JP2002110046A - 面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メモリ機能を有する表示素子であるセルの集
合体によって構成された表示パネル、特に面放電型プラ
ズマ・ディスプレイ・パネルにおいて、発光効率の向上
と低駆動電圧化、低消費電力化を目的とする。 【解決手段】 蛍光体層、下地反射層や隔壁等、背面加
工基板の中で放電空間に面した部分に２次電子放出係数
の高い材料でできた保護層を追加形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、メモリ機能を有す
る表示素子である放電セルの集合体によって構成された
表示パネルに係り、特にプラズマ放電により形成される
壁電荷を利用して表示を行う面放電型プラズマ・ディス
プレイ・パネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、面放電型プラズマ・ディスプレイ
・パネルの放電セル構造及び駆動方法は特開平６-１８
６９２７号公報や特開平８-２５００２９号公報に記載
されたものが知られている。

【０００３】図１は従来の放電セル構造の一例を示して
いる。放電セルとは表示を行う最小単位である。放電セ
ル構造は、前面加工基板、背面加工基板、放電空間２１
の３つに大別できる。以下に、それぞれについて順次説
明する。

【０００４】まず、前面加工基板の構造について述べ
る。前面ガラス基板１１には、面放電を発生させるため
のＸ表示電極１２とＹ表示電極１３が平行に配置されて
いる。さらに、表示電極は誘電体ガラス１７を挟んで保
護層１８により被覆されている。保護層としてよく用い
られているMgOは放電のイオン・スパッタによる劣化が
少ないこと、２次電子放出係数が高いという特性を有し
ている。

【０００５】次に、本発明に特に関わる背面加工基板の
構造について述べる。背面ガラス基板１４上には表示情
報を書き込むためのデータ電極１５が形成される。な
お、前面加工基板の表示電極とデータ電極は、その長手
方向が直交するように配置される。そのデータ電極を覆
うように背面ガラス基板全体に下地反射層２０を形成
し、下地反射層の上にデータ電極の長手方向に対して平
行にストライプ状の隔壁１９が形成される。さらにその
隔壁で仕切られた溝内には赤、緑、青の各蛍光体１６が
ストライプ状に塗布・形成される。放電空間は、前面加
工基板と背面加工基板を張り合わせることにより、それ
らの間に形成される。放電空間には放電により紫外線を
発生するガスが封入され、気密封止される。

【０００６】なお、１組のX、Y表示電極と１本のデータ
電極の交点部が１つの放電セルの放電空間に対応する。

【０００７】次に、本発明に関わる、従来の背面加工基
板の加工方法に限り、一例を挙げて説明する。図７にそ
の製造フローを示す。まず、ガラス基板を受け入れる
（Ｓ１１）。データ電極をガラス基板上に銀ペーストを
用いた厚膜印刷法で加工・形成する（S１２）。次に、
下地反射層を低融点ガラスペーストを原料とし厚膜印刷
法で形成する（S１３）。その上に、サンドブラスト法
により隔壁を形成する（S１４）。続いて、蛍光体層を
スクリーン版を用いて、蛍光体ペーストを隔壁で仕切ら
れた溝内に均一で、かつ適正な厚みになるように塗布・
形成する（S１５）。最後に、厚膜印刷によりシール層
を形成する（S２０）。

【０００８】次に、面放電型プラズマ・ディスプレイ・
パネルの動作、つまり、表示に必要な基本的な駆動方法
を説明する。プラズマ・ディスプレイ・パネルでは、一
定の強さをもつ発光パルス数を制御することによって階
調を表現し、所定の輝度に設定されている。そのため、
１フレームは輝度の相対比が異なる複数のサブフィール
ドで構成される。サブフィールドはアドレス期間、表示
期間、消去期間から成る。

