JP2002067334A - Water repellent goods and method for manufacturing the same, ink jet head and method for manufacturing the same, and ink jet printer - Google Patents

Water repellent goods and method for manufacturing the same, ink jet head and method for manufacturing the same, and ink jet printer

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JP2002067334A
JP2002067334A JP2000265602A JP2000265602A JP2002067334A JP 2002067334 A JP2002067334 A JP 2002067334A JP 2000265602 A JP2000265602 A JP 2000265602A JP 2000265602 A JP2000265602 A JP 2000265602A JP 2002067334 A JP2002067334 A JP 2002067334A
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water
repellent
tin oxide
film
indium
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Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Karasawa
康史 柄沢
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide water repellent goods and a method for manufacturing the goods, an ink jet head and an ink jet printer which makes it possible to enhance a durability of the water repellency as well as an increase of the water repellency. SOLUTION: An indium and tin oxidized film 12 is formed on a face of an ink discharge side of a base material having nozzles. Then a water repellent film 13 is formed by combining a water repellent material having a part which can react with a hydroxyl group on the film 12.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、撥水特性に優れた
撥水性物品及びその製造方法、インクジェットヘッド及
びその製造方法並びにインクジェットプリンタに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a water-repellent article having excellent water-repellent properties, a method of manufacturing the same, an ink jet head, a method of manufacturing the same, and an ink jet printer.

【0002】[0002]

【従来の技術】インクジェットプリンタのヘッドのイン
ク吐出面の構成材料には、ガラス、金属等の材質が用い
られている。インクジェットヘッドにおいて水性又は油
性のインクを用いる場合には、ノズル表面の撥水性が不
十分であるとインクの液滴が付着し易くなり、そのため
吐出するインク滴の直進性が損なわれ、印字乱れなどを
発生し易くなるという問題点がある。インクジェットヘ
ッドのインク吐出面の構成材料はインクに濡れ易いの
で、インクが吐出する部分であるノズルの表面を、水性
又は油性のインク付着を防止するために、撥水処理する
ことが行われている。
2. Description of the Related Art Materials such as glass and metal are used as constituent materials of an ink ejection surface of an ink jet printer head. When using water-based or oil-based ink in an ink jet head, if the water repellency of the nozzle surface is insufficient, ink droplets are likely to adhere, thereby impairing the rectilinearity of the ejected ink droplets and causing print disorder. Is more likely to occur. Since the constituent material of the ink ejection surface of the ink jet head is easily wetted by the ink, a water repellent treatment is performed on the surface of the nozzle, which is the portion from which the ink is ejected, in order to prevent the adhesion of aqueous or oily ink. .

【0003】例えば特開平6−143586号公報に
は、珪素又は酸化珪素がインク吐出面の構成材料に用い
られている場合には、真空蒸着によりインク吐出面にフ
ルオロアルキルシラン系化合物を付着させて撥水化する
方法が提案されている。
For example, JP-A-6-143586 discloses that when silicon or silicon oxide is used as a constituent material of an ink ejection surface, a fluoroalkylsilane-based compound is adhered to the ink ejection surface by vacuum evaporation. Water repellent methods have been proposed.

【0004】ところがこの技術は、次のような理由によ
ってインク吐出面の撥水膜の性能が低下するという課題
をかかえていた。 (1)インクのpHは、色素材料を安定に分散させるた
め、人体に影響しない範囲で弱アルカリ性に調整されて
いる。珪素又は酸化珪素がインク吐出面の構成材料の場
合には、撥水膜を浸透した弱アルカリ性インクが、珪素
又は酸化珪素を溶解する。その結果、撥水膜がインク吐
出面より脱落し、撥水膜の耐久性能が低下する場合があ
った。 (2)ノズル構成材料がステンレスまたは樹脂またはそ
れらの混成材料の場合には、フルオロアルキルシラン系
化合物との密着性が悪いため、インクジェットヘッドの
長期使用により、インク吐出面の撥水耐久性能が低下す
る場合があった。
However, this technique has a problem that the performance of the water-repellent film on the ink ejection surface is deteriorated for the following reasons. (1) The pH of the ink is adjusted to be slightly alkaline within a range that does not affect the human body in order to stably disperse the coloring material. When silicon or silicon oxide is a constituent material of the ink ejection surface, the weakly alkaline ink that has penetrated the water-repellent film dissolves silicon or silicon oxide. As a result, the water-repellent film may fall off from the ink ejection surface, and the durability of the water-repellent film may be reduced. (2) When the nozzle constituent material is stainless steel, resin or a hybrid material thereof, the adhesion to the fluoroalkylsilane-based compound is poor, and the long-term use of the inkjet head deteriorates the water-repellent durability of the ink ejection surface. There was a case.

