により被成形品をクランプしてマスク材とリリース
フィルムとの間に形成される金型ランナを介してアンダ
ーフィルモールドを行うことを特徴とする。また、金型
ランナより各キャビティ内の半導体チップと基板との隙
間部分及び半導体チップの周囲を樹脂封止することを特
徴とする。また、半導体チップのゲート側に対して両側
面部で上型に設けられた可動ブロックを予めキャビティ
凹部内へ突出させリリースフィルムを基板上に押接して
アンダーフィルモールドを行い、可動ブロックを退避さ
せて半導体チップの両側面部を樹脂封止することを特徴
とする。また、金型ランナーより各キャビティ内の半導
体チップと基板との隙間部分及び半導体チップの周囲を
樹脂封止することを特徴とする。また、マスク材は、基
板面に幅方向に粘着テープを粘着させて樹脂封止される
か、基板面に幅方向に金属めっきが形成されて樹脂封止
されることを特徴とする。
To solve the above-mentioned problems, the present invention has the following arrangement. That is, a molded product in which a semiconductor chip is arranged in a matrix on a substrate by flip-chip connection is clamped by a mold, and the sealing resin is pressure-fed to a cavity including a gap between the semiconductor chip and the substrate to seal the resin. In the resin sealing method of the matrix package to be stopped, a molded product whose gate runner position formed on a substrate is covered with a mask material is carried into a mold die, clamped, and formed on the mask material. Underfill molding by pressure-feeding the sealing resin to a gap between the semiconductor chip and the substrate via the mold gate runner. Further, the upper mold surface including the cavity recess accommodating the semiconductor chip and the resin path communicating with the cavity recess is covered with a release film, and the molded article is clamped by the upper mold and the lower mold to form a gap between the mask material and the release film. The underfill mold is performed via a mold runner formed in the mold. In addition, the gap between the semiconductor chip and the substrate in each cavity and the periphery of the semiconductor chip are sealed with a resin by a mold runner. Also, the movable block provided in the upper mold on both sides with respect to the gate side of the semiconductor chip is projected in advance into the cavity recess, the release film is pressed against the substrate, and underfill molding is performed, and the movable block is retracted. The semiconductor device is characterized in that both side surfaces of the semiconductor chip are sealed with resin. In addition, the gap between the semiconductor chip and the substrate in each cavity and the periphery of the semiconductor chip are sealed with a resin by a mold runner. Further, the mask material is characterized in that it is sealed with a resin by adhering an adhesive tape to the substrate surface in the width direction, or is resin-sealed by forming metal plating in the width direction on the substrate surface.

【0008】また、他の手段としては、半導体チップが
基板上にマトリクス状にフリップチップ接続された被成
形品をモールド金型によりクランプし、半導体チップと
基板との隙間部分を含むキャビティに封止樹脂を圧送し
て樹脂封止するマトリクスパッケージの樹脂封止方法に
おいて、被成形品をモールド金型内に搬入してクランプ
し、基板上に形成された金型ゲートランナを介して半導
体チップと基板との隙間部分へ封止樹脂を圧送りしてア
ンダーフィルモールドを行うと共に基板を横切る成形品
ゲートランナを該基板上に残したまま樹脂封止を行うこ
とを特徴とする。また、半導体チップを収容するキャビ
ティ凹部及び該キャビティ凹部に連通する樹脂路を含む
上型面をリリースフィルムにより覆って上型及び下型に
より被成形品をクランプして基板とリリースフィルムと
の間に形成される金型ゲートランナを介してアンダーフ
ィルモールドを行うことを特徴とする。また、金型ゲー
トランナより各キャビティ内の半導体チップと基板との
隙間部分及び半導体チップの周囲を樹脂封止することを
特徴とする。また、半導体チップのゲート側に対して両
側面部で上型に設けられた可動ブロックを予めキャビテ
ィ凹部内へ突出させリリースフィルムを基板上に押接し
てアンダーフィルモールドを行い、可動ブロックを退避
させて半導体チップの両側面部を樹脂封止することを特
徴とする。
[0008] As another means, a molded product in which a semiconductor chip is flip-chip connected in a matrix on a substrate is clamped by a mold and sealed in a cavity including a gap between the semiconductor chip and the substrate. In a resin sealing method for a matrix package in which resin is fed by resin feeding and sealing, a molded article is carried into a mold die and clamped, and the semiconductor chip and the substrate are passed through a die gate runner formed on the substrate. Underfill molding by pressure-feeding a sealing resin to a gap between the substrate and the resin sealing while leaving a molded product gate runner crossing the substrate on the substrate. In addition, the upper mold surface including the cavity recess accommodating the semiconductor chip and the resin path communicating with the cavity recess is covered with a release film, and the molded article is clamped by the upper mold and the lower mold to form a gap between the substrate and the release film. Underfill molding is performed via a mold gate runner to be formed. In addition, the gap between the semiconductor chip and the substrate in each cavity and the periphery of the semiconductor chip are resin-sealed by the mold gate runner. Also, the movable block provided in the upper mold on both sides with respect to the gate side of the semiconductor chip is projected in advance into the cavity recess, the release film is pressed against the substrate, and underfill molding is performed, and the movable block is retracted. The semiconductor device is characterized in that both side surfaces of the semiconductor chip are sealed with resin.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るマトリクスパ
ッケージの樹脂封止方法の好適な実施の形態について添
付図面と共に詳述する。 [第1実施例]図1(a)(b)(c)はリリースフィ
ルムを用いたモールド金型にクランプされた被成形品の
上視図、矢印X−X及びY−Y方向断面図、図2(a)
(b)は樹脂封止後の成形品の上視図及び断面図、図3
(a)(b)はリリースフィルムを省略した樹脂封止後
の成形品の上視図及び断面図、図4(a)(b)はゲー
トブレイク後の成形品の上視図及び断面図、図5(a)
(b)(c)は成形品を個片に分離する際の切断ライン
及び切断方法を示す説明図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a matrix package resin sealing method according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. [First Embodiment] FIGS. 1A, 1B, and 1C are top views of a molded product clamped in a mold using a release film, sectional views in the directions of arrows XX and YY, FIG. 2 (a)
(B) is a top view and a sectional view of a molded product after resin sealing, FIG.
4A and 4B are a top view and a cross-sectional view of a molded product after resin sealing without a release film, and FIGS. 4A and 4B are a top view and a cross-sectional view of a molded product after a gate break. FIG. 5 (a)
(B) and (c) are explanatory views showing a cutting line and a cutting method when a molded product is separated into individual pieces.