【０００９】アドレス期間では点灯させたい放電セルに
弱い放電（アドレス放電）を起こさせ、前面加工基板側
の保護層表面に壁電荷を蓄積させる。表示期間での放電
セルの点灯を誤りなく、しかも安定して行わせるため、
また、アドレス放電を引き起こすデータ電極の電圧（ア
ドレス電圧）を低減させるため、アドレス期間中の壁電
荷の制御が極めて重要になる。ここで、アドレス期間に
壁電荷を形成するための一般的な手順について説明す
る。消去期間の後、全ての放電セルに弱い放電を起こし
て壁電荷を形成する（S１）。全ての放電セルに再度弱
い放電を起こして、次のステップ（S３）に不要な壁電
荷を消去する（S２）。線順次の選択書き込み放電（ア
ドレス放電）を行い、点灯させたい放電セルにのみ必要
な量と分布をもつの壁電荷を蓄積する（S３）。

【００１０】表示期間には全てのX、Y表示電極間に放電
開始電圧より低いACパルス電圧が印加される。その結
果、アドレス放電により書き込みを行った放電セルは点
灯し、書き込みを行っていない放電セルは点灯しない。

【００１１】消去期間では前のサブフィールドの表示期
間における点灯状態の影響を受けないようにするため、
全ての放電セルについて消去放電が行われる。

【００１２】一般には、１サブフィールドの中で、アド
レス期間の線順次の選択書き込み以外の期間では、デー
タ電極に３電極（２本の表示電極と１本のデータ電極）
中最も低い電圧が与えられる。従って、線順次の選択書
き込み以外の期間において、放電によって生成した正イ
オンがデータ電極に向かってドリフトする。正イオンの
一部は蛍光体表面に蓄積され、壁電荷となり、一部はデ
ータ電極付近の放電空間を浮遊する。その正イオン群は
放電空間内の電界を低減させる極性をもつため、それら
が放電空間の電界を弱め、結果的に線順次の選択書き込
み以外の期間において駆動に必要な電圧を引き上げてい
ると考えられる。

【００１３】また、隔壁側面や蛍光体表面では、放電空
間中を拡散する荷電粒子が損失しており、このことがプ
ラズマ・ディスプレイ・パネルの発光効率を下げる原因
の一つと考えられている。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】この面放電型プラズマ
・ディスプレイ・パネルにおいては、発光効率の向上と
低駆動電圧化、低消費電力化が要求されている。

【００１５】本発明は、蛍光体層、下地反射層や隔壁
等、背面加工基板の中で放電空間に面した部分に、放電
のイオン・スパッタによる劣化が少ないだけでなく、２
次電子放出係数が高いという特性を有した保護層を形成
することにより、駆動電圧を下げ、消費電力化を低減す
ること、及び隔壁側面や蛍光体表面での荷電粒子の損失
を低減し、発光効率を高めることを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、ガラス基板上に面放電を発生させるための
２本の表示電極Ｘ、Ｙが平行に配置され、さらに表示電
極Ｘ、Ｙが誘電体ガラスを挟んで保護層により被覆され
る構造の前面加工基板と、前記ガラス基板上に表示情報
を書き込むためのデータ電極が配置され、前記データ電
極を覆うように前記ガラス基板全体に下地反射層を形成
し、さらに前記下地反射層の上にデータ電極の長手方向
に対して平行にストライプ状の隔壁を形成し、前記隔壁
の側面及び前記下地反射層の表面に蛍光体層を塗布・形
成した構造の背面加工基板と、さらに前面加工基板と背
面加工基板の加工部分が対向するように、かつ前記表示
電極Ｘ、Ｙとデータ電極の長手方向が直交配置されるよ
うに前記前面加工基板と背面加工基板同士を張り合わせ
ることにより、それらの間に形成された放電空間とを備
えた面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネルにおい
て、蛍光体層、下地反射層や隔壁等、背面加工基板の中
で放電空間に面した部分に、２次電子放出係数の高い材
料で追加形成された保護層を備えたものである。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図２から図１１を用いて説明する。