【0005】そこで発明者は、基材と撥水膜との間にイ
ンジウム・錫ターゲットを使ったスパッタリング法によ
ってインジウム・錫酸化物からなる中間膜を形成する方
法を考案し、次の理由によって撥水膜の耐久品質を改善
することが可能になった。 (a)インジウム・錫酸化物は、強酸を除く酸またはア
ルカリ性の環境で腐食しにくい物質である。従って、基
材にインジウム・錫酸化物を形成した場合には、その上
に形成された撥水膜が脱落することなく、撥水性能が長
期間維持された。 (b)インジウム・錫酸化物は、珪素、酸化珪素、ステ
ンレス等の基材と密着性が強いため、長期間放置した場
合でも、その基材から脱落することがない。さらにイン
ジウム・錫酸化化合物は、表面に水酸基を有するため、
フルオロアルキルシラン系化合物との密着性が良く、高
い撥水性能が長期間維持された。 (c)インジウム・錫酸化物のスパッタリング中の酸素
濃度が高くなるに従って高い耐摩耗性が得られ、長期間
高い撥水性能が持続した。
Therefore, the inventor has devised a method of forming an indium / tin oxide intermediate film between a substrate and a water repellent film by a sputtering method using an indium / tin target. It has become possible to improve the durability quality of the water film. (A) Indium tin oxide is a substance which is hardly corroded in an acid or alkaline environment except strong acids. Therefore, when indium / tin oxide was formed on the substrate, the water-repellent film formed thereon did not fall off, and the water-repellent performance was maintained for a long time. (B) Indium tin oxide has strong adhesion to a substrate such as silicon, silicon oxide, and stainless steel, and therefore does not fall off the substrate even when left for a long time. In addition, since indium tin oxide compounds have hydroxyl groups on the surface,
Adhesion with the fluoroalkylsilane-based compound was good, and high water repellency was maintained for a long time. (C) As the oxygen concentration during sputtering of indium tin oxide increased, higher wear resistance was obtained, and high water repellency was maintained for a long period of time.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし発明者が考案し
た従来の技術は、次のような理由によってインク吐出面
の撥水膜の性能が長期使用で低下するという課題をかか
えていた。 (1)インジウム・錫酸化膜は、表面にガス成分が吸着
しやすい材料であるため、その上に形成した撥水物質と
の反応結合が不完全となる場合があり、撥水膜の耐久性
能が低下する場合があった。 (2)フルオロアルキルシラン系化合物は水酸基に反応
可能な基を有するため、インク中の染料と吸着しやす
く、撥水膜の性能が低下する場合があった。 (3)また顔料のような硬い色素が分散させたインクを
吐出する場合、インジウム・錫酸化膜の耐摩耗性を向上
させるため、スパッタリング中の酸素ガス濃度を高める
必要があった。しかし既に考案したインジウム・錫ター
ゲットを用いたスパッタリング法は、酸素ガスの影響に
よってスパッタレートが低下するため、長時間の処理と
なり、生産性を低下させた。
However, the conventional technique devised by the inventor has a problem that the performance of the water-repellent film on the ink ejection surface is reduced over a long period of use for the following reasons. (1) Since the indium-tin oxide film is a material on which gas components are easily adsorbed, the reaction bond with the water-repellent substance formed thereon may be incomplete, and the durability of the water-repellent film is poor. Was sometimes reduced. (2) Since the fluoroalkylsilane-based compound has a group capable of reacting with a hydroxyl group, it is likely to be adsorbed to the dye in the ink, and the performance of the water-repellent film may be reduced. (3) In the case of discharging an ink in which a hard dye such as a pigment is dispersed, it is necessary to increase the oxygen gas concentration during sputtering in order to improve the abrasion resistance of the indium tin oxide film. However, the sputtering method using the indium / tin target that has already been devised has a long processing time because the sputter rate is reduced due to the influence of oxygen gas, thereby lowering the productivity.

