JP3820374B2 - Matrix substrate and resin molding method - Google Patents
Matrix substrate and resin molding method Download PDFInfo
- Publication number
- JP3820374B2 JP3820374B2 JP2002033616A JP2002033616A JP3820374B2 JP 3820374 B2 JP3820374 B2 JP 3820374B2 JP 2002033616 A JP2002033616 A JP 2002033616A JP 2002033616 A JP2002033616 A JP 2002033616A JP 3820374 B2 JP3820374 B2 JP 3820374B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mold
- resin
- semiconductor chip
- matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/4824—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Description
【0001】
【発明の属する利用分野】
本発明は、基板の一方の面に半導体チップがマトリクス状に搭載され、他方の面に端子接続部が形成されたマトリクス基板及び該マトリクス基板を用いた樹脂モールド方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体パッケージの一例として、BOC(Board・On・Chip)タイプのパッケージを樹脂モールドする場合、生産性を向上や成形品質を一定にするため、基板(樹脂基板など)の一方の面に半導体チップがマトリクス状に搭載され、他方の面に端子接続部が形成される被成形品をモールド金型に搬入してクランプし、半導体チップが搭載された一方の面を一括して樹脂モールドしている。樹脂モールド後、ダイシング装置により、成形品を半導体チップ毎に個片になるようにダイシングされて半導体装置が製造されている。
【0003】
図3はBOCタイプの半導体パッケージを例示したものである。被成形品である樹脂基板51の一方の面には半導体チップ52がマトリクス状に搭載されている。各半導体チップ52の中央部に設けられたスリット孔53より他方の面に向けてワイヤボンディングされて、半導体チップ52の電極部と端子接続面とがボンディングワイヤ54により電気的に接続されている。樹脂基板51の他方の面には接続パッドが形成されており、樹脂モールド後にはんだボールなどの接続端子55が接続される。
【0004】
樹脂基板51は、図4に示すように、例えば下型56にキャビティ凹部57が形成されたモールド金型に搬入されてクランプされ、モールド樹脂58がキャビティ凹部57に充填されて樹脂モールドされる。樹脂基板51の一方の面に搭載された複数の半導体チップ52は一括して樹脂モールドされ、各半導体チップ52と樹脂基板51とのスリット孔53を通じた配線部へもモールド樹脂58が充填される。この場合、モールド樹脂58は図3に示すように下型側のキャビティ凹部57より上型59側のキャビティ凹部60へ、スリット孔53と半導体チップ52との間に形成された隙間53aより充填されるようになっている。樹脂モールド後、成形品(樹脂基板51)は、半導体チップ52毎にダイシングされて個片に切断されて半導体装置が製造される。図3及び図4において、Cがダイサーカットラインを示す。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
樹脂基板51の樹脂モールドエリアは、半導体チップ52が搭載された一方の面(下型56のキャビティ凹部57側)は十分な樹脂路を確保できるが、他方の面(上型59のキャビティ凹部60側)は、樹脂路が狭く、厚さも薄く、しかも一方の面側より他方の面側へ充填されるため、充填時差によりモールド樹脂55が途中で硬化し易く流れ性が低下し易い。また、スリット孔53にはボンディングワイヤ54が林立しており、硬化促進したモールド樹脂55の進入によりワイヤー流れも生じ易い。
特に、下型56側のキャビティ凹部57から上型59側のキャビティ凹部60へモールド樹脂58が流れる樹脂路は隙間53aに絞られているため、マトリクス状に配置された半導体チップ52によっては、ワイヤー流れが生じたり、モールド樹脂58の未充填な部分が発生するおそれがあった。
【0006】
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、基板の一方の面にマトリクス状に搭載され、半導体チップがスリット孔を通じて他方の面と配線接続された基板両面へのモールド樹脂の流れ性を向上させたマトリクス基板及び該マトリクス基板の成形品質を向上させた樹脂モールド方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は次の構成を備える。
