JP2002069093A - チミングリコールの構築ブロック及びそれを有するｄｎａ - Google Patents
チミングリコールの構築ブロック及びそれを有するｄｎａInfo
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】
【課題】 チミングリコールの構築ブロック、およびこ
れを用いることによりチミングリコールを有する、長鎖
のＤＮＡを、高収率、高純度で合成する方法を提供する
こと。 【解決手段】 下記式（Ｉ） 【化６３】 〔式中、Ｒ1は保護基を表し、Ｒ2は水素原子またはＴＢ
ＤＭＳ（tert−ブチルジメチルシリル）を表し、Ｒ
3は、−ＰＨ（Ｏ）−Ｏ-又は−Ｐ（Ｒ4）Ｒ5を；Ｒ4は
メチル基又は２−シアノエチル基を表し、Ｒ5は−Ｎ
（Ｒ′）（Ｒ″）基又はＮ−モルホリノ基、Ｎ−ピロリ
ジニル基もしくは２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−
ピペリジル基を表し、Ｒ′およびＲ″はそれぞれ低級ア
ルキル基を表す〕のチミングリコール構築ブロックを合
成し、さらにこれを含むＤＮＡを合成した。
れを用いることによりチミングリコールを有する、長鎖
のＤＮＡを、高収率、高純度で合成する方法を提供する
こと。 【解決手段】 下記式（Ｉ） 【化６３】 〔式中、Ｒ1は保護基を表し、Ｒ2は水素原子またはＴＢ
ＤＭＳ（tert−ブチルジメチルシリル）を表し、Ｒ
3は、−ＰＨ（Ｏ）−Ｏ-又は−Ｐ（Ｒ4）Ｒ5を；Ｒ4は
メチル基又は２−シアノエチル基を表し、Ｒ5は−Ｎ
（Ｒ′）（Ｒ″）基又はＮ−モルホリノ基、Ｎ−ピロリ
ジニル基もしくは２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−
ピペリジル基を表し、Ｒ′およびＲ″はそれぞれ低級ア
ルキル基を表す〕のチミングリコール構築ブロックを合
成し、さらにこれを含むＤＮＡを合成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、チミングリコール
（５，６−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミン）を
有するＤＮＡの合成に関する。チミングリコールは、生
体内の活性酸素や電離放射線によりチミン塩基が酸化さ
れることによって生じるＤＮＡ損傷の一つであり、この
ＤＮＡ損傷は、突然変異を引き起こす頻度は低いが、Ｄ
ＮＡの複製阻害を起こす。チミングリコールはエンドヌ
クレアーゼIIIやエンドヌクレアーゼVIIIによって除去
される他、ヌクレオチド除去修復の機構によっても修復
されることが報告されている（Demple. B, and Linn, S
(1980) Nature 287, 203-208; Dizdaroglu, M., Lava
l, J. and Boiteux, S. (1993) Biochemistry 32, 1210
5-12111; Ikeda. S., Biswas, T., Roy, R., Izumi,
T., Boldogh, I., Kurosky. A., Sarker, A. H., Seki,
S. and Mitra, S. (1998) J. Biol. Chem. 273,21585-
21593; Melamede. R. J., Hatahet, Z., Kow, Y. W., I
de, H. and Wallace, S. S. (1994) Biochemistry 33,
1255-1264; Reardon, J. T., Bessho, T.,Kung, H. C.,
Bolton, P. H. and Sancar, A. (1997) Proc. Natl. A
cad. Sci.USA 94, 9463-9468.）。
（５，６−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミン）を
有するＤＮＡの合成に関する。チミングリコールは、生
体内の活性酸素や電離放射線によりチミン塩基が酸化さ
れることによって生じるＤＮＡ損傷の一つであり、この
ＤＮＡ損傷は、突然変異を引き起こす頻度は低いが、Ｄ
ＮＡの複製阻害を起こす。チミングリコールはエンドヌ
クレアーゼIIIやエンドヌクレアーゼVIIIによって除去
される他、ヌクレオチド除去修復の機構によっても修復
されることが報告されている（Demple. B, and Linn, S
(1980) Nature 287, 203-208; Dizdaroglu, M., Lava
l, J. and Boiteux, S. (1993) Biochemistry 32, 1210
5-12111; Ikeda. S., Biswas, T., Roy, R., Izumi,
T., Boldogh, I., Kurosky. A., Sarker, A. H., Seki,
S. and Mitra, S. (1998) J. Biol. Chem. 273,21585-
21593; Melamede. R. J., Hatahet, Z., Kow, Y. W., I
de, H. and Wallace, S. S. (1994) Biochemistry 33,
1255-1264; Reardon, J. T., Bessho, T.,Kung, H. C.,
Bolton, P. H. and Sancar, A. (1997) Proc. Natl. A
cad. Sci.USA 94, 9463-9468.）。
【０００２】本発明の方法により合成されるチミングリ
コールを有するＤＮＡは、ＤＮＡの損傷及び修復の機構
解明の研究、その中でも最近相次いで報告されている、
損傷を乗り越えるＤＮＡポリメラーゼの研究に利用でき
るのみならず、この損傷ＤＮＡを検出する抗体などの臨
床検査薬として有用である（ Masutani. C., Araki,M.,
Yamada, A., Kusumoto, R., Nogimori, T., Maekawa,
T., Iwai, S., and Hanaoka, F. (1999) EMBO J. 18, 3
491-3501; Masutani. C., Kusumoto, R., Yamada, A.,
Dohmae, N., Yokoi, M., Yuasa, M., Araki, M., Iwai,
S., Takio, K. and Hanaoka, F. (1999) Nature 399,
700-704.）。
コールを有するＤＮＡは、ＤＮＡの損傷及び修復の機構
解明の研究、その中でも最近相次いで報告されている、
損傷を乗り越えるＤＮＡポリメラーゼの研究に利用でき
るのみならず、この損傷ＤＮＡを検出する抗体などの臨
床検査薬として有用である（ Masutani. C., Araki,M.,
Yamada, A., Kusumoto, R., Nogimori, T., Maekawa,
T., Iwai, S., and Hanaoka, F. (1999) EMBO J. 18, 3
491-3501; Masutani. C., Kusumoto, R., Yamada, A.,
Dohmae, N., Yokoi, M., Yuasa, M., Araki, M., Iwai,
S., Takio, K. and Hanaoka, F. (1999) Nature 399,
700-704.）。
【０００３】
【従来の技術】チミングリコールを有するＤＮＡは、従
来、非常に短いオリゴヌクレオチド（１本鎖のＤＮＡ断
片）を過マンガン酸カリウム又は酸化オスミウムで処理
することにより調製されてきた。しかし、過マンガン酸
カリウムを用いた場合、極めて多種類の酸化生成物が生
じるため同定・精製が困難であり、酸化オスミウムでは
チミングリコールのみが生じるとされるが、収率が極め
て低い。なお、このようなオリゴヌクレオチドの酸化で
はcis型の５Ｒ，６Ｓ体が優先的に生じ、水溶液中ではt
rans−５Ｒ，６Ｒ体と平衡になるが、γ線の照射では５
Ｒ，６Ｓ体と５Ｓ，６Ｒ体が同量生じることが報告され
ている（Basu, A. K., Loechler, E. L., Leadon, S.
A. and Essigmann, J. M. (1989) Proc. Natl. Acad. S
ci. USA 86, 7677-7681; Kao, J. Y., Goljer, I., Pha
n, T. A. and Bolton, P. H.(1993) J. Biol. Chem. 26
8, 17787-17793; Kung, H. C. and Bolton, P. H. (199
7)J. Biol. Chem. 272, 9227-9236; D'Ham, C., Romie
u, A., Jaquinod, M., Gasparutto, D. and Cadet, J.
(1999) Biochemistry 38, 3335-3344.）。現在までのと
ころ、異性体の反応性については、異性体間においてア
ルカリに対する安定性が異なるとの報告があるものの
（Lustig, M. J., Cadet, J., Boorstein, R.J. and Te
ebor, G. W. (1992) Nucleic Acids Res. 20, 4839-484
5）、それ以外の研究は専ら５Ｒ体、あるいは異性体の
混合物を対象として行われており、５Ｓ体の生理活性等
については調べられていない。
来、非常に短いオリゴヌクレオチド（１本鎖のＤＮＡ断
片）を過マンガン酸カリウム又は酸化オスミウムで処理
することにより調製されてきた。しかし、過マンガン酸
カリウムを用いた場合、極めて多種類の酸化生成物が生
じるため同定・精製が困難であり、酸化オスミウムでは
チミングリコールのみが生じるとされるが、収率が極め
て低い。なお、このようなオリゴヌクレオチドの酸化で
はcis型の５Ｒ，６Ｓ体が優先的に生じ、水溶液中ではt
rans−５Ｒ，６Ｒ体と平衡になるが、γ線の照射では５
Ｒ，６Ｓ体と５Ｓ，６Ｒ体が同量生じることが報告され
ている（Basu, A. K., Loechler, E. L., Leadon, S.
A. and Essigmann, J. M. (1989) Proc. Natl. Acad. S
ci. USA 86, 7677-7681; Kao, J. Y., Goljer, I., Pha
n, T. A. and Bolton, P. H.(1993) J. Biol. Chem. 26
8, 17787-17793; Kung, H. C. and Bolton, P. H. (199
7)J. Biol. Chem. 272, 9227-9236; D'Ham, C., Romie
u, A., Jaquinod, M., Gasparutto, D. and Cadet, J.