【0007】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであり、撥水性能を高めるとともにその撥水
性能の耐久性能及び生産性の向上を可能にした撥水性物
品及びその製造方法、インクジェットヘッド及びその製
造方法並びにインクジェットプリンタを提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has a water-repellent article which has improved water-repellent performance and has improved durability and productivity of the water-repellent performance, and a method of manufacturing the same. It is an object to provide an ink jet head, a method of manufacturing the same, and an ink jet printer.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】(1)本発明の一つの態
様に係る撥水物品は基材の表面にインジウム・錫酸化膜
が形成され、更にその上に、水酸基と反応可能な部位を
有する撥水物質を結合させた撥水膜が形成されてなる撥
水物品にあって、紫外線によって洗浄された前記インジ
ウム・錫酸化膜上に前記撥水膜が形成されてなることを
特徴とする。 (2)本発明の他の態様に係る撥水物品は、基材の表面
にインジウム・錫酸化膜が形成され、更にその上に、水
酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結合させた撥
水膜が形成されてなる撥水物品にあって、プラズマによ
って洗浄された前記インジウム・錫酸化膜上に前記撥水
膜が形成されてなる。 (3)本発明の他の態様に係る撥水物品は、基材の表面
にインジウム・錫酸化膜が形成され、更にその上に、水
酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結合させた撥
水膜が形成されてなる撥水物品にあって、前記撥水物質
の水酸基と反応可能な部位が高温高湿環境に置いて安定
化された前記撥水膜が形成されてなる。 (4)本発明の他の態様に係る撥水物品は、スパッタガ
スの酸素濃度が30%以上のガス雰囲気中でインジウム
・錫酸化膜が形成され、更にその上に、水酸基と反応可
能な部位を有する撥水物質を結合させた撥水膜が形成さ
れてなる。 (5)前記酸素濃度が好ましくは40%以上である。 (6)本発明の他の態様に係る撥水物品の製造方法は、
基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形成され、更にそ
の上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結
合させる撥水物品の製造方法にあって、前記撥水膜を形
成する前に前記インジウム・錫酸化膜を紫外線で洗浄す
る。 (7)本発明の他の態様に係る撥水物品の製造方法は、
基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形成され、更にそ
の上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結
合させる撥水物品の製造方法にあって、前記撥水膜を形
成する前に前記インジウム・錫酸化膜をプラズマで洗浄
する。 (8)本発明の他の態様に係る撥水物品の製造方法は、
基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形成され、更にそ
の上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結
合させて撥水膜を形成する撥水物品の製造方法にあっ
て、前記撥水膜が形成された後、前記撥水物質の水酸基
と反応可能な部位を高温高湿環境に置いて安定化する。 (9)本発明の他の態様に係る撥水物品の製造方法は基
材の表面に、インジウム・錫酸化物ターゲットを用い
て、スパッタガスの酸素濃度が30%以上の条件で、イ
ンジウム・錫酸化膜を形成し、その上に、水酸基と反応
可能な部位を有する撥水物質を結合させて撥水膜を形成
する。 (10)前記酸素濃度が好ましくは40%以上である。 (11)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
は、ノズルを有する基材の少なくともインク吐出側の表
面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、更にその上
に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結合さ
せた撥水膜が形成されてなるインクジェットヘッドにあ
って、紫外線によって洗浄された前記インジウム・錫酸
化膜上に前記撥水膜が形成されてなる。 (12)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
は、ノズルを有する基材の少なくともインク吐出側の表
面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、更にその上
に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結合さ
せた撥水膜が形成されてなるインクジェットヘッドにあ
って、プラズマによって洗浄された前記インジウム・錫
酸化膜上に前記撥水膜が形成されてなる。 (13)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
は、ノズルを有する基材の少なくともインク吐出側の表
面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、更にその上
に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結合さ
せた撥水膜が形成されてなるインクジェットヘッドにあ
って、前記撥水物質の水酸基と反応可能な部位が高温高
湿環境に置いて安定化された前記撥水膜が形成されてな
る。 (14)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
は、ノズルを有する基材の少なくともインク吐出側の面
に、酸素濃度が30%以上のガス雰囲気中でインジウム
・錫酸化膜が形成され、更にその上に、水酸基と反応可
能な部位を有する撥水物質を結合させた撥水膜が形成さ
れてなる。 (15)前記酸素濃度が好ましくは40%以上である。 (16)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
の製造方法は、ノズルを有する基材の少なくともインク
吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、更
にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質
を結合させた撥水膜を形成したインクジェットヘッドの
製造方法にあって、前記撥水膜を形成する前に前記イン
ジウム・錫酸化膜を紫外線で洗浄する。 (17)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
の製造方法は、ノズルを有する基材の少なくともインク
吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、更
にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質
を結合させた撥水膜を形成したインクジェットヘッドの
製造方法にあって、前記撥水膜を形成する前に前記イン
ジウム・錫酸化膜をプラズマで洗浄する。 (18)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
の製造方法は、ノズルを有する基材の少なくともインク
吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、更
にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質
を結合させた撥水膜を形成したインクジェットヘッドの
製造方法にあって、前記撥水膜が形成された後、前記撥
水物質の水酸基と反応可能な部位を高温高湿環境に置い
て安定化させる。 (19)本発明の他の態様に係るインクジェットヘッド
は、上記(11)〜(15)の何れかに記載のインクジ
ェットへツドを搭載したものである。
(1) A water-repellent article according to one embodiment of the present invention has an indium tin oxide film formed on the surface of a base material, and further has a site capable of reacting with a hydroxyl group thereon. A water-repellent article having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance having the water-repellent film, wherein the water-repellent film is formed on the indium tin oxide film which has been cleaned by ultraviolet rays. . (2) In the water-repellent article according to another embodiment of the present invention, an indium-tin oxide film is formed on the surface of the substrate, and a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is further bonded thereon. In a water-repellent article having a water-repellent film formed thereon, the water-repellent film is formed on the indium / tin oxide film cleaned by plasma. (3) In the water-repellent article according to another aspect of the present invention, an indium-tin oxide film is formed on the surface of the substrate, and a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is further bonded thereon. In a water-repellent article having a water-repellent film formed thereon, the water-repellent film is formed by stabilizing a portion capable of reacting with a hydroxyl group of the water-repellent substance in a high-temperature and high-humidity environment. (4) In the water-repellent article according to another aspect of the present invention, an indium-tin oxide film is formed in a gas atmosphere in which the oxygen concentration of a sputtering gas is 30% or more, and furthermore, a portion capable of reacting with a hydroxyl group thereon. A water-repellent film is formed by bonding a water-repellent substance having the following. (5) The oxygen concentration is preferably 40% or more. (6) A method for producing a water-repellent article according to another aspect of the present invention includes:
An indium tin oxide film is formed on a surface of a base material, and further, the method for manufacturing a water-repellent article in which a water-repellent material having a site capable of reacting with a hydroxyl group is bonded thereon, wherein the water-repellent film is formed. First, the indium-tin oxide film is washed with ultraviolet light. (7) A method for producing a water-repellent article according to another aspect of the present invention includes:
An indium tin oxide film is formed on a surface of a base material, and further, the method for manufacturing a water-repellent article in which a water-repellent material having a site capable of reacting with a hydroxyl group is bonded thereon, wherein the water-repellent film is formed. First, the indium-tin oxide film is cleaned with plasma. (8) A method for manufacturing a water-repellent article according to another aspect of the present invention includes:
An indium tin oxide film is formed on the surface of the substrate, and further thereon, a method for manufacturing a water-repellent article that forms a water-repellent film by bonding a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group, After the formation of the water-repellent film, a portion capable of reacting with a hydroxyl group of the water-repellent material is stabilized in a high-temperature and high-humidity environment. (9) A method for producing a water-repellent article according to another aspect of the present invention uses an indium-tin oxide target on a surface of a base material and a sputter gas with an oxygen concentration of 30% or more and indium-tin oxide. An oxide film is formed, and a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is bonded thereon to form a water-repellent film. (10) The oxygen concentration is preferably 40% or more. (11) In an ink jet head according to another aspect of the present invention, an indium tin oxide film is formed on at least a surface of an ink ejection side of a base material having a nozzle, and a portion capable of reacting with a hydroxyl group is further formed thereon. An ink-jet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance to the ink-jet head, wherein the water-repellent film is formed on the indium-tin oxide film which has been cleaned by ultraviolet rays. (12) In an ink jet head according to another aspect of the present invention, an indium tin oxide film is formed on at least a surface of a base material having a nozzle on an ink ejection side, and a portion capable of reacting with a hydroxyl group is further formed thereon. An ink jet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance to the ink-jet head, wherein the water-repellent film is formed on the indium tin oxide film cleaned by plasma. (13) In an ink jet head according to another aspect of the present invention, an indium tin oxide film is formed on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink ejection side, and a portion capable of reacting with a hydroxyl group is further formed thereon. In an inkjet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent material having the water-repellent film, a portion capable of reacting with a hydroxyl group of the water-repellent material is stabilized in a high-temperature and high-humidity environment. Be formed. (14) In an ink jet head according to another aspect of the present invention, an indium / tin oxide film is formed in a gas atmosphere having an oxygen concentration of 30% or more on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink ejection side, and A water-repellent film having a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is formed thereon. (15) The oxygen concentration is preferably 40% or more. (16) In the method for manufacturing an ink jet head according to another aspect of the present invention, an indium tin oxide film is formed on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink discharge side, and furthermore, it is possible to react with a hydroxyl group thereon. In the method for manufacturing an ink jet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance having various parts, the indium tin oxide film is washed with ultraviolet rays before the water-repellent film is formed. (17) In the method for manufacturing an ink jet head according to another aspect of the present invention, an indium tin oxide film is formed on at least the surface of the substrate having nozzles on the ink ejection side, and furthermore, it is possible to react with a hydroxyl group thereon. In the method for manufacturing an ink jet head having a water repellent film formed by bonding a water repellent substance having various parts, the indium tin oxide film is washed with plasma before forming the water repellent film. (18) In a method of manufacturing an ink jet head according to another aspect of the present invention, an indium tin oxide film is formed on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink discharge side, and furthermore, it is possible to react with a hydroxyl group thereon. In a method for manufacturing an ink jet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance having a different part, after the water-repellent film is formed, a part capable of reacting with a hydroxyl group of the water-repellent substance is heated to a high temperature. Stabilize in a moist environment. (19) An inkjet head according to another aspect of the present invention includes the inkjet head according to any one of (11) to (15).