【0010】先ず、本発明に係るマトリクスパッケージ
の樹脂封止方法を用いて樹脂封止を行う樹脂封止装置の
概略構成について説明する。図1(b)において、1は
モールド金型であり、基板2を載置する下型3と、樹脂
路が形成された上型4とを備えている。上型4には、基
板2にフリップチップ接続された半導体チップ5を収容
するキャビティ凹部6、該キャビティ凹部6に連通する
金型ゲートランナ7などの樹脂路が形成されている。被
成形品は、半導体チップ5をバンプ又ははんだボールな
どの接続端子5aを介してフリップチップ接続された基
板2が用いられる。基板2としては、エポキシ系樹脂基
板、ポリイミド系樹脂基板、BT(Bismaleimide・Tria
zine)基板の他にセラミックス基板なども用いられる。
また、基板2は、単層基板でも多層基板のいずれでも良
い。また、下型3には図示しないプランジャを内臓した
ポットが設けられている。
First, a schematic configuration of a resin sealing apparatus for performing resin sealing using the method of sealing a matrix package according to the present invention will be described. In FIG. 1B, reference numeral 1 denotes a molding die, which includes a lower die 3 on which a substrate 2 is placed and an upper die 4 in which a resin path is formed. The upper mold 4 is provided with a cavity 6 for accommodating the semiconductor chip 5 flip-chip connected to the substrate 2, and a resin path such as a mold gate runner 7 communicating with the cavity 6. The substrate 2 to which the semiconductor chip 5 is flip-chip connected via connection terminals 5a such as bumps or solder balls is used as a molded article. As the substrate 2, an epoxy resin substrate, a polyimide resin substrate, BT (Bismaleimide
In addition to the zine) substrate, a ceramic substrate or the like is also used.
Further, the substrate 2 may be a single-layer substrate or a multilayer substrate. The lower die 3 is provided with a pot containing a plunger (not shown).

【0011】8はリリースフィルムであり、上型4のキ
ャビティ凹部7及び該キャビティ凹部6に連通する樹脂
路(金型ゲートランナ7、金型カルなど)を覆い、半導
体チップ5及び基板2の上面を露出させて樹脂封止す
る。リリースフィルム8は、モールド金型1の加熱温度
に耐えられる耐熱性を有するもので、金型面より容易に
剥離するものであって、柔軟性、伸展性を有するフィル
ム材、例えば、PTFE、ETFE、PET、FEP、
フッ素含浸ガラスクロス、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニリジン等が好適に用いられる。リリースフィルム8
は、上型4のパーティング面に形成された図示しない吸
着穴よりエアーを吸引することで、吸着保持される。リ
リースフィルム8は、リール間に巻回された長尺状のも
のをリリースフィルム供給機構(図示せず)により連続
してモールド金型1へ供給するようになっていても、或
いは予め短冊状に切断されたものを用いても良い。尚、
リリースフィルム8は、図3(a)(b)に示すよう
に、省略することも可能である。
Reference numeral 8 denotes a release film which covers the cavity recess 7 of the upper mold 4 and a resin path (mold gate runner 7, mold cull, etc.) communicating with the cavity recess 6, and upper surfaces of the semiconductor chip 5 and the substrate 2. Is exposed and resin sealing is performed. The release film 8 has heat resistance enough to withstand the heating temperature of the mold 1, is easily peeled from the mold surface, and has flexibility and extensibility such as PTFE and ETFE. , PET, FEP,
Fluorine impregnated glass cloth, polypropylene, polyvinylidene chloride and the like are preferably used. Release film 8
Is sucked and held by sucking air from a suction hole (not shown) formed on the parting surface of the upper mold 4. The release film 8 may be continuously supplied to the mold 1 by a release film supply mechanism (not shown) in a long form wound between reels, or may be previously formed into a strip shape. Cut pieces may be used. still,
As shown in FIGS. 3A and 3B, the release film 8 can be omitted.

【0012】下型3には、図示しない突出ピンが設けら
れており、その先端部が基板2より上方に突出してい
る。また、上型4には、突出ピンに対向する位置に挿入
穴が設けられている。モールド金型1をクランプする際
に、突出ピンがリリースフィルム8を挿入穴に若干押し
込んでリリースフィルム8の皺やたるみを矯正するよう
になっている。また、樹脂封止装置は、例えば下型3を
電動モータによりトグル機構などを用いて上下動させて
モールド金型1を開閉する公知の型開閉機構、ポットよ
り樹脂路を経て封止樹脂をキャビティへ圧送するトラン
スファ機構などが装備されている。
The lower die 3 is provided with a projecting pin (not shown), and the tip of the projecting pin projects above the substrate 2. The upper die 4 is provided with an insertion hole at a position facing the protruding pin. When the mold 1 is clamped, the projecting pins slightly push the release film 8 into the insertion holes to correct wrinkles and slack of the release film 8. Further, the resin sealing device is, for example, a known mold opening / closing mechanism for moving the lower mold 3 up and down by an electric motor using a toggle mechanism or the like to open and close the mold 1. It is equipped with a transfer mechanism for pressure-feeding.