(1999) Biochemistry 38, 3335-3344.）。現在までのと
ころ、異性体の反応性については、異性体間においてア
ルカリに対する安定性が異なるとの報告があるものの
（Lustig, M. J., Cadet, J., Boorstein, R.J. and Te
ebor, G. W. (1992) Nucleic Acids Res. 20, 4839-484
5）、それ以外の研究は専ら５Ｒ体、あるいは異性体の
混合物を対象として行われており、５Ｓ体の生理活性等
については調べられていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、チミングリ
コールの構築ブロックを合成し、これを用いることによ
ってチミングリコールを有するＤＮＡを合成する方法を
提供するものである。
コールの構築ブロックを合成し、これを用いることによ
ってチミングリコールを有するＤＮＡを合成する方法を
提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のチミングリコー
ルの構築ブロックは、以下の構造式（Ｉ）
ルの構築ブロックは、以下の構造式（Ｉ）
【０００６】
【化２７】
【０００７】（式中、Ｒ1は保護基を表し、Ｒ2は水素原
子またはＴＢＤＭＳ（tert−ブチルジメチルシリル）を
表し、Ｒ3は
子またはＴＢＤＭＳ（tert−ブチルジメチルシリル）を
表し、Ｒ3は
【０００８】
【化２８】
【０００９】（式中、Ｒ4はメチル基又は２−シアノエ
チル基を表し、Ｒ5は−Ｎ（Ｒ′）（Ｒ″）基又はＮ−
モルホリノ基、Ｎ−ピロリジニル基もしくは２，２，
６，６−テトラメチル−Ｎ−ピペリジル基を表し、Ｒ′
およびＲ″はそれぞれ低級アルキル基を表す）を表す）
で表される。
チル基を表し、Ｒ5は−Ｎ（Ｒ′）（Ｒ″）基又はＮ−
モルホリノ基、Ｎ−ピロリジニル基もしくは２，２，
６，６−テトラメチル−Ｎ−ピペリジル基を表し、Ｒ′
およびＲ″はそれぞれ低級アルキル基を表す）を表す）
で表される。
【００１０】Ｒ1としては、一般的にＤＮＡの合成に用
いられる保護基が使用できる。Ｒ1には、例として４，
４′−ジメトキシトリチル基、４−メトキシトリチル
基、又は９−フェニルキサンテン−９−イル基が挙げら
れる。最も好ましくは、Ｒ1は、４，４′−ジメトキシ
トリチル基である。
いられる保護基が使用できる。Ｒ1には、例として４，
４′−ジメトキシトリチル基、４−メトキシトリチル
基、又は９−フェニルキサンテン−９−イル基が挙げら
れる。最も好ましくは、Ｒ1は、４，４′−ジメトキシ
トリチル基である。
【００１１】Ｒ2は、水素原子、またはＴＢＤＭＳのど
ちらであってもよい。
ちらであってもよい。
【００１２】Ｒ3としては、下記式
【００１３】
【化２９】
【００１４】のＨ−ホスホネート又はホスホルアミダイ
トを用いることができる。Ｒ4が２−シアノエチル基で
あり、Ｒ5が−Ｎ（Ｒ′）（Ｒ″）基である２−シアノ
エチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキルホスホルアミダイトが好ま
しい。ここで、Ｎ，Ｎ−ジアルキルとしては、Ｎ，Ｎ−
ジメチル、Ｎ−ジエチル、Ｎ−ジイソプロピル、Ｎ−メ
チル−Ｎ−イソプロピルなどが挙げられる。２−シアノ
エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホルアミダイトが
最も好ましい。
トを用いることができる。Ｒ4が２−シアノエチル基で
あり、Ｒ5が−Ｎ（Ｒ′）（Ｒ″）基である２−シアノ
エチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキルホスホルアミダイトが好ま
しい。ここで、Ｎ，Ｎ−ジアルキルとしては、Ｎ，Ｎ−
ジメチル、Ｎ−ジエチル、Ｎ−ジイソプロピル、Ｎ−メ
チル−Ｎ−イソプロピルなどが挙げられる。２−シアノ
エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホルアミダイトが
最も好ましい。
【００１５】式（Ｉ）のチミングリコールの構築ブロッ
クは、次の工程により合成される。 （１）式（II）
クは、次の工程により合成される。 （１）式（II）
【００１６】
【化３０】
【００１７】（式中、Ｒ1および、Ｒ6は保護基を表す）
で表される、５′と３′の水酸基を保護したチミジンを
出発物質とする。
で表される、５′と３′の水酸基を保護したチミジンを
出発物質とする。
【００１８】Ｒ6の保護基は、ヒドロキシル基の保護に
一般的に用いられる保護基を用いることができる。Ｒ6
の保護基には、例として、ベンゾイル、アセチル、レブ
リニル等を挙げることができる。好ましくは、Ｒ6の保
護基はベンゾイルである。
一般的に用いられる保護基を用いることができる。Ｒ6
の保護基には、例として、ベンゾイル、アセチル、レブ
リニル等を挙げることができる。好ましくは、Ｒ6の保
護基はベンゾイルである。
【００１９】上記式（II）で表される化合物を酸化剤で
処理して式（III′）
処理して式（III′）
【００２０】
【化３１】
【００２１】（式中、Ｒ1およびＲ6は前述したとおりで
ある）の混合物である、チミングリコールの立体異性体
の混合物を得る。ここで用いられる酸化剤としては、酸
化オスミウムが用いられる。なお、過マンガン酸カリウ
ムを用いることもできる。ここで、５Ｒ，６Ｓ体（Ａ）
と５Ｓ，６Ｒ体（Ｂ）はおよそ６：１の割合で生じうる
ものであり、５位及び６位の立体は、最終生成物である
チミングリコール構築ブロックにおいても保持される。
どの立体異性体又はそれらの混合物を用いても、以下に
記載する方法と同様の方法を用いることができる。
ある）の混合物である、チミングリコールの立体異性体
の混合物を得る。ここで用いられる酸化剤としては、酸
化オスミウムが用いられる。なお、過マンガン酸カリウ
ムを用いることもできる。ここで、５Ｒ，６Ｓ体（Ａ）
と５Ｓ，６Ｒ体（Ｂ）はおよそ６：１の割合で生じうる
ものであり、５位及び６位の立体は、最終生成物である
チミングリコール構築ブロックにおいても保持される。
どの立体異性体又はそれらの混合物を用いても、以下に
記載する方法と同様の方法を用いることができる。
【００２２】なお、ここで得られた立体異性体の混合物
は、実施例中に記載されている方法を用いて、上で示し
たそれぞれの異性体に分離することができる。
は、実施例中に記載されている方法を用いて、上で示し
たそれぞれの異性体に分離することができる。
【００２３】（２）次に、チミン塩基部の水酸基を保護
するため、得られた該化合物にイミダゾールの存在下に
おいてtert−ブチルジメチルクロロシランを反応させ、
式（IV）
するため、得られた該化合物にイミダゾールの存在下に
おいてtert−ブチルジメチルクロロシランを反応させ、
式（IV）
【００２４】
【化３２】
【００２５】（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ6は前述したとお
りである）の化合物を得る。
りである）の化合物を得る。
【００２６】（３）次に、得られた式（IV）の化合物
を、炭酸カリウムで処理し、３′−水酸基を脱保護して
式（Ｖ）
を、炭酸カリウムで処理し、３′−水酸基を脱保護して
式（Ｖ）
【００２７】
【化３３】
【００２８】（式中、Ｒ1、Ｒ2は前述したとおりであ
る）の化合物を得る。 （４）最後に、得られた式（Ｖ）の化合物に下記式
る）の化合物を得る。 （４）最後に、得られた式（Ｖ）の化合物に下記式
【００２９】
【化３４】
【００３０】（式中、Ｒ4及びＲ5は前述したとおりであ
る）で示される化合物を反応させるか、又は式（Ｖ）で
表される化合物にトリ（１，２，４，トリアゾール−１
−イル）ホスフィンを反応させた後加水分解して式
（Ｉ）の目的化合物を得る。
る）で示される化合物を反応させるか、又は式（Ｖ）で
表される化合物にトリ（１，２，４，トリアゾール−１
−イル）ホスフィンを反応させた後加水分解して式
（Ｉ）の目的化合物を得る。
【００３１】式（Ｉ）のチミジングリコールを含むＤＮ
Ａは、ＤＮＡ合成機を用いて次の工程により製造され
る。 （１）担体に結合した、式（VI）
Ａは、ＤＮＡ合成機を用いて次の工程により製造され
る。 （１）担体に結合した、式（VI）
【００３２】
【化３５】
【００３３】（式中、Ｒ1は前述したとおりであり、Ｂ
は
は
【００３４】
【化３６】
【００３５】（式中、Ｒ7は保護基）であり、塩基部が
保護された４種のヌクレオシド、すなわち、デオキシア
デノシン、デオキシグアノシン、デオキシシチジン又は
チミジンを意味する）の保護基Ｒ1をトリクロロ酢酸な
どにより常法により除去した式（VII）
保護された４種のヌクレオシド、すなわち、デオキシア
デノシン、デオキシグアノシン、デオキシシチジン又は
チミジンを意味する）の保護基Ｒ1をトリクロロ酢酸な
どにより常法により除去した式（VII）
【００３６】
【化３７】
【００３７】（式中、Ｂは前述したとおりである）のヌ
クレオシドが出発原料となる。
クレオシドが出発原料となる。
【００３８】ここで、保護基Ｒ7としては、アミノ基の
保護基として用いられる化合物を用いることができる。
Ｒ7の例として、ｔ−ブチルフェノキシアセチル、イソ
プロピルフェノキシアセチル、フェノキシアセチル、ジ
メチルホルムアミジノを挙げることができる。好ましく
はＲ7はｔ−ブチルフェノキシアセチルである。
保護基として用いられる化合物を用いることができる。
Ｒ7の例として、ｔ−ブチルフェノキシアセチル、イソ
プロピルフェノキシアセチル、フェノキシアセチル、ジ
メチルホルムアミジノを挙げることができる。好ましく
はＲ7はｔ−ブチルフェノキシアセチルである。
【００３９】式（VII）で示されるヌクレオシドに、式
（VIII）
（VIII）
【００４０】
【化３８】
【００４１】（式中、Ｒ1、Ｒ3及びＢは前述したとおり
である）で示されるヌクレオチドを反応させる。ヌクレ
オチドが２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキルホスホ
ルアミダイトと結合している場合は、この反応はテトラ
ゾールの存在下で行う。まず、テトラゾールにより活性
化されたホスホルアミダイトが５′−ＯＨ基と反応す
る。得られた亜リン酸トリエステルの結合物をヨウ素の
ような酸化剤と反応させることにより、５価のリン酸ト
リエステルとする。またヌクレオチドがＨ−ホスホネー
トと結合している場合は、この反応は、ピバロイルクロ
リドの存在下で行う。この場合はピバロイルクロリドに
よりＨ−ホスホネートを活性化して、５′−ＯＨ基と反
応させる。これに得られた式（VIII）のヌクレオチドを
繰り返し反応させることにより、Ｂが同一又は異なる式
（IX）
である）で示されるヌクレオチドを反応させる。ヌクレ
オチドが２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキルホスホ
ルアミダイトと結合している場合は、この反応はテトラ
ゾールの存在下で行う。まず、テトラゾールにより活性
化されたホスホルアミダイトが５′−ＯＨ基と反応す
る。得られた亜リン酸トリエステルの結合物をヨウ素の
ような酸化剤と反応させることにより、５価のリン酸ト
リエステルとする。またヌクレオチドがＨ−ホスホネー
トと結合している場合は、この反応は、ピバロイルクロ
リドの存在下で行う。この場合はピバロイルクロリドに
よりＨ−ホスホネートを活性化して、５′−ＯＨ基と反
応させる。これに得られた式（VIII）のヌクレオチドを
繰り返し反応させることにより、Ｂが同一又は異なる式
（IX）
【００４２】
【化３９】
【００４３】（式中、Ｒ8は水素原子又は−ＯＲ9（Ｒ9
はメチル基又は２−シアノエチル基を表す）を表し、ｍ
は０〜３０の整数を表し、Ｒ1は前記と同じ）で示され
るオリゴヌクレオチドを得る。
はメチル基又は２−シアノエチル基を表す）を表し、ｍ
は０〜３０の整数を表し、Ｒ1は前記と同じ）で示され
るオリゴヌクレオチドを得る。
【００４４】（２）次に、式（IX）のオリゴヌクレオチ
ドは、トリクロロ酢酸と反応させて保護基Ｒ1を脱離し
た後、式（Ｉ）のチミングリコール構築ブロックと反応
させ、ホスホルアミダイト法の場合にはこれを酸化して
式（Ｘ）
ドは、トリクロロ酢酸と反応させて保護基Ｒ1を脱離し
た後、式（Ｉ）のチミングリコール構築ブロックと反応
させ、ホスホルアミダイト法の場合にはこれを酸化して
式（Ｘ）
【００４５】
【化４０】
【００４６】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ8、Ｂ及びｍは前述
と同じ）で示されるチミングリコール構築ブロックを含
むオリゴヌクレオチドを得る。
と同じ）で示されるチミングリコール構築ブロックを含
むオリゴヌクレオチドを得る。
【００４７】（３）更に鎖長伸長反応のため、前記
（２）の方法と同様に、式（Ｘ）のオリゴヌクレオチド
の保護基Ｒ1を脱離した後、式（VIII）のヌクレオチド
を反応させ、ホスホルアミダイト法の場合にはこれを酸
化し、これを繰り返して、式（XI）
（２）の方法と同様に、式（Ｘ）のオリゴヌクレオチド
の保護基Ｒ1を脱離した後、式（VIII）のヌクレオチド
を反応させ、ホスホルアミダイト法の場合にはこれを酸
化し、これを繰り返して、式（XI）
【００４８】
【化４１】
【００４９】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ8及びｍは前述と同
じ、ｎは０〜３０の整数を表す）で示される目的のチミ
ングリコール構築ブロックを含む長鎖オリゴヌクレオチ
ドを得る。
じ、ｎは０〜３０の整数を表す）で示される目的のチミ
ングリコール構築ブロックを含む長鎖オリゴヌクレオチ
ドを得る。
【００５０】（４）式（XI）のヌクレオチドは、トリク
ロロ酢酸で保護基Ｒ1を脱離した後Ｈ−ホスホネート法
の場合にはよう素などで酸化し、アンモニア水で処理す
ることにより、Ｒ8中の保護基Ｒ9を除去すると共に、固
体担体から切断して、式（XI′）
ロロ酢酸で保護基Ｒ1を脱離した後Ｈ−ホスホネート法
の場合にはよう素などで酸化し、アンモニア水で処理す
ることにより、Ｒ8中の保護基Ｒ9を除去すると共に、固
体担体から切断して、式（XI′）
【００５１】
【化４２】
【００５２】（式中、Ｒ2は前述と同じであり、Ｂ′は
