JP2002090787A - 波長変換光学系及びこの波長変換光学系を用いた露光装置 - Google Patents

波長変換光学系及びこの波長変換光学系を用いた露光装置

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JP2002090787A
JP2002090787A JP2000282952A JP2000282952A JP2002090787A JP 2002090787 A JP2002090787 A JP 2002090787A JP 2000282952 A JP2000282952 A JP 2000282952A JP 2000282952 A JP2000282952 A JP 2000282952A JP 2002090787 A JP2002090787 A JP 2002090787A
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light
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lens
optical system
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Hisao Osawa
日佐雄 大澤
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Nikon Corp
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 角度位相整合を行う波長変換光学系におい
て、光源からの光の出射角度が変化しても波長変換効率
が変化しない波長変換光学系を得る。 【解決手段】 後段の非線形光学結晶B1に対して光源
とみなせる前段の非線形光学結晶A1と、これ等の非線
形光学結晶の間に配設されて前段の非線形光学結晶から
射出される光を集光入射させるレンズR1とを有する波
長変換光学系において、前段の結晶A1におけるビーム
スポットとレンズR1との距離をa、レンズRの焦点距
離をf、レンズR1と後段の結晶B1に形成されるビーム
スポットとの距離をbとしたときに、距離aがレンズの
焦点距離fとほぼ等しくなるようにfとaとの関係を設
定する。あるいはf−aがbに比べて小さくなるように
fとa及びbの関係を設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、波長変換光学系に
関し、なお詳細には角度位相整合により波長変換を行う
波長変換光学系において、非線形光学結晶に光を入射さ
せるときの位相整合角の設定を容易化した波長変換光学
系に関する。
【0002】
【従来の技術】波長変換光学系は、媒質の非線形光学効
果を利用して入射光の光波長を異なる波長の光に変換す
る光学系であり、非線形光学素子の高調波発生や和周波
発生、パラメトリック発生等を応用することにより、入
射された基本波の光波長を所望の光周波数の光に変換す
る光学技術として広く研究開発が成されている。例え
ば、周波数安定化した赤外レーザの基本波を複数段の非
線形光学結晶に順次入射させ、第2高調波発生や和周波
発生を生じさせてKrFエキシマレーザやArFエキシマ
レーザ(それぞれ発振波長λ=248nm,193nm)、あるい
はF2レーザ(λ=157nm)などと同一波長の紫外光を射
出させる波長変換光学系が、半導体製造を始めとする微
細加工技術の光源として用いられつつある。
【0003】図7は、このような波長変換光学系の一例
として、入射波長1.544μmの基本波レーザ光(光周波数
ω)を順次波長変換して出力波長221nmの第7高調波
(光周波数7ω)を発生させる波長変換光学系を示した
ものである。図において、左端から入射された基本波レ
ーザ光(光周波数ω)が、非線形光学結晶(波長変換結
晶とも称される)61,62,63,64を図中左から
右に向かって透過し第7高調波が図の右端から出力され
る。
【0004】基本波が第1段の波長変換結晶(非線形光
学結晶)であるLBO結晶61を通る際に第2高調波発
生(SHG)により光周波数が基本波の2倍の第2高調
波(2ω、2倍波とも称する)が発生する。発生した第
2高調波は波長変換されずに透過した基本波とともに、
色消しレンズ72で第2段の波長変換結晶であるLBO
結晶62に集光入射され、この結晶中で和周波発生(ω
+2ω=3ω)により第3高調波(3ω)に変換され
る。発生した第3高調波と変換されずに透過した第2高
調波とはダイクロックミラー81で分離され、このミラ
ーで反射された第2高調波(2ω)は、レンズ73によ
って3段目の波長変換結晶であるLBO結晶63に集光
入射される。LBO結晶63中では第2高調波が2倍波
発生により第4高調波に変換される。LBO結晶63で
変換された第4高調波とダイクロックミラー81を透過
した第3高調波とは、それぞれの光路上のレンズ75,
74で集光されるとともにダイクロックミラー84で合
成され、4段目の波長変換結晶であるBBO結晶64の
同一点に集光される。BBO結晶64では和周波発生
(3ω+4ω=7ω)により基本波の第7高調波が発生
する。従って、以上のような波長変換光学系において、
基本波として波長λi=1.544μmの赤外光を入射させた
ときに出力波として波長λo=221nmの紫外光を得ること
ができる。
【0005】このような波長変換光学系において、各非
線形光学結晶中における波長変換を高い効率で発生させ
るためには、それぞれの非線形光学結晶中に於ける光の
パワー密度を一定以上に保つ必要があり、このため各段
の結晶間には出射光を次段の非線形光学結晶中に集光さ
せるレンズ72,73,74,75が配設されている。
これら各レンズの焦点距離は、一般に光学系全体の物理
的大きさや結晶中での理想的なビームスポット径などを
考慮して設計されており、通常では波長変換後の高次光
ほど光パワーが減少してゆくために、後段に進むほどビ
ームスポットサイズが小さくなるように焦点距離を調整
し、パワー密度の低下を防止している。
【0006】ところで、非線形光学結晶を利用して波長
変換を行う場合には、非線形光学結晶中におけるパワー
密度やビームプロフィールとともに、非線形光学結晶中
への光の入射角が極めて重要である。例えば、非線形光
学結晶に光周波数ω1とω2の二つの光を入射させ、和周
波発生により周波数ω3の高次光を発生させる場合には
ω1+ω2=ω3なる関係をもつが、一般に結晶の屈折率
nは周波数の関数として表され、各周波数ω123
に対して異なった値(n1,n2,n3)となる。このため結
晶中を進行する光の波数ベクトルkiは、光速をcとし
たときに、
【0007】
【数1】ki=niωi/c であり、 k3=k1+k2 にならない。
【0008】従って、同一結晶中を進行するうちに、次