【0013】また、半導体チップ5がマトリクス状に搭
載された基板2上に幅方向に形成される成形品ゲートラ
ンナ位置は、マスク材により覆われている。マスク材と
しては、図1(a)(b)及び図2(a)(b)に示す
ように、耐熱性の粘着テープ(例えばポリイミドテープ
など)9が好適に用いられる。この粘着テープ9上に金
型ゲートランナ7が配設され、該金型ゲートランナ7の
両側に金型ゲート12が形成されて両側のキャビティへ
封止樹脂10が供給される。このため、粘着テープ9は
基板2上に1列おきに幅方向に形成されている。
Further, the position of a molded product gate runner formed in the width direction on the substrate 2 on which the semiconductor chips 5 are mounted in a matrix is covered with a mask material. As the mask material, as shown in FIGS. 1A and 1B and FIGS. 2A and 2B, a heat-resistant adhesive tape (for example, polyimide tape) 9 is suitably used. A mold gate runner 7 is provided on the adhesive tape 9, mold gates 12 are formed on both sides of the mold gate runner 7, and a sealing resin 10 is supplied to the cavities on both sides. For this reason, the adhesive tape 9 is formed on the substrate 2 every other row in the width direction.

【0014】樹脂封止方法について説明すると、図1
(a)(b)に示すように、上型4の半導体チップ5を
収容するキャビティ凹部6、該キャビティ凹部6に連通
する樹脂路を含む上型面にリリースフィルム8を吸着保
持しておく。そして、半導体チップ5をフリップチップ
接続され、成形品ゲートランナ位置に粘着テープ9が粘
着された基板2をモールド金型1の下型3上に搬入す
る。また、ポットに樹脂タブレットを投入して図示しな
い型開閉機構を作動させてモールド金型1をクランプす
る。そして、図示しないトランスファ機構を作動させ
て、プランジャを上昇させ、図2(a)(b)に示すよ
うに基板2の粘着テープ9とリリースフィルム8との間
に形成された金型ゲートランナ(樹脂路)7を経てキャ
ビティへ封止樹脂10を圧送りする。
FIG. 1 shows a resin sealing method.
(A) As shown in (b), the release film 8 is held by suction at the cavity concave portion 6 accommodating the semiconductor chip 5 of the upper mold 4 and the upper mold surface including the resin path communicating with the cavity concave portion 6. Then, the substrate 2 to which the semiconductor chip 5 is flip-chip connected and the adhesive tape 9 is adhered at the position of the molded product gate runner is carried into the lower mold 3 of the mold 1. Further, a resin tablet is put into the pot, and a mold opening / closing mechanism (not shown) is operated to clamp the mold 1. Then, the transfer mechanism (not shown) is operated to raise the plunger, and as shown in FIGS. 2A and 2B, the mold gate runner (formed between the adhesive tape 9 and the release film 8 of the substrate 2). The sealing resin 10 is pressure-fed to the cavity via the resin path) 7.

【0015】このとき、図2(a)(b)に示すよう
に、金型ゲートランナ7より両側にマトリクス配置され
た各キャビティ内の半導体チップ5と基板2との隙間部
分から半導体チップ5の周囲へ封止樹脂10を圧送りし
てアンダーフィルモールドを行う。尚、予め上型4の半
導体チップ5のゲート側に対して両側面部位置に可動ブ
ロック22を設け(図1(a)(c)参照)、該可動ブ
ロック22をキャビティ凹部6内へ突出させてリリース
フィルム8を基板2上に押接した状態にすることによ
り、半導体チップ5と基板2との隙間部分へ優先的に封
止樹脂10を圧送りしてアンダーフィルモールドを行う
ようにしても良い。この場合には、封止樹脂10が半導
体チップ5のゲート側から下流側に到達すると、可動ブ
ロック22を上方に退避させて樹脂封止を行う。可動ブ
ロック22を基板2より退避させるタイミングは、少な
くともアンダーフィル部に封止樹脂10が充填されると
同時若しくはそれ以降であるのが望ましい。
At this time, as shown in FIGS. 2A and 2B, the semiconductor chip 5 is removed from the gap between the semiconductor chip 5 and the substrate 2 in each cavity arranged in a matrix on both sides of the mold gate runner 7. The underfill mold is performed by feeding the sealing resin 10 to the surroundings. In addition, movable blocks 22 are provided in advance on both sides of the gate side of the semiconductor chip 5 of the upper die 4 (see FIGS. 1A and 1C), and the movable blocks 22 are projected into the cavity recesses 6. By setting the release film 8 in a state of being pressed against the substrate 2, the underfill molding may be performed by preferentially feeding the sealing resin 10 to the gap between the semiconductor chip 5 and the substrate 2. . In this case, when the sealing resin 10 reaches the downstream side from the gate side of the semiconductor chip 5, the movable block 22 is retracted upward to perform resin sealing. It is desirable that the movable block 22 be retracted from the substrate 2 at the same time as or after the sealing resin 10 is filled in at least the underfill portion.