【0009】本発明において、基材と撥水膜との間のイ
ンジウム・錫酸化膜が紫外線またはプラズマで洗浄さ
れ、その上に形成した撥水膜が形成後に高温高湿処理さ
れ、またインジウム・錫酸化膜がスパッタリング中の酸
素ガス濃度を30%以上でインジウム・錫酸化物ターゲ
ットより形成するため、次の理由によって撥水膜の耐久
品質を改善することが可能になっている。 (a)インジウム・錫酸化化合物は、表面に水酸基を有
するため、フルオロアルキルシラン系化合物との密着性
が良くなるが、その表面を200ナノメーター以下の波
長を含む紫外線やプラズマで洗浄することによって、表
面に付着していた汚染物質が除去され、さらに密着性が
向上して撥水性が高まる。 (b)また高温高湿処理によって、フルオロアルキルシ
ラン系化合物の結合に寄与していない反応基が安定化す
るため、インク吸着性が抑制され、長期間高い撥水性能
が維持できる。 (c)スパッタガスの酸素濃度を30%以上、さらに望
ましくは40%以上に規定したので、高い撥水性能が得
られるとともに、顔料インクに対する撥水耐久性能を向
上させることが可能となっている。さらにインジウム・
錫酸化物ターゲットを用いてスパッタリングするため、
インジウム・錫ターゲットを使った場合に比べて処理時
間が短く、生産性も向上する。
In the present invention, the indium-tin oxide film between the substrate and the water-repellent film is washed with ultraviolet rays or plasma, and the water-repellent film formed thereon is subjected to a high-temperature and high-humidity treatment after being formed. Since the tin oxide film is formed from the indium / tin oxide target at an oxygen gas concentration of 30% or more during sputtering, the durability of the water-repellent film can be improved for the following reasons. (A) The indium / tin oxide compound has a hydroxyl group on the surface, so that the adhesion to the fluoroalkylsilane-based compound is improved. However, by cleaning the surface with ultraviolet or plasma having a wavelength of 200 nm or less, As a result, contaminants adhering to the surface are removed, the adhesion is further improved, and the water repellency is increased. (B) The high-temperature and high-humidity treatment stabilizes the reactive group that has not contributed to the binding of the fluoroalkylsilane-based compound, so that the ink adsorbability is suppressed and high water repellency can be maintained for a long time. (C) Since the oxygen concentration of the sputtering gas is specified to be 30% or more, more desirably 40% or more, it is possible to obtain high water repellency and to improve water repellency durability for the pigment ink. . In addition, indium
For sputtering using a tin oxide target,
The processing time is shorter and the productivity is higher than when using an indium / tin target.