基板の一方の面に複数の半導体チップがマトリクス状に搭載され、他方の面に端子接続部が形成されたマトリクス基板において、前記半導体チップが搭載された基板のチップ搭載エリアに交差して該半導体チップと基板とが配線接続されるスリット孔がチップ搭載エリアより外方へ延出して設けられることにより半導体チップとの間に樹脂流動用の隙間が形成され、樹脂モールド後に切断除去される基板の不要部分に上型及び下型に形成されたキャビティ凹部どうしを連通する樹脂流動用の貫通孔が設けられていることを特徴とする。
【0008】
また、基板の一方の面に複数の半導体チップがマトリクス状に搭載され、他方の面に端子接続部が形成されたマトリクス基板をモールド金型へ搬入してクランプし、複数の半導体チップが一括して収容された下型側のキャビティ凹部から基板のチップ搭載エリアに交差して形成されたスリット孔と樹脂モールド後に切断除去される基板の不要部分に形成された貫通孔を通じて上型側の各キャビティ凹部へモールド樹脂を充填し、半導体チップ及びスリット孔を通じて形成された配線部を一括して樹脂モールドすることを特徴とする。
また、前記基板のスリット孔に対向して上型面に形成されたキャビティ凹部は、マトリクス基板の切断ラインを跨いで各半導体チップ間を連通して形成されており、前記各半導体チップに対応して形成されたスリット孔及び貫通孔を通じて互いに連通する上型側キャビティ凹部へモールド樹脂を一括して充填することを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るマトリクス基板及び樹脂モールド方法の好適な実施の形態について添付図面と共に詳述する。本実施の形態では、BOCタイプの半導体パッケージ用のマトリクス基板及び該マトリクス基板を用いた樹脂モールド方法について説明する。
図1はBOCタイプの樹脂基板をモールド金型でクランプした状態を示す上視図、図2は図1のモールド金型の断面説明図である。
【0010】
先ず、マトリクス基板1の概略構成について、図1及び図2を参照して説明する。
図2において、1は被成形品であり、BOCタイプのマトリクス基板(樹脂基板等)が用いられる。マトリクス基板1は、一方の面に半導体チップ2がマトリクス状に搭載されており、他方の面に端子接続面が形成されるようになっている。マトリクス基板1の一方の面には半導体チップ2がマトリクス状に搭載されている。
【0011】
3はスリット孔であり、各半導体チップ2が搭載されたチップ搭載エリアに交差して形成されている。このスリット孔3を通じて半導体チップ2とマトリクス基板1とがワイヤボンディングにより配線接続されている。スリット孔3はチップ搭載エリアより外方へ延出して形成されている。また、図1において、マトリクス基板1の不要部分4(樹脂モールド後に切断除去されるダイサーカットラインCに囲まれた部分)には、貫通孔5が設けられている。この貫通孔5は、上型11及び下型12のキャビティ凹部14、13に連通するように形成されている(図2参照)。ダイサーカットラインCは、樹脂モールド後にマトリクス基板1がダイシング装置により個片化される切断ラインを示す。
【0012】
図2において、各半導体チップ2は、その中央部に交差して設けられたスリット孔3より他方の面に向けてワイヤボンディングされて、半導体チップ2の電極部と端子接続面とがボンディングワイヤ7により電気的に接続されている。マトリクス基板1の他方の面には接続パッドが形成されており、樹脂モールド後に破線で示すはんだボールなどの接続端子8が接続される。尚、半導体チップ2とマトリクス基板1との配線部であるボンディングワイヤ7も樹脂モールドされる。このとき、モールド樹脂9は、半導体チップ2とマトリクス基板1との間に形成された隙間3a及びマトリクス基板1の不要部分4に設けられた貫通孔5を通じて充填されるようになっている。
【0013】
次にモールド金型の概略構成について図2を参照して説明する。
10はモールド金型であり、上型11と下型12とを有する。モールド金型10には、被成形品1及びモールド樹脂(樹脂タブレットなど)が搬入され、モールド金型10はこれらをクランプし、半導体チップ2が搭載された一方の面を一括して樹脂モールドする。モールド金型10のうち下型12側には半導体チップ2を収容するキャビティ凹部13が形成され、上型11側にはスリット孔3に対応する配線部を収容するキャビティ凹部14が形成されている。
【0014】
下型12にはマトリクス基板1を支持するサポートピン15が設けられている。サポートピン15は、下型12の底部嵌め込まれた固定ピン15aであり、該サポートピン15の先端側はキャビティ凹部13に突設されている。サポートピン15は、下型12にマトリクス基板1が搭載された状態で、基板面に突き当てて支持するようになっている。サポートピン15が固定ピン15aである場合には、樹脂モールド後に切断除去されるマトリクス基板1の不要部分4(ダイサーカットラインCに囲まれたエリア)をサポートするように設けられている。尚、固定ピンタイプのサポートピン15の先端側外周面には、外径が先端側に向かって小径となるテーパー面が形成されていてもよい。このテーパー面により、樹脂モールド後に成形品の離型をスムーズに行うことができる。
【0015】