【0016】図2(a)(b)に示すように、成形品は
アンダーフィル部に接続する成形品ゲートランナ11を
基板2の粘着テープ9上に残したまま樹脂成形される。
成形品ゲートランナ11は、各金型ゲート12の位置で
樹脂路断面が絞られて形成されているので、ゲートブレ
イクが定位置で容易に行われる。また、金型ゲート12
の絞り位置は、粘着テープ9の両側幅サイズと一致する
ようになっている。これは、粘着テープ9の剥離と同時
に成形品ゲートランナ11をゲートブレイクして除去す
るためである。
As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the molded product is molded with the resin while the molded product gate runner 11 connected to the underfill portion is left on the adhesive tape 9 of the substrate 2.
Since the molded product gate runner 11 is formed by narrowing the cross section of the resin path at the position of each mold gate 12, the gate break can be easily performed at a fixed position. Also, the mold gate 12
Is set to match the size of the width of both sides of the adhesive tape 9. This is because the molded product gate runner 11 is removed by gate breaking simultaneously with the peeling of the adhesive tape 9.

【0017】次に、図4(a)(b)において、基板2
のポットと幅方向反対側の端部から粘着テープ9を剥ぎ
取る。このとき、粘着テープ9上に残存する成形品ゲー
トランナ11は金型ゲート12の位置に剪断応力が作用
してゲートブレイクし、粘着テープ9と共に除去され
る。また、粘着テープ9の剥離により成形品ゲートラン
ナ11は成形品カル13と分離されて除去されても良い
し一体となって除去されても良い。
Next, referring to FIGS. 4A and 4B, the substrate 2
The adhesive tape 9 is peeled off from the end of the pot opposite to the width direction. At this time, the molded product gate runner 11 remaining on the adhesive tape 9 is subjected to a shear stress at the position of the mold gate 12 to cause a gate break, and is removed together with the adhesive tape 9. Further, the molded product gate runner 11 may be separated and removed from the molded product cull 13 by the peeling of the adhesive tape 9, or may be removed integrally.

【0018】次に、図5(a)(b)において、ダイシ
ングソー14により各パッケージを有する基板2をマト
リクス状に切断して個片に分離する。また、図5(c)
に示すように基板2の切断位置に予めミシン目15aが
マトリクス状に形成されていたり、或いは基板2の切断
位置に予め片側若しくは両側にノッチ15bが形成され
ていても良い。
Next, in FIGS. 5A and 5B, the substrate 2 having each package is cut into a matrix by a dicing saw 14 and separated into individual pieces. FIG. 5 (c)
As shown in FIG. 7, perforations 15a may be formed in a matrix at the cutting position of the substrate 2 in advance, or notches 15b may be formed at one or both sides of the cutting position of the substrate 2 in advance.

【0019】上記樹脂封止方法によれば、マトリクスパ
ッケージを一括してトランスファー成形できるので、ポ
ッティングに比べてボイドが発生し難く成形品質を向上
させると共に生産性を向上できる。また、基板2上に形
成される成形品ゲートランナ11の位置を粘着テープ9
により覆って樹脂封止するので、不要樹脂のゲートブレ
イクが簡易な機構で行え、しかも粘着テープ9の剥離と
共に除去できるので、ゲートブレイク及びスクラップの
除去が容易に行える。
According to the resin encapsulation method, since the matrix package can be collectively transfer-molded, voids are less likely to occur than in potting, so that molding quality can be improved and productivity can be improved. The position of the molded product gate runner 11 formed on the substrate 2 is
And resin sealing, the gate break of the unnecessary resin can be performed by a simple mechanism, and can be removed together with the peeling of the adhesive tape 9, so that the gate break and the scrap can be easily removed.

【0020】[第2実施例]次に、マトリクスパッケー
ジの樹脂封止方法の他例について図6(a)(b)乃至
図10を参照して説明する。尚、前述した樹脂封止方法
の説明で用いた同一部材には、同一番号を付して説明を
援用する。図6(a)(b)において、基板2上に形成
される成形品ゲートランナ位置にはマスク材として例え
ば金めっき16が幅方向に形成されている。この金めっ
き16上には金型ゲートランナ7が配設され、該金型ゲ
ートランナ7の両側に金型ゲート12が形成されて両側
のキャビティへ封止樹脂10が供給される。このため、
金めっき16は基板2上に1列おきに幅方向に形成され
ている。
[Second Embodiment] Next, another example of a method for sealing a matrix package with a resin will be described with reference to FIGS. The same members used in the description of the resin sealing method described above are given the same reference numerals, and the description is used. In FIGS. 6A and 6B, for example, gold plating 16 is formed in the width direction as a mask material at the position of the gate runner of the molded product formed on the substrate 2. A mold gate runner 7 is provided on the gold plating 16. Mold gates 12 are formed on both sides of the mold gate runner 7, and the sealing resin 10 is supplied to cavities on both sides. For this reason,
The gold plating 16 is formed on the substrate 2 every other row in the width direction.