【0010】また、本発明に係るインジウム・錫酸化膜
は、上記(a)〜(c)の理由により、インクジェット
ヘッドのインク吐出面の構成材料に依らず密着性が高
く、撥水膜と化学結合するため、いずれのタイプのヘッ
ド(フェースイジェクトタイプ、エッジイジェクトタイ
プ)においても、撥水性能を高めるとともにその撥水性
能の耐久性能を向上させることが可能になっている。こ
のため、吐出されるインクの液の直進性が優れたものと
なり、印字の乱れ等のトラブルが避けられる。
Further, the indium tin oxide film according to the present invention has a high adhesiveness regardless of the constituent material of the ink ejection surface of the ink jet head, and has a chemical-repellent film and a water-repellent film due to the reasons (a) to (c). Because of the coupling, in any type of head (face eject type, edge eject type), it is possible to improve the water repellency and the durability of the water repellency. For this reason, the straightness of the ejected ink liquid is excellent, and troubles such as printing disorder can be avoided.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】実施形態1.図2は本発明の実施
形態1に係るインクジェットヘッドの斜視図である。こ
のインクジェットヘッドは、PZTなどの振動によりイ
ンクを吐出する圧力室4とインクが通過する流路5とが
形成された第1プレート1と、流路5と垂直方向にノズ
ル穴6が形成きれたノズルプレートと呼ばれるノズルプ
レート2とを接合した構造となっている。そして、本実
施形態のインジウム・錫酸化膜及び撥水膜はこのノズル
プレート2の表面へ形成する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 FIG. FIG. 2 is a perspective view of the inkjet head according to the first embodiment of the present invention. This ink jet head has a first plate 1 in which a pressure chamber 4 for discharging ink by vibration of PZT or the like and a flow path 5 through which ink passes are formed, and a nozzle hole 6 formed in a direction perpendicular to the flow path 5. It has a structure in which a nozzle plate 2 called a nozzle plate is joined. Then, the indium tin oxide film and the water repellent film of the present embodiment are formed on the surface of the nozzle plate 2.

【0012】図1は図2のノズルプレート2の製造方法
の工程説明図である。 (a)まず、ノズル穴6を加工した珪素基板11表面へ
(図1(a))、スパッタ法でインジウム・錫酸化膜1
3を約100ナノメーター形成する(図1(b))。こ
のインジウム・錫酸化膜13を形成するに際しては、イ
ンジウム・錫酸化物ターゲットを用いたスパッタ法によ
るものとし、スパッタガスの酸素濃度が30%以上とな
るように調整して形成するものとする。 (b)次に、インジウム・錫酸化膜13の表面に200
ナノメーター以下の波長を有する紫外線を照射して、フ
ルオロアルキルシラン系の撥水膜14を真空蒸着法によ
って、インジウム・錫酸化膜13上へ形成する(図1
(c))。 (c)最後に、上記のように生成されたノズルプレート
2を摂氏70度、相対湿度80%の恒温恒湿槽へ約2時
間放置した後、第1プレート1を接合し、インクジェト
記録ヘッドを完成させる。
FIG. 1 is a process explanatory view of a method of manufacturing the nozzle plate 2 of FIG. (A) First, the indium-tin oxide film 1 is formed by sputtering on the surface of the silicon substrate 11 in which the nozzle holes 6 have been processed (FIG. 1A).
3 is formed to about 100 nanometers (FIG. 1B). The indium / tin oxide film 13 is formed by a sputtering method using an indium / tin oxide target, and is formed by adjusting the oxygen concentration of the sputtering gas to 30% or more. (B) Next, the surface of the indium tin oxide film 13
Ultraviolet light having a wavelength of nanometers or less is irradiated to form a fluoroalkylsilane-based water-repellent film 14 on the indium-tin oxide film 13 by a vacuum deposition method (FIG. 1).
(C)). (C) Finally, after leaving the nozzle plate 2 generated as described above in a constant temperature and humidity chamber of 70 ° C. and a relative humidity of 80% for about 2 hours, the first plate 1 is joined, and the ink jet recording head is mounted. Finalize.

【0013】次に、図1の製造工程においてインジウム
・錫酸化膜13を形成する際の上記の条件とその特性に
ついて説明する。
Next, the above-described conditions and characteristics when the indium-tin oxide film 13 is formed in the manufacturing process of FIG. 1 will be described.

【0014】図3はインジウム・錫酸化膜の紫外線洗浄
時間と摂氏60度のインクへ5日間浸せきした後の撥イ
ンク性復活時間との関係を示した特性図である。同図に
示されるように、紫外線の照射時間が長くなるに従って
高い撥水性能が得られていることが分かる。なお、撥イ
ンク性復活時間とは、1cm2の基板を水に浸漬し、基
板表面を垂直にした状態で引き上げた後、基板表面全面
から水がはじかれて除去されるまでの時間のことであ
り、この時間が短い方が撥水性が高いことを示す。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between the UV cleaning time of the indium tin oxide film and the ink repellency recovery time after immersion in 60 ° C. ink for 5 days. As shown in the figure, it can be seen that the higher the irradiation time of the ultraviolet light, the higher the water repellency is obtained. In addition, the ink-repellent revival time refers to a time required for immersing a 1 cm 2 substrate in water, pulling up the substrate surface in a vertical state, and then removing water from the entire surface of the substrate to remove the water. The shorter the time, the higher the water repellency.

【0015】図4は撥水膜を形成した後、高温高湿処理
の時間と撥インク性復活時間との関係を示した特性図で
ある。同図に示されるように高温高湿処理時間が1時間
以上の条件で、撥インク復活時間が改善されることが分
かる。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the time of the high-temperature and high-humidity treatment after the formation of the water-repellent film and the time of the ink-repellency restoration. As shown in the figure, it can be seen that the ink-repellent recovery time is improved under the condition that the high-temperature and high-humidity processing time is 1 hour or more.