第に屈折率差に応じた位相ズレが生じ結晶各点で発生し
た和周波光が干渉して強めあったり打ち消しあったりし
て、効率よく和周波光を取り出すことができない。
【0009】ところで、一軸性結晶や二軸性結晶では入
射光の偏光方向により屈折率が異なる現象が見られる。
いわゆる常光線と異常光線である。そこで、このような
結晶の複屈折性を利用するとk3=k1+k2の関係が成
り立つ特定の入射角を見出すことができる。このような
入射角を位相整合角θpmといい、位相整合角で入射させ
ることにより位相整合条件をマッチさせる整合方法を角
度位相整合(クリティカル位相整合)という。
【0010】従って、角度位相整合においては、非線形
光学結晶の光学軸に対して所定の位相整合角θpmで光を
入射させることにより、高い効率で和周波発生や第2高
調波発生等の波長変換を行うことができる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高い効
率で波長変換を行うことができるのは、k3=k1+k2
の関係を満たす特定の位相整合角θpmに限られるため、
入射角が位相整合角からずれると上式の関係が崩れて波
長変換効率が急激に低下する。その変化の様子は、位相
不整合量Δk=k3−(k1+k2)、入射角の位相整合角
からのずれをΔθ、結晶長をLとしたときに、近似的に
次式で示される。
【0012】
【数2】
【0013】ここで、波長変換された出力光強度が50%
となる角度許容幅ΔθLは、対象とする非線形光学結晶
の特性値や入射波長等を代入して数値計算することによ
り求められ、例えば、図7を用いて説明した波長変換光
学系におけるLBO結晶63について求めるとΔθL=
0.3mrad・cm程度の値となる。このことは結晶長10mmのL
BO結晶に対して入射角が0.3mradずれると波長変換効
率が半減することを意味し、波長変換光学系を組む際の
各構成部品の形状精度や位置精度、調整精度等の初期精
度をはじめ、光学部品を支持する支持部材の経時変化や
光学系のベースとなる基材の温度変化にともなう相対変
位等に対しても極めて高い精度を維持する必要があるこ
とが解る。
【0014】特に、集光スポットでのパワー密度を増加
させるために比較的短い焦点距離のレンズを用いた場合
においては、レンズのわずかな位置ズレが大きな角度ズ
レを引き起こすため、レンズ位置を極めて正確に調整す
る必要があった。例えば、焦点距離10mmのレンズを用い
た場合には、レンズ位置が光軸から1μmずれたときの角
度ズレΔθは0.1mradとなり、上記結晶の場合では9%も
の出力低下を引き起こすことになる。さらに、波長変換
が複数段の場合には、前段での角度ズレが光軸ズレとな
って後段に影響を与え、さらに後段での角度ズレ等を含
んで順次拡大して行くため、波長変換光学系全体での大
きな問題となる。
【0015】このため、角度整合を行う従来の波長変換
光学系では、構成する各レンズや非線形光学結晶等の位
置や角度を厳密に調整し、かつ、これ等を長期にわたっ
て維持可能に構成せざるを得なかった。具体的には、波
長変換光学系を構成する各構成部材を、個々の部品段階
・組立段階において極めて高い形状精度や位置精度等を
有するように構成し、ベース部材等は温度変化に対して
変位しないようにスーパーインバーやゼロデュア等の特
殊な低熱膨張材料を用い、さらに光学系全体を恒温に維
持するなどの手段が用いられていた。このため、光学系
の構成部材自身が高価なうえ組立・調整工数が多大とな
り、装置全体が高価になるという課題を有していた。
【0016】本発明は、上記のような問題や課題に鑑み
て成されたものであり、角度位相整合を行う波長変換光
学系において、たとえ光源や前段の非線形光学結晶から
射出される光の角度が変化した場合であっても、波長変
換効率を悪化させることがない波長変換光学系を提供す
ることを目的とし、併せて、上記波長変換光学系を用い
ることにより経時変化や外乱等によらずに安定した出力
特性を備えた長期信頼性の高い露光装置を提供すること
を目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、第
1の本発明は、光源と、この光源から射出された光を光
源の波長と異なる波長の光に変換する第1の非線形光学
結晶と、光源と第1の非線形光学結晶との間に配設され
て光源から射出された光を集光して第1の非線形光学結
晶に入射させるレンズとを有する波長変換光学系であっ
て、光源において最小スポットサイズになるビームスポ
ットとレンズとの距離aが、レンズの焦点距離fとほぼ
等しくなるように波長変換光学系を構成する。
【0018】第2の本発明は、光源と、この光源から射
出された光を光源の波長と異なる波長の光に変換する第
1の非線形光学結晶と、光源と第1の非線形光学結晶と
の間に配設されて光源から射出された光を集光して第1
の非線形光学結晶に入射させるレンズとを有する波長変
換光学系であって、光源において最小スポットサイズに
なる第1ビームスポットとレンズとの距離aとレンズの
焦点距離fとの差(f−a)が、レンズと第1の非線形
光学結晶中において最小スポットサイズになる第2ビー
ムスポットとレンズとの距離bに比べて小さくなるよう
に波長変換光学系を構成する。
【0019】第3の本発明における波長変換光学系は、
上記第1または第2の発明における光源が、さらに前段
の光源から入射された光を波長変換して射出する第2の
非線形光学結晶であり、この第2の非線形光学結晶から
射出される光は、第2の非線形光学結晶においてウォー
クオフを起こして略平行光とみなせることを特徴とす
る。
【0020】以上のような構成によれば、光源または光
源とみなせる前段の非線形光学結晶から射出される光の
出射角度が変化した場合であっても、レンズを介して入
射される第1の非線形光学結晶への入射角はほとんど変
化することがない。以下、この基本概念を図1及び図2
を用いて説明する。
【0021】なお、本明細書において「光源」とは、対
象としている光学素子に対して光を射出するエレメント
を意味し、レーザ発振器のように自ら光を発生させる装
置のみならず、例えば、複数段の波長変換光学系におい
ては、初段の非線形光学結晶に光を導く光ファイバー
や、対象とする非線形光学結晶の前段の非線形光学結晶
等をも含む概念である。また、「ビームスポット」と
は、対象とする近傍領域においてビームスポットサイズ
が最も小さくなる位置(ビームウェスト位置)における
光スポットを意味する。
【0022】図1及び図2は、非線形光学結晶A1のビ
ームスポットから射出されたビームが、レンズR1を介
して次段の非線形光学結晶B1に集光入射されるときの
軌跡を模式的に示したものである。なお、図では簡明化
のため非線形光学結晶A1,B1の屈折率nを間の空間と
同一のn=1として表示している。