【0021】或いは図7(a)(b)に示すように、特
にマスク材を設けることなく、基板材2上に形成された
金型ゲートランナ7を介して半導体チップ5と基板2と
の隙間部分へ封止樹脂10を圧送りしてアンダーフィル
モールドを行うと共に基板2を横切る成形品ゲートラン
ナ11を該基板2上に残したまま樹脂封止を行うように
しても良い。また、半導体チップ5を収容するキャビテ
ィ凹部6及び該キャビティ凹部6に連通する樹脂路を含
む上型面をリリースフィルム8により覆って上型4及び
下型3により被成形品をクランプして基板とリリースフ
ィルムとの間に形成される金型ゲートランナ7を介して
アンダーフィルモールドを行っても良い。また、半導体
チップ5のゲート側に対して両側面部で上型4に可動ブ
ロック22を設けて、該可動ブロック22を予めキャビ
ティ凹部内へ突出させリリースフィルム8を基板2上に
押接してアンダーフィルモールドを行い、可動ブロック
22を退避させて半導体チップの両側面部を樹脂封止す
るようにしても良い。
Alternatively, as shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), the gap between the semiconductor chip 5 and the substrate 2 through the mold gate runner 7 formed on the substrate 2 without providing a mask material. The underfill molding may be performed by pressure-feeding the sealing resin 10 to the portion, and the resin sealing may be performed while the molded product gate runner 11 traversing the substrate 2 is left on the substrate 2. Also, the upper mold surface including the cavity concave portion 6 for accommodating the semiconductor chip 5 and the resin path communicating with the cavity concave portion 6 is covered with the release film 8 and the molded object is clamped by the upper mold 4 and the lower mold 3 so as to form a substrate. The underfill molding may be performed via a mold gate runner 7 formed between the mold and the release film. Also, a movable block 22 is provided on the upper die 4 on both sides with respect to the gate side of the semiconductor chip 5, the movable block 22 is protruded in advance into the cavity concave portion, and the release film 8 is pressed against the substrate 2 to underfill. The molding may be performed, and the movable block 22 may be retracted to seal both sides of the semiconductor chip with resin.

【0022】樹脂封止方法は前述した実施例の樹脂封止
方法と同様であるが、図8(a)(b)に示すように、
樹脂封止後、成形品ゲートランナ11と基板端より分離
した後、成形品ゲートランナ11を基板2上に残したま
ま、ダンシングソー14により基板2若しくは基板2及
び成形品ゲートランナ11ごと切断して個片に分離す
る。また、基板2の切断位置に予めミシン目15aがマ
トリクス状に形成されていたり、或いは基板2の切断位
置に予め片側若しくは両側にノッチ15bが形成されて
いても良い。尚、第1実施例と第2実施例の2つを同時
に使用しても良い。例えば、半導体チップ直近に金属め
っきをし、該金属めっき部分に僅かに重なるように粘着
テープを貼り付けても良い。
The resin encapsulation method is the same as the resin encapsulation method of the above-described embodiment, but as shown in FIGS.
After the resin sealing, the molded product gate runner 11 and the molded product gate runner 11 are separated from the end of the substrate, and then the substrate 2 or the substrate 2 and the molded product gate runner 11 are cut by the dancing saw 14 while the molded product gate runner 11 is left on the substrate 2. To separate into pieces. Further, perforations 15a may be formed in a matrix at the cutting position of the substrate 2 in advance, or notches 15b may be formed at one or both sides of the cutting position of the substrate 2 in advance. The first embodiment and the second embodiment may be used simultaneously. For example, metal plating may be performed immediately adjacent to the semiconductor chip, and an adhesive tape may be attached so as to slightly overlap the metal plated portion.

【0023】また、本実施例の半導体パッケージ17
は、図9(a)(b)に示すように半導体チップ5と基
板2との隙間部分及び半導体チップ5の周囲を樹脂封止
するようになっている。半導体チップ5の周囲にはアン
ダーフィル部より高くチップの高さより低い高さで鍔状
封止部18が形成されている。また、半導体パッケージ
の他例として、図10に示すように半導体チップ5の周
囲にチップの高さと同程度の高さの樹脂封止部19が形
成されていても良い。この樹脂封止部19の周縁部の高
さはチップの高さより若干高くなるよう樹脂成形され
る。即ち、チップ上面に成形品凹部20を形成するよう
に樹脂封止するようにしたものである。半導体チップ5
の上面には樹脂封止後に放熱板21が接着される。この
とき、樹脂封止部19に形成された成形品凹部20に接
着剤が塗布されて放熱板が貼り合わされる。このよう
に、半導体チップ5の上面に放熱板21を接着するた
め、半導体チップ5の周囲を封止する樹脂封止部19に
成形品凹部20を形成することにより、放熱板を接着す
る接着剤層の厚さを樹脂封止部19で吸収できるため、
パッケージの高さを低く抑えることができる。
The semiconductor package 17 of this embodiment is
As shown in FIGS. 9A and 9B, the gap between the semiconductor chip 5 and the substrate 2 and the periphery of the semiconductor chip 5 are resin-sealed. A flange-shaped sealing portion 18 is formed around the semiconductor chip 5 at a height higher than the underfill portion and lower than the height of the chip. As another example of the semiconductor package, as shown in FIG. 10, a resin sealing portion 19 having a height substantially equal to the height of the semiconductor chip 5 may be formed around the semiconductor chip 5. The resin is molded so that the height of the peripheral portion of the resin sealing portion 19 is slightly higher than the height of the chip. That is, resin molding is performed so as to form the molded product concave portion 20 on the upper surface of the chip. Semiconductor chip 5
A heat radiating plate 21 is bonded to the upper surface after resin sealing. At this time, an adhesive is applied to the molded product concave portion 20 formed in the resin sealing portion 19 and the heat radiating plate is bonded. As described above, in order to bond the heat radiating plate 21 to the upper surface of the semiconductor chip 5, an adhesive for bonding the heat radiating plate is formed by forming the molded product concave portion 20 in the resin sealing portion 19 that seals the periphery of the semiconductor chip 5. Since the thickness of the layer can be absorbed by the resin sealing portion 19,
The height of the package can be kept low.