【００１８】図２は、従来の背面加工基板のセル構造を
示すｘ-ｚ任意断面図である。背面ガラス基板１４上に
はデータ電極１５が形成され、そのデータ電極を覆うよ
うに背面ガラス基板全体に下地反射層２０が形成され、
下地反射層の上にデータ電極の長手方向に対して平行に
ストライプ状の隔壁１９が形成され、さらにその隔壁で
仕切られた溝内には赤、緑、青の各蛍光体１６がストラ
イプ状に塗布・形成される。

【００１９】（実施の形態１）図３は第１及び第２の発
明の一実施形態を示す背面加工基板のセル構造を示し、
図３において１４は背面ガラス基板、１５はデータ電
極、１６は蛍光体層、１９は隔壁、２０は下地反射層、
１８は保護層である。本セル構造は、図２に示した従来
の背面加工基板のセル構造に保護層１８を追加したもの
である。

【００２０】以上のように構成された面放電型プラズマ
・ディスプレイ・パネルの動作については従来と変わら
ない。従来の動作については（従来の技術）のところで
説明済みである。しかし、セル構造を従来と変えるとい
う手段により作用と効果が変化する。そこで、以下に、
本発明のポイントとなる作用と効果について述べる。

【００２１】前述したように、１サブフィールドの中
で、アドレス期間の線順次の選択書き込み以外の期間で
は、データ電極付近の蛍光体表面で正イオンが壁電荷と
して蓄積され、さらにデータ電極付近の放電空間で正イ
オン群が浮遊している。その正イオン群は放電空間内の
電界を低減させる極性をもち、すなわち、この正イオン
群が放電空間中の電界を弱めている。また、隔壁側面や
蛍光体表面では、放電空間中を拡散する荷電粒子が損失
しており、発光効率に悪影響を及ぼしている。

【００２２】そこで、背面加工基板の中で放電空間に面
した部分（第２の発明では蛍光体層の表面に対応）に、
２次電子放出係数が高い材料を用いて保護層を形成し
た。その結果、正イオンが保護層表面に衝突する際、放
電空間に放出される電子（２次電子放出）により浮遊し
ている正イオン群を中和することで放電空間の電界を強
め、次の放電を、より低電圧・低消費電力で引き起こす
ことができるようになると考えられる。

【００２３】なお、保護層の材料にはMgOやMgFがある。
さらに、本放電セル構造は放電空間に面した隔壁の側面
や蛍光体表面での２次電子放出現象により、荷電粒子の
損失を抑え、発光効率の向上に寄与するもの考えられ
る。

【００２４】次に、図８を用いて本発明の放電セルを製
作するための背面加工基板の加工方法について、一例を
示しながら述べる。（従来の技術）のところで従来の加
工方法を説明したが、以下に従来と異なる工程を中心に
説明する。

【００２５】蛍光体層が形成される工程までは従来と同
一工程である（S１１〜S１５）。その次に、背面加工基
板の中で放電空間に面した部分（第２の発明では蛍光体
層の表面に対応）に保護層を形成するために、例えばMg
Oの電子ビーム蒸着工程を追加する（S１６Ａ）。その後
の工程（Ｓ２０）は従来と同一工程である。なお、この
方法によると隔壁の頂部にも保護層ができるが、この部
分は放電空間に面しないので効果はない。

【００２６】（実施の形態２）図４は第３の発明の一実
施形態を示す背面加工基板のセル構造を示し、図４にお
いて１４は背面ガラス基板、１５はデータ電極、１６は
蛍光体層、１９は隔壁、２０は下地反射層、１８は保護
層である。本セル構造の特徴はデータ電極付近の下地反
射層表面に保護層を形成したことにある。その保護層を
蛍光体で覆わないように、蛍光体層は隔壁の全側面及び
データ電極付近を除く下地反射層表面に形成した。

【００２７】なお、保護層には、MgOやMgFのように、放
電のイオン・スパッタによる劣化が少ないだけでなく、
２次電子放出係数が高い材料を用いる。この場合でも、
データ電極付近の放電空間底面（下地反射層表面）に保
護層が形成されるので、低消費電力化に関しては実施の
形態１の場合と同様な効果が得られる。また、実施の形
態１のように蛍光体層の上に保護層を形成しないので、
その形成プロセスに伴う、蛍光体の発光特性の劣化はな
いという効果が得られる。