また、サポートピン7が可動ピン15bである場合、上記制約にとらわれずに、半導体チップ2に干渉しない範囲で設けることが可能である。サポートピン15が可動ピン15bである場合には、キャビティ凹部13にモールド樹脂9の充填が完了するまで基板に当接した支持位置からキャビティ凹部13と面一となる退避位置へ移動する必要がある。
【0016】
また、下型12には、図示しないポットが設けられており、該ポットにはプランジャが上下動可能に設けられている。ポットには、モールド樹脂(樹脂タブレットなど)が装填され、プランジャによりモールド樹脂をキャビティ凹部13へ圧送りする。モールド樹脂9は、図1に示すように、下型12側のキャビティ凹部13よりスリット孔3の隙間3a及び貫通孔5を通じて上型11側のキャビティ凹部14へ充填されるようになっている。
モールド樹脂の注入方向は、キャビティ凹部14の長手方向となるように金型ゲートを設けるのが望ましい。図1では、下型12側にゲート、上型11側にエアーベントを設けるのが好ましい。また、図2のように、キャビティ凹部14は1チップに1箇所でなくともよく、キャビティ凹部14どうしはつながっていても良い。
【0017】
尚、図2において、上型11のクランプ面には、端子接続面保護するためリリースフィルム16を張設してあっても良い。リリースフィルム16は、モールド金型10の加熱温度に耐えられる耐熱性を有するもので、金型面より容易に剥離するものであって、柔軟性、伸展性を有するフィルム材、例えば、PTFE、ETFE、PET、FEP、フッ素含浸ガラスクロス、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリジン等が好適に用いられる。リリースフィルム16は、上型11のパーティング面に形成された図示しない吸着穴よりエアーを吸引することで、吸着保持される。リリースフィルム16は、リール間に巻回された長尺状のものをモールド金型10へ連続して供給し巻取りするようになっていても或いは予め短冊状に切断されたもののいずれを用いても良い。
【0018】
ここで樹脂モールド方法について説明すると、一方の面に半導体チップ2が搭載されたマトリクス基板(樹脂基板など)1及びモールド樹脂(樹脂タブレットなど)をモールド金型10へ搬入してクランプする。そして、モールド金型10へ搬入されたマトリクス基板1の一方の面をキャビティ凹部13に突設されたサポートピン15により支持して基板の平坦度を保ちつつ、プランジャを作動してモールド樹脂9が下型12のランナゲート17を通じてキャビティ凹部13へ充填されて半導体チップ2が搭載された一方の面が一括して樹脂モールドされる。また、下型12側のキャビティ凹部13よりスリット孔3の隙間3a及び貫通孔5を通じて上型11側のキャビティ凹部14へ充填される。樹脂モールドされた成形品は、モールド金型10より取出された後、ダイシング装置でダイサーカットラインCに沿って半導体チップ2ごとに個片に切断される。
【0019】
尚、マトリクス基板1のスリット孔3に対向して他方の面(上型11側)に形成されたキャビティ凹部14は、マトリクス基板1のダイサーカットラインCを跨いで各半導体チップ2間を連通して形成されていても良い。この場合には、各半導体チップ2に対応して形成されたスリット孔3の隙間3a及び貫通孔5を通じてモールド樹脂9を一括して充填する。
【0020】
上記マトリクス基板1を用いれば、半導体チップ2が搭載された基板のチップ搭載エリアに交差して該半導体チップ2と基板とが配線接続されるスリット孔3が設けられ、樹脂モールド後に切断除去される基板の不要部分4に貫通孔5が設けられているので、樹脂モールドする際にスリット孔3の隙間3a及び貫通孔5を樹脂路として利用できるので、モールド樹脂9の基板両面への流れ性、特に配線部への樹脂の流れ性を向上させることができる。
また、マトリクス基板1をモールド金型10へ搬入してクランプし、半導体チップ2が収容された基板の一方側のキャビティ凹部13からスリット孔3の隙間3a及び貫通孔5を通じて基板の他方側のキャビティ凹部14へモールド樹脂9を充填し、半導体チップ2及び配線部を一括して樹脂モールドするので、モールド樹脂の基板両面への流れ性が良く、特にスリット孔3に形成された狭い配線部分への充填がスムーズに行えるので成形品質を向上させることができる。
【0021】
以上、本発明の好適な実施例について種々述べてきたが、本発明は上述の実施例に限定されるのではなく、モールド金型10にリリースフィルム16を設けるか否かは任意であり、半導体チップ2を収容するキャビティ凹部は上型11でも下型12の何れに形成されていても良い等、発明の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはもちろんである。
【0022】
【発明の効果】
本発明に係るマトリクス基板を用いれば、半導体チップが搭載された基板のチップ搭載エリアに交差して該半導体チップと基板とが配線接続されるスリット孔が設けられ、樹脂モールド後に切断除去される基板の不要部分に貫通孔が設けられているので、樹脂モールドする際にスリット孔の隙間及び貫通孔を樹脂路として利用できるので、モールド樹脂の基板両面への流れ性、特に配線部へのモールド樹脂の流れ性を向上させることができる。