【0023】ガウスビームにおいても、ある特定の光線
成分のみの伝播を取り扱うときには、幾何光学的な取り
扱いで十分である。従って、結晶A1から射出されるビ
ーム中で強度最大の成分L(以下最大強度成分Lと表記
する)の光軸CLに対する傾き角αに対して、結晶B1
入射する最大強度成分Lの光軸CLに対する傾き角βを
計算すると、
【0024】
【数3】β=(f−a)α/b
【0025】のように表すことができる。ここにa,b
はそれぞれの屈折率を加味したレンズから結晶A1,B1
までの距離、fはレンズR1の焦点距離である。
【0026】上記式において、レンズの焦点距離fと距
離aとの関係を変化させたときに、結晶B1に入射する
最大強度成分Lの傾き角βがどの様に変化して行くかを
比較して示したのが図1及び図2である。上記式及び両
図を比較して明らかなように、fとaとが接近するに従
って傾き角βが小さくなり、結晶B1に入射する最大強
度成分Lは徐々に光軸CLに平行に近づいてくる。そし
て、f≒aのとき(図2)には傾き角βが非常に小さな値
となり、これに伴って結晶A1からの出射角の角度変化
Δαに対する入射角の角度変化Δβは極めて小さな値と
なる。さらに、f=aとしたときには、結晶B1に入射
する最大強度成分Lは光軸CLと完全に平行になり、傾
き角βは結晶A1からの出射角αの如何に拘わらず、す
なわち結晶A1からの出射角度がいかに変化しようと、
全く影響を受けることなく常に光軸CLと平行に維持さ
れる。
【0027】従って、第1の本発明、すなわち結晶A1
(請求範囲における光源または第2の非線形光学結晶が
該当する)中のビームスポットとレンズとの距離aをレ
ンズの焦点距離fとほぼ等しくして波長変換光学系を構
成した場合には、たとえ結晶A1からの出射角αが変化
した場合であっても後段の結晶B1(請求範囲における
第1の非線形光学結晶が該当する)への入射角βは何等
影響を受けることがない。このため、角度位相整合を行
う波長変換光学系において、位相整合許容角が狭い非線
形光学結晶に対しても経時変化や熱的変化によらず一定
した入射角を維持することができ、これにより、簡便な
構成で波長変換効率が安定した波長変換光学系を提供す
ることができる。
【0028】なお、結晶A1中にビームスポットがあ
り、かつ、このビームスポットとレンズの焦点距離との
関係を完全にf=aとした場合には、結晶B1に入射す
るビームの入射角βは結晶A1からの出射角αの変化の
影響を全く受けることなく、従って最大の効果を有する
ことになるが、この場合には結晶B1側のビームは平行
光束となるため結晶B1中に明確なビームスポットを形
成することができない。
【0029】そこで、結晶B1中にビームスポットを形
成しようとするときには、結晶A1中におけるビームス
ポットとレンズの焦点距離との関係を完全にf=aとせ
ず、一定量ずらして設定する(図2)。この場合には結晶
1中におけるビームスポットサイズを考慮した上でf
とa及びbの関係を設定するが、前述したαとβとの関
係式から明らかなように、f−aに比べてレンズR1
結晶B1中におけるビームスポットとの距離bを充分大
きく取ることにより、結晶B1に入射するビームの傾斜
角βを結晶A1から射出するビームの傾斜角αよりも充
分小さくすることができ、これにより結晶B1に入射す
る光の入射角の変化Δβは、結晶A1からの出射角の変
化Δαに対して極めて小さな値とすることができる。
【0030】従って、第2の本発明、すなわち結晶A1
(請求の範囲における光源または第2の非線形光学結晶
が該当する)中のビームスポットとレンズとの距離aと
レンズの焦点距離fとの差f−aを、後段の結晶B
1(請求の範囲における第1の非線形光学結晶が該当す
る)中のビームスポットとレンズとの距離bに比べて小
さくなるようにして波長変換光学系を構成した場合に
は、結晶A1からの出射角αの変化Δαに対して後段の
結晶B1への入射角βの変化Δβを極めて小さく抑制す
ることができる。このため、角度位相整合を行う波長変
換光学系において、位相整合許容角が狭い非線形光学結
晶に対しても経時変化や熱的変化の影響を受けにくく一
定した入射角を維持することができ、これにより、簡便
な構成で波長変換効率が安定した波長変換光学系を提供
することができる。
【0031】ところで、波長変換をおこなう非線形光学
結晶中において生じる特異な効果の一つとしてウォーク
オフ(Walk-off)がある。これは、発生させる高調波が
その結晶において異常光である場合に、結晶各点で波長
変換される高調波が入射波とある角度をもって伝播する
ために生じる現象であり、結晶から射出されるビームは
当該角度面の方向に拡大されて長円形のビームとなる。
そして、このようなウォークオフ現象が生じた高調波ビ
ームは、そのビーム径の拡大効果によりビーム発散角が
極めて小さくなり、波長変換光学系内においては事実上
平行光とみなして取り扱うことができる。
【0032】図3は、図1及び図2を用いて説明したと
同様の波長変換光学系において、結晶A2で発生した光
がウォークオフ現象により傾き角αの平行光として射出
される場合を、図2と対応させて示したものである。こ
のような場合において、結晶A2中においてビームスポ
ットとみなせる位置とレンズR2との距離aと、レンズ
2の焦点距離fとの関係をf=aとしたときには、結
晶B2中へのビーム強度最大成分Lの傾き角βが光軸CL
と平行になり、結晶A2から射出されるビームの傾き角
αが如何に変化しようと結晶B2中へのビーム強度最大
成分Lの傾き角βは光軸CLに平行な状態が維持され
る。一方、レンズRを透過した光は結晶A2から射出さ
れるビームがほぼ平行光であるために結晶B2中に集光
され明確なビームスポットを形成する。
【0033】このため、結晶A2からの出射光がウォー
クオフを起こしている場合には、f=aの関係を満たす
ように波長変換光学系を設定することによって、結晶B
2に入射するビームの入射角βは結晶A2からの出射角α
が変化した場合であっても、その角度変化の影響を全く
受けることなく(すなわち最大の効果を有した上で)、
かつ、結晶B2中に所望のパワー密度を有するビームス
ポットを容易に形成することができる。
【0034】また、前述した第2の発明と同様にf−a
を結晶中のビームスポットとレンズとの距離bに比べて
充分小さくする構成とすれば、結晶A2からの出射角α
の変化Δαに対して後段の結晶B2への入射角βの変化
Δβを極めて小さく抑制することができ、かつ、結晶B
2中に所望のパワー密度を有するビームスポットを容易
に形成することができる。
【0035】従って、第3の本発明、すなわち結晶A2
(請求の範囲における第2の非線形光学結晶が該当す
る)から射出される光がウォークオフを起こして略平行
光とみなせる場合において、結晶A2中のビームスポッ
トとレンズとの距離aをレンズの焦点距離fとほぼ等し
く設定し、あるいは結晶A2中のビームスポットとレン
ズとの距離aとレンズの焦点距離fとの差f−aを後段
の結晶B2(請求の範囲における第1の非線形光学結晶
が該当する)中のビームスポットとレンズとの距離bに
比べて小さくなるように設定して波長変換光学系を構成
することにより、前述した第1または第2の発明と同様
に、結晶A2からの出射角αが変化した場合であっても
後段の結晶B2への入射角βが全く影響を受けないか、
またはその影響を極めて小さく抑制することができ、か
つ、結晶B2中に所望のパワー密度を有するビームスポ
ットを容易に形成することができる。
【0036】このため、角度位相整合を行う波長変換光
学系において、位相整合許容角が狭い非線形光学結晶に
対しても経時変化や熱的変化によらず一定した入射角を
維持することができるうえ、後段の非線形光学結晶に最
適化したビームスポットを容易に形成することができ
る。これにより、簡便な構成で波長変換効率が高く安定
した出力特性を有する波長変換光学系を提供することが
できる。
【0037】第4の本発明は、第3の発明において、第
2の非線形光学結晶から射出される光におけるウォーク
オフを起こして長径化している方向と、第1の非線形光
学結晶における入射角度依存性が高い方向とを一致させ
て、第1の非線形光学結晶に入射させることを特徴とす
る。
【0038】角度位相整合を利用している非線形光学結
晶には、1本の光学軸を持つ一軸性結晶や、2本の光学
軸を持つ二軸性結晶を用いる。一般に、ある面に光を入
射させるときには入射角には2つの自由度があるが、上
記のような非線形光学結晶の端面に光を入射するときに
は、入射光の光軸と非線形光学結晶の光学軸を含む面内
の角度の方が、それと直交する角度に比べて、波長変換
結果の受ける角度依存性が大きい。異常光線の屈折率は
光学軸を含む面内での角度によって変化するため、位相
整合に大きな影響を及ぼすからである。
【0039】そこで、第4の本発明では、前段の非線形
光学結晶(請求の範囲における第2の非線形光学結晶が
該当する)からの出力光がウォークオフを起こしている
場合に、ウォークオフ効果により長径化している方向
と、後段の非線形光学結晶(請求の範囲における第1の
非線形光学結晶が該当する)における入射角度依存性が
高い方向(位相整合角度面の方向)とを一致させて後段の
結晶に入射させる
【0040】これまでの説明から明らかなように、前段
の結晶からの出力光がウォークオフを起こして略平行光
とみなせる場合には、f≒a(あるいはf−a≪b)な
る関係を満たす配置としたときに、前段の結晶からの出
射角αが角度変化を起こしても後段の結晶への入射角β
がほとんど変化することなく、かつ、後段の結晶中に所
望のビームスポットを形成することができる。このた
め、入射角度依存性が高い方向とウォークオフを起こし
て長径化している方向とを一致させて入射させる本発明
によれば、第1から第3の発明の効果を最大限に発揮さ
せて、波長変換効率が高く長期にわたり安定した変換効
率を維持する波長変換光学系を提供することができる。
【0041】第5の本発明は、以上説明した波長変換光
学系を有して露光装置を構成する。すなわち、本発明に
係る露光装置は基本波出力光を波長変換光学系において
波長変換し、その出力光を照明用の光源装置として用い
る露光装置である。これまでの説明から明らかなよう
に、本発明に係る波長変換光学系は光源や中間段の出射
光の出射角(α)が角度変化を生じた場合であっても次段
の非線形光学結晶に入射する入射角(β)はほとんど変化
することがなく、経時変化や外乱に対して極めて安定し
た波長変換効率を維持する。
【0042】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る波長変換光学
系及びこの波長変換光学系を用いた露光装置の好ましい
実施形態について図面を参照して説明する。まず、波長
変換光学系の実施例を説明するに先立ち、図4を参照し
て波長変換光学系を有する露光装置全体の構成から説明
する。露光装置1は、例えば半導体素子や液晶表示素
子、撮像素子、薄膜磁気ヘッドなどのマイクロデバイス
を製造するフォトリソグラフィ工程で使用される露光装
置であり、その構成を大別すると、露光に最適な光をつ
くりだす光源装置500と、この光源装置500からの
光を用いて露光を行う露光装置本体600とから構成さ
れている。
【0043】光源装置500から射出されたレーザ光L
Bは後に詳述する露光装置本体600内に導入される。
露光装置本体600では、レーザ光LBは照明光学系6
10を通して投影面上での照度分布が均一となるように
レチクル620に拡大投影され、その投影パターン(レ
チクルパターン)は投影光学系640により所定の縮小
倍率で縮小されてフォトレジストが塗布された半導体基
板やガラス基板等の被露光媒体650上に光学的に投影
して転写する。
【0044】露光装置用の光源には、その目的とする用
途に応じて種々のタイプがあるが、上記のようなマイク
ロデバイスを製造するための露光装置では、露光しよう
とする回路の集積度を向上させるために(描画する線幅
を細くするために)露光光の短波長化が進められてい
る。すなわち、光源として従来から用いられてきた水銀
ランプのg線(波長λ=436nm)からh線(λ=405nm)、i
線(λ=365nm)へと移行し、現在ではさらに短波長の紫
外光を発振するKrFエキシマレーザ(λ=248nm)が実用
化段階にある。光源波長の短波長化はさらに続けられて
おり、ArFエキシマレーザ(λ=193nm)を用いた露光装
置の開発が鋭意進められている。
【0045】ところが、上記のようなエキシマレーザ
は、発振波長が短く単色性が高い紫外光を直接発生する
光源として有用であるが、一方で、レーザ装置が大型か
つ高価である点や、レーザ媒質としてフッ化ガスを用い
ること、強力な紫外光を発生させることなどに起因し
て、光学素子を始めとする構成部材のメインテナンス工
数が多くランニングコストが高価なこと、またメインテ
ナンス時に安全面について厳重な配慮が必要であること
などの課題を有している。
【0046】そこで、上記課題を解決しエキシマレーザ
に代わる光源として、波長変換光学系を有する光源装置
が考案されている。これは、固体レーザや半導体レーザ
等の出力光を、波長変換光学系を用いて波長変換するこ
とにより、露光に適した所望の波長の光を得られるよう
に構成した光源装置であり、例えば赤外レーザ光を必要
に応じて変調しあるいは増幅し、入射波長に対応した非
線形光学結晶を単段もしくは複数段透過させることによ
り波長変換して、所望の出力波長、例えば上述したKr
FエキシマレーザやArFエキシマレーザと同一波長(λ
=248nmや193nm)、あるいはさらに短波長のF2レーザと
同一波長(λ=157nm)の紫外光を得ることができる光源
装置である。
【0047】図4に示した光源装置500は、上記のよ
うな波長変換光学系を有し得る光源装置の一例を示した
ものであり、本発明に係る波長変換光学系300の好ま
しい実施形態の一例を開示したものである。
【0048】光源装置500は、レーザ光発生部10
0、光増幅器200、波長変換光学系300などからな
り、これ等各要素の間には必要に応じて光変調器やアイ
ソレータ、レンズなどの光学素子や出力モニター装置な
どが適宜配設される(150,250,350)。以下
ではレーザ光発生部100で発生される波長λi=1.544
μmの基本波レーザ光を光増幅器200で増幅し、波長
変換光学系300で波長変換して出力波長λo=193nmの
紫外光を出力する光源装置について説明する。
【0049】レーザ光発生部100には、単一波長発振
レーザとして発振波長λi=1.544μmのInGaAsP、D
FB半導体レーザを有し、このDFB半導体レーザを温
調制御することにより一定の狭帯域単一波長で発振する
ように制御する。DFB半導体レーザからの出力光は、
光変調器でパルス変調された後遅延ファイバーや時分割
光分割手段(TDM)等を用いて後段の光増幅器200の
チャネル数(例えば120ch)に対応して分割され(15
0)、光増幅器200に入射される。
【0050】光増幅器200は、マルチチャネルからな
るファイバー光増幅器であり、露光出力に応じて単段ま
たは複数段で構成される。各チャネルに対応するファイ
バー光増幅器としては、例えばエルビウム(Er)ドープ
・ファイバー光増幅器(EDFA)を用いることがで
き、EDFAを2段構成とした場合には60dB程度の光増
幅を行うことができる。光増幅器200で増幅された基
本波は、ファイバー出力端をバンドル状にまとめたファ
イバーバンドル端200bからレンズ250を介して波
長変換光学系300に入射される。
【0051】波長変換光学系300は、図5に詳細構成
を示すように5段の波長変換部からなり、各波長変換段
を構成する非線形光学結晶11,12,13,14,1
5、これ等の非線形光学結晶間に配設されて前段の非線
形光学結晶から射出されるレーザ光を次段の非線形結晶
に集光入射させるレンズ21,22,23,24,2
5,26、高次高調波を分離しあるいは合成するための
ダイクロック・ミラー31,32,33,34,35,
36、非線形光学結晶に入射する入射光の偏光方向を調
整する波長板41,42,43,44などから構成され
ている。
【0052】図中左端のファイバーバンドル出力端20
0bからレンズ250を介して入射する波長λ=1.544
μm(光周波数ω)の基本波は、波長選択性のあるダイク
ロック・ミラーで分離・合成されつつ非線形光学結晶1
1,12,13,14,15を図中左から右に向かって
透過する。この過程で基本波(波長λ=1.544μm)は第2
高調波(λ=772nm)→第3高調波(λ=515nm)→第4高調
波(波長386nm)→第7高調波(λ=221nm)→第8高調波
(λ=193nm)の順に波長変換され、最終的に周波数が基
本波の8倍(8ω)、波長が1/8(λ/8)の紫外光を図中右
端から出力する。
【0053】基本波を第2高調波に変換する第1段の波
長変換部では、波長変換結晶11としてLBO結晶(LiB
3O5結晶)を用い、波長変換のための位相整合にLBO結
晶の温度調節による方法、Non-Critical Phase Matchin
g:NCPMを使用する。LBO結晶11では第2高調
波発生(SHG)が行われ、基本波の2倍の光周波数
(光周波数2ω、波長λ=772nm)をもつ第2高調波を発
生させる。LBO結晶11で波長変換され発生した第2
高調波と、この結晶11を波長変換されずに透過した基
本波(ω)とは、波長板41に入射させてそれぞれ1波
長、半波長の遅延を与え、基本波のみ偏光方向を90度
回転させたのち、集光レンズ(色消しレンズ)21を通し
て第2段の波長変換結晶12の同一点に集光入射させ
る。ここで、集光レンズ21は、解決手段において説明
した第2の発明の関係、すなわちf−a<bなる関係を
満足するように設定され配設されている。
【0054】2段目の波長変換部では、波長変換結晶1
2としてLBO結晶を用い、1段目の波長変換部におけ
るLBO結晶11と異なる温度のNCPMで使用する。
このLBO結晶12では1段目の波長変換部で発生させ
た第2高調波(2ω)と、波長変換されずに透過した基本
波(ω)とから和周波発生(SFG,ω+2ω=3ω)によ
り第3高調波(光周波数3ω,波長λ=515nm)を発生さ
せる。
【0055】2段目の波長変換部で得られた第3高調波
(3ω)と、この波長変換部のLBO結晶12を波長変換
されずに透過した基本波(ω)および第2高調波(2ω)と
は、ダイクロイック・ミラー31により分離する。基本
波と第2高調波とはダイクロイック・ミラー31を透過
させ、集光レンズ22によって3段目の波長変換部の波
長変換結晶13に集光入射させる。第3高調波はダイク
ロイック・ミラー31で反射させ、ミラー32,波長板
42,集光レンズ23及びダイクロイック・ミラー34
を透過させて4段目の波長変換部の波長変換結晶14に
入射させる。波長板42は第3高調波の偏光方向を90
度回転させる。
【0056】3段目の波長変換部は、波長変換結晶とし
てLBO結晶13を用い、タイプIの角度位相整合で使
用する。このLBO結晶13中では第2高調波の第2高
調波発生を行わせ、第2高調波(2ω)の2倍の周波数を
もつ第4高調波(4ω,λ=386nm)を発生させる。ここ
で、2段目の波長変換結晶12から射出された第2高調
波(及び基本波)を3段目の波長変換結晶13に入射さ
せる集光レンズ22は、解決手段の項において説明した
第2の発明の関係、すなわちf−a<bなる関係を満足
するように設定し配設されている。なお、第2高調波と
ともにLBO結晶13に入射する基本波(ω)は、この結
晶中で波長変換されずに透過する。
【0057】3段目の波長変換部で得られた第4高調波
とこれを透過した基本波とは、ダイクロイック・ミラー
33により分離し、このミラー33を透過した基本波
(ω)は集光レンズ25を通るとともに、ミラー35で反
射されて5段目の波長変換部(波長変換結晶15)に入射
する。一方、ダイクロイック・ミラー33で反射された
第4高調波(4ω)は、波長板43で偏光方向を90度回
転されたのち集光レンズ24を通ってダイクロイック・
ミラー34に達し、ここでダイクロイック・ミラー31
で反射された第3高調波と同軸に合成されて4段目の波
長変換部(波長変換結晶14)に入射する。
【0058】4段目の波長変換部では、波長変換結晶と
してBBO結晶(β-BaB2O4結晶)14をタイプIの角度
位相整合で使用し、第3高調波(3ω)と第4高調波(4
ω)とから和周波発生(3ω+4ω=7ω)により第7高
調波(7ω,λ=221nm)を発生させる。ここで、3段目の
波長変換結晶であるLBO結晶13から射出される第4
高調波の出力ビームはその断面形状がウォークオフ現象
により拡大されて長円形になり、この長軸方向について
略平行ビームとなっている。
【0059】本実施例では、和周波発生を行うBBO結
晶14に、第3高調波と第4高調波とが互いに異なる光
路を通って入射するような波長変換光学系の結晶配置を
考案し、第3高調波を集光するレンズ23及び第4高調
波を集光するレンズ24について、それぞれのビーム特
性に最適な条件を設定することができるようにしてい
る。そして、第3高調波を集光するレンズ23について
前述した第2の発明を適用し、第4高調波を集光するレ
ンズ24について、第3及び第4の発明を適用する。
【0060】すなわち、第3高調波を発生させるLBO
結晶(2段目の波長変換結晶)12と、この第3高調波を
集光入射させるレンズ23、和周波発生を行うBBO結
晶(4段目の波長変換結晶)14との間について前述した
f−a<bなる関係を満足するように設定して、BBO
結晶14中に必要サイズのビームスポットを形成させ
る。
【0061】また、第4高調波を発生させるLBO結晶
(3段目の波長変換結晶)13と、この結晶からウォーク
オフ効果により略平行光として出力される第4高調波を
集光するレンズ24、和周波発生を行うBBO結晶(4
段目の波長変換結晶)14との間について前述したf≒
aなる関係を満足するように設定し、BBO結晶14中
において第3高調波のビームスポットと第4高調波のビ
ームスポットとが同一位置で重なるように(または第3
高調波のビームスポット位置において必要なパワー密度
となるように)第4高調波のビームスポットを形成させ
る。
【0062】さらに、第4高調波を4段目のBBO結晶
14に入射させるときに、BBO結晶の入射角度依存性
が高い方向(位相整合角度面の方向)と、第4高調波出力
ビームの長径化した方向とを一致させてBBO結晶14
に入射させる。
【0063】このような設定により、2段目の波長変換
結晶(LBO結晶)12や3段目の波長変換結晶(LBO
結晶)13から射出されるビームの出射角度が多少変化
しても、4段目の波長変換結晶(BBO結晶)14に入射
する入射ビームの入射角度はほとんど変化することがな
い。一般に位相整合条件は光周波数が高くなるにつれて
厳しくなるが、第4高調波ビームの入射角度は極めて高
い安定度を有しており、波長変換光率を高い状態で維持
させることができる。
【0064】4段目の波長変換部で得られた第7高調波
(7ω)は、波長板44により偏光面を90度回転させた
のち集光レンズ26を通し、ダイクロイック・ミラー3
3を透過した基本波(ω)とダイクロイック・ミラー36
により同軸に合成されて、5段目の波長変換部の波長変
換結晶15に入射する。
【0065】5段目の波長変換部は、波長変換結晶15
としてLBO結晶をタイプIの角度位相整合で使用し、
基本波(ω)と第7高調波(7ω)とから和周波発生(ω+
7ω=8ω)により第8高調波(8ω,λ=193nm)を発
生させる。ここで、4段目の波長変換結晶であるBBO
結晶14から射出される第7高調波の出力ビームは、そ
の断面形状がウォークオフ現象により拡大されて長円形
になり、この長軸方向について略平行ビームとなってい
る。
【0066】そこで、5段目の波長変換結晶15に対す
るレンズ系25,26の結合は、上述した4段目の波長
変換結晶14におけるレンズ系23,24の結合と同様
に行う。すなわち、3段目のLBO結晶13とレンズ2
5及び5段目のLBO結晶15との間について、前述し
たf−a<bなる関係を満足するように設定し、5段目
のLBO結晶15中に必要サイズのビームスポットを形
成させる。
【0067】また、4段目のBBO結晶14とレンズ2
6及び5段目のLBO結晶15との間について、前述し
たf≒aなる関係を満足するように設定して、LBO結
晶15中の基本波のビームスポットと第7高調波のビー
ムスポットとが同一位置で重なるように(または基本波
のビームスポット位置において必要なパワー密度となる
ように)第7高調波のビームスポットを形成させる。
【0068】さらに、第7高調波を5段目のLBO結晶
15に入射させるときに、LBO結晶の入射角度依存性
が高い方向(位相整合角度面の方向)と、第7高調波出力
ビームの長径化した方向とを一致させてLBO結晶15
に入射させる。
【0069】このような設定により、3段目の波長変換
結晶13や4段目の波長変換結晶14から射出されるビ
ームの出射角度が多少変化しても、5段目の波長変換結
晶(LBO結晶)15に入射する入射ビームの入射角度は
ほとんど変化することがなく、特に位相整合条件の厳し
い第7高調波ビームの入射角度は極めて高い安定度を有
するため、波長変換光率を高い状態で維持することがで
きる。
【0070】以上のようにして、波長変換光学系300
に入射された波長λi=1.544μmの基本波レーザ光は、
5段の波長変換段を透過する過程において順次波長変換
され、最終的に基本波に対して第8高調波にあたる波長
λo=193nmの紫外光LBが出力される。この波長変換光
学系300における各段の波長変換結晶間には第2,第
3,第4の発明が適用されているため、各段の波長変換
結晶に入射する光の入射角がほとんど変化することな
く、従って波長変換効率を長期にわたって高い状態で維
持し、安定した紫外光出力を露光装置本体600に出力
することができる。
【0071】なお、以上説明した波長変換光学系300
において、第7高調波発生用のBBO結晶14、及び第
8高調波発生用のLBO結晶15については、これらの
非線形光学結晶のかわりに、CLBO結晶(CsLiB6O10
結晶)を用いることもできる。
【0072】次に、以上説明した波長変換光学系の効果
について検証する。以下では、一例として、3段目の波
長変換結晶(LBO結晶)13から射出される第4高調波
の傾き角をαとし、レンズ24を介して4段目の波長変
換結晶(BBO結晶)14に入射する第4高調波の傾き角
をβとしたときに、本発明に係る波長変換光学系が、従
来の波長変換光学系に対してどの程度の優位性をもつか
をαとβとの関係で検証する。
【0073】いま、LBO結晶13の結晶長を25mm、L
BO結晶13中における第2高調波のビームスポットサ
イズを40μmとすると、この結晶13から出力される第
4高調波はウォークオフ効果により26μm×100μmの長
円形になって出力される。この長円形ビームを入射させ
るBBO結晶14中におけるビームスポットサイズは、
第7高調波の波長変換効率を勘案して21μmとする。
【0074】従来では、上記条件に対して、LBO結晶
13とBBO結晶14との間の結晶間距離(それぞれの
結晶中におけるビームスポット間距離、a+b)及び入
手容易なレンズ焦点距離fとの関係から、LBO結晶1