【0016】図5はスパッタリングするときの酸素濃度
と顔料インクで3000回ワイピングした後のインジウ
ム・錫酸化膜の消耗量との関係、図6はスパッタリング
するときの酸素濃度とワイピング前後のインク接触角の
差との関係を示した特性図である。図5に示されるよう
に、試験した顔料インクでは酸素濃度が高くなるに従っ
て高い耐摩耗特性が得られており、30%以上の領域に
おいて所望の耐摩耗特性が得られ、40%以上がより好
ましいことがわかる。
FIG. 5 shows the relationship between the oxygen concentration at the time of sputtering and the consumption of the indium tin oxide film after 3,000 wipings with the pigment ink. FIG. 6 shows the oxygen concentration at the time of sputtering and the ink contact angle before and after the wiping. FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship with a difference between the two. As shown in FIG. 5, in the tested pigment inks, the higher the oxygen concentration, the higher the abrasion resistance was obtained, and the desired abrasion resistance was obtained in a region of 30% or more, and more preferably 40% or more. You can see that.

【0017】また図6に示されるように、ワイピング前
後の接触角の差も酸素濃度が高くなるに従って、減少し
て撥水性能が維持されていることがわかる。またスパッ
タリングターゲットをインジウム・錫酸化物としたた
め、インジウム・錫ターゲットよりも処理時間が短縮さ
れる。
Further, as shown in FIG. 6, it can be seen that the difference in the contact angle before and after the wiping decreases as the oxygen concentration increases, and the water repellency is maintained. Further, since the sputtering target is indium / tin oxide, the processing time is shorter than that of the indium / tin target.

【0018】従って、撥水処理前にインジウム・錫酸化
膜表面を紫外線で洗浄をすることで所望の撥水性能が得
られ、撥水処理後の高温高湿処理によっても撥水性能が
改善し、また、スパッタリングの酸素濃度を30%以上
にすることで、顔料インクに対する撥水性能及び耐摩耗
性が満足したものとなる。
Therefore, the desired water repellency can be obtained by washing the surface of the indium tin oxide film with ultraviolet rays before the water repellency treatment, and the water repellency can be improved by the high temperature and high humidity treatment after the water repellency treatment. When the oxygen concentration of sputtering is 30% or more, the water repellency and abrasion resistance to the pigment ink are satisfied.

【0019】実施形態2.なお、上記実施形態1におい
ては、紫外線を使ったインジウム・錫酸化膜表面の洗浄
方法を例に説明したが、不活性ガス例えばアルゴンや、
酸素ガスまたは酸素ガスと不活性ガスの混合ガスのプラ
ズマにさらすことでも、その表面の洗浄が可能であれば
良い。
Embodiment 2 FIG. In the first embodiment, the method of cleaning the surface of the indium / tin oxide film using ultraviolet rays has been described as an example. However, an inert gas such as argon,
Exposure to plasma of oxygen gas or a mixed gas of oxygen gas and inert gas may be sufficient as long as the surface can be cleaned.

【0020】また、上記実施形態1においては、フルオ
ロアルキルシラン系の撥水膜を用いた例について説明し
たが、その材料の基に水酸基と化学反応可能な基を含む
ものであれば、他の撥水剤を用いても良い。また、ノズ
ルプレートの材質は、珪素基板に限定されず、ステンレ
ス等の金属材料、ガラス又はポリサルフォン等の有機高
分子材料でも良い。
In the first embodiment, an example in which a fluoroalkylsilane-based water-repellent film is used has been described. However, as long as the material of the material includes a group capable of chemically reacting with a hydroxyl group, other materials may be used. A water repellent may be used. The material of the nozzle plate is not limited to the silicon substrate, but may be a metal material such as stainless steel, or an organic polymer material such as glass or polysulfone.

【0021】さらに、上記本実施形態1においてはフェ
イスイジェクトヘッドについて説明したが、エッジイジ
ェクトへツドにおいても、インジウム・錫酸化物と基材
との密着性が良好なため、優れた耐久性を発揮する。
Furthermore, although the face eject head has been described in the first embodiment, the edge eject head also exhibits excellent durability because of good adhesion between the indium tin oxide and the substrate. I do.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、イ
ンジウム・錫酸化膜の表面を乾式洗浄し、撥水処理後に
高温高湿処理し、又はスパッタガスの酸素濃度を30%
以上にしたので、撥水性能を高めるとともに顔料インク
に対する耐久性能を向上させることが可能になってい
る。
As described above, according to the present invention, the surface of the indium tin oxide film is dry-cleaned, subjected to a high-temperature and high-humidity treatment after a water-repellent treatment, or the sputter gas has an oxygen concentration of 30%.
As described above, it is possible to improve the water repellency and the durability of the pigment ink.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1のノズルプレートの製造方
法の工程説明図である。
FIG. 1 is a process explanatory view of a method for manufacturing a nozzle plate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態1に係るインクジェットヘッ
ドの斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of the inkjet head according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態1に係るインジウム・錫酸化
膜の紫外線洗浄時間と摂氏60度のインクへ5日間浸せ
きした後の撥インク性復活時間の関係を示した特性図で
ある。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing a relationship between an ultraviolet cleaning time of an indium tin oxide film and an ink repellency recovery time after immersion in ink at 60 degrees Celsius for 5 days according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態1に係る撥水膜を形成した後
の高温高湿処理時間と撥インク性復活時間との関係を示
した特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship between a high-temperature and high-humidity processing time after forming a water-repellent film according to the first embodiment of the present invention and an ink-repellent property restoring time.