また、本発明に係る樹脂モールド方法によれば、マトリクス基板をモールド金型へ搬入してクランプし、半導体チップが収容された基板の一方側のキャビティ凹部からスリット孔の隙間及び貫通孔を通じて基板の他方側のキャビティ凹部へモールド樹脂を充填し、半導体チップ及び配線部を一括して樹脂モールドするので、モールド樹脂の基板両面への流れ性が良く、特にスリット孔に形成された狭い配線部分への充填がスムーズに行えるので成形品質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】BOCタイプのマトリクス基板をモールド金型でクランプした状態を示す上視図である。
【図2】図1のモールド金型の断面説明図である。
【図3】従来のBOCタイプのマトリクス基板をモールド金型でクランプした状態を示す上視図である。
【図4】図3のモールド金型の断面説明図である。
【符号の説明】
1 マトリクス基板
2 半導体チップ
3 スリット孔
3a 隙間
4 不要部分
5 貫通孔
7 ボンディングワイヤ
8 接続端子
9 モールド樹脂
10 モールド金型
11 上型
12 下型
13、14 キャビティ凹部
15 サポートピン
15a 固定ピン
15b 可動ピン
16 リリースフィルム
17 ランナゲート[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a matrix substrate in which semiconductor chips are mounted in a matrix on one surface of a substrate and a terminal connection portion is formed on the other surface, and a resin molding method using the matrix substrate.
[0002]
[Prior art]
As an example of a semiconductor package, when a BOC (Board / On / Chip) type package is resin-molded, a semiconductor chip is provided on one surface of a substrate (resin substrate, etc.) in order to improve productivity and to maintain a uniform molding quality. A molded product mounted in a matrix and having a terminal connection portion formed on the other surface is carried into a mold and clamped, and one surface on which semiconductor chips are mounted is collectively resin-molded. After the resin molding, the semiconductor device is manufactured by dicing the molded product into individual pieces for each semiconductor chip by a dicing apparatus.
[0003]
FIG. 3 illustrates a BOC type semiconductor package.
[0004]
As shown in FIG. 4, for example, the
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
The resin mold area of the
In particular, since the resin path through which the mold resin 58 flows from the cavity recess 57 on the
[0006]
The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and the flowability of the mold resin to both sides of the substrate which is mounted in a matrix on one side of the substrate and the semiconductor chip is connected to the other side through the slit holes. It is an object of the present invention to provide a matrix substrate with improved mold and a resin mold method with improved molding quality of the matrix substrate.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration.