【００２８】次に、図９を用いて本発明の放電セルを製
作するための背面加工基板の加工方法について、一例を
示しながら述べる。以下に従来と異なる工程を中心に説
明する。

【００２９】下地反射層が形成される工程までは従来と
同一工程である（S１１〜S１３）。その後に、次に示す
工程を追加する。下地反射層の上に保護層をMgOの電子
ビーム蒸着によって形成する（S１６B）。保護層の上
に、サンドブラスト法により隔壁を形成する（S１
４）。続いて、蛍光体層をスクリーン版を用いて、蛍光
体ペーストを隔壁の全側面及びデータ電極付近を除く下
地反射層表面に塗布・形成する（S１５B）。その後の工
程（Ｓ２０）は従来と同一工程である。なお、この方法
によると蛍光体層及び隔壁の底部にも保護層ができる
が、この部分は放電空間に面しないので効果はない。

【００３０】（実施の形態３）図５は第４の発明の一実
施形態を示す背面加工基板のセル構造を示し、図５にお
いて１４は背面ガラス基板、１５はデータ電極、１６は
蛍光体層、１９は隔壁、２０は下地反射層、１８は保護
層である。本セル構造の特徴は隔壁の上部側面に保護層
を設けることにある。その保護層を蛍光体で覆わないよ
うに、蛍光体層は隔壁の下部側面と下地反射層の表面に
形成した。なお、保護層には、MgOやMgFのように、放電
のイオン・スパッタによる劣化が少ないだけでなく、２
次電子放出係数が高い材料を用いる。この場合でも、隔
壁の上部側面に保護層が形成されるので、発光効率の向
上に関しては実施の形態１の場合と同様な効果が得られ
る。また、実施の形態１のように蛍光体層の上に保護層
を形成しないので、その形成プロセスに伴う、蛍光体の
発光特性の劣化はないという効果が得られる。

【００３１】次に、図１０を用いて本発明の放電セルを
製作するための背面加工基板の加工方法について、一例
を示しながら述べる。以下に従来と異なる工程を中心に
説明する。隔壁が形成される工程までは従来と同一工程
である（S１１〜S１４）。その後に、次に示す工程を追
加する。Ｓ１１からＳ１４までの工程でできた背面加工
基板の上に保護層をMgOの電子ビーム蒸着によって形成
する（S１６Ｃ）。続いて、蛍光体層をスクリーン版を
用いて、蛍光体ペーストを隔壁の下部側面及び放電空間
の底面である下地反射層の全表面に塗布・形成する（S
１５Ｃ）。その後の工程（Ｓ２０）は従来と同一工程で
ある。なお、この方法によると隔壁の側面で蛍光体層で
覆われた部分、隔壁の頂部、そして下地反射層にも保護
層ができるが、この部分は放電空間に面しないので効果
はない。

【００３２】（実施の形態４）図６は第５の発明の一実
施形態を示す背面加工基板のセル構造を示し、図６にお
いて１４は背面ガラス基板、１５はデータ電極、１６は
蛍光体層、１９は隔壁、２０は下地反射層、１８は保護
層である。本セル構造の特徴はデータ電極付近の下地反
射層表面と隔壁の上部側面に保護層を形成したことにあ
る。その保護層を蛍光体で覆わないように、蛍光体層は
隔壁の下部側面とデータ電極付近を除く下地反射層表面
に形成した。なお、保護層には、MgOやMgFのように、放
電のイオン・スパッタによる劣化が少ないだけでなく、
２次電子放出係数が高い材料を用いる。

【００３３】この場合でも、データ電極付近の下地反射
層及び隔壁の上部側面に保護層が形成されるので、それ
ぞれ低消費電力化、発光効率の向上に関しては実施の形
態１の場合と同様な効果が得られる。また、実施の形態
１のように蛍光体層の上に保護層を形成しないので、そ
の形成プロセスに伴う、蛍光体の発光特性の劣化はない
という効果が得られる。