【0024】以上本発明の好適な実施例について種々述
べてきたが、樹脂封止方法は上述した各実施例に限定さ
れるのではなく、例えば基板上に形成されるマスク材の
材質やレイアウトは任意であり、ゲート位置のレイアウ
トも任意である。また、粘着テープの両側半導体チップ
を同時に樹脂封止する場合を例に挙げたが粘着テープの
片側のみの半導体チップ配置でも同様に樹脂封止するこ
とが可能である等、発明の精神を逸脱しない範囲で多く
の改変を施し得るのはもちろんである。
Although various preferred embodiments of the present invention have been described above, the resin sealing method is not limited to each of the above-described embodiments. For example, the material and layout of the mask material formed on the substrate are not limited. It is optional, and the layout of the gate position is also optional. Also, the case where the semiconductor chips on both sides of the adhesive tape are simultaneously sealed with resin has been described as an example. However, the semiconductor chip can be similarly sealed even with the semiconductor chip arrangement on only one side of the adhesive tape, and the spirit of the invention is not deviated. Of course, many modifications can be made within the scope.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明に係る、マトリクスパッケージの
樹脂封止方法によれば、マトリクスパッケージを一括し
てトランスファー成形できるので、ポッティングに比べ
てボイドが発生し難く成形品質を向上させると共に生産
性を向上できる。また、基板上に形成される成形品ゲー
トランナの位置をマスク材により覆って樹脂封止する場
合には、不要樹脂のゲートブレイクが簡易に行え、スク
ラップの除去が容易に行える。
According to the resin sealing method of the matrix package according to the present invention, since the matrix package can be collectively transfer-molded, voids are hardly generated as compared with potting, and the molding quality is improved and the productivity is improved. Can be improved. When the position of the molded product gate runner formed on the substrate is covered with a mask material and sealed with resin, gate break of unnecessary resin can be easily performed, and scrap can be easily removed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施例に係るリリースフィルムを用いたモ
ールド金型にクランプされた被成形品の上視図、矢印X
−X及びY−Y方向断面図である。
FIG. 1 is a top view of a molded product clamped in a mold using a release film according to a first embodiment, and an arrow X.
It is sectional drawing in the -X and YY direction.

【図2】樹脂封止後の成形品の上視図及び断面図であ
る。
FIG. 2 is a top view and a sectional view of a molded product after resin sealing.

【図3】リリースフィルムを省略した樹脂封止後の成形
品の上視図及び断面図である。
FIG. 3 is a top view and a cross-sectional view of a molded product after resin sealing without a release film.

【図4】ゲートブレイク後の成形品の上視図及び断面図
である。
FIG. 4 is a top view and a cross-sectional view of a molded product after a gate break.

【図5】成形品を個片に分離する際の切断ライン及び切
断方法を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a cutting line and a cutting method when a molded product is separated into individual pieces.

【図6】第2実施例に係るモールド金型にクランプされ
た被成形品の上視図及び断面図である。
6A and 6B are a top view and a cross-sectional view of a molded product clamped to a mold according to a second embodiment.

【図7】樹脂封止後の成形品の上視図及び断面図であ
る。
FIG. 7 is a top view and a sectional view of a molded product after resin sealing.

【図8】成形品を個片に分離する際の切断ライン及び切
断方法を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing a cutting line and a cutting method when a molded product is separated into individual pieces.

【図9】半導体パッケージの上視図及び断面図である。FIG. 9 is a top view and a sectional view of a semiconductor package.

【図10】他例に係る半導体パッケージの上視図及び断
面図である。
FIG. 10 is a top view and a cross-sectional view of a semiconductor package according to another example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 モールド金型 2 基板 3 下型 4 上型 5 半導体チップ 6 キャビティ凹部 7 金型ゲートランナ 8 リリースフィルム 9 粘着テープ 10 封止樹脂 11 成形品ゲートランナ 12 金型ゲート 13 成形品カル 14 ダイシングソー 15a ミシン目 15b ノッチ 16 金めっき 17 半導体パッケージ 18 鍔状封止部 19 樹脂封止部 20 成形品凹部 21 放熱板 22 可動ブロック DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mold 2 Mold 3 Substrate 3 Lower mold 4 Upper mold 5 Semiconductor chip 6 Cavity recess 7 Mold gate runner 8 Release film 9 Adhesive tape 10 Sealing resin 11 Mold gate runner 12 Mold gate 13 Mold cal 14 Dicing saw 15a Perforated line 15b Notch 16 Gold plating 17 Semiconductor package 18 Flange-shaped sealing portion 19 Resin sealing portion 20 Mold recess 21 Heat sink 22 Movable block

フロントページの続き Fターム(参考) 4F202 AD02 AD05 AD08 AD35 AH37 CA11 CB01 CB17 CK06 CK25 CM72 CQ05 4F206 AD02 AD05 AD08 AD35 AH37 JA07 JB17 JF05 JL02 JM02 JN32 JQ06 JQ81 5F061 AA01 BA03 CA21 FA06 Continued on the front page F term (reference) 4F202 AD02 AD05 AD08 AD35 AH37 CA11 CB01 CB17 CK06 CK25 CM72 CQ05 4F206 AD02 AD05 AD08 AD35 AH37 JA07 JB17 JF05 JL02 JM02 JN32 JQ06 JQ81 5F061 AA01 BA03 CA21 FA06