In a matrix substrate in which a plurality of semiconductor chips are mounted in a matrix on one surface of the substrate and a terminal connection portion is formed on the other surface, the semiconductor crosses the chip mounting area of the substrate on which the semiconductor chip is mounted. A slit hole for wiring connection between the chip and the substrate extends outward from the chip mounting area, so that a gap for resin flow is formed between the semiconductor chip and the substrate to be cut and removed after resin molding. The unnecessary part is provided with a through hole for resin flow that allows the cavity recesses formed in the upper mold and the lower mold to communicate with each other .
[0008]
In addition, a plurality of semiconductor chips are mounted in a matrix on one side of the substrate, and a matrix substrate having a terminal connection portion formed on the other side is carried into a mold and clamped, so that the plurality of semiconductor chips are bundled together. each cavity of the upper mold side through a through hole formed in the unnecessary portion of the substrate to be cut and removed from the cavities of the contained lower mold side after the slit holes and the resin mold that is formed to intersect the chip mounting area of the substrate Te The concave portion is filled with a mold resin, and the wiring portion formed through the semiconductor chip and the slit hole is collectively resin-molded.
A cavity recess formed on the upper mold surface facing the slit hole of the substrate is formed to communicate between the semiconductor chips across the cutting line of the matrix substrate, and corresponds to each semiconductor chip. The upper mold side cavity recess communicated with each other through the slit hole and the through hole formed in this manner is filled with mold resin all together.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of a matrix substrate and a resin molding method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In this embodiment, a matrix substrate for a BOC type semiconductor package and a resin molding method using the matrix substrate will be described.
1 is a top view showing a state in which a BOC type resin substrate is clamped by a mold, and FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view of the mold in FIG.
[0010]
First, a schematic configuration of the matrix substrate 1 will be described with reference to FIGS.
In FIG. 2, reference numeral 1 denotes a product to be molded, and a BOC type matrix substrate (resin substrate or the like) is used. The matrix substrate 1 has
[0011]
[0012]
In FIG. 2, each
[0013]
Next, a schematic configuration of the mold will be described with reference to FIG.
[0014]
The lower mold 12 is provided with support pins 15 that support the matrix substrate 1. The
[0015]
Further, when the
[0016]
The lower mold 12 is provided with a pot (not shown), and a plunger is provided in the pot so as to be movable up and down. The pot is filled with mold resin (resin tablet or the like), and the mold resin is pressure-fed to the
It is desirable to provide a mold gate so that the mold resin is injected in the longitudinal direction of the
[0017]
In FIG. 2, a
[0018]
Here, a resin molding method will be described. A matrix substrate (resin substrate or the like) 1 on which a
[0019]
A
[0020]
If the matrix substrate 1 is used, a
Further, the matrix substrate 1 is carried into the
[0021]
The preferred embodiments of the present invention have been described above in various ways. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and whether or not the
[0022]
【The invention's effect】
When the matrix substrate according to the present invention is used, the substrate is provided with a slit hole that crosses the chip mounting area of the substrate on which the semiconductor chip is mounted, and the semiconductor chip and the substrate are wire-connected, and is cut and removed after resin molding. Since the through hole is provided in the unnecessary part, the gap between the slit hole and the through hole can be used as a resin path when resin molding is performed. Therefore, the flow of the mold resin to both sides of the substrate, especially the mold resin to the wiring part The flowability of can be improved.
Further, according to the resin molding method of the present invention, the matrix substrate is carried into the mold and clamped, and the cavity of one side of the substrate in which the semiconductor chip is accommodated is passed through the slit hole and the through hole. The cavity resin on the other side is filled with the mold resin, and the semiconductor chip and the wiring part are resin-molded together, so that the flow of the mold resin to both sides of the substrate is good, especially to the narrow wiring part formed in the slit hole. Since filling can be performed smoothly, the molding quality can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a top view showing a state in which a BOC type matrix substrate is clamped by a mold.
2 is a cross-sectional explanatory view of the mold of FIG. 1. FIG.
FIG. 3 is a top view showing a state in which a conventional BOC type matrix substrate is clamped with a mold.