同一であるか又は異なって
同一であるか又は異なって
【００５３】
【化４３】
【００５４】を表し、ｍ及びｎは前述と同じ）で示され
るチミングリコール構築ブロックを含むＤＮＡを得て、
これをさらにテトラブチルアンモニウムフルオリドのテ
ロラヒドロフラン溶液で処理し、保護基Ｒ2およびＴＢ
ＤＭＳ基を除去して式（XII）
るチミングリコール構築ブロックを含むＤＮＡを得て、
これをさらにテトラブチルアンモニウムフルオリドのテ
ロラヒドロフラン溶液で処理し、保護基Ｒ2およびＴＢ
ＤＭＳ基を除去して式（XII）
【００５５】
【化４４】
【００５６】（式中、Ｂ′は前述と同じである）で示さ
れるチミングリコールを含むＤＮＡを製造する。（この
脱保護により、チミングリコールの６位が異性化し、６
Ｒ体と６Ｓ体の混合物となる。）
れるチミングリコールを含むＤＮＡを製造する。（この
脱保護により、チミングリコールの６位が異性化し、６
Ｒ体と６Ｓ体の混合物となる。）
【００５７】また、望むのであれば、担体に結合した、
式（VII′）
式（VII′）
【００５８】
【化４５】
【００５９】（式中、Ｂ″は
【００６０】
【化４６】
【００６１】（式中、Ｒ7は保護基を表し、Ｒ2は上述し
たとおりである）を表す）で示されるヌクレオシドに、
式（VIII′）
たとおりである）を表す）で示されるヌクレオシドに、
式（VIII′）
【００６２】
【化４７】
【００６３】（式中、Ｒ1およびＲ3は請求項１で定義し
たとおりであり、Ｂ″は前述と同じである）で示される
ヌクレオチドを反応させ、上述したＤＮＡの鎖長伸長反
応（１）〜（３）と同様に、得られた亜リン酸トリエス
テルを酸化してリン酸トリエステルとし、これを繰り返
し、上述したＤＮＡの合成法（４）と同様に保護基を脱
離した後にアンモニア水で処理することにより、Ｂ′
（上述と同じである）が同一であるか又は異なる下記式
（XII′）
たとおりであり、Ｂ″は前述と同じである）で示される
ヌクレオチドを反応させ、上述したＤＮＡの鎖長伸長反
応（１）〜（３）と同様に、得られた亜リン酸トリエス
テルを酸化してリン酸トリエステルとし、これを繰り返
し、上述したＤＮＡの合成法（４）と同様に保護基を脱
離した後にアンモニア水で処理することにより、Ｂ′
（上述と同じである）が同一であるか又は異なる下記式
（XII′）
【００６４】
【化４８】
【００６５】（Ｂ′およびＲ2は前述と同じであり、Ｂ*
はＢ′または
はＢ′または
【化４９】
【００６６】であり、ｍおよびｎはそれぞれ独立して０
〜３０の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１
〜６１の整数であり、かつ、ｍ、ｎ、ｘ、およびｙは同
時に （ｍ＋ｎ＋ｘ）ｙ≦６１ を満たす）で示される、チミングリコール構築ブロック
を含むＤＮＡを得た後、テトラブチルアンモニウムフル
オリドで処理することにより、保護基Ｒ2およびＴＢＤ
ＭＳを除去して式（XII″）
〜３０の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１
〜６１の整数であり、かつ、ｍ、ｎ、ｘ、およびｙは同
時に （ｍ＋ｎ＋ｘ）ｙ≦６１ を満たす）で示される、チミングリコール構築ブロック
を含むＤＮＡを得た後、テトラブチルアンモニウムフル
オリドで処理することにより、保護基Ｒ2およびＴＢＤ
ＭＳを除去して式（XII″）
【００６７】
【化５０】
【００６８】（Ｂ′、ｍ、ｎ、ｘおよびｙは前述と同じ
であり、Ｂ**はＢ′または
であり、Ｂ**はＢ′または
【００６９】
【化５１】
【００７０】である）で示されるチミングリコールを含
むＤＮＡを製造する。
むＤＮＡを製造する。
【００７１】上記の方法で（５Ｒ，６Ｓ）チミングリコ
ール構築ブロックを用いて６−mer（ｄ（ＧＣＴｇＡＧ
Ｃ）、Ｔｇは５Ｒチミングリコール）を合成した。合成
した上記６−merを脱保護した後、ＨＰＬＣで分析し
た。また、これとは別にｄ（ＧＣＴＡＧＣ）を酸化オス
ミウムで酸化して、従来法による損傷６−merを調製し
た後、ＨＰＬＣで分析した。
ール構築ブロックを用いて６−mer（ｄ（ＧＣＴｇＡＧ
Ｃ）、Ｔｇは５Ｒチミングリコール）を合成した。合成
した上記６−merを脱保護した後、ＨＰＬＣで分析し
た。また、これとは別にｄ（ＧＣＴＡＧＣ）を酸化オス
ミウムで酸化して、従来法による損傷６−merを調製し
た後、ＨＰＬＣで分析した。
【００７２】合成した６−merのＨＰＬＣ分析結果と従
来法による損傷６−merのＨＰＬＣ分析結果を比較する
と、同じ保持時間に主生成物のピークが確認された。さ
らに、合成した６−merの主生成物を分取し、従来法に
よる６−merと混合してこの混合物を再度ＨＰＬＣで分
析したところ、単一ピークが得られた。このことから、
この主生成物は目的とするｄ（ＧＣＴｇＡＧＣ）である
ことが証明された。
来法による損傷６−merのＨＰＬＣ分析結果を比較する
と、同じ保持時間に主生成物のピークが確認された。さ
らに、合成した６−merの主生成物を分取し、従来法に
よる６−merと混合してこの混合物を再度ＨＰＬＣで分
析したところ、単一ピークが得られた。このことから、
この主生成物は目的とするｄ（ＧＣＴｇＡＧＣ）である
ことが証明された。
【００７３】なお、従来法による６−merの収率は１％
であったのに対し、本発明の方法による収率は合成機か
らの通算収率で１２％であった。
であったのに対し、本発明の方法による収率は合成機か
らの通算収率で１２％であった。
【００７４】次に、上記と同様に、本発明の方法により
１３−mer（ｄ（ＡＣＧＣＧＡＴｇＡＣＧＣＣＡ））を
合成し、また従来法による損傷１３−merを調製して上
記と同様にＨＰＬＣで分析し比較することにより、目的
物が得られていることを確認した。
１３−mer（ｄ（ＡＣＧＣＧＡＴｇＡＣＧＣＣＡ））を
合成し、また従来法による損傷１３−merを調製して上
記と同様にＨＰＬＣで分析し比較することにより、目的
物が得られていることを確認した。
【００７５】なお、従来法による１３−merの収率は１
％であったのに対し、本発明の方法による合成１３−me
rの収率は、ＤＮＡ合成機からの通算収率で１１％であ
った。
％であったのに対し、本発明の方法による合成１３−me
rの収率は、ＤＮＡ合成機からの通算収率で１１％であ
った。
【００７６】また、この１３−merについて合成法の検
討を行った結果、ホスホルアミダイトの活性化剤をテト
ラゾールからベンズイミダゾリウムトリフレートに変え
ると、カップリングの反応時間を延ばさなくても高い収
率で同一の目的生成物を得ることができた。
討を行った結果、ホスホルアミダイトの活性化剤をテト
ラゾールからベンズイミダゾリウムトリフレートに変え
ると、カップリングの反応時間を延ばさなくても高い収
率で同一の目的生成物を得ることができた。
【００７７】また、式（Ｉ）におけるＲ2が、水素原子
又はＴＢＤＭＳのどちらの場合でも、最終生成物のＨＰ
ＬＣを用いた分析において同じ結果が得られ、同一の目
的生成物が得られることがわかった。
又はＴＢＤＭＳのどちらの場合でも、最終生成物のＨＰ
ＬＣを用いた分析において同じ結果が得られ、同一の目
的生成物が得られることがわかった。
【００７８】最後に、３０−mer（ｄ（ＣＴＣＧＴＣＡ
ＧＣＡＴＣＴＴｇＣＡＴＣＡＴＡＣＡＧＴＣＡＧＴ
Ｇ））を合成した。この場合は、ヌクレオチド配列中に
Ｔが複数箇所存在するため、従来法による３０−merを
調製することができなかった。そのため、上述の６−me
rおよび１３−merのような、従来法による損傷ＤＮＡと
のＨＰＬＣ分析結果の比較は行わなかった。本発明の方
法によって合成した生成物のＨＰＬＣ分析においては、
通常の３０−mer合成オリゴヌクレオチドとほぼ同じ保
持時間にピークが得られた。さらに、逆相および陰イオ
ン交換ＨＰＬＣで分取して完全な単一ピークにした。合
成機からの通算収率は６％であった。
ＧＣＡＴＣＴＴｇＣＡＴＣＡＴＡＣＡＧＴＣＡＧＴ
Ｇ））を合成した。この場合は、ヌクレオチド配列中に
Ｔが複数箇所存在するため、従来法による３０−merを
調製することができなかった。そのため、上述の６−me
rおよび１３−merのような、従来法による損傷ＤＮＡと
のＨＰＬＣ分析結果の比較は行わなかった。本発明の方
法によって合成した生成物のＨＰＬＣ分析においては、
通常の３０−mer合成オリゴヌクレオチドとほぼ同じ保
持時間にピークが得られた。さらに、逆相および陰イオ
ン交換ＨＰＬＣで分取して完全な単一ピークにした。合
成機からの通算収率は６％であった。
【００７９】上述のとおり、チミングリコールの構築ブ
ロックを用いて、チミングリコールを有するオリゴヌク
レオチドを合成する方法を確立した。この方法により、
鎖長や塩基配列の制約を受けることなく、特定の位置に
チミングリコールを有する、高純度の目的物を容易に高
収率で得ることができ、また、かかる目的物を大量調製
することが可能となった。
ロックを用いて、チミングリコールを有するオリゴヌク
レオチドを合成する方法を確立した。この方法により、
鎖長や塩基配列の制約を受けることなく、特定の位置に
チミングリコールを有する、高純度の目的物を容易に高
収率で得ることができ、また、かかる目的物を大量調製
することが可能となった。
【００８０】本発明の理解のために以下に実施例を示す
が、これらは本発明を何ら限定するものではない。
が、これらは本発明を何ら限定するものではない。
【００８１】
【実施例】溶媒と試薬は、tert−ブチルジメチルクロロ
シラン（信越化学）、（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−
ジイソプロピルクロロホスホルアミダイト（Digital Sp
ecialty Chemicals）、テトラブチルアンモニウムフル
オリド（東京化成）を除いて和光純薬工業のものを用い
た。ＤＮＡ合成機に用いる試薬類はPE BiosystemsJapan
から購入した。薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）はMe
rck社のSilica gel60F254plate上で行い、２５４nmの紫
外線照射、およびアニスアルデヒド−硫酸の噴霧と加熱
により検出した。シリカゲルクロマトグラフィーにはWa
kogel C-200あるいはC-300（和光純薬工業）を用いた。
シラン（信越化学）、（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−
ジイソプロピルクロロホスホルアミダイト（Digital Sp
ecialty Chemicals）、テトラブチルアンモニウムフル
オリド（東京化成）を除いて和光純薬工業のものを用い
た。ＤＮＡ合成機に用いる試薬類はPE BiosystemsJapan
から購入した。薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）はMe
rck社のSilica gel60F254plate上で行い、２５４nmの紫
外線照射、およびアニスアルデヒド−硫酸の噴霧と加熱
により検出した。シリカゲルクロマトグラフィーにはWa
kogel C-200あるいはC-300（和光純薬工業）を用いた。
【００８２】1ＨＮＭＲスペクトルは、テトラメチルシ
ランを内部標準としてBruker DPX300で測定した。シグ
ナルの帰属と立体配置の決定には、それぞれＣＯＳＹと
ＮＯＥＳＹスペクトルを用いた。31ＰＮＭＲスペクトル
には、リン酸トリメチルを内部標準として同じ装置（１
２１．５MHz）で測定した。質量分析には、ThermoQuest
TSQ-700、JEOL HX-110およびHitachi M-4000Hを用い
た。
ランを内部標準としてBruker DPX300で測定した。シグ
ナルの帰属と立体配置の決定には、それぞれＣＯＳＹと
ＮＯＥＳＹスペクトルを用いた。31ＰＮＭＲスペクトル
には、リン酸トリメチルを内部標準として同じ装置（１
２１．５MHz）で測定した。質量分析には、ThermoQuest
TSQ-700、JEOL HX-110およびHitachi M-4000Hを用い
た。
【００８３】高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）
は、Waters996フォトダイオードアレイ検出器を付けたG
ilsonグラジエント分析システムで行った。逆相分配はW
atersμBondasphereC18 ５μm ３００Åカラム（３．９
×１５０mm）を用いて０．１M酢酸トリエチルアンモニ
ウム（pH７．０）中アセトニトリル、陰イオン交換は東
ソーTSK-GEL DEAE-2SWカラム（４．６×２５０mm）を用
いて２０％アセトニトリル中ギ酸アンモニウムの直線濃
度勾配により溶出した。
は、Waters996フォトダイオードアレイ検出器を付けたG
ilsonグラジエント分析システムで行った。逆相分配はW
atersμBondasphereC18 ５μm ３００Åカラム（３．９
×１５０mm）を用いて０．１M酢酸トリエチルアンモニ
ウム（pH７．０）中アセトニトリル、陰イオン交換は東
ソーTSK-GEL DEAE-2SWカラム（４．６×２５０mm）を用
いて２０％アセトニトリル中ギ酸アンモニウムの直線濃
度勾配により溶出した。
【００８４】実施例１ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−３′−
Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−
５，６−ジヒドロキシチミジン（２）
Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−
５，６−ジヒドロキシチミジン（２）
【００８５】
【化５２】
【００８６】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイルチミジン（１）
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイルチミジン（１）
【００８７】
【化５３】
【００８８】（２．５５ｇ、３．９３mmol）と酸化オス
ミウム（１．０ｇ、３．９３mmol）のピリジン溶液（１
５ml）を室温で２時間攪拌した後、亜硫酸水素ナトリウ
ム（１．８ｇ）を水（３０ml）とピリジン（２０ml）の
混合液に溶解した溶液を加えて、さらに３０分間攪拌し