【００３４】次に、図１１を用いて本発明の放電セルを
製作するための背面加工基板の加工方法について、一例
を示しながら述べる。以下に従来と異なる工程を中心に
説明する。隔壁が形成される工程までは従来と同一工程
である（S１１〜S１４）。その後に、次に示す工程を追
加する。Ｓ１１からＳ１４までの工程でできた背面加工
基板の上に保護層をMgOの電子ビーム蒸着によって形成
する（S１６Ｃ）。続いて、蛍光体層をスクリーン版を
用いて、蛍光体ペーストをデータ電極付近を除く下地反
射層表面及び隔壁の下部側面に塗布・形成する（S１５
D）。その後の工程（Ｓ２０）は従来と同一工程であ
る。なお、この方法によると隔壁の側面及び下地反射層
で蛍光体層に覆われた部分、そして隔壁の頂部にも保護
層ができるが、この部分は放電空間に面しないので効果
はない。

【００３５】

【発明の効果】以上のように第１及び第２の発明によれ
ば、アドレス期間の線順次の選択書き込み以外の期間
で、駆動電圧を下げ、消費電力を低減させることができ
る。加えて、蛍光体層の表面や隔壁の側面等、放電空間
に面した部分での荷電粒子の損失が低減されるため、発
光効率を向上させることができる。さらに、蛍光体が保
護層で被覆されるため、隔壁の高さをより低くすること
ができるので、より低い電圧で駆動できる面放電型プラ
ズマ・ディスプレイ・パネル、あるいは高輝度の面放電
型プラズマ・ディスプレイ・パネルを選択的に実現でき
るという実用上顕著な効果が得られる。

【００３６】第３の発明によれば、アドレス期間の線順
次の選択書き込み以外の期間で、駆動電圧を下げ、消費
電力を低減させることができるという実用上顕著な効果
が得られる。また、蛍光体層の上に保護層を形成しない
ので、第１及び第２の発明に比べて、その形成プロセス
に伴う蛍光体の発光特性の劣化はないという効果をも
つ。

【００３７】第４の発明によれば、隔壁の側面での荷電
粒子の損失が低減されるため、発光効率を向上させるこ
とができるという実用上顕著な効果が得られる。また、
蛍光体層の上に保護層を形成しないので、第１及び第２
の発明に比べて、その形成プロセスに伴う蛍光体の発光
特性の劣化はないという効果ももつ。

【００３８】第５の発明によれば、アドレス期間の線順
次の選択書き込み以外の期間で、駆動電圧を下げ、消費
電力を低減させることができる。加えて、隔壁の側面で
の荷電粒子の損失が低減されるため、発光効率を向上さ
せることができるという実用上顕著な効果が得られる。
また、蛍光体層の上に保護層を形成しないので、第１及
び第２の発明に比べて、その形成プロセスに伴う蛍光体
の発光特性の劣化はないという効果ももつ。

【図面の簡単な説明】

【図１】面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネルの放
電セル構造を説明するための斜視図

【図２】面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネルの放
電セル構造を説明するためのｘ-ｚ任意断面図

【図３】第１及び第２の発明の一実施形態を示す背面加
工基板の放電セルの構成図

【図４】第３の発明の一実施形態を示す背面加工基板の
放電セルの構成図

【図５】第４の発明の一実施形態を示す背面加工基板の
放電セルの構成図

【図６】第５の発明の一実施形態を示す背面加工基板の
放電セルの構成図

【図７】面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネルの背
面加工基板の一製造フローの概念図

【図８】第１及び第２の発明を実現するための背面加工
基板の一製造フローの概念図

【図９】第３の発明を実現するための背面加工基板の一
製造フローの概念図

【図１０】第４の発明を実現するための背面加工基板の
一製造フローの概念図

【図１１】第５の発明を実現するための背面加工基板の
一製造フローの概念図

【符号の説明】

１１ 前面ガラス基板 １２ 表示電極Ｘ １３ 表示電極Ｙ １４ 背面ガラス基板 １５ データ電極 １６ 蛍光体層 １７ 誘電体ガラス １８ 保護層 １９ 隔壁 ２０ 下地反射層（白色誘電体層） ２１ 放電空間