【図5】本発明の実施形態1に係るスパッタリングする
ときの酸素濃度と顔料インクで3000回ワイピングし
た後のインジウム・錫酸化膜の摩耗量との関係を示した
特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing a relationship between an oxygen concentration at the time of sputtering according to the first embodiment of the present invention and a wear amount of an indium / tin oxide film after 3,000 wipings with a pigment ink.

【図6】本発明の実施形態1に係るスパッタリングする
ときの酸素濃度とワイピング前後のインク接触角の差と
の関係を示した特性図である。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a relationship between an oxygen concentration during sputtering and a difference between ink contact angles before and after wiping according to the first embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1プレート 2 ノズルプレート 4 圧力室 5 流路 6 ノズル穴 11 珪素基板 13 インジウム・錫酸化物膜 14 撥水膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st plate 2 Nozzle plate 4 Pressure chamber 5 Flow path 6 Nozzle hole 11 Silicon substrate 13 Indium tin oxide film 14 Water repellent film

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形
成され、更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有す
る撥水物質を結合させた撥水膜が形成されてなる撥水物
品にあって、紫外線によって洗浄された前記インジウム
・錫酸化膜上に前記撥水膜が形成されてなることを特徴
とする撥水物品。
1. A water-repellent article in which an indium-tin oxide film is formed on the surface of a base material, and a water-repellent film having a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is formed thereon. , Wherein the water-repellent film is formed on the indium-tin oxide film which has been cleaned by ultraviolet rays.
【請求項2】 基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形
成され、更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有す
る撥水物質を結合させた撥水膜が形成されてなる撥水物
品にあって、プラズマによって洗浄された前記インジウ
ム・錫酸化膜上に前記撥水膜が形成されてなることを特
徴とする撥水物品。
2. A water-repellent article in which an indium-tin oxide film is formed on the surface of a base material, and a water-repellent film is further formed thereon by bonding a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group. , Wherein the water-repellent film is formed on the indium-tin oxide film cleaned by plasma.
【請求項3】 基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形
成され、更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有す
る撥水物質を結合させた撥水膜が形成されてなる撥水物
品にあって、前記撥水物質の水酸基と反応可能な部位が
高温高湿環境に置いて安定化された前記撥水膜が形成さ
れてなることを特徴とする撥水物品。
3. A water-repellent article in which an indium-tin oxide film is formed on the surface of a base material, and a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is further formed thereon. Wherein the portion capable of reacting with a hydroxyl group of the water-repellent substance is placed in a high-temperature and high-humidity environment to form the stabilized water-repellent film.
【請求項4】 スパッタガスの酸素濃度が30%以上の
ガス雰囲気中でインジウム・錫酸化膜が形成され、更に
その上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を
結合させた撥水膜が形成されてなることを特徴とする撥
水物品。
4. A water-repellent material in which an indium-tin oxide film is formed in a gas atmosphere in which the oxygen concentration of a sputtering gas is 30% or more, and on which a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is bonded. A water-repellent article characterized by having a film formed.
【請求項5】 前記酸素濃度が好ましくは40%以上で
あることを特徴とする請求項4に記載の撥水物質。
5. The water repellent material according to claim 4, wherein the oxygen concentration is preferably 40% or more.
【請求項6】 基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形
成され、更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有す
る撥水物質を結合させる撥水物品の製造方法にあって、
前記撥水膜を形成する前に前記インジウム・錫酸化膜を
紫外線で洗浄することを特徴とする撥水物品の製造方
法。
6. A method for producing a water-repellent article, wherein an indium-tin oxide film is formed on a surface of a substrate, and further a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is bonded thereon.
A method for manufacturing a water-repellent article, comprising washing the indium-tin oxide film with ultraviolet light before forming the water-repellent film.
【請求項7】 基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形
成され、更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有す
る撥水物質を結合させる撥水物品の製造方法にあって、
前記撥水膜を形成する前に前記インジウム・錫酸化膜を
プラズマで洗浄することを特徴とする撥水物品の製造方
法。
7. A method for producing a water-repellent article, wherein an indium-tin oxide film is formed on a surface of a substrate, and further a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is bonded thereon.
A method for manufacturing a water-repellent article, comprising cleaning the indium-tin oxide film with plasma before forming the water-repellent film.
【請求項8】 基材の表面にインジウム・錫酸化膜が形
成され、更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有す
る撥水物質を結合させて撥水膜を形成する撥水物品の製
造方法にあって、前記撥水膜が形成された後、前記撥水
物質の水酸基と反応可能な部位を高温高湿環境に置いて
安定化することを特徴とする撥水物品の製造方法。
8. Production of a water-repellent article in which an indium-tin oxide film is formed on the surface of a substrate, and a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group is further bonded thereon to form a water-repellent film. In the method, after the water-repellent film is formed, a portion capable of reacting with a hydroxyl group of the water-repellent substance is placed in a high-temperature and high-humidity environment to stabilize the water-repellent article.
【請求項9】 基材の表面に、インジウム・錫酸化物タ
ーゲットを用いて、スパッタガスの酸素濃度が30%以
上の条件で、インジウム・錫酸化膜を形成し、その上
に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結合さ
せて撥水膜を形成することを特徴とする撥水物品の製造
方法。
9. An indium / tin oxide film is formed on the surface of a base material using an indium / tin oxide target under the condition that the oxygen concentration of a sputtering gas is 30% or more, and then reacts with a hydroxyl group on the indium / tin oxide film. A method for producing a water-repellent article, comprising forming a water-repellent film by bonding a water-repellent substance having a possible site.