3におけるビームスポットとレンズ24との距離a、及
びレンズ24とBBO結晶14におけるビームスポット
との距離bの設計解を求めており、ビームの長軸方向に
ついての具体値として以下に示すような設計解が用いら
れていた。
【0075】
【数4】LBO結晶13中のビームスポットとレンズ2
4との距離:a=76.8mm レンズ24の焦点距離:f=20.7mm レンズ24とBBO結晶14中のビームスポットとの距
離:b=23.2mm このときαとβとの関係を求めると、β=-2.42α
【0076】となり、BBO結晶14に入射するビーム
の角度変化Δβは、LBO結晶13から射出されるビー
ムの角度変化Δαに対して約2.4倍大きく発生すること
が解る。
【0077】一方、本発明を満足するa,b,fの組み
合わせは多数に上るが、その一例として、以下の2枚の
シリンドリカル・レンズ24a,24bの組み合わせを
例示する。
【0078】
【数5】(1)第4高調波ビームの長軸方向について LBO結晶13中のビームスポットとレンズ24aとの
距離:a=17.9mm レンズ24aの焦点距離:f=17.1mm レンズ24aとBBO結晶14中のビームスポットとの
距離:b=17.1mm (2)第4高調波ビームの短軸方向について LBO結晶13中のビームスポットとレンズ24bとの
距離:a=19.2mm レンズ24bの焦点距離:f=9.2mm レンズ24bとBBO結晶14中のビームスポットとの
距離:b=15.8mm
【0079】すなわち、上記2枚のシリンドリカル・レ
ンズの組み合わせは、第4高調波ビームの長軸方向につ
いてf≒aの関係を満足し、第4高調波ビームの短軸方
向についてf−a<bなる関係を満足する。
【0080】BBO結晶14における角度位相整合にお
いては、二つの位相整合角のうち位相整合許容角の狭い
方向と上記ビームの長軸方向とが一致するように入射さ
れており、この方向に対するαとβとの関係は、
【0081】β=-0.047α
【0082】従って、BBO結晶14に入射するビーム
の角度変化Δβは、LBO結晶13から射出するビーム
の角度変化Δαの1/20以下しか生じない(1/20以下に抑
制される)ことが解る。この値は従来の設計例に比べて
約1/50に相当し、位相整合角を極めて高精度に維持可能
であることを示している。従って、位相整合角許容幅が
狭い条件であっても、前段の出射角度の影響を受けにく
く、簡便な装置構成で長期にわたって高い変換効率を維
持する波長変換光学系を提供することができる。
【0083】以上のように構成された波長変換光学系3
00から出力されるArFエキシマレーザと同一波長λo
=193nmの紫外光LBは、反射鏡380で反射されて光源
装置500から露光装置本体600に導入される。露光
装置600は、図6に基本構成図を示すように、照明光
学系610、レチクル620を支持する支持部材63
0、投影光学系640、半導体ウェハー650やガラス
基板等を載置して移動させるステージ660及びその駆
動系670などから構成されており、レチクル(フォト
マスク)上に精密に描かれたデバイスパターンを、フォ
トレジストを塗布した半導体ウエハー650上に光学的
に投影して転写する。
【0084】照明光学系610は、光源装置500から
出力される紫外光LBを、必要な投影面上における照度
分布が均一となるように拡大投影する光学系であり、こ
の光学系で均一照度化されたされた紫外光が、集積回路
の回路パターンが精密に描かれた石英製のレチクル62
0上に照射される。レチクル620の回路パターンは、
投影光学系640により所定の縮小倍率で縮小され、フ
ォトレジストの塗布された半導体ウエハー(例えばシリ
コンウエハー)650に投影され、レチクル上の回路パ
ターンがウエハー上に結像・転写される。
【0085】照明光学系610はレチクル620のパタ
ーン面とほぼ共役な面内に配置され、かつレチクル62
0上での照明領域を規定する視野絞り、照明光学系61
0内でレチクル620のパターン面とほぼフーリエ変換
の関係となる所定面上での紫外光の光量分布を規定する
開口絞り、および開口絞りを射出する紫外光をレチクル
620に照射するコンデンサーレンズなどを含んで構成
されている。なお、所定面上での紫外光の光量分布を変
更するために、複数の開口絞りをターレットに設け、レ
チクル620のパターンに応じて複数の開口絞りの一つ
を照明光学系610の光路内に選択的に配置するように
しても良い。
【0086】露光装置の露光開始シャッタとしては、例
えば光源装置500におけるレーザ光発生部100と光
増幅器200との間150に電気光学変調素子あるいは
音響光学変調素子を配設してこれを用いることができ
る。例えば、電気光学変調素子あるいは音響光学変調素
子をオフの状態すなわちパルスを発生しない(内部損失
が大の)状態からオンの状態すなわちパルスを発生する
(パルス状に内部損失が小となる)状態に切り替えて露
光を開始するように構成することができる。なお、この
ような電気的なシャッタとは別に光源装置500とウエ
ハ650との間の照明光路内に機械的なシャッタを配置
しても良いし、あるいはステージ660を駆動してウエ
ハ650を紫外光の照射領域から退避させるようにして
も良い。
【0087】半導体ウエハー650は、駆動機構670
を具備するステージ660上に載置され、一回の露光が
完了する度にステージ660を移動させることにより、
半導体ウエハー650上の異なる位置に回路パターンが
転写される。この様なステージの駆動、露光方式をステ
ップ・アンド・リピート方式という。ステージの駆動、
露光方式にはこのほかに、レチクル620を支持する支
持部材630にも駆動機構を設け、レチクル620と半
導体ウエハ650とを同期移動して走査露光を行うステ
ップ・アンド・スキャン方式があり、本発明の波長変換
光学系を有する光源装置500はいずれの方式について
も適用可能である。
【0088】以上説明したような波長変換光学系300
を有する露光装置1は、光源装置500の各構成要素が
それぞれ小型であり、かつ波長変換光学系の入力段まで
を光ファイバーで接続することができるため各光学系の
配置の自由度が高い。従って、エキシマレーザや固体レ
ーザを用いた従来の露光装置に比べて小型に構成するこ
とができ、かつメインテナンス性に優れた露光装置を提
供することができる。
【0089】なお、以上説明した波長変換光学系300
は、一例として基本波入力波長λi=1.544μmの赤外光
を5段の波長変換部で波長変換し、基本波の第8高調波
でありArFエキシマレーザと同一波長λo=193nmの紫
外光LBを発生させる場合について説明したが、本発明
はかかる入力波長や波長変換段数、出力波長等に限定さ
れるものではなく、いかなる波長帯域、いかなる波長変
換段数であっても良い。
【0090】また、本実施例では波長変換結晶間のレン