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ガラス基板上に面放電を発生させるための
   ２本の表示電極Ｘ、Ｙが平行に配置され、さらに前記表
   示電極Ｘ、Ｙが誘電体ガラスを挟んで保護層により被覆
   される構造の前面加工基板と、ガラス基板上に表示情報
   を書き込むためのデータ電極が配置され、前記データ電
   極を覆うように前記ガラス基板全体に下地反射層を形成
   し、さらに前記下地反射層の上に前記データ電極の長手
   方向に対して平行にストライプ状の隔壁を形成し、前記
   隔壁の側面及び前記下地反射層の表面に蛍光体層を塗布
   ・形成した構造の背面加工基板と、さらに前面加工基板
   と背面加工基板の加工部分が対向するように、かつ前記
   表示電極Ｘ、Ｙとデータ電極の長手方向が直交配置され
   るように前記前面加工基板と前記背面加工基板同士を張
   り合わせることにより、前記前面加工基板と前記背面加
   工の間に形成された放電空間とを備えた面放電型プラズ
   マ・ディスプレイ・パネルにおいて、前記背面加工基板
   の中で放電空間に面した部分全てに、２次電子放出係数
   の高い材料で追加形成された保護層を備えたことを特徴
   とする面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネル。
2. 【請求項２】保護層の材料がMgOあるいはMgFであること
   を特徴とする請求項１記載の面放電型プラズマ・ディス
   プレイ・パネル。
3. 【請求項３】ガラス基板上に面放電を発生させるための
   ２本の表示電極Ｘ、Ｙが平行に配置され、さらに前記表
   示電極Ｘ、Ｙが誘電体ガラスを挟んで保護層により被覆
   される構造の前面加工基板と、前記ガラス基板上に表示
   情報を書き込むためのデータ電極が配置され、前記デー
   タ電極を覆うように前記ガラス基板全体に下地反射層を
   形成し、さらに前記下地反射層の上に前記データ電極の
   長手方向に対して平行にストライプ状の隔壁を形成し、
   前記隔壁の側面及び前記下地反射層の表面に蛍光体層を
   塗布・形成した構造の背面加工基板と、さらに前面加工
   基板と背面加工基板の加工部分が対向するように、かつ
   前記表示電極Ｘ、Ｙとデータ電極の長手方向が直交配置
   されるように前記前面加工基板と背面加工基板同士を張
   り合わせることにより、前記前面加工基板と前記背面加
   工の間に形成された放電空間と、を備えた面放電型プラ
   ズマ・ディスプレイ・パネルにおいて、前記隔壁の全側
   面及び前記下地反射層の全表面に形成された蛍光体層表
   面に、２次電子放出係数の高い材料で追加形成された保
   護層を備えたことを特徴とする面放電型プラズマ・ディ
   スプレイ・パネル。
4. 【請求項４】保護層の材料がMgOあるいはMgFであること
   を特徴とする請求項３記載の面放電型プラズマ・ディス
   プレイ・パネル。
5. 【請求項５】ガラス基板上に面放電を発生させるための
   ２本の表示電極Ｘ、Ｙが平行に配置され、さらに前記表
   示電極Ｘ、Ｙが誘電体ガラスを挟んで保護層により被覆
   される構造の前面加工基板と、前記ガラス基板上に表示
   情報を書き込むためのデータ電極が配置され、前記デー
   タ電極を覆うように前記ガラス基板全体に下地反射層を
   形成し、さらに前記下地反射層の上に前記データ電極の
   長手方向に対して平行にストライプ状の隔壁を形成し、
   前記隔壁の側面及び前記下地反射層の表面に蛍光体層を
   塗布・形成した構造の背面加工基板、さらに前記前面加
   工基板と前記背面加工基板の加工部分が対向するよう
   に、かつ前記表示電極Ｘ、Ｙとデータ電極の長手方向が
   直交配置されるように前記前面加工基板と背面加工基板
   同士を張り合わせることにより、前記前面加工基板と前
   記背面加工の間に形成された放電空間と、を備えた面放
   電型プラズマ・ディスプレイ・パネルにおいて、前記隔
   壁の全側面及び前記データ電極付近を除く下地反射層表
   面に形成された蛍光体層と、前記蛍光体層に覆われてい
   ない下地反射層表面に２次電子放出係数の高い材料で追
   加形成された保護層とを備えたことを特徴とする面放電
   型プラズマ・ディスプレイ・パネル。
6. 【請求項６】保護層の材料がMgOあるいはMgFであること
   を特徴とする請求項５記載の面放電型プラズマ・ディス
   プレイ・パネル。
7. 【請求項７】ガラス基板上に面放電を発生させるための
   ２本の表示電極Ｘ、Ｙが平行に配置され、さらに前記表
   示電極Ｘ、Ｙが誘電体ガラスを挟んで保護層により被覆
   される構造の前面加工基板と、前記ガラス基板上に表示
   情報を書き込むためのデータ電極が配置され、前記デー
   タ電極を覆うように前記ガラス基板全体に下地反射層を
   形成し、さらに前記下地反射層の上に前記データ電極の
   長手方向に対して平行にストライプ状の隔壁を形成し、
   前記隔壁の側面及び前記下地反射層の表面に蛍光体層を
   塗布・形成した構造の背面加工基板と、さらに前記前面
   加工基板と前記背面加工基板の加工部分が対向するよう
   に、かつ前記表示電極Ｘ、Ｙとデータ電極の長手方向が
   直交配置されるように前記前面加工基板と背面加工基板
   同士を張り合わせることにより、前記前面加工基板と前
   記背面加工の間に形成された放電空間と、を備えた面放
   電型プラズマ・ディスプレイ・パネルにおいて、前記隔
   壁の下部側面及び前記下地反射層の全表面に形成された
   蛍光体層と、前記蛍光体層に覆われていない隔壁の側面
   に２次電子放出係数の高い材料で追加形成された保護層
   とを備えたことを特徴とする面放電型プラズマ・ディス
   プレイ・パネル。
8. 【請求項８】保護層の材料がMgOあるいはMgFであること
   を特徴とする請求項７記載の面放電型プラズマ・ディス
   プレイ・パネル。
9. 【請求項９】ガラス基板上に面放電を発生させるための
   ２本の表示電極Ｘ、Ｙが平行に配置され、さらに前記表
   示電極Ｘ、Ｙが誘電体ガラスを挟んで保護層により被覆
   される構造の前面加工基板と、前記ガラス基板上に表示
   情報を書き込むためのデータ電極が配置され、前記デー
   タ電極を覆うように前記ガラス基板全体に下地反射層を
   形成し、さらに前記下地反射層の上に前記データ電極の
   長手方向に対して平行にストライプ状の隔壁を形成し、
   前記隔壁の側面及び前記下地反射層の表面に蛍光体層を
   塗布・形成した構造の背面加工基板と、さらに前記前面
   加工基板と前記背面加工基板の加工部分が対向するよう
   に、かつ前記表示電極Ｘ、Ｙとデータ電極の長手方向が
   直交配置されるように前記前面加工基板と背面加工基板
   同士を張り合わせることにより、前記前面加工基板と前
   記背面加工の間に形成された放電空間と、を備えた面放
   電型プラズマ・ディスプレイ・パネルにおいて、前記デ
   ータ電極付近を除く前記下地反射層表面及び前記隔壁の
   下部側面に形成された蛍光体層と、前記蛍光体層に覆わ
   れていない前記下地反射層表面及び隔壁の側面に２次電
   子放出係数の高い材料で追加形成された保護層とを備え
   たことを特徴とする面放電型プラズマ・ディスプレイ・
   パネル。
10. 【請求項１０】保護層の材料がMgOあるいはMgFであるこ
    とを特徴とする請求項９記載の面放電型プラズマ・ディ
    スプレイ・パネル。