た。生成物をクロロホルムで抽出し、有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥させた後、溶媒を去してトルエン共沸し、
残渣をシリカゲル（７０ｇ）のカラムで精製した。この
とき、立体配置の異なる２種の生成物が、主生成物：異
性体＝６：１の割合で得られた。
ミウム（１．０ｇ、３．９３mmol）のピリジン溶液（１
５ml）を室温で２時間攪拌した後、亜硫酸水素ナトリウ
ム（１．８ｇ）を水（３０ml）とピリジン（２０ml）の
混合液に溶解した溶液を加えて、さらに３０分間攪拌し
た。生成物をクロロホルムで抽出し、有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥させた後、溶媒を去してトルエン共沸し、
残渣をシリカゲル（７０ｇ）のカラムで精製した。この
とき、立体配置の異なる２種の生成物が、主生成物：異
性体＝６：１の割合で得られた。
【００８９】上記で得られた２種類の生成物をＴＬＣ分
析で分析したところ、主生成物のＲｆ値が０．５７であ
ったのに対し、その異性体のＲｆ値は０．６２であっ
た。また、ＮＯＥＳＹスペクトルを比較すると、いずれ
の化合物においても、Ｈ６とメチル基のプロトンの間に
クロスピークが見られたが、Ｈ６とＨ１′の間にはＮＯ
Ｅは検出されなかった。したがって、これら２種類の化
合物においては、２つの水酸基がcis配置であり、グリ
コシル結合の周りはanti配座であることがわかった。さ
らに、量の少ない異性体においては、Ｈ６とＨ２′の間
に強いＮＯＥが検出されたのに対し、主生成物の場合に
はそれが検出されなかった。そこで、Ｒｆ値の小さい主
生成物は５Ｒ，６Ｓ体であると同定して、クロロホルム
中にメタノールを０．５％含む溶離液で溶出した。
析で分析したところ、主生成物のＲｆ値が０．５７であ
ったのに対し、その異性体のＲｆ値は０．６２であっ
た。また、ＮＯＥＳＹスペクトルを比較すると、いずれ
の化合物においても、Ｈ６とメチル基のプロトンの間に
クロスピークが見られたが、Ｈ６とＨ１′の間にはＮＯ
Ｅは検出されなかった。したがって、これら２種類の化
合物においては、２つの水酸基がcis配置であり、グリ
コシル結合の周りはanti配座であることがわかった。さ
らに、量の少ない異性体においては、Ｈ６とＨ２′の間
に強いＮＯＥが検出されたのに対し、主生成物の場合に
はそれが検出されなかった。そこで、Ｒｆ値の小さい主
生成物は５Ｒ，６Ｓ体であると同定して、クロロホルム
中にメタノールを０．５％含む溶離液で溶出した。
【００９０】収量：２．０３ｇ（２．９７mmol、７６
％）。 TLC（CHCl3/MeOH, 10/1）：Rf: 0.57。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 8.06 (d, J= 7 Hz, 2H, B
z), 7.88 (s, 1H, -NH-), 7.59 (t, J = 7 Hz, 1H, B
z), 7.50−7.43 (m, 4H, Bz, DMT), 7.40−7.15 (m, 7
H, DMT), 6.85 (d, J = 9Hz, 4H, DMT), 6.34 (dd, J =
9, 5 Hz, 1H, H1′), 5.72 (d, J = 6 Hz, 1H,H3′),
5.26 (s, 1H, H6), 4.22 (br, 1H, H4′), 3.78 (s, 6
H, -OCH3), 3.62 (br, 1H, 5-OH), 3.57 (dd, J = 10,
4 Hz, 1H, H5′), 3.32 (dd, J = 10, 3Hz, 1H, H5′),
2.98 (br, 1H, 6-OH), 2.83−2.69 (m,1H, H2′), 2.4
9 (dd, J= 14, 6 Hz, 1H, H2″), 1.35 (s, 3H, -C
H3)。 高分解能FAB MS：m/z: 681.2451(M-, C38H37N2O10：68
1.2448)。
％）。 TLC（CHCl3/MeOH, 10/1）：Rf: 0.57。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 8.06 (d, J= 7 Hz, 2H, B
z), 7.88 (s, 1H, -NH-), 7.59 (t, J = 7 Hz, 1H, B
z), 7.50−7.43 (m, 4H, Bz, DMT), 7.40−7.15 (m, 7
H, DMT), 6.85 (d, J = 9Hz, 4H, DMT), 6.34 (dd, J =
9, 5 Hz, 1H, H1′), 5.72 (d, J = 6 Hz, 1H,H3′),
5.26 (s, 1H, H6), 4.22 (br, 1H, H4′), 3.78 (s, 6
H, -OCH3), 3.62 (br, 1H, 5-OH), 3.57 (dd, J = 10,
4 Hz, 1H, H5′), 3.32 (dd, J = 10, 3Hz, 1H, H5′),
2.98 (br, 1H, 6-OH), 2.83−2.69 (m,1H, H2′), 2.4
9 (dd, J= 14, 6 Hz, 1H, H2″), 1.35 (s, 3H, -C
H3)。 高分解能FAB MS：m/z: 681.2451(M-, C38H37N2O10：68
1.2448)。
【００９１】実施例２ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−３′−
ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，
６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジ
ン（３ａ）
ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，
６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジ
ン（３ａ）
【００９２】
【化５４】
【００９３】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミジン（２） （１．８０ｇ、２．６４mmol）、イミダゾール（１．８
０ｇ、２６．４mmol）、tert−ブチルジメチルクロロシ
ラン（１．９９ｇ、１３．２mmol）のＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド溶液（１５ml）を３７℃で２４時間攪拌し
た後、クロロホルム（１００ml）で希釈して０．５Mリ
ン酸ナトリウム緩衝液（pH５．０）で洗浄した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、トルエン共
沸を行って、残渣をシリカゲル（６０ｇ）のカラムで精
製した。目的物をヘキサン中に酢酸エチルを１５％含む
溶離液で溶出した。
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミジン（２） （１．８０ｇ、２．６４mmol）、イミダゾール（１．８
０ｇ、２６．４mmol）、tert−ブチルジメチルクロロシ
ラン（１．９９ｇ、１３．２mmol）のＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド溶液（１５ml）を３７℃で２４時間攪拌し
た後、クロロホルム（１００ml）で希釈して０．５Mリ
ン酸ナトリウム緩衝液（pH５．０）で洗浄した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、トルエン共
沸を行って、残渣をシリカゲル（６０ｇ）のカラムで精
製した。目的物をヘキサン中に酢酸エチルを１５％含む
溶離液で溶出した。
【００９４】収量：１．９８ｇ（２．１７mmol、８２
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.71。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 8.05 (d, J = 7 Hz, 2H, B
z), 7.60 (t, J = 7 Hz, 1H, Bz), 7.51−7.41 (m, 4H,
Bz, DMT), 7.37−7.18 (m, 7H, DMT), 7.17 (s, 1H, -
NH-), 6.80 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 6.10 (dd, J = 1
0, 5 Hz, 1H, H1′), 5.64−5.57 (m, 1H, H3′), 4.78
(s, 1H, H6), 4.13 (dd, J = 7, 4 Hz,1H, H4′), 3.7
7 (s, 6H, -OCH3), 3.42 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H
5′), 3.27(dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H5′), 2.53−2.39
(m, 1H, H2′), 2.28 (dd, J = 13, 5 Hz, 1H, H2″),
1.42 (s, 3H, -CH3), 0.85, 0.80 (s, 18H, TBDMS),
0.23, 0.22 (s, 6H, TBDMS), 0.12, 0.10 (s, 6H, TBDM
S)。 高分解能FAB MS：m/z: 909.4207 (M-, C50H65N2O10S
i2：909.4178)。
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.71。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 8.05 (d, J = 7 Hz, 2H, B
z), 7.60 (t, J = 7 Hz, 1H, Bz), 7.51−7.41 (m, 4H,
Bz, DMT), 7.37−7.18 (m, 7H, DMT), 7.17 (s, 1H, -
NH-), 6.80 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 6.10 (dd, J = 1
0, 5 Hz, 1H, H1′), 5.64−5.57 (m, 1H, H3′), 4.78
(s, 1H, H6), 4.13 (dd, J = 7, 4 Hz,1H, H4′), 3.7
7 (s, 6H, -OCH3), 3.42 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H
5′), 3.27(dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H5′), 2.53−2.39
(m, 1H, H2′), 2.28 (dd, J = 13, 5 Hz, 1H, H2″),
1.42 (s, 3H, -CH3), 0.85, 0.80 (s, 18H, TBDMS),
0.23, 0.22 (s, 6H, TBDMS), 0.12, 0.10 (s, 6H, TBDM
S)。 高分解能FAB MS：m/z: 909.4207 (M-, C50H65N2O10S
i2：909.4178)。
【００９５】実施例３ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−３′−
O−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−
５−ヒドロキシ−６−〔（tert−ブチル）ジメチルシリ
ロキシ〕チミン（３ｂ）
O−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−
５−ヒドロキシ−６−〔（tert−ブチル）ジメチルシリ
ロキシ〕チミン（３ｂ）
【００９６】
【化５５】
【００９７】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミジン（２）
（２．０３ｇ、２．９７mmol）、イミダゾール（０．４
８５ｇ、７．１２mmol）、tert−ブチルジメチルクロロ
シラン（０．５３７ｇ、３．５６mmol）のＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド溶液（１０ml）を室温で１８時間攪拌
した後、クロロホルム（１００ml）で希釈して０．５M
リン酸ナトリウム緩衝液（pH５．０）で洗浄した。有機
層を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、トルエン
共沸を行って、残渣をシリカゲル（５０ｇ）のカラムで
精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを１５％含
む溶離液で溶出された。
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミジン（２）
（２．０３ｇ、２．９７mmol）、イミダゾール（０．４
８５ｇ、７．１２mmol）、tert−ブチルジメチルクロロ
シラン（０．５３７ｇ、３．５６mmol）のＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド溶液（１０ml）を室温で１８時間攪拌
した後、クロロホルム（１００ml）で希釈して０．５M
リン酸ナトリウム緩衝液（pH５．０）で洗浄した。有機
層を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、トルエン
共沸を行って、残渣をシリカゲル（５０ｇ）のカラムで
精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを１５％含
む溶離液で溶出された。
【００９８】収量：０．９８８ｇ（１．２４mmol、４２
％、反応中にtrans異性体（５Ｒ，６Ｒ体）が生じたた
め収率が低い）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.45。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 8.04 (d, J = 7 Hz, 2H, B
z), 7.77 (s, 1H, -NH-), 7.59 (t, J = 7 Hz, 1H, B
z), 7.49−7.42 (m, 4H, Bz, DMT), 7.37−7.16(m, 7H,
DMT), 6.82 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 6.21 (dd, J =
9, 6 Hz, 1H, H1′), 5.56−5.51 (m, 1H, H3′), 4.91
(s, 1H, H6), 4.17 (dd, J = 8, 5 Hz,1H, H4′), 3.7
7 (s, 6H, -OCH3), 3.41 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H
5′), 3.31(dd, J = 10, 4 Hz, 1H, H5′), 3.28 (s, 1
H, -OH), 2.44−2.25 (m, 2H, H2′, H2″), 1.41 (s,
3H, -CH3), 0.82 (s, 9H, TBDMS), 0.05 (s, 3H, TBDM
S), 0.03 (s, 3H, TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 795.3311 (M-, C44H51N2O10Si：
795.3313)。
％、反応中にtrans異性体（５Ｒ，６Ｒ体）が生じたた
め収率が低い）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.45。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 8.04 (d, J = 7 Hz, 2H, B
z), 7.77 (s, 1H, -NH-), 7.59 (t, J = 7 Hz, 1H, B
z), 7.49−7.42 (m, 4H, Bz, DMT), 7.37−7.16(m, 7H,
DMT), 6.82 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 6.21 (dd, J =
9, 6 Hz, 1H, H1′), 5.56−5.51 (m, 1H, H3′), 4.91
(s, 1H, H6), 4.17 (dd, J = 8, 5 Hz,1H, H4′), 3.7
7 (s, 6H, -OCH3), 3.41 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H
5′), 3.31(dd, J = 10, 4 Hz, 1H, H5′), 3.28 (s, 1
H, -OH), 2.44−2.25 (m, 2H, H2′, H2″), 1.41 (s,
3H, -CH3), 0.82 (s, 9H, TBDMS), 0.05 (s, 3H, TBDM
S), 0.03 (s, 3H, TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 795.3311 (M-, C44H51N2O10Si：
795.3313)。
【００９９】実施例４ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−３′−
Ｏ−ベンゾイル−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−
５，６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チ
ミジン（３ｃ）
Ｏ−ベンゾイル−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−
５，６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チ
ミジン（３ｃ）
【０１００】
【化５６】
【０１０１】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミジン（２の異性
体）（２９９mg、４３８μmol）、イミダゾール（２９
８mg、４．３８mmol）、tert−ブチルジメチルクロロシ
ラン（３３０mg、２．１９mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド溶液（２．５ml）を３７℃で２４時間攪拌し
た後、クロロホルム（２０ml）で希釈して０．５Mリン
酸ナトリウム緩衝液（pH５．０）で洗浄した。有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、トルエン共沸
を行って、残渣をシリカゲル（１０ｇ）のカラムで精製
した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを１５％含む溶
離液で溶出された。
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジヒドロキシチミジン（２の異性
体）（２９９mg、４３８μmol）、イミダゾール（２９
８mg、４．３８mmol）、tert−ブチルジメチルクロロシ
ラン（３３０mg、２．１９mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド溶液（２．５ml）を３７℃で２４時間攪拌し
た後、クロロホルム（２０ml）で希釈して０．５Mリン
酸ナトリウム緩衝液（pH５．０）で洗浄した。有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、トルエン共沸
を行って、残渣をシリカゲル（１０ｇ）のカラムで精製
した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを１５％含む溶
離液で溶出された。
【０１０２】収量：３３４mg（３６６μmol、８４
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.71。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 8.04 (d, J = 7.11 Hz, 2
H, Bz), 7.60 (t, J=7.39Hz, 1H, Bz), 7.50−7.40 (m,
4H, Bz, DMT), 7.35−7.17 (m, 7H, DMT), 7.11 (s, 1
H, -NH-), 6.80 (d, J=8.82 Hz, 4H, DMT), 5.67 (dd,
J=7.95, 5.37Hz,1H, H1'), 5.63-5.58 (m, 1H, H3'),
4.91 (s, 1H, H6), 4.25 (dd, J=7.65, 4.58Hz, 1H, H
4'), 3.77 (s, 6H, -OCH3), 3.49 (dd, J=10.07, 4.71
Hz, 1H, H5′), 3.33 (dd, J=10.07, 4.76Hz, 1H, H
5′), 2.69−2.60 (m, 1H, H2′), 2.49-2.38 (m, 1H,
H2″), 1.32 (s, 3H, -CH3), 0.85, 0.81 (s, 18H, TBD
MS), 0.23, 0.20 (s, 6H, TBDMS), 0.06, 0.01(s, 6H,
TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 909.4149 (M−, C50H65N2O10Si
2：909.4178)
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.71。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 8.04 (d, J = 7.11 Hz, 2
H, Bz), 7.60 (t, J=7.39Hz, 1H, Bz), 7.50−7.40 (m,
4H, Bz, DMT), 7.35−7.17 (m, 7H, DMT), 7.11 (s, 1
H, -NH-), 6.80 (d, J=8.82 Hz, 4H, DMT), 5.67 (dd,
J=7.95, 5.37Hz,1H, H1'), 5.63-5.58 (m, 1H, H3'),
4.91 (s, 1H, H6), 4.25 (dd, J=7.65, 4.58Hz, 1H, H
4'), 3.77 (s, 6H, -OCH3), 3.49 (dd, J=10.07, 4.71
Hz, 1H, H5′), 3.33 (dd, J=10.07, 4.76Hz, 1H, H
5′), 2.69−2.60 (m, 1H, H2′), 2.49-2.38 (m, 1H,
H2″), 1.32 (s, 3H, -CH3), 0.85, 0.81 (s, 18H, TBD
MS), 0.23, 0.20 (s, 6H, TBDMS), 0.06, 0.01(s, 6H,
TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 909.4149 (M−, C50H65N2O10Si
2：909.4178)
【０１０３】実施例５ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−（５
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４ａ）
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４ａ）
【０１０４】
【化５７】
【０１０５】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシ
リロキシ〕チミジン（３ａ） （１．９８ｇ、２．１７mmol）を炭酸カリウムの５０mM
メタノール溶液（９０ml）に溶解して２時間攪拌した
後、氷冷下０．５Mリン酸ナトリウム緩衝液（pH５．
０，１００ml）を加えた。生成物をクロロホルム（１５
０ml）で抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させた
後、溶媒を留去して残渣をシリカゲル（５０ｇ）のカラ
ムで精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを２５
−３０％含む溶離液で溶出された。
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシ
リロキシ〕チミジン（３ａ） （１．９８ｇ、２．１７mmol）を炭酸カリウムの５０mM
メタノール溶液（９０ml）に溶解して２時間攪拌した
後、氷冷下０．５Mリン酸ナトリウム緩衝液（pH５．
０，１００ml）を加えた。生成物をクロロホルム（１５
０ml）で抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させた
後、溶媒を留去して残渣をシリカゲル（５０ｇ）のカラ
ムで精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを２５
−３０％含む溶離液で溶出された。
【０１０６】収量：１．７０ｇ（２．１０mmol、９７
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.34。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 7.41 (d, J = 7 Hz, 2H, DM
T), 7.33−7.17 (m, 7H, DMT), 7.15 (s, 1H, -NH-),
6.82 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 5.97 (dd, J =8, 6 Hz,
1H, H1′), 4.64 (s, 1H, H6), 4.40 (dd, J = 6, 3 H
z, 1H, H3′),3.88−3.80 (m, 1H, H4′), 3.79 (s, 6
H, -OCH3), 3.36 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H5′), 3.14
(dd, J = 10, 7 Hz, 1H, H5′), 2.32−2.19 (m, 1H,
H2′), 2.14−2.04 (m, 1H, H2″), 1.92 (d, J = 3 H
z, 1H, 3′-OH), 1.37 (s, 3H, -CH3), 0.84, 0.82 (s,
18H, TBDMS), 0.22, 0.21 (s, 6H, TBDMS), 0.08, 0.0
5 (s, 6H, TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 805.3909 (M-, C43H61N2O9Si2：
805.3916)。
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.34。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 7.41 (d, J = 7 Hz, 2H, DM
T), 7.33−7.17 (m, 7H, DMT), 7.15 (s, 1H, -NH-),
6.82 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 5.97 (dd, J =8, 6 Hz,
1H, H1′), 4.64 (s, 1H, H6), 4.40 (dd, J = 6, 3 H
z, 1H, H3′),3.88−3.80 (m, 1H, H4′), 3.79 (s, 6
H, -OCH3), 3.36 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H5′), 3.14
(dd, J = 10, 7 Hz, 1H, H5′), 2.32−2.19 (m, 1H,
H2′), 2.14−2.04 (m, 1H, H2″), 1.92 (d, J = 3 H
z, 1H, 3′-OH), 1.37 (s, 3H, -CH3), 0.84, 0.82 (s,
18H, TBDMS), 0.22, 0.21 (s, 6H, TBDMS), 0.08, 0.0
5 (s, 6H, TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 805.3909 (M-, C43H61N2O9Si2：
805.3916)。
【０１０７】実施例６ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−（５
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４
ｂ）
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４
ｂ）
【０１０８】
【化５８】
【０１０９】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−〔（tert−ブチル）
ジメチルシリロキシ〕チミジン（３ｂ） （０．９８８ｇ、１．２４mmol）を炭酸カリウムの５０
mMメタノール溶液（５０ml）に溶解して２時間攪拌した
後、氷冷下０．５Mリン酸ナトリウム緩衝液（pH５．
０，１００ml）を加えた。生成物をクロロホルム（１５
０ml）で抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させた
後、溶媒を留去して残渣をシリカゲル（２０ｇ）のカラ
ムで精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを３０
−３５％含む溶離液で溶出された。濃縮後、残渣をクロ
ロホルム（３ml）に溶解し、ヘキサン（６０ml）中に滴
下することにより粉末とした。
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６
−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−〔（tert−ブチル）
ジメチルシリロキシ〕チミジン（３ｂ） （０．９８８ｇ、１．２４mmol）を炭酸カリウムの５０
mMメタノール溶液（５０ml）に溶解して２時間攪拌した
後、氷冷下０．５Mリン酸ナトリウム緩衝液（pH５．
０，１００ml）を加えた。生成物をクロロホルム（１５
０ml）で抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させた
後、溶媒を留去して残渣をシリカゲル（２０ｇ）のカラ
ムで精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エチルを３０
−３５％含む溶離液で溶出された。濃縮後、残渣をクロ
ロホルム（３ml）に溶解し、ヘキサン（６０ml）中に滴
下することにより粉末とした。
【０１１０】収量：６２６mg（９０４μmol、７３
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.22。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 7.43 (d, J = 7 Hz, 2H, DM
T), 7.38 (s, 1H, -NH-), 7.34−7.18 (m, 7H, DMT),
6.84 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 6.11 (dd, J =8, 7 Hz,
1H, H1′), 4.79 (s, 1H, H6), 4.35 (br, 1H, H3′),
3.86 (dd, J =9, 5 Hz, 1H, H4′), 3.79 (s, 6H, -OC
H3), 3.35 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H5′), 3.26 (s, 1
H, -OH), 3.17 (dd, J = 10, 6 Hz, 1H, H5′), 2.25−
2.07 (m, 2H, H2′, H2″), 1.87 (br, 1H, 3′-OH),
1.38 (s, 3H, -CH3), 0.81 (s, 9H, TBDMS), 0.05 (s,
3H, TBDMS), 0.01 (s, 3H, TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 691.3063 (M-, C37H47N2O9Si：6
91.3050)。
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.22。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 7.43 (d, J = 7 Hz, 2H, DM
T), 7.38 (s, 1H, -NH-), 7.34−7.18 (m, 7H, DMT),
6.84 (d, J = 9 Hz, 4H, DMT), 6.11 (dd, J =8, 7 Hz,
1H, H1′), 4.79 (s, 1H, H6), 4.35 (br, 1H, H3′),
3.86 (dd, J =9, 5 Hz, 1H, H4′), 3.79 (s, 6H, -OC
H3), 3.35 (dd, J = 10, 5 Hz, 1H, H5′), 3.26 (s, 1
H, -OH), 3.17 (dd, J = 10, 6 Hz, 1H, H5′), 2.25−
2.07 (m, 2H, H2′, H2″), 1.87 (br, 1H, 3′-OH),
1.38 (s, 3H, -CH3), 0.81 (s, 9H, TBDMS), 0.05 (s,
3H, TBDMS), 0.01 (s, 3H, TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 691.3063 (M-, C37H47N2O9Si：6
91.3050)。
【０１１１】実施例７ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−（５
Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４ｃ）
Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４ｃ）
【０１１２】
【化５９】
【０１１３】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシ
リロキシ〕チミジン（３ｃ）（３２２mg、３５３μmo
l）を、炭酸カリウムの５０mMメタノール溶液（１５m
l）に溶解して２時間攪拌した後、氷冷下０．５Mりん酸
ナトリウム緩衝液（pH５．０、２０ml）を加えた。生成
物をクロロホルム（30ml）で抽出し、有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル（８
ｇ）のカラムで精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エ
チルを２５−３０％含む溶離液で溶出された。
ル）−３′−Ｏ−ベンゾイル−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６
−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−ブチル）ジメチルシ
リロキシ〕チミジン（３ｃ）（３２２mg、３５３μmo
l）を、炭酸カリウムの５０mMメタノール溶液（１５m
l）に溶解して２時間攪拌した後、氷冷下０．５Mりん酸
ナトリウム緩衝液（pH５．０、２０ml）を加えた。生成
物をクロロホルム（30ml）で抽出し、有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル（８
ｇ）のカラムで精製した。目的物はヘキサン中に酢酸エ
チルを２５−３０％含む溶離液で溶出された。
【０１１４】収量：２８６mg（３５４μmol、１００
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.37。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 7.40 (d, J=6.96Hz, 2H, D
MT), 7.33-7.18 (m, 7H, DMT), 7.02 (s, 1H, -NH-),
6.82 (d, J=8.88Hz, 4H, DMT), 5.50 (t, J=6.24Hz, 1
H, H1′), 4.76 (s, 1H, H6), 4.48-4.40 (m, 1H, H
3′), 3.93 (dd, J=10.70, 4.98Hz, 1H, H4′), 3.79
(s, 6H, -OCH3), 3.39 (dd, J=9.61, 5.06 Hz,1H, H
5′), 3.20 (dd, J=9.59, 6.18Hz, 1H, H5′), 2.46−
2.30 (m, 2H, H2′, H2″), 1.91 (d, J=2.82 Hz, 1H,
3′-OH), 1.32 (s, 3H, -CH3), 0.85, 0.81(s, 18H, TB
DMS), 0.23, 0.19 (s, 6H, TBDMS), 0.06, 0.03(s, 6H,
TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 805.3933 (M−, C43H61N2O9Si
2：805.3916)
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.37。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 7.40 (d, J=6.96Hz, 2H, D
MT), 7.33-7.18 (m, 7H, DMT), 7.02 (s, 1H, -NH-),
6.82 (d, J=8.88Hz, 4H, DMT), 5.50 (t, J=6.24Hz, 1
H, H1′), 4.76 (s, 1H, H6), 4.48-4.40 (m, 1H, H
3′), 3.93 (dd, J=10.70, 4.98Hz, 1H, H4′), 3.79
(s, 6H, -OCH3), 3.39 (dd, J=9.61, 5.06 Hz,1H, H
5′), 3.20 (dd, J=9.59, 6.18Hz, 1H, H5′), 2.46−
2.30 (m, 2H, H2′, H2″), 1.91 (d, J=2.82 Hz, 1H,
3′-OH), 1.32 (s, 3H, -CH3), 0.85, 0.81(s, 18H, TB
DMS), 0.23, 0.19 (s, 6H, TBDMS), 0.06, 0.03(s, 6H,
TBDMS)。 高分解能FAB MS：m/z: 805.3933 (M−, C43H61N2O9Si
2：805.3916)
【０１１５】実施例８ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−（５
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン ３′〔（２−
シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル〕ホスホルア
ミダイト（５ａ）
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン ３′〔（２−
シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル〕ホスホルア
ミダイト（５ａ）
【０１１６】
【化６０】
【０１１７】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４
ａ）（１５５mg、１９２μmol）をテトラヒドロフラン
（１．９ml）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミン（１３４μl、７６８μmol）と（２−シアノエチ
ル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホルアミダイ
ト（８６μl、３８４μmol）を加えて３０分間攪拌し
た。この混合物を酢酸エチルで希釈し、２％重曹水と水
で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させて溶
媒を留去し、残渣をシリカゲル（５ｇ）のカラムで精製
した。目的物はヘキサン中に０．１％ピリジンと１５％
酢酸エチルを含む溶離液で溶出された。溶媒留去後、ア
セトニトリルとの共沸によりピリジンを除いた。
ル）−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４
ａ）（１５５mg、１９２μmol）をテトラヒドロフラン
（１．９ml）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミン（１３４μl、７６８μmol）と（２−シアノエチ
ル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホルアミダイ
ト（８６μl、３８４μmol）を加えて３０分間攪拌し
た。この混合物を酢酸エチルで希釈し、２％重曹水と水
で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させて溶
媒を留去し、残渣をシリカゲル（５ｇ）のカラムで精製
した。目的物はヘキサン中に０．１％ピリジンと１５％
酢酸エチルを含む溶離液で溶出された。溶媒留去後、ア
セトニトリルとの共沸によりピリジンを除いた。
【０１１８】収量１６８mg（１６７μmol、８７％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.60。1 H NMR (CDCl3) ：δ(ppm): 8.17 (s, 1H, -NH-), 7.48
−7.15 (m, 9H, DMT),6.87−6.77 (m, 4H, DMT), 6.07
−5.98 (m, 1H, H1′), 4.72, 4.69 (s, 1H, H6), 4.57
−4.46 (m, 1H, H3′), 4.07−3.99 (m, 1H, H4′), 3.
85−3.70 (m, 7H, -OCH3, -OCH2CH2CN × 1/2), 3.68−
3.48 (m, 3H, -OCH2CH2CN × 1/2, -CH(CH3)2), 3.30−
3.12 (m, 2H, H5′), 2.58 (t, J = 6 Hz, 1H, -OCH2CH
2CN × 1/2), 2.43 (t, J = 6 Hz, 1H, -OCH2CH2CN ×
1/2), 2.30−2.08 (m, 2H, H2′,H2″), 1.43, 1.41
(s, 3H, -CH3), 1.23−1.04 (m, 12H, -CH(CH3)2), 0.8
4,0.83, 0.81, 0.80 (s, 18H, TBDMS), 0.23, 0.22 (s,
6H, TBDMS), 0.09, 0.07(s, 6H, TBDMS)。31P NMR (CD
Cl3)：δ(ppm): 146.63, 146.15。 高分解能SI MS：m/z: 1005.4985 (M-, C52H78N4O10PS
i2：1005.4997)。
−7.15 (m, 9H, DMT),6.87−6.77 (m, 4H, DMT), 6.07
−5.98 (m, 1H, H1′), 4.72, 4.69 (s, 1H, H6), 4.57
−4.46 (m, 1H, H3′), 4.07−3.99 (m, 1H, H4′), 3.
85−3.70 (m, 7H, -OCH3, -OCH2CH2CN × 1/2), 3.68−
3.48 (m, 3H, -OCH2CH2CN × 1/2, -CH(CH3)2), 3.30−
3.12 (m, 2H, H5′), 2.58 (t, J = 6 Hz, 1H, -OCH2CH
2CN × 1/2), 2.43 (t, J = 6 Hz, 1H, -OCH2CH2CN ×
1/2), 2.30−2.08 (m, 2H, H2′,H2″), 1.43, 1.41
(s, 3H, -CH3), 1.23−1.04 (m, 12H, -CH(CH3)2), 0.8
4,0.83, 0.81, 0.80 (s, 18H, TBDMS), 0.23, 0.22 (s,
6H, TBDMS), 0.09, 0.07(s, 6H, TBDMS)。31P NMR (CD
Cl3)：δ(ppm): 146.63, 146.15。 高分解能SI MS：m/z: 1005.4985 (M-, C52H78N4O10PS
i2：1005.4997)。
【０１１９】実施例９ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−（５
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン
３′〔（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピ
ル〕ホスホルアミダイト（５ｂ）
Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン
３′〔（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピ
ル〕ホスホルアミダイト（５ｂ）
【０１２０】
【化６１】
【０１２１】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５−ヒドロ
キシ−６−〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チ
ミジン（４ｂ）（１０４mg、１５０μmol）をテトラヒ
ドロフラン（１．５ml）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルエチルアミン（１０５μl、６００μmol）と（２−
シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホ
ルアミダイト（６７μl、３００μmol）を加えて３０分
間攪拌した。この混合物を酢酸エチルで希釈し、２％重
曹水と水で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥
させて溶媒を留去し、残渣をシリカゲル（５ｇ）のカラ
ムで精製した。目的物はヘキサン中に０．１％ピリジン
と３０％酢酸エチルを含む溶離液で溶出された。濃縮
後、残渣をクロロホルム（０．５ml）に溶解し、ペンタ
ン（１０ml）中に滴下することにより粉末とした。
ル）−（５Ｒ，６Ｓ）−５，６−ジヒドロ−５−ヒドロ
キシ−６−〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チ
ミジン（４ｂ）（１０４mg、１５０μmol）をテトラヒ
ドロフラン（１．５ml）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルエチルアミン（１０５μl、６００μmol）と（２−
シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホ
ルアミダイト（６７μl、３００μmol）を加えて３０分
間攪拌した。この混合物を酢酸エチルで希釈し、２％重
曹水と水で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥
させて溶媒を留去し、残渣をシリカゲル（５ｇ）のカラ
ムで精製した。目的物はヘキサン中に０．１％ピリジン
と３０％酢酸エチルを含む溶離液で溶出された。濃縮
後、残渣をクロロホルム（０．５ml）に溶解し、ペンタ
ン（１０ml）中に滴下することにより粉末とした。
【０１２２】収量：１１６mg（１３０μmol、８７
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.34。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 7.47−7.17 (m, 10H, DMT,
-NH-), 6.87−6.79 (m, 4H, DMT), 6.15−6.06 (m, 1H,
H1′), 4.86, 4.83 (s, 1H, H6), 4.54−4.43(m, 1H,
H3′), 4.09−4.02 (m, 1H, H4′), 3.84−3.71 (m, 7
H, -OCH3, -OCH 2CH2CN × 1/2), 3.68−3.49 (m, 3H, -
OCH2CH2CN × 1/2, -CH(CH3)2), 3.27−3.14 (m, 3H, -
OH, H5′), 2.59 (t, J = 6 Hz, 1H, -OCH2CH2CN × 1/
2), 2.41(t, J = 7 Hz, -OCH2CH2CN × 1/2), 2.28−2.
01 (m, 2H, H2′, H2″), 1.42,1.40 (s, 3H, -CH3),
1.20−1.03 (m, 12H, -CH(CH3)2), 0.82, 0.81 (s, 9H,
TBDMS), 0.04 (s, 3H, TBDMS), 0.00 (s, 3H, TBDMS)。31 P NMR (CDCl3)：δ(ppm): 146.64, 145.99。 高分解能FAB MS：m/z: 891.4121 (M-, C46H64N4O10PS
i：891.4129)。
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.34。1 H NMR (CDCl3)：δ(ppm): 7.47−7.17 (m, 10H, DMT,
-NH-), 6.87−6.79 (m, 4H, DMT), 6.15−6.06 (m, 1H,
H1′), 4.86, 4.83 (s, 1H, H6), 4.54−4.43(m, 1H,
H3′), 4.09−4.02 (m, 1H, H4′), 3.84−3.71 (m, 7
H, -OCH3, -OCH 2CH2CN × 1/2), 3.68−3.49 (m, 3H, -
OCH2CH2CN × 1/2, -CH(CH3)2), 3.27−3.14 (m, 3H, -
OH, H5′), 2.59 (t, J = 6 Hz, 1H, -OCH2CH2CN × 1/
2), 2.41(t, J = 7 Hz, -OCH2CH2CN × 1/2), 2.28−2.
01 (m, 2H, H2′, H2″), 1.42,1.40 (s, 3H, -CH3),
1.20−1.03 (m, 12H, -CH(CH3)2), 0.82, 0.81 (s, 9H,
TBDMS), 0.04 (s, 3H, TBDMS), 0.00 (s, 3H, TBDMS)。31 P NMR (CDCl3)：δ(ppm): 146.64, 145.99。 高分解能FAB MS：m/z: 891.4121 (M-, C46H64N4O10PS
i：891.4129)。
【０１２３】実施例１０ ５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−（５
Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン ３′−〔（２
−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル〕ホスホル
アミダイト（５ｃ）
Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ〔（tert−
ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン ３′−〔（２
−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル〕ホスホル
アミダイト（５ｃ）
【０１２４】
【化６２】
【０１２５】５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチ
ル）−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４
ｃ）（２８１mg、３４８μmol）を、テトラヒドロフラ
ン（３．５ml）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチ
ルアミン（２４２μl、１．３９mmol）と（２−シアノ
エチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホルアミ
ダイト（１５５μl、６９６μmol）を加えて３０分間攪
拌した。この混合物を酢酸エチルで希釈し、２％重曹水
と水で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ
て溶媒を留去し、残渣をシリカゲル（７ｇ）のカラムで
精製した。目的物はヘキサン中に０．１％ピリジンと１
５％酢酸エチルを含む溶離液で溶出された。溶媒除去
後、アセトニトリルとの共沸によりピリジンを除いた。
ル）−（５Ｓ，６Ｒ）−５，６−ジヒドロ−５，６−ジ
〔（tert−ブチル）ジメチルシリロキシ〕チミジン（４
ｃ）（２８１mg、３４８μmol）を、テトラヒドロフラ
ン（３．５ml）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチ
ルアミン（２４２μl、１．３９mmol）と（２−シアノ
エチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホルアミ
ダイト（１５５μl、６９６μmol）を加えて３０分間攪
拌した。この混合物を酢酸エチルで希釈し、２％重曹水
と水で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ
て溶媒を留去し、残渣をシリカゲル（７ｇ）のカラムで
精製した。目的物はヘキサン中に０．１％ピリジンと１
５％酢酸エチルを含む溶離液で溶出された。溶媒除去
後、アセトニトリルとの共沸によりピリジンを除いた。
【０１２６】収量：２１５mg（２１４μmol、６１
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.66, 0.58。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 7.89, 7.86 (s, 1H, -NH
-), 7.46-7.39 (m, 2H,DMT), 7.35-7.17 (m, 7H, DMT),
6.85-6.76 (m, 4H, DMT), 5.57-5.47 (m, 1H,H1′),
4.85, 4.84 (s, 1H, H6), 4.59-4.45 (m, 1H, H3′),
4.15-4.08 (m, 1H, H4′), 3.85-3.70 (m, 7H, -OCH3,
-OCH2CH2CN ×1/2), 3.67-3.48 (m, 3H, -OCH2CH2CN ×
1/2, -CH(CH3)2), 3.30-3.18 (m, 2H, H5′), 2.60 (t,
J=6.42Hz,1H, -OCH2CH2CN ×1/2), 2.42 (t, J=6.48 H