ズに本発明を適用した場合を例示したが、レンズに向け
て光を射出する光源は波長変換結晶に限らず、例えば本
実施例におけるファイバーバンドル出力端200b(レ
ンズ250)や、光増幅器200が必要ない場合におけ
るレーザ光発生部100(レンズ150)などであっても
良い。さらに、波長変換光学系から射出される光につい
て適用すること、例えば、波長変換光学系の出力光をフ
ァイバーに導入する場合等において、最終段の波長変換
結晶とファイバー導入用のレンズ、ファイバー入射端の
間などについても本発明を適用することが可能である。
【0091】また、本発明の波長変換光学系を用いた装
置の一例として、マイクロデバイス製造用の露光装置を
開示したが、本発明に係る波長変換光学系の用途はこの
ような装置に限定されるものではなく、波長変換光学系
を有し波長変換された光を用いる装置であればどの様な
用途であっても適用することができる。このような装置
の具体例としては、レーザ顕微鏡、光情報記録・再生装
置、光(磁気)ディスク検査装置、レチクルやウエハーの
検査装置、レーザ加工装置などがあげられる。
【0092】
【発明の効果】これらの構成を有する波長変換光学系に
よれば、光源または光源とみなせる前段の非線形光学結
晶から射出される光の出射角度がたとえ変化した場合で
あっても、レンズを介して入射される後段の非線形光学
結晶への入射角の角度変化を大幅に抑制し、ほとんど入
射角度が変化しない光学系を構成することができる。こ
のようにして、本発明によれば、経時変化や熱的変化の
影響をほとんど受けずに一定した入射角を維持すること
ができ、これにより、簡便な構成で長期にわたって波長
変換効率が安定した波長変換光学系を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る波長変換光学系の基本概念を説明
するための説明図である。
【図2】第1及び第2の本発明に係る波長変換光学系の
基本概念を説明するための説明図であって、f≒a(f
−a≪b)としたときの光の状態を示す説明図である。
【図3】第3及び第4の本発明に係る波長変換光学系の
基本概念を説明するための説明図であって、前段の波長
変換結晶でウォークオフが発生し出力ビームが略平行光
とみなせる状態においてf≒a(f−a≪b)としたと
きの光の状態を示す説明図である。
【図4】本発明に係る波長変換光学系を有する露光装置
の構成例を示す全体構成図である。
【図5】本発明に係る露光装置における波長変換光学系
の好ましい実施例を示す構成図である。
【図6】本発明に係る露光装置における露光装置本体の
好ましい実施例を示す構成図である。
【図7】従来の波長変換光学系における波長変換の様子
とウォークオフ現象を説明するための説明図である。
【符号の説明】
1,A2 前段の波長変換結晶(光源、第2の非線形光
学結晶) B1,B2 後段の波長変換結晶(第1の非線形光学結
晶) R1,R2 レンズ a 前段の波長変換結晶(光源)のビームスポットとレ
ンズとの距離 b レンズと後段の波長変換結晶のビームスポットとの
距離 f レンズの焦点距離 1 露光装置 11,12,13,14,15 波長変換結晶(光源、
第1の非線形光学結晶、第2の非線形光学結晶) 13,14 出力ビームにウォークオフを生じさせる波
長変換結晶 21,22,23,24,25,26,250 レンズ 100 レーザ光発生部 200 光増幅器(光源) 300 波長変換光学系 500 光源装置 600 露光装置本体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、前記光源から射出された光を前
    記光源の波長と異なる波長の光に変換する第1の非線形
    光学結晶と、 前記光源と前記第1の非線形光学結晶との間に配設され
    て前記光源から射出された光を集光して前記第1の非線
    形光学結晶に入射させるレンズとを有する波長変換光学
    系であって、 前記光源において最小スポットサイズになるビームスポ
    ットと前記レンズとの距離aが、前記レンズの焦点距離
    fとほぼ等しいことを特徴とする波長変換光学系。
  2. 【請求項2】 光源と、前記光源から射出された光を前
    記光源の波長と異なる波長の光に変換する第1の非線形
    光学結晶と、 前記光源と前記第1の非線形光学結晶との間に配設され
    て前記光源から射出された光を集光して前記第1の非線
    形光学結晶に入射させるレンズとを有する波長変換光学
    系であって、 前記光源において最小スポットサイズになる第1ビーム
    スポットと前記レンズとの距離aと前記レンズの焦点距
    離fとの差(f−a)が、前記第1の非線形光学結晶中
    において最小スポットサイズになる第2ビームスポット
    と前記レンズとの距離bに比べて小さいことを特徴とす
    る波長変換光学系。
  3. 【請求項3】 前記光源は、前段の光源から入射された
    光を波長変換して射出する第2の非線形光学結晶であ
    り、 前記第2の非線形光学結晶から射出される光は、前記第
    2の非線形光学結晶においてウォークオフを起こして略
    平行光とみなせることを特徴とする請求項1または請求
    項2に記載の波長変換光学系。
  4. 【請求項4】 前記第2の非線形光学結晶から射出され
    る光におけるウォークオフを起こして長径化している方
    向と、前記第1の非線形光学結晶における入射角度依存
    性が高い方向とを一致させて、前記第1の非線形光学結
    晶に入射させることを特徴とする請求項3に記載の波長
    変換光学系。
  5. 【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれか一項に
    記載された波長変換光学系を有することを特徴とする露
    光装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007072134A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Mitsubishi Electric Corp 波長変換レーザ装置
JP2008247038A (ja) * 2008-05-24 2008-10-16 Lemi Ltd 脆性材料のフルカット割断方法
US9429850B2 (en) 2012-03-05 2016-08-30 Nikon Corporation Laser device, and exposure device and inspection device provided with laser device

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