【請求項10】 前記酸素濃度が好ましくは40%以上
であることを特徴とする撥水物品の製造方法。
10. A method for producing a water-repellent article, wherein the oxygen concentration is preferably 40% or more.
【請求項11】 ノズルを有する基材の少なくともイン
ク吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、
更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物
質を結合させた撥水膜が形成されてなるインクジェット
ヘッドにあって、紫外線によって洗浄された前記インジ
ウム・錫酸化膜上に前記撥水膜が形成されてなることを
特徴とするインクジェットヘッド。
11. An indium tin oxide film is formed on at least the surface of the substrate having a nozzle on the ink ejection side,
Further, there is provided an ink-jet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group, wherein the water-repellent film is formed on the indium-tin oxide film washed with ultraviolet rays. An ink-jet head comprising a film formed thereon.
【請求項12】 ノズルを有する基材の少なくともイン
ク吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、
更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物
質を結合させた撥水膜が形成されてなるインクジェット
ヘッドにあって、プラズマによって洗浄された前記イン
ジウム・錫酸化膜上に前記撥水膜が形成されてなること
を特徴とするインクジェットヘッド。
12. An indium tin oxide film is formed on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink ejection side,
Further, there is provided an ink-jet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent substance having a site capable of reacting with a hydroxyl group, wherein the water-repellent film is formed on the indium tin oxide film cleaned by plasma. An ink-jet head comprising a film formed thereon.
【請求項13】 ノズルを有する基材の少なくともイン
ク吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、
更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物
質を結合させた撥水膜が形成されてなるインクジェット
ヘッドにあって、前記撥水物質の水酸基と反応可能な部
位が高温高湿環境に置いて安定化された前記撥水膜が形
成されてなることを特徴とするインクジェットヘッド。
13. An indium tin oxide film is formed on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink ejection side,
Furthermore, in the ink jet head having thereon a water repellent film formed by bonding a water repellent substance having a part capable of reacting with a hydroxyl group, a part capable of reacting with the hydroxyl group of the water repellent substance is provided in a high temperature and high humidity environment. Wherein the water-repellent film, which is stabilized by the method described above, is formed.
【請求項14】 ノズルを有する基材の少なくともイン
ク吐出側の面に、酸素濃度が30%以上のガス雰囲気中
でインジウム・錫酸化膜が形成され、更にその上に、水
酸基と反応可能な部位を有する撥水物質を結合させた撥
水膜が形成されてなることを特徴とするインクジェット
ヘッド。
14. An indium-tin oxide film is formed in a gas atmosphere having an oxygen concentration of 30% or more on at least a surface of an ink discharge side of a substrate having a nozzle, and further has a site capable of reacting with a hydroxyl group. An ink jet head comprising a water repellent film formed by bonding a water repellent substance having the following.
【請求項15】 前記酸素濃度が好ましくは40%以上
であることを特徴とするインクジェットヘッド。
15. An ink jet head, wherein the oxygen concentration is preferably 40% or more.
【請求項16】 ノズルを有する基材の少なくともイン
ク吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、
更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物
質を結合させた撥水膜を形成したインクジェットヘッド
の製造方法にあって、前記撥水膜を形成する前に前記イ
ンジウム・錫酸化膜を紫外線で洗浄することを特徴とす
るインクジェットヘッドの製造方法。
16. An indium tin oxide film is formed on at least a surface of the substrate having a nozzle on the ink ejection side,
Further, there is provided a method of manufacturing an ink jet head having a water repellent film formed by bonding a water repellent material having a site capable of reacting with a hydroxyl group, wherein the indium tin oxide film is formed before the water repellent film is formed. And a method for manufacturing an ink jet head, comprising:
【請求項17】 ノズルを有する基材の少なくともイン
ク吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、
更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物
質を結合させた撥水膜を形成したインクジェットヘッド
の製造方法にあって、前記撥水膜を形成する前に前記イ
ンジウム・錫酸化膜をプラズマで洗浄することを特徴と
するインクジェットヘッドの製造方法。
17. An indium tin oxide film is formed on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink ejection side,
Further, there is provided a method of manufacturing an ink jet head having a water repellent film formed by bonding a water repellent material having a site capable of reacting with a hydroxyl group, wherein the indium tin oxide film is formed before the water repellent film is formed. A method for manufacturing an ink jet head, comprising: cleaning a substrate with plasma.
【請求項18】 ノズルを有する基材の少なくともイン
ク吐出側の表面に、インジウム・錫酸化膜が形成され、
更にその上に、水酸基と反応可能な部位を有する撥水物
質を結合させた撥水膜を形成したインクジェットヘッド
の製造方法にあって、前記撥水膜が形成された後、前記
撥水物質の水酸基と反応可能な部位を高温高湿環境に置
いて安定化させることを特徴とするインクジェットヘッ
ドの製造方法。
18. An indium-tin oxide film is formed on at least a surface of a substrate having a nozzle on an ink ejection side,
Furthermore, there is provided a method of manufacturing an ink jet head having a water-repellent film formed by bonding a water-repellent material having a site capable of reacting with a hydroxyl group thereon, wherein the water-repellent film is formed, A method for manufacturing an ink jet head, comprising stabilizing a site capable of reacting with a hydroxyl group by placing it in a high-temperature and high-humidity environment.
【請求項19】 請求項11乃至15の何れかに記載の
インクジェットヘッドを搭載したことを特徴とするイン
クジェットプリンタ。
19. An ink jet printer comprising the ink jet head according to claim 11.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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