4 is a cross-sectional explanatory view of the mold of FIG. 3. FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Matrix board |
Claims (3)
前記半導体チップが搭載された基板のチップ搭載エリアに交差して該半導体チップと基板とが配線接続されるスリット孔がチップ搭載エリアより外方へ延出して設けられることにより半導体チップとの間に樹脂流動用の隙間が形成され、樹脂モールド後に切断除去される基板の不要部分に上型及び下型に形成されたキャビティ凹部に対応する位置にこれらを連通する樹脂流動用の貫通孔が設けられていることを特徴とするマトリクス基板。In a matrix substrate in which a plurality of semiconductor chips are mounted in a matrix on one surface of the substrate, and terminal connection portions are formed on the other surface,
A slit hole that crosses the chip mounting area of the substrate on which the semiconductor chip is mounted and is connected to the semiconductor chip and the substrate by extending from the chip mounting area is provided between the semiconductor chip and the semiconductor chip. A gap for resin flow is formed , and through holes for resin flow are provided in positions corresponding to the cavity recesses formed in the upper mold and the lower mold in unnecessary portions of the substrate that are cut and removed after resin molding. A matrix substrate characterized by having
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002033616A JP3820374B2 (en) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | Matrix substrate and resin molding method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002033616A JP3820374B2 (en) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | Matrix substrate and resin molding method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003234436A JP2003234436A (en) | 2003-08-22 |
JP3820374B2 true JP3820374B2 (en) | 2006-09-13 |
Family
ID=27776355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002033616A Expired - Fee Related JP3820374B2 (en) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | Matrix substrate and resin molding method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3820374B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW567562B (en) | 2001-01-15 | 2003-12-21 | Chuen Khiang Wang | Method of packaging microchip devices, the interposer used therefor and the microchip device packaged thereby |
US7129115B2 (en) | 2002-06-19 | 2006-10-31 | United Test & Assembly Center Limited | Packaging of a microchip device |
KR101409839B1 (en) | 2007-05-23 | 2014-06-26 | 삼성전자주식회사 | Semiconductor package |
JP2012084908A (en) * | 2011-12-15 | 2012-04-26 | United Test And Assembly Center (S) Pte Ltd | Packaging method for microchip device |
-
2002
- 2002-02-12 JP JP2002033616A patent/JP3820374B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003234436A (en) | 2003-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6187243B1 (en) | Method of resin molding | |
TWI634627B (en) | Resin molding apparatus, resin molding method and resin molding die set | |
JP3246848B2 (en) | General-purpose gate position resin molding apparatus and resin molding method | |
US6224360B1 (en) | Resin sealing device for chip-size packages | |
KR100577592B1 (en) | Method of producing semiconductor devices | |
JP3680005B2 (en) | Semiconductor device manufacturing method and resin sealing device | |
JP4484329B2 (en) | Resin sealing method and resin sealing device | |
JP2008004570A (en) | Process and apparatus for manufacturing resin sealed semiconductor device, and resin sealed semiconductor device | |
JP3510554B2 (en) | Resin molding method, mold for molding and wiring substrate | |
JP2010010702A (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
JP2002009096A (en) | Method and apparatus for resin sealing | |
JP2001079878A (en) | Resin sealing method and apparatus | |
JP2004134591A (en) | Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device | |
JP3897565B2 (en) | Resin sealing device and resin sealing method | |
JP3820374B2 (en) | Matrix substrate and resin molding method | |
JP3569224B2 (en) | Resin sealing method and resin sealing device | |
KR20210045922A (en) | Resin molded product manufacturing method and resin molding apparatus | |
JP3139981B2 (en) | Resin sealing method and resin sealing device for chip size package | |
JPH1034699A (en) | Method and device for resin sealing for son package | |
JP2004153045A (en) | Method and metallic mold for molding sealing with resin for electronic part | |
JP2005085832A (en) | Resin molding apparatus | |
JP4058182B2 (en) | Resin sealing method | |
JP3621203B2 (en) | Transfer resin sealing method and resin sealing mold apparatus used therefor | |
JP2003234365A (en) | Metal mold die and resin-molding method | |
JP3590118B2 (en) | Resin molding method and resin molding apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051220 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060131 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090623 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |