JP2002093753A - Dicing blade and manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

Dicing blade and manufacturing method of semiconductor device

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JP2002093753A
JP2002093753A JP2000280810A JP2000280810A JP2002093753A JP 2002093753 A JP2002093753 A JP 2002093753A JP 2000280810 A JP2000280810 A JP 2000280810A JP 2000280810 A JP2000280810 A JP 2000280810A JP 2002093753 A JP2002093753 A JP 2002093753A
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Japan
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blade
dicing
scribe line
manufacturing
semiconductor device
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Toshiaki Yokouchi
俊昭 横内
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To offer a dicing blade which can prevent deterioration in through-put while restraining generation of the burrs of Al during the dicing process, and to offer a manufacturing method of semiconductor device by using this dicing blade. SOLUTION: This dicing blade 4 is for cutting a scribe line 1 of a wafer 10 to isolate chips 9. The dicing blade 4 is provided with a first blade 4a comprising a wide blade to cut Al patterns 2, 4 which are formed on the scribe line 1, and with a second blade 4b provided for the wide blade of the first blade and comprising a thin blade to cut the scribe line 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイシングブレー
ド及びそれを用いた半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing blade and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は、従来の半導体装置の製造方法を
説明するものであり、半導体ウエハの一部を示す平面図
である。図3(a),(b)は、半導体チップにTCP
(テープキャリアパッケージ)の実装工程を施している
様子を示す断面図である。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is a plan view showing a part of a semiconductor wafer for explaining a conventional method for manufacturing a semiconductor device. FIGS. 3 (a) and 3 (b) show that a TCP
It is sectional drawing which shows a mode that the mounting process of (tape carrier package) is given.

【0003】まず、図2に示すように、半導体素子など
が形成された半導体ウエハ100を準備する。このウエ
ハ100は、半導体チップが形成されるチップ形成領域
109及びスクライブライン101を有している。チッ
プ形成領域109はスクライブライン101により分離
されている。スクライブライン101上にはAl配線材
料や複数のAlパターン102,103などが形成され
ている。Al配線材料は、Al配線パターンをチップ形
成領域に形成した際にスクライブライン101にも形成
されてしまうものである。また、Alパターンは、例え
ば、ウエハに形成されたTEG(Test Elementary Grou
p)などに電気的な試験を行う際に測定用針を接触させる
ためのパッド等である。
First, as shown in FIG. 2, a semiconductor wafer 100 on which semiconductor elements and the like are formed is prepared. The wafer 100 has a chip forming region 109 where a semiconductor chip is formed and a scribe line 101. The chip formation region 109 is separated by the scribe line 101. On the scribe line 101, an Al wiring material, a plurality of Al patterns 102, 103, and the like are formed. The Al wiring material is also formed on the scribe line 101 when the Al wiring pattern is formed in the chip formation region. The Al pattern is formed, for example, on a TEG (Test Elementary Grou) formed on a wafer.
A pad for contacting a measuring needle when performing an electrical test as in p).

【0004】次に、ウエハにダイシング工程を施す。す
なわち、回転したダイシングブレード(刃物)を用いて
ウエハ100をスクライブライン101に沿って切断す
る。以下、具体的な工程について説明する。
Next, a dicing process is performed on the wafer. That is, the wafer 100 is cut along the scribe line 101 using a rotated dicing blade (blade). Hereinafter, specific steps will be described.

【0005】図2に示すように、まず、Alパターン1
02,103より幅の広い第1ダイシングブレードをス
クライブライン101に位置合わせする。次に、第1ダ
イシングブレードを用いてスクライブライン101をハ
ーフダイシングする。この際のカット幅105はAlパ
ターン102,103の幅より広いものである。ハーフ
ダイシングとは、Alパターンを除去できる程度に浅く
削ることを意味し、スクライブラインが切断されること
はない。
[0005] As shown in FIG.
The first dicing blade wider than 02 and 103 is aligned with the scribe line 101. Next, the scribe line 101 is half-diced using a first dicing blade. The cut width 105 at this time is wider than the width of the Al patterns 102 and 103. Half dicing means that the Al pattern is cut to a small depth so that the Al pattern can be removed, and the scribe line is not cut.

【0006】この後、Alパターン102,103より
幅の狭い第2ダイシングブレードをスクライブライン1
01に位置合わせする。次に、第2ダイシングブレード
を用いてスクライブライン101をダイシングすること
により、スクライブラインでウエハが切断される。この
際のカット幅107はAlパターン102,103の幅
より狭いものである。このようにしてウエハ100から
半導体チップ(ICチップ)109が分離される。
Thereafter, a second dicing blade having a width smaller than that of the Al patterns 102 and 103 is applied to the scribe line 1.
Align to 01. Next, the wafer is cut at the scribe line by dicing the scribe line 101 using a second dicing blade. The cut width 107 at this time is smaller than the width of the Al patterns 102 and 103. Thus, the semiconductor chip (IC chip) 109 is separated from the wafer 100.

【0007】上記ダイシング工程によれば、第1ダイシ
ングブレードでハーフダイシングを行うことにより、ス
クライブライン上のAlパターン102,103を削り
とっているため、第2ダイシングブレードでウエハ10
0を切断した際にチップサイドにAlのかえりが発生す
ることを防止できる。つまり、ハーフダイシングを行う
ことなく第2ダイシングブレードのみでウエハにダイシ
ングを行うと、カット幅107がAlパターン102,
103の幅より狭いので、ダイシング工程の際、Alパ
ターン102,103が完全に切断されず、切断後にA
lパターンの一部が残ってしまい、その結果、チップサ
イドにAlのかえりが発生する。しかし、ハーフダイシ
ングを行うことによりAlのかえりの発生を防止でき
る。なお、Alのかえりとは、半導体チップ22の外周
付近(チップサイド)でAl片が立ち上がった状態で残
ったものである。
According to the above dicing step, the Al patterns 102 and 103 on the scribe line are cut off by performing half dicing with the first dicing blade.
It is possible to prevent generation of burrs of Al on the chip side when 0 is cut. In other words, if dicing is performed on the wafer using only the second dicing blade without performing half dicing, the cut width 107 becomes smaller than the Al pattern 102,
Since the width is smaller than the width of 103, the Al patterns 102 and 103 are not completely cut during the dicing process.
A part of the 1 pattern remains, and as a result, burrs of Al occur on the chip side. However, by performing half dicing, the generation of burrs of Al can be prevented. Note that the Al burr is that which remains in a state where the Al pieces stand up near the outer periphery of the semiconductor chip 22 (chip side).

【0008】この後、分離されたICチップ109には
TCPの実装工程が施される。すなわち、図3(a)に
示すように、まず、TAB(Tape Automated Bonding)
テープを準備する。このTABテープはフレキシブルテ
ープ111を有し、このフレキシブルテープ111上に
は接着剤(図示せず)によりボンディングリード(フィ
ンガー)112が接続されている。ボンディングリード
112はその先端にインナーリードを有している。
After that, the separated IC chip 109 is subjected to a TCP mounting process. That is, as shown in FIG. 3A, first, TAB (Tape Automated Bonding)
Prepare the tape. The TAB tape has a flexible tape 111, and bonding leads (fingers) 112 are connected to the flexible tape 111 by an adhesive (not shown). The bonding lead 112 has an inner lead at the tip.

【0009】次に、図3(b)に示すように、このイン
ナーリードをICチップ109のパッド113上に位置
合わせし、インナーリードとパッド113を加熱及び加
圧して圧着する。このようにしてTCP実装を行う。
Next, as shown in FIG. 3B, the inner leads are positioned on the pads 113 of the IC chip 109, and the inner leads and the pads 113 are heated and pressed to be pressed. Thus, the TCP mounting is performed.

【0010】上記TCP実装では、Alのかえりを防止
したチップ109を用いているため、Alのかえりによ
るチップ不良を防止することができる。Alのかえり
は、通常のワイヤボンディングでは特に問題とならない
が、図3に示すようなTCP実装及びCSP(Chip Size
d Package)等を製作する場合に問題となる。つまり、最
近のパッケージの縮小化により、ICチップ109とそ
れをつなぐインナーリード(フィンガー112)との間
隔が数十μm程度しかないため、Alのかえりがチップ
サイドに発生すると、Alのかえりとフィンガー112
とが接触して基板とフィンガーのショートもしくはフィ
ンガー間のショートが起こり、品質上大きな問題とな
り、そのICチップが不良となることがある。しかし、
上述した半導体装置の製造方法では、Alのかえりによ
るチップ不良の発生を防止することができる。
In the above-mentioned TCP mounting, since the chip 109 in which Al burrs are prevented is used, chip defects due to Al burrs can be prevented. The burring of Al is not particularly problematic in ordinary wire bonding. However, TCP mounting and CSP (Chip Size) as shown in FIG.
d Package) and so on. That is, due to recent miniaturization of the package, the distance between the IC chip 109 and the inner lead (finger 112) connecting it is only about several tens of μm. 112
May cause a short circuit between the substrate and the finger or a short circuit between the fingers, resulting in a large quality problem and a failure of the IC chip. But,
In the method of manufacturing a semiconductor device described above, it is possible to prevent the occurrence of a chip failure due to Al burrs.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上述したように上記従
来の半導体装置の製造方法では、第2ダイシングブレー
ドでハーフダイシングを行っているため、Alのかえり
が発生することを防止でき、その結果、Alのかえりに
よるチップ不良の発生を防止できる。
As described above, in the above-mentioned conventional method for manufacturing a semiconductor device, since half dicing is performed by the second dicing blade, it is possible to prevent the occurrence of burrs of Al. As a result, It is possible to prevent chip defects due to Al burrs.

【0012】しかしながら、第1ダイシングブレードと
第2ダイシングブレードを用いて2回のダイシングを行
う必要があるため、ダイシング工程のスループットが悪
くなる。すなわち、第1ダイシングブレードで位置合わ
せをしてダイシングを行い、ブレードを第2ダイシング
ブレードに替えて位置合わせをしてダイシングを行うの
で、一つのダイシングブレードでダイシングを行うのに
比べて2倍の時間が必要となる。
However, since it is necessary to perform dicing twice using the first dicing blade and the second dicing blade, the throughput of the dicing step is deteriorated. That is, since the dicing is performed by performing positioning with the first dicing blade and the blade is replaced with the second dicing blade and performing the dicing, the dicing is performed twice as much as the dicing performed by one dicing blade. It takes time.

【0013】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、ダイシング工程でAlの
かえりの発生を抑制しながらスループットの悪化を防止
できるダイシングブレード及びそれを用いた半導体装置
の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to use a dicing blade and a dicing blade capable of preventing the occurrence of burrs of Al in a dicing step and preventing a decrease in throughput. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るダイシングブレードは、ウエハのスク
ライブラインを切断してチップ毎に分離するためのダイ
シングブレードであって、スクライブライン上に形成さ
れた金属パターンを削りとるための広幅の刃を有する第
1ブレード部と、第1ブレード部の広幅の刃に設けら
れ、スクライブラインを切断するための細幅の刃を有す
る第2ブレード部と、を具備することを特徴とする。
尚、上記金属パターンはAlパターンであっても良い。
In order to solve the above-mentioned problems, a dicing blade according to the present invention is a dicing blade for cutting a scribe line of a wafer and separating the dice into chips, and is formed on the scribe line. A first blade portion having a wide blade for scraping the metal pattern, and a second blade portion provided on the wide blade of the first blade portion and having a narrow blade for cutting a scribe line; , Is provided.
Note that the metal pattern may be an Al pattern.

【0015】上記ダイシングブレードによれば、スクラ
イブライン上の金属パターンを削るための広い幅の刃を
有する第1ブレード部とスクライブラインを切断するた
めの細い幅の刃を有する第2ブレード部を具備するダイ
シングブレードを用いている。このため、ダイシング工
程において、スクライブライン上の金属パターンを第1
ブレード部の刃によって削り取りながら、第2ブレード
部の刃によってウエハを切断することができる。従っ
て、チップサイドに金属のかえりが発生することを抑制
でき、しかも、一つのダイシングブレードで1回のダイ
シングによってウエハを切断できるので、スループット
が悪化することを防止することができる。
According to the above-mentioned dicing blade, the first blade portion having a wide blade for cutting the metal pattern on the scribe line and the second blade portion having the narrow blade for cutting the scribe line are provided. The dicing blade is used. For this reason, in the dicing step, the metal pattern on the scribe line is
The wafer can be cut by the blade of the second blade portion while being scraped off by the blade of the blade portion. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of metal flash on the chip side, and it is possible to cut the wafer by one dicing with one dicing blade, so that it is possible to prevent a decrease in throughput.

【0016】また、本発明に係るダイシングブレードに
おいて、上記第1ブレード部の刃は上記金属パターンよ
り広い幅を有し、上記第2ブレード部の刃は上記金属パ
ターンより細い幅を有することが好ましい。
In the dicing blade according to the present invention, it is preferable that the blade of the first blade has a width wider than the metal pattern, and the blade of the second blade has a width narrower than the metal pattern. .

【0017】本発明に係る半導体装置の製造方法は、ダ
イシングブレードを用いて半導体ウエハをスクライブラ
インで切断することにより、複数の半導体チップを分離
するダイシング工程を具備する半導体装置の製造方法で
あって、上記ダイシングブレードは、スクライブライン
上に形成された金属パターンを削りとるための広幅の刃
を有する第1ブレード部と、第1ブレード部の広幅の刃
に設けられ、スクライブラインを切断するための細幅の
刃を有する第2ブレード部と、を具備するものであるこ
とを特徴とする。
A method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention is a method for manufacturing a semiconductor device comprising a dicing step of separating a plurality of semiconductor chips by cutting a semiconductor wafer along a scribe line using a dicing blade. The dicing blade is provided on a first blade portion having a wide blade for scraping a metal pattern formed on a scribe line; and a first blade portion having a wide blade for cutting the scribe line. And a second blade portion having a narrow blade.

【0018】また、本発明に係る半導体装置の製造方法
において、上記第1ブレード部の刃によるカット幅は上
記金属パターンより広い幅を有し、上記第2ブレード部
の刃によるカット幅は上記金属パターンより細い幅を有
することが好ましい。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the cut width of the first blade portion by the blade is wider than the metal pattern, and the cut width of the second blade portion by the blade is the metal. It is preferable to have a width smaller than the pattern.

【0019】また、本発明に係る半導体装置の製造方法
において、上記ダイシング工程は、第1ブレード部の広
幅の刃によって金属パターンを削り取りながら、第2ブ
レード部の細幅の刃によってスクライブラインを切断す
るものであることが好ましい。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, in the dicing step, the scribe line is cut by the narrow blade of the second blade while the metal pattern is scraped by the wide blade of the first blade. It is preferable that

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施の形態について説明する。図1(a)は、本発明の
実施の形態による半導体装置の製造方法を説明するもの
であり、半導体ウエハの一部を示す平面図である。図1
(b)は、図1(a)に示す半導体ウエハにダイシング
工程を施している様子を示す断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A illustrates a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and is a plan view illustrating a part of a semiconductor wafer. FIG.
FIG. 2B is a cross-sectional view illustrating a state in which a dicing process is performed on the semiconductor wafer illustrated in FIG.

【0021】まず、図1(a)に示すように、半導体素
子などが形成された半導体ウエハ10を準備する。この
ウエハ10は、半導体チップが形成されるチップ形成領
域9及びスクライブライン1を有している。チップ形成
領域9はスクライブライン1により分離されており、ス
クライブライン1には複数のAlパターン2,3などが
形成されている。Alパターン2,3は、例えば、ウエ
ハに形成されたTEGなどに電気的な試験を行う際に測
定用針を接触させるためのパッド等である。
First, as shown in FIG. 1A, a semiconductor wafer 10 on which semiconductor elements and the like are formed is prepared. The wafer 10 has a chip forming region 9 where semiconductor chips are formed and a scribe line 1. The chip forming region 9 is separated by the scribe line 1, and a plurality of Al patterns 2, 3 and the like are formed in the scribe line 1. The Al patterns 2 and 3 are, for example, pads for contacting a measuring needle when performing an electrical test on a TEG or the like formed on the wafer.

【0022】次に、図1(b)に示すように、ウエハに
ダイシング工程を施す。すなわち、まず、ダイシングブ
レード(刃物)4をスクライブライン1に位置合わせ
し、回転したダイシングブレード4を用いてウエハ10
をスクライブライン1に沿って切断する。
Next, as shown in FIG. 1B, a dicing process is performed on the wafer. That is, first, the dicing blade (blade) 4 is aligned with the scribe line 1 and the wafer 10 is rotated by using the rotated dicing blade 4.
Is cut along the scribe line 1.

【0023】ダイシングブレード4は、円盤形状からな
り、第1ブレード部4a及び第2ブレード部4bから構
成されている。第1ブレード部4aは、スクライブライ
ン1上のAlパターンを削るための広い幅5の刃を有し
ており、この刃はAlパターン2,3の幅6より広く形
成されている。第2ブレード部4bは、スクライブライ
ンを完全に切断するための細い幅7の刃を有しており、
この刃はAlパターン2,3の幅6より細く形成されて
いる。
The dicing blade 4 has a disk shape and includes a first blade portion 4a and a second blade portion 4b. The first blade portion 4a has a blade having a wide width 5 for shaving the Al pattern on the scribe line 1, and this blade is formed wider than the width 6 of the Al patterns 2 and 3. The second blade portion 4b has a blade with a narrow width 7 for completely cutting the scribe line,
This blade is formed thinner than the width 6 of the Al patterns 2 and 3.

【0024】第2ブレード部4bは第1ブレード部4a
の刃に設けられているので、ダイシングブレード4を用
いてウエハ10を切断する際、スクライブライン1上の
Alパターン2,3が第1ブレード4aの刃によって削
り取られながら、第2ブレード4bの刃によってウエハ
を切断してチップ9毎に分離することができる。
The second blade section 4b is connected to the first blade section 4a.
When the wafer 10 is cut using the dicing blade 4, the Al patterns 2 and 3 on the scribe line 1 are cut off by the blade of the first blade 4a while the blade of the second blade 4b is cut off. In this way, the wafer can be cut and separated into chips 9.

【0025】この後、分離されたICチップ9にTCP
の実装工程を施す。すなわち、まず、TABテープを準
備する。このTABテープは図3に示すものと同様であ
る。この後、インナーリード(フィンガー)をICチッ
プのパッド上に位置合わせし、インナーリードとパッド
を加熱及び加圧して圧着する。このようにしてTCP実
装を行う。
After that, the separated IC chip 9 is
Is carried out. That is, first, a TAB tape is prepared. This TAB tape is the same as that shown in FIG. Thereafter, the inner leads (fingers) are positioned on the pads of the IC chip, and the inner leads and the pads are heated and pressed to be pressed. Thus, the TCP mounting is performed.

【0026】上記実施の形態によれば、スクライブライ
ン1上のAlパターンを削るための広い幅5の刃を有す
る第1ブレード部4aとスクライブラインを完全に切断
するための細い幅7の刃を有する第2ブレード部4bか
らなるダイシングブレード4を用いている。このため、
ダイシング工程において、スクライブライン表面のAl
パターン2,3を第1ブレード部4aの刃によって削り
取りながら、第2ブレード部4bの刃によってウエハを
切断することができる。従って、チップサイドにAlの
かえりが発生することを抑制でき、しかも、ブレードを
替えることなく一つのダイシングブレード4で1回のダ
イシングによってウエハを切断できるので、従来の半導
体装置の製造方法に比べてスループットを向上させるこ
とができる。
According to the above-described embodiment, the first blade portion 4a having the wide blade 5 for cutting the Al pattern on the scribe line 1 and the narrow blade 7 for completely cutting the scribe line are provided. The dicing blade 4 including the second blade portion 4b is used. For this reason,
In the dicing process, the Al on the scribe line surface
The wafers can be cut by the blades of the second blade portion 4b while shaving off the patterns 2 and 3 by the blades of the first blade portion 4a. Therefore, generation of Al burrs on the chip side can be suppressed, and the wafer can be cut by one dicing with one dicing blade 4 without changing the blade. Throughput can be improved.

【0027】尚、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々変更して実施することが可能である。例えば、
ダイシングブレードにおける第1ブレード部4a及び第
2ブレード部4bそれぞれの形状、寸法などは、ダイシ
ングを行うウエハによって適宜適切な形状、寸法に変更
して実施することが可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented with various modifications. For example,
The shape and size of each of the first blade portion 4a and the second blade portion 4b of the dicing blade can be appropriately changed to appropriate shapes and sizes depending on the wafer to be diced.

【0028】また、上記実施の形態では、スクライブラ
イン1にAlパターン2,3を形成しているが、Alに
限定されるものではなく、スクライブライン1に他の金
属(例えばCu)からなる金属パターンを形成すること
も可能である。
In the above embodiment, the Al patterns 2 and 3 are formed on the scribe line 1. However, the present invention is not limited to Al, and the scribe line 1 may be formed of a metal made of another metal (for example, Cu). It is also possible to form a pattern.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ス
クライブライン上に形成されたAlパターンを削りとる
ための広幅の刃を有する第1ブレード部と、スクライブ
ラインを切断するための細幅の刃を有する第2ブレード
部と、を具備する。したがって、ダイシング工程でAl
のかえりの発生を抑制しながらスループットの悪化を防
止できるダイシングブレード及びそれを用いた半導体装
置の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, the first blade portion having the wide blade for scraping the Al pattern formed on the scribe line and the narrow blade for cutting the scribe line are provided. And a second blade portion having the above-mentioned blade. Therefore, in the dicing process, Al
It is possible to provide a dicing blade capable of preventing deterioration of throughput while suppressing occurrence of burrs and a method of manufacturing a semiconductor device using the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は、本発明の実施の形態による半導体装
置の製造方法を説明するものであって、半導体ウエハの
一部を示す平面図であり、(b)は、(a)に示す半導
体ウエハにダイシング工程を施している様子を示す断面
図である。
FIG. 1A is a plan view illustrating a part of a semiconductor wafer for explaining a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is sectional drawing which shows a mode that the dicing process is given to the shown semiconductor wafer.

【図2】従来の半導体装置の製造方法を説明するもので
あり、半導体ウエハの一部を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view illustrating a part of a semiconductor wafer for explaining a conventional method for manufacturing a semiconductor device.

【図3】(a),(b)は、半導体チップにTCPの実
装工程を施している様子を示す断面図である。
FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views showing a state in which a semiconductor chip is subjected to a TCP mounting step.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,101 スクライブライン 2,3,102,103 Alパターン 4 ダイシングブレード 4a 第1ブレード部 4b 第2ブレード部 5 第1ブレード部の刃の幅 6 Alパターンの幅 7 第2ブレード部の刃の幅 9,109 チップ形成領域(ICチップ) 10,100 半導体ウエハ 105,107 カット幅 111 フレキシブルテープ 112 ボンディングリード(フィンガー) 113 パッド 1,101 scribe line 2,3,102,103 Al pattern 4 Dicing blade 4a First blade part 4b Second blade part 5 Blade width of first blade part 6 Width of Al pattern 7 Width of blade of second blade part 9, 109 Chip formation area (IC chip) 10, 100 Semiconductor wafer 105, 107 Cut width 111 Flexible tape 112 Bonding lead (finger) 113 Pad

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウエハのスクライブラインを切断してチ
ップ毎に分離するためのダイシングブレードであって、 スクライブライン上に形成された金属パターンを削りと
るための広幅の刃を有する第1ブレード部と、 第1ブレード部の広幅の刃に設けられ、スクライブライ
ンを切断するための細幅の刃を有する第2ブレード部
と、 を具備することを特徴とするダイシングブレード。
1. A dicing blade for cutting a scribe line of a wafer to separate each chip, the first blade having a wide blade for scraping a metal pattern formed on the scribe line; A dicing blade provided on a wide blade of the first blade portion and having a narrow blade for cutting a scribe line.
【請求項2】 上記第1ブレード部の刃は上記金属パタ
ーンより広い幅を有し、上記第2ブレード部の刃は上記
金属パターンより細い幅を有することを特徴とする請求
項1記載のダイシングブレード。
2. The dicing device according to claim 1, wherein the blade of the first blade has a width wider than the metal pattern, and the blade of the second blade has a width smaller than the metal pattern. blade.
【請求項3】 ダイシングブレードを用いて半導体ウエ
ハをスクライブラインで切断することにより、複数の半
導体チップを分離するダイシング工程を具備する半導体
装置の製造方法であって、 上記ダイシングブレードは、スクライブライン上に形成
された金属パターンを削りとるための広幅の刃を有する
第1ブレード部と、 第1ブレード部の広幅の刃に設けられ、スクライブライ
ンを切断するための細幅の刃を有する第2ブレード部
と、を具備するものであることを特徴とする半導体装置
の製造方法。
3. A method of manufacturing a semiconductor device comprising a dicing step of separating a plurality of semiconductor chips by cutting a semiconductor wafer at a scribe line using a dicing blade, wherein the dicing blade is provided on a scribe line. First blade portion having a wide blade for scraping a metal pattern formed on the first blade portion, and a second blade provided on the wide blade of the first blade portion and having a narrow blade for cutting a scribe line And a method of manufacturing a semiconductor device.
【請求項4】 上記第1ブレード部の刃によるカット幅
は上記金属パターンより広い幅を有し、上記第2ブレー
ド部の刃によるカット幅は上記金属パターンより細い幅
を有することを特徴とする請求項3記載の半導体装置の
製造方法。
4. The cutting width of the first blade portion with the blade is wider than the metal pattern, and the cutting width of the second blade portion with the blade is narrower than the metal pattern. A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 3.
【請求項5】 上記ダイシング工程は、第1ブレード部
の広幅の刃によって金属パターンを削り取りながら、第
2ブレード部の細幅の刃によってスクライブラインを切
断するものであることを特徴とする請求項3又は4記載
の半導体装置の製造方法。
5. The dicing step according to claim 1, wherein the scribe line is cut by the narrow blade of the second blade while the metal pattern is scraped by the wide blade of the first blade. 5. The method for manufacturing a semiconductor device according to 3 or 4.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005039088A (en) * 2003-07-16 2005-02-10 Sanyo Electric Co Ltd Cutting method, cutter and process for manufacturing semiconductor device
JP2019102697A (en) * 2017-12-05 2019-06-24 エイブリック株式会社 Semiconductor device and manufacturing method of the same

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