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップが基板上にフリップチップ
接続によりマトリクス状に配置された被成形品をモール
ド金型によりクランプし、前記半導体チップと基板との
隙間部分を含むキャビティに封止樹脂を圧送して樹脂封
止するマトリクスパッケージの樹脂封止方法において、 前記基板上に形成される成形品ゲートランナ位置がマス
ク材により覆われた前記被成形品をモールド金型内に搬
入してクランプし、 前記マスク材上に形成された金型ゲートランナを介して
半導体チップと基板との隙間部分へ封止樹脂を圧送りし
てアンダーフィルモールドを行うことを特徴とするマト
リクスパッケージの樹脂封止方法。
1. A molded article having semiconductor chips arranged in a matrix on a substrate by flip-chip connection is clamped by a mold and a sealing resin is pressure-fed to a cavity including a gap between the semiconductor chip and the substrate. In the resin sealing method of a matrix package that performs resin sealing, the molded product gate runner position formed on the substrate is loaded into the mold and covered with the mask material and clamped, A resin sealing method for a matrix package, wherein underfill molding is performed by pressure-feeding a sealing resin to a gap between a semiconductor chip and a substrate via a mold gate runner formed on the mask material.
【請求項2】 前記半導体チップを収容するキャビティ
凹部及び該キャビティ凹部に連通する樹脂路を含む上型
面をリリースフィルムにより覆って上型及び下型により
前記被成形品をクランプして前記マスク材とリリースフ
ィルムとの間に形成される金型ゲートランナを介してア
ンダーフィルモールドを行うことを特徴とする請求項1
記載のマトリクスパッケージの樹脂封止方法。
2. The mask material, wherein an upper mold surface including a cavity recess accommodating the semiconductor chip and a resin path communicating with the cavity recess is covered with a release film and the molded article is clamped by an upper mold and a lower mold. 2. An underfill mold is performed through a mold gate runner formed between the mold and a release film.
The resin sealing method of the matrix package described in the above.
【請求項3】 前記金型ゲートランナより各キャビティ
内の半導体チップと基板との隙間部分及び前記半導体チ
ップの周囲を樹脂封止することを特徴とする請求項1又
は2記載のマトリクスパッケージの樹脂封止方法。
3. The resin for a matrix package according to claim 1, wherein a gap between the semiconductor chip and the substrate in each cavity and a periphery of the semiconductor chip are resin-sealed by the mold gate runner. Sealing method.
【請求項4】 前記半導体チップのゲート側に対して両
側面部で前記上型に設けられた可動ブロックを予めキャ
ビティ凹部内へ突出させ前記リリースフィルムを基板上
に押接してアンダーフィルモールドを行い、前記可動ブ
ロックを退避させて前記半導体チップの両側面部を樹脂
封止することを特徴とする請求項1、2又は3記載のマ
トリクスパッケージの樹脂封止方法。
4. An underfill mold is formed by projecting a movable block provided on the upper mold into a cavity recess in advance on both sides of a gate side of the semiconductor chip and pressing the release film against a substrate; 4. The method according to claim 1, wherein the movable block is retracted to seal both sides of the semiconductor chip with resin.
【請求項5】 前記マスク材は、前記基板面に幅方向に
粘着テープを粘着させて樹脂封止されることを特徴とす
る請求項1、2、3又は4記載のマトリクスパッケージ
の樹脂封止方法。
5. The resin sealing of a matrix package according to claim 1, wherein the mask material is sealed with a pressure-sensitive adhesive tape on the substrate surface in a width direction. Method.
【請求項6】 前記マスク材は、前記基板面に幅方向に
金属めっきが形成されて樹脂封止されることを特徴とす
る請求項1、2、3又は4記載のマトリクスパッケージ
の樹脂封止方法。
6. The resin encapsulation of a matrix package according to claim 1, wherein said mask material is formed by applying a metal plating in a width direction on said substrate surface and encapsulating with a resin. Method.
【請求項7】 半導体チップが基板上にフリップチップ
接続によりマトリクス状に配置された被成形品をモール
ド金型によりクランプし、前記半導体チップと基板との
隙間部分を含むキャビティに封止樹脂を圧送して樹脂封
止するマトリクスパッケージの樹脂封止方法において、 前記被成形品をモールド金型内に搬入してクランプし、 前記基板上に形成された金型ゲートランナを介して半導
体チップと基板との隙間部分へ封止樹脂を圧送りしてア
ンダーフィルモールドを行うと共に前記基板を横切る成
形品ゲートランナを該基板上に残したまま樹脂封止を行
うことを特徴とするマトリクスパッケージの樹脂封止方
法。
7. A molded product having semiconductor chips arranged in a matrix on a substrate by flip-chip connection is clamped by a mold, and sealing resin is pressure-fed to a cavity including a gap between the semiconductor chip and the substrate. In the resin sealing method of a matrix package, the molded article is carried into a mold and clamped, and the semiconductor chip and the substrate are connected via a mold gate runner formed on the substrate. Resin sealing of a matrix package, wherein underfill molding is performed by pressure-feeding a sealing resin to a gap portion of the matrix package, and resin sealing is performed while a molded product gate runner crossing the substrate is left on the substrate. Method.
【請求項8】 前記半導体チップを収容するキャビティ
凹部及び該キャビティ凹部に連通する樹脂路を含む上型
面をリリースフィルムにより覆って上型及び下型により
前記被成形品をクランプして前記基板とリリースフィル
ムとの間に形成される金型ゲートランナを介してアンダ
ーフィルモールドを行うことを特徴とする請求項7記載
のマトリクスパッケージの樹脂封止方法。
8. An upper mold surface including a cavity recess accommodating the semiconductor chip and a resin path communicating with the cavity recess is covered with a release film, and the molded article is clamped by an upper mold and a lower mold to form the substrate with the substrate. 8. The resin sealing method for a matrix package according to claim 7, wherein underfill molding is performed via a mold gate runner formed between the release film and the mold film.
【請求項9】 前記金型ゲートランナより各キャビティ
内の半導体チップと基板との隙間部分及び前記半導体チ
ップの周囲を樹脂封止することを特徴とする請求項7又
は8記載のマトリクスパッケージの樹脂封止方法。
9. The matrix package resin according to claim 7, wherein a gap between the semiconductor chip and the substrate in each cavity and a periphery of the semiconductor chip are resin-sealed by the mold gate runner. Sealing method.
【請求項10】 前記半導体チップのゲート側に対して
両側面部で前記上型に設けられた可動ブロックを予めキ
ャビティ凹部内へ突出させ前記リリースフィルムを基板
上に押接してアンダーフィルモールドを行い、前記可動
ブロックを退避させて前記半導体チップの両側面部を樹
脂封止することを特徴とする請求項7、8又は9記載の
マトリクスパッケージの樹脂封止方法。
10. A movable block provided on the upper mold at both side portions with respect to a gate side of the semiconductor chip is projected into a cavity recess in advance, and the release film is pressed against a substrate to perform underfill molding. 10. The resin sealing method for a matrix package according to claim 7, wherein the movable block is retracted to seal both sides of the semiconductor chip with resin.
JP2000307634A 2000-10-06 2000-10-06 Resin sealing method for matrix package Pending JP2002118130A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000307634A JP2002118130A (en) 2000-10-06 2000-10-06 Resin sealing method for matrix package