z, 1H, -OCH2CH2CN ×1/2), 2.57-2.25 (m, 2H, H2′,
H2″), 1.36, 1.35(s, 3H, -CH3), 1.19-1.05(m, 12H,
-CH(CH3)2), 0.85, 0.82 (s, 18H, TBDMS), 0.24, 0.20
(s, 6H, TBDMS), 0.08, 0.05, 0.04(s, 6H, TBDMS)。
31PNMR(CDCl3):δ(ppm):146.50, 145.96。 FAB MS：m/z: 1005 (M-)
％）。 TLC (ヘキサン／酢酸エチル, 3/2)：Rf: 0.66, 0.58。1 H NMR (CDCl3)：δ (ppm): 7.89, 7.86 (s, 1H, -NH
-), 7.46-7.39 (m, 2H,DMT), 7.35-7.17 (m, 7H, DMT),
6.85-6.76 (m, 4H, DMT), 5.57-5.47 (m, 1H,H1′),
4.85, 4.84 (s, 1H, H6), 4.59-4.45 (m, 1H, H3′),
4.15-4.08 (m, 1H, H4′), 3.85-3.70 (m, 7H, -OCH3,
-OCH2CH2CN ×1/2), 3.67-3.48 (m, 3H, -OCH2CH2CN ×
1/2, -CH(CH3)2), 3.30-3.18 (m, 2H, H5′), 2.60 (t,
J=6.42Hz,1H, -OCH2CH2CN ×1/2), 2.42 (t, J=6.48 H
z, 1H, -OCH2CH2CN ×1/2), 2.57-2.25 (m, 2H, H2′,
H2″), 1.36, 1.35(s, 3H, -CH3), 1.19-1.05(m, 12H,
-CH(CH3)2), 0.85, 0.82 (s, 18H, TBDMS), 0.24, 0.20
(s, 6H, TBDMS), 0.08, 0.05, 0.04(s, 6H, TBDMS)。
31PNMR(CDCl3):δ(ppm):146.50, 145.96。 FAB MS：m/z: 1005 (M-)
【０１２７】実施例１１ オリゴヌクレオチドの合成 オリゴヌクレオチドはPE Biosystems394型ＤＮＡ／ＲＮ
Ａ合成機を用いて、０．２μmolのスケールで合成し
た。チミングリコールの構築ブロックは、０．１Mにな
るようにアセトニトリルに溶解して合成機に取り付け
た。通常の塩基については、アミノ基がｔＢＰＡで保護
されたヌクレオシドホスホルアミダイトを使用し、また
チミングリコールのカップリング反応時のみ、カップリ
ングの反応時間を５分間とした（なお、この反応時間は
およそ５分程度が望ましいが、通常の塩基についての反
応時間（約３０秒）でも、またより長い（１０分程度
の）反応時間でも合成することができる）。
Ａ合成機を用いて、０．２μmolのスケールで合成し
た。チミングリコールの構築ブロックは、０．１Mにな
るようにアセトニトリルに溶解して合成機に取り付け
た。通常の塩基については、アミノ基がｔＢＰＡで保護
されたヌクレオシドホスホルアミダイトを使用し、また
チミングリコールのカップリング反応時のみ、カップリ
ングの反応時間を５分間とした（なお、この反応時間は
およそ５分程度が望ましいが、通常の塩基についての反
応時間（約３０秒）でも、またより長い（１０分程度
の）反応時間でも合成することができる）。
【０１２８】合成終了後、オリゴヌクレオチドが結合し
た担体に２８％アンモニア水（２ml）を加えて室温で２
時間放置した。担体を濾別してアンモニア水を留去した
後、残渣をテトラブチルアンモニウムフルオリドの１．
０Mテトラヒドロフラン溶液（０．１ml）に溶解して室
温で１６時間放置した。０．１M酢酸トリエチルアンモ
ニウム（pH７．０、０．４ml）を加えた後、６−merに
ついては、Spectrum社のSpectra/Por CE (cellulose es
ter) membrane MWCO:500を用いて透析し、１３−merと
３０−merについてはAmersham Pharmacia Biotech社の
ＮＡＰ１０カラムを用いて脱塩した。６−merと１３−m
erは逆相ＨＰＬＣのみで精製し、３０−merは逆相ＨＰ
ＬＣで精製した後陰イオン交換ＨＰＬＣで再精製して、
単一ピークとした。６−mer、１３−mer、３０−merの
収量はそれぞれ１．０、２．６、３．４Ａ260ユニット
であった。
た担体に２８％アンモニア水（２ml）を加えて室温で２
時間放置した。担体を濾別してアンモニア水を留去した
後、残渣をテトラブチルアンモニウムフルオリドの１．
０Mテトラヒドロフラン溶液（０．１ml）に溶解して室
温で１６時間放置した。０．１M酢酸トリエチルアンモ
ニウム（pH７．０、０．４ml）を加えた後、６−merに
ついては、Spectrum社のSpectra/Por CE (cellulose es
ter) membrane MWCO:500を用いて透析し、１３−merと
３０−merについてはAmersham Pharmacia Biotech社の
ＮＡＰ１０カラムを用いて脱塩した。６−merと１３−m
erは逆相ＨＰＬＣのみで精製し、３０−merは逆相ＨＰ
ＬＣで精製した後陰イオン交換ＨＰＬＣで再精製して、
単一ピークとした。６−mer、１３−mer、３０−merの
収量はそれぞれ１．０、２．６、３．４Ａ260ユニット
であった。
Claims (7)
- 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1は保護基を表し、Ｒ2は水素原子またはＴＢ
ＤＭＳ（tert−ブチルジメチルシリル）を表し、Ｒ3は 【化２】 （Ｒ4はメチル基又は２−シアノエチル基を表し、Ｒ5は
−Ｎ（Ｒ′）（Ｒ″）基又はＮ−モルホリノ基、Ｎ−ピ
ロリジニル基もしくは２，２，６，６−テトラメチル−
Ｎ−ピペリジル基を表し、Ｒ′およびＲ″はそれぞれ低
級アルキル基を表す）を表す〕で示されるチミングリコ
ールの構築ブロック。 - 【請求項２】 式（Ｖ） 【化３】 （式中、Ｒ1およびＲ2は請求項１で定義したとおりであ
る）で示される化合物に 【化４】 （式中、Ｒ4およびＲ5は請求項１で定義したとおりであ
る）を反応させて請求項１記載の式（Ｉ）のチミングリ
コールの構築ブロックを製造する方法。 - 【請求項３】 （１）式（II） 【化５】 （式中、Ｒ1および、Ｒ6は保護基を表す）で表される、
５′位と３′位の水酸基を保護したチミジンを酸化剤で
処理して、式（III） 【化６】 （式中、Ｒ1およびＲ6は前述したとおりである）で表さ
れるcis−チミングリコールを得、（２）次に、塩基部
の水酸基を保護するため、tert−ブチルジメチルクロロ
シランを反応させ、式（IV） 【化７】 （式中、Ｒ1及びＲ6は前述したとおりであり、Ｒ2は請
求項１で定義したとおりである）の化合物を得、（３）
次に、得られた式（IV）の化合物の３′−水酸基を脱保
護して式（Ｖ） 【化８】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は前述したとおりである）の化合物を
得、（４）これに、 【化９】 （式中、Ｒ4及びＲ5は請求項１で定義したとおりであ
る）で示される化合物を反応させるか、又は式（Ｖ）で
表される化合物にトリ（１，２，４−トリアゾール−１
−イル）ホスフィンを反応させた後加水分解する、請求
項１の式（Ｉ）のチミングリコールの構築ブロックを製
造する方法。 - 【請求項４】 （１）担体に結合した、式（VII） 【化１０】 （式中、Ｂは 【化１１】 （式中、Ｒ7は保護基）を表す）で示されるヌクレオシ
ドに、式（VIII） 【化１２】 （式中、Ｒ1およびＲ3は請求項１で定義したとおりであ
り、Ｂは前述と同じである）で示されるヌクレオチドを
反応させ、得られた亜リン酸トリエステルを酸化してリ
ン酸トリエステルとし、これをｍ回繰り返すことによ
り、Ｂが同一であるか又は異なる式（IX） 【化１３】 （式中、Ｒ8は水素原子又は−ＯＲ9（Ｒ9はメチル基若
しくは２−シアノエチル基を表す）を表し、ｍは０〜３
０の整数を表し、Ｒ1は前述したとおりである）で示さ
れるオリゴヌクレオチドを得、（２）次に、保護基Ｒ1
を脱離した後、式（Ｉ） 【化１４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は請求項１で定義したとおり
である）で示されるチミングリコール構築ブロックと反
応させ、場合によりこれを酸化して、式（Ｘ） 【化１５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ8及びｍは前述したとおりであ
る）で示されるチミングリコール構築ブロックを含むオ
リゴヌクレオチドを得、（３）次に保護基Ｒ1を脱離し
た後、前記式（VIII）で示されるヌクレオチドを反応さ
せ、場合によりこれを酸化し、これをｎ回繰り返して式
（XI） 【化１６】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ8及びｍは前述と同じであり、ｎ
は０〜３０の整数を表す）で示される、チミングリコー
ル構築ブロックを含む長鎖オリゴヌクレオチドを得、
（４）次に保護基Ｒ1を脱離した後、アンモニア水で処
理することにより、Ｒ8中の保護基Ｒ9及びＢ中の保護基
Ｒ7を除去すると共に、固体担体から切断して、式（X
I′） 【化１７】 （式中、Ｒ2は前述と同じであり、Ｂ′は同一又は異な
って 【化１８】 を表し、ｍ及びｎは前述と同じ）で示されるチミングリ
コールを含むＤＮＡを得た後、テトラブチルアンモニウ
ムフルオリドで処理することにより、保護基Ｒ2および
ＴＢＤＭＳを除去して式（XII） 【化１９】 （Ｂ′は前述と同じ）で示されるチミングリコールを含
むＤＮＡを製造する方法。 - 【請求項５】 担体に結合した、式（VII′） 【化２０】 （式中、Ｂ″は 【化２１】 （式中、Ｒ7は保護基を表し、Ｒ2は請求項１で定義した
とおりである）を表す）で示されるヌクレオシドに、式
（VIII′） 【化２２】 （式中、Ｒ1およびＲ3は請求項１で定義したとおりであ
り、Ｂ″は前述と同じである）で示されるヌクレオチド
を反応させ、得られた亜リン酸トリエステルを酸化して
リン酸トリエステルとし、これを繰り返し、請求項４の
（４）と同様に保護基を脱離した後にアンモニア水で処
理することにより、Ｂ′（請求項４で定義したとおりで
ある）が同一であるか又は異なる下記式（XII′） 【化２３】 （Ｂ′およびＲ2は前述と同じであり、Ｂ*はＢ′または 【化２４】 である。また、ｍおよびｎはそれぞれ独立して０〜３０
の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ独立して１〜６１
の整数であり、かつ、ｍ、ｎ、ｘ、およびｙは同時に （ｍ＋ｎ＋ｘ）ｙ≦６１ を満たす）で示される、チミングリコール構築ブロック
を含むＤＮＡを得た後、テトラブチルアンモニウムフル
オリドで処理することにより、保護基Ｒ2およびＴＢＤ
ＭＳを除去して式（XII″） 【化２５】 （Ｂ′、ｍ、ｎ、ｘおよびｙは前述と同じであり、Ｂ**
はＢ′または 【化２６】 である。）で示されるチミングリコールを含むＤＮＡを
製造する方法。 - 【請求項６】 請求項２記載の方法で製造されたチミン
グリコールの構築ブロック。 - 【請求項７】 請求項３記載の方法により製造されたチ
ミングリコールの構築ブロック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000259690A JP2002069093A (ja) | 2000-06-16 | 2000-08-29 | チミングリコールの構築ブロック及びそれを有するｄｎａ |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-181006 | 2000-06-16 | ||
| JP2000181006 | 2000-06-16 | ||
| JP2000259690A JP2002069093A (ja) | 2000-06-16 | 2000-08-29 | チミングリコールの構築ブロック及びそれを有するｄｎａ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002069093A true JP2002069093A (ja) | 2002-03-08 |
Family
ID=26594068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000259690A Pending JP2002069093A (ja) | 2000-06-16 | 2000-08-29 | チミングリコールの構築ブロック及びそれを有するｄｎａ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002069093A (ja) |
-
2000
- 2000-08-29 JP JP2000259690A patent/JP2002069093A/ja active Pending
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