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000307634A JP2002118130A (en) 2000-10-06 2000-10-06 Resin sealing method for matrix package

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002118130A true JP2002118130A (en) 2002-04-19

Family

ID=18788114

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000307634A Pending JP2002118130A (en) 2000-10-06 2000-10-06 Resin sealing method for matrix package

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002118130A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005219297A (en) * 2004-02-04 2005-08-18 Apic Yamada Corp Method and apparatus for molding resin
JP2010177584A (en) * 2009-01-30 2010-08-12 Furukawa Electric Co Ltd:The Method of manufacturing optical module, and optical module manufactured by the method
JP2011104873A (en) * 2009-11-18 2011-06-02 Apic Yamada Corp Mold
CN102468245A (en) * 2010-11-11 2012-05-23 索尼公司 Semiconductor device and method of manufacturing the same
CN111799187A (en) * 2019-04-09 2020-10-20 朝日科技股份有限公司 Resin sealing device and resin sealing method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000176967A (en) * 1998-12-14 2000-06-27 Apic Yamada Corp Resin sealing device
JP2000208540A (en) * 1998-08-25 2000-07-28 Texas Instr Inc <Ti> Method for airtightly sealing thin semiconductor chip scale package

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000208540A (en) * 1998-08-25 2000-07-28 Texas Instr Inc <Ti> Method for airtightly sealing thin semiconductor chip scale package
JP2000176967A (en) * 1998-12-14 2000-06-27 Apic Yamada Corp Resin sealing device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005219297A (en) * 2004-02-04 2005-08-18 Apic Yamada Corp Method and apparatus for molding resin
JP2010177584A (en) * 2009-01-30 2010-08-12 Furukawa Electric Co Ltd:The Method of manufacturing optical module, and optical module manufactured by the method
JP2011104873A (en) * 2009-11-18 2011-06-02 Apic Yamada Corp Mold
CN102468245A (en) * 2010-11-11 2012-05-23 索尼公司 Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2012104706A (en) * 2010-11-11 2012-05-31 Sony Corp Semiconductor device and manufacturing method of the same
CN111799187A (en) * 2019-04-09 2020-10-20 朝日科技股份有限公司 Resin sealing device and resin sealing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002009096A (en) Method and apparatus for resin sealing
JP3581814B2 (en) Resin sealing method and resin sealing device
US6048483A (en) Resin sealing method for chip-size packages
JP3194917B2 (en) Resin sealing method
JP2000277551A (en) Resin sealing device and method
JP2004134591A (en) Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device
JP2007036273A (en) Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device
JP3897565B2 (en) Resin sealing device and resin sealing method
JP4052939B2 (en) Resin sealing molding method and apparatus for electronic parts
JP2004230707A (en) Method and apparatus for sealing and molding electronic component with resin
JP2008545254A (en) Magnetic assisted manufacturing to reduce mold flash and support using heat slag assembly
JP3456983B2 (en) Method for manufacturing lead frame and resin-encapsulated semiconductor device
JP2002118130A (en) Resin sealing method for matrix package
JP3139981B2 (en) Resin sealing method and resin sealing device for chip size package
JP3581816B2 (en) Flip chip resin injection method
JP6986539B2 (en) Resin-molded lead frame manufacturing method, resin-molded product manufacturing method, and lead frame
JP4058182B2 (en) Resin sealing method
JP3820374B2 (en) Matrix substrate and resin molding method
JP3061121B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2001168121A (en) Method for sealing electronic part with resin
JP2000176967A (en) Resin sealing device
JP3477488B2 (en) Resin sealing method and resin sealing device
JP2003133351A (en) Resin encapsulating apparatus and method
JP4035240B2 (en) Resin sealing method and resin sealing device for chip size package
JPH05293846A (en) Molding apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070817

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100105

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100511